JPH116086A - レーザ光を用いた表面不要物除去装置 - Google Patents
レーザ光を用いた表面不要物除去装置Info
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- JPH116086A JPH116086A JP9172830A JP17283097A JPH116086A JP H116086 A JPH116086 A JP H116086A JP 9172830 A JP9172830 A JP 9172830A JP 17283097 A JP17283097 A JP 17283097A JP H116086 A JPH116086 A JP H116086A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 被処理体表面の不純物等をレーザ光の照
射により除去する際に、除去した不要物で被処理体やレ
ーザ光導入用窓が再汚染されるのを防止する。 【解決手段】 処理室２内でレーザ光１０の周囲を囲む
ようにガス吹出筒４を配置するとともに該吹出筒４にガ
スを供給するガス供給手段４ａを設け、さらにガス吹出
筒４外で、被処理体６から除去された不要物を吸引して
処理室２外に排出するガス吸引・排出手段７、７ａを設
ける。 【効果】 除去された不要物が確実にレーザ光照射
部から取り去られるとともに、直ちに吸引して処理室外
に排出されるので、被処理体、レーザ光導入用窓の再汚
染が確実に防止される。
射により除去する際に、除去した不要物で被処理体やレ
ーザ光導入用窓が再汚染されるのを防止する。 【解決手段】 処理室２内でレーザ光１０の周囲を囲む
ようにガス吹出筒４を配置するとともに該吹出筒４にガ
スを供給するガス供給手段４ａを設け、さらにガス吹出
筒４外で、被処理体６から除去された不要物を吸引して
処理室２外に排出するガス吸引・排出手段７、７ａを設
ける。 【効果】 除去された不要物が確実にレーザ光照射
部から取り去られるとともに、直ちに吸引して処理室外
に排出されるので、被処理体、レーザ光導入用窓の再汚
染が確実に防止される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光を用いて
被処理体表面の付着不純物や所定パターンに沿った薄膜
を不要物として表面部から除去する装置であって、除去
した不要物によって被処理体が再汚染されるのを防止し
ている、レーザ光を用いた表面不要物除去装置に関する
ものである。
被処理体表面の付着不純物や所定パターンに沿った薄膜
を不要物として表面部から除去する装置であって、除去
した不要物によって被処理体が再汚染されるのを防止し
ている、レーザ光を用いた表面不要物除去装置に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の被処理体表面のクリーニングや半
導体のパターン形成でのエッチング、レジスト除去等に
おいは、主としてフッ酸、硫酸などの液体を使用して不
要物を溶解することによりこれを被処理体から除去する
方法が採用されている。しかし、この方法は液体の取り
扱いに際し危険性があり、また廃液の処理など環境に対
する問題もある。そこで、これらの危険性のある液体を
使用せずに上記処理を可能にするために、高エネルギ密
度のレーザ光を被処理体表面に照射して不要物を蒸散等
させることにより被処理体から除去する方法が提案され
ている（特開昭６２−２６７４８４号、特開昭６２−２
６２０号、特開昭６１−７３３２９号、特開平２−８６
１２８号等）。また、これらの方法では、除去した不要
物が再度被処理体に付着等して再汚染するのを防止する
ため、レーザ光照射部付近で、ガスを吹き付けたり、レ
ーザ光の照射により生じた気化ガスを吸引する方法が採
られている。
導体のパターン形成でのエッチング、レジスト除去等に
おいは、主としてフッ酸、硫酸などの液体を使用して不
要物を溶解することによりこれを被処理体から除去する
方法が採用されている。しかし、この方法は液体の取り
扱いに際し危険性があり、また廃液の処理など環境に対
する問題もある。そこで、これらの危険性のある液体を
使用せずに上記処理を可能にするために、高エネルギ密
度のレーザ光を被処理体表面に照射して不要物を蒸散等
させることにより被処理体から除去する方法が提案され
ている（特開昭６２−２６７４８４号、特開昭６２−２
６２０号、特開昭６１−７３３２９号、特開平２−８６
１２８号等）。また、これらの方法では、除去した不要
物が再度被処理体に付着等して再汚染するのを防止する
ため、レーザ光照射部付近で、ガスを吹き付けたり、レ
ーザ光の照射により生じた気化ガスを吸引する方法が採
られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記した従来
の装置では、除去した不要物による被処理物の再汚染を
防止する手段は講じられているものの、いずれもガスの
吹き付けのみ、または排気処理のみにとどまっており、
これらの方法では、除去された不要物が処理室内にしば
らくの間滞留することは避けられず、再汚染の防止は十
分とはいえない。またレーザ光を、導入用窓を通して照
射する装置では、上記のように処理室内に滞留する不要
物が導入用窓に付着しやすく、その結果、レーザ光の透
過効率が経時的に低下するという問題がある。本発明
は、上記事情を背景としてなされたものであり、除去し
た不要物が再度、被処理体を再汚染するのを確実に防止
するとともに、この不要物がレーザ導入用窓を汚染して
レーザ光の透過率が低下するのを防止するレーザ光を用
いた表面不要物除去装置を提供することを目的とする。
の装置では、除去した不要物による被処理物の再汚染を
防止する手段は講じられているものの、いずれもガスの
吹き付けのみ、または排気処理のみにとどまっており、
これらの方法では、除去された不要物が処理室内にしば
らくの間滞留することは避けられず、再汚染の防止は十
分とはいえない。またレーザ光を、導入用窓を通して照
射する装置では、上記のように処理室内に滞留する不要
物が導入用窓に付着しやすく、その結果、レーザ光の透
過効率が経時的に低下するという問題がある。本発明
は、上記事情を背景としてなされたものであり、除去し
た不要物が再度、被処理体を再汚染するのを確実に防止
するとともに、この不要物がレーザ導入用窓を汚染して
レーザ光の透過率が低下するのを防止するレーザ光を用
いた表面不要物除去装置を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明のレーザ光を用いた表面不要物除去装置のう
ち第１の発明は、処理室内に置かれた被処理体に、処理
室外部からレーザ導入用窓を通してレーザ光を照射する
ことにより、被処理体表面部の不要物を除去する表面不
要物除去装置において、処理室内でレーザ光の周囲を囲
むように配置されたガス吹出筒と、該ガス吹出筒の先端
から被処理体に向けてガスを吹き付けるべくガス吹出筒
内にガスを供給するガス供給手段と、ガス吹出筒外で、
被処理体から除去された前記不要物をガスとともに吸引
して処理室外に排出するガス吸引・排出手段とを有する
ことを特徴とする。また、第２の発明は、第１の発明に
おいて、ガス吹出筒が、レーザ導入用窓を隙間なく囲っ
ていることを特徴とする。さらに、第３の発明は、第１
または第２の発明において、ガス吸引・排出手段は、ガ
ス吹出筒の外周側にあってガス吹出筒と二重筒をなす排
気筒を有することを特徴とする。
め、本発明のレーザ光を用いた表面不要物除去装置のう
ち第１の発明は、処理室内に置かれた被処理体に、処理
室外部からレーザ導入用窓を通してレーザ光を照射する
ことにより、被処理体表面部の不要物を除去する表面不
要物除去装置において、処理室内でレーザ光の周囲を囲
むように配置されたガス吹出筒と、該ガス吹出筒の先端
から被処理体に向けてガスを吹き付けるべくガス吹出筒
内にガスを供給するガス供給手段と、ガス吹出筒外で、
被処理体から除去された前記不要物をガスとともに吸引
して処理室外に排出するガス吸引・排出手段とを有する
ことを特徴とする。また、第２の発明は、第１の発明に
おいて、ガス吹出筒が、レーザ導入用窓を隙間なく囲っ
ていることを特徴とする。さらに、第３の発明は、第１
または第２の発明において、ガス吸引・排出手段は、ガ
ス吹出筒の外周側にあってガス吹出筒と二重筒をなす排
気筒を有することを特徴とする。
【０００５】本発明のレーザ光を用いた表面不要物除去
装置は、前述したように、被処理体表面での付着不純物
の除去や、半導体における所定パターンでの薄膜の除去
等に用いることができる。したがって、被処理体の種別
が特定のものに限定されるものではなく、不要物の種別
や除去の目的が限定されるものでもない。レーザ光の種
別は、例えば、付着不純物の除去に際し、高エネルギ密
度のエキシマレーザ光を用いることができる。ただし、
本発明としては特にレーザ光の種別が限定されるもので
はなく、被処理体の種別や除去したい不要物の種別等に
よってレーザ光の種別やその出力を適宜選定することが
できる。このレーザ光の照射の結果、除去される不要物
は、レーザ光の照射によって被処理体の表面部との結合
が解かれるものであり、不要物が、除去の結果どのよう
な状態になるかは不要物の種別やレーザ光のエネルギ密
度等によっても異なり、ガス状になったり超微粒子状に
なったりして被処理体の表面部から分離する。
装置は、前述したように、被処理体表面での付着不純物
の除去や、半導体における所定パターンでの薄膜の除去
等に用いることができる。したがって、被処理体の種別
が特定のものに限定されるものではなく、不要物の種別
や除去の目的が限定されるものでもない。レーザ光の種
別は、例えば、付着不純物の除去に際し、高エネルギ密
度のエキシマレーザ光を用いることができる。ただし、
本発明としては特にレーザ光の種別が限定されるもので
はなく、被処理体の種別や除去したい不要物の種別等に
よってレーザ光の種別やその出力を適宜選定することが
できる。このレーザ光の照射の結果、除去される不要物
は、レーザ光の照射によって被処理体の表面部との結合
が解かれるものであり、不要物が、除去の結果どのよう
な状態になるかは不要物の種別やレーザ光のエネルギ密
度等によっても異なり、ガス状になったり超微粒子状に
なったりして被処理体の表面部から分離する。
【０００６】本発明では、レーザ光の照射に際し、被処
理体への照射部付近で被処理体に向けてガスを吹き付け
るとともに、このガスを吸引（望ましくは照射部付近で
局所的に吸引）して処理室外に排気するので、上記のよ
うにして被処理体から除去された不要物はガスの流れに
よって確実に被処理体の表面部から取り去られ、かつ直
ちに吸引によって処理室外に移送される。この結果、処
理室内に不要物が滞留して被処理体を再汚染したりレー
ザ光導入用窓を汚染したりする現象が有効に防止され
る。
理体への照射部付近で被処理体に向けてガスを吹き付け
るとともに、このガスを吸引（望ましくは照射部付近で
局所的に吸引）して処理室外に排気するので、上記のよ
うにして被処理体から除去された不要物はガスの流れに
よって確実に被処理体の表面部から取り去られ、かつ直
ちに吸引によって処理室外に移送される。この結果、処
理室内に不要物が滞留して被処理体を再汚染したりレー
ザ光導入用窓を汚染したりする現象が有効に防止され
る。
【０００７】なお、上記の吹き付け用のガスとしては、
被処理体に対する影響を避けるため、不活性ガスを用い
るのが望ましく、ヘリウム、窒素、アルゴン等のガスを
適宜の量、適宜の速度で被処理体に向けて吹き付ける。
上記ガスは、処理室内で照射されるレーザ光の周囲を囲
むように配置されるガス吹出筒によって被処理体に向け
て吹き出すことができる。このガス吹出筒は、レーザ光
の周囲を囲む大きさと形状を有しており、ビーム形状に
よって適宜の形状を選択することができる。例えば、ス
ポットビームでは円筒形状のガス吹出筒を用いることが
でき、ラインビームでは、扁平筒形状のガス吹出筒を用
いることができる。
被処理体に対する影響を避けるため、不活性ガスを用い
るのが望ましく、ヘリウム、窒素、アルゴン等のガスを
適宜の量、適宜の速度で被処理体に向けて吹き付ける。
上記ガスは、処理室内で照射されるレーザ光の周囲を囲
むように配置されるガス吹出筒によって被処理体に向け
て吹き出すことができる。このガス吹出筒は、レーザ光
の周囲を囲む大きさと形状を有しており、ビーム形状に
よって適宜の形状を選択することができる。例えば、ス
ポットビームでは円筒形状のガス吹出筒を用いることが
でき、ラインビームでは、扁平筒形状のガス吹出筒を用
いることができる。
【０００８】このガス吹出筒は、被処理体付近にまで伸
張してその先端の吹出し部が照射部に近接しているのが
望ましいが、あまりに接近すると、ガスの流れが悪くな
るので、適度な隙間を確保しておくことが望ましい。一
方、レーザ光導入用窓側では、ガス吹出筒が隙間なくレ
ーザ光導入用窓を囲っているのが望ましい。上記のガス
はガス供給手段によって上記吹出筒内に供給されるが、
供給方法は特に限定されるものではなく、レーザ光の照
射に支障がない状態で吹出筒内にガスを供給できるもの
であればよい。上記ガスをレーザ光の周囲を囲む吹出筒
を通して被処理体に吹き出すことにより、被処理体への
照射部に的確にガスを吹き付けることができ、除去した
不要物を照射部から確実に取り去ることができる。そし
て、吹出筒内は、ガスの供給によって相対的に圧力が高
くなるので、除去された不要物が吹出筒内に侵入するこ
とは少なく、直ちに吹出筒の外周側に吹き飛ばされる。
したがって、レーザ光は不要物が浮遊するような空間を
通過することなく吹出筒内の清浄な空間を通って被処理
体に照射される。さらに、レーザ光導入用窓を吹出筒に
よって隙間なく囲めば、除去した不要物が導入用窓に付
着してこれを汚染することを確実に防止できる。
張してその先端の吹出し部が照射部に近接しているのが
望ましいが、あまりに接近すると、ガスの流れが悪くな
るので、適度な隙間を確保しておくことが望ましい。一
方、レーザ光導入用窓側では、ガス吹出筒が隙間なくレ
ーザ光導入用窓を囲っているのが望ましい。上記のガス
はガス供給手段によって上記吹出筒内に供給されるが、
供給方法は特に限定されるものではなく、レーザ光の照
射に支障がない状態で吹出筒内にガスを供給できるもの
であればよい。上記ガスをレーザ光の周囲を囲む吹出筒
を通して被処理体に吹き出すことにより、被処理体への
照射部に的確にガスを吹き付けることができ、除去した
不要物を照射部から確実に取り去ることができる。そし
て、吹出筒内は、ガスの供給によって相対的に圧力が高
くなるので、除去された不要物が吹出筒内に侵入するこ
とは少なく、直ちに吹出筒の外周側に吹き飛ばされる。
したがって、レーザ光は不要物が浮遊するような空間を
通過することなく吹出筒内の清浄な空間を通って被処理
体に照射される。さらに、レーザ光導入用窓を吹出筒に
よって隙間なく囲めば、除去した不要物が導入用窓に付
着してこれを汚染することを確実に防止できる。
【０００９】さらに、ガス吹出筒の外周側に、このガス
吹出筒との間で二重筒を構成する排気筒を設ければ、ガ
ス吹出筒からのガスの吹き出しによって飛ばされた不要
物は吹き出されたガスとともに、直ちにガス吹出筒と排
気筒との間の隙間を通して吸引され、処理室外に排出さ
れる。このため除去された不要物が処理室内に滞留して
被処理体やレーザ光導入用窓に再付着することは殆どな
く、確実かつ迅速に不要物を処理室内から取り去ること
ができる。また、ガスが排気筒の外側に漏れ出す量も少
なくできるので、処理室内の雰囲気調整を維持しやすい
という利点もある。さらに、排気筒が吹出筒と二重筒状
に配置されることから、ガスは外側に向けてほぼ一様に
流れるので、ガスの流れに偏りができて、吹出筒に不要
物が付着する等の問題も避けられる。
吹出筒との間で二重筒を構成する排気筒を設ければ、ガ
ス吹出筒からのガスの吹き出しによって飛ばされた不要
物は吹き出されたガスとともに、直ちにガス吹出筒と排
気筒との間の隙間を通して吸引され、処理室外に排出さ
れる。このため除去された不要物が処理室内に滞留して
被処理体やレーザ光導入用窓に再付着することは殆どな
く、確実かつ迅速に不要物を処理室内から取り去ること
ができる。また、ガスが排気筒の外側に漏れ出す量も少
なくできるので、処理室内の雰囲気調整を維持しやすい
という利点もある。さらに、排気筒が吹出筒と二重筒状
に配置されることから、ガスは外側に向けてほぼ一様に
流れるので、ガスの流れに偏りができて、吹出筒に不要
物が付着する等の問題も避けられる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、図１を参照して本発明の一
実施形態について説明する。なお、これによりこの発明
が限定されるものではない。図１は、本発明の実施形態
にかかるレーザクリーニング装置１の概観図である。本
装置１は大気雰囲気、特定ガス雰囲気、真空雰囲気総て
に応用可能であり、各雰囲気は、処理室２に設けられた
真空排気用ダクト（図示しない）または雰囲気ガス導入
口２ａを使用して形成することができる。また、処理室
２の天井部には、角筒状の突出部２ｂが形成されてお
り、該突出部２ｂの天板部にガラス製で細長い形状のレ
ーザ光導入用窓３が設けられている。また、該天板部下
面には、下方に伸張するガス吹出筒の上端部が上記レー
ザ光導入用窓３を囲むように隙間なく固定されている。
該ガス吹出筒４の下端部は細幅に絞られた形状を有して
いるとともに、処理室２内において基台５上に載置され
る被処理体６の上面近くにまで達している。また、上記
突出部２ｂの側壁は、処理室２の天井部を抜けてさらに
下方に伸張して排気筒７を構成しており、該排気筒７の
下端部も上記ガス吹出筒４とほぼ同位置にまで達してい
る。なお、吹出筒４の下端では、ガスの流れを確保し、
また排気筒７の下端ではガスの漏れをできるだけ少なく
するために、排気筒７の下端をより被処理体６に近付け
ることもできる。また、上記排気筒７の上部側側壁に
は、排気口７ａが形成されており、該排気口７ａは、図
示しない吸引装置に連結されている。これら排気筒７、
排気口７ａ、吸引装置によってガス吸引・排出手段が構
成されている。また、ガス吹出筒４の側壁には、ガス供
給管４ａが連結されており、該ガス供給管４ａは上記排
気筒７の側壁を貫通して外部で図示しないガス供給装置
に連結されている。上記ガス供給管４ａとガス供給装置
によってガス供給手段が構成されている。
実施形態について説明する。なお、これによりこの発明
が限定されるものではない。図１は、本発明の実施形態
にかかるレーザクリーニング装置１の概観図である。本
装置１は大気雰囲気、特定ガス雰囲気、真空雰囲気総て
に応用可能であり、各雰囲気は、処理室２に設けられた
真空排気用ダクト（図示しない）または雰囲気ガス導入
口２ａを使用して形成することができる。また、処理室
２の天井部には、角筒状の突出部２ｂが形成されてお
り、該突出部２ｂの天板部にガラス製で細長い形状のレ
ーザ光導入用窓３が設けられている。また、該天板部下
面には、下方に伸張するガス吹出筒の上端部が上記レー
ザ光導入用窓３を囲むように隙間なく固定されている。
該ガス吹出筒４の下端部は細幅に絞られた形状を有して
いるとともに、処理室２内において基台５上に載置され
る被処理体６の上面近くにまで達している。また、上記
突出部２ｂの側壁は、処理室２の天井部を抜けてさらに
下方に伸張して排気筒７を構成しており、該排気筒７の
下端部も上記ガス吹出筒４とほぼ同位置にまで達してい
る。なお、吹出筒４の下端では、ガスの流れを確保し、
また排気筒７の下端ではガスの漏れをできるだけ少なく
するために、排気筒７の下端をより被処理体６に近付け
ることもできる。また、上記排気筒７の上部側側壁に
は、排気口７ａが形成されており、該排気口７ａは、図
示しない吸引装置に連結されている。これら排気筒７、
排気口７ａ、吸引装置によってガス吸引・排出手段が構
成されている。また、ガス吹出筒４の側壁には、ガス供
給管４ａが連結されており、該ガス供給管４ａは上記排
気筒７の側壁を貫通して外部で図示しないガス供給装置
に連結されている。上記ガス供給管４ａとガス供給装置
によってガス供給手段が構成されている。
【００１１】以下に、上記実施形態の使用方法について
説明する。図示しないエキシマレーザ照射装置から発振
されたレーザ光１０は、レーザ導入用窓３を通してレー
ザクリーニング装置１の処理室２内に導入され、被処理
体６に照射される。被処理体６は基台５の移動により処
理室２内を移動し、これにより固定されたレーザ光１０
により所望面のクリーニングが行われる。また、これと
並行して、ガス供給装置からガス供給管４ａへと不活性
ガス４０を供給し、その一方で、吸引装置によって排気
口７ａを通して排気筒７内を吸引する。上記により導入
ガス４０はレーザ光１０と同一経路を通り、吹出筒４の
先端部から被処理体６のレーザ照射部およびその近傍に
吹き付けられる。レーザ照射部では、被処理体６の表面
部に付着している不純物と表面部との結合が切断され
る。この不純物は、上記ガス４０によって上記表面部か
ら取り去られるとともにガスとともに移動し、吹出筒４
の外側にある排気筒７に吸引され、排気ガス７０として
排気口７ａを通して処理室２外に運び出される。なお、
図に示すように、吹出筒４および／または排気筒７内に
イオン状物質吸引電極１１を設けることも可能であり、
この吸引電極１１によって、上記の如く除去された不純
物を積極的に回収することができる。上記装置によれ
ば、レーザ光の照射によって被処理体から除去された不
純物が確実かつ迅速にガスとともに処理室外に運び出さ
れるので、被処理体やレーザ光導入用窓が除去した不純
物によって再汚染されるのを防止できる。しかも、レー
ザ光導入用窓は、吹出筒で隙間なく覆われているととも
に、排気経路とも完全に隔離されているので、不純物の
付着が確実に防止される。
説明する。図示しないエキシマレーザ照射装置から発振
されたレーザ光１０は、レーザ導入用窓３を通してレー
ザクリーニング装置１の処理室２内に導入され、被処理
体６に照射される。被処理体６は基台５の移動により処
理室２内を移動し、これにより固定されたレーザ光１０
により所望面のクリーニングが行われる。また、これと
並行して、ガス供給装置からガス供給管４ａへと不活性
ガス４０を供給し、その一方で、吸引装置によって排気
口７ａを通して排気筒７内を吸引する。上記により導入
ガス４０はレーザ光１０と同一経路を通り、吹出筒４の
先端部から被処理体６のレーザ照射部およびその近傍に
吹き付けられる。レーザ照射部では、被処理体６の表面
部に付着している不純物と表面部との結合が切断され
る。この不純物は、上記ガス４０によって上記表面部か
ら取り去られるとともにガスとともに移動し、吹出筒４
の外側にある排気筒７に吸引され、排気ガス７０として
排気口７ａを通して処理室２外に運び出される。なお、
図に示すように、吹出筒４および／または排気筒７内に
イオン状物質吸引電極１１を設けることも可能であり、
この吸引電極１１によって、上記の如く除去された不純
物を積極的に回収することができる。上記装置によれ
ば、レーザ光の照射によって被処理体から除去された不
純物が確実かつ迅速にガスとともに処理室外に運び出さ
れるので、被処理体やレーザ光導入用窓が除去した不純
物によって再汚染されるのを防止できる。しかも、レー
ザ光導入用窓は、吹出筒で隙間なく覆われているととも
に、排気経路とも完全に隔離されているので、不純物の
付着が確実に防止される。
【００１２】なお、上記実施形態では、不純物を除去す
る装置について説明したが、前述したように、本発明
は、半導体のパターニングに際し、不要な薄膜を除去す
るために用いられるレーザ処理装置等にも適用可能であ
る。また、上記実施形態では、不純物を除去したガスを
吹出筒と二重筒をなす排気筒によって吸引・排気した
が、吹出筒の外部に吸引管を配置したり、処理室の壁部
に吸引口を設けることによって吸引・排気を行う装置も
本発明の範囲内である。
る装置について説明したが、前述したように、本発明
は、半導体のパターニングに際し、不要な薄膜を除去す
るために用いられるレーザ処理装置等にも適用可能であ
る。また、上記実施形態では、不純物を除去したガスを
吹出筒と二重筒をなす排気筒によって吸引・排気した
が、吹出筒の外部に吸引管を配置したり、処理室の壁部
に吸引口を設けることによって吸引・排気を行う装置も
本発明の範囲内である。
【００１３】また、上記実施形態では、吹出筒からの吹
き出し速度を高めるために、先端部を細幅に絞った吹出
筒４を用いたが、吹き出し圧力や、速度、またはこれら
の分布等を調整するために図４に示すように吹出筒１４
ａ〜１４ｄの先端形状を適宜変えることが可能である。
例えば、Ｂの形状を有する吹出筒１４ｂでは、先端部中
途に絞りを設けるとともに先端を開口面積が次第に広く
なる形状としたので、絞りによってガスの圧力が高めら
れた後、先端で外に向かうように開放され、したがっ
て、除去された不純物が吹出筒に逆流してレーザ光導入
用窓が汚染されるのを一層確実に防止することができ
る。
き出し速度を高めるために、先端部を細幅に絞った吹出
筒４を用いたが、吹き出し圧力や、速度、またはこれら
の分布等を調整するために図４に示すように吹出筒１４
ａ〜１４ｄの先端形状を適宜変えることが可能である。
例えば、Ｂの形状を有する吹出筒１４ｂでは、先端部中
途に絞りを設けるとともに先端を開口面積が次第に広く
なる形状としたので、絞りによってガスの圧力が高めら
れた後、先端で外に向かうように開放され、したがっ
て、除去された不純物が吹出筒に逆流してレーザ光導入
用窓が汚染されるのを一層確実に防止することができ
る。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように本発明のレーザ光を
用いた表面不要物除去装置は、処理室内でレーザ光の周
囲を囲むように配置されたガス吹出筒と、該ガス吹出筒
の先端から被処理体に向けてガスを吹き付けるべくガス
吹出筒内にガスを供給するガス供給手段と、ガス吹出筒
外で、被処理体から除去された前記不要物をガスととも
に吸引して処理室外に排出するガス吸引・排出手段とを
設けたので、従来問題となっていた、処理液の危険性お
よび環境への悪影響なしに、被処理体表面部から不要物
を除去することができ、しかも除去した不要物による被
処理体やレーザ光導入用窓の再汚染を防止することがで
きる。また、ガス吹出筒で、レーザ導入用窓を隙間なく
囲めば、除去した不要物によるレーザ光導入用窓の汚染
が一層確実に防止される。さらに、ガス吹出筒の外周側
にあってガス吹出筒と二重筒をなす排気筒を吸引・排気
手段の一部として設ければ、除去した不要物を含むガス
を直ちに回収して処理室外に持ち去ることができ、被処
理体やレーザ光導入用窓の再汚染をより確実に防止する
ことができる。
用いた表面不要物除去装置は、処理室内でレーザ光の周
囲を囲むように配置されたガス吹出筒と、該ガス吹出筒
の先端から被処理体に向けてガスを吹き付けるべくガス
吹出筒内にガスを供給するガス供給手段と、ガス吹出筒
外で、被処理体から除去された前記不要物をガスととも
に吸引して処理室外に排出するガス吸引・排出手段とを
設けたので、従来問題となっていた、処理液の危険性お
よび環境への悪影響なしに、被処理体表面部から不要物
を除去することができ、しかも除去した不要物による被
処理体やレーザ光導入用窓の再汚染を防止することがで
きる。また、ガス吹出筒で、レーザ導入用窓を隙間なく
囲めば、除去した不要物によるレーザ光導入用窓の汚染
が一層確実に防止される。さらに、ガス吹出筒の外周側
にあってガス吹出筒と二重筒をなす排気筒を吸引・排気
手段の一部として設ければ、除去した不要物を含むガス
を直ちに回収して処理室外に持ち去ることができ、被処
理体やレーザ光導入用窓の再汚染をより確実に防止する
ことができる。
【図１】 本発明の一実施形態におけるレーザクリーニ
ング処理装置の要部断面図である。
ング処理装置の要部断面図である。
【図２】 同じくレーザ光導入用窓を含む一部平面図で
ある。
ある。
【図３】 同じくレーザ光導入用窓を含む一部側面図で
ある。
ある。
【図４】 同じく吹出筒の変更例を示す一部断面図であ
る。
る。
１ レーザクリーニング装置 ２ 処理室 ３ レーザ光導入用窓 ４ 吹出筒 ４ａ ガス供給管 ６ 被処理体 ７ 排気筒 ７ａ 排気口 １０ エキシマレーザ光 １１ イオン状物質吸引電極 １４ａ 吹出筒 １４ｂ 吹出筒 １４ｃ 吹出筒 １４ｄ 吹出筒 ４０ 導入ガス ７０ 排気ガス
Claims (3)
- 【請求項１】 処理室内に置かれた被処理体に、処理室
外部からレーザ導入用窓を通してレーザ光を照射するこ
とにより、被処理体表面部の不要物を除去する表面不要
物除去装置において、処理室内でレーザ光の周囲を囲む
ように配置されたガス吹出筒と、該ガス吹出筒の先端か
ら被処理体に向けてガスを吹き付けるべくガス吹出筒内
にガスを供給するガス供給手段と、ガス吹出筒外で、被
処理体から除去された前記不要物をガスとともに吸引し
て処理室外に排出するガス吸引・排出手段とを有するこ
とを特徴とするレーザ光を用いた表面不要物除去装置 - 【請求項２】 ガス吹出筒は、レーザ光導入用窓を隙間
なく囲っていることを特徴とする請求項１記載のレーザ
光を用いた表面不要物除去装置 - 【請求項３】 ガス吸引・排出手段は、ガス吹出筒の外
周側にあってガス吹出筒と二重筒をなす排気筒を有する
ことを特徴とする請求項１または２に記載のレーザ光を
用いた表面不要物除去装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9172830A JPH116086A (ja) | 1997-06-13 | 1997-06-13 | レーザ光を用いた表面不要物除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9172830A JPH116086A (ja) | 1997-06-13 | 1997-06-13 | レーザ光を用いた表面不要物除去装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH116086A true JPH116086A (ja) | 1999-01-12 |
Family
ID=15949152
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9172830A Pending JPH116086A (ja) | 1997-06-13 | 1997-06-13 | レーザ光を用いた表面不要物除去装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH116086A (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1997
- 1997-06-13 JP JP9172830A patent/JPH116086A/ja active Pending
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