JPH116803A - 基板欠陥検査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板の位置ずれの影響の少ない基板欠陥検査
装置を提供する。 【解決手段】 基板を載置する基板ステージＳＴＧと、
基板ステージＳＴＧに載置された被検査基板Ｗから射出
される回折光Ｌ２による該被検査基板Ｗの像に基づいて
該被検査基板Ｗの欠陥検査を行う検査部と、被検査基板
Ｗの位置ずれ量を計測する計測部とを備える。計測部を
備えるので基板の位置ずれを計測でき、その位置ずれを
参照して、基板ステージに載置された被検査基板を検査
部で検査することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板欠陥検査装置
に関し、特に基板の位置ずれによる影響を最小限に抑え
ることのできる基板欠陥検査装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、ウェハなど基板の表面の傷、ムラ
等の欠陥検査には人手による目視検査が行われてきた
が、近年は自動的に検査を行うものとして、例えば特開
平８−７５６６１号公報に開示された装置がある。これ
は、基板上に形成された周期性を有するパターン部分か
らの回折光による基板の像を画像処理装置に取り込み、
基板表面の欠陥を検出するものである。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】以上のような装置によ
れば、ウェハのような基板の位置ずれ、特に基板表面に
垂直な軸線回りの回転位置ずれによって回折光の一部が
検出器から外れてしまい、検査に支障を来たしてしま
う。

【０００４】そこで本発明は、基板の欠陥検査への基板
の位置ずれの影響を少なくした、効率的な基板欠陥検査
装置を提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１に係る発明による基板欠陥検査装置は、図
１に示すように、基板を載置する基板ステージＳＴＧ
と；前記基板ステージＳＴＧに載置された被検査基板Ｗ
から射出される回折光Ｌ２による該被検査基板Ｗの像に
基づいて該被検査基板Ｗの欠陥検査を行う検査部と；前
記被検査基板Ｗの位置ずれ量を計測する計測部とを備え
る。

【０００６】このように構成すると、計測部を備えるの
で基板の位置ずれを計測でき、その位置ずれを参照し
て、基板ステージに載置された被検査基板を検査部で検
査することができる。ここで基板の位置ずれとは、特に
基板表面内の回転位置ずれを含む２次元的位置ずれ一般
を意味する。

【０００７】この場合、請求項２に記載のように、前記
計測部は、前記被検査基板Ｗの表面に垂直な第１軸線Ａ
Ｘ１に関する回転位置ずれ量を計測するように構成さ
れ；前記基板ステージＳＴＧは、前記第１軸線ＡＸ１回
りに回転可能であるように構成されるのが望ましい。

【０００８】このように構成すると、計測部により第１
軸線に関する基板の回転位置ずれ量が計測され、その回
転位置ずれに基づいて基板ステージを、第１軸線回りに
回転して調整することができる。

【０００９】さらに以上の装置では、請求項３に記載の
ように、前記検査部は、前記被検査基板Ｗを照明する照
明光学系１０と、該照明光学系１０からの照明光Ｌ１の
うち該被検査基板Ｗ上に形成されたパターンからの回折
光Ｌ２を受光する受光光学系２０とを備え；前記基板ス
テージＳＴＧは、前記被検査基板Ｗの表面内で、かつ該
被検査基板Ｗと交わる前記受光光学系の光軸ＬＸ２に垂
直である第２軸線ＡＸ２回りに前記基板ステージＳＴＧ
を回転させる基板ステージ傾斜機構５２を備えてもよ
い。

【００１０】このように構成すると、照明光学系を備え
るので、基板上のパターンが照明光Ｌ１により照明さ
れ、回折光Ｌ２が生じる。また受光光学系を備え、基板
の表面内で、その受光光学系の光軸に垂直である第２軸
線ＡＸ２の回りに基板ステージＳＴＧを回転させる基板
ステージ傾斜機構を備えるので、回折光Ｌ２の方向に基
板ステージを傾斜させることができる。

【００１１】この場合、請求項４に記載のように、前記
検査部は、前記受光光学系２０にて得られた該被検査基
板Ｗの像を撮像する第一の撮像手段３１と、該第一の撮
像手段３１にて得られた該被検査基板Ｗの画像に基づい
て画像処理を行う第一の画像処理装置３３とを含んで構
成され；前記計測部は計測光学系４０と、該計測光学系
４０にて得られた前記被検査基板Ｗの像を撮像する第二
の撮像手段３２と、該第二の撮像手段にて得られた前記
被検査基板の画像に基づいて画像処理を行う第二の画像
処理装置３３とを含んで構成され；前記第二の画像処理
装置３３からの情報に基づいて前記基板ステージＳＴＧ
の前記第１軸線ＡＸ１回りの回転位置ずれを調整可能に
構成されている。

【００１２】このように構成すると、第一の撮像手段を
備えるので、基板の像が撮像され、第一の画像処理装置
を備えるので、撮像された像を例えば基準の像と比較し
たり、像の明暗の差から欠陥を検出したりする、像の処
理が可能である。同様に、計測部は計測光学系を備える
ので、基板Ｗの像を得ることができ、第二の撮像手段を
備えるので、得られた像を撮像することができ、第二の
画像処理装置を備えるので、第二の撮像手段にて得られ
た基板の画像に基づいて画像処理を行い、第二の画像処
理装置からの情報に基づいて基板ステージＳＴＧの第１
軸線ＡＸ１回りの回転位置ずれが調整できる。画像処理
装置は、共通の装置であってもよいし、別個に設けても
よい。

【００１３】この装置では、請求項５に記載のように、
第二の画像処理装置は、第一の画像処理装置と共通部分
を含むようにしてもよい。共通部分を含む延長として、
図１に示されるように、処理装置全体が共通の装置３３
であってもよく、第一の撮像手段で得られた画像と第二
の撮像手段で得られた画像とをその共通の画像処理装置
で処理することができる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して説明する。なお、各図において互い
に同一あるいは相当する部材には同一符号を付し、重複
した説明は省略する。

【００１５】図１は、本発明による基板欠陥検査装置の
実施の形態を示す側面図である。また、図２は本発明に
よる基板欠陥検査装置の実施の形態の概念的側面図であ
る。図２中、検査部１が基板ステージＳＴＧ上に載置さ
れたウエハ等の基板Ｗに対向して設けられており、一方
計測部２は、検査部１と並列的に配置されている。ここ
で、基板ステージＳＴＧは検査部１に対向する位置と、
計測部２に対向する位置（図２では破線で示されてい
る）との間で、平行移動可能に構成されている。但し、
基板ステージＳＴＧを移動する代わりに、検査部１と計
測部２とを、基板ステージＳＴＧに対して相対的に移動
してもよい。

【００１６】図２に概念的に示された装置の詳細を図１
に示す。図１を参照して、本実施の形態を説明する。図
中、基板ステージＳＴＧ上に載置された被検査基板Ｗ
に、平行光束Ｌ１を、基板Ｗの表面に対して斜めに照射
する照明光学系１０が設けられている。照明光学系１０
は、光源１１と、その光の進行方向にリレーレンズ１
２、その先に表面反射鏡１３、球面反射鏡１４を含んで
構成されている。光源１１から射出された照明光はリレ
ーレンズ１２を通り、表面反射鏡１３で反射された後、
球面反射鏡１４に入射する。球面反射鏡１４で反射され
た照明光はほぼ平行な光束となって基板Ｗに向かい、こ
れを照明する。

【００１７】受光光学系２０は、基板Ｗからの光を受光
するように基板Ｗ方向に対向する球面反射鏡２１、表面
反射鏡２２、受光レンズ２３とがこの順に配列されて構
成されている。

【００１８】さらに受光光学系２０に関して基板Ｗの表
面と共役な位置に撮像面を有する撮像素子３１が配置さ
れている。撮像素子３１が本発明の第一の撮像手段であ
り、例えばＣＣＤ撮像素子が用いられる。また、受光光
学系２０の光軸ＬＸ２は基板Ｗの被検査面のほぼ中央で
基板Ｗと交差するように配置されており、基板Ｗからの
回折光Ｌ２による像が撮像素子３１に形成される。

【００１９】撮像素子３１に形成された像は画像信号と
して、撮像素子３１と電気的に接続された画像処理装置
３３に伝送され、ここで適宜画像処理される。ここでい
う画像処理は、例えば、被検査基板Ｗの像とあらかじめ
記憶させておいた欠陥のない基板の像との比較である。
また、投影露光装置のデフォーカスによって基板に生じ
たムラなどの欠陥がある場合は、その部分の明暗の差か
ら、その部分を欠陥として出力する。

【００２０】このように、本発明の検査部は、本実施の
形態では、照明光学系１０、受光光学系２０、撮像素子
３１、画像処理装置３３を含んで構成されている。

【００２１】ここで、撮像素子３１に光を入射させる受
光光学系２０の光軸ＬＸ２は、表面反射鏡２２で偏向さ
れるが、その偏向方向を、基板Ｗを挟む照明光学系１０
の光軸と受光光学系２０の光軸とがなす平面から逸脱す
る方向とする。例えばその平面に対して垂直な（図１で
は紙面と垂直な）方向とする。このようにすると、基板
Ｗからの回折光のうち０次回折光、即ち正反射光が直接
撮像素子３１に入射し、画像処理に影響を与えるのを防
ぐことができる。

【００２２】図１の（ａ）は、基板Ｗの載置された基板
ステージＳＴＧの部分を上方から見た平面図である。第
１の軸線ＡＸ１はほぼ基板ステージＳＴＧの中心を、基
板載置面に垂直に通っている。軸線ＡＸ１を中心として
基板ステージＳＴＧを回転させる回転駆動装置５１が、
基板ステージＳＴＧの下に設けられている。回転駆動装
置５１は、画像処理装置３３と電気的に接続されてお
り、駆動を制御する信号を受信するように構成されてい
る。

【００２３】第２の軸線ＡＸ２は、基板Ｗの表面内で受
光光学系２０の軸線ＬＸ２に直角に通っている。軸線Ａ
Ｘ２を中心として基板ステージＳＴＧを回転させて傾斜
を調節する基板ステージ傾斜機構５２が、基板ステージ
ＳＴＧの横に設けられている。基板ステージ傾斜機構５
２は、画像処理装置３３と電気的に接続されており、回
転を制御する信号を受信するように構成されている。

【００２４】次にやはり図１を参照して計測部を説明す
る。図中破線で示されているのは、計測部で基板Ｗを計
測する場合の基板ステージＳＴＧと基板の位置である。
すなわち、検査部に実線で示された基板ステージＳＴＧ
と基板Ｗが横に平行移動した位置である。平行移動した
後の基板の上方に計測光学系４０が配置されている。計
測光学系４０は、基板Ｗの上方に配置された対物レンズ
４４、さらにその上方のリレーレンズ４５、対物レンズ
４４とリレーレンズ４５との中間に挿入されたハーフミ
ラー４３、ハーフミラー４３で偏向された光軸方向には
リレーレンズ４２、その先に配列された光源４１を含ん
で構成されている。

【００２５】さらに対物レンズ４４とリレーレンズ４５
に関して基板Ｗと共役な位置に撮像面があるようにＣＣ
Ｄ等の撮像素子３２が配列されている。

【００２６】このように計測部は、計測光学系４０、撮
像素子３２、画像処理装置３３を含んで構成されてい
る。

【００２７】図１を参照して、以上の計測部の作動を説
明する。光源４１から射出された光は、リレーレンズ４
２を介してハーフミラー４３に入射し、ここで基板Ｗの
方向に偏向され、対物レンズ４４を通して基板Ｗに照射
され、これを照明する。このようにして照明された基板
Ｗで反射された光は、対物レンズ４４を介して、ハーフ
ミラー４３を透過し、リレーレンズ４５を介して撮像素
子３２の撮像面に基板Ｗの拡大像を形成する。

【００２８】撮像素子３２に形成された像は画像信号と
して、撮像素子３２と電気的に接続された画像処理装置
３３に伝送され、ここで適宜画像処理される。ここでい
う画像処理は、例えば、基板Ｗ上に形成されたラインア
ンドスペースパターンのような周期性のあるパターンの
ラインの向きを検出することである。

【００２９】本実施の形態では、画像処理装置３３は検
査部のそれと共通に用いているが、不図示の画像処理装
置３３’を別に用意して計測部用として用いてもよい。

【００３０】基板ステージＳＴＧは、回転軸を複数持っ
ており、回転と傾斜が可能である。本実施の形態では、
基板ステージＳＴＧの基板Ｗを載置する面に垂直な軸線
ＡＸ１（本発明の第１軸線）の回りに、回転駆動装置５
１により回転できる構造になっている。また、基板の表
面内で、受光光学系２０の光軸ＬＸ２に垂直である第２
軸線ＡＸ２の回りに基板ステージＳＴＧを回転させる基
板ステージ傾斜機構５２を備えて、基板ステージＳＴＧ
を傾斜させることができる構造になっている。

【００３１】基板Ｗからは回折光Ｌ２が生じる。生じた
回折光Ｌ２は、基板Ｗ上の周期性パターンのピッチによ
り回折角が異なる。そこで回折光Ｌ２が、受光光学系２
０に導かれるように基板Ｗが適宜傾斜（チルト）され
る。図３に、傾斜されたときの様子を示す。今ここで、
基板Ｗの周期性パターンのピッチをｐ、照明光Ｌ１の波
長をλ、回折次数をｍ、基板Ｗが水平のとき、即ち基板
Ｗを傾斜させていないときの基板Ｗの面の法線を基準と
して、基板Ｗと交わる照明光学系１０の光軸ＬＸ１の角
度をθｉ、同様に基板Ｗと交わる受光光学系２０の光軸
ＬＸ２の角度をθｄ、また、傾斜角をθｔ、とすれば以
下の式が成り立つ。

【００３２】 sin（θｄ−θｔ）−sin（θｉ＋θｔ）＝ｍλ／ｐ （１） 符号については図４に示されるとおり、照明光学系１０
の光軸ＬＸ１の角度θｉは入射側に見込む角度方向をプ
ラス、反射側に見込む角度方向をマイナスとし、受光光
学系２０の光軸ＬＸ２の角度θｄ、傾斜角θｔは、入射
側に見込む角度方向をマイナス、反射側に見込む角度方
向をプラスとしている。また、回折次数ｍは基板Ｗへの
入射光の正反射光を基準として、入射側に見込む角度方
向をマイナス、反射側に見込む角度方向をプラスとして
いる。

【００３３】傾斜角θｔが０度なら式（１）でθｔ＝０
とおいて、 sinθｄ−sinθｉ＝ｍλ／ｐ となり、一般的な入射角と回折角の関係を示す式にな
る。

【００３４】図３に示されるように、基板Ｗの傾斜によ
り回折光Ｌ２が受光光学系２０に導かれたとき、式
（１）の関係を満足している。取り込まれる回折光Ｌ２
の次数は、マイナス１次及びマイナス２次である。

【００３５】照明光学系１０の光源１１は、例えばハロ
ゲンランプである。光源１１から射出された光のうち、
不図示の干渉フィルタによって白色光のうち、一部の波
長域の光を取り出し、これを照明光Ｌ１として利用す
る。基板Ｗ上のパターンのピッチｐと波長λが比例関係
にあることから、年々進むパターンのピッチの微細化を
考慮すれば波長λは短いほうがよい。しかし、あまりに
短いと露光波長に近くなり基板Ｗ上の未現像のレジスト
を感光させてしまうので、５５０ｎｍ付近の波長のもの
が照明光として使用される。

【００３６】レジストの塗布忘れ、剥離忘れ、塗布や剥
離のムラを検出する際に、レジストの有無による基板Ｗ
の見え方の差が少ない場合がある。これはレジストの無
い所の光の強度と、ある所の干渉後の強度が一致するた
めである。このときは強度に差が出るように、不図示の
干渉フィルタを交換して照明光の波長λを変更する。波
長を変更した場合には、式（１）の関係を満足するよう
に基板Ｗを傾斜させる。ここで、傾斜とは受光光学系２
０と、あるいは照明光学系１０及び受光光学系２０と、
基板Ｗとの相対的角度を変更することであり、基板を傾
斜させる代わりに、前記光学系を基板に対して回転方向
に動かして角度をつけてもよい。

【００３７】照明光学系１０、受光光学系２０は球面反
射鏡を用いた反射型の光学系でテレセントリックであ
る。本実施の形態では、照明光学系１０の光源１１は、
球面反射鏡１４とリレーレンズ１２から構成される光学
系の前側焦点位置、基板Ｗの表面が、球面反射鏡１４の
後側焦点面とほぼ一致するように配置されている。受光
光学系２０では、球面反射鏡２１の前側焦点面と基板Ｗ
の表面とが、また後側焦点面と受光レンズ２３の入射瞳
面をほぼ一致させている。それらによって、テレセント
リックな光学系を構成している。

【００３８】テレセントリックにするのは、撮像素子３
１で取り込んだ画像の見え方を、基板Ｗの全面に渡って
同じにするためである。テレセントリックでない光学系
では、基板Ｗ上の位置により、式（１）の基板Ｗへの入
射角（θｉ＋θｔ）、回折角（θｄ−θｔ）がそれぞれ
異なる。そして、回折光の強度は入射光の入射角に依存
して変化するため、同じ欠陥でもウェハ上の位置により
異なって見えてしまう。

【００３９】しかし、図１に示される実施の形態の装置
では、照明光学系１０も受光光学系２０もテレセントリ
ックなので、基板表面の全体に渡って入射角（θｉ＋θ
t）、回折角（θｄ−θｔ）が一様となる。そのため、
基板Ｗ上の位置にかかわらず同じ欠陥であれば見え方が
同じになり、欠陥の特定が確実にできる。目視検査でよ
く行われるように、基板Ｗの傾きをすこしずつ変えなが
ら全面を検査するようなことをする必要がない。

【００４０】上記光学系は、別の実施の形態では不図示
の屈折系のテレセントリック光学系としてもよい。しか
しながら、図１のように球面反射鏡を用いた反射型の光
学系にすれば、屈折系の場合よりも装置が小型化でき
る。

【００４１】本実施の形態では、反射鏡への入射光軸と
反射光軸が同一線上にない偏心光学系としているが、球
面反射鏡に対する反射光の入射角は出来るだけ小さくす
るのが望ましい。あまり大きいと、非点収差が大きくな
るからである。図１の実施の形態では、反射光の入射角
は１０度としている。

【００４２】基板Ｗが表面の法線回りに回転位置ずれを
もって基板ステージＳＴＧに載置された場合、回折光Ｌ
２が照明光学系１０による照明光Ｌ１の入射方向（照明
光学系の光軸）と法線とがなす平面からはずれる。即ち
図１では、紙面と垂直方向の角度成分を持つようにな
る。そのため、回転位置ずれ量が大きすぎると回折光Ｌ
２が受光光学系２０から外れてしまい、基板Ｗの像を取
り込めなくなってしまう。

【００４３】基板Ｗの回転位置ずれ量の絶対量をδφ、
回折光Ｌ２の紙面と垂直方向の角度成分をδθ、受光光
学系２０の基板側の開口数をＮＡとする。δφ、δθの
単位はラジアンである。δθは、δφがごく小さけれ
ば、以下のように表せることがわかった。

【００４４】 δθ＝｜（ｍλ／ｐ）δφ｜ （２） 回転位置ずれによりδθだけ角度成分を持った回折光Ｌ
２は、受光光学系２０の球面反射鏡２１で反射され、ほ
ぼ光軸ＬＸ２と平行に撮像素子３１へと向かう。

【００４５】回折光Ｌ２は、撮像素子３１に入射する際
に入射瞳の外側にあるとけられてしまい、基板Ｗの像を
得ることができなくなる。

【００４６】球面反射鏡２１から撮像素子３１までは平
行系であるから、撮像素子３１の入射瞳面での回折光の
位置はδθに、また、入射瞳の半径は受光光学系２０の
基板Ｗの面でのＮＡにそれぞれ相当する。したがって、
基板Ｗが回転位置ずれしても回折光Ｌ２が撮像素子３１
に入射するための条件は、下式を充足することである。

【００４７】δθ≦ＮＡ この式と式（２）とから、 δφ≦｜（ｍλ／ｐ）ＮＡ｜ （３） となり、回転位置ずれ量は式（３）を満足する量であれ
ばよい。

【００４８】例えばｐ＝０．４μｍ、λ＝０．５５μ
ｍ、ｍ＝−１、ＮＡ＝０．０１とすれば、式（３）よ
り、δφ≦７．３ミリラジアンとなる。

【００４９】基板Ｗの回転位置ずれ量が式（３）を満足
しているかは、計測部４０によって確認される。検査部
１０により欠陥検査を行う前に、基板ステージＳＴＧに
載置されれた基板Ｗは図１の太い破線で示された部分、
即ち検査部で検査する際の基板Ｗと基板ステージＳＴＧ
の位置から横に平行移動した、計測部４０に対向する位
置にあり、基板Ｗの回転位置ずれ量が計測される。

【００５０】計測光学系４０では、光源４１から射出さ
れた光が、リレーレンズ４２、ハーフミラー４３、対物
レンズ４４を通して基板Ｗに照射される。基板Ｗで反射
された光は対物レンズ４４、ハーフミラー４３を再び通
り、リレーレンズ４５を経て、撮像素子３２に基板Ｗの
拡大像を形成する。

【００５１】形成された像のうち特徴的な部分、例えば
基板Ｗのオリエンテーションフラットやノッチ、基板上
のパターンと共に形成されたアライメントマーク等の位
置が画像処理装置３３によってモニタされる。そして基
板ステージＳＴＧと基板Ｗの相対的な位置、並びに基板
Ｗの回転位置ずれ量が算出され、回転位置ずれ量は式
（３）の条件を満足しているかが確認される。

【００５２】式（３）の条件を満足していればそのま
ま、満足してない場合は、基板ステージＳＴＧが回転駆
動機構５１により法線回りに回転され、基板Ｗの回転位
置ずれが補正される。この際、画像処理装置３３から導
線により電気的な指令信号が、回転駆動機構５１に対し
て出力され、その回転量が調節される適切な補正がなさ
れる。

【００５３】モニタされる所は通常は、基板上の１箇所
であるが、複数箇所をモニタすればさらに正確な回転補
正量が算出されるのは言うまでもない。

【００５４】その後検査部に、基板Ｗの中心と受光光学
系２０の光軸とが一致するように基板ステージＳＴＧが
適宜移動し、欠陥検査の工程へ移る。あるいは、基板ス
テージＳＴＧを検査部に移動した後に、補正回転量だけ
基板ステージＳＴＧを回転して補正してもよい。

【００５５】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、計測部を
設けたので、基板の回転位置ずれ量を計測し、基板の欠
陥検査の際に回転位置ずれ量を補正することができ、回
転位置ずれの影響を少なくして、効率的な基板の欠陥検
査が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態の装置の側面図である。

【図２】本発明の実施の形態の装置の概念を示す側面図
である。

【図３】図１の装置において、基板ステージを傾斜させ
た場合の側面図である。

【図４】基板ステージを傾斜させた場合の入射角と回折
光の方向と傾斜角の関係を説明する図である。

【符号の説明】

１ 検査部 ２ 計測部 １０ 照明光学系 １１ 光源 １２ リレーレンズ １３ 表面反射鏡 １４ 球面（凹面）反射鏡 ２０ 受光光学系 ２１ 球面（凹面）反射鏡 ２２ 表面反射鏡 ２３ 受光レンズ ３１、３２ 撮像素子 ３３ 画像処理装置 ４０ 計測光学系 ４１ 光源 ４２ リレーレンズ ４３ ハーフミラー ４４ 対物レンズ ４５ リレーレンズ ５１ 回転駆動装置 ５２ 基板ステージ傾斜機構 ＡＸ１、ＡＸ２ 回転軸線 Ｌ１ 照明光 Ｌ２ 回折光 ＬＸ１、ＬＸ２ 光軸 ＳＴＧ 基板ステージ Ｗ 基板

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を載置する基板ステージと；前記基
   板ステージに載置された被検査基板から射出される回折
   光による該被検査基板の像に基づいて該被検査基板の欠
   陥検査を行う検査部と；前記被検査基板の位置ずれ量を
   計測する計測部とを備えたことを特徴とする；基板欠陥
   検査装置。
2. 【請求項２】 前記計測部は、前記被検査基板の表面に
   垂直な第１軸線に関する回転位置ずれ量を計測するよう
   に構成され；前記基板ステージは、前記第１軸線回りに
   回転可能であるように構成された；請求項１に記載の、
   基板欠陥検査装置。
3. 【請求項３】 前記検査部は、前記被検査基板を照明す
   る照明光学系と、該照明光学系からの照明光のうち該被
   検査基板上に形成されたパターンからの回折光を受光す
   る受光光学系とを備え；前記基板ステージは、前記被検
   査基板の表面内で、かつ該被検査基板と交わる前記受光
   光学系の光軸に垂直である第２軸線回りに前記基板ステ
   ージを回転させる基板ステージ傾斜機構を備えたことを
   特徴とする、請求項１または請求項２に記載の、基板欠
   陥検査装置。
4. 【請求項４】 前記検査部は、さらに前記受光光学系に
   て得られた該被検査基板の像を撮像する第一の撮像手段
   と、該第一の撮像手段にて得られた該被検査基板の画像
   に基づいて画像処理を行う第一の画像処理装置とを含ん
   で構成され；前記計測部は計測光学系と、該計測光学系
   にて得られた前記被検査基板の像を撮像する第二の撮像
   手段と、該第二の撮像手段にて得られた前記被検査基板
   の画像に基づいて画像処理を行う第二の画像処理装置と
   を含んで構成され；前記第二の画像処理装置からの情報
   に基づいて前記基板ステージの前記第１軸線回りの回転
   位置ずれを調整可能に構成されたことを特徴とする；請
   求項３に記載の、基板欠陥検査装置。
5. 【請求項５】 前記第二の画像処理装置は、前記第一の
   画像処理装置と共通部分を含むことを特徴とする、請求
   項４に記載の、基板欠陥検査装置。