JPH1152394A - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents
液晶表示装置及びその製造方法Info
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- JPH1152394A JPH1152394A JP20312597A JP20312597A JPH1152394A JP H1152394 A JPH1152394 A JP H1152394A JP 20312597 A JP20312597 A JP 20312597A JP 20312597 A JP20312597 A JP 20312597A JP H1152394 A JPH1152394 A JP H1152394A
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】ＴＦＴ液晶表示装置の引き出し配線とシール部
とＣＦブラックとのオーバーラップ部分で紫外線硬化樹
脂シールの硬化不良が発生するのを防ぐ。 【解決手段】引き出し配線とシール部とのオーバーラッ
プ部分に対応する位置のＴＦＴ基板引き出し配線を透明
電極とする。これにより、オーバーラップ部分が遮光材
料であることによって生じていた光硬化性樹脂シールの
硬化不良を解消し、実用的強度を有したＴＦＴ液晶表示
装置を得られる。
とＣＦブラックとのオーバーラップ部分で紫外線硬化樹
脂シールの硬化不良が発生するのを防ぐ。 【解決手段】引き出し配線とシール部とのオーバーラッ
プ部分に対応する位置のＴＦＴ基板引き出し配線を透明
電極とする。これにより、オーバーラップ部分が遮光材
料であることによって生じていた光硬化性樹脂シールの
硬化不良を解消し、実用的強度を有したＴＦＴ液晶表示
装置を得られる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置及び
その製造方法に関し、特に二枚の基板のシール部分のＵ
Ｖ硬化向上を目指した液晶表示装置及びその製造方法に
関する。
その製造方法に関し、特に二枚の基板のシール部分のＵ
Ｖ硬化向上を目指した液晶表示装置及びその製造方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の薄膜トランジスタを使ったアクテ
ィブマトリクス型液晶表示装置の周辺部の概略の断面図
を図７に示す。金属配線５を有するＴＦＴ基板１とＣＦ
ブラック４を有するＣＦ基板２とをシール部３により接
合した構造をしている。この構造の欠点は、シール部３
に光硬化性樹脂を使用する場合、これを硬化させるため
に必要なＵＶ光９がＣＦブラック４と金属配線５によっ
て遮られ、配線パターンの下でシールの硬化不良を引き
起こすことにより、その部分でリークが発生するなど信
頼性上の問題が生じることである。
ィブマトリクス型液晶表示装置の周辺部の概略の断面図
を図７に示す。金属配線５を有するＴＦＴ基板１とＣＦ
ブラック４を有するＣＦ基板２とをシール部３により接
合した構造をしている。この構造の欠点は、シール部３
に光硬化性樹脂を使用する場合、これを硬化させるため
に必要なＵＶ光９がＣＦブラック４と金属配線５によっ
て遮られ、配線パターンの下でシールの硬化不良を引き
起こすことにより、その部分でリークが発生するなど信
頼性上の問題が生じることである。
【０００３】その理由は、実際の製品においては、ＣＦ
ブラック４と金属配線５の隙間は約５μｍであるのに対
し、金属配線５の線幅は５０μｍ程であり、隙間から入
射したＵＶ光は配線パターンの中央部に達する前に著し
く減衰してしまうからである。
ブラック４と金属配線５の隙間は約５μｍであるのに対
し、金属配線５の線幅は５０μｍ程であり、隙間から入
射したＵＶ光は配線パターンの中央部に達する前に著し
く減衰してしまうからである。
【０００４】この点に関する改善として特開平８−８７
０１９では、パネルをＵＶ光源と光反射部材の間に入れ
てパネルの表・裏両面からＵＶ光が当たるようにしたＵ
Ｖ照射装置が示されている。又、特開平８−８７０２０
ではＵＶ光源側に光散乱部材をいれてＣＦブラックに斜
めに光を当てて影の部分も光が当たるようにしたＵＶ照
射装置が示されている。又、特開平５−１９２９３３で
は光硬化性樹脂内に照射光を反射もしくは屈折させるた
めの微少個体粒子を予め混入分散させ、影の部分にもＵ
Ｖ光が当たるようにした光硬化性樹脂が提示されてい
る。
０１９では、パネルをＵＶ光源と光反射部材の間に入れ
てパネルの表・裏両面からＵＶ光が当たるようにしたＵ
Ｖ照射装置が示されている。又、特開平８−８７０２０
ではＵＶ光源側に光散乱部材をいれてＣＦブラックに斜
めに光を当てて影の部分も光が当たるようにしたＵＶ照
射装置が示されている。又、特開平５−１９２９３３で
は光硬化性樹脂内に照射光を反射もしくは屈折させるた
めの微少個体粒子を予め混入分散させ、影の部分にもＵ
Ｖ光が当たるようにした光硬化性樹脂が提示されてい
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の技術において、特開平８−８７０１９に提案されて
いる方法は、予め２枚のガラス基板の間に接着剤を挟み
込んで一体形状としたワークに対し、ＣＦブラック側か
らＵＶ光を当ててワークを透過したＵＶ光を光反射部材
で反射させて、この反射したＵＶ光をＴＦＴ基板側から
当てるものであり、ＣＦブラック側から入射するＵＶ光
をＣＦブラックが遮ることについては回避出来てもＴＦ
Ｔ基板に存在する金属配線パターンによる遮光に対して
の効果は無いため配線パターン下の部分の光硬化性樹脂
は硬化しない。
来の技術において、特開平８−８７０１９に提案されて
いる方法は、予め２枚のガラス基板の間に接着剤を挟み
込んで一体形状としたワークに対し、ＣＦブラック側か
らＵＶ光を当ててワークを透過したＵＶ光を光反射部材
で反射させて、この反射したＵＶ光をＴＦＴ基板側から
当てるものであり、ＣＦブラック側から入射するＵＶ光
をＣＦブラックが遮ることについては回避出来てもＴＦ
Ｔ基板に存在する金属配線パターンによる遮光に対して
の効果は無いため配線パターン下の部分の光硬化性樹脂
は硬化しない。
【０００６】また、特開平８−８７０２０に提案されて
いる方法は、上記のワークに対してＣＦブラック側のワ
ーク近傍に光拡散部材を配置して、ＣＦブラックに斜め
にＵＶ光を当てて影の部分に届かせようとしたものであ
るが、前記のように５μｍの隙間から斜めに入射した光
では減衰が著しいため配線パターン下の部分の光硬化性
樹脂は実用的な強度までの硬化を得ることが出来ない。
いる方法は、上記のワークに対してＣＦブラック側のワ
ーク近傍に光拡散部材を配置して、ＣＦブラックに斜め
にＵＶ光を当てて影の部分に届かせようとしたものであ
るが、前記のように５μｍの隙間から斜めに入射した光
では減衰が著しいため配線パターン下の部分の光硬化性
樹脂は実用的な強度までの硬化を得ることが出来ない。
【０００７】また、特開平５−１９２９３３に提案され
ている方法は、紫外線硬化樹脂内に、照射光を反射もし
くは屈折させるための微少個体粒子群を分散させること
によって紫外線が当たりにくい部分にも到達させようと
したものであるが、液晶表示装置のような間口が狭く奥
行きの長い形状の部分に対するものとしては、やはり減
衰が大きく光硬化性樹脂は実用的な強度までの硬化を得
ることが出来ない。
ている方法は、紫外線硬化樹脂内に、照射光を反射もし
くは屈折させるための微少個体粒子群を分散させること
によって紫外線が当たりにくい部分にも到達させようと
したものであるが、液晶表示装置のような間口が狭く奥
行きの長い形状の部分に対するものとしては、やはり減
衰が大きく光硬化性樹脂は実用的な強度までの硬化を得
ることが出来ない。
【０００８】本発明の目的は、金属配線を有するＴＦＴ
液晶表示装置において、光硬化性樹脂を使用したシール
剤が、金属配線とＣＦブラックマトリクスとの間で光強
度不足による硬化不良を起こしていた問題を解消し、実
用的な信頼性強度を保った製品を提供することにある。
液晶表示装置において、光硬化性樹脂を使用したシール
剤が、金属配線とＣＦブラックマトリクスとの間で光強
度不足による硬化不良を起こしていた問題を解消し、実
用的な信頼性強度を保った製品を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、画素マトリク
スが形成されている第一の基板とカラーフィルターが形
成されている第二の基板を、その周辺部をシール材を用
いて貼り合わせて、その内部に液晶を封入して成る液晶
表示装置において、前記第一の基板の周辺部に配置され
る電極端子へ引き出される配線と前記シールの部分とが
オーバーラップする部分の前記配線部分を透明導電膜と
してＵＶ光が効果的に光硬化性樹脂シールへ照射できる
様にしたものである。
スが形成されている第一の基板とカラーフィルターが形
成されている第二の基板を、その周辺部をシール材を用
いて貼り合わせて、その内部に液晶を封入して成る液晶
表示装置において、前記第一の基板の周辺部に配置され
る電極端子へ引き出される配線と前記シールの部分とが
オーバーラップする部分の前記配線部分を透明導電膜と
してＵＶ光が効果的に光硬化性樹脂シールへ照射できる
様にしたものである。
【００１０】なお、前記オーバーラップ部分以外の前記
配線は金属として配線抵抗による電圧低下を最小限に抑
えるようにしてもよいし、前記オーバーラップ部分以外
の前記配線は金属と透明電極膜の２層として電圧低下を
最小限に抑えるようにしてもよい。
配線は金属として配線抵抗による電圧低下を最小限に抑
えるようにしてもよいし、前記オーバーラップ部分以外
の前記配線は金属と透明電極膜の２層として電圧低下を
最小限に抑えるようにしてもよい。
【００１１】本発明は、前記オーバーラップ部分の前記
配線に穴又はスリットを形成してＵＶ光が光硬化性樹脂
シールへ照射できる様にしたものである。前記穴又はス
リット上に透明電極膜を形成して電圧低下を最小限に抑
えるようにしてもよい。
配線に穴又はスリットを形成してＵＶ光が光硬化性樹脂
シールへ照射できる様にしたものである。前記穴又はス
リット上に透明電極膜を形成して電圧低下を最小限に抑
えるようにしてもよい。
【００１２】また、本発明によれば、フォトリソグラフ
法で配線を形成するに当たってシール部とオーバーラッ
プする部分も金属を除去する工程と、透明導電膜を形成
する工程と、フォトリソグラフ法で配線及びオーバーラ
ップ部上に透明導電膜を形成する工程とを含む液晶表示
装置の製造方法が得られる。
法で配線を形成するに当たってシール部とオーバーラッ
プする部分も金属を除去する工程と、透明導電膜を形成
する工程と、フォトリソグラフ法で配線及びオーバーラ
ップ部上に透明導電膜を形成する工程とを含む液晶表示
装置の製造方法が得られる。
【００１３】さらに、本発明によれば、画素マトリクス
が形成されている第一の基板とカラーフィルタが形成さ
れている第二の基板を、その周辺部をシール剤を用いて
貼り合わせて、その内部に液晶を封入して液晶表示装置
を製造する方法において、前記第一の基板の周辺部に配
置される電極端子へ引き出される配線と前記シールの部
分とがオーバーラップする部分に対応する前記第二の基
板のブラックマトリクス部分に光透過用の窓を形成して
ＵＶ光が効果的に光硬化性樹脂シールへ照射できる様に
した液晶表示装置が得られる。
が形成されている第一の基板とカラーフィルタが形成さ
れている第二の基板を、その周辺部をシール剤を用いて
貼り合わせて、その内部に液晶を封入して液晶表示装置
を製造する方法において、前記第一の基板の周辺部に配
置される電極端子へ引き出される配線と前記シールの部
分とがオーバーラップする部分に対応する前記第二の基
板のブラックマトリクス部分に光透過用の窓を形成して
ＵＶ光が効果的に光硬化性樹脂シールへ照射できる様に
した液晶表示装置が得られる。
【００１４】
【発明の実施の形態】次に本発明について図面を参照し
て詳細に説明する。図１は本発明の第一の実施の形態の
液晶表示装置の周辺部を示す断面図である。同図におい
てＣＦ基板２上に形成されたＣＦブラック４により遮光
されたシール部３に対向する部分について、ＴＦＴ基板
１上に形成された金属配線５がオーバーラップしないよ
うにパターニングを行い、同時に形成された端子取り出
し側金属配線１０との間をＩＴＯ（透明導電膜，酸化イ
ンジウムスズ）配線６で接続しＵＶ光９がこのＩＴＯ配
線６を透過してシール部３へ達する構造としたものであ
る。
て詳細に説明する。図１は本発明の第一の実施の形態の
液晶表示装置の周辺部を示す断面図である。同図におい
てＣＦ基板２上に形成されたＣＦブラック４により遮光
されたシール部３に対向する部分について、ＴＦＴ基板
１上に形成された金属配線５がオーバーラップしないよ
うにパターニングを行い、同時に形成された端子取り出
し側金属配線１０との間をＩＴＯ（透明導電膜，酸化イ
ンジウムスズ）配線６で接続しＵＶ光９がこのＩＴＯ配
線６を透過してシール部３へ達する構造としたものであ
る。
【００１５】ここでＩＴＯ配線６のみで端子取り出し側
金属配線１０と金属配線５とを接続する領域は、ＩＴＯ
配線６の電気抵抗による駆動電圧低下を抑えるためにシ
ール部３の幅全体を含んだ必要最小限の部分とするのが
望ましいが、実駆動上の障害にならない範囲であれば例
えば端子取り出し側金属配線１０を形成せず、ＩＴＯ配
線６のみとした構造も可能となる。
金属配線１０と金属配線５とを接続する領域は、ＩＴＯ
配線６の電気抵抗による駆動電圧低下を抑えるためにシ
ール部３の幅全体を含んだ必要最小限の部分とするのが
望ましいが、実駆動上の障害にならない範囲であれば例
えば端子取り出し側金属配線１０を形成せず、ＩＴＯ配
線６のみとした構造も可能となる。
【００１６】図２はその平面図である。ここではＴＦＴ
基板１側から直視した図を示す。ここでＣＦ基板２のＣ
Ｆブラック４はシール部３とオーバーラップしていて図
の裏面側即ちＣＦ側からはシール部３にＵＶ光を当てる
ことは出来ない。一方ＴＦＴ基板側では、金属配線５と
端子取り出し側金属配線１０間はＩＴＯ配線６としてシ
ール部３にＵＶ光を当てる際に障害の無いような構造と
している。
基板１側から直視した図を示す。ここでＣＦ基板２のＣ
Ｆブラック４はシール部３とオーバーラップしていて図
の裏面側即ちＣＦ側からはシール部３にＵＶ光を当てる
ことは出来ない。一方ＴＦＴ基板側では、金属配線５と
端子取り出し側金属配線１０間はＩＴＯ配線６としてシ
ール部３にＵＶ光を当てる際に障害の無いような構造と
している。
【００１７】図３（ａ）〜（ｄ）は本発明における配線
形成工程を示す図である。最初に（ａ）に示すようにＴ
ＦＴ基板１上に金属膜３１を成膜する。次に（ｂ）に示
すように金属膜３１をパターニングする。この時シール
部３とオーバーラップする部分は予め間を開けておく。
次に（ｃ）に示すようにＩＴＯ膜３２を成膜する。
形成工程を示す図である。最初に（ａ）に示すようにＴ
ＦＴ基板１上に金属膜３１を成膜する。次に（ｂ）に示
すように金属膜３１をパターニングする。この時シール
部３とオーバーラップする部分は予め間を開けておく。
次に（ｃ）に示すようにＩＴＯ膜３２を成膜する。
【００１８】最後に（ｄ）に示すようにＩＴＯ膜をパタ
ーニングしＩＴＯ配線６を形成する。この例ではＩＴＯ
配線６は、金属電極５上と端子取り出し側電極１０上全
面に形成したが、ＩＴＯ配線は最低限金属電極５と端子
取り出し側電極１０間を接続できるように形成してもよ
い。以上の工程手順は通常のＴＦＴ素子形成フロー内で
実現可能であり、本発明の工程についてはフォトマスク
の形成のみで実現される。
ーニングしＩＴＯ配線６を形成する。この例ではＩＴＯ
配線６は、金属電極５上と端子取り出し側電極１０上全
面に形成したが、ＩＴＯ配線は最低限金属電極５と端子
取り出し側電極１０間を接続できるように形成してもよ
い。以上の工程手順は通常のＴＦＴ素子形成フロー内で
実現可能であり、本発明の工程についてはフォトマスク
の形成のみで実現される。
【００１９】図４は本発明の第二の実施の形態を示す平
面図である。この実施の形態においては、シール部３と
金属配線５とのオーバーラップする部分にスリット７を
設け、配線外端及びスリット７部分から入射した斜め方
向のＵＶ光が、線幅８で示した金属配線とＣＦブラック
４との間にあるシール部３の紫外線硬化樹脂に対し多重
反射等により到達する構造としている。
面図である。この実施の形態においては、シール部３と
金属配線５とのオーバーラップする部分にスリット７を
設け、配線外端及びスリット７部分から入射した斜め方
向のＵＶ光が、線幅８で示した金属配線とＣＦブラック
４との間にあるシール部３の紫外線硬化樹脂に対し多重
反射等により到達する構造としている。
【００２０】本実施の形態は、第一の実施の形態で生じ
るＩＴＯ接合部での電気抵抗による電圧ダウンの緩和を
目的としたものであり、この意味からスリット７へのＩ
ＴＯ形成は第一の実施の形態と同様に実施したほうが望
ましい。この第二の実施の形態においては、スリット７
の幅と線幅８の寸法を電気抵抗と紫外線硬化樹脂へのＵ
Ｖ光到達度の兼ね合いを考慮した上で決定すべきもので
ある。但し第二の実施の形態においては、シール剤の硬
化強度は原理的に第一の実施の形態より劣るため、通常
の駆動条件下では第一の実施の形態のほうが優る。ま
た、スリット部のパターニング不良が寸法精度的に発生
し易くなるため、歩留まり上も第一の実施形態のほうが
よい。なお、この実施の形態では金属配線にスリットを
設ける場合を示したが、スリットの代わりに丸や４角の
穴を設けてもよい。
るＩＴＯ接合部での電気抵抗による電圧ダウンの緩和を
目的としたものであり、この意味からスリット７へのＩ
ＴＯ形成は第一の実施の形態と同様に実施したほうが望
ましい。この第二の実施の形態においては、スリット７
の幅と線幅８の寸法を電気抵抗と紫外線硬化樹脂へのＵ
Ｖ光到達度の兼ね合いを考慮した上で決定すべきもので
ある。但し第二の実施の形態においては、シール剤の硬
化強度は原理的に第一の実施の形態より劣るため、通常
の駆動条件下では第一の実施の形態のほうが優る。ま
た、スリット部のパターニング不良が寸法精度的に発生
し易くなるため、歩留まり上も第一の実施形態のほうが
よい。なお、この実施の形態では金属配線にスリットを
設ける場合を示したが、スリットの代わりに丸や４角の
穴を設けてもよい。
【００２１】次に本発明の第三の実施の形態について説
明する。図５はその断面図である。この実施の形態はＣ
Ｆ側のブラックマトリクスに対してシール部及びＴＦＴ
基板側配線とオーバーラップする部分にＵＶ光を透過す
る窓を設けたものである（以下「ＢＭ窓」と称す）。
明する。図５はその断面図である。この実施の形態はＣ
Ｆ側のブラックマトリクスに対してシール部及びＴＦＴ
基板側配線とオーバーラップする部分にＵＶ光を透過す
る窓を設けたものである（以下「ＢＭ窓」と称す）。
【００２２】図５に示すように、ＣＦブラック４のシー
ル部３と金属配線５とのオーバーラップする部分につい
てＢＭ窓１１を設け、配線外端及びＢＭ窓１１部分から
入射した斜め方向のＵＶ光がシール部３の紫外線硬化樹
脂に対し多重反射等により到達する構造としている。
ル部３と金属配線５とのオーバーラップする部分につい
てＢＭ窓１１を設け、配線外端及びＢＭ窓１１部分から
入射した斜め方向のＵＶ光がシール部３の紫外線硬化樹
脂に対し多重反射等により到達する構造としている。
【００２３】図６はその平面図である。この場合はＴＦ
Ｔ基板側の配線パターンは従来通りで良く、電圧降下に
ついての考慮は不要であるが、ＵＶ光を素子の表裏両方
から照射する必要があるのとＣＦ，ＴＦＴ両方のパター
ン精度さらに両基板の重ね合わせ精度が要求されること
になる。
Ｔ基板側の配線パターンは従来通りで良く、電圧降下に
ついての考慮は不要であるが、ＵＶ光を素子の表裏両方
から照射する必要があるのとＣＦ，ＴＦＴ両方のパター
ン精度さらに両基板の重ね合わせ精度が要求されること
になる。
【００２４】
【発明の効果】以上説明した本発明の効果は、ＴＦＴ基
板引き出し配線とＣＦ基板のＣＦブラックマトリクスと
の間に挟まれた部分の紫外線硬化樹脂シールを実用的強
度に硬化させられることである。その理由は、引き出し
配線とシールとがオーバーラップする部分に紫外線を透
過する導電材料にするか又は配線部分に穴又はスリット
を設け、あるいは引き出し配線とシールとがオーバーラ
ップする部分のＣＦブラックマトリクスのオーバーラッ
プ部分に紫外線を透過する窓となるパターンを設けたか
らである。
板引き出し配線とＣＦ基板のＣＦブラックマトリクスと
の間に挟まれた部分の紫外線硬化樹脂シールを実用的強
度に硬化させられることである。その理由は、引き出し
配線とシールとがオーバーラップする部分に紫外線を透
過する導電材料にするか又は配線部分に穴又はスリット
を設け、あるいは引き出し配線とシールとがオーバーラ
ップする部分のＣＦブラックマトリクスのオーバーラッ
プ部分に紫外線を透過する窓となるパターンを設けたか
らである。
【図１】本発明の第１の実施の形態を示す断面図であ
る。
る。
【図２】本発明の第１の実施の形態を示す平面図であ
る。
る。
【図３】（ａ）〜（ｄ）は本発明の第１の実施の形態の
製造工程を示す斜視図である。
製造工程を示す斜視図である。
【図４】（ａ），（ｂ）は本発明の第２の実施の形態を
示す平面図及びスリット部分拡大図である。
示す平面図及びスリット部分拡大図である。
【図５】本発明の第３の実施の形態を示す断面図であ
る。
る。
【図６】本発明の第３の実施の形態を示す断面図であ
る。
る。
【図７】従来の技術を示す断面図である。
１ ＴＦＴ基板 ２ ＣＦ基板 ３ シール部 ４ ＣＦブラック ５ 金属配線 ６ ＩＴＯ配線 ７ スリット ８ 線幅 ９ ＵＶ光 １０ 端子取り出し側金属配線 １１ ＢＭ窓
Claims (7)
- 【請求項１】 画素マトリクスが形成されている第一の
基板とカラーフィルタが形成されている第二の基板を、
その周辺部をシール剤を用いて貼り合わせて、その内部
に液晶を封入して成る液晶表示装置において、前記第一
の基板の周辺部に配置される電極端子へ引き出される配
線と前記シール部分とがオーバーラップする部分の前記
配線部分を透明導電膜としたことを特徴とする液晶表示
装置。 - 【請求項２】 前記オーバーラップ部分以外の前記配線
が金属であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示
装置。 - 【請求項３】 前記オーバーラップ部分以外の前記配線
が金属と透明電極膜の２層であることを特徴とする請求
項１記載の液晶表示装置。 - 【請求項４】 画素マトリクスが形成されている第一の
基板とカラーフィルタが形成されている第二の基板をそ
の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせて、その内部に
液晶を封入して成る液晶表示装置において、前記第一の
基板の周辺部に配置される電極端子へ引き出される配線
と前記シール部分とがオーバーラップする部分の配線部
分に穴又はスリットが形成されていることを特徴とする
液晶表示装置。 - 【請求項５】 前記穴又はスリット上に透明電極膜を形
成したことを特徴とする請求項４記載の液晶表示装置。 - 【請求項６】 画素マトリクスが形成されている第一の
基板とカラーフィルタが形成されている第二の基板を、
その周辺部をシール剤を用いて貼り合わせて、その内部
に液晶を封入する液晶表示装置の製造方法において、前
記第一の基板に配線用の金属膜を形成し、フォトリソグ
ラフ法で配線を形成するに当たって前記シール部分とオ
ーバーラップする部分も金属を除去する工程と、透明導
電膜を形成する工程と、フォトリソグラフ法で前記配線
及び前記オーバーラップ部上に透明導電膜を形成する工
程とを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項７】 画素マトリクスが形成されている第一の
基板とカラーフィルタが形成されている第二の基板を、
その周辺部をシール剤を用いて貼り合わせて、その内部
に液晶を封入してなる液晶表示装置において、前記第一
の基板の周辺部に配置される電極端子へ引き出される配
線と前記シールの部分とがオーバーラップする部分に対
応する前記第二の基板のブラックマトリクス部分に光透
過用の窓が形成されていることを特徴とする液晶表示装
置。
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|---|---|---|---|
| JP20312597A JPH1152394A (ja) | 1997-07-29 | 1997-07-29 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20312597A JPH1152394A (ja) | 1997-07-29 | 1997-07-29 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
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