JPH115054A - 流体またはペースト状の媒体を自走式基材上に塗布する方法と装置 - Google Patents

流体またはペースト状の媒体を自走式基材上に塗布する方法と装置

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JPH115054A
JPH115054A JP10144392A JP14439298A JPH115054A JP H115054 A JPH115054 A JP H115054A JP 10144392 A JP10144392 A JP 10144392A JP 14439298 A JP14439298 A JP 14439298A JP H115054 A JPH115054 A JP H115054A
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JP
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inlet
defining element
side defining
substrate
chamber
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JP10144392A
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Richard Bernert
リチャードベルナルト
Michael Trefz
ミハエルトレフツ
Harald Hess
ハラルドヘス
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Voith Sulzer Papiermaschinen GmbH
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Voith Sulzer Papiermaschinen GmbH
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    • D21H23/00—Processes or apparatus for adding material to the pulp or to the paper
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
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    • B05C11/02—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
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    • D21—PAPER-MAKING; PRODUCTION OF CELLULOSE
    • D21H—PULP COMPOSITIONS; PREPARATION THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASSES D21C OR D21D; IMPREGNATING OR COATING OF PAPER; TREATMENT OF FINISHED PAPER NOT COVERED BY CLASS B31 OR SUBCLASS D21G; PAPER NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D21H25/00—After-treatment of paper not provided for in groups D21H17/00 - D21H23/00
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  • Coating Apparatus (AREA)
  • Paper (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】自走する基材上に均質な塗布層を形成するとと
もに、塗布媒体の必要な予調節量を減少させる。 【解決手段】基材の入口側の画定要素（２２）と出口側
の画定要素（１４）との間に画定形成された詰溜房室
（１６）と塗布媒体（Ｍ）を供給する供給ユニット（１
８）とを設け、供給ユニット（１８）が基材（Ｕ）の走
行方向（Ｌ）に見て入口側画定要素（２２）より手前に
配置した。 【作用】詰溜房室入口側画定要素の手前に塗布媒体の蓄
積が形成され、この蓄積が詰溜房室に侵入しようとする
気泡をシールする。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は流体状またはペースト
状の媒体を自走式基材上に塗布する方法と装置とに関す
るものであり、さらに詳しくは例えば紙のウェブ、カー
ドボード、ボックスボードまたは塗布ローラーなどの自
走する基材上に供給ユニットから供給された塗布媒体を
塗布するシステムであって、基材入口側と出口側とがそ
れぞれの画定要素により画定された型式のものに関する
ものである。
【０００２】
【従来技術】上記のような型式の装置としては例えば、
所謂ショート・ドウェル装置が知られており、塗布媒体
は直接塗布房室または詰溜房室に送られ、これらの房室
の基材出口側端部はブレードまたは調節ロールにより画
定されており、基材入口側端部は詰溜板または調節ブレ
ードにより閉鎖されている。このようなショート・ドウ
ェル装置は通過する基材上に均質な塗布を施せないとい
う問題がある。
【０００３】均質な塗布を達成するには調節要素を均一
に「引きずる（ sweep ）」ようにしなければならな
い。すなわち近づいてくる塗布媒体の圧力を全塗布幅に
亙って調節要素上に作用させなければならず、この作用
を均一にして通過して行く基材から調節要素が充分均一
に持ち上がって、所望の幅の隙間を形成するようにしな
ければならない。
【０００４】しかし従来の塗布装置にあっては、調節要
素のすぐ手前の塗布房室内には充分に均一な圧力が存在
せず、したがって比較的大量を予調節する必要がある。
さもないと塗布幅のいくつかの地点で調節要素が要求さ
れる最少の塗布媒体による被覆を与えることができない
のである。また基材上への塗布媒体の塗布は入口側画定
要素を通って詰溜房室内に入り込む気泡によっても阻害
される。
【０００５】ＥＰ０３１９５０３Ｂ１には塗布装置の一
例が記載されているが、調節ブレードによって形成され
る詰溜房室の入口側画定要素中にダクト（通路）が設け
られており、これを通って詰溜房室内に導入された過剰
の塗布媒体が基材の走行方向と逆方向に詰溜房室から逃
出することができるようになっている。逃出した塗布媒
体は基材と入口側画定要素との間の領域に蓄積されて
「シール」として作用し、気泡が侵入するのを防止す
る。しかし上記した「引きずる」ことに伴う問題はこの
装置の場合にも依然として起きるのである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】すなわち従来技術の場
合にはいずれも均質な塗布効果を得ることが難しく、均
質性を得るには予調節量を大きくする必要があった。
【０００７】かかる従来技術の現状に鑑みてこの発明の
目的は、自走する基材上に均質な塗布層を形成するとと
もに、塗布媒体の必要な予調節量を減少させる、ことに
ある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】このためこの発明の装置
にあっては、画定要素を基材の走行方向に見て塗布媒体
画定要素より手前に配置したことを要旨とする。
【０００９】またこの発明の方法にあっては、塗布結果
に応じて基材に対する入口側画定要素の配置を制御する
または／および詰溜房室の体積を制御するまたは／およ
び詰溜房室の形状を制御するまたは／および塗布媒体の
供給レートを制御することを要旨とする。
【００１０】
【作用】かかる構成とした結果、前記ＥＰ０３１９５０
３Ｂ１の場合と同様に、詰溜房室入口側画定要素の手前
に塗布媒体の蓄積が形成され、この蓄積が詰溜房室に侵
入しようとする気泡をシールするのである。加えてこの
シール効果は上記ＥＰ０３１９５０３Ｂ１のそれを顕著
に凌ぐものである。なぜならばこの蓄積は過剰な塗布媒
体によって形成されるものではなく、詰溜房室に供給さ
れた塗布媒体の全量により形成されるものだからであ
る。
【００１１】さらに詰溜房室入口側画定要素が絞り点を
構成し、これが所望の制御された程度に亙って、詰溜房
室への塗布媒体の導入を邪魔するのである。この絞り効
果はすでに詰溜房室の手前に蓄積された塗布媒体中に横
断方向の均質化、すなわち塗布幅に亙っての均質化を引
き起こす。この結果すでに詰溜房室内に入った塗布媒体
は均一な圧力分布を有しており、これに加えて横断方向
に亙る圧力の分布と形態の均質化が詰溜房室中に起きる
のである。
【００１２】ここでこの発明の装置にあっては塗布媒体
が全塗布幅に亙って詰溜房室出口側画定要素例えば調節
要素に実質的に均一な圧力を及ぼして、調節要素は均一
かつ高度に「引きずられる」ようになり、これにより基
材上に均質な塗布が行われる。この発明の構成によって
くる圧力均一化効果により従来の装置に比べて少い予調
節量であっても充分所望の塗布を施すことができる。
【００１３】さらに過剰な塗布媒体が少ないので、材料
コストや運転コストなどを低廉にすることができる。ま
た過剰塗布媒体を循環させるためのポンプの容量も小さ
くて済む。
【００１４】詰溜房室の入口側端部と出口側端部とを連
結する房壁を横断方向に見て塗布媒体を均一にするよう
に構成することにより、上記のような諸効果をさらに高
めることができる。このため詰溜房室に均質化部分と塗
布部分とを設けるとよい。塗布部分を設けることによ
り、例えば渦巻きなどによりまだ詰溜房室中に存在して
いる圧力差が、調節部材の付近に拡散しないようにでき
る。
【００１５】詰溜房室の入口領域にあっては、好ましく
は基材に最も接近した領域において例えば入口側画定要
素を基材の走行方向に見て非平坦状たとえば波状、段付
き状粗面状に構成することにより、横断方向の均質化が
さらに促進される。このような非平坦形状による分散効
果を利用するのである。すなわち詰溜房室房壁を適宜に
設計することによりこのような分散効果を得ることがで
きる。上記のような非平坦形状に加えてウェブ、バーな
どを詰溜房室中に設けてもよい。
【００１６】しかし基本的には、過剰の塗布媒体で動作
しているときには、。詰溜房室の入口の領域において基
材の近くにおいて走行方向に向かって詰溜房室に入る流
れが形成される。また過剰な流れの中には基材から離れ
て走行方向と逆に向かう流れがある。しかし好ましくは
少なくとも１個の遡流ダクト（通路）を設けて、過剰に
詰溜房室内に入った塗布媒体がそこを通って流出できる
ようにしてやるとよい。このように遡流を形成すると、
入口画定要素によって形成された詰溜房室入口側におけ
る隙間の領域に画定された流れが形成される。該遡流ダ
クト（通路）は例えば塗布基台を横断する別個のライン
またはチャンネルで構成する。さらに遡流ダクトはそれ
ぞれ独立別個に開閉できるようにするとよい。
【００１７】詰溜房室の入口側画定要素は例えば出口側
画定要素の基台と一体の構造としてもよいし、別体の構
造としてもよい。前者の場合は簡単で頑丈な構造となる
が、後者の場合には使用される塗布媒体の性質その他の
工程パラメータ、特に基材の走行速度に応じて入口側画
定要素を選べる。特に別体構造の出口側画定要素として
は引き摺り式 ( drag )ブレードや掻き取り式 ( scrape
r )ブレードなどの調節ブレードが用いられる。掻き取
り式 ( scraper )ブレードは接近する塗布媒体により基
材に押圧される。なぜなら基材の走行方向とは逆方向を
指向してかつその上に乗っかっているからである。これ
には少なくとも１個の入口ダクト（通路）が形成されて
おり、基材に近く位置している。いずれにしても上記の
遡流ダクト（通路）はブレードに穿孔することにより容
易に形成できる。
【００１８】上記したように詰溜房室入口側画定要素が
一体であると別体であるとに拘わらず、供給ユニットに
より基材上に供給されて詰溜房室に入り込む塗布媒体に
対して該画定要素はチャンネル面を構成するものであ
る。このチャンネルまたはホッパー面は横方向への圧力
の均一性を改善し、詰溜房室への塗布媒体の導入を円滑
安全に行わせるものである。
【００１９】チャンネル面または／および詰溜房室房壁
と基材とにより画定される凹所をベンチュリーノズル状
の横断面とすることにより、詰溜房室に入るまたは入っ
た塗布媒体に好ましい流体的な影響を及ぼすことができ
る。
【００２０】横方向に見て基材に近い詰溜房室入口側画
定要素の端線は例えば直線状に延在させてもよい。しか
し該端線を基材に向かって突出したり引っ込んだりする
ように形成したり、入口側画定要素の基材に近い部分に
少なくとも１個の入口ダクト（通路）設けるようにする
と、塗布媒体に対して所望の最小の入口横断面を与える
ことができる。このうち後者の構造は横方向への塗布媒
体の非均一化を可能として、これにより塗布も非均質性
となる。例えば該端線は波状、鋸歯状、段付き状などに
することができる。
【００２１】詰溜房室入口側画定要素は出口側画定要素
の基台と一体構造としてもよい。しかし入口側画定要素
を出口側画定要素の基台上に配置してもよく、これには
基台に対して相対移動できるようにしてもよく、ウェブ
により連結するようにしてもよい。このウェブにより基
台に対して入口側画定要素が限定傾斜できるようにな
る。以上全ての変化実施例のように構成することによ
り、基材に対する入口側画定要素の設定の如何に拘わら
ず詰溜房室により特定の影響を齎すことができる。前の
変化実施例の場合、例えば基台と基材との相対配置を変
えることによりこのような影響が得られる。第２，３の
変化実施例の場合には、基台に対する入口側画定要素の
相対移動により詰溜房室に影響を及ぼすことができる。
【００２２】基材に対する出口側画定要素の配置を変え
る駆動装置を用いて、例えば所望の塗布隙間を予設定す
ることができる。基材に対する入口側画定要素の配置を
変える駆動装置を用いて、詰溜房室入口の寸法または／
および詰溜房室の寸法および形状に影響を及ぼすことが
できる。これらの駆動装置は基材の幅方向に分散された
複数個の駆動ユニットを有しており、これらは相互独立
に駆動することができる。またこれにより入口側画定要
素の形状または／および詰溜房室の形状寸法は横方向に
亙って設定できる。
【００２３】所望の塗布形態を得るには調節部材の手前
における圧力の横断形状が重要である。所望の圧力横断
形状に調節するには詰溜房室の横方向の体積を設定して
もよく、または詰溜房室の体積は一定として詰溜房室の
横断形状を横方向に亙って調節してもよく、横方向に並
設された複数個の遡流ダクトの横断面を相互独立に選ん
でもよい。
【００２４】駆動ユニットは電気的、水圧的、空圧的、
水空圧的または手動的に駆動できる。例えば駆動ユニッ
トを少なくとも部分的にネジで調節してもよい。これに
代えて駆動ユニットを少なくとも部分的に圧力ホースで
形成してもよい。駆動システムに数個の房室に分割され
た圧力ホースを設けてもよい。遠隔制御駆動ユニットま
たは遠隔制御駆動システムを制御ループ中に予め組み込
んでもよい。さらに駆動ユニットまたは駆動システムの
調節力または調節強度を制御できるように構成してもよ
い。
【００２５】以上の説明から明らかなように、入口側画
定要素と基材の協働により形成される詰溜房室の入口は
塗布媒体にある程度絞り効果を及ぼす。この効果により
塗布媒体の予調節が行われる。例えば供給ユニットを基
材の幅に亙って分割された複数個の供給要素により構成
すると、さらに細やかな予調節が行える。これらの供給
要素の塗布媒体供給レートは相互独立に調節できるよう
にするのが望ましい。これにより横方向に亙って塗布形
状が変化する。
【００２６】またこの発明は流体状またはペースト状の
塗布媒体を自走式基材上に塗布する方法にも係るもので
あるが、その効果については以上の説明を参照された
い。
【００２７】
【実施例】図１に示すのはこの発明の塗布装置の一実施
例であって、該塗布装置は流体またはペースト状の塗布
媒体Ｍの調和された均一塗布層Ｓを塗布装置を通過して
自走する基材Ｕ上に塗布するものである。該基材Ｕは例
えば塗布ローラーなどから構成されてもよく、均一塗布
層Ｓは同様に塗布装置を通過する紙、ボードまたはカー
トンなどの基材帯上に直接に塗布を行うものである。
【００２８】図示の塗布装置は塗布ローラー１４と詰溜
房室１６とを具えた塗布ユニット１２と供給ユニット１
８とを有してなるものであり、この供給装置１８により
塗布媒体Ｍが基材Ｕ上に粗く分与されるのである。塗布
ローラー１４は塗布基台２０中に収容されており、この
塗布基台は公知の構造なので詳細な説明は省く。
【００２９】基材Ｕは塗布装置１０に対して矢印Ｌ（走
行方向）の方向に移動する。詰溜房室１６はその出口側
を塗布ローラー１４（塗布媒体出口側画定要素として機
能する）により画定されており、入口側を塗布媒体入口
側画定要素２２により画定されている。したがって詰溜
房室１６は基材Ｕと画定要素２２と塗布ローラー１４と
を結ぶ房壁２４により画定されている。
【００３０】この発明において塗布媒体Ｍ（勿論まだ調
和されていない構造であるが）は走行方向Ｌについて入
口２６より前方において、図１に示すように多くの黒点
で示すように不規則な状態で、供給ユニット１８により
基材Ｕ上に塗布される。その基材Ｕと一緒の運動により
塗布媒体Ｍは入口２６の領域に到達し、その回転作用に
より入口前に蓄積する。
【００３１】この塗布媒体Ｍの蓄積２８は空気の好まし
くない侵入に対して詰溜房室１６を入口側において塞ぐ
働きをする。入口２６の前における塗布媒体Ｍの流体力
学的流れ圧力により塗布媒体Ｍの詰溜房室１６への到達
が促進されかつ可能となるのである。最後に塗布媒体Ｍ
は塗布ローラー１４と基材Ｕとの間の出口３０を経て詰
溜房室１６から出て、しかもこの発明の塗布装置１０特
に詰溜房室の入口側画定要素２２の働きにより、詰溜房
室１６と塗布ユニット１２とが基材Ｕ上に均質の塗布層
を形成するのである。
【００３２】この発明の塗布装置１０により塗布された
塗布層の均質性は、塗布ローラー１４の近傍に存在する
塗布媒体Ｍが均一な分布と均一な圧力形態を横方向Ｑ、
すなわち図に直交する方向に有しているという事実に、
よるのである。この均一な形態は詰溜房室入口側の画定
要素２２の絞り作用によるものであり、さらにこれによ
り蓄積２８は横方向Ｑに均一になる。加えて詰溜房室１
６の作用もあり、これが横方向Ｑにさらなる均一化を行
うのである。
【００３３】塗布媒体Ｍにおける横方向の均質性は房壁
２４、その入口側の画定要素２２特に入口２６の形態に
より影響されるものであって、また画定要素２２から基
材Ｕの走行方向Ｌに沿って延在する誘導面３２の形態に
よっても影響されるのである。基材Ｕと誘導面３２とが
実質的にベンチュリー管的な形態の横部分を具えている
ときには、特に好ましい水力学的な関係が蓄積２８中に
選られるのである。
【００３４】図１に示す実施例の場合には画定要素２２
は塗布基台２０と一体に形成されている。塗布基台２０
は板バネ３４によりビーム３６に取付けられているが、
特に調節部材３８を介して該板バネ３６に固定されてい
る。図１における調節部材３８は両矢印により示されて
おり、例えば圧力ホースにより構成される。
【００３５】塗布媒体Ｍの粘度、基材Ｕの走行速度およ
び所望の塗布層の厚さなどの工程パラメータに応じて出
口３０の幅を調節すべく、基材Ｕに対する塗布ローラー
１５の配置の影響を調節する調節部材４０が設けられて
いる。また図示の実施例においては、入口２６の幅も調
節部材４２により影響される。
【００３６】調節部材４０，４２としては、例えば手動
式の調節ネジ、モーター駆動式の調節機構、水力または
空力または水空力駆動式の調節機構、圧力ホースなど適
宜な調節部材を用いることができる。
【００３７】層塗布の正確な影響また必要な場合には層
塗布の形状を得るべく、調節部材４０，４２は横方向Ｑ
に複数の部材片に分割し、これらの制御力や制御強さを
各個独立に調節できるようにすることができる。これを
図１２ａ中に部材片４２ａ，４２ｂおよび４２ｃなどで
示す。離間し得る調節部材の配置に際してはこれらを塗
布装置全体の自動制御系に組み込むこともできる。
【００３８】図１および図２〜図１０に示す実施例にお
いては塗布ローラー１４を具えたワイパー機構が示され
ているが、その他のワイパーもしくは平坦化要素とし
て、例えばワイパーブレードやエアーブラシなどを用い
ることもできる。また塗布ローラー１４の表面の形状は
自由にすることができる。さらに塗布ローラー１４は基
材Ｕの走行方向と同じ方向または反対の方向に回転駆動
することができる。
【００３９】前記したワイパー塗布の形状を考慮して、
供給Ｙに１８を横方向Ｑに多数の隣り合う供給部材片に
分割して、所望のワイパー形状に応じた種々の供給割合
で塗布媒体Ｍを基材Ｕ上に塗布するように構成すると、
有利である。塗布域に亙って分割位置された多数の塗布
ノズルをもって供給ユニット１８を構成し、各塗布ノズ
ルの駆動を個別に調節できるようにしてもよい。
【００４０】供給ユニット１８により基材Ｕ上に塗布さ
れる塗布媒体Ｍの量は所望の均一塗布層Ｓに応じて正確
に塗布される。塗布媒体Ｍは基材Ｕ上に過剰に塗布して
もよい。この場合には詰溜房室１６より前に配置された
戻流通路４４（図中破線で示す）を形成すると有利であ
り、これを通って詰溜房室１６中に導かれた過剰な塗布
媒体Ｍが再び房外に放出されるのである。戻流通路４４
の断面積は例えばベンチュリー４４ａにより所望の値
（完全開口および完全閉口も含めて）に調節することが
できる。遡流通路４４から放出された過剰な塗布媒体Ｍ
は回収タンク４６に回収されて、再び塗布作業に供され
る。
【００４１】塗布媒体の調和およびその支配的な圧力
は、詰溜房室１６特にその房壁２４および基材Ｕに対す
る入口側画定要素２２の配置などにより、塗布媒体Ｍの
粘度や基材Ｕの走行速度などのパラメータに応じて、影
響される。以下図２〜図１０により詰溜房室および房壁
の種々の態様を説明する。
【００４２】図２に示す実施例においては、詰溜房室１
１６が入口１２６側の調和房１１６ａと出口１３０側の
塗布房１１６ｂとを有している。調和房１１６ａ内にお
いては、入口１２６から流れる塗布媒体の圧力が詰溜房
室１１６内の圧力と同じである。これにより横方向Ｑに
圧力形態が均一となる。塗布房１１６ｂ内においては塗
布媒体Ｍも均一な圧力形態を有している。これにより塗
布ローラー１１４が均一に「洗われ」て、最終的には所
望の均一な塗布層を与えるのである。さらに例えば膨張
可能な圧力ホースなどの調節要素４１が設けられてい
て、これにより詰溜房室１１６の形態、例えば横方向Ｑ
に直交にとられた詰溜房室１１６の横断面、を変化させ
ることができる。
【００４３】図３に示す実施例にあっては、詰溜房室２
１６が入口側画定要素２２２から基材Ｕの走行方向Ｌに
対して後方に延在する切込み部分２１６ｃを有してい
る。このような切込み部分１１６ｃは詰溜房室２１６を
確りとかつ完全に詰込み状態とするのに適している。
【００４４】図４に示す実施例においては、詰溜房室３
１６が一方では塗布基台３２０により他方では基台３２
０に固定されたブレード３４６により画定されている。
この実施例にあってはブレード３４６の自由端が入口側
画定要素３２２を構成している。該自由端は走行方向Ｌ
を指向しており、掬上げブレード状に形成されている。
さらにブレード３４６に透通形成された孔により遡流通
路３４４が構成されている。
【００４５】図５に示す実施例にあっては、詰溜房室４
１６が塗布基台４２０に固定されたブレード４４６によ
り一部画定されている。前出のブレード３４６との相違
は図５のブレード４４６が突刺しブレード状に、すなわ
ち基材Ｕの走行方向Ｌと反対方向を指向して形成されて
いるという点である。このようなブレード４４６はこれ
に働く塗布媒体の流体力学的な圧力により基材Ｕの表面
に押圧される。このブレード４４６には入口の役目をす
る開口が形成されている。
【００４６】図６に示す実施例においても突刺し式のブ
レード５４６が用いられている。図５のブレードとの相
違は、ブレードの先端に流れ寄る塗布媒体Ｍのための誘
導面５３２が形成されていて、入口５２６の開口部下側
の塗布媒体Ｍの流体力学的流圧により基材Ｕから離間し
て持ち上げられる。
【００４７】図７に示す実施例にあっては、詰溜房室の
入口側画定要素６２２が入口６２６の領域において基材
Ｕの走行方向Ｌに段付き構造を有している。この入口側
画定要素６２２構造によって得られる段付き分散効果に
よって塗布媒体Ｍ内圧力の横方向Ｑの均質性が改良され
るのである。この分散効果は基材の走行方向に見て緩や
かに平坦でない入口側画定要素の構造によっても得られ
るものである。
【００４８】図８に示す例においても、詰溜房室７１６
の房壁７２４は基材Ｕの走行方向Ｌに段が付いている。
【００４９】以上の図１〜図８の実施例にあっては、出
口３０，１３０〜７３０の寸法は維持されているが、塗
布基台３０，１３０〜７３０の基材Ｕに対する配置を変
えることにより、詰溜房室１６、１１６〜７１６の寸
法、または入口２６，１２６〜７２６の寸法は変化させ
ることができる。以下の図９、図１０に示す実施例にあ
っては、入口側画定要素を塗布基台に対して変位させる
ことができる。
【００５０】図９に示す実施例にあっては、例えば蟻継
ぎなどの助けを借りて、入口側画定要素８２２は両頭矢
印Ｖで示す方向に変位できる。このような入口側画定要
素８２２の一線状の調節により詰溜房室８１６そのもの
の寸法は実質的には不変で残るものであり、この調節い
かんにより入口８２６の寸法のみが増減するのである。
【００５１】図１０に示す実施例においては、入口側画
定要素９２２は塗布基台９２０と一体となっている。し
かし比較的弱いウェブ９５０により連結されている。こ
のウェブ９５０の弾性の故に入口側画定要素９２２は該
ウェブ９５０を通って横方向Ｑに延在する軸Ａについて
ある程度傾斜することができる。調節部座時９４２の駆
動で起きる傾斜により、詰溜房室９１６の寸法および入
口側画定要素の幅が変えられる。勿論図１０の構造の変
化例においては、塗布基台と入口側画定要素とを別体の
部材として、これらを軸Ａについて傾斜できるように連
結してもよい。
【００５２】図１〜図１０の実施例にあっては出口画定
要素が常に塗布ローラにより構成されているが、この発
明はこれに限定されるものではない。図１１に示すよう
に詰溜房室１０１６に塗布ユニット１０１２とは別個別
設の支持台１０６０を付設するようにしてもよい。入口
側画定要素１０２２と出口側画定要素１０６２はともに
この支持台１０６０と一体にする。しかし支持台１０６
０は実際には支持機能を果たしている訳ではない。この
支持台の構造の変化例に付いては上記の塗布ユニットお
よび塗布ローラ−の場合を参照されたい。
【００５３】図１２には基材と入口画定要素との間の入
口の３種類の変化例を示したものである。図１２ａに示
す実施例にあっては、基材Ｕ’と入口側画定要素２２’
とが横方向Ｑに延在する端線Ｋ１’とＫ２’とを有して
いる。すなわち極端な場合には入口２６’は完全に閉鎖
されることもある。これとは対照的に図１２ｂに示す実
施例の場合には、入口側画定要素２２’の端線K１は段
状に延在しており、その部分２２ａ”は基材Ｕの方に突
出しており、部分２２ｂ”は基材Ｕに対して凹んでい
る。一方基材Ｕ”の端線Ｋ２”は平坦である。部分２２
ａ”は基材Ｕに当接しており、これにより基材Ｕ”と入
口側ＹＫ２２”との間には最小の入口２６”が残されて
いる。図１２ｃの実施例のにおける最小の入口２６”は
入口側画定要素２２”の端線Ｋ’”の領域における孔２
２ｃ’”の助けにより与えられている。
【００５４】図１２ｂにおいては段付の端線Ｋ１”が示
されているが、最小の入口を与えるものならばいかなる
端線形状であってもよい。例えば端線Ｋ１”波状、鋸歯
状などであってもよい。
【００５５】なお以上に示した塗布装置１０の種々の構
造は適宜これを組み合わせてこの発明の変化実施例を構
成することができる。例えば図１２に示す端線構造を図
４，５に示すようなブレード状に構成することもでき
る。図４〜６に示すブレード構造においてブレードの本
体を透通して延在しないが塗布基台を透通して延在する
遡流ダクトを用いてもよい。さらに入口側画定要素とし
て機能するブレードは塗布基台上に設けて、塗布基台が
変位したり傾斜したりできるようにしてもよい。さらに
図３〜１０における詰溜房室を図２に示す実施例のよう
に構成して、圧力生成部分と均一化部分と塗布部分とを
設けるようにしてもよい。また本出願人の所謂高速糊付
装置を有するようにしてもよく、これは塗布ローラーに
よる材料ウェブの両側塗布システムである。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明による塗布装置の一実施例の一部断面
側面図である。
【図２】この発明による塗布装置の他の実施例の要部の
側面図である。
【図３】同様に他の実施例の側面図である。
【図４】同様に他の実施例の側面図である。
【図５】同様に他の実施例の側面図である。
【図６】同様に他の実施例の側面図である。
【図７】同様に他の実施例の側面図である。
【図８】同様に他の実施例の側面図である。
【図９】同様に他の実施例の側面図である。
【図１０】同様に他の実施例の側面図である。
【図１１】同様に他の実施例の側面図である。
【図１２】図２における線ＸＩ−ＸＩに沿ってとった３
種類の断面図である。
【符号の説明】
１０塗布装置 １２塗布ユニット １４塗布ローラー １６詰溜房室 １８供給ユニット ２０塗布基台 ２２入口側画定要素 ２４房壁 ２６入口 ３０出口 ３２誘導面 ３８調節部材 ４０調節部材 ４２調節部材 ４４遡流通路 ４６回収タンク Ｕ基材 Ｌ走行方向 Ｑ横方向 Ｍ塗布媒体
フロントページの続き (72)発明者 ハラルドヘス ドイツ国88287グルンクラウトアムオッテ ルスベルク20

Claims (33)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】基材の入口側の画定要素（２２）と出口側
    の画定要素（１４）との間に画定形成された詰溜房室
    （１６）と塗布媒体（Ｍ）を供給する供給ユニット（１
    ８）とを有してなり、供給ユニット（１８）が基材
    （Ｕ）の走行方向（Ｌ）に見て入口側画定要素（２２）
    より手前に配置されていることを特徴とする流体または
    ペースト状の媒体を自走式基材上に塗布する装置。
  2. 【請求項２】前記の入口側画定要素（２２）および／ま
    たは詰溜房室（１６）の入口端と出口端とを連結してい
    る房壁（２４）が塗布媒体（Ｍ）の横方向（Ｑ）の均質
    化を考慮して形成されていることを特徴とする請求項１
    に記載の装置。
  3. 【請求項３】前記の詰溜房室（１１６）が均質化部分
    （１１６ａ）と塗布部分（１１６ｂ）とを有しているこ
    とを特徴とする請求項２に記載の装置。
  4. 【請求項４】前記の入口側画定要素（６２２）が基材
    （Ｕ）の走行方向（Ｌ）に見て平坦でなくて波形、段付
    きまたは所定の粗さを有しており、かつそれらが基材
    （Ｕ）に最も接近した部位（６２６）にあることを特徴
    とする請求項２または３に記載の装置。
  5. 【請求項５】房壁（７２４）が基材（Ｕ）の走行方向
    （Ｌ）に見て平坦でなくて波形、段付きまたは所定の粗
    さを有しており、かつ詰溜房室中にはウェブやバーなど
    の構造が設けられていることを特徴とする請求項４に記
    載の装置。
  6. 【請求項６】少なくとも１個の遡流ダクト（４４）が設
    けられていて、これを通って詰溜房室（１６）に入った
    過剰の塗布媒体（Ｍ）が逃出することを特徴とする請求
    項１〜５のいずれかひとつに記載の装置。
  7. 【請求項７】前記の遡流ダクト（４４）の横断面が選択
    的に可変であることを特徴とする請求項６に記載の装
    置。
  8. 【請求項８】入口側画定要素（２２）が塗布ユニット
    （１２）の塗布基台（２０）と一体であることを特徴と
    する請求項１〜７のいずれかひとつに記載の装置。
  9. 【請求項９】入口側画定要素（３２２、４２２，５２
    ２，８２２）が入口側画定要素の塗布基台（３２０、４
    ２０，５２０，８２０）と一体であることを特徴とする
    請求項１〜７のいずれかひとつに記載の装置。
  10. 【請求項１０】入口側画定要素（３２２）が掻取りブレ
    ード（３４６）を有していることを特徴とする請求項９
    に記載の装置。
  11. 【請求項１１】入口側画定要素（４２２，５２２）が好
    ましくは少なくとも１個の入口ダクトを具えた掬い上げ
    ブレード（４４６，５４６）を有していることを特徴と
    する請求項９に記載の装置。
  12. 【請求項１２】入口側画定要素（２２，５２２）が供給
    ユニット（１８）により基材（Ｕ）上に供給されてかつ
    詰溜房室（１６，５１６）に入る塗布媒体（Ｍ）のため
    の誘導面（３２，５３２）を有していることを特徴とす
    る請求項１〜１１のいずれかひとつに記載の装置。
  13. 【請求項１３】基材（Ｕ）とともに誘導面（３２）また
    は／および房壁（２４）により画定される凹所がベンチ
    ュリーノズル状の横断面を有していることを特徴とする
    請求項１２に記載の装置。
  14. 【請求項１４】入口側画定要素（２２’）の基材
    （Ｕ’）に近い方の端線（Ｋ１’）が横方向（Ｑ）に見
    て直線状に延在していることを特徴とする請求項１〜１
    ３のいずれかひとつに記載の装置。
  15. 【請求項１５】入口側画定要素（２２”）の基材
    （Ｕ”）に近い方の端線（Ｋ１”）が横方向（Ｑ）に見
    て基材（Ｕ”）に対して凹凸状の部分（２２ａ”，２２
    ｂ”）を有していることを特徴とする請求項１〜１３の
    いずれかひとつに記載の装置。
  16. 【請求項１６】入口側画定要素（２２’”）の基材
    （Ｕ’”）に近い方の端線（Ｋ１’”）が少なくとも１
    個の入口ダクト（２２’”ｃ）を有していることを特徴
    とする請求項１〜１３のいずれかひとつに記載の装置。
  17. 【請求項１７】入口側画定要素（２２，１２２，２２
    ２，３２２，４２２，５２２，６２２，７２２，１０２
    ２）が出口側画定要素の塗布基台（２０，１２０，２２
    ０，３２０，４２０，５２０，６２０，７２０，１０６
    ０）に固定連結されていることを特徴とする請求項１〜
    １６のいずれかひとつに記載の装置。
  18. 【請求項１８】入口側画定要素（８２２）が出口側画定
    要素の塗布基台（８２０）上に配置されてかつ相対変位
    可能であることを特徴とする請求項１〜１６のいずれか
    ひとつに記載の装置。
  19. 【請求項１９】入口側画定要素（９２２）がウェブ部分
    （９５０）を介して出口側画定要素の塗布基台（９２
    ０）に連結されていて、入口側画定要素（９２２）が塗
    布基台（９２０）に対して限定された傾斜運動が可能で
    あることを特徴とする請求項１〜１６のいずれかひとつ
    に記載の装置。
  20. 【請求項２０】調節部材（４０）が設けられていて、基
    材（Ｕ）に対する出口側画定要素の設定を変更すること
    を特徴とする請求項１〜１９のいずれかひとつに記載の
    装置。
  21. 【請求項２１】調節部材（４０）が設けられていて、基
    材（Ｕ）に対する入口側画定要素（２２）の設定を変更
    することを特徴とする請求項１〜２０のいずれかひとつ
    に記載の装置。
  22. 【請求項２２】調節部材（９４２）が設けられていて、
    詰溜房室（９１６）の体積を変更することを特徴とする
    請求項１〜２１のいずれかひとつに記載の装置。
  23. 【請求項２３】調節部材（１４１，９４２）が設けられ
    ていて、詰溜房室（１１６，９１６）の形状を変更する
    ことを特徴とする請求項１〜２２のいずれかひとつに記
    載の装置。
  24. 【請求項２４】少なくとも１個の調節部材（４２）が横
    方向（Ｑ）に分散されてかつ互いに独立に駆動される複
    数個の調節部材（４２ａ，４２ｂ，４２ｃ）を有してい
    ることを特徴とする請求項２０〜２３のいずれかひとつ
    に記載の装置。
  25. 【請求項２５】前記の調節部材が電気的または／および
    水圧的または／および空圧的または／および水空圧的ま
    たは／および手動的駆動されることを特徴とする請求項
    ２４に記載の装置。
  26. 【請求項２６】少なくとも調節部材の一部が調節ネジに
    より形成されていることを特徴とする請求項２４または
    ２５に記載の装置。
  27. 【請求項２７】調節部材の少なくとも一部が圧力ホース
    により形成されていることを特徴とする請求項２４〜２
    ６のいずれかひとつに記載の装置。
  28. 【請求項２８】調節部材が複数個の房室に分割された圧
    力ホースを有していることを特徴とする請求項２０〜２
    ７のいずれかひとつに記載の装置。
  29. 【請求項２９】調節部材の調節力または強度が制御可能
    であることを特徴とする請求項２０〜２８のいずれかひ
    とつに記載の装置。
  30. 【請求項３０】供給ユニット（１８）が横方向（Ｑ）に
    亙って分散された複数個の供給要素を有していることを
    特徴とする請求項１〜２９のいずれかひとつに記載の装
    置。
  31. 【請求項３１】供給要素がその塗布媒体（Ｍ）の供給量
    を独立に調節可能であることを特徴とする請求項３０に
    記載の装置。
  32. 【請求項３２】例えばウェブや紙やカードボードや塗布
    ローラーなどの基材（Ｍ）上に詰溜房室（１６）を用い
    て流体状またはペースト状の媒体を塗布するべく、該詰
    溜房室の基材入口側は入口側画定要素（２２）により画
    定されその基材出口側は出口側画定要素により画定され
    ており、かつ塗布媒体（Ｍ）が供給ユニット（１８）に
    より詰溜房室（１６）に供給される方式であって、塗布
    結果に応じて基材（Ｕ）に対する入口側画定要素（２
    ２）の配置を制御するまたは／および詰溜房室（１６）
    の体積を制御するまたは／および詰溜房室（１６）の形
    状を制御するまたは／および塗布媒体（Ｍ）の供給レー
    トを制御することを特徴とする流体状またはペースト状
    の媒体を自走式基材上に塗布する方法。
  33. 【請求項３３】基材（Ｕ）の横方向（Ｑ）、すなわち走
    行方向（Ｌ）と実質的に直交する方向に並設された複数
    個の制御部分において制御が互いに独立に行われること
    を特徴とする請求項３２に記載の方法。
JP10144392A 1997-06-04 1998-05-26 流体またはペースト状の媒体を自走式基材上に塗布する方法と装置 Pending JPH115054A (ja)

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