JPH1139634A - Magnetic disk and its production - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress abnormal growth of a magnetic film formed on a resin substrate and to permit stable recording and reproducing by applying a metal thin film of a metal element having a bcc or hcp crystalline structure on a resin substrate, and then forming a magnetic recording film thereon. SOLUTION: A metal coating film 2, an orientation controlling film 3, a magnetic film 4 and a protective film 5 are successively deposited by sputtering on a resin substrate 1. As for the metal element for the metal coating film 2, at least one of Ti, Ta, Zr, Nb, W, Mo is used. The metal thin film of this metal coating film 2 is preferably a fine particle or amorphous state. Thereby, the roughness pattern of the magnetic disk substrate can be controlled to <=5 nm peak-to-peak in the perpendicular direction to the film surface and to >=1 μm period parallel to the film surface. Therefore, a magnetic head can stably float on the magnetic disk.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、大量の情報を迅速
かつ正確に格納するための情報記録媒体にかかり、特
に、高性能でかつ高信頼性を有する磁気ディスクの製造
方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an information recording medium for storing a large amount of information quickly and accurately, and more particularly to a method for manufacturing a magnetic disk having high performance and high reliability.

【０００２】[0002]

【従来の技術】近年の高度情報化社会の進展にはめざま
しいものがあり、各種形態の情報を統合したマルチメデ
ィアが急速に普及してきている。これを支える情報記録
装置の１つに磁気ディスク装置がある。磁気ディスク装
置は、記録密度を向上させつつ小型化が図られている。
それと並行して、装置の低価格化が急速に進められてい
る。2. Description of the Related Art In recent years, there has been a remarkable progress in the advanced information society, and multimedia in which various forms of information are integrated has rapidly spread. One of the information recording devices that support this is a magnetic disk device. Magnetic disk devices are being miniaturized while improving the recording density.
At the same time, the price of the device has been rapidly reduced.

【０００３】現在の磁気ディスク用の基板には、表面に
ＮｉＰを形成したＡｌ基板やガラス基板が用いられてい
る。しかし、将来の低価格の磁気ディスク用の基板材料
としては樹脂が有望である。樹脂基板は成型性に優れ、
予めピットなどの凹凸を形成しておき、その上に磁性膜
を形成すると、基板の凹凸付近に磁場の不均一な部分が
生じる。この基板上の凹凸をあらかじめ一定のパターン
で形成しておき、これを検出することにより、位置決め
信号に代表される各種の信号を得ることができる。As a current magnetic disk substrate, an Al substrate or a glass substrate having NiP formed on its surface is used. However, resin is promising as a substrate material for future low-cost magnetic disks. The resin substrate has excellent moldability,
If irregularities such as pits are formed in advance and a magnetic film is formed thereon, an uneven portion of the magnetic field is generated near the irregularities of the substrate. By forming the concavities and convexities on the substrate in a predetermined pattern in advance and detecting this, various signals typified by positioning signals can be obtained.

【０００４】従来は、完成した磁気ディスクに、一枚一
枚サーボトラックライターを用いて位置決め信号を記録
しており、この位置決め信号の記録工程がディスク装置
を量産する際の障害となる場合があった。しかし、基板
として樹脂基板を用い、予め基板に凹凸を形成しておく
ことにより、この課題を解決することができる。Conventionally, a positioning signal is recorded on a completed magnetic disk by using a servo track writer one by one, and the recording process of the positioning signal may become an obstacle in mass-producing the disk device. Was. However, this problem can be solved by using a resin substrate as the substrate and forming irregularities on the substrate in advance.

【０００５】ここで、磁気ディスクの高密度化を達成す
るためには、（１）磁気ディスクと磁気ヘッドとの距離
をつめること、（２）媒体の保磁力を増大させること、
（３）信号処理方法を工夫することなどが必須の技術で
ある。前記した凹凸を有する樹脂基板を用いる場合、先
の高密度化技術の中の、（１）の項目に対しては不利で
あった。これは、このような基板上に媒体を形成する
と、基板上の凹凸を反映して、媒体表面に凹凸を生じる
ために、ヘッド−媒体間の距離を一定間隔以下にするに
は限界があるためである。Here, in order to achieve a higher density of the magnetic disk, (1) reducing the distance between the magnetic disk and the magnetic head, (2) increasing the coercive force of the medium,
(3) It is an essential technique to devise a signal processing method. When using the resin substrate having the above-mentioned unevenness, it is disadvantageous for the item (1) in the above-described high-density technology. This is because, when a medium is formed on such a substrate, irregularities on the medium are generated by reflecting irregularities on the substrate, and there is a limit to reducing the distance between the head and the medium to a certain distance or less. It is.

【０００６】これに加えて、ガラス基板やＡｌ基板と樹
脂基板とでは、基板の有する表面エネルギーが異なる。
その結果、樹脂基板上に形成される磁性膜が、エピタキ
シャル成長しないで、異常成長した結果、表面の凹凸を
助長する場合があった。このような成長がディスクの所
々で生じると、磁気ヘッドと磁性膜の間の距離を長くし
なければならない。もし、高密度記録再生のために磁気
ディスクと磁気ヘッドとの距離をつめると、ヘッドクラ
ッシュを生じてしまい、安定して記録再生を行うことが
できない。なお、磁性膜の結晶性を制御して形成する従
来の方法としては、特開昭６３−１８７４１４号公報が
ある。In addition, the surface energy of the glass substrate or Al substrate differs from that of the resin substrate.
As a result, in some cases, the magnetic film formed on the resin substrate does not epitaxially grow, but grows abnormally, resulting in promotion of surface irregularities. If such growth occurs in various places on the disk, the distance between the magnetic head and the magnetic film must be increased. If the distance between the magnetic disk and the magnetic head is reduced for high-density recording / reproduction, a head crash occurs, and stable recording / reproduction cannot be performed. A conventional method for controlling the crystallinity of a magnetic film is disclosed in JP-A-63-187414.

【０００７】[0007]

【発明が解決しようとする課題】樹脂を基板に用いて磁
気ディスクを作製する場合、形成した磁気記録媒体の有
する内部応力により基板表面に凹凸が生じる場合があ
り、こうして作製された磁気ディスクを磁気ディスク装
置に組み込んでリード／ライトを行うとヘッドクラッシ
ュを生じる場合があった。樹脂基板上に形成した磁性膜
の結晶性は、ガラス基板や表面にＮｉＰ層を形成したＡ
ｌ基板上に形成した磁性膜より劣化していた。この原因
は、磁性膜の成長とともに（膜表面に向かうにつれて）
粒子サイズが大きくなり、かつ、成長速度が不均一にな
るため、成長が早い部分では表面が凸になり、逆に遅い
部分では表面が凹になるためと考えられる。また、これ
と同時に、樹脂基板の表面も磁気記録媒体の内部応力に
より、ミクロンサイズ以下の周期の凹凸を生じる。When a magnetic disk is manufactured using a resin as a substrate, irregularities may be formed on the surface of the substrate due to internal stress of the formed magnetic recording medium. When read / write is performed by being incorporated in a disk device, a head crash may occur. The crystallinity of the magnetic film formed on the resin substrate is determined by the A substrate on which the NiP layer is formed.
1) The film was deteriorated from the magnetic film formed on the substrate. This is due to the growth of the magnetic film (towards the film surface)
It is considered that the surface becomes convex in a portion where the growth is fast, and conversely, the surface becomes concave in a portion where the growth is slow because the particle size becomes large and the growth rate becomes uneven. At the same time, the surface of the resin substrate also has irregularities having a period of micron size or less due to the internal stress of the magnetic recording medium.

【０００８】さらに、これとは別に、磁気記録膜成膜前
から、成型条件により樹脂基板表面に数十から数百ミク
ロン以上の周期の凹凸を生じている場合がある。この基
板上に磁気記録膜を成膜して得た磁気ディスクを磁気デ
ィスク装置にセットして動作させると、磁気記録膜の形
成過程で生じた凹凸や基板の凹凸により、ヘッドクラッ
シュを生じる場合があった。磁気ディスクの記録密度を
向上させるためには磁気ヘッドと磁気ディスクとの距離
を短くすることが有効であるが、媒体表面に凹凸が存在
していると、ヘッドクラッシュを回避しなければならな
いために、磁気ヘッドと磁気ディスクの距離を短くする
ことができない。また、磁気ディスクの表面に凹凸があ
ると、磁気ヘッドが安定に浮上できないため、記録や再
生に際してノイズやエラーが増大する。In addition to this, before the magnetic recording film is formed, irregularities having a period of tens to hundreds of microns or more may be formed on the surface of the resin substrate depending on molding conditions. When a magnetic disk obtained by forming a magnetic recording film on this substrate is set in a magnetic disk device and operated, a head crash may occur due to irregularities generated in the process of forming the magnetic recording film and irregularities of the substrate. there were. In order to improve the recording density of the magnetic disk, it is effective to shorten the distance between the magnetic head and the magnetic disk.However, if there is unevenness on the medium surface, it is necessary to avoid a head crash. However, the distance between the magnetic head and the magnetic disk cannot be reduced. Further, if the surface of the magnetic disk has irregularities, the magnetic head cannot fly stably, so that noise and errors increase during recording and reproduction.

【０００９】さらに、磁性膜を形成する場合、磁性膜形
成面に凹凸が存在していると、磁性膜が結晶成長する際
に異常成長を起こすために、媒体表面の凹凸がさらに助
長される場合もある。樹脂基板では基板表面を鏡面仕上
げすることが困難で、基板作製の面からは凹凸の除去に
は限界があるとともに、基板表面の凹凸を完全に除去し
ようとすると量産性の障害になる。Further, when a magnetic film is formed, if the magnetic film forming surface has irregularities, the magnetic film may be abnormally grown during the crystal growth, so that the irregularities on the medium surface are further promoted. There is also. With a resin substrate, it is difficult to mirror-finish the substrate surface, and there is a limit to the removal of irregularities from the viewpoint of substrate fabrication, and complete removal of the irregularities on the substrate surface is an obstacle to mass productivity.

【００１０】このように、樹脂基板上に磁気記録媒体を
形成すると、薄膜が異常成長をするので、性能の劣化や
信頼性の低下をきたすという問題がある。上記の公知例
では、樹脂基板に固有のこのような問題点について、開
示されていなかった。As described above, when a magnetic recording medium is formed on a resin substrate, since the thin film grows abnormally, there is a problem that the performance is degraded and the reliability is lowered. The above-mentioned known example does not disclose such a problem inherent to the resin substrate.

【００１１】本発明は、このような従来技術の問題点に
鑑みてなされたもので、樹脂基板上に形成される磁性膜
の異常成長を抑制し、安定した記録再生を行うことので
きる高信頼性磁気ディスク及びその製造方法を提供する
ことを目的とする。また、本発明は、表面（磁気ヘッド
の接触面）の平坦性に優れた磁気ディスクを提供するこ
とにより、媒体とヘッド間の距離（ヘッド浮上量）を短
くしてもヘッドクラッシュやサーマルアスペリティを生
じることのない、高密度記録が可能な高性能な磁気ディ
スク装置を提供することをも目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and suppresses abnormal growth of a magnetic film formed on a resin substrate and achieves high reliability capable of performing stable recording and reproduction. An object of the present invention is to provide a magnetic disk and a method of manufacturing the same. Further, the present invention provides a magnetic disk having excellent flatness of the surface (the contact surface of the magnetic head) to reduce head crash and thermal asperity even when the distance between the medium and the head (head flying height) is shortened. It is another object of the present invention to provide a high-performance magnetic disk drive capable of performing high-density recording without causing any problem.

【００１２】[0012]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明では、樹脂基板上に金属の薄膜をコーティ
ングした後に、磁気記録膜を形成する。ここで用いる金
属薄膜は、結晶構造がｂｃｃあるいはｈｃｐである金属
元素により形成する。具体的には、この金属のコーティ
ング用の金属元素として、Ｔｉ，Ｔａ，Ｚｒ，Ｎｂ，
Ｗ，Ｍｏのうちより選ばれる少なくとも１種類の元素を
用いる。この金属のコーティング膜は、金属薄膜の組織
が微粒子もしくは非晶質に近い構造であることが好まし
い。According to the present invention, a magnetic recording film is formed after coating a thin metal film on a resin substrate. The metal thin film used here is formed of a metal element having a crystal structure of bcc or hcp. Specifically, as metal elements for coating the metal, Ti, Ta, Zr, Nb,
At least one element selected from W and Mo is used. The metal coating film preferably has a structure in which the structure of the metal thin film is close to fine particles or amorphous.

【００１３】こうして、本発明によると、樹脂基板上に
少なくとも、金属の薄膜と、配向性制御膜と、磁気記録
膜と、保護膜とが、この順序で形成されていることを特
徴とする磁気ディスクが得られる。Thus, according to the present invention, at least a metal thin film, an orientation control film, a magnetic recording film, and a protective film are formed in this order on a resin substrate. A disk is obtained.

【００１４】金属のコーティング膜を樹脂基板表面に形
成することにより、磁気記録膜の結晶成長を制御でき、
形成される結晶粒子のサイズ及び磁気記録媒体の表面の
凹凸を制御できる。その結果、磁気ディスクの表面の凹
凸を、膜面に垂直方向に５ｎｍｐ−ｐ以下、膜面に平行
方向に周期１μｍ以上に抑制することが可能となる。こ
れにより、磁気ヘッドがディスク上を安定して飛行する
ことができる。By forming a metal coating film on the surface of the resin substrate, the crystal growth of the magnetic recording film can be controlled,
The size of the crystal grains to be formed and the irregularities on the surface of the magnetic recording medium can be controlled. As a result, irregularities on the surface of the magnetic disk can be suppressed to 5 nmp-p or less in the direction perpendicular to the film surface and 1 μm or more in the direction parallel to the film surface. This allows the magnetic head to fly over the disk stably.

【００１５】このように、磁気記録媒体を平坦化できる
のは、金属コーティング膜を形成した後に磁気記録膜を
作製すると、磁性膜の結晶成長を制御できるからであ
る。配向性制御膜を介して磁気記録膜を形成すると、膜
構造の制御性をさらに向上させることができる。The reason why the magnetic recording medium can be flattened is that if the magnetic recording film is formed after forming the metal coating film, the crystal growth of the magnetic film can be controlled. When the magnetic recording film is formed via the orientation control film, the controllability of the film structure can be further improved.

【００１６】この効果は、金属コーティング膜を形成す
ることで、その表面エネルギーがガラス基板あるいは表
面にＮｉＰ層を形成したＡｌ基板の表面エネルギーと同
等になるために得られる。したがって、樹脂基板上に表
面エネルギーを制御するための膜を設けた後に、金属コ
ーティング膜を形成し、その上に磁気記録膜を形成する
と、磁気記録膜の制御性がさらに向上する。樹脂基板の
表面エネルギーを制御するための制御膜としては、無機
化合物の誘電体からなる膜を用いることができる。具体
的には、窒化シリコン、酸化シリコン、酸化アルミニウ
ム、酸化クロム、窒化チタン、窒化タンタルのうちから
選ばれる少なくとも１種類の材料層を用いればよい。This effect is obtained because the surface energy of the metal coating film becomes equal to the surface energy of a glass substrate or an Al substrate having a NiP layer formed on the surface. Therefore, if a metal coating film is formed after providing a film for controlling surface energy on the resin substrate, and a magnetic recording film is formed thereon, controllability of the magnetic recording film is further improved. As a control film for controlling the surface energy of the resin substrate, a film made of an inorganic compound dielectric can be used. Specifically, at least one material layer selected from silicon nitride, silicon oxide, aluminum oxide, chromium oxide, titanium nitride, and tantalum nitride may be used.

【００１７】こうして、本発明によると、樹脂基板上に
少なくとも、無機化合物の誘電体からなる表面エネルギ
ー制御膜と、金属の薄膜と、配向性制御膜と、磁気記録
膜と、保護膜とが、この順序で形成されていることを特
徴とする磁気ディスクが得られる。Thus, according to the present invention, at least a surface energy control film made of a dielectric material of an inorganic compound, a metal thin film, an orientation control film, a magnetic recording film, and a protective film are formed on a resin substrate. A magnetic disk characterized by being formed in this order is obtained.

【００１８】あるいは、樹脂基板の表面にエポキシ系樹
脂、紫外線硬化型樹脂、ポリイミド系樹脂等の樹脂から
なる膜を設けた後に、金属コーティング膜を形成し、そ
の上に磁気記録膜を形成してもよい。金属コーティング
膜や表面エネルギー制御膜は、樹脂基板から滲出してく
る腐食成分が磁気記録媒体中に拡散するのを防ぐ役割も
果たす。Alternatively, after a resin film such as an epoxy resin, an ultraviolet curable resin, or a polyimide resin is provided on the surface of the resin substrate, a metal coating film is formed, and a magnetic recording film is formed thereon. Is also good. The metal coating film and the surface energy control film also play a role in preventing corrosion components oozing from the resin substrate from diffusing into the magnetic recording medium.

【００１９】前述したように、表面を金属コーティング
した樹脂基板上に形成する磁気記録媒体は、配向性制御
膜、磁性膜、保護膜の３つの部分からなり、この順序で
樹脂基板上に形成したものであることが好ましい。As described above, a magnetic recording medium formed on a resin substrate whose surface is coated with a metal is composed of three parts, an orientation control film, a magnetic film, and a protective film, and is formed on the resin substrate in this order. Preferably, it is

【００２０】配向性制御膜としては、Ｃｒを主体とする
合金を用い、Ｃｒに固溶し、かつ、Ｃｒとイオン半径の
異なる金属元素を添加した合金膜を用いることができ
る。添加する元素は、Ｔｉ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗ，Ａｌ，
Ｖ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｎｉ，Ｍｎのうちより選ばれる少なく
とも１種類の元素とすることができる。この配向性制御
膜を２層構造とし、段階的に格子面間隔を変化させ、最
も磁気記録膜に近い層の格子面間隔が磁性膜の格子面間
隔に最も近い値となるように合金組成を制御してもよ
い。この場合、第１層目はＣｒ、第２層目をＣｒ合金と
してもよい。配向性制御膜を１層とするか２層とするか
は、用いる磁性膜の組成や材料により決定される。制御
の結果、格子面間隔の差が、１０％以内であるように制
御すればよい。As the orientation control film, an alloy film containing Cr as a main component, and an alloy film which is dissolved in Cr and added with a metal element having an ionic radius different from that of Cr can be used. Elements to be added are Ti, Ta, Mo, W, Al,
At least one element selected from V, Zr, Nb, Ni, and Mn can be used. This orientation control film has a two-layer structure, and the lattice spacing is changed stepwise, and the alloy composition is adjusted so that the lattice spacing of the layer closest to the magnetic recording film becomes the value closest to the lattice spacing of the magnetic film. It may be controlled. In this case, the first layer may be made of Cr and the second layer may be made of a Cr alloy. Whether the orientation control film is composed of one layer or two layers is determined by the composition and material of the magnetic film used. As a result of the control, the control may be performed so that the difference between the lattice plane intervals is within 10%.

【００２１】磁気記録用の磁性膜は、Ｃｏを主体とし、
これに、Ｔａ，Ｐｔ，Ｃｒ，Ｔｉ，Ｎｉ，Ｎｂのうちよ
り選ばれる少なくとも２種類あるいは３種類の元素を含
み、さらに優位には、磁性膜がＸ線的に結晶質である膜
であることが好ましい。あるいは、Ｃｏ単体あるいは、
ＣｏにＴａ，Ｐｔ，Ｃｒ，Ｔｉ，Ｎｉ，Ｎｂのうちより
選ばれる少なくとも２種類あるいは３種類の元素を含ん
だ合金に、窒化シリコン、窒化アルミニウム、酸化シリ
コン、酸化アルミニウム、窒化チタンのうちより選ばれ
る少なくとも１種類の化合物を分散させるか、または、
窒化シリコン、窒化アルミニウム、酸化シリコン、酸化
アルミニウム、窒化チタンのうちより選ばれる少なくと
も１種類の化合物の中に、Ｃｏ単体あるいはＣｏにＴ
ａ，Ｐｔ，Ｃｒ，Ｔｉ，Ｎｉ，Ｎｂのうちより選ばれる
少なくとも２種類あるいは３種類の元素を含んだ合金を
分散させた磁性膜を用いてもよい。The magnetic film for magnetic recording is mainly composed of Co,
It contains at least two or three elements selected from Ta, Pt, Cr, Ti, Ni, and Nb, and more preferably, the magnetic film is a film that is X-ray crystalline. Is preferred. Alternatively, Co alone or
An alloy containing at least two or three elements selected from Ta, Pt, Cr, Ti, Ni, and Nb in Co is selected from silicon nitride, aluminum nitride, silicon oxide, aluminum oxide, and titanium nitride. Dispersing at least one compound, or
In at least one compound selected from silicon nitride, aluminum nitride, silicon oxide, aluminum oxide, and titanium nitride, Co alone or T
A magnetic film in which an alloy containing at least two or three elements selected from a, Pt, Cr, Ti, Ni, and Nb may be used.

【００２２】保護膜としては、Ｃ，ＷＣ，ＴｉＣ，Ｔａ
Ｃ，ＮｂＣのうちより選ばれる少なくとも１種類の化合
物を用いることが好ましい。保護膜の作製は、窒素含有
雰囲気で行ってもよい。これにより、膜を構成する粒子
が微細化するので、薄くしても保護性能の高い膜が得ら
れる。C, WC, TiC, Ta
It is preferable to use at least one compound selected from C and NbC. The production of the protective film may be performed in a nitrogen-containing atmosphere. As a result, the particles constituting the film are miniaturized, so that a film having a high protection performance can be obtained even when the film is thin.

【００２３】樹脂基板上にこれらの膜を形成する際に
は、樹脂基板の軟化温度以下の温度で成膜しなければな
らないことは言うまでもない。また、上記の磁気記録媒
体の中で、特に、磁気記録用の磁性膜を作製するのに、
成膜時に、磁気ディスク用の樹脂基板に対して、バイア
ス電圧を印加して作製することが好ましい。このように
して作製した磁気ディスクを、磁気ディスク駆動手段、
磁気ヘッド、磁気ヘッド駆動手段、信号処理回路等から
なる磁気ディスク装置に組み込むことで、高性能かつ高
信頼性の磁気ディスク装置を得ることができる。When these films are formed on the resin substrate, it is needless to say that the film must be formed at a temperature lower than the softening temperature of the resin substrate. In addition, among the above magnetic recording media, in particular, for producing a magnetic film for magnetic recording,
It is preferable that a bias voltage is applied to a resin substrate for a magnetic disk during film formation. The magnetic disk manufactured in this manner is used as a magnetic disk drive,
By incorporating the magnetic disk device into a magnetic disk device including a magnetic head, a magnetic head driving unit, a signal processing circuit, and the like, a high-performance and highly reliable magnetic disk device can be obtained.

【００２４】樹脂基板上に磁気記録媒体の作製を行うス
パッタリング法としては、マイクロ波、高周波、あるい
は、直流のうちより選ばれる少なくとも１種類のエネル
ギーにより、放電ガスを加速することが好ましい。用い
る放電ガスは、Ａｒ，Ｈｅ，Ｋｒ，Ｘｅ，Ｎｅのうちよ
り選ばれる少なくとも１種類のガスとすることができ
る。As a sputtering method for producing a magnetic recording medium on a resin substrate, it is preferable to accelerate a discharge gas by at least one kind of energy selected from microwave, high frequency, and direct current. The discharge gas used can be at least one kind of gas selected from Ar, He, Kr, Xe, and Ne.

【００２５】[0025]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て具体的に説明する。 〔実施例１〕図１に断面模式図を示す磁気ディスクを作
製した。磁気ディスク用の樹脂基板１として、アモルフ
ァスポリオレフィン（ＡＰＯ）基板を用いた。ディスク
基板１のサイズは直径３．５インチであり、基板表面は
平坦である。ＡＰＯ基板１上には、金属コーティング膜
２、配向性制御膜３、磁性膜４、保護膜５がそれぞれス
パッタ法によって積層して成膜されている。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be specifically described below. Example 1 A magnetic disk whose schematic sectional view is shown in FIG. 1 was manufactured. As a resin substrate 1 for a magnetic disk, an amorphous polyolefin (APO) substrate was used. The size of the disk substrate 1 is 3.5 inches in diameter, and the substrate surface is flat. On the APO substrate 1, a metal coating film 2, an orientation control film 3, a magnetic film 4, and a protective film 5 are respectively formed by lamination by sputtering.

【００２６】次に、磁気ディスクの作製方法について説
明する。成膜に先立って、ＡＰＯ基板１を７０℃で１時
間、真空中でベーキングした。これは、樹脂基板中に含
まれている水分や空気を除去することにより、基板上に
形成される膜の諸特性を安定化するためである。Next, a method for manufacturing a magnetic disk will be described. Prior to the film formation, the APO substrate 1 was baked at 70 ° C. for 1 hour in a vacuum. This is because various characteristics of a film formed on the resin substrate are stabilized by removing moisture and air contained in the resin substrate.

【００２７】ベーキングしたＡＰＯ基板１上に、金属コ
ーティング膜２として、チタン膜をスパッタ法により作
製した。ターゲットに純Ｔｉを、放電ガスにＡｒガスを
使用した。投入ＤＣ電力密度は１０００Ｗ／１５０ｍｍ
φ、放電ガス圧力は２ｍＴｏｒｒである。膜厚は、１０
ｎｍである。この膜の結晶構造をＸ線回折法により調べ
たところ、２Θ＝４４°付近に非常にブロードなピーク
が観測されただけであり、Ｘ線的に非晶質であった。A titanium film was formed as a metal coating film 2 on the baked APO substrate 1 by a sputtering method. Pure Ti was used for the target, and Ar gas was used for the discharge gas. Input DC power density is 1000W / 150mm
φ, the discharge gas pressure is 2 mTorr. The film thickness is 10
nm. When the crystal structure of this film was examined by an X-ray diffraction method, only a very broad peak was observed around 2Θ = 44 °, and the film was X-ray amorphous.

【００２８】金属コーティング膜２上に、磁性膜の配向
性制御膜３として、Ｃｒ₈₀Ｔｉ₂₀合金膜を７５ｎｍの膜
厚に形成した。配向性制御膜３は、ターゲットにＣｒ₈₀
Ｔｉ₂₀合金を、放電ガスに純Ａｒガスを使用して、スパ
ッタ法により形成した。スパッタの条件は、投入ＤＣ電
力密度が１０００Ｗ／１５０ｍｍφ、放電ガス圧力が３
０ｍＴｏｒｒである。A Cr ₈₀ Ti ₂₀ alloy film having a thickness of 75 nm was formed on the metal coating film 2 as the magnetic film orientation control film 3. The orientation control film 3 has a target of Cr ₈₀
The Ti ₂₀ alloy, using a pure Ar gas in the discharge gas, was formed by sputtering. The sputtering conditions are as follows: input DC power density is 1000 W / 150 mmφ, discharge gas pressure is 3
0 mTorr.

【００２９】その上に、磁気記録用の磁性膜４としてＣ
ｏ₆₉Ｃｒ₁₉Ｐｔ₁₂合金膜を２０ｎｍの膜厚に形成した。
ここで、スパッタ中は基板をＡＰＯ樹脂の軟化温度以下
の温度である８０℃に加熱した。磁性膜の成膜に当たっ
ては、ターゲットにＣｏ₆₉Ｃｒ₁₉Ｐｔ₁₂合金を、放電ガ
スに純Ａｒガスを使用し、スパッタの条件は配向性制御
膜３の成膜時と同じにした。On top of that, C is used as a magnetic film 4 for magnetic recording.
An o ₆₉ Cr ₁₉ Pt ₁₂ alloy film was formed to a thickness of 20 nm.
During the sputtering, the substrate was heated to 80 ° C., which is lower than the softening temperature of the APO resin. In forming the magnetic film, a Co ₆₉ Cr ₁₉ Pt ₁₂ alloy was used as a target, and a pure Ar gas was used as a discharge gas. The sputtering conditions were the same as those for forming the orientation control film 3.

【００３０】磁性膜４のＸ線回折プロファイルを測定し
たところ、図２に示すようにＣｒの（１１０）が強く配
向していることがわかった。一方、ＡＰＯ樹脂基板１上
に金属コーティング膜２を形成しないと、図２に比較例
として示すように、Ｃｒの（１１０）のピークがブロー
ドであり、しかも、ピーク強度も弱いので、結晶配向性
が悪いことがわかる。このように、樹脂基板１上に金属
コーティング膜２を形成してから配向性制御膜３及び磁
性膜４を形成すると、ＣｒＴｉ合金及び磁性膜の配向性
を大きく向上させることができる。When the X-ray diffraction profile of the magnetic film 4 was measured, it was found that (110) of Cr was strongly oriented as shown in FIG. On the other hand, if the metal coating film 2 is not formed on the APO resin substrate 1, the (110) peak of Cr is broad and the peak intensity is weak, as shown in FIG. 2 as a comparative example. Is bad. As described above, when the orientation control film 3 and the magnetic film 4 are formed after the metal coating film 2 is formed on the resin substrate 1, the orientation of the CrTi alloy and the magnetic film can be greatly improved.

【００３１】さらに、磁性膜４の結晶粒子の粒径分布の
標準偏差σは、金属コーティング膜２があると５以下に
なるが、金属コーティング膜がない場合には１５以上と
大きくなる。そのため、樹脂基板１に金属コーティング
膜２を形成し、その上に配向性制御膜３及び磁性膜４を
形成することにより、磁気ディスクの再生信号における
ノイズの低減に効果がある。Further, the standard deviation σ of the particle size distribution of the crystal grains of the magnetic film 4 becomes 5 or less when the metal coating film 2 is provided, but becomes 15 or more when the metal coating film is not provided. Therefore, by forming the metal coating film 2 on the resin substrate 1 and forming the orientation control film 3 and the magnetic film 4 thereon, it is effective in reducing noise in the reproduction signal of the magnetic disk.

【００３２】最後に、保護膜５として、カーボン膜を１
０ｎｍの膜厚に形成した。スパッタの条件は、投入ＤＣ
電力密度が１０００Ｗ／１５０ｍｍφ、放電ガス圧力が
３０ｍＴｏｒｒである。ここでは、スパッタガスにＡｒ
を使用したが、窒素を含むガスを用いてもよい。その場
合には、粒子が微細化するために、得られる膜が緻密化
し、保護性能を向上させることができる。Finally, as the protective film 5, a carbon film is
It was formed to a thickness of 0 nm. The sputtering conditions are DC
The power density is 1000 W / 150 mmφ, and the discharge gas pressure is 30 mTorr. Here, the sputtering gas is Ar
Was used, but a gas containing nitrogen may be used. In that case, since the particles are miniaturized, the obtained film is densified, and the protection performance can be improved.

【００３３】このようにして作製した磁気ディスク上に
潤滑剤を塗布した後に、磁性膜の磁気特性及び磁気ディ
スクとしての特性を評価した。作製した磁性膜の磁気特
性は、保磁力が２．５ｋＯｅ、Ｉｓｖが２．５×１０
^-16ｅｍｕ、Ｍ−Ｈヒステリシスにおけるヒステリシス
の角型性の指標のＳが０．８、Ｓ†が０．９であり、良
好な磁気特性を有していた。また、Ｘ線回折によると、
Ｃｏの（１０１）面が強く配向していることがわかる。
一方、金属コーティング膜２の無い磁気記録媒体では、
保磁力が１．５ｋＯｅと著しく小さく、配向性もＣｏの
（１０１）面の優先配向性が金属コーティング膜２を有
するディスクより低下していた。After the lubricant was applied to the magnetic disk thus manufactured, the magnetic characteristics of the magnetic film and the characteristics of the magnetic disk were evaluated. The magnetic properties of the produced magnetic film were as follows: coercive force: 2.5 kOe, Isv: 2.5 × 10
^-16 emu, the index S of the squareness of the hysteresis in the MH hysteresis was 0.8, and S † was 0.9, indicating good magnetic properties. According to X-ray diffraction,
It can be seen that the (101) plane of Co is strongly oriented.
On the other hand, in a magnetic recording medium without the metal coating film 2,
The coercive force was remarkably small at 1.5 kOe, and the preferred orientation of Co (101) plane was lower than that of the disk having the metal coating film 2.

【００３４】作製した磁気ディスクのＳ／Ｎを評価した
ところ、３８ｄＢであった。このＳ／Ｎは、記録面密度
３ＧＢ／ｉｎｃｈ²に相当する信号を記録した場合のも
のである。このディスクの欠陥レートを測定したとこ
ろ、信号処理を行わない場合の値で、２×１０^-7以下で
あった。これに対して、金属コーティング膜を形成しな
いで作製したディスクの欠陥レートは６×１０^-6と１桁
以上大きかった。磁気ディスクの断面をＳＥＭ観察した
ところ、このように記録できない部分には微小な異物が
付着していた。When the S / N of the manufactured magnetic disk was evaluated, it was 38 dB. This S / N is obtained when a signal corresponding to a recording surface density of 3 GB / inch ² is recorded. When the defect rate of this disk was measured, the value was 2 × 10 ⁻⁷ or less when no signal processing was performed. On the other hand, the defect rate of the disk manufactured without forming the metal coating film was 6 × 10 ^−6, which was one digit or more. When the cross section of the magnetic disk was observed by SEM, minute foreign matter was attached to the portion where recording was not possible.

【００３５】金属コーティング膜を設けないで作製した
磁気ディスクと金属コーティング膜を設けた磁気ディス
クとの間には、記録、再生特性に違いが見られた。特
に、ノイズレベルが、金属コーティング膜を設けない場
合には、設けた場合より３ｄＢ高かった。これは、磁気
ヘッドが安定して浮上できないためである。There was a difference in recording and reproducing characteristics between the magnetic disk manufactured without the metal coating film and the magnetic disk provided with the metal coating film. In particular, when the metal coating film was not provided, the noise level was 3 dB higher than when the metal coating film was provided. This is because the magnetic head cannot stably fly.

【００３６】そこで、磁気ヘッドの浮上量を３０ｎｍに
してディスクを回転させたところ、本発明による磁気デ
ィスクは３６００ｒｐｍで１０００時間以上回転させて
もヘッドクラッシュを生じることなく、安定に記録再生
を行うことができた。これに対して、金属コーティング
膜を形成しないで作製した比較用の磁気ディスクでは、
５〜２０時間でヘッドクラッシュが発生した。この原因
をＳＥＭによる断面観察で調べたところ、比較用の磁気
ディスクは表面に凹凸ができており、この凹凸のために
クラッシュが生じたと考えられる。Therefore, when the magnetic disk was rotated with the flying height of the magnetic head set to 30 nm, the magnetic disk according to the present invention could perform stable recording and reproduction without causing a head crash even when rotated at 3600 rpm for 1000 hours or more. Was completed. On the other hand, in a comparative magnetic disk manufactured without forming a metal coating film,
A head crash occurred in 5 to 20 hours. When the cause was examined by cross-sectional observation using an SEM, it was considered that the magnetic disk for comparison had irregularities on the surface, and this irregularity caused a crash.

【００３７】図３は、磁気ディスク断面の結晶組織を示
すＳＥＭ写真と、その説明のための模式図である。図３
（ａ）は樹脂基板の上に金属コーティング膜を設けた本
発明による磁気ディスクの断面を表し、図３（ｂ）は金
属コーティング膜を設けない比較例の磁気ディスクの断
面を表す。樹脂基板１上に金属コーティング膜２を設け
てから配向性制御膜３及び磁性膜４を形成すると、図３
（ａ）に示すように基板１と垂直方向に磁性膜４の柱状
組織が成長しており、基板と平行方向への成長は見られ
ない。すなわち、結晶粒子サイズが膜厚により変化して
いない。FIG. 3 is an SEM photograph showing the crystal structure of the cross section of the magnetic disk and a schematic diagram for explaining the SEM photograph. FIG.
FIG. 3A shows a cross section of a magnetic disk according to the present invention in which a metal coating film is provided on a resin substrate, and FIG. 3B shows a cross section of a magnetic disk of a comparative example without a metal coating film. When the orientation control film 3 and the magnetic film 4 are formed after providing the metal coating film 2 on the resin substrate 1, FIG.
As shown in (a), the columnar structure of the magnetic film 4 grows in the direction perpendicular to the substrate 1, and no growth in the direction parallel to the substrate is observed. That is, the crystal grain size does not change with the film thickness.

【００３８】一方、樹脂基板１上に金属コーティング膜
を設けない場合、図３（ｂ）の比較例に示すように、基
板１と平行方向への成長が見られ、粒子サイズが磁性膜
厚や配向性制御膜の膜厚により変化する。その結果、粒
径分布の幅が大きくなり、遷移領域の磁区形状が乱れる
ため、この膜を用いて記録再生を行うとノイズレベルが
大きく増大すると考えられる。On the other hand, when the metal coating film is not provided on the resin substrate 1, as shown in the comparative example of FIG. It changes depending on the thickness of the orientation control film. As a result, the width of the particle size distribution becomes large, and the magnetic domain shape of the transition region is disturbed. Therefore, it is considered that the noise level is greatly increased when recording / reproducing is performed using this film.

【００３９】また、金属コーティング膜２の表面エネル
ギーを濡れ角で評価したところ、金属コーティング膜２
の濡れ角はガラス表面の濡れ角と同じであった。ガラス
とＡＰＯとでは濡れ角が異なっているために、従来のガ
ラス基板に対しては良好に成膜できた配向性制御膜や磁
性膜でも、ＡＰＯ基板上に直接成膜すると異常成長する
部分が生じることがある。実際、ＡＰＯ基板上に直接磁
性膜等を成膜して磁気ディスクを作製したところ、基板
表面に凹凸が存在していない平坦な領域上で垂直方向に
平均で５０ｎｍｐ−ｐの凹凸が存在しており、その水平
方向の周期も約１００ｎｍであった。この凹凸を有する
ディスクに潤滑剤を塗布して、磁気ディスク装置として
組み立てて動作させたところ、動作とほぼ同時にヘッド
クラッシュを生じ、記録や再生ができなくなった。When the surface energy of the metal coating film 2 was evaluated by the wetting angle,
Was the same as the wetting angle of the glass surface. Since the wetting angle is different between glass and APO, even if the orientation control film or magnetic film was successfully formed on the conventional glass substrate, there would be a portion where abnormal growth would occur if the film was formed directly on the APO substrate. May occur. Actually, when a magnetic disk or the like was formed directly on an APO substrate to produce a magnetic disk, an average of 50 nm peak-to-peak unevenness was present in the vertical direction on a flat region where no unevenness was present on the substrate surface. And the period in the horizontal direction was also about 100 nm. When a lubricant was applied to the disk having the irregularities, and the disk was assembled and operated as a magnetic disk device, a head crash occurred almost simultaneously with the operation, and recording and reproduction could not be performed.

【００４０】このような現象は、ガラス基板を用いた場
合には見られないものである。このように、ＡＰＯ基板
を用いて金属コーティング膜を設けることなく、直接磁
気記録膜を作製した場合のみに磁性膜に異常成長が生じ
るのは、樹脂基板の表面エネルギーがガラス基板の場合
と異なるためである。本発明によると、表面エネルギー
がガラス基板と同じである金属コーティング膜上に配向
制御膜や磁性膜を設けたため、樹脂基板を用いても異常
成長を抑制でき、表面が平坦な磁性膜を形成できたもの
と考えられる。Such a phenomenon is not observed when a glass substrate is used. As described above, the abnormal growth of the magnetic film occurs only when the magnetic recording film is directly manufactured without providing the metal coating film using the APO substrate because the surface energy of the resin substrate is different from that of the glass substrate. It is. According to the present invention, since an orientation control film or a magnetic film is provided on a metal coating film having the same surface energy as a glass substrate, abnormal growth can be suppressed even when a resin substrate is used, and a magnetic film having a flat surface can be formed. It is thought that it was.

【００４１】この金属コーティング膜２には、配向性制
御膜や磁性膜の異常成長の抑制作用に加えて、導電性が
あるので帯電防止作用がある。これは、スパッタのフレ
ークの吸着防止に効果がある。加えて、金属コーティン
グ膜２には、基板を介して侵入してくる水や、その水が
キャリアとなって運んでくる樹脂基板１中に残留してい
る重合開始剤等の腐食成分を遮断する効果もある。The metal coating film 2 has an antistatic effect because of its conductivity, in addition to the effect of suppressing abnormal growth of the orientation control film and the magnetic film. This is effective in preventing the adsorption of sputter flakes. In addition, the metal coating film 2 blocks corrosive components such as water invading through the substrate and a polymerization initiator remaining in the resin substrate 1 carried by the water as a carrier. There is also an effect.

【００４２】基板上に金属コーティング膜を形成するこ
とは、樹脂基板の他にガラスのような導電性を有してい
ない基板に対しても有効であり、特に帯電しやすい樹脂
基板に対して最も効果が大きい。Forming a metal coating film on a substrate is effective not only for a resin substrate but also for a non-conductive substrate such as glass, and particularly for a resin substrate which is easily charged. Great effect.

【００４３】ここでは、樹脂基板の表面をＴｉでコーテ
ィングした例について説明した。しかし、Ｔｉ以外に
も、Ｔａ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｗ，Ｍｏなどのｂｃｃやｈｃｐ
などの結晶構造を有する金属によって樹脂表面をコーテ
ィングしても同様の効果が得られる。Here, an example in which the surface of the resin substrate is coated with Ti has been described. However, besides Ti, bcc and hcp of Ta, Zr, Nb, W, Mo, etc.
The same effect can be obtained by coating the resin surface with a metal having a crystal structure such as that described above.

【００４４】〔実施例２〕図４に断面構造を模式的に示
す磁気ディスクを作製した。磁気ディスク用の樹脂基板
１として、ＡＰＯ基板を用いた。ディスク基板１のサイ
ズは、直径３．５インチであり、基板表面は平坦であ
る。基板１上に、金属コーティング膜２、第１及び第２
の配向性制御膜６，７、磁性膜４、保護膜５がそれぞれ
スパッタ法によって積層して成膜されている。Embodiment 2 A magnetic disk whose sectional structure is schematically shown in FIG. 4 was manufactured. An APO substrate was used as a resin substrate 1 for a magnetic disk. The size of the disk substrate 1 is 3.5 inches in diameter, and the substrate surface is flat. On a substrate 1, a metal coating film 2, first and second
The orientation control films 6 and 7, the magnetic film 4, and the protective film 5 are respectively formed by lamination by a sputtering method.

【００４５】次に、磁気ディスクの製造方法について説
明する。成膜に先立って、基板１を７０℃で１時間、真
空中でベーキングした。これは、樹脂基板中に含まれる
水分や空気を除去することにより、基板上に形成される
膜の諸特性を安定化するためである。Next, a method for manufacturing a magnetic disk will be described. Prior to the film formation, the substrate 1 was baked at 70 ° C. for 1 hour in a vacuum. This is to stabilize various characteristics of a film formed on the resin substrate by removing moisture and air contained in the resin substrate.

【００４６】ベーキングしたＡＰＯ基板１上に、金属コ
ーティング膜２として、ジルコニウム膜をスパッタ法に
より作製した。ターゲットに純Ｚｒを、放電ガスにＡｒ
ガスを使用した。投入ＤＣ電力密度は１０００Ｗ／１５
０ｍｍφ、放電ガス圧力は２ｍＴｏｒｒである。膜厚
は、１０ｎｍである。この膜の結晶構造をＸ線回折法に
より調べたところ、２Θ＝４４°付近に非常にブロード
なピークが観測されただけであり、Ｘ線的に非晶質であ
った。A zirconium film was formed as a metal coating film 2 on the baked APO substrate 1 by a sputtering method. Pure Zr for the target and Ar for the discharge gas
Gas was used. Input DC power density is 1000W / 15
0 mmφ and the discharge gas pressure is 2 mTorr. The film thickness is 10 nm. When the crystal structure of this film was examined by an X-ray diffraction method, only a very broad peak was observed around 2Θ = 44 °, and the film was X-ray amorphous.

【００４７】金属コーティング膜２上に、磁性膜４の第
１の配向性制御膜６として、Ｃｒ膜をスパッタ法により
５０ｎｍの膜厚に形成した。ターゲットはＣｒ、スパッ
タガスはＡｒである。また、スパッタの条件は、投入Ｄ
Ｃ電力密度が１０００Ｗ／１５０ｍｍφ、放電ガス圧力
が３０ｍＴｏｒｒである。次に、第２の配向性制御膜７
として、Ｃｒ₈₀Ｔｉ₂₀合金膜をスパッタ法により２５ｎ
ｍの膜厚に形成した。ターゲットにＣｒ₈₀Ｔｉ₂₀合金
を、放電ガスに純Ａｒガスを使用した。スパッタの条件
は、投入ＤＣ電力密度が１０００Ｗ／１５０ｍｍφ、放
電ガス圧力が３０ｍＴｏｒｒである。On the metal coating film 2, a 50 nm-thick Cr film was formed as a first orientation control film 6 of the magnetic film 4 by a sputtering method. The target is Cr and the sputtering gas is Ar. In addition, the sputtering conditions are as follows:
C The power density is 1000 W / 150 mmφ, and the discharge gas pressure is 30 mTorr. Next, the second orientation control film 7
A Cr ₈₀ Ti ₂₀ alloy film was sputtered to ₂₅ n
m. A Cr ₈₀ Ti ₂₀ alloy was used as a target, and pure Ar gas was used as a discharge gas. The sputtering conditions are as follows: input DC power density is 1000 W / 150 mmφ, and discharge gas pressure is 30 mTorr.

【００４８】その上に、磁気記録用の磁性膜４としてＣ
ｏ₆₉Ｃｒ₁₉Ｔａ₁₂合金膜を２０ｎｍの膜厚に形成した。
ここで、スパッタ中は基板をＡＰＯ樹脂の軟化温度以下
の温度である８０℃に加熱した。ターゲットにはＣｏ₆₉
Ｃｒ₁₉Ｔａ₁₂合金を、放電ガスには純Ａｒガスを使用し
た。スパッタの条件は、配向性制御膜６，７の成膜時と
同じであり、配向性制御膜６，７から磁性膜４まで同一
条件で作製した。本実施例では、磁性膜にＣｏＣｒＴａ
系を用いたので２層の配向性制御膜を用いた。On top of this, a magnetic film 4 for magnetic recording
An o ₆₉ Cr ₁₉ Ta ₁₂ alloy film was formed to a thickness of 20 nm.
During the sputtering, the substrate was heated to 80 ° C., which is lower than the softening temperature of the APO resin. The target is Co ₆₉
A Cr ₁₉ Ta ₁₂ alloy was used, and pure Ar gas was used as a discharge gas. Sputtering conditions were the same as those for forming the orientation control films 6 and 7, and the same processes were performed from the orientation control films 6 and 7 to the magnetic film 4. In this embodiment, the magnetic film is made of CoCrTa.
Since the system was used, a two-layer orientation control film was used.

【００４９】磁性膜４のＸ線回折プロファイルを測定し
たところ、先の実施例と同様に、Ｃｒの（１１０）が強
く配向していることがわかった。金属コーティング膜２
を形成しないと、Ｃｒの（１１０）のピークがブロード
であり、結晶配向性が悪かった。このように、樹脂基板
上１に金属コーティング膜２を形成してから配向性制御
膜６，７及び磁性膜４を形成すると、Ｃｒ及びＣｒＴｉ
合金及び磁性膜の配向性を大きく向上させることができ
る。When the X-ray diffraction profile of the magnetic film 4 was measured, it was found that (110) of Cr was strongly oriented as in the previous embodiment. Metal coating film 2
Was not formed, the peak of Cr (110) was broad, and the crystal orientation was poor. Thus, when the orientation control films 6, 7 and the magnetic film 4 are formed after the metal coating film 2 is formed on the resin substrate 1, Cr and CrTi
The orientation of the alloy and the magnetic film can be greatly improved.

【００５０】磁性膜４の結晶粒子の粒径分布の標準偏差
σは、金属コーティング膜２があると５以下になるが、
金属コーティング膜がない場合には１５以上と大きくな
って磁気ディスクからの再生信号におけるノイズを増大
させることがわかる。最後に、保護膜５として、カーボ
ン膜を１０ｎｍの膜厚に形成した。スパッタの条件は、
投入ＤＣ電力密度が１０００Ｗ／１５０ｍｍφ、放電ガ
ス圧力が３０ｍＴｏｒｒである。The standard deviation σ of the particle size distribution of the crystal grains of the magnetic film 4 becomes 5 or less when the metal coating film 2 is provided.
It can be seen that when there is no metal coating film, the noise is increased to 15 or more and the noise in the reproduction signal from the magnetic disk is increased. Finally, a carbon film having a thickness of 10 nm was formed as the protective film 5. Sputtering conditions are:
The input DC power density is 1000 W / 150 mmφ, and the discharge gas pressure is 30 mTorr.

【００５１】このようにして作製した磁気ディスク上に
潤滑剤を塗布した後に、磁性膜の磁気特性及び磁気ディ
スクとしての特性を評価した。磁性膜の磁気特性は、保
磁力が２．５ｋＯｅ、Ｉｓｖが２．５×１０^-16ｅｍ
ｕ、Ｍ−Ｈヒステリシスにおけるヒステリシスの角型性
の指標のＳが０．８、Ｓ†が０．９であり、良好な磁気
特性を有していた。また、Ｘ線回折によると、Ｃｏの
（１０１）面が強く配向していた。一方、金属コーティ
ング膜２の無い磁気記録媒体では、保磁力が１．５ｋＯ
ｅと著しく小さく、配向性もＣｏの（１０１）面の優先
配向性が金属コーティング膜を有するディスクより低下
していた。After the lubricant was applied to the magnetic disk thus manufactured, the magnetic characteristics of the magnetic film and the characteristics of the magnetic disk were evaluated. The magnetic properties of the magnetic film are as follows: coercive force is 2.5 kOe, Isv is 2.5 × 10 ⁻¹⁶ em
u, the index of the squareness of the hysteresis in the MH hysteresis, S, was 0.8, and S † was 0.9, indicating good magnetic properties. According to X-ray diffraction, the (101) plane of Co was strongly oriented. On the other hand, the magnetic recording medium without the metal coating film 2 has a coercive force of 1.5 kO
e, the orientation was preferentially lower than that of the disk having the metal coating film in the preferred orientation of the (101) plane of Co.

【００５２】作製した磁気ディスクのＳ／Ｎを評価した
ところ、３８ｄＢであった。このＳ／Ｎは、記録面密度
３ＧＢ／ｉｎｃｈ²に相当する信号を記録した場合のも
のである。ノイズレベルは、金属コーティング膜を設け
ることによって設けない場合より３ｄＢ低くなった。こ
のディスクの欠陥レートを測定したところ、信号処理を
行わない場合の値で、２×１０^-7以下であった。また、
磁気ヘッドの浮上量を３０ｎｍにしてディスクを回転さ
せたところ、３６００ｒｐｍで１０００時間以上回転さ
せてもヘッドクラッシュを生じることなく、安定に記録
再生を行うことができた。When the S / N of the manufactured magnetic disk was evaluated, it was 38 dB. This S / N is obtained when a signal corresponding to a recording surface density of 3 GB / inch ² is recorded. The noise level was reduced by 3 dB by providing the metal coating film as compared with the case where no metal coating film was provided. When the defect rate of this disk was measured, the value was 2 × 10 ⁻⁷ or less when no signal processing was performed. Also,
When the disk was rotated with the flying height of the magnetic head set to 30 nm, recording and reproduction could be performed stably without causing a head crash even when the disk was rotated at 3600 rpm for 1000 hours or more.

【００５３】本実施例の磁気ディスクの断面をＳＥＭ観
察したところ、図３（ａ）に示したと同様に、基板１と
垂直方向に磁性膜４の柱状組織が成長しており、基板と
平行方向への成長は見られなかった。すなわち、結晶粒
子サイズが膜厚により変化しないことが確認できた。ま
た、金属コーティング膜２の表面エネルギーを濡れ角で
評価したところ、ガラス表面と同じであった。When the cross section of the magnetic disk of this embodiment was observed with an SEM, the columnar structure of the magnetic film 4 was grown in the direction perpendicular to the substrate 1 in the direction parallel to the substrate, as shown in FIG. No growth was seen. That is, it was confirmed that the crystal grain size did not change with the film thickness. When the surface energy of the metal coating film 2 was evaluated by the wetting angle, it was the same as that of the glass surface.

【００５４】ここでは、樹脂基板の表面をＺｒでコーテ
ィングした場合の例について説明したが、Ｚｒ以外に
も、Ｔａ，Ｔｉ，Ｎｂ，Ｗ，Ｍｏなどのｂｃｃやｈｃｐ
などの結晶構造を有する金属によって樹脂基板表面をコ
ーティングしても同様の効果が得られる。Here, an example in which the surface of the resin substrate is coated with Zr has been described, but in addition to Zr, bcc or hcp of Ta, Ti, Nb, W, Mo, etc.
The same effect can be obtained by coating the surface of the resin substrate with a metal having a crystal structure such as that described above.

【００５５】〔実施例３〕図５に断面構造を模式的に示
す磁気ディスクを作製した。磁気ディスク用の樹脂基板
１として、ＡＰＯ基板を用いた。基板１のサイズは直径
３．５インチであり、基板表面は平坦である。ＡＰＯ基
板１上には、表面エネルギー制御膜８、金属コーティン
グ膜２、配向性制御膜３、磁性膜４、保護膜５がそれぞ
れスパッタ法によって成膜されている。本実施例では、
スパッタ法としてマイクロ波を用いたＥＣＲスパッタ法
を採用した。これは、ＥＣＲスパッタ法を用いると平坦
な膜が得られるからである。特に、基板上に形成する第
１層目をＥＣＲスパッタ法で形成すると、基板表面の凹
凸状態によらずに平坦な膜が得られる。Embodiment 3 A magnetic disk whose cross-sectional structure is schematically shown in FIG. 5 was manufactured. An APO substrate was used as a resin substrate 1 for a magnetic disk. The size of the substrate 1 is 3.5 inches in diameter, and the substrate surface is flat. On the APO substrate 1, a surface energy control film 8, a metal coating film 2, an orientation control film 3, a magnetic film 4, and a protective film 5 are each formed by a sputtering method. In this embodiment,
ECR sputtering using microwaves was employed as the sputtering method. This is because a flat film can be obtained by using the ECR sputtering method. In particular, when the first layer formed on the substrate is formed by ECR sputtering, a flat film can be obtained regardless of the unevenness of the substrate surface.

【００５６】磁気ディスクの作製方法について説明す
る。成膜に先立って、ＡＰＯ基板１を７０℃で３時間、
真空中でベーキングした。その後、ＡＰＯ基板１上に、
表面エネルギー制御膜８として、窒化シリコン膜を作製
した。ターゲットに窒化シリコンを、放電ガスに純Ａｒ
ガスをそれぞれ使用した。投入マイクロ波（周波数：
２．４５ＧＨｚ）の電力は１ｋＷ、放電ガス圧力は１０
ｍＴｏｒｒである。窒化シリコン膜の膜厚は、３０ｎｍ
である。この膜の結晶構造をＸ線回折法により調べたと
ころ、２Θ＝４４°付近に非常にブロードなピークが観
測されただけであり、Ｘ線的に非晶質であった。A method for manufacturing a magnetic disk will be described. Prior to film formation, the APO substrate 1 was heated at 70 ° C. for 3 hours.
Bake in vacuum. Then, on the APO substrate 1,
A silicon nitride film was formed as the surface energy control film 8. Silicon nitride for the target and pure Ar for the discharge gas
Each gas was used. Input microwave (frequency:
2.45 GHz) power is 1 kW, discharge gas pressure is 10
mTorr. The thickness of the silicon nitride film is 30 nm
It is. When the crystal structure of this film was examined by an X-ray diffraction method, only a very broad peak was observed around 2Θ = 44 °, and the film was X-ray amorphous.

【００５７】これに引き続き、金属コーティング膜２と
して、Ｔｉ膜を１０ｎｍの膜厚に形成した。ターゲット
にＴｉを、放電ガスに純Ａｒガスを使用した。また、ス
パッタの条件は、投入ＤＣ電力密度が１０００Ｗ／１５
０ｍｍφ、放電ガス圧力が３０ｍＴｏｒｒである。次
に、磁性膜の配向性制御膜３として、Ｃｒ₈₀Ｔｉ₂₀合金
膜を１００ｎｍの膜厚に形成した。ターゲットにＣｒ₈₀
Ｔｉ₂₀合金を、放電ガスに純Ａｒガスを使用した。投入
マイクロ波電力密度は１０００Ｗ／１５０ｍｍφ、放電
ガス圧力は３０ｍＴｏｒｒである。Subsequently, a Ti film having a thickness of 10 nm was formed as the metal coating film 2. Ti was used as a target, and pure Ar gas was used as a discharge gas. Further, the sputtering conditions are as follows: the input DC power density is 1000 W / 15.
0 mmφ, and the discharge gas pressure is 30 mTorr. Next, a Cr ₈₀ Ti ₂₀ alloy film having a thickness of 100 nm was formed as the orientation control film 3 of the magnetic film. Cr _{80 as} target
The Ti ₂₀ alloy was used pure Ar gas in the discharge gas. The input microwave power density is 1000 W / 150 mmφ, and the discharge gas pressure is 30 mTorr.

【００５８】その上に、磁気記録用の磁性膜４としてＣ
ｏ₆₉Ｃｒ₁₉Ｐｔ₁₂合金膜を２０ｎｍの膜厚に形成した。
ターゲットにＣｏ₆₉Ｃｒ₁₉Ｐｔ₁₂合金を、放電ガスに純
Ａｒガスを使用した。スパッタの条件は、配向性制御膜
３の成膜時と同じである。スパッタ中は基板を軟化温度
以下の温度である８０℃に加熱した。この膜のＸ線回折
プロファイルを測定したところ、先の実施例と同様に、
Ｃｒの（１１０）が強く配向していることがわかった。
表面エネルギー制御膜８及び金属コーティング膜２を形
成していないと、Ｃｒの（１１０）のピークがブロード
で、ピーク強度も弱く、結晶配向性が悪いことがわか
る。On top of this, a magnetic film 4 for magnetic recording
An o ₆₉ Cr ₁₉ Pt ₁₂ alloy film was formed to a thickness of 20 nm.
A Co ₆₉ Cr ₁₉ Pt ₁₂ alloy was used as a target, and pure Ar gas was used as a discharge gas. Sputtering conditions are the same as those for forming the orientation control film 3. During sputtering, the substrate was heated to 80 ° C., which is lower than the softening temperature. When the X-ray diffraction profile of this film was measured, the same as in the previous example,
It was found that (110) of Cr was strongly oriented.
If the surface energy control film 8 and the metal coating film 2 are not formed, the peak of Cr (110) is broad, the peak intensity is weak, and the crystal orientation is poor.

【００５９】このように、表面エネルギー制御膜及び金
属コーティング膜を樹脂基板上に形成すると、ＣｒＴｉ
合金及び磁性膜の配向性を大きく向上させることができ
る。なお、表面エネルギー制御膜８を設けることで、金
属コーティング膜２だけの場合よりＣｒＴｉ合金及び磁
性膜の配向性をさらに向上させることができる。磁性膜
４の結晶粒子の粒径分布の標準偏差σは、表面エネルギ
ー制御膜８及び金属コーティング膜２を用いると５以下
になるが、用いない場合は１５以上と大きくなった。As described above, when the surface energy control film and the metal coating film are formed on the resin substrate, the CrTi
The orientation of the alloy and the magnetic film can be greatly improved. By providing the surface energy control film 8, the orientation of the CrTi alloy and the magnetic film can be further improved as compared with the case where only the metal coating film 2 is used. The standard deviation σ of the particle size distribution of the crystal grains of the magnetic film 4 was 5 or less when the surface energy control film 8 and the metal coating film 2 were used, but increased to 15 or more when they were not used.

【００６０】最後に、保護膜５として、カーボン膜を１
０ｎｍの膜厚に形成した。スパッタの条件は、投入マイ
クロ波電力密度１０００Ｗ／１５０ｍｍφ、放電ガス圧
力３０ｍＴｏｒｒである。Finally, as the protective film 5, a carbon film
It was formed to a thickness of 0 nm. The sputtering conditions are as follows: input microwave power density: 1000 W / 150 mmφ; discharge gas pressure: 30 mTorr.

【００６１】このようにして作製した磁気ディスク上に
潤滑剤を塗布した後に、磁性膜の磁気特性及び磁気ディ
スクとしての特性を評価した。磁性膜の磁気特性は、保
磁力が２．５ｋＯｅ、熱安定性を表す指標であるＩｓｖ
が２．５×１０^-16ｅｍｕ、角形比の指標であるＳが
０．８、Ｓ†が０．９であり、良好であった。Ｘ線回折
によると、Ｃｏの（１０１）面が強く配向していた。こ
の磁気ディスクのＳ／Ｎを評価したところ、３８ｄＢで
あった。また、表面エネルギー制御膜８及び金属コーテ
ィング膜２の無い磁気ディスクでは、保磁力が１．５ｋ
Ｏｅと著しく小さかった。After a lubricant was applied on the magnetic disk thus manufactured, the magnetic characteristics of the magnetic film and the characteristics of the magnetic disk were evaluated. The magnetic properties of the magnetic film are as follows: the coercive force is 2.5 kOe,
Was 2.5 × 10 ⁻¹⁶ emu, S, which is an index of the squareness ratio, was 0.8, and S † was 0.9, which was favorable. According to X-ray diffraction, the (101) plane of Co was strongly oriented. When the S / N of this magnetic disk was evaluated, it was 38 dB. In the case of a magnetic disk without the surface energy control film 8 and the metal coating film 2, the coercive force is 1.5 k.
Oe was extremely small.

【００６２】上記の磁気ディスクを実施例１と同様のデ
ィスクドライブにセットして評価したところ、磁気ヘッ
ドの浮上量を３５ｎｍまで低下させてもヘッドクラッシ
ュを生じること無く１０００時間以上安定に記録再生で
き、実施例１の場合とほぼ同様の結果を得ることができ
た。When the above magnetic disk was set in the same disk drive as in Example 1 and evaluated, it was possible to stably record and reproduce data for 1000 hours or more without causing a head crash even when the flying height of the magnetic head was reduced to 35 nm. Approximately the same results as in Example 1 could be obtained.

【００６３】この例は、金属コーティング膜２の膜厚が
１０ｎｍの場合であるが、この膜厚を３ｎｍ、５ｎｍ、
２０ｎｍ、５５ｎｍと変化させた磁気ディスクを作製し
た。その結果、膜厚３ｎｍ、５ｎｍ及び２０ｎｍの場合
は、金属コーティング膜を設けない場合と大きな違いは
見られなかった。一方、膜厚を５５ｎｍとした場合に
は、金属コーティング膜を設けない場合よりも表面凹凸
が大きくなった。そして、ディスクの記録再生試験を行
ったところ、１０時間程度でヘッドクラッシュし、記録
再生できなくなった。In this example, the thickness of the metal coating film 2 is 10 nm.
A magnetic disk having a thickness of 20 nm or 55 nm was manufactured. As a result, when the film thickness was 3 nm, 5 nm, or 20 nm, there was no significant difference from the case where the metal coating film was not provided. On the other hand, when the film thickness was 55 nm, the surface irregularities were larger than when the metal coating film was not provided. Then, when a recording / reproducing test was performed on the disk, a head crash occurred in about 10 hours, and recording / reproducing became impossible.

【００６４】ここでは、表面エネルギー制御膜として窒
化シリコン膜を用いた例について説明したが、窒化シリ
コンに代えて窒化アルミニウム、酸化シリコン、酸化ア
ルミニウム、窒化チタン、酸化クロムのうちより選ばれ
る少なくとも１種類の化合物を用いても同様の効果が得
られる。また、これらの誘電体膜にＴｉをはじめＴａ，
Ｍｏ，Ｗ，Ａｌ，Ｖ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｎｉ，Ｍｎのうちよ
り選ばれる少なくとも１種類の元素を添加してもよい。
これらの金属元素を添加すると、導電率を容易に増大さ
せることができると同時に、磁気記録媒体の保護性能を
向上させることができる。その結果、基板の帯電を抑制
できると同時に、腐食成分の捕獲効果が増大する。Here, an example in which a silicon nitride film is used as the surface energy control film has been described. However, at least one selected from aluminum nitride, silicon oxide, aluminum oxide, titanium nitride, and chromium oxide instead of silicon nitride is used. The same effect can be obtained by using the compound of formula (1). In addition, these dielectric films include Ti, Ta,
At least one element selected from Mo, W, Al, V, Zr, Nb, Ni, and Mn may be added.
When these metal elements are added, the conductivity can be easily increased, and at the same time, the protection performance of the magnetic recording medium can be improved. As a result, the charge of the substrate can be suppressed, and the effect of capturing the corrosive component increases.

【００６５】本実施例では、磁性膜及び保護膜をＥＣＲ
スパッタ法により作製したが、磁性膜を形成した時点で
十分な平坦性が確保できているので、保護膜はＲＦやＤ
Ｃスパッタ法により作製しても良い。In this embodiment, the magnetic film and the protective film are
The protective film was formed by RF or D, since sufficient flatness was secured at the time when the magnetic film was formed.
It may be produced by the C sputtering method.

【００６６】[0066]

【発明の効果】本発明によると、樹脂基板を用いた磁気
ディスクの表面凹凸を抑制できるので、ヘッドクラッシ
ュやサーマルアスペリティを抑制でき、磁気ディスクの
信頼性を大きく向上させることができる。また、磁性膜
の結晶粒子の粒径分布を制御できるので、Ｓ／Ｎ向上、
特にノイズを低減することができる。さらに、樹脂基板
の帯電を防止でき、静電気による異物の付着を抑制でき
る。その結果、ディスクに記録できない欠陥領域の低減
やヘッドクラッシュの発生を抑制できる。そして、樹脂
基板を用いながら磁気ヘッドの浮上量をガラスやＡｌの
基板等と同様の４０ｎｍ以下とすることができるので、
高密度磁気記録が可能な磁気ディスクを安価に供給でき
る。According to the present invention, since the surface irregularities of a magnetic disk using a resin substrate can be suppressed, head crash and thermal asperity can be suppressed, and the reliability of the magnetic disk can be greatly improved. Further, since the particle size distribution of the crystal grains of the magnetic film can be controlled, the S / N is improved,
In particular, noise can be reduced. Further, charging of the resin substrate can be prevented, and adhesion of foreign matter due to static electricity can be suppressed. As a result, it is possible to reduce the number of defective areas that cannot be recorded on the disk and suppress the occurrence of head crash. Since the flying height of the magnetic head can be reduced to 40 nm or less, which is the same as that of a glass or Al substrate, while using a resin substrate,
A magnetic disk capable of high-density magnetic recording can be supplied at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】本発明による磁気ディスクの一例の断面構造を
示す模式図。FIG. 1 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of an example of a magnetic disk according to the present invention.

【図２】磁気記録媒体の構造を示すＸ線回折プロファイ
ルの図。FIG. 2 is an X-ray diffraction profile showing the structure of a magnetic recording medium.

【図３】磁気記録媒体の断面結晶組織を示す模式図。FIG. 3 is a schematic diagram showing a cross-sectional crystal structure of a magnetic recording medium.

【図４】本発明による磁気ディスクの他の例の断面構造
を示す模式図。FIG. 4 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of another example of the magnetic disk according to the present invention.

【図５】本発明による磁気ディスクの他の例の断面構造
を示す模式図。FIG. 5 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of another example of the magnetic disk according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１…樹脂基板、２…金属コーティング膜、３…配向性制
御膜、４…磁性膜、５…保護膜、６…第１の配向性制御
膜、７…第２の配向性制御膜、８…表面エネルギー制御
膜膜DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Resin board, 2 ... Metal coating film, 3 ... Orientation control film, 4 ... Magnetic film, 5 ... Protective film, 6 ... First orientation control film, 7 ... Second orientation control film, 8 ... Surface energy control film

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────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成９年７月１８日[Submission date] July 18, 1997

【手続補正１】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図２[Correction target item name] Figure 2

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図２】 FIG. 2

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 赤城 協 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 小礒 良嗣 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 二本 正昭 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Akagi Kyo 1-280 Higashi Koigabo, Kokubunji-shi, Tokyo Inside the Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd. (72) Inventor Masaaki Nihon 1-280 Higashi Koigakubo, Kokubunji-shi, Tokyo In-house Hitachi, Ltd.

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 樹脂基板上に少なくとも、金属の薄膜
と、配向性制御膜と、磁気記録膜と、保護膜とが、この
順序で形成されていることを特徴とする磁気ディスク。1. A magnetic disk comprising: a resin substrate on which at least a metal thin film, an orientation control film, a magnetic recording film, and a protective film are formed in this order. 【請求項２】 樹脂基板上に少なくとも、無機化合物の
誘電体からなる表面エネルギー制御膜と、金属の薄膜
と、配向性制御膜と、磁気記録膜と、保護膜とが、この
順序で形成されていることを特徴とする磁気ディスク。2. At least a surface energy control film made of an inorganic compound dielectric, a metal thin film, an orientation control film, a magnetic recording film, and a protective film are formed in this order on a resin substrate. A magnetic disk comprising: 【請求項３】 前記表面エネルギー制御膜は、窒化シリ
コン、酸化シリコン、酸化アルミニウム、酸化クロム、
窒化チタン、窒化タンタルのうちから選ばれる少なくと
も１種類の材料からなることを特徴とする請求項２記載
の磁気ディスク。3. The surface energy control film includes silicon nitride, silicon oxide, aluminum oxide, chromium oxide,
3. The magnetic disk according to claim 2, wherein the magnetic disk is made of at least one material selected from titanium nitride and tantalum nitride. 【請求項４】 前記金属の薄膜は、結晶構造がｂｃｃ又
はｈｃｐである金属元素からなることを特徴とする請求
項１、２又は３記載の磁気ディスク。4. The magnetic disk according to claim 1, wherein the metal thin film is made of a metal element having a crystal structure of bcc or hcp. 【請求項５】 前記金属の薄膜は、Ｔｉ，Ｔａ，Ｚｒ，
Ｎｂ，Ｗ，Ｍｏのうちより選ばれる少なくとも１種類の
元素からなることを特徴とする請求項１、２又は３記載
の磁気ディスク。5. The thin film of the metal is Ti, Ta, Zr,
4. The magnetic disk according to claim 1, comprising at least one element selected from the group consisting of Nb, W, and Mo. 【請求項６】 前記金属の薄膜の組織が微粒子もしくは
非晶質に近い構造であることを特徴とする請求項１、２
又は３記載の磁気ディスク。6. The structure of the metal thin film having a structure close to fine particles or amorphous.
Or the magnetic disk according to 3. 【請求項７】 表面凹凸が、膜面に垂直方向に５ｎｍｐ
−ｐ以下、膜面方向の周期が１μｍ以上であることを特
徴とする請求項１〜６のいずれか１項記載の磁気ディス
ク。7. The surface unevenness is 5 nmp in a direction perpendicular to the film surface.
7. The magnetic disk according to claim 1, wherein the period in the film surface direction is equal to or less than -p and is equal to or greater than 1 [mu] m. 【請求項８】 少なくとも樹脂基板と磁気記録膜とを備
える磁気ディスクの製造方法において、樹脂基板上に金
属の薄膜を形成した後に、磁気記録膜を形成することを
特徴とする磁気ディスクの製造方法。8. A method for manufacturing a magnetic disk comprising at least a resin substrate and a magnetic recording film, wherein a magnetic recording film is formed after forming a thin metal film on the resin substrate. . 【請求項９】 少なくとも樹脂基板と磁気記録膜とを備
える磁気ディスクの製造方法において、樹脂基板の表面
エネルギーをガラス基板あるいは表面にＮｉＰ層を形成
したＡｌ基板の表面エネルギーと同等の値になるように
制御するための表面エネルギー制御膜を設けた後、金属
の薄膜を形成し、そののち磁気記録膜を形成することを
特徴とする磁気ディスクの製造方法。9. A method for manufacturing a magnetic disk having at least a resin substrate and a magnetic recording film, wherein the surface energy of the resin substrate is set to a value equivalent to the surface energy of a glass substrate or an Al substrate having a NiP layer formed on the surface. A method for manufacturing a magnetic disk, comprising: forming a metal thin film after forming a surface energy control film for controlling the magnetic recording film, and then forming a magnetic recording film. 【請求項１０】 請求項９記載の磁気ディスクの製造方
法において、前記表面エネルギー制御膜として、窒化シ
リコン、酸化シリコン、酸化アルミニウム、酸化クロ
ム、窒化チタン、窒化タンタルのうちから選ばれる少な
くとも１種類の材料層を用いることを特徴とする磁気デ
ィスクの製造方法。10. The method of manufacturing a magnetic disk according to claim 9, wherein said surface energy control film is at least one selected from silicon nitride, silicon oxide, aluminum oxide, chromium oxide, titanium nitride, and tantalum nitride. A method for manufacturing a magnetic disk, comprising using a material layer. 【請求項１１】 前記金属として、結晶構造がｂｃｃ又
はｈｃｐである金属元素を用いることを特徴とする請求
項８、９又は１０記載の磁気ディスクの製造方法。11. The method of manufacturing a magnetic disk according to claim 8, wherein a metal element having a crystal structure of bcc or hcp is used as the metal. 【請求項１２】 前記金属として、Ｔｉ，Ｔａ，Ｚｒ，
Ｎｂ，Ｗ，Ｍｏのうちより選ばれる少なくとも１種類の
元素を用いることを特徴とする請求項８、９又は１０記
載の磁気ディスクの製造方法。12. The method according to claim 12, wherein the metal is Ti, Ta, Zr,
11. The method according to claim 8, wherein at least one element selected from Nb, W, and Mo is used.