JPH1192987A

JPH1192987A - めっき液およびこれを用いた電気めっき方法ならびに物品

Info

Publication number: JPH1192987A
Application number: JP25309597A
Authority: JP
Inventors: Satoru Nakagawa; 哲中川
Original assignee: Terumo Corp
Current assignee: Terumo Corp
Priority date: 1997-09-18
Filing date: 1997-09-18
Publication date: 1999-04-06

Abstract

(57)【要約】【課題】目的とする部分の形状が溝（長尺路）、穴等の
ような凹部の内部、間隙部である被めっき体に対して目
的物質を析出させ充填を行う場合や、電気めっきによっ
て析出した目的物質により複数の被めっき体同士を接合
する場合に有効なめっき液、およびこれを用いた電気め
っき方法、ならびに物品の提供。【解決手段】電気めっきによって被めっき体の表面上に
析出させるべき目的物質のイオン、および該目的物質の
イオンが還元されて析出する際の標準電極電位より標準
電極電位が大きい酸化剤を含有するめっき液、該めっき
液を使用する電気めっき方法、該電気めっき方法により
めっきされた物品。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、導電体、または目
的とする部分に導電性を付与した不導体表面等の目的箇
所に選択的に、金属または非金属の目的物質を電解によ
って析出させて被覆するためのめっき液、およびこれを
用いた電気めっき方法、ならびに物品に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の電気めっきにおいては、目的物質
である金属或いは非金属の、イオン或いは錯イオンを主
成分として、界面活性剤等の添加剤を混合した電気めっ
き液等を使用し、更に、めっきの均一性を高めるために
めっき槽内の一カ所或いは複数の場所に設置された攪拌
子をモータ等によって回転させるか、ポンプ等で循環さ
せるなどの手段により電気めっき液をめっき槽内で全体
的に循環させる方法が用いられていた。

【０００３】この際に使用される電気めっき液の種類と
しては、例えば銅の電気めっきの場合には、硫酸銅系め
っき液、シアン化銅系めっき液、ピロ燐酸銅系めっき液
等が一般的に用いられるめっき液であり、硫酸銅系めっ
き液の場合を例として主な組成の一例をあげれば、目的
物質である銅の２価のイオン或いは錯イオン、硫酸、ナ
フタレンスルホン酸ナトリウム等の少量の平滑剤、少量
の界面活性剤、及び水から成っている。

【０００４】しかしながら、以上のような従来の電気め
っき方法においては、めっきの形成状態が被めっき体の
幾何学的形状に大きく影響を受けることが知られてい
る。すなわち、図８に断面を示すように表面８１に凹凸
のある導電体の被めっき体８２に電気めっきを行った場
合、一般的に凸部８３への電流集中および凹部８４での
溶液循環不良による目的物質のイオンの減少のために、
凹部８４に析出する目的物質８５に比べて凸部８３に析
出する目的物質８６が多くなる。

【０００５】従来、このような、被めっき体表面の凸部
へのめっき金属の析出の集中を回避してめっき厚みの均
一化をはかるために、溶液の撹拌に加えて、各種の平滑
剤を電気めっき液に添加する方法や、電気めっき装置の
電流変化を制御する等の方法が用いられていたが、これ
らの方法は、数μｍ程度以下の微細な凹凸の平滑化が対
象であった。

【０００６】しかしながら、図９に被めっき体９１の断
面図を示すように、表面９２に形成された深さ数十μｍ
程度以上で幅に対して深さの方が大である溝９３の内部
に目的物質を析出させ充填を行おうとする場合や、図１
に示すように複数の被めっき体１１、１２の間隙部１３
に目的物質を析出させることで、電気めっきによって該
被めっき体同士を接合しようとする場合などでは、凹部
への目的物質の析出の割合が凸部への析出の割合より大
きくなることが必要であるため、従来の電気めっき方法
ではこのような目的を達成することが困難であった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、目的箇所の
みに選択的にめっきを行なう場合、例えば、目的とする
部分の形状が溝（長尺路）、穴等のような凹部の内部、
間隙部である被めっき体に対して目的物質を析出させ充
填を行う場合や、電気めっきによって析出した目的物質
により複数の被めっき体同士を接合する場合に好適に使
用できる新規なめっき液およびこれを用いた電気めっき
方法、ならびに該めっき方法により形成される電気伝導
路を有する物品、あるいは前記めっき方法により接合さ
れた物品を提供しようとする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、電
気めっきによって被めっき体の表面上に析出させるべき
目的物質のイオン、および該目的物質のイオンが還元さ
れて析出する際の標準電極電位より標準電極電位が大き
い酸化剤を含有するめっき液を提供する。ここで、該酸
化剤の濃度が該目的物質のイオンの濃度に対して０．１
％から２００％であるのが好ましい。また、本発明は、
電気めっきによって被めっき体の表面上に析出する目的
物質のイオン、および、該目的物質のイオンが還元され
て析出する際の標準電極電位より標準電極電位が大きい
酸化剤を含有するめっき液を用いて、被めっき体の表面
上に存在するめっきすべき場所とめっきすべきでない場
所において、該めっき液を異なる流れの速度で供給し、
該目的物質を被めっき体に電気めっきすることを特徴と
する電気めっき方法を提供する。ここで、該酸化剤の濃
度が該目的物質のイオンの濃度に対して０．１％から２
００％であり、また目的物質により還元された該酸化剤
がめっき液中から析出する際の標準電極電位が、水素の
標準電極電位より小さいことが好ましい。さらに、本発
明は被めっき体の表面凹部に目的物質が上記の電気めっ
き方法により充填され、ほぼ均一な表面であることを特
徴とする電気めっきされた物品を提供する。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下において本発明を詳細に説明
する。本発明のめっき液は、少なくとも目的物質のイオ
ンと酸化剤を含有する。この２成分を必須成分として含
有することにより被めっき体表面の不要箇所への被覆を
抑え、目的箇所のみへの選択的めっきを可能とする。

【００１０】本発明の好ましい態様において、目的物質
は、銅、銀入り銅、クロム銅、ジルコニウム銅、スズ入
り銅等の銅合金、銀、鉄、ニッケル、クロム、錫等の金
属或いは、ポリアニリン等の非金属であり、銅または銅
の合金であるのが好ましい。これら目的物質は、めっき
液中にはイオン或いは錯イオンの形態で含有される。め
っき液中の目的物質のイオン濃度は０．０１mol ／Ｌ〜
１００mol ／Ｌ程度であり、より好ましくは、０．１mo
l ／Ｌ〜１０mol ／Ｌ程度である。

【００１１】また、酸化剤（Ｅ）は、Ｅ^y+／Ｅ^x+の標
準電極電位が目的物質（Ｍ）のＭ／Ｍ^m+の標準電極電位
よりが大きく、Ｅ／Ｅ^y+の標準電極電位が、水素のＨ
₂／Ｈ⁺の標準電極電位より小さい物質である。なお、
ここでは以下のような関係があるものとして説明する。Ｅ^x+＋（ｘ−ｙ）ｅ^-→ Ｅ^y+、Ｅ^y+＋ｙｅ^-→ Ｅ（↓）Ｍ^m+＋ｍｅ^-→ Ｍ（↓）酸化剤としては、鉄（III)イオン、セリウム（IV) イオ
ン等が挙げられ、このうち鉄（III)イオンが好適例とし
て挙げられる。

【００１２】めっき液中に、目的物質（Ｍ）のＭ／Ｍ^m+
の標準電極電位よりＥ^y+／Ｅ^x+の標準電極電位が大きい
酸化剤（Ｅ）を添加した場合、被めっき体表面では目的
物質の析出反応と平行して目的物質の溶解反応も生じる
ことになる。このため析出反応と溶解反応を制御するこ
とにより、めっきの調節を行なうことが可能である。

【００１３】また、酸化剤（Ｅ）として、Ｅ／Ｅ^y+の標
準電極電位が、水素のＨ₂／Ｈ⁺の標準電極電位より小
さい物質を用いることにより、該酸化剤の還元生成物が
目的物質とともに析出して不純物となるのを防ぐことが
できる。

【００１４】本発明の原理は詳しくは以下のように考え
られる。めっき液中に存在する析出させるべき目的物質
のイオンをＭ^m+、酸化剤をＥ^x+として説明する。通常、
電気めっき時の陰極側は、めっき液中のＭ^m+の還元反応
（式（１））が進み目的物質Ｍが析出してくる。Ｍ^m+＋ｍｅ^- → Ｍ（↓）（１）ところで、めっき液中に含まれているＥ^x+の標準電極電
位がＭより大きい標準電極電位を有する場合は式（２）
の反応が起こり、式（１）に従って電気めっきにより析
出したＭがＥ^y+により酸化されてイオン（Ｍ^m+）となり
再びめっき液中に溶け出し、それと同時に、Ｅ^x+は析出
した目的物質Ｍにより還元されてＥ^y+となる（ただし、
ｍ＝ｎｘ−ｎｙ）。Ｍ（↓）＋ｎＥ^x+ → Ｍ^m+＋ｎＥ^y+ （２）ところで、Ｍを酸化した後のＥ^y+がさらに還元されてＥ
として析出する時の標準電極電気が水素の標準電極電位
よりも大きい場合には、電気めっき時に陰極側で式
（３）の反応が起こる。Ｅ^y+＋ｙｅ^- → Ｅ（↓）（３）当然、陰極側では式（１）の反応も同時進行しているの
で、ＭばかりでなくＥも析出してしまう。ところが、Ｅ
^y+がＥとして析出するための標準電極電位が水素の標準
電極電位よりも小さい場合には、式（４）の反応が優先
するのでＥは析出してこない。２Ｈ⁺＋２ｅ^- → Ｈ₂（↑）（４）よって、Ｅ^x+の標準電極電位は目的物質の標準電極電位
より大きいことが必要であり、かつ、Ｅが析出する際の
標準電極電位は水素の標準電極電位（０．０００Ｖ）よ
り小さいことが必要となる。実際、本発明に好適に使用
されうる目的物質のイオンである銅（II）イオンが、目
的物質である銅に還元されるときの標準電極電位は０．
３３７Ｖであり、酸化剤である鉄（III)イオンが鉄（I
I）イオン（Ｅ^y+に相当）に還元されるときの標準電極
電位は０．７７１Ｖであり、鉄（II）イオンが鉄（Ｅに
相当）に還元されるときの標準電極電位は−０．４４０
Ｖであり上記条件を満たす。また酸化剤をセリウム（I
V）イオンとした場合、セリウム（IV）イオンがセリウ
ム（III)イオンに還元される時の標準電極電位は１．７
４Ｖであり、セリウム（III)イオンがセリウムに還元さ
れる時の標準電極電位は−２．３３５Ｖであり、上記条
件を満たす。

【００１５】目的物質のイオン濃度に対する酸化剤のイ
オン濃度の割合は、０．１％〜２００％程度が好まし
く、より好ましくは１％〜１００％程度の範囲である。

【００１６】さらに詳細に説明すると、一般的に電気め
っきによって目的物質を析出させる場合、図１０に示す
ような現象が起こる。すなわち、攪拌によって生じるめ
っき液の流れの速度が大きいほど、析出量も多くなる。
また、一般的に目的物質に酸化剤を作用させて、イオン
化させることで前記目的物質を溶解させる場合、図１１
に示すような現象が起こる。すなわち、攪拌によって生
じる酸化剤を含んだ溶液の流れの速度が大きいほど、溶
解する量が多くなる。ところで、めっき液に酸化剤が含
まれている場合はこれらの組み合わせとなり、図１２に
示すような現象が起こる。すなわち、流れの速度の小さ
いところでは電気めっきによる目的物の析出が優先し、
流れの速度の大きいところでは目的物の溶出が優先する
ので、析出した目的物は成長することなくめっき液中に
溶解する。

【００１７】本発明においては、被めっき体の表面上の
めっきすべき場所とめっきすべきでない場所で異なる流
れの速度を与えることにより、めっき液の補給速度に差
を生じさせる。流れの速度を変えるためには、適切な攪
拌方法或いはポンプ等によりめっき槽中のめっき溶液の
循環を行ってもよい。目的物質を析出させようとする部
分の内少なくとも一カ所の表面での流れの速度に比べ
て、析出を望まない部分の内少なくとも一カ所の表面で
の流れの速度を０．０００１ｍ／秒以上大きくすること
が好ましい。

【００１８】未反応のめっき液の補給効率は、被めっき
体表面上でのめっき液の循環効率等に依存するため、め
っき槽内のポンプ或いは攪拌子の配置、もしくは水槽の
形状等を適正化して、被めっき体上での目的物質の析出
を抑制したい部分へ向かう流れの速度を、目的物質を析
出させたい部分へ向かう流れの速度より大きくすること
で、析出させたい部分に重点的に目的物質を析出させる
ことが可能となる。

【００１９】流れの模式図１３（矢印の長さはめっき液
の流れの速さをあらわすものとする）を用いて詳しく説
明する。凹部１３２とエッジ部１３３が被めっき体表面
１３１上に存在する被めっき体１３０を酸化剤の存在す
るめっき液が入っているめっき槽内に設置された攪拌子
をモータ等によって回転させるか、ポンプ等で循環させ
るなどの方法により、めっき液を凹部に対して垂直方向
（矢印の方向）に循環させた場合、エッジ部１３３に比
べ凹部１３２でのめっき液の流れの速さは小さくなる。
ここで、図１２で説明したとおり、流れの速度の大きい
エッジ部１３３では式（１）の反応より式（３）の反応
が優先する。すなわち、めっきによって析出した目的物
が析出と同時に溶解するので、後述する比較例１のよう
な現象が起きずに実施例１のような現象がおきる。逆
に、流れの速度の小さい凹部１３２では式（３）の反応
より式（１）の反応が優先する。すなわち、めっきによ
り析出した目的物が溶解するよりも、析出の方が優先す
るので、後述する実施例１のような現象が起きる。

【００２０】被めっき体は金属や、導電性樹脂、導電性
セラミック等の非金属、或いは表面等に部分的に導電性
を付与した誘電体等である。特に、被めっき体上に形成
された導電性を持つ長尺路、溝、穴及び間隙部等や、複
数の被めっき体をめっきにより接合する際の間隙部の充
填に有効である。本発明により従来不可能であった、断
面の凹部の縦横比が縦：横＝１：２〜３：１、好ましく
は１：１〜２：１程度の比較的深い溝の内部を選択的に
目的物質で均一に充填することも可能となる。溝の深さ
は特に限定される物ではないが、１０μｍ〜５ｍｍ、特
に１０μｍ〜５００μｍが例示される。また、例えば図
１に示す様に、複数の被めっき体１１、１２を電気的に
接合しようとするときに本発明のめっき液を矢印１５の
方向に流して電気めっきを行なえば、複数の被めっき体
の間隙部１３で流れの速さが小さくなり間隙部を選択的
にめっきすることができる。このような複数の被めっき
体を接合する方法は、マイクロマシン等の小さなサイズ
のセンサを実装する際にも有用である。なお、本発明に
より選択的めっきが行なえる箇所の形状は凹部や間隙部
に限られず、平な面の一部のみに選択的にめっきを行な
う場合にも本発明が使用可能である。

【００２１】本発明法により表面凹部が電気めっきさ
れ、ほぼ均一な表面であることを特徴とする物品として
は、例えばカテーテル、ガイドワイヤ、内視鏡などの医
療チューブを含む医療用器具、電気製品、電子部品、機
械部品、装飾品などが例示される。

【００２２】本発明の電気めっき方法において、目的物
質を導電性物質とすれば被めっき体表面に微細な電気伝
導路を形成することができる。この電気伝導路は、本発
明の電気めっき方法を用いて形成されることにより、被
めっき体上の溝内部が導電性物質で均一に充填されたも
のであり、被めっき体と一体となっている。本発明によ
る電気伝導路は、導電性物質が均一に充填されているた
め導電性に優れ、さらに、被めっき体と一体となってい
るため被めっき体の表面を滑らかな状態に保つことがで
きる。

【００２３】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に
説明する。（実施例１）銅を目的物質、鉄（III)イオンを酸化剤と
して、めっき液中に銅のアンミン錯イオンおよび鉄（II
I)イオンを生成させるために以下の組成に溶液を調製し
た。（１）硫酸銅（II）五水和物（CuSO₄・5H₂O）：１２０g （２）濃硫酸（98wt% H₂SO₄）：２５０g （３）濃アンモニア水（28wt% NH₃aq ）：１５０g （４）塩化鉄（III)六水和物（FeCl₃・6H₂O）：３０g （５）水（H₂O ）：６５０g （６）非イオン系界面活性剤：少量

【００２４】本電気めっき方法を使用して、被めっき体
に設けた微細な溝の内部に銅をめっきした。図２は、本
発明の実施例１における、被めっき体２１の概略を示す
図であり、また、図３は本発明の実施例１における電気
めっき装置の構成の概略を示す図である。

【００２５】該被めっき体２１は、ポリエチレンテレフ
タレート樹脂のシートの一部に、断面形状が一辺０．１
ｍｍの正方形で長さが３０ｍｍの直線状の溝２２を、
０．１ｍｍの間隔を隔てて５本平行に形成した物であ
り、該溝の内面はあらかじめ蒸着等の手段で形成された
厚み数μｍ程度以下の銅の層２３により導電化されてお
り、一方の端部でリード線２４に導電的に接合されてい
る。

【００２６】更に、図３に示すように、該被めっき体の
端部に設けた該リード線３１を直流電源装置３２の負極
側に接続し、白金線で形成した陽極３３を正極側に接続
して、被めっき体および陽極を約３０ｍｍの距離をあけ
て対向させ、円筒形状に形成されためっき槽３４に浸漬
した。

【００２７】その後、めっき槽内に円筒形磁石の攪拌子
３５を配置し、めっき槽の下に設置されたスターラー３
６を用いて攪拌子３５を1000rpm 程度の回転数で回転さ
せることによって、矢印３７で示すように、該被めっき
体のシート表面に対して概ね平行で、かつ該溝に対して
概ね垂直な流れの速度を生じさせた。

【００２８】以上のめっき装置を使用して、矢印４３方
向に流れの速度を生じさせ、電流値２０ｍＡで１時間の
通電を行った結果を図４に示す。図４は図２の直線状の
溝２２にＣｕがめっきされるようすを２０分（図４
（ａ））、３０分（図４（ｂ））、６０分後（図４
（ｃ））の時点でそれぞれサンプリングし、エポキシ樹
脂を溝の上にかぶせて硬化した後、溝２２に垂直な方向
で切断して断面形状を観察した物である。本発明のめっ
き方法は、めっきされる平面に対して平行にめっき金属
層が形成される従来法のめっき（従来例１の結果を示す
図７参照）と異なり、溝の底面の中心へ向かってすり鉢
状にめっき層が形成されるのが特徴である。

【００２９】（実施例２）実施例１と同様の組成に調製
しためっき液を使用して、チューブ状の被めっき体に螺
旋状に設けた微細な溝の内部に銅をめっきした。図５
は、本発明の実施例２における、被めっき体５１の概略
を示す図であり、また、図６は本発明の実施例２におけ
る電気めっき装置の構成の概略を示す図である。

【００３０】該被めっき体５１は、外径約２ｍｍのポリ
ウレタン樹脂のチューブの表面に、断面形状が一辺０．
１ｍｍの正方形で、螺旋の繰り返しピッチが１ｍｍの螺
旋状溝５２を形成した物であり、該溝の内面は実施例１
の場合と同様に、あらかじめ蒸着等の手段で形成された
厚み数μｍ程度以下の銅の層により導電化されており、
一方の端部でリード線５３に導電的に接合されている。

【００３１】本実施例２の場合は実施例１の場合と異な
り、ポンプによりチューブの軸と平行に流れの速度を生
じさせることで溝内部に比べて溝の外部の溶液循環効率
を大きくすることが可能となるため、図６に示すよう
に、円筒形状に形成されためっき槽６１に浸漬し、該め
っき槽の両端をポンプ６２に接続して循環させること
で、矢印６３で示すように該被めっき体のチューブ６４
表面に適切な流れの速度を生じさせた。

【００３２】更に、該被めっき体の端部に設けた該リー
ド線６５を直流電源装置６６の負極側に接続し、白金線
で形成した陽極６７を正極側に接続して、適切な電流密
度で通電を行った結果、実施例１の場合と同様に、溝内
部への銅の十分な充填を行うことが可能であった。

【００３３】（比較例１）実施例１のめっき液組成から
酸化剤として機能する塩化鉄（III)六水和物のみを除い
ためっき液を調製し、実施例１と同様に作製した被めっ
き体へ、同様の条件で電気めっきを行った。図７は図２
の直線上の溝２２にＣｕがめっきされる様子を３０分
（図７（ａ））、６０分後（図７（ｂ））にそれぞれサ
ンプリングし、エポキシ樹脂を溝の上にかぶせて硬化し
た後、溝２２に垂直な方向で切断して断面形状を観察し
たものである。比較例１の結果、図７（ｂ）に該溝の内
の一本７１の、溝方向に垂直な断面図を示したように、
溝７１の内部にほとんど銅７２が充填されずに、エッジ
の部分７３のみに集中的に銅７２が析出した。

【００３４】（実施例３）外径が１ｍｍとなるように、
Ｎｉ−Ｔｉ製の超弾性金属線の回りにポリウレタンを被
覆し、ガイドワイヤ（ａ）を作成した。このガイドワイ
ヤ１の表面全体に亜鉛を蒸着させた後、レーザー光を照
射しながら２本の溝（幅５０μｍ、深さ５０μ）を螺旋
状に形成させ、ガイドワイヤ（ｂ）を作製した。次に、
ガイドワイヤ（ｂ）の表面全体（溝を含む）に銅を蒸着
させた後、希塩酸で処理を行い、蒸着により薄層となっ
ている亜鉛とその上に存在する銅を取り除き、溝のみに
銅が蒸着されたガイドワイヤ（ｃ）を作成した。このガ
イドワイヤ（ｃ）の先端にレーザー光を照射しながら窪
みを形成し、接触センサー（サーモセンサー）を埋め込
んだ。この時、信号用電極とグランド用電極が銅の蒸着
されたそれぞれの溝に接するようにセンサーを配置し
た。次に、実施例２と同様な方法で電気めっきを行い溝
を銅で充填し、ガイドワイヤ（ｄ）を作製した。充填さ
れた溝のエッジ部分に銅は観察されず、ガイドワイヤ
（ｄ）の表面はなだらかであった。

【００３５】ところで、特開平８−２６６６３３号には
カテーテル、内視鏡、あるいはガイドワイヤ等の医療用
器具の基材表面に凹部を形成し、この凹部に導電体を蒸
着あるいはめっきすることで電気伝導路を設ける方法が
開示されているが、この方法では凹部以外に被覆された
導電体を除去する必要があった。しかしながら、実施例
３のように、本発明を上述の医療用器具に応用すれば、
電気伝導路となる凹部以外に被覆された導電体を除去す
る必要がないので簡便な作業で医療用器具に電気伝導路
を設けることが可能となる。また、本発明を用いれば、
前記医療用器具の先端に設置されたサーミスタや圧力セ
ンサーの信号用電極とグランド用電極と電気伝導路を接
続するときにハンダ付けする必要がなくなる。

【００３６】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、電気め
っきによって、目的物質（Ｍ）のＭ／Ｍ^m+の標準電極電
位よりＥ^y+／Ｅ^x+の標準電極電位が大きい酸化剤（Ｅ）
を添加しためっき液を使用し、かつ、電気めっき実行中
に、被めっき体の表面上の少なくとも２カ所の異なる場
所での該酸化剤の流れの速度、すなわち、補給速度に差
を生じさせることにより、それぞれの場所に異なる析出
速度で目的物質を析出させることを特徴とする電気めっ
き方法を用いているため、目的とする部分の形状が溝
（長尺路）、穴等のような凹部の内部、間隙部である被
めっき体に対して目的物質を析出させ充填を行う場合
や、電気めっきによって析出した目的物質により複数の
被めっき体同士を接合する場合に目的とする部分への十
分な金属の析出が行える。

【００３７】更に、該酸化剤（Ｅ）のＥ／Ｅ^y+の標準電
極電位が、水素のＨ₂／Ｈ⁺の標準電極電位より小さい
ことを特徴とするため、該酸化剤の還元生成物が目的物
質とともに析出して不純物となるのを防ぐことができ
る。更にまた、該酸化剤が、水溶液中で３価の鉄イオン
を生成する成分を含有するものであり、かつ、該目的物
質が、銅或いは銅の合金であることを特徴とするため、
特別な試薬を必要とすることなくめっきによる金属の充
填を可能とする。

【００３８】また、本発明を接触センサー付きのガイド
ワイヤ、カテーテルあるいは内視鏡などの医療用器具に
応用すれば、煩雑な操作を要することなく、簡便に電気
伝導路を表面に形成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】複数の被めっき体を電気めっきによって接合
しようとする場合の一例を示す図である。

【図２】実施例１における、被めっき体の形状の概略
を示す図である。

【図３】実施例１における、電気めっき装置の構成の
概略を示す図である。

【図４】（ａ），（ｂ），（ｃ）は実施例１におけ
る、めっきによる溝内部の銅の析出状態を時間の経過に
従って示す断面図である。

【図５】実施例２における、被めっき体の形状の概略
を示す図である。

【図６】実施例２における、電気めっき装置の構成の
概略を示す図である。

【図７】（ａ），（ｂ）は比較例１における、めっき
による溝内部の銅の析出状態を時間の経過に従って示す
断面図である。

【図８】表面に凹凸のある被めっき体にめっきを実施
した場合の一例を示す断面図である。

【図９】溝を有する被めっき体の一例を示す断面図で
ある。

【図１０】めっき時の金属析出量と攪拌によって生じ
るめっき液の流れの速度との相関図である。

【図１１】酸化剤を含んだ溶液の流れの速度と溶出量
の相関図である。

【図１２】めっき液に酸化剤が存在している場合の、
めっき液の流れの速度、析出量および溶解量の相関図で
ある。

【図１３】被めっき体表面の平滑面に平行な方向にめ
っき液を流した場合の、被めっき体表面の平滑面と凹部
でのめっき液の流れの速さと方向を表した図である。

【符号の説明】

１１被めっき体１２被めっき体１３間隙部２１被めっき体２２溝２３銅の層２４リード線３１リード線３２直流電源装置３３陽極３４めっき槽３５攪拌子３６スターラー３７溶液流の方向４１溝４２銅４３溶液流５１被めっき体５２螺旋状溝５３リード線６１めっき槽６２ポンプ６３溶液流６４チューブ６５リード線６６直流電源装置６７陽極７１溝７２銅７３エッジ８１被めっき体表面８２被めっき体８３凸部８４凹部８５目的物質８６目的物質９１被めっき体９２被めっき体表面９３溝１３０被めっき体１３１被めっき体表面１３２凹部１３３エッジ部１３４流れの速度

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】電気めっきによって被めっき体の表面上に
析出させるべき目的物質のイオン、および該目的物質の
イオンが還元されて析出する際の標準電極電位より標準
電極電位が大きい酸化剤を含有するめっき液。
【請求項２】前記酸化剤の濃度が前記目的物質のイオン
の濃度に対して０．１％から２００％である請求項１に
記載のめっき液。
【請求項３】電気めっきによって被めっき体の表面上に
析出する目的物質のイオン、および、該目的物質のイオ
ンが還元されて析出する際の標準電極電位より標準電極
電位が大きい酸化剤を含有するめっき液を用いて、被め
っき体の表面上に存在するめっきすべき場所とめっきす
べきでない場所において、該めっき液を異なる流れの速
度で供給し、該目的物質を被めっき体に電気めっきする
ことを特徴とする電気めっき方法。
【請求項４】前記酸化剤の濃度が前記目的物質のイオン
の濃度に対して０．１％から２００％である請求項３に
記載の電気めっき方法。
【請求項５】前記目的物質により還元された、前記酸化
剤が、めっき液中から析出する際の標準電極電位が、水
素の標準電極電位より小さいことを特徴とする請求項３
または４に記載の電気めっき方法。
【請求項６】被めっき体の表面凹部に目的物質が充填さ
れ、ほぼ均一な表面であることを特徴とする電気めっき
された物品。
【請求項７】前記物品が医療用器具である請求項６に記
載の物品。