JPH1159778A - Wafer case - Google Patents

Wafer case

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JPH1159778A
JPH1159778A JP7331598A JP7331598A JPH1159778A JP H1159778 A JPH1159778 A JP H1159778A JP 7331598 A JP7331598 A JP 7331598A JP 7331598 A JP7331598 A JP 7331598A JP H1159778 A JPH1159778 A JP H1159778A
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wafer
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wafer case
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wafer case which is capable of improving sealing properties of the case and automatically eliminating pressure difference caused between the inside and the outside of the case in a relatively short period of time, whose filtering characteristics against dust are high, which prevents a wafer from being damaged due to deformation of the case and dust from adhering to the wafer and, moreover, which is obtained at a relatively low cost. SOLUTION: When the external pressure varies due to some causes to bring about pressure difference between the inside and the outside of this wafer case 10, air flows from a high-pressure side to a low-pressure side through a filter 17 and, as a result, the pressure difference between the inside and the outside of the case is automatically eliminated in a relatively short period of time. Since at least 99.9% of fine dust having a size of 0.05 μm or larger, which is included in the external air, is filtered and removed by the filter 17 at the velocity of filtration V/1500 (mol/minute), dust in the external air does not adhere to the surface of a wafer at the time of eliminating the pressure difference, or the wafer 11 is not marred with a needle-point of a syringe. Moreover, since only the filter 17 is mounted to the case 10, the case is obtained at a relatively low cost.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明はシリコンウェーハ
などを収納するウェーハケース、詳しくは大気中のごみ
を濾過しながら、密閉されたケース内の圧力を外部の圧
力と等しくするフィルタ付きのウェーハケースに関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer case for accommodating a silicon wafer or the like, and more particularly to a wafer case with a filter for equalizing the pressure in a sealed case to the external pressure while filtering dust in the atmosphere. .

【0002】[0002]

【従来の技術】ウェーハ製造工場で作製されたシリコン
ウェーハなどの半導体ウェーハは、輸送中における損傷
や汚染などを防止するために、通常、ガスケット(パッ
キング材)によって蓋が密閉されたウェーハケースに収
納されている。このウェーハケースは、さらに大気中
で、内袋であるナイロン(ポリアミド繊維の商品名)ま
たはポリエチレン製のフィルムでヒートシールされて密
封されている。そして、このウェーハケースが入った内
袋を、外袋であるアルミニウムフィルム製の袋内に入れ
て、その開口部をヒートシールして密封している。つま
り、ウェーハケースはこのような二重封止による完全密
封状態で輸送されることとなる。
2. Description of the Related Art A semiconductor wafer such as a silicon wafer manufactured in a wafer manufacturing factory is usually housed in a wafer case with a lid sealed by a gasket (packing material) in order to prevent damage and contamination during transportation. Have been. The wafer case is further heat-sealed with an inner bag of nylon (trade name of polyamide fiber) or polyethylene film in the atmosphere. Then, the inner bag containing the wafer case is placed in an aluminum film bag, which is an outer bag, and the opening thereof is heat-sealed and sealed. That is, the wafer case is transported in a completely sealed state by such double sealing.

【0003】ウェーハ輸送の一形態として航空機を使っ
た航空輸送がある。この場合、ウェーハを搭載した航空
機は高度数千〜1万mを飛行する。このとき、機内の貨
物室の気圧はおおよそ0.7〜0.8atmに達する。
その結果、例えば図13(a)に示すような比較的密閉
性能が良いウェーハケース100の場合、気圧の低い上
空では、その気圧差から空気が膨張し、常圧で密封され
た内袋101および外袋102が膨らむ。しかも、ウェ
ーハケース100内の空気も膨張して、蓋103と容器
本体104との間に介在されるガスケット105のわず
かな隙間から、内袋101内へと漏れる。これにより、
内袋101はさらに膨らむ(図13(b)参照)。
One form of wafer transportation is air transportation using an aircraft. In this case, the aircraft on which the wafer is mounted flies at an altitude of several thousand to 10,000 m. At this time, the air pressure in the cargo compartment in the aircraft reaches approximately 0.7 to 0.8 atm.
As a result, for example, in the case of the wafer case 100 having a relatively good sealing performance as shown in FIG. 13A, when the air pressure is low, the air expands due to the pressure difference, and the inner bag 101 and the inner bag 101 sealed at normal pressure are removed. The outer bag 102 expands. Moreover, the air inside the wafer case 100 also expands and leaks into the inner bag 101 from a slight gap of the gasket 105 interposed between the lid 103 and the container body 104. This allows
The inner bag 101 further expands (see FIG. 13B).

【0004】着陸時、航空機が常圧の地上へ下降する
と、図13(c)に示すように、上空のときとは反対の
気圧関係から、内袋101や外袋102内の空気が、比
較的高い外圧により圧縮されて収縮する。しかも、ガス
ケット105が存在することで、蓋103が容器本体1
04の開口部にしっかりと密着される。この結果、内袋
101内の空気はケース内に流れ込まず、ウェーハケー
ス100は、ちょうど四方から押し潰されたように変形
する。これにより、内側へ湾曲した外壁によって内部の
ウェーハが傷つくおそれがあった。また、蓋103が容
器本体104へ強固に密着することで、ケース内からウ
ェーハを取り出す際に、蓋103がなかなか開かないと
いう問題も発生していた。なお、図13(a)は従来手
段に係る比較的密閉性が良いウェーハケースの空輸前の
状態を示す説明図、図13(b)は同上空飛行中の比較
的密閉性が良いウェーハケースを示すその説明図、図1
3(c)は同空輸後の状態を示す説明図である。
At the time of landing, when the aircraft descends to the ground at normal pressure, as shown in FIG. 13C, the air in the inner bag 101 or the outer bag 102 is compared with the air pressure relationship opposite to that in the sky. It is compressed and shrunk by an extremely high external pressure. Moreover, the presence of the gasket 105 allows the lid 103 to be
04 is firmly adhered to the opening. As a result, the air in the inner bag 101 does not flow into the case, and the wafer case 100 is deformed as if crushed from all sides. As a result, the inner wafer may be damaged by the inwardly curved outer wall. Further, since the lid 103 tightly adheres to the container main body 104, there is a problem that the lid 103 is not easily opened when taking out the wafer from the case. FIG. 13 (a) is an explanatory view showing a state before the air transport of a wafer case having a relatively good sealing property according to the conventional means, and FIG. 13 (b) is a diagram showing a wafer case having a relatively good sealing property during the above flight. Illustrated illustration, FIG.
FIG. 3C is an explanatory view showing a state after the air transportation.

【0005】一方、図14(a)に示すように、比較的
密閉性能が低いウェーハケース200の場合には、蓋1
03と容器本体104の開口部との間にあるガスケット
201の隙間から空気が流通しやすい。したがって、上
空を飛行中には、図13に示すウェーハケース100の
場合と同様に、大気の圧力が低いことから、内袋101
や外袋102が膨らみ、ケース内の空気も内袋101内
へ流出する(図14(b)参照)。ところが、航空機の
下降時、大気の圧力が上昇してケース内の空気が圧縮さ
れる際には、これに伴って、内袋101内の空気がガス
ケット201の隙間からケース内へ流れ込む。これによ
り前述した変形が起きない(図14(c)参照)。この
結果、空輸時の圧力差で変形したウェーハケース200
の外壁によるウェーハの損傷を解消できるとともに、着
陸後の開蓋時に蓋103を簡単に開けられるという特長
がある。
On the other hand, as shown in FIG. 14A, in the case of a wafer case 200 having a relatively low sealing performance,
Air easily flows through a gap between the gasket 201 and the opening of the container body 104. Therefore, during the flight over the air, the pressure of the atmosphere is low as in the case of the wafer case 100 shown in FIG.
The outer bag 102 expands, and the air in the case also flows into the inner bag 101 (see FIG. 14B). However, when the pressure of the atmosphere rises and the air in the case is compressed when the aircraft descends, the air in the inner bag 101 flows into the case from the gap of the gasket 201 accordingly. As a result, the aforementioned deformation does not occur (see FIG. 14C). As a result, the wafer case 200 deformed by the pressure difference during air transportation
In addition, the wafer can be prevented from being damaged by the outer wall, and the lid 103 can be easily opened when the lid is opened after landing.

【0006】しかしながら、反面では、蓋103の密閉
性が悪いことから、航空機の下降時に、内袋101内で
浮遊していたごみやほこり、および、内袋101の内面
に付着していたごみやほこりが、このガスケット201
の隙間からケース内へ流入し、これがウェーハ表面に付
着してウェーハを汚してしまうおそれがあった。なお、
図14(a)は他の従来手段に係る比較的密閉性が悪い
ウェーハケースの空輸前の状態を示す説明図、図14
(b)は同上空飛行中の比較的密閉性が悪いウェーハケ
ースを示すその説明図、図14(c)は同空輸後の状態
を示す説明図である。
However, on the other hand, since the lid 103 has poor sealing performance, dust and dust floating in the inner bag 101 when the aircraft descends and dust and dirt adhering to the inner surface of the inner bag 101 are reduced. The dust is the gasket 201
Flow into the case through the gap, which may adhere to the wafer surface and contaminate the wafer. In addition,
FIG. 14 (a) is an explanatory view showing a state of a relatively poorly sealed wafer case according to another conventional means before air transport, and FIG.
FIG. 14B is an explanatory view showing a wafer case having relatively poor airtightness during the above-mentioned flight, and FIG. 14C is an explanatory view showing a state after the air transportation.

【0007】そこで、これを解消する従来手段として、
例えば特開平8−145173号公報に記載されたもの
などが知られている。この従来手段は、容器や蓋の開口
周縁部の外壁に、ガスケットの表面にまで達する孔また
は切り欠きを設け、これらを通して、所定の押圧治具に
より外方からガスケットを容器内へ押し込むか、ガスケ
ットに連通管を通して容器内外を連通するか、または注
射器などにより空気を注入するものである。このように
して、ケース内外の圧力差を解除している。しかしなが
ら、この方法では、航空機の着陸態勢後におけるウェー
ハケースの変形を原因としたウェーハの損傷を防ぐこと
ができない。また、別の従来手段としては、水タンク内
に防水性のウェーハケースを浸漬し、この状態のまま航
空機に搭載することで、輸送によるケース内外の圧力差
が起きないようにしたものが知られている。この方法で
は、ウェーハの損傷と地上での開蓋の困難さの両方を解
消することができる。
Therefore, as a conventional means for solving this,
For example, the one described in JP-A-8-145173 is known. This conventional means is provided with holes or notches reaching the surface of the gasket on the outer wall of the peripheral edge of the opening of the container or lid, through which the gasket is pushed into the container from the outside by a predetermined pressing jig, The inside and outside of the container are communicated with each other through a communication pipe, or air is injected by a syringe or the like. In this way, the pressure difference between the inside and outside of the case is released. However, this method cannot prevent wafer damage due to deformation of the wafer case after the aircraft is ready for landing. Another conventional means is known in which a waterproof wafer case is immersed in a water tank and is mounted on an aircraft in this state so that a pressure difference between the inside and outside of the case due to transportation does not occur. ing. In this way, both damage to the wafer and difficulty in opening the lid on the ground can be eliminated.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前者の
従来手段の場合、ウェーハケースの内外に圧力差が生じ
た場合、この圧力差の解除に際し、孔や切り欠きを通し
て、所定の押圧治具によりガスケットを容器内へ押し込
んだり、ガスケットに連通管を通したり、または注射器
などにより空気を注入しなければならなかった。これに
より、その作業に手間がかかった。しかも、この圧力差
解除時に、ガスケットの隙間からケース外のごみやほこ
りがケースの内部に流れ込んでしまい、これがウェーハ
の表面に付着するおそれが大きかった。また、特に注射
器を使用した場合には、注射針の先でウェーハを傷つけ
るおそれもあった。一方、後者の従来手段の場合、水入
りのタンクを航空機に搭載する必要がある。これによ
り、積載重量的および積載容積的にも、航空機1機当た
りで輸送できるウェーハケースの個数が減少し、この結
果、輸送コストが高騰するという問題点があった。
However, in the case of the former conventional means, when a pressure difference is generated between the inside and outside of the wafer case, when the pressure difference is released, the gasket is passed through a hole or a notch by a predetermined pressing jig. Had to be pushed into the container, a gasket passed through a communication tube, or air was injected by a syringe or the like. As a result, the work was troublesome. In addition, when the pressure difference is released, dirt and dust outside the case flow into the inside of the case from the gap of the gasket, and there is a high possibility that the dust and dust adhere to the surface of the wafer. Further, particularly when a syringe is used, there is a possibility that the wafer may be damaged by the tip of the injection needle. On the other hand, in the case of the latter conventional means, it is necessary to mount a tank containing water on the aircraft. As a result, the number of wafer cases that can be transported per aircraft is reduced in terms of the loading weight and the loading volume, and as a result, there is a problem in that the transportation costs rise.

【0009】[0009]

【発明の目的】この発明は、ごみの濾過性能が高くて、
ケース内外に生じた圧力差を比較的短時間で自動的に解
除することができ、これにより圧力差によるケース変形
を原因としたウェーハの損傷や、ウェーハ表面へのごみ
やほこりの付着を防止することができ、しかもこれらの
効果が比較的低コストで得られるウェーハケースを提供
することを、その目的としている。また、この発明は、
ウェーハ輸送時のケース内外の圧力差に耐え得るケース
密閉性を有するウェーハケースを提供することを、その
目的としている。さらに、この発明は、比較的短時間
で、ケース内外の圧力差を解除することがでるウェーハ
ケースを提供することを、その目的としている。さらに
また、この発明は、比較的濾過速度が速いウェーハケー
スを提供することを、その目的としている。
The object of the present invention is to improve the filtering performance of refuse,
The pressure difference generated inside and outside the case can be automatically released in a relatively short time, thereby preventing the damage of the wafer due to the case deformation due to the pressure difference and the attachment of dirt and dust to the wafer surface. It is an object of the present invention to provide a wafer case which can perform these effects at a relatively low cost. In addition, the present invention
It is an object of the present invention to provide a wafer case having a case tightness that can withstand a pressure difference between the inside and outside of the case during wafer transport. Further, another object of the present invention is to provide a wafer case capable of releasing a pressure difference between the inside and outside of the case in a relatively short time. Still another object of the present invention is to provide a wafer case having a relatively high filtration rate.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、ウェーハが収納される容器本体と、この容器本体を
密閉する蓋と、容器本体および蓋の少なくともいずれか
一方の外壁に取り付けられたフィルタとを備え、このウ
ェーハケースの外圧がその内圧より0.05〜0.2気
圧だけ低い場合にも上記蓋と容器本体との間の密閉性が
保持されるウェーハケースにあって、このフィルタを介
してのみウェーハケース内外の気体の流通を可能とする
とともに、このフィルタは、0.05μm以上の大きさ
の微細なごみ類を99.9%以上濾過することができる
ウェーハケースである。ウェーハとしては、シリコンウ
ェーハ,ガリウム砒素ウェーハなどの半導体ウェーハを
その対象とする。容器本体および蓋の素材としては、例
えばポリカーボネート(PC),ポリエチレン(P
E),ポリプロピレン(PP),ポリスチレン(P
S),ポリエーテルエーテルケトン(PEEK),ポリ
ブチルテレフタレート(PBT),PVC,PMMAな
どの各種のプラスチックが挙げられる。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a container body for accommodating a wafer, a lid for sealing the container body, and an outer wall attached to at least one of the container body and the lid. A wafer case in which the tightness between the lid and the container body is maintained even when the external pressure of the wafer case is lower than its internal pressure by 0.05 to 0.2 atm. This filter is a wafer case that allows gas to flow in and out of the wafer case only through the filter and that can filter fine dust having a size of 0.05 μm or more by 99.9% or more. As the wafer, a semiconductor wafer such as a silicon wafer or a gallium arsenide wafer is used. As the material of the container body and the lid, for example, polycarbonate (PC), polyethylene (P
E), polypropylene (PP), polystyrene (P
S), polyether ether ketone (PEEK), polybutyl terephthalate (PBT), PVC, PMMA, and other various plastics.

【0011】ケース内外の差圧が0.05気圧未満で
も、ウェーハケースが密閉性を保持することができると
した場合、フィルタ面積を大きくする必要がある。また
は、フィルタの孔径を大きくせざるを得ず、パーティク
ルの除去能力が低下するという不都合が生じる。上記差
圧が0.2気圧を越えても密閉性を保持するものとする
と、ケースの剛性を高めたり、パッキンの押さえ構造を
高強度にするなど、ケース全体の構造が複雑になるとい
う不都合が生じる。
[0011] Even if the pressure difference between the inside and outside of the case is less than 0.05 atm, if the wafer case can maintain the hermeticity, it is necessary to increase the filter area. Alternatively, a disadvantage arises in that the pore size of the filter must be increased, and the ability to remove particles is reduced. If the above-mentioned differential pressure exceeds 0.2 atm, if the airtightness is maintained, the rigidity of the case is increased, and the structure of the entire case is complicated, such as increasing the strength of the packing holding structure. Occurs.

【0012】フィルタは、パーティクルカウンタで0.
05μm以上のごみやほこりをパーティクルとして検出
するときに、その99.9%を濾過することができる性
能を有する。フィルタが、0.05μm未満の微細なご
み類をも濾過することができるものとすれば、ウェーハ
ケースの内部空間が常圧に戻るために要する時間が長く
なる。フィルタの素材としては、例えばニトロセルロー
ス、セルロースアセテート、四フッ化エチレン樹脂(P
TFE)、親水性四フッ化エチレン樹脂などの各種合成
樹脂からなるメンブランフィルタなど、周知のフィルタ
を採用することができる。フィルタの平均孔径は、大気
中に浮遊するごみなどをフィルタリングすることができ
る大きさであれば、限定されない。また、フィルタの外
形寸法も限定されない。さらに、フィルタの組み付け位
置は、容器本体、蓋のどの部分でもよい。また両部材に
組み付けてもよい。そして、フィルタの組み付け個数も
限定されない。
The filter uses a particle counter of 0.1.
When detecting dust or particles having a size of 05 μm or more as particles, it has a performance of filtering 99.9% of the particles. If the filter is capable of filtering fine dusts of less than 0.05 μm, the time required for the internal space of the wafer case to return to normal pressure becomes longer. Examples of the filter material include nitrocellulose, cellulose acetate, and tetrafluoroethylene resin (P
Known filters such as a membrane filter made of various synthetic resins such as TFE) and hydrophilic tetrafluoroethylene resin can be used. The average pore size of the filter is not limited as long as it can filter out dust and the like floating in the atmosphere. Further, the outer dimensions of the filter are not limited. Further, the mounting position of the filter may be any part of the container body and the lid. Moreover, you may assemble to both members. Further, the number of filters to be assembled is not limited.

【0013】請求項2に記載の発明は、上記ウェーハケ
ースが0.05〜0.2気圧の差圧での密閉性を保持す
るとき、この差圧より小さい差圧がウェーハケース内外
に生じたとき気体が上記フィルタを通って流出入する請
求項1に記載のウェーハケースである。
According to a second aspect of the present invention, when the wafer case maintains the hermeticity at a differential pressure of 0.05 to 0.2 atm, a differential pressure smaller than the differential pressure is generated inside and outside the wafer case. 2. The wafer case according to claim 1, wherein gas flows out and in through the filter.

【0014】請求項3に記載の発明は、ウェーハケース
の容積をVリットルとしたとき、上記フィルタは、V/
1500(mol/分)以上の値で気体の流出入を許容
する請求項1または請求項2に記載のウェーハケースで
ある。フィルタによる気体濾過の速度が、V/1500
(mol/分)未満とすると、ケース内外の差圧をなく
すための時間が長くなり過ぎ、航空機輸送などの実体に
そぐわないという不都合が生じる。なお、この場合のフ
ィルタの個数は上述のように任意であり、複数個のフィ
ルタの場合、全体として上記条件を満たすこととなる。
According to a third aspect of the present invention, when the volume of the wafer case is set to V liter, the filter has a V /
3. The wafer case according to claim 1, wherein the gas is allowed to flow in and out at a value of 1500 (mol / min) or more. 4. The speed of gas filtration by the filter is V / 1500
If it is less than (mol / min), the time for eliminating the pressure difference between the inside and outside of the case becomes too long, and there is a disadvantage that it is not suitable for entities such as air transportation. The number of filters in this case is arbitrary, as described above. In the case of a plurality of filters, the above condition is satisfied as a whole.

【0015】請求項4に記載の発明は、上記ウェーハケ
ースの外圧が低下するとき、この外圧の低下に対応して
ウェーハケースの内圧も低下し、10分程度の遅れで内
外圧が一致する請求項1〜請求項3のいずれか1項に記
載のウェーハケースである。遅れが10分を越えると、
航空機輸送に用いても不便であるという不都合が生じる
からである。
According to a fourth aspect of the invention, when the external pressure of the wafer case decreases, the internal pressure of the wafer case also decreases in response to the decrease of the external pressure, and the internal and external pressures coincide with a delay of about 10 minutes. A wafer case according to any one of claims 1 to 3. If the delay exceeds 10 minutes,
This is because it is inconvenient to use it for air transport.

【0016】請求項5に記載の発明は、上記フィルタ
が、四フッ化エチレン樹脂製のメンブランフィルタであ
る請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のウェーハ
ケースである。メンブランフィルタとは、通常、厚さ
0.1〜0.2mmのプラスチックの薄膜に、目の細か
い一定の大きさの孔を多数形成したものである。ここで
は、そのフィルタ素材として四フッ化エチレン樹脂を採
用している。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the wafer case according to any one of the first to fourth aspects, wherein the filter is a membrane filter made of tetrafluoroethylene resin. The membrane filter is usually a plastic thin film having a thickness of 0.1 to 0.2 mm in which a number of fine holes of a certain size are formed. Here, ethylene tetrafluoride resin is used as the filter material.

【0017】[0017]

【作用】請求項1〜請求項5に記載の発明では、なんら
かの事情によりウェーハケースの外部の気圧が変化し、
パッキング材により密閉されたウェーハケースの内外で
圧力差が生じた場合には、フィルタを通して、このケー
ス内外において、圧力の大きい方から小さい方へ空気が
流れる。これにより、自動的にケース内外の圧力差が解
除される。しかも、この際に大気中の微細なごみやほこ
りは、フィルタにより濾過されて除去される。このた
め、この圧力差解除時に、従来手段のように大気中に浮
遊するごみやほこりがウェーハの表面に付着したり、例
えば注射器の針先などによりウェーハの損傷が起きるこ
とはない。しかも、ウェーハケースにフィルタを取り付
けただけなので、比較的低コストでこれらの効果が得ら
れる。また、フィルタとして、0.05μm以上のごみ
やほこりを99.9%以上濾過することができるものを
採用したために、ケース内外の圧力差を解除する際に、
大気中のかなり微細なごみまでフィルタリングすること
ができる。
According to the invention described in claims 1 to 5, the atmospheric pressure outside the wafer case changes due to some circumstances,
When a pressure difference occurs between the inside and outside of the wafer case sealed by the packing material, air flows from the larger pressure to the smaller pressure inside and outside the case through the filter. Thereby, the pressure difference between the inside and outside of the case is automatically released. In addition, at this time, fine dust and dust in the atmosphere are filtered and removed by a filter. Therefore, when the pressure difference is released, there is no possibility that dirt and dust floating in the air adhere to the surface of the wafer as in the conventional means, and the wafer is not damaged by, for example, a needle point of a syringe. In addition, these effects can be obtained at a relatively low cost because only the filter is attached to the wafer case. In addition, since a filter capable of filtering 99.9% or more of dust and dust of 0.05 μm or more is adopted as a filter, when a pressure difference between the inside and outside of the case is released,
It can filter very fine dust in the atmosphere.

【0018】特に、請求項3に記載の発明では、フィル
タによる気体の流出入の速度をV/1500(mol/
分)としているので、比較的短時間で、ケース内外の圧
力差を解除することができる。最大で約30分間で解除
することができる。
In particular, according to the third aspect of the present invention, the speed of gas inflow and outflow by the filter is set to V / 1500 (mol /
Minutes), the pressure difference between the inside and outside of the case can be released in a relatively short time. It can be released in about 30 minutes at the maximum.

【0019】また、請求項5に記載の発明によれば、フ
ィルタとして、四フッ化エチレン樹脂製のメンブランフ
ィルタを採用したので、例えばセルロースアセテート,
ポリフッ化ビニリデン(PVDF),ナイロンなどの他
の合成樹脂製のフィルタに比べて濾過速度が速い。
According to the fifth aspect of the present invention, since a membrane filter made of tetrafluoroethylene resin is used as the filter, for example, cellulose acetate,
The filtration speed is faster than filters made of other synthetic resins such as polyvinylidene fluoride (PVDF) and nylon.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施例に係るウ
ェーハケースを説明する。まず、図1〜図8に基づい
て、この発明の第1実施例を説明する。図1はこの発明
の第1実施例に係るウェーハケースの全体斜視図であ
る。図2は同ウェーハケースの正面図である。図3は同
ウェーハケースの平面図である。図4は同閉蓋中におけ
る図1のA−A拡大断面図である。図5(a)は容器本
体と蓋との接合部の構造を示す部分拡大断面図である。
図5(b)はガスケットの圧縮変形を説明するための略
図である。図6は同フィルタユニットの拡大斜視図であ
る。図7は同フィルタユニットの使用状態の拡大断面図
である。図8(a)は上空飛行中の比較的密閉性が良い
ウェーハケースの説明図である。図8(b)は同空輸後
の状態を示す説明図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a wafer case according to an embodiment of the present invention will be described. First, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is an overall perspective view of a wafer case according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a front view of the wafer case. FIG. 3 is a plan view of the wafer case. FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view taken along line AA of FIG. 1 while the lid is closed. FIG. 5A is a partially enlarged cross-sectional view showing the structure of the joint between the container body and the lid.
FIG. 5B is a schematic view for explaining the compression deformation of the gasket. FIG. 6 is an enlarged perspective view of the filter unit. FIG. 7 is an enlarged sectional view of the use state of the filter unit. FIG. 8A is an explanatory view of a wafer case having relatively good airtightness during flight over the sky. FIG. 8B is an explanatory view showing a state after the air transportation.

【0021】図1〜図3に示すように、10はこの発明
の一実施例に係るウェーハケースである。このウェーハ
ケース10は、例えば8インチのシリコンウェーハ11
が最大で25枚収納される四角形で箱形の容器本体12
と、この容器本体12の上面にある開口部を閉蓋する蓋
13と、これらの容器本体12や蓋13の開口周縁部の
外壁間に介在されたパッキング材の一例である環状ゴム
製のガスケット14と、蓋13の上壁の一角部の内面に
装着されて、ケース内外を連通するフィルタユニット1
5とを備えた内容量約15000ccの密閉式のケース
である。蓋13は、閉蓋時の上方側が凹となった四角形
の浅い皿状に成形されている。
As shown in FIGS. 1 to 3, reference numeral 10 denotes a wafer case according to an embodiment of the present invention. This wafer case 10 is, for example, an 8-inch silicon wafer 11
Box-shaped container body 12 in which a maximum of 25 sheets are stored
And a lid 13 for closing an opening on the upper surface of the container body 12 and an annular rubber gasket which is an example of a packing material interposed between outer walls of peripheral portions of the opening of the container body 12 and the lid 13. 14 and a filter unit 1 attached to the inner surface of one corner of the upper wall of the lid 13 to communicate between the inside and outside of the case.
5 is a closed case having an internal capacity of about 15000 cc. The lid 13 is formed in a rectangular shallow dish shape in which the upper side when the lid is closed is concave.

【0022】容器本体12および蓋13の素材として
は、透明もしくは半透明のポリプロピレン(PP)およ
びポリカーボネート(PC)が使用される。この蓋13
の上壁の表面には、透明もしくは半透明な上壁を通して
覗き見えるウェーハ11の枚数が、その枚数分の厚さ位
置に合わせて表示されている。ガスケット14は断面矩
形の環状のゴム製である。容器本体12や蓋13の鍔状
の開口周縁部間に介在されて、ウェーハケース10の密
閉性を確保するパッキング材としての役目を果たす。こ
のガスケット14は、蓋13を容器本体12の開口部
に、航空輸送時のケース内外の圧力差が0.2気圧にな
ったときでもこれに耐え得る高い密閉性でもって閉蓋さ
せる機能を有している。
As the material of the container body 12 and the lid 13, transparent or translucent polypropylene (PP) and polycarbonate (PC) are used. This lid 13
On the surface of the upper wall, the number of wafers 11 that can be seen through the transparent or translucent upper wall is displayed according to the thickness position corresponding to the number. The gasket 14 is made of an annular rubber having a rectangular cross section. It is interposed between the peripheral edges of the flange-shaped opening of the container body 12 and the lid 13 and serves as a packing material for ensuring the tightness of the wafer case 10. This gasket 14 has a function of closing the lid 13 at the opening of the container body 12 with a high sealing property capable of withstanding even when the pressure difference between the inside and outside of the case during air transportation becomes 0.2 atm. doing.

【0023】具体的には、図5(a),(b)に示すよ
うに、ガスケット14は、容器本体12の開口周縁部に
周設された矩形断面のシール溝30に、若干その頭部を
突出させて収納されている。ガスケット14の内,外周
部(非圧縮部)には、その全周にわたって凹部34が形
成されている。したがって、ガスケット14の非圧縮面
とシール溝30の壁部との間には間隙35が形成され
る。一方、容器本体12のシール溝30の下面と、蓋1
3の周縁部に形成されたシール溝32の上面とには、ガ
スケット14の上面および下面にそれぞれ当接する一対
のリブ31,33が周設されている。したがって、閉蓋
時には、ガスケット14の上部および下部がリブ31,
33によって押し潰される(図5(a)参照)。
More specifically, as shown in FIGS. 5A and 5B, the gasket 14 is slightly inserted into a sealing groove 30 having a rectangular cross section provided around the opening edge of the container body 12. Is projected and stored. In the gasket 14, a concave portion 34 is formed in the outer periphery (non-compressed portion) of the gasket 14 over the entire periphery. Therefore, a gap 35 is formed between the non-compressed surface of the gasket 14 and the wall of the seal groove 30. On the other hand, the lower surface of the seal groove 30 of the container body 12 and the lid 1
A pair of ribs 31 and 33 are provided around the upper surface and the lower surface of the gasket 14 on the upper surface of the seal groove 32 formed at the peripheral portion of the gasket 3. Therefore, when the lid is closed, the upper and lower portions of the gasket 14 are ribs 31 and
It is crushed by 33 (see FIG. 5A).

【0024】しかしながら、ガスケット14の非圧縮面
とシール溝30の側壁との間に形成された間隙35が、
潰されて膨出したガスケット14の逃げ部となる(図5
(b)参照)。この結果、圧縮力を受けたガスケット1
4は、シール溝30の側壁に妨げられることなく、スム
ーズに変形する。よって、蓋13の閉蓋操作が容易にな
るとともに、接合部におけるシール機能の信頼性が向上
する。このような閉蓋構造により、蓋13は容器本体1
2の開口部に、ケース内外の圧力差0.2気圧に耐え得
る高い密閉性で閉蓋される。
However, the gap 35 formed between the non-compressed surface of the gasket 14 and the side wall of the seal groove 30 is
The escape portion of the gasket 14 that has been crushed and swelled (FIG. 5)
(B)). As a result, the gasket 1
4 smoothly deforms without being hindered by the side wall of the seal groove 30. Therefore, the operation of closing the lid 13 is facilitated, and the reliability of the sealing function at the joint is improved. With such a closed structure, the lid 13 is connected to the container body 1.
The second opening is closed with high airtightness that can withstand a pressure difference of 0.2 atm between the inside and outside of the case.

【0025】この閉蓋時において、蓋13を手動(自動
でも可)で容器本体12に圧着させる治具が、容器本体
12の側板上部間に対向状態で配設された一対のフック
・レバー部40である。以下、これを説明する。図4に
示すように、フック・レバー部40は、ともに板材であ
るフック部材41とレバー部材42とにより構成されて
いる。フック部材41の上部には係合孔41aが穿設さ
れていて、下部にレバー部材42の連結軸42aが軸支
されている。このレバー部材42の元部両側には、容器
本体12の側板上部から突出するリブ間に軸支された一
対の取り付け軸42bが突出している。なお、蓋13の
開口周縁部には、各係合孔41aと対向する箇所に、閉
蓋時に、この係合孔41aと接合する係合突起13dが
突出している。
At the time of closing the lid, a jig for manually (or automatically) pressing the lid 13 against the container main body 12 is provided with a pair of hook and lever portions disposed between the upper side plates of the container main body 12 so as to face each other. 40. Hereinafter, this will be described. As shown in FIG. 4, the hook / lever section 40 is constituted by a hook member 41 and a lever member 42, both of which are plate members. An engaging hole 41a is formed in an upper portion of the hook member 41, and a connecting shaft 42a of the lever member 42 is supported at a lower portion. On both sides of the base of the lever member 42, a pair of mounting shafts 42b supported between ribs protruding from the upper part of the side plate of the container body 12 protrude. In addition, an engagement projection 13d that joins with the engagement hole 41a at the time of closing the lid protrudes from the opening peripheral portion of the lid 13 at a position facing each of the engagement holes 41a.

【0026】したがって、閉蓋時には、容器本体12の
開口部上に蓋13を載置し、その後、各係合孔41aを
それぞれの対応する係合突起13dに係合させる。次
に、レバー部材42を取り付け軸42bを中心に垂直面
内で下方へ回動する。この結果、フック部材41は連結
軸42aを中心に垂直面内で回動させられながら押し下
げられる。これにより、蓋13が堅固に閉蓋される。な
お、開蓋時には、この操作とは反対の手順での操作を行
う。
Therefore, at the time of closing the lid, the lid 13 is placed on the opening of the container body 12, and then each of the engaging holes 41a is engaged with the corresponding engaging projection 13d. Next, the lever member 42 is rotated downward in a vertical plane about the mounting shaft 42b. As a result, the hook member 41 is pushed down while being rotated about the connecting shaft 42a in a vertical plane. Thereby, the lid 13 is firmly closed. At the time of opening the cover, an operation is performed in a procedure opposite to this operation.

【0027】図1,図7に示すように、蓋13の上壁の
一角部には、容器内へ突出するボス形状の孔部13aが
形成されている。この孔部13aにはケース内外を連通
する通気孔が形成されている。孔部13aには、フィル
タユニット15のハウジング16の元部16aが外嵌さ
れている。図6,図7に示すように、フィルタユニット
15は、軸線方向の長さが1.5cmほどの小型のユニ
ットである。このフィルタユニット15は、ハウジング
16と、その内部に収納されたフィルタ17とにより構
成されている。
As shown in FIGS. 1 and 7, a boss-shaped hole 13a projecting into the container is formed at one corner of the upper wall of the lid 13. The hole 13a is provided with a ventilation hole communicating between the inside and outside of the case. The base 16a of the housing 16 of the filter unit 15 is fitted in the hole 13a. As shown in FIGS. 6 and 7, the filter unit 15 is a small unit having a length of about 1.5 cm in the axial direction. The filter unit 15 includes a housing 16 and a filter 17 housed therein.

【0028】ハウジング16は、ポリプロピレン製の略
コマ形状をした小型管体であり、上記筒状の元部16a
の先端側に、フィルタ17の収納部を有する円盤状の濾
過部16bと、若干小径な円筒状の先部16cとが順次
連結されている。なお、この先部16cをカットして、
フィルタユニット15の軸線方向の長さをより短くして
もよい。フィルタ17としては、直径13mm、平均孔
径0.5μm(気体の場合0.05μm程度の粒子を濾
過可能)、有効濾過面積0.9cm2、耐圧強度(25
℃時)5.3kgf/cm2(5.3×104Pa)、耐
熱温度60℃の四フッ化エチレン樹脂(PTFE)製の
メンブランフィルタが採用されている。
The housing 16 is a small tubular body having a substantially coma shape made of polypropylene.
A disc-shaped filtering portion 16b having a storage portion for the filter 17 and a slightly small-diameter cylindrical tip portion 16c are sequentially connected to the distal end of the filter. In addition, this tip part 16c is cut,
The axial length of the filter unit 15 may be shorter. The filter 17 has a diameter of 13 mm, an average pore diameter of 0.5 μm (in the case of gas, particles of about 0.05 μm can be filtered), an effective filtration area of 0.9 cm 2 , and a pressure resistance (25%).
A membrane filter of 5.3 kgf / cm 2 (5.3 × 10 4 Pa) at a temperature of 60 ° C. and made of ethylene tetrafluoride resin (PTFE) is employed.

【0029】次に、この第1実施例に係るウェーハケー
ス10の使用方法を説明する。図2〜図4に示すよう
に、ウェーハケース10は、そのケースパーツの洗浄後
に組み立てられる。さらに、蓋13にはフィルタユニッ
ト15が組み付けられている。多数枚のシリコンウェー
ハ11は、本体容器12内に例えばウェーハカセットに
保持された状態で収納される。次いで、ガスケット14
を挟んで蓋13を閉蓋する。これにより、内部のシリコ
ンウェーハ11が良好に密閉される。それから、ウェー
ハケース10は、さらにナイロン(ポリアミド繊維の商
品名)またはポリエチレン製の内袋18と、アルミニウ
ムフィルム製の外袋19(図8参照)とにより、二重に
ラッピングされる。なお、これらの蓋13の閉蓋作業や
両袋18,19による梱包作業は、常圧で行われる。
Next, a method of using the wafer case 10 according to the first embodiment will be described. As shown in FIGS. 2 to 4, the wafer case 10 is assembled after cleaning the case parts. Further, a filter unit 15 is attached to the lid 13. A large number of silicon wafers 11 are stored in the main container 12 while being held in, for example, a wafer cassette. Then, gasket 14
The lid 13 is closed with. Thereby, the inside silicon wafer 11 is sealed well. Then, the wafer case 10 is further double-wrapped by an inner bag 18 made of nylon (trade name of polyamide fiber) or polyethylene and an outer bag 19 made of aluminum film (see FIG. 8). The operation of closing the lid 13 and the operation of packing the two bags 18 and 19 are performed under normal pressure.

【0030】これを航空機に搭載して空輸する。これに
より、離陸後、高度数千〜1万m付近(機内圧0.7〜
0.8atm)を飛行することになる。このとき、気圧
が低い上空において、常圧で密閉されたケース内と、気
圧の低いケース外との間で0.2〜0.3気圧の圧力差
が生じる(着陸時のケース内外の圧力差も同じ)。しか
しながら、ウェーハケース10が0.2気圧の内外の差
圧に耐え得る密閉性を有し、フィルタ17はこの耐圧よ
り低い差圧で気体の流入を許容する。このため、ウェー
ハケース10の変形や、これに伴うケース破損などを解
消することができる。
This is mounted on an aircraft and air-transported. As a result, after takeoff, the altitude is around several thousand to 10,000m (internal pressure 0.7 ~
0.8 atm). At this time, a pressure difference of 0.2 to 0.3 atm occurs between the inside of the case sealed at normal pressure and the outside of the case with low pressure in the sky where the pressure is low (the pressure difference between the inside and outside of the case at the time of landing). The same). However, the wafer case 10 has a sealing property capable of withstanding a differential pressure of 0.2 atm or less, and the filter 17 allows gas to flow in at a differential pressure lower than the withstand pressure. Therefore, the deformation of the wafer case 10 and the damage of the case accompanying the deformation can be eliminated.

【0031】この上空では、陸上よりも気圧が低いた
め、内外袋18,19内の空気が膨れ(図8(a)参
照)、ケース10内の空気も膨張して、その一部がフィ
ルタ17を通して内袋18へ流入する。これにより、ケ
ース内の微細なごみは、フィルタユニット15によりフ
ィルタリングされ、かつ自動的にケース内外の圧力差が
解除される。また、航空機が着陸のために下降して外圧
が上昇すると、フィルタユニット15を通して、その膨
らんでいた内袋18の空気がケース内へ流入し、自動的
にケース内外の圧力差が解除される。これにより、それ
までケース内外に圧力差が生じることで起きていたウェ
ーハケース10の変形を解消することができ、この変形
に伴うウェーハ11の損傷を防止することができる。
In this sky, since the air pressure is lower than that on land, the air in the inner and outer bags 18 and 19 expands (see FIG. 8A), and the air in the case 10 also expands, and a part of the air expands. Through the inner bag 18. As a result, fine dust in the case is filtered by the filter unit 15, and the pressure difference between the inside and outside of the case is automatically released. When the aircraft descends for landing and the external pressure rises, the air in the inflated inner bag 18 flows into the case through the filter unit 15, and the pressure difference between the inside and outside of the case is automatically released. As a result, the deformation of the wafer case 10 caused by the pressure difference between the inside and the outside of the case can be eliminated, and the damage of the wafer 11 due to the deformation can be prevented.

【0032】なお、このとき、内袋18内で浮遊してい
るごみやほこりが、ケース内へ侵入するおそれがある。
しかしながら、フィルタユニット15の内部流路におい
て、このごみ類はフィルタ17により濾過されて除去さ
れる。したがって、ケース外の微細なごみ類がこのケー
ス内に入り込み、ウェーハ11の表面に付着することを
防ぐことができる。また、フィルタ17は、0.05μ
m以上のごみやほこりを99.9%以上濾過することが
できる性能を有している。これにより、ケース内へ入り
込むごみがウェーハ11の表面に付着して、ウェーハ1
1を汚すおそれをほとんど解消することができる。さら
に、密封されている内外の袋18,19は、外圧が上昇
することで、それぞれの内部空気が圧縮されて縮まる
(図8(b)参照)。
At this time, there is a possibility that dirt and dust floating in the inner bag 18 may enter the case.
However, in the internal flow passage of the filter unit 15, the dust is filtered and removed by the filter 17. Therefore, it is possible to prevent fine dust and the like outside the case from entering the case and adhering to the surface of the wafer 11. Also, the filter 17 has a
m has a performance of filtering 99.9% or more of dust and dust. As a result, dust entering the case adheres to the surface of the wafer 11 and the wafer 1
1 can be almost eliminated. Further, the sealed inner and outer bags 18 and 19 are compressed and shrunk by the increase in the external pressure, as shown in FIG. 8B.

【0033】目的地へ着陸し、ケース外が常圧になった
後も、フィルタ17の濾過速度をV/1500(mol
/分)としたので、フィルタユニット15を介して、最
大10分程度でケース内外の圧力が等しくなる。これに
より、ケースの梱包を解く際には、従来手段のように、
所定の押圧治具によりガスケット14をケース内へ押し
込んだり、ガスケット14に連通管を通したり、または
注射器などでケース内へ空気を注入することなく、通常
通り、簡単に蓋13を開蓋することができる。このよう
に、容器本体12,蓋13を作製(射出成形)し、かつ
蓋13にフィルタ17を有するフィルタユニット15を
組み付けただけなので、比較的低コストでこれらの効果
が得られる。
Even after landing at the destination and the pressure outside the case becomes normal pressure, the filtration speed of the filter 17 is kept at V / 1500 (mol
/ Min), the pressure inside and outside the case becomes equal in about 10 minutes at the maximum via the filter unit 15. As a result, when unpacking the case,
The lid 13 is easily opened as usual without pushing the gasket 14 into the case with a predetermined pressing jig, passing a communication pipe through the gasket 14, or injecting air into the case with a syringe or the like. Can be. As described above, the container body 12 and the lid 13 are manufactured (injection molded), and the filter unit 15 having the filter 17 is assembled to the lid 13, so that these effects can be obtained at a relatively low cost.

【0034】次に、図9,図10に基づいて、この発明
の第2実施例に係るウェーハケース20を説明する。図
9はこの発明の第2実施例に係るウェーハケースに用い
られるフィルタユニットの拡大斜視図であり、図10は
フィルタユニットの使用状態の拡大断面図である。図
9,図10に示すように、この第2実施例のウェーハケ
ース20では、フィルタユニットとして、第1実施例の
ものをさらにコンパクト化したフィルタユニット21を
採用し、フィルタユニット21の接触によるウェーハ1
1の損傷のおそれをさらに防止した例である。
Next, a wafer case 20 according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 9 is an enlarged perspective view of a filter unit used in a wafer case according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 10 is an enlarged sectional view of a use state of the filter unit. As shown in FIGS. 9 and 10, in the wafer case 20 of the second embodiment, a filter unit 21 which is a more compact version of the first embodiment is employed as a filter unit, and the wafer is formed by contact of the filter unit 21. 1
This is an example in which the possibility of damage of the first embodiment is further prevented.

【0035】フィルタユニット21は、2枚の摘まみ片
22を有する軸線方向の長さが約2cmの2段筒状のハ
ウジング23内に、小径なフィルタ24を収納したもの
である。ハウジング23は、底部にフィルタ24が収ま
る比較的大径な筒状の元部23aと、これより若干小径
な筒状の先部23bとが連結されている。なお、この先
部23bおよび摘まみ片22をカットして、よりコンパ
クトにしてもよい。フィルタ24としては、直径4m
m、平均孔径0.45μm(気体の場合は0.05μm
程度まで濾過可能)、有効濾過面積0.1cm2、耐熱
温度60℃の四フッ化エチレン樹脂(PTFE)メンブ
ランフィルタが採用されている。なお、その他の構成、
作用および効果は第1実施例と同様であり、説明を省略
する。
The filter unit 21 has a small-diameter filter 24 housed in a two-stage cylindrical housing 23 having two knobs 22 and having a length of about 2 cm in the axial direction. In the housing 23, a relatively large-diameter cylindrical base portion 23a in which the filter 24 is accommodated at the bottom portion and a slightly smaller-diameter cylindrical tip portion 23b are connected. The tip 23b and the knob piece 22 may be cut to make it more compact. 4 m in diameter as the filter 24
m, average pore diameter 0.45 μm (0.05 μm for gas
To the extent possible), an effective filtration area of 0.1 cm 2 , and a heat-resistant temperature of 60 ° C., a membrane filter made of ethylene tetrafluoride (PTFE). In addition, other configurations,
The operation and effect are the same as those of the first embodiment, and the description is omitted.

【0036】ここで、実際に、4種類のフィルタユニッ
ト(1個)を個別に取り付けたウェーハケース(実施例
1〜実施例4)と、フィルタを使用していないウェーハ
ケース(比較例1)にウェーハを収納し、次いでこのケ
ースを25cmHgまで減圧した時、ケース内外の差圧
を比較した実験について説明する。実施例1〜実施例4
および比較例1において、ウェーハケースとしては、内
容量15000ccのポリカーボネート製の蓋およびポ
リプロピレン製の容器本体からなるウェーハケースを採
用した。
Here, actually, a wafer case (Examples 1 to 4) in which four types of filter units (one) are individually mounted and a wafer case (Comparative Example 1) in which no filter is used are provided. A description will be given of an experiment in which a wafer is housed and then the case is evacuated to 25 cmHg, and the differential pressure between the inside and outside of the case is compared. Example 1 to Example 4
In Comparative Example 1, as the wafer case, a wafer case having a 15000 cc content polycarbonate cover and a polypropylene container main body was employed.

【0037】また、実施例1では、ゲルマンサイエンス
社製#4553(テフロンPTFE製、テフロンは四フ
ッ化エチレン樹脂の商品名),有効濾過面積0.8cm
2,0.05μm以上のごみ類を99.9%以上濾過す
ることができるフィルタユニットを採用した。実施例2
では、アドバンテック社製の#13CP045AN(セ
ルロースアセテート製),有効濾過面積0.8cm2
0.05μm以上のごみ類を99.9%以上濾過するこ
とができるフィルタユニットを採用した。実施例3で
は、ゲルマンサイエンス社製の#4457(ポリフッ化
ビニリデン製),有効濾過面積0.8cm2,0.05
μm以上のごみ類を99.9%以上濾過することができ
るフィルタユニットを採用した。実施例4では、ゲルマ
ンサイエンス社製の#4426(ナイロン製),有効濾
過面積0.8cm2,0.05μm以上のごみ類を9
9.9%以上濾過することができるフィルタユニットを
採用した。その結果を、図11の減圧下でのウェーハケ
ース用フィルタの材質とケース内圧力との関係のグラフ
に示す。図11のグラフから明らかなように、フィルタ
の素材的には、実施例1のテフロンPTFEが、実施例
2〜実施例4の他の素材より濾過速度が速かった。
Further, in Example 1, # 4553 (manufactured by Teflon PTFE, Teflon is a trade name of ethylene tetrafluoride resin) manufactured by Germanic Science, an effective filtration area of 0.8 cm
2. A filter unit capable of filtering 99.9% or more of wastes of 0.05 μm or more was adopted. Example 2
Then, Advantech # 13CP045AN (manufactured by cellulose acetate), effective filtration area 0.8 cm 2 ,
A filter unit capable of filtering 99.9% or more of trash having a size of 0.05 μm or more was employed. In Example 3, # 4457 (manufactured by polyvinylidene fluoride) manufactured by German Science Inc., effective filtration area: 0.8 cm 2 , 0.05
A filter unit capable of filtering 99.9% or more of waste having a size of μm or more was employed. In Example 4, garbage having a size of # 4426 (manufactured by Nylon), an effective filtration area of 0.8 cm 2 , and 0.05 μm or more was manufactured by Germanic Science Co., Ltd.
A filter unit capable of filtering 9.9% or more was employed. The results are shown in the graph of FIG. 11 showing the relationship between the material of the wafer case filter and the pressure in the case under reduced pressure. As is clear from the graph of FIG. 11, as for the material of the filter, the filtration speed of the Teflon PTFE of Example 1 was higher than that of the other materials of Examples 2 to 4.

【0038】また、図12は空輸を想定したときのケー
ス内外の圧力の時間的変化を示している。この図に示す
ように、上記図1〜図4に示す実施例に係るフィルタ付
きのケース(図中△)は、環境圧力の変化(×)にわず
かな時間遅れで追従することができる。なお、このウェ
ーハケースについてフィルタを付けていない場合(○)
は環境の圧力変化に追従することができない。
FIG. 12 shows a temporal change in pressure inside and outside the case when air transportation is assumed. As shown in this figure, the case with the filter according to the embodiment shown in FIGS. 1 to 4 (△ in the figures) can follow a change (×) in the environmental pressure with a slight time delay. When no filter is attached to this wafer case (○)
Cannot follow changes in environmental pressure.

【0039】[0039]

【発明の効果】この発明では、ウェーハケースの内外に
圧力差が生じた場合、ケースに設けられたフィルタを介
して、ケース内外において、圧力が大きい方から小さい
方へと空気が流れる。この結果、自動的にこの圧力差を
解除することができる。しかも、大気中の微細なごみな
どを、フィルタの通過時に濾過するようにしたので、圧
力差の解除に際して、従来手段の欠点であった大気中の
ごみがケース内に流入して、ウェーハの表面に付着して
これを汚したり、また従来手段のように、パッキング材
に刺された注射器の注射針などで、ウェーハを損傷する
おそれがない。しかも、ウェーハケースにフィルタを取
り付けただけなので、比較的低コストでこれらの効果を
有するウェーハケースを製造することができる。また、
フィルタとして、0.05μm以上のごみやほこりが9
9.9%以上濾過できる細かいものを採用したので、ケ
ース内外の圧力差を解除する際、大気中のかなり微細な
ごみまで濾過することができる。
According to the present invention, when a pressure difference occurs between the inside and the outside of the wafer case, air flows from the larger pressure to the smaller pressure inside and outside the case via the filter provided in the case. As a result, the pressure difference can be automatically released. Moreover, since fine dust in the air is filtered when passing through the filter, when releasing the pressure difference, the dust in the air, which was a drawback of the conventional means, flows into the case and flows into the surface of the wafer. There is no danger of sticking and contaminating the wafer or damaging the wafer with a needle of a syringe pierced by a packing material as in conventional means. Moreover, since the filter is simply attached to the wafer case, a wafer case having these effects can be manufactured at a relatively low cost. Also,
9 μm or more of dust and dust
Since a fine filter capable of filtering by 9.9% or more is employed, when the pressure difference between the inside and outside of the case is released, it is possible to filter the fine dust in the atmosphere.

【0040】さらに、請求項3,4に記載の発明では、
航空機輸送の実態に合わせて比較的短時間でケース内外
の圧力差を解除することができる。
Further, according to the third and fourth aspects of the present invention,
The pressure difference between the inside and outside of the case can be released in a relatively short time in accordance with the actual condition of the aircraft transportation.

【0041】さらにまた、請求項5に記載の発明では、
フィルタとして、四フッ化エチレン樹脂製のメンブラン
フィルタを採用したので、例えばナイロン,セルロース
アセテートなどの他の合成樹脂のものに比べて気体の濾
過速度が速い。
Furthermore, in the invention according to claim 5,
Since a membrane filter made of a tetrafluoroethylene resin is used as the filter, the gas filtration rate is higher than that of other synthetic resins such as nylon and cellulose acetate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の第1実施例に係るウェーハケースの
全体斜視図である。
FIG. 1 is an overall perspective view of a wafer case according to a first embodiment of the present invention.

【図2】この発明の第1実施例に係るウェーハケースの
正面図である。
FIG. 2 is a front view of the wafer case according to the first embodiment of the present invention.

【図3】この発明の第1実施例に係るウェーハケースの
平面図である。
FIG. 3 is a plan view of the wafer case according to the first embodiment of the present invention.

【図4】この発明の第1実施例に係る閉蓋中における図
1のA−A拡大断面図である。
FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 1 when the lid is closed according to the first embodiment of the present invention.

【図5】(a)は容器本体と蓋との接合部の構造を示す
部分拡大断面図である。(b)はガスケットの圧縮変形
を説明するための略図である。
FIG. 5A is a partially enlarged cross-sectional view showing a structure of a joint between a container body and a lid. (B) is a schematic diagram for explaining compression deformation of the gasket.

【図6】この発明の第1実施例に係るフィルタユニット
の拡大斜視図である。
FIG. 6 is an enlarged perspective view of the filter unit according to the first embodiment of the present invention.

【図7】この発明の第1実施例に係るフィルタユニット
の使用状態の拡大断面図である。
FIG. 7 is an enlarged sectional view of a use state of the filter unit according to the first embodiment of the present invention.

【図8】(a)はこの発明の第1実施例に係る上空飛行
中の比較的密閉性が良いウェーハケースの説明図であ
る。(b)はこの発明の第1実施例に係る空輸後の状態
を示す説明図である。
FIG. 8 (a) is an explanatory view of a wafer case having relatively good airtightness during flight over the air according to the first embodiment of the present invention. (B) is an explanatory view showing a state after airlift according to the first embodiment of the present invention.

【図9】この発明の第2実施例に係るウェーハケースに
用いられるフィルタユニットの拡大斜視図である。
FIG. 9 is an enlarged perspective view of a filter unit used for a wafer case according to a second embodiment of the present invention.

【図10】この発明の第2実施例に係るフィルタユニッ
トの使用状態の拡大断面図である。
FIG. 10 is an enlarged sectional view of a use state of a filter unit according to a second embodiment of the present invention.

【図11】減圧下でのウェーハケース用フィルタの材質
とケース内圧力との関係のグラフである。
FIG. 11 is a graph showing the relationship between the material of the wafer case filter and the pressure inside the case under reduced pressure.

【図12】空輸を想定したときのケース内外の圧力の時
間的変化のグラフである。
FIG. 12 is a graph showing temporal changes in pressure inside and outside the case when air transportation is assumed.

【図13】(a)は従来手段に係る比較的密閉性が良い
ウェーハケースの空輸前の状態を示す説明図である。
(b)は同上空飛行中の比較的密閉性が良いウェーハケ
ースの説明図である。(c)は同空輸後の状態を示す説
明図である。
FIG. 13A is an explanatory view showing a state before the air transport of a wafer case having relatively good sealing performance according to the conventional means.
(B) is an explanatory view of a wafer case having relatively good airtightness during the flight above. (C) is an explanatory view showing a state after the air transportation.

【図14】(a)は他の従来手段に係る比較的密閉性が
悪いウェーハケースの空輸前の状態を示す説明図であ
る。(b)は同上空飛行中の比較的密閉性が悪いウェー
ハケースの説明図である。(c)は同空輸後の状態を示
す説明図である。
FIG. 14 (a) is an explanatory view showing a state of a relatively poorly sealed wafer case according to another conventional means before air transport. (B) is an explanatory view of a wafer case having relatively poor airtightness during the flight above. (C) is an explanatory view showing a state after the air transportation.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 ウェーハケース、 11 ウェーハ、 12 容器本体、 13 蓋、 14 ガスケット(パッキング材)、 15 フィルタユニット、 16 ハウジング、 17 フィルタ。 Reference Signs List 10 wafer case, 11 wafer, 12 container body, 13 lid, 14 gasket (packing material), 15 filter unit, 16 housing, 17 filter.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ウェーハが収納される容器本体と、 この容器本体を密閉する蓋と、 容器本体および蓋の少なくともいずれか一方の外壁に取
り付けられたフィルタとを備え、 このウェーハケースの外圧がその内圧より0.05〜
0.2気圧だけ低い場合にも上記蓋と容器本体との間の
密閉性が保持されるウェーハケースにあって、 このフィルタを介してのみウェーハケース内外の気体の
流通を可能とするとともに、 このフィルタは、0.05μm以上の大きさの微細なご
み類を99.9%以上濾過することができるウェーハケ
ース。
1. A container main body in which a wafer is stored, a lid for hermetically sealing the container main body, and a filter attached to at least one of the outer walls of the container main body and the lid. 0.05 to internal pressure
Even in the case where the airtightness is maintained between the lid and the container body even when the pressure is low by 0.2 atm, the gas inside and outside the wafer case can be circulated only through the filter. The filter is a wafer case capable of filtering 99.9% or more of fine dust having a size of 0.05 μm or more.
【請求項2】 上記ウェーハケースが0.05〜0.2
気圧の差圧での密閉性を保持するとき、この差圧より小
さい差圧がウェーハケース内外に生じたとき気体が上記
フィルタを通って流出入する請求項1に記載のウェーハ
ケース。
2. The method according to claim 1, wherein the wafer case is 0.05 to 0.2.
2. The wafer case according to claim 1, wherein a gas flows out and in through the filter when a pressure difference smaller than the pressure difference is generated inside and outside the wafer case when the airtightness is maintained at the pressure difference of the atmospheric pressure.
【請求項3】 ウェーハケースの容積をVリットルとし
たとき、上記フィルタは、V/1500(mol/分)
以上の値で気体の流出入を許容する請求項1または請求
項2に記載のウェーハケース。
3. When the volume of the wafer case is V liter, the filter is V / 1500 (mol / min).
3. The wafer case according to claim 1, wherein the gas is allowed to flow in and out at the above values.
【請求項4】 上記ウェーハケースの外圧が低下すると
き、この外圧の低下に対応してウェーハケースの内圧も
低下し、10分程度の遅れで内外圧が一致する請求項1
〜請求項3のいずれか1項に記載のウェーハケース。
4. When the external pressure of the wafer case decreases, the internal pressure of the wafer case also decreases in accordance with the decrease of the external pressure, and the internal and external pressures coincide with a delay of about 10 minutes.
The wafer case according to claim 1.
【請求項5】 上記フィルタが、四フッ化エチレン樹脂
製のメンブランフィルタである請求項1〜請求項4のい
ずれか1項に記載のウェーハケース。
5. The wafer case according to claim 1, wherein the filter is a membrane filter made of tetrafluoroethylene resin.
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