JPH1180957A - Vaporization apparatus for liquid raw material - Google Patents
Vaporization apparatus for liquid raw materialInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、特定のガスを得
るために特定の液体原料を気化するようにした気化装置
に係り、特に気化温度の高い液体原料に好適な気化装置
に関する。この発明は、例えば、半導体製造装置で使用
される反応ガスを得るために気化温度の高い液体原料を
気化するようにした気化装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vaporizer for vaporizing a specific liquid material in order to obtain a specific gas, and more particularly to a vaporizer suitable for a liquid material having a high vaporization temperature. The present invention relates to, for example, a vaporizer configured to vaporize a liquid material having a high vaporization temperature in order to obtain a reaction gas used in a semiconductor manufacturing apparatus.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来より、特定のガスを得るために特定
の液体原料を加熱して気化するようにした気化装置があ
る。例えば、半導体の製造装置において、半導体基板は
その上面に絶縁膜を形成する過程で反応ガスの供給を受
ける。ここで、製造装置に対して反応ガスを供給する装
置は、上記のような気化装置を含む。2. Description of the Related Art Conventionally, there has been a vaporizer which heats and vaporizes a specific liquid material in order to obtain a specific gas. For example, in a semiconductor manufacturing apparatus, a semiconductor substrate receives a supply of a reactive gas in a process of forming an insulating film on an upper surface thereof. Here, the apparatus for supplying the reaction gas to the manufacturing apparatus includes the above-described vaporizing apparatus.
【０００３】特開平６−２９１０４０号公報は上記のよ
うな気化装置の一例（以下、「第１の従来技術」とい
う。）を開示する。この気化装置は、気化器、マスフロ
ーコントローラ及び液体用質量流量調節器を備える。気
化器は外周にヒータを有する。気化器には、液体原料と
キャリアガスとがそれぞれ供給される。気化器に供給さ
れる液体原料はヒータにより加熱されて気化され、その
気化ガスがキャリアガスと共に気化器から外部へ排出さ
れ、反応炉へ送り込まれる。マスフローコントローラ等
は気化器に供給されるキャリアガスを調節する。液体用
質量流量制御器は気化器に供給される液体原料を制御す
る。つまり、この気化装置は、気化器に供給される液体
原料の流量が所定値となるように制御することにより、
気化器から排出されるガス流量を制御するものである。Japanese Patent Laying-Open No. 6-291040 discloses an example of the above-described vaporizer (hereinafter, referred to as "first prior art"). The vaporizer includes a vaporizer, a mass flow controller, and a liquid mass flow controller. The vaporizer has a heater on the outer periphery. A liquid source and a carrier gas are supplied to the vaporizer. The liquid raw material supplied to the vaporizer is heated and vaporized by the heater, and the vaporized gas is discharged from the vaporizer together with the carrier gas to the outside and sent to the reaction furnace. The mass flow controller or the like adjusts the carrier gas supplied to the vaporizer. The liquid mass flow controller controls the liquid source supplied to the vaporizer. That is, the vaporizer controls the flow rate of the liquid raw material supplied to the vaporizer to a predetermined value,
It controls the flow rate of gas discharged from the vaporizer.
【０００４】一方、特開平５−２２８３６１号公報は上
記のような気化装置の別の一例（以下、「第２の従来技
術」という。）を開示する。この気化装置は、ヒータブ
ロック、質量流量コントローラ、液体流量制御器、質量
流量計及びコンピュータを備える。ヒータブロックは内
部に気化室を、外周にヒータをそれぞれ有する。気化室
には、液体原料とキャリアガスとが供給される。気化室
に供給された液体原料はヒータにより加熱されて気化さ
れ、その気化ガスがキャリアガスと共に気化室の外部へ
排出され、反応炉等へ送り込まれる。質量流量コントロ
ーラは気化室に供給されるキャリアガスを調節する。液
体流量制御器は気化室に供給される液体原料を調節す
る。質量流量計は気化室から排出されるガスの質量流量
を計測する。コンピュータは質量流量計の出力、又は、
質量流量計の出力と質量流量コントローラの出力との差
に基づいて液体流量制御器を制御する。つまり、この気
化装置は、気化室から排出されるガス流量を実際に計測
し、その計測結果が所定値となるように気化室に供給さ
れる液体原料を制御するものである。On the other hand, Japanese Patent Laying-Open No. 5-228361 discloses another example of the above-described vaporizer (hereinafter, referred to as "second conventional technique"). The vaporizer includes a heater block, a mass flow controller, a liquid flow controller, a mass flow meter, and a computer. The heater block has a vaporization chamber inside and a heater on the outer periphery. A liquid source and a carrier gas are supplied to the vaporization chamber. The liquid raw material supplied to the vaporization chamber is heated and vaporized by the heater, and the vaporized gas is discharged to the outside of the vaporization chamber together with the carrier gas and sent to a reaction furnace or the like. The mass flow controller regulates the carrier gas supplied to the vaporization chamber. The liquid flow controller regulates a liquid source supplied to the vaporization chamber. The mass flow meter measures the mass flow rate of the gas discharged from the vaporization chamber. The computer outputs the mass flow meter, or
The liquid flow controller is controlled based on the difference between the output of the mass flow meter and the output of the mass flow controller. In other words, this vaporizer actually measures the gas flow rate discharged from the vaporization chamber and controls the liquid raw material supplied to the vaporization chamber so that the measurement result becomes a predetermined value.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところが、前記第１の
従来技術の気化装置では、気化器に供給された液体原料
が全て気化されればよいのであるが、気化器内で気液界
面を一定に保つことが困難である。このため、気化器か
ら排出されるガス流量が変動し、不安定になる場合があ
る。特に、この気化器では、その外周にヒータが設けら
れることから、ヒータの熱が気化室の中の液体原料に直
接的に伝わり難く、開始時の気化の立ち上がりや、終了
時の気化の立ち下がりの応答性があまりよくない傾向に
ある。However, in the first prior art vaporizer, all the liquid raw material supplied to the vaporizer needs to be vaporized, but the gas-liquid interface is kept constant in the vaporizer. Difficult to keep. For this reason, the gas flow rate discharged from the vaporizer may fluctuate and become unstable. In particular, in this vaporizer, since the heater is provided on the outer periphery, it is difficult for the heat of the heater to be directly transmitted to the liquid raw material in the vaporization chamber, and the rising of the vaporization at the start and the falling of the vaporization at the end. Response tends to be not very good.
【０００６】これに対し、前記第２の従来技術の気化装
置では、気化室から排出されるガス流量を質量流量計に
より計測し、その計測結果を気化室に供給される液体原
料の供給量に即座に反映させている。このため、気化室
から排出されるガス流量を安定的、かつ、応答性良く制
御することが可能になる。ここで使用される流量計は、
５５℃程度の気化温度を有する有機シラン（ＴＥＯＳ）
等を対象とするものであり、一般的な流量計の耐用温度
を超えるものではない。しかしながら、流量計、例えば
マスフローコントローラの耐用温度は９０℃程度が上限
であることから、それ以上、例えば１００℃以上の高温
下で流量計を使用することはできない。On the other hand, in the vaporizer of the second prior art, the flow rate of gas discharged from the vaporization chamber is measured by a mass flow meter, and the measurement result is used as the supply amount of the liquid raw material supplied to the vaporization chamber. It is reflected immediately. For this reason, it becomes possible to control the flow rate of the gas discharged from the vaporization chamber in a stable and responsive manner. The flow meter used here is
Organic silane (TEOS) having a vaporization temperature of about 55 ° C
Etc., and do not exceed the service temperature of a general flow meter. However, since the upper limit of the service temperature of a flow meter, for example, a mass flow controller is about 90 ° C., the flow meter cannot be used at a higher temperature, for example, at a high temperature of 100 ° C. or more.
【０００７】近時、半導体製造装置においては、半導体
基板上にバリウム・ストロンチウム・チタン酸化膜を成
形することがあり、このため、１００℃以上の気化温度
を有する液体原料としてバリウム、ストロンチウム、チ
タンをそれぞれ溶剤に溶かしたもの（以下、ＢＳＴＯと
いう）を使用することがある。例えば、このＢＳＴＯの
場合、その気化温度は約２５０℃である。このような高
温下で使用できる流量計は現在知られていない。このた
め、気化温度の高い液体原料につき、そのガス流量を制
御するためには、前記第１の従来技術のようなタイプの
気化装置を使わざるを得ず、ガス流量を安定的、かつ、
応答性良く制御することが困難である。Recently, in a semiconductor manufacturing apparatus, a barium / strontium / titanium oxide film is sometimes formed on a semiconductor substrate. For this reason, barium, strontium and titanium are used as liquid raw materials having a vaporization temperature of 100 ° C. or more. Each of them may be dissolved in a solvent (hereinafter referred to as BSTO). For example, in the case of this BSTO, its vaporization temperature is about 250 ° C. A flow meter that can be used at such a high temperature is not known at present. For this reason, in order to control the gas flow rate of a liquid material having a high vaporization temperature, a vaporizer of the type described in the first prior art must be used, and the gas flow rate is stabilized, and
It is difficult to control with good responsiveness.
【０００８】この発明は上記の事情に鑑みてなされたも
のであって、その目的は、気化温度の高い液体原料を気
化させると共に、その気化流量を、特別な流量計を使用
することなく安定的に制御することを可能にした液体原
料の気化装置を提供することにある。The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to vaporize a liquid material having a high vaporization temperature and to stabilize the vaporization flow rate without using a special flow meter. It is an object of the present invention to provide an apparatus for vaporizing a liquid raw material which can be controlled at a low temperature.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに請求項１に記載の発明は、気化器に供給される液体
原料を電気ヒータにより加熱し気化させて排出すると共
に、その排出流量を制御するようにした気化装置であっ
て、気化器に対する液体原料の供給量を調節するための
原料調節手段と、気化器内の温度を検出するための温度
検出手段と、その検出される温度が一定となるように電
気ヒータに供給される電気量を制御するための電気量制
御手段と、電気ヒータに供給される電気量を排出流量に
相関する値とし、その相関値に基づいて原料調節手段を
制御するための原料制御手段とを備えたことを趣旨とす
る。According to a first aspect of the present invention, a liquid raw material supplied to a vaporizer is heated and vaporized by an electric heater to discharge the raw material supplied to the vaporizer. A raw material adjusting means for adjusting a supply amount of the liquid raw material to the vaporizer, a temperature detecting means for detecting a temperature in the vaporizer, and a temperature detected by the vaporizer. Means for controlling the amount of electricity supplied to the electric heater so as to keep the constant, and the amount of electricity supplied to the electric heater as a value correlated to the discharge flow rate, and the raw material adjustment based on the correlation value And a raw material control means for controlling the means.
【００１０】上記の構成によれば、気化器に供給される
液体原料は、電気ヒータにより加熱され気化されて気化
器から排出される。このとき、気化器内では液体原料の
気化に伴い温度が変動しようとするが、温度検出手段に
よる検出温度が一定となるように、電気ヒータに供給さ
れる電気量が電気量制御手段により制御されることか
ら、気化器内の温度変動が抑えられる。ここで、原料制
御手段は、電気ヒータに供給される電気量を、気化器か
らの排出流量に相関する値とし、その相関値に基づいて
原料調節手段を制御する。即ち、気化器に対する液体原
料の供給量と電気ヒータへ供給される電気量とが互いに
相関し、この電気量と気化器からの排出流量とが互いに
相関するものとして、原料制御手段が原料調節手段を制
御する。従って、気化器への液体原料の供給量が気化器
からの気体の排出流量に基づいて制御されることにな
り、その排出流量が所要の値に収束し易くなる。更に、
気体の排出流量を得るのに特別の流量計を使用しないこ
とから、気化温度の高い液体原料にも気化装置が適用可
能である。According to the above configuration, the liquid raw material supplied to the vaporizer is heated by the electric heater, vaporized, and discharged from the vaporizer. At this time, the temperature in the vaporizer tends to fluctuate with the vaporization of the liquid raw material, but the amount of electricity supplied to the electric heater is controlled by the electricity amount control means so that the temperature detected by the temperature detection means becomes constant. Therefore, temperature fluctuation in the vaporizer can be suppressed. Here, the raw material control unit sets the amount of electricity supplied to the electric heater to a value correlated with the discharge flow rate from the vaporizer, and controls the raw material adjustment unit based on the correlation value. That is, assuming that the supply amount of the liquid raw material to the vaporizer and the electric amount supplied to the electric heater are correlated with each other, and that the electric amount and the discharge flow rate from the vaporizer are correlated with each other, Control. Therefore, the supply amount of the liquid raw material to the vaporizer is controlled based on the discharge flow rate of the gas from the vaporizer, and the discharge flow rate easily converges to a required value. Furthermore,
Since a special flow meter is not used to obtain the gas discharge flow rate, the vaporizer can be applied to a liquid raw material having a high vaporization temperature.
【００１１】上記の目的を達成するために請求項２に記
載の発明は、請求項１の発明の構成において、電気ヒー
タ及び温度検出手段を互いに一体的に設け、それらを気
化器の内部に配置したことを趣旨とする。According to a second aspect of the present invention, in order to achieve the above object, the electric heater and the temperature detecting means are provided integrally with each other and arranged inside the vaporizer. The purpose is to do.
【００１２】上記の構成によれば、請求項１の発明の作
用に加え、電気ヒータが気化器の内部に配置されること
から、気化器に供給される液体原料が少ない熱損失で効
率良く電気ヒータにより加熱され、気化される。更に、
温度検出手段が気化器の内部に配置されることから、気
化に伴い変動しようとする気化器内部の温度が少ない温
度損失をもって温度検出手段により検出される。従っ
て、温度検出手段により検出される温度変化が液体原料
の気化量を良好に反映し、電気ヒータに供給される電気
量が気化器からの気体の排出流量を良好に反映すること
になり、気化器に対する液体原料の供給量が精度良く制
御されることになる。According to the above construction, in addition to the operation of the first aspect of the present invention, since the electric heater is disposed inside the vaporizer, the liquid raw material supplied to the vaporizer can efficiently generate electricity with little heat loss. Heated by the heater and vaporized. Furthermore,
Since the temperature detecting means is disposed inside the vaporizer, the temperature inside the vaporizer which fluctuates due to vaporization is detected by the temperature detecting means with a small temperature loss. Therefore, the change in temperature detected by the temperature detecting means reflects the amount of vaporization of the liquid raw material satisfactorily, and the amount of electricity supplied to the electric heater satisfactorily reflects the discharge flow rate of gas from the vaporizer. The supply amount of the liquid raw material to the vessel is accurately controlled.
【００１３】上記の目的を達成するために請求項３に記
載の発明は、請求項１又は請求項２の発明の構成におい
て、気化器は液体原料を気化させるための気化室と、そ
の気化室に液体原料を導入するための導入口とを有し、
温度検出手段は気化室において導入口に接近して配置さ
れることを趣旨とする。According to a third aspect of the present invention, in order to achieve the above object, in the first or second aspect of the present invention, the vaporizer comprises a vaporizing chamber for vaporizing a liquid material, and the vaporizing chamber. An inlet for introducing a liquid material into the
It is intended that the temperature detecting means is disposed close to the inlet in the vaporization chamber.
【００１４】上記の構成によれば、請求項１又は請求項
２の発明の作用に加え、導入口から気化室に液体原料が
流れ始めると、温度検出手段が即座にその液体原料の温
度を検出できる。このため、温度検出の精度が高まり、
気体の排出流量の変化を応答性良く検出することが可能
となる。According to the above construction, in addition to the operation of the first or second aspect of the present invention, when the liquid raw material starts flowing from the inlet to the vaporizing chamber, the temperature detecting means immediately detects the temperature of the liquid raw material. it can. This increases the accuracy of temperature detection,
It is possible to detect a change in the gas discharge flow rate with good responsiveness.
【００１５】[0015]
【発明の実施の形態】以下、請求項１〜請求項３の発明
に係る液体原料の気化装置の一実施の形態を図面を参照
して詳細に説明する。この実施の形態では、半導体の製
造装置に反応ガスを供給するためのガス供給装置に本発
明の気化装置が具体化される。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a liquid material vaporizer according to the first to third aspects of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. In this embodiment, the vaporizer of the present invention is embodied in a gas supply device for supplying a reaction gas to a semiconductor manufacturing device.
【００１６】図１はガス供給装置の概略構成を示す。一
般に、半導体の製造装置では、半導体基板の上に絶縁膜
を気層成膜する過程で、特定の反応ガスを供給する必要
がある。この実施の形態では、絶縁膜として、化学蒸着
成膜法（ＣＶＤ）により気相成膜されるバリウム・スト
ロンチウム・チタン酸化膜が適用される。この膜を得る
ための特定ガスとして、常温常圧の下で液状をなす液体
原料としてのＢＳＴＯが使用される。このＢＳＴＯは約
２５０℃という高い気化温度を有する。FIG. 1 shows a schematic configuration of a gas supply device. Generally, in a semiconductor manufacturing apparatus, it is necessary to supply a specific reaction gas in a process of forming an insulating film on a semiconductor substrate by vapor deposition. In this embodiment, as an insulating film, a barium / strontium / titanium oxide film formed by a chemical vapor deposition method (CVD) is used. As a specific gas for obtaining this film, BSTO is used as a liquid material that is in a liquid state at normal temperature and normal pressure. This BSTO has a high vaporization temperature of about 250 ° C.
【００１７】ガス供給装置はタンク１及び気化装置を備
える。気化装置は気化器２、流量コントローラ３及び温
度コントローラ４を含む。タンク１は液状のＢＳＴＯを
液体原料として貯留するものである。液状のＢＳＴＯを
気化するために、気化器２にはタンク１から液状のＢＳ
ＴＯが供給される。気化器２により気化されたＢＳＴＯ
のガスは、高温対応分岐バルブ５を介して半導体製造装
置のプロセスチャンバ６に導入され、更にポンプ７から
吐出される。或いは、気化ガスは高温対応分岐バルブ５
からベント８に分岐される。タンク１には、窒素ガスが
所定の圧力をもって供給される。窒素ガスの圧力は、レ
ギュレータ９により所定の値に調整される。The gas supply device includes a tank 1 and a vaporizer. The vaporizer includes a vaporizer 2, a flow controller 3, and a temperature controller 4. The tank 1 stores liquid BSTO as a liquid raw material. In order to vaporize the liquid BSTO, the liquid BS is supplied from the tank 1 to the vaporizer 2.
TO is supplied. BSTO vaporized by vaporizer 2
Is introduced into the process chamber 6 of the semiconductor manufacturing apparatus via the branch valve 5 corresponding to high temperature, and further discharged from the pump 7. Alternatively, the vaporized gas is supplied to a high temperature branch valve 5.
From the vent 8. The tank 1 is supplied with nitrogen gas at a predetermined pressure. The pressure of the nitrogen gas is adjusted to a predetermined value by the regulator 9.
【００１８】気化器２は調節バルブ１０及び熱電対付ヒ
ータ１１を有する。調節バルブ１０は気化器２に供給さ
れる液状のＢＳＴＯの量を調節するものである。熱電対
付ヒータ１１は本発明の電気ヒータ１２と、本発明の温
度検出手段としての熱電対１３とを併せ持つものであ
る。熱電対付ヒータ１１は気化器２の内部に配置され
る。電気ヒータ１２は気化器２の内部に導入された液状
のＢＳＴＯを直接的に加熱するものである。熱電対１３
は銅及びコンスタンタンより形成され、気化器２の内部
温度、或いはその内部のＢＳＴＯの温度を検出するもの
である。調節バルブ１０を作動させるために、このバル
ブ１０には、電空レギュレータ１４を介して圧縮空気が
供給される。調節バルブ１０及び電空レギュレータ１４
は本発明の原料調節手段を構成するものである。The vaporizer 2 has a control valve 10 and a heater 11 with a thermocouple. The control valve 10 controls the amount of liquid BSTO supplied to the vaporizer 2. The heater 11 with a thermocouple has both the electric heater 12 of the present invention and the thermocouple 13 as the temperature detecting means of the present invention. The heater 11 with a thermocouple is disposed inside the vaporizer 2. The electric heater 12 directly heats the liquid BSTO introduced into the vaporizer 2. Thermocouple 13
Is formed of copper and constantan, and detects the internal temperature of the vaporizer 2 or the temperature of the BSTO therein. In order to operate the regulating valve 10, the valve 10 is supplied with compressed air via an electropneumatic regulator 14. Control valve 10 and electropneumatic regulator 14
Constitutes the raw material adjusting means of the present invention.
【００１９】温度コントローラ４には、熱電対１３によ
る検出温度の値が入力される。このコントローラ４に
は、作業者により任意に設定される温度に係る信号（設
定温度信号）が入力される。このコントローラ４は、熱
電対１３による検出温度が設定された温度となるように
電気ヒータ１２を制御するものである。The temperature controller 4 receives the value of the temperature detected by the thermocouple 13. A signal (set temperature signal) relating to a temperature arbitrarily set by an operator is input to the controller 4. The controller 4 controls the electric heater 12 so that the temperature detected by the thermocouple 13 becomes the set temperature.
【００２０】温度コントローラ４は比較器１５、パルス
幅変換回路１６、駆動回路１７及び温度変換回路１８を
備える。温度変換回路１８は熱電対１３による検出値を
入力し、温度に相当する値に変換して比較器１５へ出力
するものである。比較器１５は温度変換回路１８からの
温度相当値と、作業者による設定温度信号とを比較し、
設定温度からの温度相当値の偏差を算出するものであ
る。パルス変換回路１６は、上記算出された偏差を所定
周期（２００ｍｓｅｃ）を有するＤＣ１２Ｖのパルス信
号として駆動回路１７へ出力すると共に、そのパルス信
号をフィルタ１９を介して流量コントローラ３へ出力す
るものである。駆動回路１７はパルス変換回路１６から
出力されるパルス信号を増幅し、ＡＣ１００Ｖのパルス
信号として電気ヒータ１２へ出力するものである。The temperature controller 4 includes a comparator 15, a pulse width conversion circuit 16, a drive circuit 17, and a temperature conversion circuit 18. The temperature conversion circuit 18 receives the value detected by the thermocouple 13, converts the value into a value corresponding to the temperature, and outputs the value to the comparator 15. The comparator 15 compares the temperature equivalent value from the temperature conversion circuit 18 with the temperature signal set by the operator,
The deviation of the temperature equivalent value from the set temperature is calculated. The pulse conversion circuit 16 outputs the calculated deviation to the drive circuit 17 as a DC 12 V pulse signal having a predetermined cycle (200 msec), and outputs the pulse signal to the flow controller 3 via the filter 19. . The drive circuit 17 amplifies the pulse signal output from the pulse conversion circuit 16 and outputs the amplified pulse signal to the electric heater 12 as a 100 V AC pulse signal.
【００２１】即ち、温度コントローラ４は本発明の電気
量制御手段に相当し、熱電対１３により検出される温度
が一定となるように電気ヒータ１２に供給される電気量
を制御するものである。このような温度一定制御におい
て、図３に示すように、気化器２への液体原料の供給流
量に比例して、パルス信号のＯＮ（オン）時間が増加す
る。ここで、図４に示すように、気化器２への液体原料
の供給流量に対して、気化器２で気化されるガスの流量
は比例する。このため、図５に示すように、パルス信号
のオン時間に対してガス流量が比例することになる。That is, the temperature controller 4 corresponds to the electric quantity control means of the present invention, and controls the electric quantity supplied to the electric heater 12 so that the temperature detected by the thermocouple 13 becomes constant. In such temperature constant control, as shown in FIG. 3, the ON time of the pulse signal increases in proportion to the supply flow rate of the liquid raw material to the vaporizer 2. Here, as shown in FIG. 4, the flow rate of the gas vaporized by the vaporizer 2 is proportional to the supply flow rate of the liquid raw material to the vaporizer 2. Therefore, as shown in FIG. 5, the gas flow rate is proportional to the ON time of the pulse signal.
【００２２】フィルタ１９は流量コントローラ３に入力
されるパルス信号をなますものであり、このなましによ
って定電圧信号が得られる。図６はそのパルス信号のオ
ン時間に対する定電圧信号の関係を示す。この定電圧信
号は電気ヒータ１２に供給される電気量を反映した信号
であり、気化器２から排出されるＢＳＴＯのガス流量に
相関するものである。流量コントローラ３は、入力され
る定電圧信号に応じたガス流量を算出する。図７はその
算出のために参照される関数データを示し、定電圧信号
に対するガス流量の関係を示す。一方、コントローラ３
には、作業者により任意に設定されるガス流量に係る信
号（流量設定信号）が入力される。コントローラ３は、
上記算出されたガス流量を自身にフィードバックさせ、
そのガス流量が所定の設定流量となるように電空レギュ
レータ１４を制御し、もって調節バルブ１０の開度を調
節するのである。この流量コントローラ３は本発明の原
料制御手段を構成する。The filter 19 forms a pulse signal input to the flow rate controller 3, and a constant voltage signal is obtained by this smoothing. FIG. 6 shows the relationship between the ON time of the pulse signal and the constant voltage signal. This constant voltage signal is a signal reflecting the amount of electricity supplied to the electric heater 12, and correlates with the gas flow rate of the BSTO discharged from the vaporizer 2. The flow controller 3 calculates a gas flow according to the input constant voltage signal. FIG. 7 shows function data referred to for the calculation, and shows the relationship between the gas flow rate and the constant voltage signal. On the other hand, controller 3
, A signal (flow rate setting signal) relating to the gas flow rate arbitrarily set by the operator is input. Controller 3
The calculated gas flow rate is fed back to itself,
The electropneumatic regulator 14 is controlled so that the gas flow rate becomes a predetermined set flow rate, thereby adjusting the opening of the control valve 10. This flow controller 3 constitutes a raw material control means of the present invention.
【００２３】図２は気化器２の構造を示す断面図であ
る。調節バルブ１０は気化器２に一体的に組み付けられ
る。気化器２は有底状のハウジング２１と、そのハウジ
ング２１の一端を塞ぐ蓋体２２とを有する。ハウジング
２１はその内部に気化室２３を有する。気化室２３は、
そこに導入される液状のＢＳＴＯを気化するものであ
る。蓋体２２は供給ポート２４を、ハウジング２１は排
出ポート２５をそれぞれ有する。供給ポート２４には、
気化室２３に供給される液状のＢＳＴＯが導入される。
気化室２３で気化されたＢＳＴＯのガスは排出ポート２
５を通じて外部へ排出される。気化室２３には金属製の
粉体の集合物よりなる焼結体２６が設けられる。この粉
体は、熱伝導性と耐食性を兼ね備えたステンレスよりな
る。焼結体２６はステンレス製粉体の集合物を所定の気
孔率を有する状態で圧縮し、その上で焼結することによ
り得られる。焼結体２６は柱状をなし、その一端に小径
の突部２６ａを有する。焼結体２６の外周面とハウジン
グ２１の内周面との間には、所定の隙間２７が形成され
る。FIG. 2 is a sectional view showing the structure of the vaporizer 2. The control valve 10 is integrated with the carburetor 2. The vaporizer 2 has a bottomed housing 21 and a lid 22 that closes one end of the housing 21. The housing 21 has a vaporization chamber 23 therein. The vaporization chamber 23
The liquid BSTO introduced therein is vaporized. The lid 22 has a supply port 24 and the housing 21 has a discharge port 25. In the supply port 24,
Liquid BSTO supplied to the vaporization chamber 23 is introduced.
The BSTO gas vaporized in the vaporization chamber 23 is discharged to the exhaust port 2
5 to the outside. The evaporating chamber 23 is provided with a sintered body 26 made of an aggregate of metal powders. This powder is made of stainless steel having both thermal conductivity and corrosion resistance. The sintered body 26 is obtained by compressing an aggregate of stainless steel powder in a state having a predetermined porosity, and then sintering it. The sintered body 26 has a columnar shape, and has a small-diameter projection 26a at one end. A predetermined gap 27 is formed between the outer peripheral surface of the sintered body 26 and the inner peripheral surface of the housing 21.
【００２４】調節バルブ１０はケーシング２８を有す
る。ケーシング２８は中心に孔２９ａを有する胴体２９
と、その胴体２９の一端に配置されたキャップ３０と、
胴体２９の他端に配置された蓋体２２とから形成され
る。蓋体２２はハウジング２１とケーシング２８とに兼
用される。ケーシング２８はその内部に、孔２９ａを境
に区画された第１の室３１と、第２の室３２とを有す
る。孔２９ａには、弁ロッド３３が摺動可能に設けられ
る。弁ロッド３３の一端には、押え金３４を介して第１
のダイアフラム３５が取り付けられる。第１の室３１
は、このダイアフラム３５により大気室３６と、加圧室
３７とに区画される。大気室３６には、キャップ３０に
設けられた大気ポート３８を通じて大気が導入される。
加圧室３７には、胴体２９に設けられた加圧ポート３９
を通じて圧縮空気が供給される。加圧室３７には、電空
レギュレータ１４により調節される圧縮空気が供給され
る。The control valve 10 has a casing 28. The casing 28 has a body 29 having a hole 29a in the center.
And a cap 30 arranged at one end of the body 29,
The lid 22 is formed at the other end of the body 29. The lid 22 is also used as the housing 21 and the casing 28. The casing 28 has therein a first chamber 31 and a second chamber 32 partitioned by the hole 29a. A valve rod 33 is slidably provided in the hole 29a. A first end of the valve rod 33 is
Is attached. First room 31
Is partitioned into an atmosphere chamber 36 and a pressurized chamber 37 by the diaphragm 35. The atmosphere is introduced into the atmosphere chamber 36 through an atmosphere port 38 provided in the cap 30.
The pressurizing chamber 37 has a pressurizing port 39 provided in the body 29.
Compressed air is supplied through the. Compressed air adjusted by the electropneumatic regulator 14 is supplied to the pressurizing chamber 37.
【００２５】弁ロッド３３の他端には、弁体４０が取り
付けられる。弁体４０の外周には第２のダイアフラム４
１が取り付けられる。第２の室３２は、このダイアフラ
ム４１により大気室４２と、液室４３とに区画される。
このダイアフラム４１の外周縁にはダイアフラム４１と
一体をなすテフロンリング４４が設けられる。これを胴
体２９と蓋体２２とで挟み込むことにより、両者２９，
２２の間がシールされる。大気室４２には、胴体２９に
設けられた大気ポート４５を通じて大気が導入される。
液室４３には、蓋体２２に設けられた供給ポート２４を
通じて液状のＢＳＴＯが供給される。A valve body 40 is attached to the other end of the valve rod 33. The second diaphragm 4 is provided around the outer periphery of the valve body 40.
1 is attached. The second chamber 32 is partitioned into an atmosphere chamber 42 and a liquid chamber 43 by the diaphragm 41.
A Teflon ring 44 which is integral with the diaphragm 41 is provided on the outer peripheral edge of the diaphragm 41. By sandwiching this between the body 29 and the lid 22, both 29,
The space between 22 is sealed. The atmosphere is introduced into the atmosphere chamber 42 through an atmosphere port 45 provided in the body 29.
Liquid BSTO is supplied to the liquid chamber 43 through a supply port 24 provided in the lid 22.
【００２６】調節バルブ１０は弁体４０の他に、蓋体２
２に設けられた弁座４６を有する。弁座４６はその中心
に、本発明の導入口としての弁孔４６ａを有する。弁座
４６の部位に対応する蓋体２２の肉厚は比較的小さい。
このため、弁孔４６ａの軸線方向の長さは比較的短い。
気化室２３に配置された焼結体２６の突部２６ａは弁孔
４６ａに隣接して配置される。The control valve 10 includes a lid 2 in addition to the valve 40.
2 having a valve seat 46. The valve seat 46 has a valve hole 46a at its center as an inlet of the present invention. The thickness of the lid 22 corresponding to the portion of the valve seat 46 is relatively small.
Therefore, the axial length of the valve hole 46a is relatively short.
The protrusion 26a of the sintered body 26 disposed in the vaporization chamber 23 is disposed adjacent to the valve hole 46a.
【００２７】弁体４０が弁座４６に接することにより、
弁孔４６ａが閉じられる。弁体４０が弁座４６から離れ
ることにより、弁孔４６ａが開かれる。弁孔４６ａが開
かれることにより、液室４３に供給される液状のＢＳＴ
Ｏが、その弁孔４６ａを通じて気化室２３に導入され
る。When the valve body 40 contacts the valve seat 46,
The valve hole 46a is closed. When the valve element 40 separates from the valve seat 46, the valve hole 46a is opened. The liquid BST supplied to the liquid chamber 43 is opened by opening the valve hole 46a.
O is introduced into the vaporization chamber 23 through the valve hole 46a.
【００２８】第１の室３１の大気室３６には、圧縮スプ
リング４７が設けられる。このスプリング４７は、弁体
４０が弁座４６に圧接するように弁ロッド３３を付勢す
るものである。従って、加圧室３７に圧縮空気が供給さ
れることにより、第１のダイアフラム３５が弁ロッド３
３と共にスプリング４７の付勢力に抗して大気室３６の
側へ変位する。この変位に伴い、弁体４０が弁座４６か
ら離れ、弁孔４６ａが開かれる。この弁孔４６ａの開度
は、加圧室３７に供給される圧縮空気の量に応じて変え
られる。弁孔４６ａの開度が変わることにより、液室４
３から気化室２３に導入される液状のＢＳＴＯの量が調
節される。A compression spring 47 is provided in the atmosphere chamber 36 of the first chamber 31. The spring 47 urges the valve rod 33 so that the valve body 40 is pressed against the valve seat 46. Therefore, when the compressed air is supplied to the pressurizing chamber 37, the first diaphragm 35 is
Together with 3, it is displaced toward the atmosphere chamber 36 against the urging force of the spring 47. With this displacement, the valve body 40 separates from the valve seat 46, and the valve hole 46a is opened. The opening degree of the valve hole 46a is changed according to the amount of compressed air supplied to the pressurizing chamber 37. By changing the opening of the valve hole 46a, the liquid chamber 4
The amount of liquid BSTO introduced from 3 into the vaporization chamber 23 is adjusted.
【００２９】熱電対付ヒータ１１は焼結体２６の中心に
配置され組み付けられる。電気ヒータ１２は熱線等を含
むものである。このヒータ１２が温度コントローラ４か
らのパルス信号に基づいて作動することにより、ハウジ
ング２１の内部、即ち焼結体２６を流れるＢＳＴＯが加
熱される。この実施の形態では、熱電対１３が電気ヒー
タ１２の非発熱部に配置され、弁孔４６ａに隣接して配
置される。これにより、弁孔４６ａから気化室２３に液
状のＢＳＴＯが流れ始めると、熱電対１３が即座にその
ＢＳＴＯによって変化した焼結体２６の温度を検出する
ようになっている。The heater 11 with a thermocouple is arranged at the center of the sintered body 26 and assembled. The electric heater 12 includes a heating wire or the like. When the heater 12 operates based on a pulse signal from the temperature controller 4, the inside of the housing 21, that is, the BSTO flowing through the sintered body 26 is heated. In this embodiment, the thermocouple 13 is arranged at the non-heating part of the electric heater 12, and is arranged adjacent to the valve hole 46a. Thus, when the liquid BSTO starts flowing from the valve hole 46a into the vaporization chamber 23, the thermocouple 13 immediately detects the temperature of the sintered body 26 changed by the BSTO.
【００３０】次に、上記のように構成したガス供給装置
における気化装置の動作を説明する。この実施の形態で
は、気化器２の弁孔４６ａを通じて気化室２３に供給さ
れる液状のＢＳＴＯが粉体の焼結体２６の中で毛管現象
により拡散される。このとき、焼結体２６を流れる液状
のＢＳＴＯは、電気ヒータ１２により直接的に加熱さ
れ、速やかに、かつ、安定的に気化される。Next, the operation of the vaporizer in the gas supply device configured as described above will be described. In this embodiment, the liquid BSTO supplied to the vaporizing chamber 23 through the valve hole 46a of the vaporizer 2 is diffused in the powder sintered body 26 by capillary action. At this time, the liquid BSTO flowing through the sintered body 26 is directly heated by the electric heater 12, and is quickly and stably vaporized.
【００３１】気化されたＢＳＴＯガスは、隙間２７を流
れ、排出ポート２５から気化室２３の外へ排出される。
排出されたＢＳＴＯガスは、高温対応分岐バルブ５を介
してプロセスチャンバ６に供給され、半導体の成膜に共
される。The vaporized BSTO gas flows through the gap 27 and is discharged from the discharge port 25 to the outside of the vaporization chamber 23.
The discharged BSTO gas is supplied to the process chamber 6 via the high-temperature branch valve 5, and is used for forming a semiconductor film.
【００３２】この実施の形態では、気化室２３で液状の
ＢＳＴＯが気化されるに伴い、その気化室２３の温度、
焼結体２６の温度が変動しようとする。このとき、熱電
対１３で検出される温度が一定となるように、電気ヒー
タ１２に供給される電気量、即ちパルス信号が温度コン
トローラ４により制御されることから、気化室２３或い
は焼結体２６の温度変動が抑えられる。ここで、流量コ
ントローラ３は、電気ヒータ１２に供給されるパルス信
号のオン時間の長さを、気化器２で気化されて排出され
るガス流量に相関する定電圧信号に置き換える。そし
て、コントローラ３は、その定電圧信号に基づいて電空
レギュレータ１４を制御し、調節バルブ１０の開度を制
御する。即ち、気化器２に対する液状のＢＳＴＯの供給
量と、電気ヒータ１２へ供給される電気量とが互いに相
関し、この電気量と気化器２から排出されるガス流量と
が互いに相関するものとして、流量コントローラ３は電
空レギュレータ１４を制御する。従って、気化器２へ供
給される液状のＢＳＴＯの量が、気化器２から実際に排
出されるガス流量に基づいて制御されることになり、そ
のガス流量が所要の設定流量に収束し易くなる。In this embodiment, as the liquid BSTO is vaporized in the vaporization chamber 23, the temperature of the vaporization chamber 23,
The temperature of the sintered body 26 tends to fluctuate. At this time, since the amount of electricity supplied to the electric heater 12, that is, the pulse signal is controlled by the temperature controller 4 so that the temperature detected by the thermocouple 13 becomes constant, the vaporization chamber 23 or the sintered body 26 is controlled. Temperature fluctuation is suppressed. Here, the flow rate controller 3 replaces the length of the ON time of the pulse signal supplied to the electric heater 12 with a constant voltage signal correlated with the gas flow rate discharged and vaporized by the vaporizer 2. Then, the controller 3 controls the electropneumatic regulator 14 based on the constant voltage signal, and controls the opening of the control valve 10. That is, the supply amount of the liquid BSTO to the vaporizer 2 and the electric amount supplied to the electric heater 12 are correlated with each other, and the electric amount and the gas flow rate discharged from the vaporizer 2 are correlated with each other. The flow controller 3 controls the electropneumatic regulator 14. Therefore, the amount of the liquid BSTO supplied to the vaporizer 2 is controlled based on the gas flow actually discharged from the vaporizer 2, and the gas flow easily converges to a required set flow. .
【００３３】ここで、従来ならば、気化されたガス流量
を特別な流量計を使用して計測し、そのガス流量の制御
に反映させるところである。しかし、この実施の形態で
は、液体原料として使用されるＢＳＴＯの気化温度が極
めて高いことから、従来の流量計では使用に耐えられな
い。これに対し、この実施の形態では、熱電対１３によ
る検出温度から得られるパルス信号、即ち電気ヒータ１
２に供給されるべき電気量を、気化されたガス流量に相
関する値として利用している。このため、気化温度の極
めて高い液状のＢＳＴＯを気化させる場合でも、その気
化されたガス流量を、特別な流量計を使用することなく
安定的に制御することができる。Here, conventionally, the vaporized gas flow rate is measured by using a special flow meter, and is reflected in the control of the gas flow rate. However, in this embodiment, since the vaporization temperature of BSTO used as a liquid raw material is extremely high, it cannot be used with a conventional flow meter. On the other hand, in this embodiment, a pulse signal obtained from the temperature detected by the thermocouple 13, that is, the electric heater 1
2 is used as a value that correlates to the vaporized gas flow rate. Therefore, even when a liquid BSTO having a very high vaporization temperature is vaporized, the flow rate of the vaporized gas can be stably controlled without using a special flow meter.
【００３４】この実施の形態では、熱電対付ヒータ１１
が気化室２３の焼結体２６の中心に配置される。このた
め、気化室２３に導入される液状のＢＳＴＯが少ない熱
損失で効率良く電気ヒータ１２により加熱され、気化さ
れる。更に、その気化に伴い変動しようとする気化室２
３、或いは焼結体２６の温度が、少ない温度損失をもっ
て熱電対１３により検出される。従って、熱電対１３に
より検出される温度変化が、液状のＢＳＴＯの気化量を
良好に反映し、電気ヒータ１２に供給される電気量、即
ちパルス信号が気化器２で気化されて排出されるガス流
量を良好に反映することになる。これにより、気化器２
に対する液状のＢＳＴＯの供給量が精度良く調整される
ことになる。この意味で、ＢＳＴＯのガス流量を安定
的、かつ、応答性良く制御することができる。In this embodiment, a heater 11 with a thermocouple is used.
Is disposed at the center of the sintered body 26 in the vaporization chamber 23. Therefore, the liquid BSTO introduced into the vaporization chamber 23 is efficiently heated and vaporized by the electric heater 12 with a small heat loss. Further, the vaporization chamber 2 which tends to fluctuate with the vaporization
3, or the temperature of the sintered body 26 is detected by the thermocouple 13 with a small temperature loss. Therefore, the change in temperature detected by the thermocouple 13 reflects the amount of vaporization of the liquid BSTO well, and the amount of electricity supplied to the electric heater 12, that is, the gas discharged from the vaporizer 2 when the pulse signal is vaporized by the vaporizer 2. It will reflect the flow rate well. Thereby, the vaporizer 2
The supply amount of the liquid BSTO with respect to is precisely adjusted. In this sense, the gas flow rate of the BSTO can be controlled stably and responsively.
【００３５】この実施の形態では、弁孔４６ａから気化
室２３に液状のＢＳＴＯが流れ始めると、熱電対１３が
即座にそのＢＳＴＯの温度を検出することができる。こ
のため、熱電対１３による温度検出の精度が高まり、気
化されるガス流量の変化を応答性良く検出することが可
能になる。この意味でも、この気化装置は、ＢＳＴＯの
ガス流量を安定的、かつ、応答性良く制御することがで
きる。In this embodiment, when liquid BSTO starts flowing into the vaporizing chamber 23 from the valve hole 46a, the thermocouple 13 can immediately detect the temperature of the BSTO. For this reason, the accuracy of temperature detection by the thermocouple 13 is improved, and it is possible to detect a change in the gas flow rate to be vaporized with good responsiveness. In this sense, this vaporizer can control the gas flow rate of the BSTO stably and with good responsiveness.
【００３６】図８は気化器２から排出されるＢＳＴＯの
ガス流量の変化と、気化器２の内部温度の変化とを示
す。このグラフは、気化器２から排出されるガス流量が
所定の設定流量ＴＦとなるように、気化器２に液状のＢ
ＳＴＯが供給されたときのガス流量の変化を示す。この
グラフからも明らかなように、ガス流量は、時刻ｔ１で
の立ち上がり、時刻ｔ２での立ち下がりが共に速やか
で、両時刻ｔ１，ｔ２の間では脈動がなく状態が安定し
ていることが分かる。FIG. 8 shows a change in the gas flow rate of the BSTO discharged from the vaporizer 2 and a change in the internal temperature of the vaporizer 2. This graph shows that the liquid B is supplied to the vaporizer 2 so that the gas flow discharged from the vaporizer 2 becomes a predetermined set flow rate TF.
4 shows a change in gas flow rate when STO is supplied. As is apparent from this graph, the gas flow rate rises quickly at time t1 and falls quickly at time t2, and there is no pulsation between times t1 and t2, and the state is stable. .
【００３７】この実施の形態では、気化器２から排出さ
れるＢＳＴＯのガス流量が安定的、かつ、応答性良く制
御されることから、プロセスチャンバ６に対してＢＳＴ
Ｏガスを応答性良く、安定的に供給することができる。
この意味で、半導体上の成膜の品質を確保することがで
きる。In this embodiment, since the gas flow rate of the BSTO discharged from the vaporizer 2 is controlled stably and with good response, the BST
O gas can be stably supplied with good responsiveness.
In this sense, the quality of film formation on the semiconductor can be ensured.
【００３８】この実施の形態では、調節バルブ１０の加
圧室３７に対する圧縮空気の供給が停止されると、弁体
４０がスプリング５２により直ちに弁座４６に押し付け
られ、弁孔４６ａが閉じられる。従って、気化室２３に
対する液状のＢＳＴＯの供給が速やかに遮断され、気化
器２でのＢＳＴＯガスの生成が速やかに止められる。こ
のため、気化器２からプロセスチャンバ６へのＢＳＴＯ
ガスの供給を応答性良く、かつ速やかに停止させること
ができる。In this embodiment, when the supply of the compressed air to the pressurizing chamber 37 of the control valve 10 is stopped, the valve body 40 is immediately pressed against the valve seat 46 by the spring 52, and the valve hole 46a is closed. Therefore, the supply of the liquid BSTO to the vaporization chamber 23 is immediately shut off, and the generation of the BSTO gas in the vaporizer 2 is quickly stopped. Therefore, the BSTO from the vaporizer 2 to the process chamber 6
The supply of gas can be stopped quickly with good responsiveness.
【００３９】この実施の形態では、電気ヒータ１２が作
動すると、焼結体２６が直に加熱され、ＢＳＴＯが直接
的に加熱されることから、ガス供給装置に別途にヒータ
を設けて気化器２を加熱する必要がない。又、気化器２
を熱電対付ヒータ１１と共に単独で取り扱うことができ
る。この意味で、気化器２の取り扱い上の自由度が増
し、ガス供給装置の製造が容易になる。In this embodiment, when the electric heater 12 is operated, the sintered body 26 is directly heated, and the BSTO is directly heated. There is no need to heat. In addition, vaporizer 2
Can be handled alone together with the heater 11 with a thermocouple. In this sense, the degree of freedom in handling the vaporizer 2 is increased, and the manufacture of the gas supply device is facilitated.
【００４０】尚、この発明は上記実施の形態に限定され
るものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲で以下の
ように実施することができる。 （１）前記実施の形態では、電空レギュレータ１４で調
節される圧縮空気により開度が調節される調節バルブ１
０を用いて、気化器２に供給される液状のＢＳＴＯを調
節するようにした。これに対し、電気的に駆動される電
磁バルブを調節バルブとして、気化器に供給される液体
原料を調節するようにしてもよい。The present invention is not limited to the above embodiment, but can be implemented as follows without departing from the spirit of the invention. (1) In the above embodiment, the adjustment valve 1 whose opening is adjusted by the compressed air adjusted by the electropneumatic regulator 14
Using 0, the liquid BSTO supplied to the vaporizer 2 was adjusted. On the other hand, an electrically driven electromagnetic valve may be used as a control valve to control the liquid source supplied to the vaporizer.
【００４１】（２）前記実施の形態では、電気ヒータ１
２と、熱電対１３とを互いに一体化した熱電対付ヒータ
１１を気化室２３に設けたが、電気ヒータと、熱電対と
を互いに分離させて気化室に設けてもよい。(2) In the above embodiment, the electric heater 1
Although the heater 11 with the thermocouple in which the thermocouple 2 and the thermocouple 13 are integrated with each other is provided in the vaporization chamber 23, the electric heater and the thermocouple may be separated from each other and provided in the vaporization chamber.
【００４２】（３）前記実施の形態では、電気ヒータ１
２をＡＣ１００Ｖのパルス信号により駆動し、そのパル
ス信号のオン時間を変えることにより、電気ヒータ１２
に供給される電気量を調節するようにした。これに対
し、電気ヒータに供給される電圧をリニアに変えること
により、電気ヒータに供給される電気量を調節するよう
にしてもよい。(3) In the above embodiment, the electric heater 1
2 is driven by a pulse signal of AC100V, and by changing the ON time of the pulse signal, the electric heater 12 is driven.
The amount of electricity supplied to the battery was adjusted. On the other hand, the amount of electricity supplied to the electric heater may be adjusted by changing the voltage supplied to the electric heater linearly.
【００４３】（４）前記実施の形態では、半導体製造装
置のプロセスチャンバ６にＢＳＴＯガスを供給するため
に、液体原料として気化温度の極めて高い（約２５０
℃）液状のＢＳＴＯを使用した。これに対し、別の目的
に使用される気化ガスを発生させるために、液体原料と
してＢＳＴＯ以外の原料を使用しても良い。本発明の装
置は、特に、気化温度の高い液体原料に好適ではある
が、これに限られるものではなく、気化温度の比較的低
い（約５５℃）液状のＴＥＯＳを液体原料として使用し
てもよい。(4) In the above-described embodiment, the BSTO gas is supplied to the process chamber 6 of the semiconductor manufacturing apparatus.
C) Liquid BSTO was used. On the other hand, in order to generate a vaporized gas used for another purpose, a raw material other than BSTO may be used as the liquid raw material. The apparatus of the present invention is particularly suitable for a liquid material having a high vaporization temperature, but is not limited thereto. Even when a liquid TEOS having a relatively low vaporization temperature (about 55 ° C.) is used as a liquid material, Good.
【００４４】[0044]
【発明の効果】上記請求項１に記載の発明では、気化器
内の検出温度が一定となるように電気ヒータに供給され
る電気量を制御し、その電気量を、気化器からの気体の
排出流量に相関する値とし、その相関値に基づいて気化
器に供給される液体原料を制御するようにしている。従
って、気化器からの気体の排出流量が所要の値に収束し
易くなり、その排出流量を得るために特別な流量計の使
用が不要となり、気化温度の高い液体原料にも適用可能
となる。この結果、気化温度の高い液体原料を気化させ
ることができ、その気化流量を安定的に制御することが
できるという効果を発揮する。According to the first aspect of the present invention, the amount of electricity supplied to the electric heater is controlled so that the detected temperature in the vaporizer becomes constant, and the amount of electricity is controlled by the amount of gas from the vaporizer. The value is correlated with the discharge flow rate, and the liquid raw material supplied to the vaporizer is controlled based on the correlation value. Therefore, the discharge flow rate of the gas from the vaporizer easily converges to a required value, and the use of a special flow meter for obtaining the discharge flow rate becomes unnecessary, and the present invention can be applied to a liquid material having a high vaporization temperature. As a result, the liquid raw material having a high vaporization temperature can be vaporized, and the flow rate of vaporization can be stably controlled.
【００４５】上記請求項２に記載の発明では、第１の発
明の構成において、電気ヒータ及び温度検出手段を互い
に一体的に設け、それらを気化器の内部に配置してい
る。従って、請求項１の発明の作用及び効果に加え、温
度検出手段による検出温度の変化が気化量を良好に反映
し、電気ヒータへの電気量が気体の排出流量を良好に反
映することになり、気化器に対する液体原料の供給量が
精度良く制御される。この結果、液体原料の気化流量を
応答性良く制御することができるという効果を発揮す
る。According to the second aspect of the present invention, in the configuration of the first aspect, the electric heater and the temperature detecting means are provided integrally with each other, and they are arranged inside the vaporizer. Therefore, in addition to the function and effect of the first aspect of the invention, the change in the temperature detected by the temperature detecting means reflects the amount of vaporization well, and the amount of electricity to the electric heater well reflects the discharge flow rate of gas. In addition, the supply amount of the liquid raw material to the vaporizer is accurately controlled. As a result, an effect that the vaporization flow rate of the liquid raw material can be controlled with high responsiveness is exhibited.
【００４６】上記請求項３に記載の発明では、請求項１
又は請求項２の発明の構成において、温度検出手段を気
化室の導入口に接近して配置している。従って、請求項
１又は請求項２の発明の作用及び効果に加え、導入口か
ら気化室に導入される液体原料の温度が温度検出手段に
より即座に検出されることから、温度検出の精度が高ま
り、気体の排出流量の変化を応答性良く検出することが
可能となる。この意味でも、液体原料の気化流量を安定
的、かつ、応答性良く制御することができるという効果
を発揮する。According to the third aspect of the present invention, in the first aspect,
Alternatively, in the configuration according to the second aspect of the present invention, the temperature detecting means is disposed near the inlet of the vaporizing chamber. Therefore, in addition to the functions and effects of the first or second aspect of the invention, the temperature of the liquid raw material introduced from the inlet into the vaporization chamber is immediately detected by the temperature detecting means, so that the accuracy of temperature detection is improved. In addition, it is possible to detect a change in the gas discharge flow rate with good responsiveness. Also in this sense, an effect that the vaporization flow rate of the liquid raw material can be controlled stably and with good responsiveness is exhibited.
【図１】一実施の形態に係り、液体原料の気化装置を含
むガス供給装置の概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a gas supply device including an apparatus for vaporizing a liquid raw material according to an embodiment.
【図２】同実施の形態に係り、気化器の構造を示す断面
図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing a structure of a vaporizer according to the embodiment.
【図３】同実施の形態に係り、液体供給流量とパルス信
号オン時間との関係を示すグラフである。FIG. 3 is a graph showing a relationship between a liquid supply flow rate and a pulse signal ON time according to the embodiment.
【図４】同実施の形態に係り、液体供給流量とガス流量
との関係を示すグラフである。FIG. 4 is a graph showing a relationship between a liquid supply flow rate and a gas flow rate according to the embodiment.
【図５】同実施の形態に係り、ガス流量とパルス信号オ
ン時間との関係を示すグラフである。FIG. 5 is a graph showing a relationship between a gas flow rate and a pulse signal ON time according to the embodiment.
【図６】同実施の形態に係り、パルス信号オン時間と定
電圧信号との関係を示すグラフである。FIG. 6 is a graph showing a relationship between a pulse signal on-time and a constant voltage signal according to the embodiment.
【図７】同実施の形態に係り、定電圧信号とガス流量と
の関係を示すグラフである。FIG. 7 is a graph showing a relationship between a constant voltage signal and a gas flow rate according to the embodiment.
【図８】同実施の形態に係り、ガス流量と気化器推定温
度との関係を示すタイムチャートである。FIG. 8 is a time chart showing a relationship between a gas flow rate and an estimated vaporizer temperature according to the embodiment.
２ 気化器 ３ 流量コントローラ（原料制御手段を構成す
る。） ４ 温度コントローラ（電気量制御手段を構成す
る。） １０ 調節バルブ １２ 電気ヒータ １３ 熱電対（温度検出手段を構成する。） １４ 電空レギュレータ（１０，１４は原料調節手段
を構成する。） ２３ 気化室 ４６ａ 弁孔（導入口を構成する。）2 vaporizer 3 flow rate controller (constituting raw material control means) 4 temperature controller (constituting electric quantity control means) 10 control valve 12 electric heater 13 thermocouple (constituting temperature detection means) 14 electropneumatic regulator (10 and 14 constitute the raw material adjusting means.) 23 Vaporization chamber 46a Valve hole (constitutes an inlet).
Claims (3)
タにより加熱し気化させて排出すると共に、その排出流
量を制御するようにした気化装置であって、 前記気化器に対する前記液体原料の供給量を調節するた
めの原料調節手段と、 前記気化器内の温度を検出するための温度検出手段と、 前記検出される温度が一定となるように前記電気ヒータ
に供給される電気量を制御するための電気量制御手段
と、 前記電気ヒータに供給される電気量を前記排出流量に相
関する値とし、その相関値に基づいて前記原料調節手段
を制御するための原料制御手段とを備えたことを特徴と
する液体原料の気化装置。1. A vaporizer in which a liquid raw material supplied to a vaporizer is heated by an electric heater to be vaporized and discharged, and the discharge flow rate is controlled, wherein the supply of the liquid raw material to the vaporizer is performed. Raw material adjusting means for adjusting the amount; temperature detecting means for detecting the temperature in the vaporizer; and controlling the amount of electricity supplied to the electric heater so that the detected temperature is constant. For controlling the amount of electricity supplied to the electric heater to a value correlated with the discharge flow rate, and controlling the material adjusting means based on the correlation value. An apparatus for vaporizing a liquid raw material, comprising:
設け、それらを前記気化器の内部に配置したことを特徴
とする液体原料の気化装置。2. The vaporizer according to claim 1, wherein the electric heater and the temperature detector are provided integrally with each other, and are disposed inside the vaporizer. .
において、 前記気化器は前記液体原料を気化させるための気化室
と、その気化室に前記液体原料を導入するための導入口
とを有し、前記温度検出手段は前記気化室において前記
導入口に接近して配置されることを特徴とする液体原料
の気化装置。3. The vaporizer according to claim 1 or 2, wherein the vaporizer has a vaporization chamber for vaporizing the liquid raw material, and an inlet for introducing the liquid raw material into the vaporization chamber. Wherein the temperature detecting means is disposed in the vaporization chamber close to the inlet.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24302397A JP3808985B2 (en) | 1997-09-08 | 1997-09-08 | Liquid raw material vaporizer |
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| JPH1180957A true JPH1180957A (en) | 1999-03-26 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111928224A (en) * | 2020-08-14 | 2020-11-13 | 西安建筑科技大学 | Controllable flow temperature control liquid evaporator |
| KR20220143511A (en) * | 2021-04-16 | 2022-10-25 | 주식회사 케이티앤지 | Aerosol generating device and control method thereof |
-
1997
- 1997-09-08 JP JP24302397A patent/JP3808985B2/en not_active Expired - Fee Related
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