JPH1174076A - 発光ディスプレイの製造方法 - Google Patents
発光ディスプレイの製造方法Info
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- JPH1174076A JPH1174076A JP9232634A JP23263497A JPH1174076A JP H1174076 A JPH1174076 A JP H1174076A JP 9232634 A JP9232634 A JP 9232634A JP 23263497 A JP23263497 A JP 23263497A JP H1174076 A JPH1174076 A JP H1174076A
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- die
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Abstract
(57)【要約】
【課題】赤、緑、青の有機ＥＬ材を仕切る深い土手を作
る。 【解決手段】シリコン樹脂型を使い、型と基板の形成す
る空間に土手用溶液原料を充填し固化させる。
る。 【解決手段】シリコン樹脂型を使い、型と基板の形成す
る空間に土手用溶液原料を充填し固化させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は発光ディスプレイの
製造方法に係わり、更に詳しくは有機ＥＬ材料を用いた
発光ディスプレイの製造方法に関する。
製造方法に係わり、更に詳しくは有機ＥＬ材料を用いた
発光ディスプレイの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年液晶表示体がワードプロセッサー、
パーソナルコンピュータ等の表示部として盛んに用いら
れている。この液晶表示体は非発光素子であり、明るさ
の点、特に反射型ディスプレイで用いるとき問題とな
る。ここへきて薄型、軽量の特徴を有す有機の発光材料
（以後有機ＥＬ材料という）を用いた発光ディスプレイ
が注目されている。
パーソナルコンピュータ等の表示部として盛んに用いら
れている。この液晶表示体は非発光素子であり、明るさ
の点、特に反射型ディスプレイで用いるとき問題とな
る。ここへきて薄型、軽量の特徴を有す有機の発光材料
（以後有機ＥＬ材料という）を用いた発光ディスプレイ
が注目されている。
【０００３】この発光ディスプレイの断面図を図１に示
す。図において１はアルミニウム電極を、２は有機ＥＬ
材料を、３はＩＴＯ透明電極を、４はガラス基板を、５
は電源をそれぞれ示す。図よりわかるようにガラス基板
がわずかに厚みを要求される他はミクロンのオーダーで
あり、非常に薄いディスプレイである。
す。図において１はアルミニウム電極を、２は有機ＥＬ
材料を、３はＩＴＯ透明電極を、４はガラス基板を、５
は電源をそれぞれ示す。図よりわかるようにガラス基板
がわずかに厚みを要求される他はミクロンのオーダーで
あり、非常に薄いディスプレイである。
【０００４】この発光ディスプレイの製造方法は以下の
通りである。まず、透明基板上にスパッター法、又は蒸
着法によりＩＴＯ等の透明電極を作成する。しかる後、
ホトリソグラフィー法等により所望の電極を形成する。
更に、この基板上にスピンコート法、蒸着法等により有
機ＥＬ材料を成膜し発光層とする。更に、この上に仕事
関数の低い金属、例えば、マグネシウム、カルシウム、
アルミニウム、リチウム、銀、あるいはこれら金属の合
金を蒸着法、スパッター法等により成膜する事により対
向電極とする。以上が基本の工程であるが、発光効率を
上げるために、更に透明電極と発光層の間にホール輸送
層、例えばＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−（２，４
−ジメチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，
４’−ジアミン層を設けても良い。また発光層と対向電
極の間に電子輸送層、例えば２−（４−ビフェニル）−
５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−
オキシジアゾール層を設けても良い。
通りである。まず、透明基板上にスパッター法、又は蒸
着法によりＩＴＯ等の透明電極を作成する。しかる後、
ホトリソグラフィー法等により所望の電極を形成する。
更に、この基板上にスピンコート法、蒸着法等により有
機ＥＬ材料を成膜し発光層とする。更に、この上に仕事
関数の低い金属、例えば、マグネシウム、カルシウム、
アルミニウム、リチウム、銀、あるいはこれら金属の合
金を蒸着法、スパッター法等により成膜する事により対
向電極とする。以上が基本の工程であるが、発光効率を
上げるために、更に透明電極と発光層の間にホール輸送
層、例えばＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−（２，４
−ジメチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，
４’−ジアミン層を設けても良い。また発光層と対向電
極の間に電子輸送層、例えば２−（４−ビフェニル）−
５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−
オキシジアゾール層を設けても良い。
【０００５】この対向する電極間に電界を印加する事に
より発光させることができる。この発光ディスプレイの
特徴として、１０ボルト以下の電圧で駆動できることが
ある。
より発光させることができる。この発光ディスプレイの
特徴として、１０ボルト以下の電圧で駆動できることが
ある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】この有機ＥＬ材料を用
いた発光ディスプレイは将来有望な技術であるが、フル
カラー化をねらう場合問題があった。すなわち、青、
緑、赤をどのように別々に区分けするかが問題であっ
た。ここへきてリソグラフィー法により電極上に土手を
形成し、その土手内に吐出装置を用い青、緑、赤の有機
ＥＬ材料を溶かした溶液を吐出し、溶媒を乾燥除去し発
光層とする方法が注目されている。
いた発光ディスプレイは将来有望な技術であるが、フル
カラー化をねらう場合問題があった。すなわち、青、
緑、赤をどのように別々に区分けするかが問題であっ
た。ここへきてリソグラフィー法により電極上に土手を
形成し、その土手内に吐出装置を用い青、緑、赤の有機
ＥＬ材料を溶かした溶液を吐出し、溶媒を乾燥除去し発
光層とする方法が注目されている。
【０００７】従来、土手はホトリソグラフィー法により
形成されていたが、この場合あまり深い土手を形成する
ことは困難であった。このため吐出装置により吐出され
る有機ＥＬ材料の濃度を濃くする必要があった。しかし
あまり濃くすると吐出装置が目詰まりを起こす欠点があ
った。本発明はこのような問題を解決するためになされ
たもので、その目的は、発光層を区切る土手を、ホトリ
ソグラフィー法を使わない簡便な方法で作成する事にあ
り、さらに色々な材料で好適な土手を形成でき、深く形
成出来る方法を提供するためになされたものである。そ
してその結果、吐出装置を用いフルカラー化可能な発光
ディスプレイを効率良く、低コストで実現することにあ
る。
形成されていたが、この場合あまり深い土手を形成する
ことは困難であった。このため吐出装置により吐出され
る有機ＥＬ材料の濃度を濃くする必要があった。しかし
あまり濃くすると吐出装置が目詰まりを起こす欠点があ
った。本発明はこのような問題を解決するためになされ
たもので、その目的は、発光層を区切る土手を、ホトリ
ソグラフィー法を使わない簡便な方法で作成する事にあ
り、さらに色々な材料で好適な土手を形成でき、深く形
成出来る方法を提供するためになされたものである。そ
してその結果、吐出装置を用いフルカラー化可能な発光
ディスプレイを効率良く、低コストで実現することにあ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１の本発明の製造方法は、透明電極付き基板
の作成、発光層を区切る土手の透明電極基板上への形
成、その土手内に満たされる青、緑、赤色を発光する発
光層の形成、及び発光層上に形成される電極の形成より
なる発光ディスプレイの製造方法において、透明電極形
成後、土手の形状に溝の掘られたシリコン樹脂型を基板
に密着させ、出来た空間に土手用の液状の原料をしみ込
ませ、充填した後に固化させ、固化後シリコン樹脂型を
取り除き、土手とすることを特徴としている。このよう
な製造方法を採ることにより、ホトリソグラフィー法の
ような複雑高価な方法を採る必要がなくなる。またホト
リソグラフィー法では出来なかった深い土手を形成で
き、型は壊れるまで使用可能でコスト低減に役立つ。
に、請求項１の本発明の製造方法は、透明電極付き基板
の作成、発光層を区切る土手の透明電極基板上への形
成、その土手内に満たされる青、緑、赤色を発光する発
光層の形成、及び発光層上に形成される電極の形成より
なる発光ディスプレイの製造方法において、透明電極形
成後、土手の形状に溝の掘られたシリコン樹脂型を基板
に密着させ、出来た空間に土手用の液状の原料をしみ込
ませ、充填した後に固化させ、固化後シリコン樹脂型を
取り除き、土手とすることを特徴としている。このよう
な製造方法を採ることにより、ホトリソグラフィー法の
ような複雑高価な方法を採る必要がなくなる。またホト
リソグラフィー法では出来なかった深い土手を形成で
き、型は壊れるまで使用可能でコスト低減に役立つ。
【０００９】本発明の製造方法はシリコン樹脂で型どり
し、溶液原料を用い型に流し込み固化させ土手とするこ
とに特徴を有する事にあり。その他の電極の型、土手の
材料、有機ＥＬ材料等にはとらわれないものである。例
えば電極としては、アクティーブ駆動型のＴＦＴ基板を
用いた発光ディスプレイや、パシイーブ駆動のマトリク
スディスプレイ等、いずれの電極にも対応できるもので
ある。また有機ＥＬ材料としては低分子型有機ＥＬ材
料、高分子型有機ＥＬ材料にも、溶液に出来る限り選択
出来ることは周知のことである。
し、溶液原料を用い型に流し込み固化させ土手とするこ
とに特徴を有する事にあり。その他の電極の型、土手の
材料、有機ＥＬ材料等にはとらわれないものである。例
えば電極としては、アクティーブ駆動型のＴＦＴ基板を
用いた発光ディスプレイや、パシイーブ駆動のマトリク
スディスプレイ等、いずれの電極にも対応できるもので
ある。また有機ＥＬ材料としては低分子型有機ＥＬ材
料、高分子型有機ＥＬ材料にも、溶液に出来る限り選択
出来ることは周知のことである。
【００１０】請求項２の本発明の製造方法は、上述の土
手の液状原料がモノマー原料、又は高分子前駆体を含む
溶液であることを特徴としている。モノマー原料として
は、スチレン、メチルメタアクリレート等が、高分子前
駆体としてはポリアミド酸等が考えられる。
手の液状原料がモノマー原料、又は高分子前駆体を含む
溶液であることを特徴としている。モノマー原料として
は、スチレン、メチルメタアクリレート等が、高分子前
駆体としてはポリアミド酸等が考えられる。
【００１１】請求項３の本発明の製造方法は上述の土手
の液状原料がガラス前駆体溶液であることを特徴として
いる。ガラス前駆体溶液としては、テトラエチルシリケ
ート等のゾル溶液やポリシラザンの溶液等が考えられ
る。
の液状原料がガラス前駆体溶液であることを特徴として
いる。ガラス前駆体溶液としては、テトラエチルシリケ
ート等のゾル溶液やポリシラザンの溶液等が考えられ
る。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施形態を図面に基
づいて詳しく説明する。
づいて詳しく説明する。
【００１３】（実施例１）図２に示すような、土手の幅
２０ミクロン、高さ４ミクロンで格子状に、格子の囲む
大きさ３０ミクロン×１３０ミクロンで穴を掘った金属
基板を型とし、シリコン樹脂（東芝シリコーン製、ＴＳ
Ｅ３４５０）で型どりした。この様にして得た４８．５
ｃｍ×３６．５ｃｍの大きさのシリコン樹脂型を、ＴＦ
Ｔ素子とＩＴＯ透明電極をマトリクス状に形成したＴＦ
Ｔ基板に密着させた後、型の回りを、ガラス前駆体（Ｅ
ＴＳＢ−７０００、テー・エス・ビー開発センター製、
粘度２ＣＰ）で覆い室温に放置し、表面張力を利用し、
内部に進入させた。進入が完結したところで１日室温で
放置し固化させた。固化後シリコン樹脂型を取り除き、
２００度Ｃで乾燥し、強度を増した。このようにして得
られた土手付きＴＦＴ基板に、吐出装置を用い青、緑、
赤色に対応する有機ＥＬ材料の溶液を土手により形成さ
れる格子内に打ち分けた。以上の製造工程の概念図を図
３に示す。図において、３１はインク材を打ち出すノズ
ルを、３２は有機ＥＬ材料を、３３は土手を、３４はマ
トリクス状に形成されたＩＴＯ透明電極を、３５絶縁層
を、３６はＴＦＴ素子をマトリクス状に形成したガラス
基板を、３７はマトリクス状に形成され、ＩＴＯ透明電
極と直結したＴＦＴ素子をそれぞれ示す。この後、溶媒
を乾燥除去し発光層とした後、最後にアルミニウム電極
を蒸着により形成し対向電極とした。
２０ミクロン、高さ４ミクロンで格子状に、格子の囲む
大きさ３０ミクロン×１３０ミクロンで穴を掘った金属
基板を型とし、シリコン樹脂（東芝シリコーン製、ＴＳ
Ｅ３４５０）で型どりした。この様にして得た４８．５
ｃｍ×３６．５ｃｍの大きさのシリコン樹脂型を、ＴＦ
Ｔ素子とＩＴＯ透明電極をマトリクス状に形成したＴＦ
Ｔ基板に密着させた後、型の回りを、ガラス前駆体（Ｅ
ＴＳＢ−７０００、テー・エス・ビー開発センター製、
粘度２ＣＰ）で覆い室温に放置し、表面張力を利用し、
内部に進入させた。進入が完結したところで１日室温で
放置し固化させた。固化後シリコン樹脂型を取り除き、
２００度Ｃで乾燥し、強度を増した。このようにして得
られた土手付きＴＦＴ基板に、吐出装置を用い青、緑、
赤色に対応する有機ＥＬ材料の溶液を土手により形成さ
れる格子内に打ち分けた。以上の製造工程の概念図を図
３に示す。図において、３１はインク材を打ち出すノズ
ルを、３２は有機ＥＬ材料を、３３は土手を、３４はマ
トリクス状に形成されたＩＴＯ透明電極を、３５絶縁層
を、３６はＴＦＴ素子をマトリクス状に形成したガラス
基板を、３７はマトリクス状に形成され、ＩＴＯ透明電
極と直結したＴＦＴ素子をそれぞれ示す。この後、溶媒
を乾燥除去し発光層とした後、最後にアルミニウム電極
を蒸着により形成し対向電極とした。
【００１４】この対向電極上にガラス板をエポキシ樹脂
で張り合わせ保護層とした。
で張り合わせ保護層とした。
【００１５】このようにして得た発光ディスプレイは１
０ボルトで駆動でき、フルカラーを表示できた。 （実施例２）実施例１同様にして、図２に示すような、
土手の幅２０ミクロン、高さ４ミクロンで格子状に、格
子の囲む大きさ３０ミクロン×１３０ミクロンで穴を掘
った金属基板を型とし、シリコン樹脂（東芝シリコーン
製、ＴＳＥ３４５０）で型どりした。このシリコン樹脂
型（４８．５ｃｍ×３６．５ｃｍ）を、短冊状に電極の
形成されたＩＴＯ透明電極付き基板に密着させた後、型
の回りを、ガラス前駆体（ＥＴＳＢ−７０００、テー・
エス・ビー開発センター製、粘度２ＣＰ）で覆い、室温
で表面張力を利用し、内部に進入させた。進入が完結し
たところで１日室温で放置し固化させた。固化後シリコ
ン樹脂型を取り除き、２００度Ｃで乾燥し、強度を増し
た。このようにして得られた土手付きＩＴＯ透明電極付
き基板に、吐出装置を用い青、緑、赤色に対応する有機
ＥＬ材料の溶液を土手により形成される格子内に打ち分
けた。以上の製造工程の概念図を図４に示す。図におい
て、４１はインク材を打ち出すノズルを、４２はガラス
基板を、４３はＩＴＯ透明電極を、４５は土手を、４６
は有機ＥＬ材をそれぞれ示す。この後、溶媒を乾燥除去
し発光層とした後、最後にアルミニウム電極を蒸着によ
りＩＴＯ透明電極と直行するように短冊状に形成し対向
電極とした。
０ボルトで駆動でき、フルカラーを表示できた。 （実施例２）実施例１同様にして、図２に示すような、
土手の幅２０ミクロン、高さ４ミクロンで格子状に、格
子の囲む大きさ３０ミクロン×１３０ミクロンで穴を掘
った金属基板を型とし、シリコン樹脂（東芝シリコーン
製、ＴＳＥ３４５０）で型どりした。このシリコン樹脂
型（４８．５ｃｍ×３６．５ｃｍ）を、短冊状に電極の
形成されたＩＴＯ透明電極付き基板に密着させた後、型
の回りを、ガラス前駆体（ＥＴＳＢ−７０００、テー・
エス・ビー開発センター製、粘度２ＣＰ）で覆い、室温
で表面張力を利用し、内部に進入させた。進入が完結し
たところで１日室温で放置し固化させた。固化後シリコ
ン樹脂型を取り除き、２００度Ｃで乾燥し、強度を増し
た。このようにして得られた土手付きＩＴＯ透明電極付
き基板に、吐出装置を用い青、緑、赤色に対応する有機
ＥＬ材料の溶液を土手により形成される格子内に打ち分
けた。以上の製造工程の概念図を図４に示す。図におい
て、４１はインク材を打ち出すノズルを、４２はガラス
基板を、４３はＩＴＯ透明電極を、４５は土手を、４６
は有機ＥＬ材をそれぞれ示す。この後、溶媒を乾燥除去
し発光層とした後、最後にアルミニウム電極を蒸着によ
りＩＴＯ透明電極と直行するように短冊状に形成し対向
電極とした。
【００１６】この対向電極上にガラス板をエポキシ樹脂
で張り合わせ保護層とした。
で張り合わせ保護層とした。
【００１７】このようにして得た発光ディスプレイは１
０ボルトで駆動でき、マルチプレックス駆動によりフル
カラー表示できた。
０ボルトで駆動でき、マルチプレックス駆動によりフル
カラー表示できた。
【００１８】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の発光ディス
プレイの製造方法によれば、従来用いられていたホトリ
ソグラフィー法の変わりに、シリコン樹脂型を用いるこ
とが出来るのでコスト低減につながる。またシリコン樹
脂型を用いるため深い土手を形成できる。このため低濃
度の有機ＥＬ材を使用できるため、吐出装置の目詰まり
を防ぐことが出来る。
プレイの製造方法によれば、従来用いられていたホトリ
ソグラフィー法の変わりに、シリコン樹脂型を用いるこ
とが出来るのでコスト低減につながる。またシリコン樹
脂型を用いるため深い土手を形成できる。このため低濃
度の有機ＥＬ材を使用できるため、吐出装置の目詰まり
を防ぐことが出来る。
【図１】発光ディスプレイの断面図。
【図２】シリコン樹脂型を作成する金属型とシリコン樹
脂型の断面図。
脂型の断面図。
【図３】ＴＦＴ基板を用いた製造工程の概念図。
【図４】短冊状ＩＴＯ透明電極付き基板を用いた製造工
程の概念図。
程の概念図。
１．アルミニウム電極 ２．有機ＥＬ材料 ３．ＩＴＯ透明電極 ４．ガラス基板 ５．電源 ２１．土手 ２２．シリコン樹脂型 ３１．ノズル ３２．有機ＥＬ材料 ３３．土手 ３４．ＩＴＯ透明電極 ３５．絶縁層 ３６．ガラス基板 ３７．ＴＦＴ素子 ４１．ノズル ４２．ガラス基板 ４３．ＩＴＯ透明電極 ４４．土手 ４５．有機ＥＬ材
Claims (3)
- 【請求項１】透明電極付き基板の作成、発光層を区切る
土手の透明電極基板上への形成、その土手内に満たされ
る青、緑、赤色を発光する発光層の形成、及び発光層上
に形成される電極の形成よりなる発光ディスプレイの製
造方法において、透明電極形成後、土手の形状に溝の掘
られたシリコン樹脂型を基板に密着させ、出来た空間に
土手用の液状の原料をしみ込ませ、充填した後に固化さ
せ、固化後シリコン樹脂型を取り除き、土手とすること
を特徴とする発光ディスプレイの製造方法。 - 【請求項２】請求項１の土手用の液状原料がモノマー原
料、又は高分子前駆体を含む溶液であることを特徴とす
る発光ディスプレイの製造方法。 - 【請求項３】請求項１の土手用の液状原料がガラス前駆
体溶液であることを特徴とする発光ディスプレイの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9232634A JPH1174076A (ja) | 1997-08-28 | 1997-08-28 | 発光ディスプレイの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9232634A JPH1174076A (ja) | 1997-08-28 | 1997-08-28 | 発光ディスプレイの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1174076A true JPH1174076A (ja) | 1999-03-16 |
Family
ID=16942385
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9232634A Withdrawn JPH1174076A (ja) | 1997-08-28 | 1997-08-28 | 発光ディスプレイの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1174076A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001093332A1 (en) * | 2000-06-01 | 2001-12-06 | Microemissive Displays Limited | A method of creating a color optoelectronic device |
| KR20040007823A (ko) * | 2002-07-11 | 2004-01-28 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 유기전계 발광소자와 그 제조방법 |
| US6720029B2 (en) | 1999-08-06 | 2004-04-13 | Sharp Kabushiki Kaisha | Coating liquid for forming organic layer in organic LED display and method of manufacturing organic LED display |
| KR100450460B1 (ko) * | 2002-08-13 | 2004-09-30 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 유기전계발광 소자용 소프트 몰드 및 그의 제조 방법 |
| KR100472854B1 (ko) * | 2002-07-18 | 2005-03-10 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 듀얼패널타입 유기전계발광 소자 및 그의 제조방법 |
| KR100505343B1 (ko) * | 2002-11-28 | 2005-08-03 | 주식회사 미뉴타텍 | 패터닝용 탄성체 주형 제조 방법 및 이를 이용한 유기발광 소자의 음극 분리 격벽 형성 방법 |
| KR100685930B1 (ko) | 2004-12-29 | 2007-02-23 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 유기 전계발광표시장치 및 이의 제조방법 |
| US7378790B2 (en) | 2001-05-02 | 2008-05-27 | Seiko Epson Corporation | Color display substrate, color filter substrate, color luminescent substrate, manufacturing method of color display substrate, electro-optical apparatus, electronic device, film-forming method, film-forming apparatus, and display motherboard |
-
1997
- 1997-08-28 JP JP9232634A patent/JPH1174076A/ja not_active Withdrawn
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US6720029B2 (en) | 1999-08-06 | 2004-04-13 | Sharp Kabushiki Kaisha | Coating liquid for forming organic layer in organic LED display and method of manufacturing organic LED display |
| WO2001093332A1 (en) * | 2000-06-01 | 2001-12-06 | Microemissive Displays Limited | A method of creating a color optoelectronic device |
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| KR20040007823A (ko) * | 2002-07-11 | 2004-01-28 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 유기전계 발광소자와 그 제조방법 |
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| KR100450460B1 (ko) * | 2002-08-13 | 2004-09-30 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 유기전계발광 소자용 소프트 몰드 및 그의 제조 방법 |
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| KR100685930B1 (ko) | 2004-12-29 | 2007-02-23 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 유기 전계발광표시장치 및 이의 제조방법 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20041102 |