JPH1166636A

JPH1166636A - 光ディスク用原盤及びその作製方法

Info

Publication number: JPH1166636A
Application number: JP12456798A
Authority: JP
Inventors: Masahiro Masuzawa; 正弘升澤
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1997-06-13
Filing date: 1998-05-07
Publication date: 1999-03-09

Abstract

(57)【要約】【課題】０．６〜１．０μｍの範囲内といった狭トラ
ックピッチの場合でもランド部分が平らになる断面台形
状のグルーブを有する光ディスク用原盤を提供する。【解決手段】トラックピッチＴｐが０．６〜１．０μ
ｍの範囲内、半値幅Ｔｈが０．２〜０．６μｍの範囲
内、その半値幅部分での傾斜角θが７１〜９０°の範囲
内となる急峻なグルーブ１２を有することで、０．６〜
１．０μｍの範囲内といった狭トラックピッチＴｐのグ
ルーブ１２の場合でもランド１３部分に平坦部を持たせ
ることができる。このため、フォトレジストによる第２
層とガラス基盤との間に第２層の膜厚と露光光の波長に
対してその露光光の反射率を強める膜厚に設定された透
明膜による第１層を有するレジスト盤を用いて、第２層
の第１層に近い部分での露光強度を強めて傾斜を急峻と
させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク用、特
に高密度・大容量化を意図したＤＶＤ（ＤigitalＶersa
tile Ｄisk）用の光ディスク用原盤及びその作製方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、レーザビームを用いて情報を記
録・再生できる追記型或いは書換え型の光ディスクとし
て、ＣＤ‐Ｒ（Ｃompact Ｄisk‐Ｒecordable）やＣＤ
‐ＲＷ（ＣＤ‐Ｒewritable）等がある。これらの光デ
ィスクでは、レーザビームをトラッキング追従させるた
めのグルーブが予め形成されている。このようなグルー
ブ１は、通常は、図４２に示すように断面台形状に形成
されている。２はランド部分である。また、グルーブ１
のトラックピッチＴｐはオレンジブック等のＣＤ規格に
基づき１．６μｍに規格化されている。グルーブ１の半
値幅Ｔｈは０．２〜０．６μｍの範囲内とされている。
この半値幅部分でのグルーブ１の傾斜角θは、７０°以
下、例えば、２５〜６５°の範囲内とされている（例え
ば、特開平４−３５８３３１号公報、特公平４−４７９
１１号公報参照）。このような光ディスクは、対応する
形状の光ディスク用原盤（マスタ）及びそのスタンパを
経て生産される。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年では、
次世代の光ディスクとして、より一層の高密度・大容量
化を図るため、例えば、トラックピッチＴｐが現行の
１．６μｍから０．８μｍ程度に狭めたＤＶＤ等が実用
段階に入っている。図２４はこのようなＤＶＤ用の光デ
ィスクにおけるグルーブ２の断面形状を示し、Ｔｐは
０．６〜１．０μｍの範囲内となるように規格化され、
例えば、０．８μｍとされている。

【０００４】このように狭ピッチ化されたＤＶＤ用のグ
ルーブ３をＣＤ‐ＲやＣＤ‐ＲＷと同様な従来のグルー
ブ仕様で形成すると、図４３に示すようにランド４の上
部部分を平らにすることができず、Ｒ状となってしま
う。このようにランド４の上部に平坦部を有しないグル
ーブ３では、レーザビームによるトラッキング追従を良
好に行えず、結果として、記録・再生動作に支障を来
す。従って、狭ピッチ化されたグルーブの場合でもその
ランド部分を平坦化し得る光ディスク用原盤を提供する
ことが課題である。

【０００５】そこで、本発明は、ランド部分が平らにな
る断面台形状のグルーブを有する光ディスク用原盤を提
供することを第１の目的とする。

【０００６】また、本発明は、第１の目的を達成するた
めの光ディスク用原盤の作製方法を提供することを第２
の目的とする。

【０００７】さらには、本発明は、第２の目的を達成す
るためのレジスト盤の具体的構成例を明らかにすること
を第３の目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明の光
ディスク用原盤は、トラックピッチが０．６〜１．０μ
ｍの範囲内、半値幅が０．２〜０．６μｍの範囲内、そ
の半値幅部分での傾斜角が７１〜９０°の範囲内となる
グルーブを有している。従って、グルーブの半値幅部分
での傾斜角が７１〜９０°の範囲内に規定されているの
で、０．６〜１．０μｍの範囲内といった狭トラックピ
ッチのグルーブの場合でもランド部分に平坦部を持たせ
ることができる。ここに、トラックピッチが０．６〜
１．０μｍの範囲内、半値幅が０．２〜０．６μｍの範
囲内という数値範囲は、ＤＶＤ等の規格に準じた狭トラ
ックピッチ仕様の一般的な規格範囲を意味する。

【０００９】請求項２記載の発明は、請求項１記載の光
ディスク用原盤の作製方法であって、ガラス基盤上にこ
のガラス基盤とは異なる屈折率の透明膜による第１層と
フォトレジストによる第２層とが順に積層され、前記第
２層の膜厚とこの第２層を露光する露光光の波長とに対
してこの露光光の反射が強くなるように前記第１層の膜
厚が設定されたレジスト盤に対して、前記波長の露光光
で露光した後、現像することによりグルーブを作製する
ようにした。従って、請求項１記載の光ディスク用原盤
を作製する上で、フォトレジストによる第２層とガラス
基盤との間に露光光の波長に対してその露光光の反射率
を強める膜厚に設定された透明膜による第１層を有する
レジスト盤を用いているので、第２層の第１層に近い部
分での露光強度を強めることができ、この結果、第２層
の第１層に近い部分の露光量が大きくなり、第１層を有
しない場合に比して、第２層底部の幅が広がってグルー
ブの傾斜角が急峻となる。このように、グルーブの傾斜
角を大きくして７１〜９０°の範囲内となるようにする
ことができ、目的とする狭トラックピッチの光ディスク
用原盤を作製できる。ここに、第１層を形成する透明膜
の屈折率は、ガラス基盤の屈折率と異なっていれば、透
明材として一般的な１．２〜２．７なる範囲内でよい。

【００１０】請求項３記載の発明は、請求項２記載の発
明の光ディスク用原盤の作製方法であって、レジスト盤
における第１層は、露光光の反射率が１０％以上となる
ように露光光の反射を強める。従って、レジスト盤に第
１層を設けることにより露光光の反射率を１０％以上に
強めているので、グルーブの傾斜角を確実に７１〜９０
°の範囲内にすることができる。

【００１１】ここに、レジスト盤における第１層が露光
光の反射率を１０％以上に高めるための第１層の膜厚及
び屈折率は、第２層側の膜厚やこの第２層を露光する露
光光の波長に基づき決定されるもので、その具体例とし
ては、例えば、請求項４ないし３９に例示するような数
値範囲の層構成とすることにより、目的が達成される。
ここで、請求項４ないし２１に共通な露光光の波長４５
７．８ｎｍ、請求項２２ないし３９に共通な露光光の波
長４１３ｎｍは光ディスク原盤露光用として最も一般的
な数値を意味している。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明の一実施の形態を図１ない
し図４２に基づいて説明する。図１に本実施の形態にお
ける光ディスク用原盤１１におけるグルーブ断面構造を
模式的に示す。この光ディスク用原盤１１のグルーブ１
２は、例えば、ＤＶＤ規格に合わせて、トラックピッチ
Ｔｐが０．８μｍ（０．６〜１．０μｍの範囲内の中間
値＝代表値）、半値幅Ｔｈが０．３２５（０．２〜０．
６μｍの範囲内の値）に設定されている他、その半値幅
部分での傾斜角θが７１〜９０°の範囲内の値に設定さ
れている。これにより、ランド１３部分に平坦部を有す
る断面台形状に形成されている。

【００１３】このような光ディスク用原盤１１は原盤露
光機において所定の波長の露光光を用いて露光した後、
現像することにより作製されるが、図１に示すような諸
元の光ディスク用原盤１１とするため、本実施の形態で
は、ガラス基盤上に直接フォトレジスト膜を形成せず、
透明膜による第１層が介在されて、フォトレジスト膜に
よる第２層が積層形成された原盤が用いられている。

【００１４】通常、この種の原盤にあっては、ガラス基
盤上にフォトレジスト膜が直接形成され、このフォトレ
ジスト膜を露光するために適当の波長の露光光を照射す
るが、このときの光の反射は、露光光の波長、フォトレ
ジスト膜の屈折率及びその膜厚、ガラス基盤の屈折率に
より決まる。例えば、露光光の波長を４５７．８ｎｍ及
び４１３ｎｍ、ガラス基盤の屈折率を１．５１５、フォ
トレジスト膜の屈折率を１．６５として、フォトレジス
トの膜厚〔Å〕に対する反射率〔％〕を計算した結果を
図２に示す。図２に示す特性によれば、反射率が約４〜
８％の範囲で変動しており、かつ、ある程度周期的に変
動していることがわかる。何れにしても、ガラス基盤上
にフォトレジスト膜が直接形成されている原盤では、露
光光に対する反射率があまり高くないのがわかる。

【００１５】この点、本実施の形態のように、フォトレ
ジストによる第２層とガラス基盤との間に透明膜による
第１層を設けることにより、第２層中で第１層に近い部
分での露光強度を強めることができる。この結果、第２
層の第１層に近い部分の露光量が大きくなり、第２層底
部の幅が広がってグルーブ１２の傾斜角θが急峻とな
る。これにより、露光・現像工程を経て作製されるグル
ーブ１２の傾斜角θを大きくして７１〜９０°の範囲内
となるようにすることができ、目的とする狭トラックピ
ッチの光ディスク用原盤１１を作製できることになる。

【００１６】実際は、フォトレジストによる第２層の膜
厚や露光光の波長により、透明膜による第１層の屈折率
と膜厚とが決められる。ここで、第２層の膜厚及び第１
層の屈折率と膜厚とを段階的に変えた場合の反射率を求
めた結果を図４ないし図４１に示す。この場合の計算式
について説明する。図３に示すような、ガラス基盤１４
（複素屈折率ｎ₀*）上に透明膜による第１層１５（複素
屈折率ｎ₁*，膜厚ｄ₁）、フォトレジストによる第２層
１６（複素屈折率ｎ₂*，膜厚ｄ₂ ）を積層させてなる原
盤１７に波長λの露光光を空気中（複素屈折率ｎ₃*）で
照射した場合、ガラス基盤１４・第１層１５間、第１層
１５・第２層１６間、第２層１６・空気間の各境界面で
のフレネル係数ｒ₀₁* ，ｒ₁₂* ，ｒ₂₃* は、フレ
ネルの法則に従い、ｒ₀₁ * ＝（ｎ₁*−ｎ₀*）／（ｎ₁*＋ｎ₀*）ｒ₁₂ * ＝（ｎ₂*−ｎ₁*）／（ｎ₂*＋ｎ₁*）ｒ₂₃ * ＝（ｎ₃*−ｎ₂*）／（ｎ₃*＋ｎ₂*）で示される。よって、波長λの露光光が第２層１６に対
して垂直に入射した場合の反射率Ｒは、Ｒ＝｜Ｒ₂₃* ｜² で求められる。ただし、Ｒ₂₃ *＝{ｒ₂₃*＋Ｒ₁₂*・exp(−ｉδ₂*)}／{１＋
ｒ₂₃*・Ｒ₁₂*・exp(−ｉδ₂*) δ₂* ＝４πｎ₂*ｄ₂／λＲ₁₂ *＝{ｒ₁₂*＋ｒ₀₁*・exp(−ｉδ₁*)}／{１＋
ｒ₁₂*・ｒ₀₁*・exp(−ｉδ₁*) δ₁* ＝４πｎ₁*ｄ₁／λ である。

【００１７】また、本実施の形態では、上記計算式によ
る算出に際して、用いる露光光の波長λは、この種の光
ディスク用原盤露光機で最も一般的に用いられているＡ
ｒレーザを想定した４５７．８ｎｍ（図４〜図２２の場
合）と、Ｋｒレーザを想定した４１３ｎｍ（図２３〜図
４１の場合）とした。また、可変させる第２層１６の膜
厚も現行のＣＤ等のグルーブ深さ等を考慮して、４００
〜２２００Åの範囲で１００Å刻みとした。

【００１８】図４は第２層（フォトレジスト膜）１６の
膜厚を４００Åとした場合の計算結果、図５は第２層１
６の膜厚を５００Åとした場合の計算結果を示す。両図
によれば、波長４５７．８ｎｍ、第２層の膜厚４００〜
５００Åの範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得
るには、第１層１５の屈折率が２．０〜２．１の範囲内
であって、かつ、第１層１５の膜厚が１２０〜３４０Å
の範囲内であることがわかる。

【００１９】図６は第２層１６の膜厚を６００Åとした
場合の計算結果を示す。図５及び図６によれば、波長４
５７．８ｎｍ、第２層の膜厚５００〜６００Åの範囲内
なる条件下で、反射率１０％以上を得るには、第１層１
５の屈折率が１．３〜１．４の範囲内であって、かつ、
第１層１５の膜厚が６８０〜１２８０Åの範囲内である
ことがわかる。

【００２０】図７は第２層１６の膜厚を７００Åとした
場合の計算結果を示す。図６及び図７によれば、波長４
５７．８ｎｍ、第２層の膜厚６００〜７００Åの範囲内
なる条件下で、反射率１０％以上を得るには、第１層１
５の屈折率が１．３〜１．４の範囲内であって、かつ、
第１層１５の膜厚が４７０〜１２６０Åの範囲内である
ことがわかる。

【００２１】図８は第２層１６の膜厚を８００Åとした
場合の計算結果を示す。図７及び図８によれば、波長４
５７．８ｎｍ、第２層の膜厚７００〜８００Åの範囲内
なる条件下で、反射率１０％以上を得るには、第１層１
５の屈折率が１．３〜１．４の範囲内であって、かつ、
第１層１５の膜厚が３５０〜１１３０Åの範囲内である
ことがわかる。

【００２２】図９は第２層１６の膜厚を９００Åとした
場合の計算結果を示す。図８及び図９によれば、波長４
５７．８ｎｍ、第２層の膜厚８００〜９００Åの範囲内
なる条件下で、反射率１０％以上を得るには、第１層１
５の屈折率が１．３〜１．４の範囲内であって、かつ、
第１層１５の膜厚が３５０〜９１０Åの範囲内であるこ
とがわかる。

【００２３】図１０は第２層１６の膜厚を１０００Åと
した場合の計算結果を示す。図９及び図１０によれば、
波長４５７．８ｎｍ、第２層の膜厚９００〜１０００Å
の範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得るには、
第１層１５の屈折率が２．０〜２．１の範囲内であっ
て、かつ、第１層１５の膜厚が７７０〜１０００Åの範
囲内であることがわかる。

【００２４】図１１は第２層１６の膜厚を１１００Åと
した場合の計算結果を示す。図１０及び図１１によれ
ば、波長４５７．８ｎｍ、第２層の膜厚１０００〜１１
００Åの範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得る
には、第１層１５の屈折率が１．９〜２．１の範囲内で
あって、かつ、第１層１５の膜厚が７００〜１０００Å
の範囲内であることがわかる。

【００２５】図１２は第２層１６の膜厚を１２００Åと
した場合の計算結果を示す。図１１及び図１２によれ
ば、波長４５７．８ｎｍ、第２層の膜厚１１００〜１２
００Åの範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得る
には、第１層１５の屈折率が１．８〜２．１の範囲内で
あって、かつ、第１層１５の膜厚が６９０〜９７０Åの
範囲内であることがわかる。

【００２６】図１３は第２層１６の膜厚を１３００Åと
した場合の計算結果を示す。図１２及び図１３によれ
ば、波長４５７．８ｎｍ、第２層の膜厚１２００〜１３
００Åの範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得る
には、第１層１５の屈折率が１．８〜２．１の範囲内で
あって、かつ、第１層１５の膜厚が５６０〜９４０Åの
範囲内であることがわかる。

【００２７】図１４は第２層１６の膜厚を１４００Åと
した場合の計算結果を示す。図１３及び図１４によれ
ば、波長４５７．８ｎｍ、第２層の膜厚１３００〜１４
００Åの範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得る
には、第１層１５の屈折率が１．８〜２．１の範囲内で
あって、かつ、第１層１５の膜厚が４５０〜８９０Åの
範囲内であることがわかる。

【００２８】図１５は第２層１６の膜厚を１５００Åと
した場合の計算結果を示す。図１４及び図１５によれ
ば、波長４５７．８ｎｍ、第２層の膜厚１４００〜１５
００Åの範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得る
には、第１層１５の屈折率が１．８〜２．１の範囲内で
あって、かつ、第１層１５の膜厚が３７０〜８００Åの
範囲内であることがわかる。

【００２９】図１６は第２層１６の膜厚を１６００Åと
した場合の計算結果を示す。図１５及び図１６によれ
ば、波長４５７．８ｎｍ、第２層の膜厚１５００〜１６
００Åの範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得る
には、第１層１５の屈折率が１．８〜２．１の範囲内で
あって、かつ、第１層１５の膜厚が３００〜６９０Åの
範囲内であることがわかる。

【００３０】図１７は第２層１６の膜厚を１７００Åと
した場合の計算結果を示す。図１６及び図１７によれ
ば、波長４５７．８ｎｍ、第２層の膜厚１６００〜１７
００Åの範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得る
には、第１層１５の屈折率が１．８〜２．１の範囲内で
あって、かつ、第１層１５の膜厚が２５０〜５４０Åの
範囲内であることがわかる。

【００３１】図１８は第２層１６の膜厚を１８００Åと
した場合の計算結果を示す。図１７及び図１８によれ
ば、波長４５７．８ｎｍ、第２層の膜厚１７００〜１８
００Åの範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得る
には、第１層１５の屈折率が１．９〜２．１の範囲内で
あって、かつ、第１層１５の膜厚が１５０〜４６０Åの
範囲内であることがわかる。

【００３２】図１９は第２層１６の膜厚を１９００Åと
した場合の計算結果を示す。図１８及び図１９によれ
ば、波長４５７．８ｎｍ、第２層の膜厚１８００〜１９
００Åの範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得る
には、第１層１５の屈折率が２．０〜２．１の範囲内で
あって、かつ、第１層１５の膜厚が１３０〜３１０Åの
範囲内であることがわかる。

【００３３】図２０は第２層１６の膜厚を２０００Åと
した場合の計算結果を示す。図１９及び図２０によれ
ば、波長４５７．８ｎｍ、第２層の膜厚１９００〜２０
００Åの範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得る
には、第１層１５の屈折率が１．３〜１．４の範囲内で
あって、かつ、第１層１５の膜厚が６５０〜１２９０Å
の範囲内であることがわかる。

【００３４】図２１は第２層１６の膜厚を２１００Åと
した場合の計算結果を示す。図２０及び図２１によれ
ば、波長４５７．８ｎｍ、第２層の膜厚２０００〜２１
００Åの範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得る
には、第１層１５の屈折率が１．３〜１．４の範囲内で
あって、かつ、第１層１５の膜厚が４５０〜１２５０Å
の範囲内であることがわかる。

【００３５】図２２は第２層１６の膜厚を２２００Åと
した場合の計算結果を示す。図２１及び図２２によれ
ば、波長４５７．８ｎｍ、第２層の膜厚２１００〜２２
００Åの範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得る
には、第１層１５の屈折率が１．３〜１．４の範囲内で
あって、かつ、第１層１５の膜厚が３４０〜１１１０Å
の範囲内であることがわかる。

【００３６】図２３は第２層１６の膜厚を４００Åとし
た場合の計算結果、図２４は第２層１６の膜厚を５００
Åとした場合の計算結果を示す。両図によれば、波長４
１３ｎｍ、第２層の膜厚４００〜５００Åの範囲内なる
条件下で、反射率１０％以上を得るには、第１層１５の
屈折率が１．３〜１．４の範囲内であって、かつ、第１
層１５の膜厚が７８０〜１０９０Åの範囲内であること
がわかる。

【００３７】図２５は第２層１６の膜厚を６００Åとし
た場合の計算結果を示す。図２４及び図２５によれば、
波長４１３ｎｍ、第２層の膜厚５００〜６００Åの範囲
内なる条件下で、反射率１０％以上を得るには、第１層
１５の屈折率が１．３〜１．４の範囲内であって、か
つ、第１層１５の膜厚が５００〜１１６０Åの範囲内で
あることがわかる。

【００３８】図２６は第２層１６の膜厚を７００Åとし
た場合の計算結果を示す。図２５及び図２６によれば、
波長４１３ｎｍ、第２層の膜厚６００〜７００Åの範囲
内なる条件下で、反射率１０％以上を得るには、第１層
１５の屈折率が１．３〜１．４の範囲内であって、か
つ、第１層１５の膜厚が３５０〜１０５０Åの範囲内で
あることがわかる。

【００３９】図２７は第２層１６の膜厚を８００Åとし
た場合の計算結果を示す。図２６及び図２７によれば、
波長４１３ｎｍ、第２層の膜厚７００〜８００Åの範囲
内なる条件下で、反射率１０％以上を得るには、第１層
１５の屈折率が１．３〜１．４の範囲内であって、か
つ、第１層１５の膜厚が３１０〜８５０Åの範囲内であ
ることがわかる。

【００４０】図２８は第２層１６の膜厚を９００Åとし
た場合の計算結果を示す。図２７及び図２８によれば、
波長４１３ｎｍ、第２層の膜厚８００〜９００Åの範囲
内なる条件下で、反射率１０％以上を得るには、第１層
１５の屈折率が２．０〜２．１の範囲内であって、か
つ、第１層１５の膜厚が７３０〜９００Åの範囲内であ
ることがわかる。

【００４１】図２９は第２層１６の膜厚を１０００Åと
した場合の計算結果を示す。図２８及び図２９によれ
ば、波長４１３ｎｍ、第２層の膜厚９００〜１０００Å
の範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得るには、
第１層１５の屈折率が１．９〜２．１の範囲内であっ
て、かつ、第１層１５の膜厚が６４０〜９００Åの範囲
内であることがわかる。

【００４２】図３０は第２層１６の膜厚を１１００Åと
した場合の計算結果を示す。図２９及び図３０によれ
ば、波長４１３ｎｍ、第２層の膜厚１０００〜１１００
Åの範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得るに
は、第１層１５の屈折率が１．８〜２．１の範囲内であ
って、かつ、第１層１５の膜厚が６１０〜８７０Åの範
囲内であることがわかる。

【００４３】図３１は第２層１６の膜厚を１２００Åと
した場合の計算結果を示す。図３０及び図３１によれ
ば、波長４１３ｎｍ、第２層の膜厚１１００〜１２００
Åの範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得るに
は、第１層１５の屈折率が１．８〜２．１の範囲内であ
って、かつ、第１層１５の膜厚が４８０〜８４０Åの範
囲内であることがわかる。

【００４４】図３２は第２層１６の膜厚を１３００Åと
した場合の計算結果を示す。図３１及び図３２によれ
ば、波長４１３ｎｍ、第２層の膜厚１２００〜１３００
Åの範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得るに
は、第１層１５の屈折率が１．８〜２．１の範囲内であ
って、かつ、第１層１５の膜厚が３８０〜７７０Åの範
囲内であることがわかる。

【００４５】図３３は第２層１６の膜厚を１４００Åと
した場合の計算結果を示す。図３２及び図３３によれ
ば、波長４１３ｎｍ、第２層の膜厚１３００〜１４００
Åの範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得るに
は、第１層１５の屈折率が１．８〜２．１の範囲内であ
って、かつ、第１層１５の膜厚が３００〜６７０Åの範
囲内であることがわかる。

【００４６】図３４は第２層１６の膜厚を１５００Åと
した場合の計算結果を示す。図３３及び図３４によれ
ば、波長４１３ｎｍ、第２層の膜厚１４００〜１５００
Åの範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得るに
は、第１層１５の屈折率が１．８〜２．１の範囲内であ
って、かつ、第１層１５の膜厚が２５０〜５４０Åの範
囲内であることがわかる。

【００４７】図３５は第２層１６の膜厚を１６００Åと
した場合の計算結果を示す。図３４及び図３４によれ
ば、波長４１３ｎｍ、第２層の膜厚１５００〜１６００
Åの範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得るに
は、第１層１５の屈折率が１．９〜２．１の範囲内であ
って、かつ、第１層１５の膜厚が１５０〜４６０Åの範
囲内であることがわかる。

【００４８】図３６は第２層１６の膜厚を１７００Åと
した場合の計算結果を示す。図３５及び図３６によれ
ば、波長４１３ｎｍ、第２層の膜厚１６００〜１７００
Åの範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得るに
は、第１層１５の屈折率が２．０〜２．１の範囲内であ
って、かつ、第１層１５の膜厚が１１０〜３１０Åの範
囲内であることがわかる。

【００４９】図３７は第２層１６の膜厚を１８００Åと
した場合の計算結果を示す。図３６及び図３７によれ
ば、波長４１３ｎｍ、第２層の膜厚１７００〜１８００
Åの範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得るに
は、第１層１５の屈折率が１．３〜１．４の範囲内であ
って、かつ、第１層１５の膜厚が６２０〜１１６０Åの
範囲内であることがわかる。

【００５０】図３８は第２層１６の膜厚を１９００Åと
した場合の計算結果を示す。図３７及び図３８によれ
ば、波長４１３ｎｍ、第２層の膜厚１８００〜１９００
Åの範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得るに
は、第１層１５の屈折率が１．３〜１．４の範囲内であ
って、かつ、第１層１５の膜厚が４２０〜１１２０Åの
範囲内であることがわかる。

【００５１】図３９は第２層１６の膜厚を２０００Åと
した場合の計算結果を示す。図３８及び図３９によれ
ば、波長４１３ｎｍ、第２層の膜厚１９００〜２０００
Åの範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得るに
は、第１層１５の屈折率が１．３〜１．４の範囲内であ
って、かつ、第１層１５の膜厚が３１０〜９７０Åの範
囲内であることがわかる。

【００５２】図４０は第２層１６の膜厚を２１００Åと
した場合の計算結果を示す。図３９及び図４０によれ
ば、波長４１３ｎｍ、第２層の膜厚２０００〜２１００
Åの範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得るに
は、第１層１５の屈折率が１．３〜１．４の範囲内であ
って、かつ、第１層１５の膜厚が３７０〜７００Åの範
囲内であることがわかる。

【００５３】図４１は第２層１６の膜厚を２２００Åと
した場合の計算結果を示す。図４０及び図４１によれ
ば、波長４１３ｎｍ、第２層の膜厚２１００〜２２００
Åの範囲内なる条件下で、反射率１０％以上を得るに
は、第１層１５の屈折率が２．０〜２．１の範囲内であ
って、かつ、第１層１５の膜厚が６３０〜９００Åの範
囲内であることがわかる。

【００５４】なお、これらの例示した諸元は、具体的層
構成の一例を示すに過ぎず、例えば、第２層１６の膜厚
の可変ステップを変えれば（本実施の形態では、１００
Å刻みとした）、それに応じて第１層１５側の屈折率及
び膜厚に関する適正範囲も変動し、また、用いる露光光
の波長を変えた場合にもそれに応じて第１層１５側の屈
折率及び膜厚に関する適正範囲も変動する。

【００５５】

【実施例】まず、露光光の波長が４５７．８ｎｍの場合
の具体例を第一〜三の実施例及び比較例１〜３として説
明する。

【００５６】本発明の第一の実施例を説明する。屈折率
が約２．０のＩｎ₂Ｏ₃なる透明膜をスパッタリング法に
より第１層としてガラス基盤上に膜厚４００Åで形成し
た後、このＩｎ₂Ｏ₃膜の表面をＨＭＤＳ処理し、その上
にフォトレジスト（ＴＳＭＲ‐８９００、東京応化製）
を第２層としてスピンコート法により膜厚１７００Åで
形成した。この場合、計算上の反射率は１５．９％とな
る。このように作製されたレジスト盤を波長４５７．８
ｎｍの露光光で露光し、現像した結果、半値幅Ｔｈが約
０．３２μｍで傾斜角θが約８０°で、ランド１３部分
が平坦となるグルーブ１２が作製できたものである。

【００５７】本発明の第二の実施例を説明する。屈折率
が約１．４のＭｇＦ₂ なる透明膜をスパッタリング法に
より第１層としてガラス基盤上に膜厚４００Åで形成し
た後、このＭｇＦ₂ 膜の表面をＨＭＤＳ処理し、その上
にフォトレジスト（ＴＳＭＲ‐Ｖ３、東京応化製）を第
２層としてスピンコート法により膜厚２２００Åで形成
した。この場合、計算上の反射率は１０．８％となる。
このように作製されたレジスト盤を波長４５７．８ｎｍ
の露光光で露光し、現像した結果、半値幅Ｔｈが約０．
５２μｍで傾斜角θが約８０°で、ランド１３部分が平
坦となるグルーブ１２が作製できたものである。

【００５８】本発明の第三の実施例を説明する。屈折率
が約２．０のＩｎ₂Ｏ₃なる透明膜をスパッタリング法に
より第１層としてガラス基盤上に膜厚２００Åで形成し
た後、このＩｎ₂Ｏ₃膜の表面をＨＭＤＳ処理し、その上
にフォトレジスト（ＴＳＭＲ‐８９００、東京応化製）
を第２層としてスピンコート法により膜厚５００Åで形
成した。この場合、計算上の反射率は１０．８％とな
る。このように作製されたレジスト盤を波長４５７．８
ｎｍの露光光で露光し、現像した結果、半値幅Ｔｈが約
０．５５μｍで傾斜角θが約７５°で、ランド１３部分
が平坦となるグルーブ１２が作製できたものである。

【００５９】ちなみに、比較例１として、屈折率が約
２．０のＩｎ₂Ｏ₃なる透明膜をスパッタリング法により
ガラス基盤上に膜厚１００Åで形成した後、このＩｎ₂
Ｏ₃膜の表面をＨＭＤＳ処理し、その上にフォトレジス
ト（ＴＳＭＲ‐８９００、東京応化製）をスピンコート
法により膜厚１７００Åで形成した。この場合、計算上
の反射率は９．６％となる。このように作製されたレジ
スト盤を波長４５７．８ｎｍの露光光で露光し、現像し
た結果、半値幅Ｔｈが約０．３３μｍで傾斜角θが約７
０°のグルーブが作製されたものである。

【００６０】また、比較例２として、屈折率が約２．０
のＩｎ₂Ｏ₃なる透明膜をスパッタリング法によりガラス
基盤上に膜厚８００Åで形成した後、このＩｎ₂Ｏ₃膜の
表面をＨＭＤＳ処理し、その上にフォトレジスト（ＴＳ
ＭＲ‐８９００、東京応化製）をスピンコート法により
膜厚１７００Åで形成した。この場合、計算上の反射率
は４．７３％となる。このように作製されたレジスト盤
を波長４５７．８ｎｍの露光光で露光し、現像した結
果、半値幅Ｔｈが約０．３３μｍで傾斜角θが約６０°
のグルーブが作製されたものである。

【００６１】さらに、比較例３として、ガラス基盤上に
フォトレジスト（ＴＳＭＲ‐８９００、東京応化製）を
スピンコート法により膜厚１７００Åで直接形成した。
この場合、計算上の反射率は５．９％となる。このよう
に作製されたレジスト盤を波長４５７．８ｎｍの露光光
で露光し、現像した結果、半値幅Ｔｈが約０．３１μｍ
で傾斜角θが約６８°のグルーブが作製されたものであ
る。

【００６２】これらの第一ないし第三の実施例及び比較
例１ないし３を総合すると、比較例１，２の結果によれ
ば、第１層１５を設けても反射率が１０％以下の場合に
は得られるグルーブの傾斜角が７０°以下で従来程度に
留まり、かつ、比較例３の結果によれば、第１層を設け
ない場合にはグルーブの傾斜角が約６８°に留まること
がわかる。これにより、反射率を１０％以上に強める第
１層１５を付加させることが重要であることがわかる。
また、波長４５７．８ｎｍの露光光は一般には、ＣＤ等
のトラックピッチＴｐが１．６μｍの場合に用いられて
おり、ＤＶＤのような狭トラックピッチの露光には向か
ないとされていたが、これらの実施例によれば、狭トラ
ックピッチの場合でも半値幅部分の傾斜角が７１°以上
となるグルーブを作製できることが分かる。

【００６３】次に、露光光の波長が４１３ｎｍの場合の
具体例を第四，五の実施例及び比較例４，５として説明
する。一般に、波長４１３ｎｍのレーザ光はＤＶＤのマ
スタリング用として使用されている。

【００６４】本発明の第四の実施例を説明する。屈折率
が約２．０のＩｎ₂Ｏ₃なる透明膜をスパッタリング法に
より第１層としてガラス基盤上に膜厚１５０Åで形成し
た後、このＩｎ₂Ｏ₃膜の表面をＨＭＤＳ処理し、その上
にフォトレジスト（ＴＨＭＲ‐ｉＰ３３００、東京応化
製）を第２層としてスピンコート法により膜厚１６５０
Åで形成した。この場合、計算上の反射率は１１．３％
となる。このように作製されたレジスト盤を波長４１３
ｎｍの露光光で露光し、現像した結果、半値幅Ｔｈが約
０．３３μｍで傾斜角θが約８２°で、ランド１３部分
が平坦となるグルーブ１２が作製できたものである。

【００６５】本発明の第五の実施例を説明する。屈折率
が約１．４のＭｇＦ₂ なる透明膜をスパッタリング法に
より第１層としてガラス基盤上に膜厚８００Åで形成し
た後、このＭｇＦ₂ 膜の表面をＨＭＤＳ処理し、その上
にフォトレジスト（ＴＨＭＲ‐ｉＰ３３００、東京応化
製）を第２層としてスピンコート法により膜厚４２０Å
で形成した。この場合、計算上の反射率は１０．５％と
なる。このように作製されたレジスト盤を波長４１３ｎ
ｍの露光光で露光し、現像した結果、半値幅Ｔｈが約
０．３０μｍで傾斜角θが約８０°で、ランド１３部分
が平坦となるグルーブ１２が作製できたものである。

【００６６】ちなみに、比較例４として、ガラス基盤上
にフォトレジスト（ＴＨＭＲ‐ｉＰ３３００、東京応化
製）をスピンコート法により膜厚１６５０Åで形成し
た。この場合、計算上の反射率は７．０％となる。この
ように作製されたレジスト盤を波長４１３ｎｍの露光光
で露光し、現像した結果、半値幅Ｔｈが約０．３２μｍ
で傾斜角θが約６７°のグルーブが作製されたものであ
る。

【００６７】また、比較例５として、ガラス基盤上にフ
ォトレジスト（ＴＨＭＲ‐ｉＰ３３００、東京応化製）
をスピンコート法により膜厚４２０Åで形成した。この
場合、計算上の反射率は７．２％となる。このように作
製されたレジスト盤を波長４１３ｎｍの露光光で露光
し、現像した結果、半値幅Ｔｈが約０．２８μｍで傾斜
角θが約３５°のグルーブが作製されたものである。

【００６８】これらの第四，五の実施例及び比較例４，
５を総合すると、比較例４，５の結果によれば、４１３
ｎｍの波長光を用いる場合も、第１層を設けない場合に
はグルーブの傾斜角を約７１°以上にするのが難しいこ
とがわかる。

【００６９】

【発明の効果】請求項１記載の発明の光ディスク用原盤
によれば、トラックピッチが０．６〜１．０μｍの範囲
内、半値幅が０．２〜０．６μｍの範囲内、その半値幅
部分での傾斜角が７１〜９０°の範囲内となるグルーブ
を有しているので、０．６〜１．０μｍの範囲内といっ
た狭トラックピッチのグルーブの場合でもランド部分に
平坦部を持たせることができる。

【００７０】請求項２記載の発明は、請求項１記載の光
ディスク用原盤の作製方法であって、ガラス基盤上にこ
のガラス基盤とは異なる屈折率の透明膜による第１層と
フォトレジストによる第２層とが順に積層され、前記第
２層の膜厚とこの第２層を露光する露光光の波長とに対
してこの露光光の反射が強くなるように前記第１層の膜
厚が設定されたレジスト盤に対して、前記波長の露光光
で露光した後、現像することによりグルーブを作製する
ようにしたので、第２層の第１層に近い部分での露光強
度を強めることができ、この結果、第２層の第１層に近
い部分の露光量が大きくなり、第１層を有しない場合に
比して、第２層底部の幅が広がってグルーブの傾斜角を
急峻にすることができ、よって、グルーブの傾斜角を大
きくして７１〜９０°の範囲内となるようにすることが
でき、目的とする狭トラックピッチの光ディスク用原盤
を作製することができる。

【００７１】請求項３記載の発明によれば、請求項２記
載の発明の光ディスク用原盤の作製方法において、レジ
スト盤における第１層は、露光光の反射率が１０％以上
となるように露光光の反射を強めるようにしたので、グ
ルーブの傾斜角を確実に７１〜９０°の範囲内にするこ
とができる。

【００７２】請求項４ないし３９記載の発明によれば、
第２層の膜厚と第２層に対する露光光の波長４５７．８
ｎｍ又は４１３ｎｍとの関連で第１層の屈折率と膜厚と
の適正範囲が明らかにされており、反射率を１０％以上
に強めるためのレジスト盤の層構成が明らかとなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態を示すグルーブ断面構造
の模式図である。

【図２】ガラス基盤上のフォトレジストの反射率特性を
示す特性図である。

【図３】レジスト盤の層構成を示す断面図である。

【図４】波長４５７．８ｎｍなる条件で、第２層の膜厚
が４００Åの場合の計算結果例を示す特性図である。

【図５】波長４５７．８ｎｍなる条件で、第２層の膜厚
が５００Åの場合の計算結果例を示す特性図である。

【図６】波長４５７．８ｎｍなる条件で、第２層の膜厚
が６００Åの場合の計算結果例を示す特性図である。

【図７】波長４５７．８ｎｍなる条件で、第２層の膜厚
が７００Åの場合の計算結果例を示す特性図である。

【図８】波長４５７．８ｎｍなる条件で、第２層の膜厚
が８００Åの場合の計算結果例を示す特性図である。

【図９】波長４５７．８ｎｍなる条件で、第２層の膜厚
が９００Åの場合の計算結果例を示す特性図である。

【図１０】波長４５７．８ｎｍなる条件で、第２層の膜
厚が１０００Åの場合の計算結果例を示す特性図であ
る。

【図１１】波長４５７．８ｎｍなる条件で、第２層の膜
厚が１１００Åの場合の計算結果例を示す特性図であ
る。

【図１２】波長４５７．８ｎｍなる条件で、第２層の膜
厚が１２００Åの場合の計算結果例を示す特性図であ
る。

【図１３】波長４５７．８ｎｍなる条件で、第２層の膜
厚が１３００Åの場合の計算結果例を示す特性図であ
る。

【図１４】波長４５７．８ｎｍなる条件で、第２層の膜
厚が１４００Åの場合の計算結果例を示す特性図であ
る。

【図１５】波長４５７．８ｎｍなる条件で、第２層の膜
厚が１５００Åの場合の計算結果例を示す特性図であ
る。

【図１６】波長４５７．８ｎｍなる条件で、第２層の膜
厚が１６００Åの場合の計算結果例を示す特性図であ
る。

【図１７】波長４５７．８ｎｍなる条件で、第２層の膜
厚が１７００Åの場合の計算結果例を示す特性図であ
る。

【図１８】波長４５７．８ｎｍなる条件で、第２層の膜
厚が１８００Åの場合の計算結果例を示す特性図であ
る。

【図１９】波長４５７．８ｎｍなる条件で、第２層の膜
厚が１９００Åの場合の計算結果例を示す特性図であ
る。

【図２０】波長４５７．８ｎｍなる条件で、第２層の膜
厚が２０００Åの場合の計算結果例を示す特性図であ
る。

【図２１】波長４５７．８ｎｍなる条件で、第２層の膜
厚が２１００Åの場合の計算結果例を示す特性図であ
る。

【図２２】波長４５７．８ｎｍなる条件で、第２層の膜
厚が２２００Åの場合の計算結果例を示す特性図であ
る。

【図２３】波長４１３ｎｍなる条件で、第２層の膜厚が
４００Åの場合の計算結果例を示す特性図である。

【図２４】波長４１３ｎｍなる条件で、第２層の膜厚が
５００Åの場合の計算結果例を示す特性図である。

【図２５】波長４１３ｎｍなる条件で、第２層の膜厚が
６００Åの場合の計算結果例を示す特性図である。

【図２６】波長４１３ｎｍなる条件で、第２層の膜厚が
７００Åの場合の計算結果例を示す特性図である。

【図２７】波長４１３ｎｍなる条件で、第２層の膜厚が
８００Åの場合の計算結果例を示す特性図である。

【図２８】波長４１３ｎｍなる条件で、第２層の膜厚が
９００Åの場合の計算結果例を示す特性図である。

【図２９】波長４１３ｎｍなる条件で、第２層の膜厚が
１０００Åの場合の計算結果例を示す特性図である。

【図３０】波長４１３ｎｍなる条件で、第２層の膜厚が
１１００Åの場合の計算結果例を示す特性図である。

【図３１】波長４１３ｎｍなる条件で、第２層の膜厚が
１２００Åの場合の計算結果例を示す特性図である。

【図３２】波長４１３ｎｍなる条件で、第２層の膜厚が
１３００Åの場合の計算結果例を示す特性図である。

【図３３】波長４１３ｎｍなる条件で、第２層の膜厚が
１４００Åの場合の計算結果例を示す特性図である。

【図３４】波長４１３ｎｍなる条件で、第２層の膜厚が
１５００Åの場合の計算結果例を示す特性図である。

【図３５】波長４１３ｎｍなる条件で、第２層の膜厚が
１６００Åの場合の計算結果例を示す特性図である。

【図３６】波長４１３ｎｍなる条件で、第２層の膜厚が
１７００Åの場合の計算結果例を示す特性図である。

【図３７】波長４１３ｎｍなる条件で、第２層の膜厚が
１８００Åの場合の計算結果例を示す特性図である。

【図３８】波長４１３ｎｍなる条件で、第２層の膜厚が
１９００Åの場合の計算結果例を示す特性図である。

【図３９】波長４１３ｎｍなる条件で、第２層の膜厚が
２０００Åの場合の計算結果例を示す特性図である。

【図４０】波長４１３ｎｍなる条件で、第２層の膜厚が
２１００Åの場合の計算結果例を示す特性図である。

【図４１】波長４１３ｎｍなる条件で、第２層の膜厚が
２２００Åの場合の計算結果例を示す特性図である。

【図４２】ＣＤ‐Ｒ，ＣＤ‐ＲＷの一般的なグルーブ断
面構造を示す模式図である。

【図４３】ＤＶＤ用の従来例を示すグルーブ断面構造の
模式図である。

【符号の説明】

１１光ディスク用原盤１２グルーブ１４ガラス基盤１５第１層１６第２層ＴｐトラックピッチＴｈ半値幅 θ 傾斜角

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】トラックピッチが０．６〜１．０μｍの
範囲内、半値幅が０．２〜０．６μｍの範囲内、その半
値幅部分での傾斜角が７１〜９０°の範囲内となるグル
ーブを有することを特徴とする光ディスク用原盤。
【請求項２】請求項１記載の光ディスク用原盤の作製
方法であって、ガラス基盤上にこのガラス基盤とは異な
る屈折率の透明膜による第１層とフォトレジストによる
第２層とが順に積層され、前記第２層の膜厚とこの第２
層を露光する露光光の波長とに対してこの露光光の反射
が強くなるように前記第１層の膜厚が設定されたレジス
ト盤に対して、前記波長の露光光で露光した後、現像す
ることによりグルーブを作製するようにしたことを特徴
とする光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項３】レジスト盤における第１層は、露光光の
反射率が１０％以上となるように露光光の反射を強める
ことを特徴とする請求項２記載の光ディスク用原盤の作
製方法。
【請求項４】レジスト盤における第１層は、第２層の
膜厚が４００〜５００Åの範囲内でこの第２層を露光す
る露光光の波長が４５７．８ｎｍのときに、屈折率が
２．０〜２．１の範囲内で膜厚が１２０〜３４０Åの範
囲内となるように形成されていることを特徴とする請求
項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項５】レジスト盤における第１層は、第２層の
膜厚が５００〜６００Åの範囲内でこの第２層を露光す
る露光光の波長が４５７．８ｎｍのときに、屈折率が
１．３〜１．４の範囲内で膜厚が６８０〜１２８０Åの
範囲内となるように形成されていることを特徴とする請
求項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項６】レジスト盤における第１層は、第２層の
膜厚が６００〜７００Åの範囲内でこの第２層を露光す
る露光光の波長が４５７．８ｎｍのときに、屈折率が
１．３〜１．４の範囲内で膜厚が４７０〜１２６０Åの
範囲内となるように形成されていることを特徴とする請
求項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項７】レジスト盤における第１層は、第２層の
膜厚が７００〜８００Åの範囲内でこの第２層を露光す
る露光光の波長が４５７．８ｎｍのときに、屈折率が
１．３〜１．４の範囲内で膜厚が３５０〜１１３０Åの
範囲内となるように形成されていることを特徴とする請
求項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項８】レジスト盤における第１層は、第２層の
膜厚が８００〜９００Åの範囲内でこの第２層を露光す
る露光光の波長が４５７．８ｎｍのときに、屈折率が
１．３〜１．４の範囲内で膜厚が３５０〜９１０Åの範
囲内となるように形成されていることを特徴とする請求
項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項９】レジスト盤における第１層は、第２層の
膜厚が９００〜１０００Åの範囲内でこの第２層を露光
する露光光の波長が４５７．８ｎｍのときに、屈折率が
２．０〜２．１の範囲内で膜厚が７７０〜１０００Åの
範囲内となるように形成されていることを特徴とする請
求項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項１０】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が１０００〜１１００Åの範囲内でこの第２層を
露光する露光光の波長が４５７．８ｎｍのときに、屈折
率が１．９〜２．１の範囲内で膜厚が７００〜１０００
Åの範囲内となるように形成されていることを特徴とす
る請求項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項１１】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が１１００〜１２００Åの範囲内でこの第２層を
露光する露光光の波長が４５７．８ｎｍのときに、屈折
率が１．８〜２．１の範囲内で膜厚が６９０〜９７０Å
の範囲内となるように形成されていることを特徴とする
請求項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項１２】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が１２００〜１３００Åの範囲内でこの第２層を
露光する露光光の波長が４５７．８ｎｍのときに、屈折
率が１．８〜２．１の範囲内で膜厚が５６０〜９４０Å
の範囲内となるように形成されていることを特徴とする
請求項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項１３】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が１３００〜１４００Åの範囲内でこの第２層を
露光する露光光の波長が４５７．８ｎｍのときに、屈折
率が１．８〜２．１の範囲内で膜厚が４５０〜８９０Å
の範囲内となるように形成されていることを特徴とする
請求項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項１４】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が１４００〜１５００Åの範囲内でこの第２層を
露光する露光光の波長が４５７．８ｎｍのときに、屈折
率が１．８〜２．１の範囲内で膜厚が３７０〜８００Å
の範囲内となるように形成されていることを特徴とする
請求項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項１５】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が１５００〜１６００Åの範囲内でこの第２層を
露光する露光光の波長が４５７．８ｎｍのときに、屈折
率が１．８〜２．１の範囲内で膜厚が３００〜６９０Å
の範囲内となるように形成されていることを特徴とする
請求項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項１６】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が１６００〜１７００Åの範囲内でこの第２層を
露光する露光光の波長が４５７．８ｎｍのときに、屈折
率が１．８〜２．１の範囲内で膜厚が２５０〜５４０Å
の範囲内となるように形成されていることを特徴とする
請求項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項１７】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が１７００〜１８００Åの範囲内でこの第２層を
露光する露光光の波長が４５７．８ｎｍのときに、屈折
率が１．９〜２．１の範囲内で膜厚が１５０〜４６０Å
の範囲内となるように形成されていることを特徴とする
請求項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項１８】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が１８００〜１９００Åの範囲内でこの第２層を
露光する露光光の波長が４５７．８ｎｍのときに、屈折
率が２．０〜２．１の範囲内で膜厚が１３０〜３１０Å
の範囲内となるように形成されていることを特徴とする
請求項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項１９】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が１９００〜２０００Åの範囲内でこの第２層を
露光する露光光の波長が４５７．８ｎｍのときに、屈折
率が１．３〜１．４の範囲内で膜厚が６５０〜１２９０
Åの範囲内となるように形成されていることを特徴とす
る請求項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項２０】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が２０００〜２１００Åの範囲内でこの第２層を
露光する露光光の波長が４５７．８ｎｍのときに、屈折
率が１．３〜１．４の範囲内で膜厚が４５０〜１２５０
Åの範囲内となるように形成されていることを特徴とす
る請求項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項２１】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が２１００〜２２００Åの範囲内でこの第２層を
露光する露光光の波長が４５７．８ｎｍのときに、屈折
率が１．３〜１．４の範囲内で膜厚が３４０〜１１１０
Åの範囲内となるように形成されていることを特徴とす
る請求項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項２２】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が４００〜５００Åの範囲内でこの第２層を露光
する露光光の波長が４１３ｎｍのときに、屈折率が１．
３〜１．４の範囲内で膜厚が７８０〜１０９０Åの範囲
内となるように形成されていることを特徴とする請求項
３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項２３】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が５００〜６００Åの範囲内でこの第２層を露光
する露光光の波長が４１３ｎｍのときに、屈折率が１．
３〜１．４の範囲内で膜厚が５００〜１１６０Åの範囲
内となるように形成されていることを特徴とする請求項
３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項２４】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が６００〜７００Åの範囲内でこの第２層を露光
する露光光の波長が４１３ｎｍのときに、屈折率が１．
３〜１．４の範囲内で膜厚が３５０〜１０５０Åの範囲
内となるように形成されていることを特徴とする請求項
３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項２５】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が７００〜８００Åの範囲内でこの第２層を露光
する露光光の波長が４１３ｎｍのときに、屈折率が１．
３〜１．４の範囲内で膜厚が３１０〜８５０Åの範囲内
となるように形成されていることを特徴とする請求項３
記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項２６】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が８００〜９００Åの範囲内でこの第２層を露光
する露光光の波長が４１３ｎｍのときに、屈折率が２．
０〜２．１の範囲内で膜厚が７３０〜９００Åの範囲内
となるように形成されていることを特徴とする請求項３
記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項２７】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が９００〜１０００Åの範囲内でこの第２層を露
光する露光光の波長が４１３ｎｍのときに、屈折率が
１．９〜２．１の範囲内で膜厚が６４０〜９００Åの範
囲内となるように形成されていることを特徴とする請求
項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項２８】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が１０００〜１１００Åの範囲内でこの第２層を
露光する露光光の波長が４１３ｎｍのときに、屈折率が
１．８〜２．１の範囲内で膜厚が６１０〜８７０Åの範
囲内となるように形成されていることを特徴とする請求
項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項２９】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が１１００〜１２００Åの範囲内でこの第２層を
露光する露光光の波長が４１３ｎｍのときに、屈折率が
１．８〜２．１の範囲内で膜厚が４８０〜８４０Åの範
囲内となるように形成されていることを特徴とする請求
項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項３０】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が１２００〜１３００Åの範囲内でこの第２層を
露光する露光光の波長が４１３ｎｍのときに、屈折率が
１．８〜２．１の範囲内で膜厚が３８０〜７７０Åの範
囲内となるように形成されていることを特徴とする請求
項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項３１】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が１３００〜１４００Åの範囲内でこの第２層を
露光する露光光の波長が４１３ｎｍのときに、屈折率が
１．８〜２．１の範囲内で膜厚が３００〜６７０Åの範
囲内となるように形成されていることを特徴とする請求
項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項３２】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が１４００〜１５００Åの範囲内でこの第２層を
露光する露光光の波長が４１３ｎｍのときに、屈折率が
１．８〜２．１の範囲内で膜厚が２５０〜５４０Åの範
囲内となるように形成されていることを特徴とする請求
項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項３３】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が１５００〜１６００Åの範囲内でこの第２層を
露光する露光光の波長が４１３ｎｍのときに、屈折率が
１．９〜２．１の範囲内で膜厚が１５０〜４６０Åの範
囲内となるように形成されていることを特徴とする請求
項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項３４】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が１６００〜１７００Åの範囲内でこの第２層を
露光する露光光の波長が４１３ｎｍのときに、屈折率が
２．０〜２．１の範囲内で膜厚が１１０〜３１０Åの範
囲内となるように形成されていることを特徴とする請求
項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項３５】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が１７００〜１８００Åの範囲内でこの第２層を
露光する露光光の波長が４１３ｎｍのときに、屈折率が
１．３〜１．４の範囲内で膜厚が６２０〜１１６０Åの
範囲内となるように形成されていることを特徴とする請
求項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項３６】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が１８００〜１９００Åの範囲内でこの第２層を
露光する露光光の波長が４１３ｎｍのときに、屈折率が
１．３〜１．４の範囲内で膜厚が４２０〜１１２０Åの
範囲内となるように形成されていることを特徴とする請
求項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項３７】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が１９００〜２０００Åの範囲内でこの第２層を
露光する露光光の波長が４１３ｎｍのときに、屈折率が
１．３〜１．４の範囲内で膜厚が３１０〜９７０Åの範
囲内となるように形成されていることを特徴とする請求
項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項３８】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が２０００〜２１００Åの範囲内でこの第２層を
露光する露光光の波長が４１３ｎｍのときに、屈折率が
１．３〜１．４の範囲内で膜厚が３７０〜７００Åの範
囲内となるように形成されていることを特徴とする請求
項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。
【請求項３９】レジスト盤における第１層は、第２層
の膜厚が２１００〜２２００Åの範囲内でこの第２層を
露光する露光光の波長が４１３ｎｍのときに、屈折率が
２．０〜２．１の範囲内で膜厚が６３０〜９００Åの範
囲内となるように形成されていることを特徴とする請求
項３記載の光ディスク用原盤の作製方法。