JPH113856A

JPH113856A - 投影露光方法及び投影露光装置

Info

Publication number: JPH113856A
Application number: JP9171043A
Authority: JP
Inventors: Hideo Haneda; 英夫羽田
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1997-06-11
Filing date: 1997-06-11
Publication date: 1999-01-06

Abstract

(57)【要約】【課題】ステッパーにおいて従来では補正の対象とし
なかっ縦横の倍率成分とスキュー成分を重ね合わせ誤差
を小さくするために補正すること。【解決手段】投影光学系内に投影面内の一つの軸と該
軸に直交する軸との間に任意の投影倍率を発生させると
ともに、該軸の方向を任意に設定できる機構を設けるこ
とを特徴とする投影露光方法及び装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は半導体素子製造用の
ステップ＆リピート方式又はステップ＆スキャン方式を
利用した投影露光方法及び投影露光装置に関し、特に投
影における倍率、及びディストーション等を高度に補正
し、投影露光することが可能な投影露光方法及び投影露
光装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】半導体集積回路の製造工程においては通
常１０数工程のフォトリソグラフィ工程がある。フォト
リソグラフィ工程では投影露光装置としてステッパーと
呼ばれるステップ型投影露光装置が用いられ、前の工程
で形成されたパターンに対する位置合わせ、露光が行な
われる。

【０００３】この時発生する重ね合わせ誤差に各ショッ
トの中心は一致しているが、周辺で位置ずれが発生する
ことがある。該位置ずれの要因には、大きく分けてショ
ットの回転誤差と倍率、ディストーションの誤差がある
ことが判明している。

【０００４】回転誤差を補正する手段については種々の
提案がなされているが、倍率、ディストーションの補正
については未だ充分といえない状況がある。倍率、ディ
ストーションが発生する誤差要因には、．ウエハーのプロセス上生じる熱処理等によるウエハ
ーの伸縮にともなうパターンの変化．気圧等の環境変化、照明条件等の差による投影倍
率、ディストーションの変動．工程により使用する投影露光装置が異なるため生じ
る各投影レンズの倍率、ディストーションの差等がある。

【０００５】通常、倍率、ディストーションの誤差を小
さくするため、投影露光装置には倍率可変機構を持つ投
影レンズが搭載される。倍率可変機構により投影レンズ
の光軸に対し中心対称な１次の倍率成分が補正され、上
記誤差要因，により発生する誤差が解消される。

【０００６】一方、最近の半導体素子製造の高集積化の
流れは新たな要求、即ちショットサイズの拡大と、解像
線幅の均一化がある。該要求に対応するため、各ショッ
ト毎にレチクルとウエハーとを同期スキャンさせて露光
するステップ＆スキャン型の投影露光装置が提案されて
いる。ステップ＆スキャン型の投影露光装置は各ショッ
ト毎に一括で露光する従来のステッパー型の投影露光装
置に比較して、処理時間が長くなるため、工程毎に最適
な投影露光装置を組合せて使用することが考えられてい
る。

【０００７】ステップ＆スキャン型の投影露光装置では
従来のステッパーで知られている前述の誤差要因〜
の倍率、ディストーションに加えて新しい歪が存在す
る。即ちステップ＆スキャン型の投影露光装置ではレチ
クルのスキャン軸とウエハーのスキャン軸が平行でな
く、ある角度を持つと、投影された矩型のレチクル像が
平行四辺形状に歪むスキューと呼ばれる歪が生じる。

【０００８】従って従来の誤差要因〜に加えて更
に、．投影露光装置の型の違いによる平行四辺形状のスキ
ュー歪という誤差要因が新たに加わる。スキューが発生したウ
エハーパターンに対する重ね合わせに対して、ステップ
＆スキャン型の投影露光装置は同量のスキューを発生さ
せて補正可能である。しかしながらステッパーでは光軸
に対して回転対称な倍率と回転しか補正できず、スキュ
ーを補正することは不可能であった。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら重ね合わ
せ精度に対する要求が厳しくなるにつれ、従来補正でき
なかった、あるいは補正していなかった成分も補正を行
ないたいという要求が高まっている。前述の誤差要因
〜の倍率、ディストーションについては１次の倍率成
分補正後の残差をより小さくすること、また従来補正で
きなかった誤差要因のスキューの補正をステッパーに
おいても行ないたいという要求が課題である。

【００１０】更に製造コストを低減させるために、高生
産性の投影露光装置と高解像性能の投影露光装置を最適
に組合せて生産効率を上げるという要求も出ている。こ
のため、幾つかの装置を混ぜて使用する、いわゆる装置
間のマッチング込みでの重ね合わせ精度向上が必要とさ
れている。

【００１１】数種の装置を使用した場合の装置間のショ
ット内の重ね合わせ誤差に対する本発明者の解析による
と、１次の倍率成分の補正後は３次のディストーション
成分と縦横倍率の誤差が支配的であることが判明した。
ここで縦横倍率とは本来方向性のない投影露光装置の投
影光学系の転写像の倍率の面内不均一性を表現したもの
で、以下倍率の大きい方向を長軸、直交する方向を短軸
と呼ぶことにする。

【００１２】特に縦横倍率はその大きさばかりでなく、
長軸の方向が一致しているかどうかも装置間のマッチン
グ精度に大きく影響することが判明した。

【００１３】縦横倍率に関しては、更に、重ね合わせの
対象となる工程が投影面内に取ったｘ軸方向とｙ軸方向
で異なる場合、プロセスを経て各工程毎に倍率変動が異
なると、１次の投影倍率を補正しただけでは、ショット
内で重ね合せ誤差が発生してしまうことが分かった。

【００１４】また露光エネルギーが投影レンズ内で吸収
されてレンズ形状が変化し、投影倍率の変化を起こすこ
とも知られている。投影レンズ内に均一に露光光が入射
されれば倍率の変化は投影面内で均一になるが、回路パ
ターンの制約等により、露光光が投影レンズに不均一に
照射されると、投影倍率が縦と横で異なるという現象が
発生することも明らかとなってきた。

【００１５】ステッパーでは重ね合わせ誤差を小さくす
るためには、従来対象としなかった成分まで補正するこ
とが必要である。その一つは既述の縦横倍率成分、そし
てもう一つはステッパーでは従来発生しなかったスキュ
ー成分である。

【００１６】スキュー成分の発生はステップ＆スキャン
型の投影露光装置が出現し、該装置とステッパーとの重
ね合わせが求められてきたという新しい事情に基づいて
いる。ステップ＆スキャン型の投影露光装置の固有に起
こるこの誤差に対し、従来のステッパーには当然補正機
能がない。しかしながら重ね合わせ精度の向上を図るた
めに、ステッパーにもスキューの補正機能を持つことが
必要となってきている。

【００１７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の投影露光方法及び投影露光装置ではステッ
パーに対し新たに縦横倍率及びスキューを補正する手段
を設けることを特徴とする。

【００１８】縦横倍率では投影倍率を補正する手段と、
直交する軸方向に対して互いに倍率差を発生させる手段
と、該軸を任意の方向に合わせる手段を持ち、補正量に
応じて縦横倍率を制御することを特徴とする。

【００１９】またスキューに関してはステッパーに一軸
のみが倍率可変でかつ投影レンズの光軸を中心にして回
転自在な機構を組み込み、スキューの量に応じて該機構
と投影レンズの倍率、縦横倍率及びレチクルまたはウエ
ハー回転を組合せて補正し、重ね合わせ精度を向上させ
ることを特徴としている。

【００２０】上記の記述から分かるように、実際には縦
横倍率及びスキューの補正は同一の機構を従来のステッ
パーに組み込むことで達成することができる。

【００２１】補正に際してはステッパーに座標を測定す
る手段を持ち、該測定手段による測定値により投影倍
率、縦横倍率差、スキュー等を決定して補正を行なうこ
とができ、重ね合わせ精度の大幅な向上が可能としてい
る。

【００２２】

【発明の実施の形態】図１は本発明の実施形態１の投影
露光装置の要部概略図である。同図においてレチクル３
上に描かれた回路パターンは投影レンズ６によりウエハ
ーステージ７上に載置されたウエハー７ａにステップ＆
リピート方式又はステップ＆スキャン方式で縮小投影さ
れる。

【００２３】投影レンズ６内には公知の倍率補正機構が
あり、気圧等の環境変化による投影倍率の変化や、プロ
セス等の影響によるウエハーの伸縮で発生するウエハー
上のパターン倍率とレチクル投影像との倍率誤差を補正
する。

【００２４】本発明の投影露光装置では従来の倍率補正
機構に加えてレチクル３と投影レンズ６との間に縦横倍
率補正機構５が搭載されているのが特徴である。

【００２５】図２は本発明に係る縦横倍率補正機構５の
構成図である。平行平板のガラス板（平行平板）５１と
該ガラス板５１を任意のたわみ量でたわますアクチュエ
ータ５２が、投影レンズ６の光軸６ａ中心に回転可能な
θステージ５３に搭載されている。θステージ５３を指
定された角度に回転させるθ駆動モータ５５は支持台５
４に固定されている。

【００２６】平行平板５１を特定の軸（α軸）に関し対
称に２次曲線上にたわませると、α軸方向には影響を与
えず、α軸に垂直なβ軸方向に拡大または縮小方向の１
次の倍率変化を与えることができる。平行平板５１のた
わみ量ｈと投影倍率の変化量γには所定の関係があり、
たわみ量ｈを可変量としてコントロールして縦横倍率補
正機構５全体を光軸６ａ中心に回転させることにより、
縦横倍率を制御しながらα軸を任意の方向に一致させる
ことができる。たわみ量ｈが小さい範囲ではたわみ量ｈ
と変化量γは比例関係にあると考えてよい。

【００２７】図１に示した下向きのたわみはβ軸方向の
倍率を拡大させるが、反対側にたわませれば縮小とな
る。たわみ量ｈの量を正負２方向に可変にすると、縦横
倍率補正機構５の光軸回りの回転ストロークを小さくす
ることができる。

【００２８】縦横倍率差は投影面内で所定の投影倍率に
対して、最も大きい方向に倍率誤差が発生している方向
を長軸とし、長軸に直交する方向を短軸とすることで定
義する。縦横倍率差Δｋを Δｋ＝（長軸の投影倍率）／（短軸の投影倍率）とし、長軸の方向θを投影面に設定した直交座標ｘ、ｙ
のｙ軸に対する偏差として定義する。

【００２９】図３は縦横倍率の補正手法である。図３
（Ａ）の様に補正対象となる投影レンズの持つ縦横倍率
差をΔｋ１とし、長軸方向をθ１とする。縦横倍率の影
響で本来矩型の回路パターンは投影レンズにより平行四
辺形に歪んで転写される。図３（Ａ）で発生している縦
横倍率は図２の縦横倍率補正機構のα軸をθ１に一致さ
せ、たわみ量ｈをΔｋ１／（γ／ｈ）とすることで補正
できる。

【００３０】従って図２の縦横倍率補正機構をステッパ
ーに搭載すれば、縦横倍率の絶対値を小さくできる。ま
た装置間の組み合わせにおいても縦横倍率差が補正可能
なため考慮する必要がなくなる。

【００３１】ここで実際に装置間の組み合わせにおいて
図２の縦横倍率補正機構５を働かす手順について説明す
る。通常の重ね合わせでは、基準となる工程に対し工程
間の相対的なずれが最小になるように縦横倍率差を設定
する。ここでは基準工程を装置Ａで作成し、重ね合わせ
る工程を装置Ｂで行なう場合を例に図３を用いて説明す
る。

【００３２】図３（Ａ）に示す様に、装置Ａの投影レン
ズの持つ縦横倍率差をΔｋ１とし、長軸方向をθ１、ま
た縦横倍率差の表示として長軸方向に長さｋ１のベクト
ルを定義する。

【００３３】また、図３（Ｂ）に示す様に、装置Ｂの投
影レンズの持つ縦横倍率差をΔｋ２とし、長軸方向をθ
２、縦横倍率差の表示として長軸方向に長さｋ２のベク
トルを定義する。図３（Ａ）と図３（Ｂ）を重ねて描い
たのが図３（Ｃ）で、従来の縦横倍率の補正機構がない
場合には単に全体の倍率のみを補正して重ね合わせるた
め、ｋ１のベクトルとｋ２のベクトルの差分であるｋ３
の縦横倍率差が発生する。この量をΔｋ３として長軸方
向をθ３とすると図３（Ｄ）に示す様な重ね合わせ誤差
が発生する。

【００３４】そこで装置Ａで作成された基準工程に対し
て装置Ｂで重ね合わせを行なう際には、図２の縦横倍率
補正機構５でα軸をθ３に一致させ、かつたわみ量をΔ
ｋ３の補正を行なうように制御する。この結果、装置間
の投影レンズの持つ縦横倍率差の歪を補正し、重ね合わ
せ誤差を低減することができる。

【００３５】縦横倍率差を補正する過程で発生する光軸
に対し回転対称な倍率誤差は、従来からある投影レンズ
内の倍率補正機能で補正される。また図３（Ｄ）で示し
たように補正する縦横倍率の方向によっては微小ではあ
るが、ショット内にｒｏｔ３で示す回転誤差が発生す
る。この量は縦横倍率差とその方向から容易に算出でき
るため、重ね合わせ動作を行なうときにレチクルもしく
はウエハーをその量だけ回転補正駆動することにより、
重ね合わせ誤差をより低減することができる。

【００３６】縦横倍率補正機構５はスキューの補正にも
使用することができる。本発明の実施形態２はスキュー
補正である。図４はスキューを補正する手順を示すもの
である。図４（Ａ）に示す様にｙ軸に対し角度θａを持
つスキューが発生したウエハーパターンがあるものとす
る。該ウエハーパターンは例えばステップ＆スキャン型
の投影露光装置によって焼き付けられたものである。縦
横倍率補正機構５で発生させる縦横倍率差をΔｋａと
し、Δｋａに図４（Ｂ）の様に Δｋａ＝０．５×ｔａｎθａなるたわみ量を設定し、かつ長軸の方向が４５度になる
ようにβ軸をあわせる。

【００３７】ここで全体の倍率を振り分けるように投影
倍率を補正したのが図４（Ｃ）である。この状態ではシ
ョット回転θｃが残っているため、θｃをレチクル回転
で補正したのが図４（Ｄ）の補正結果で、図４（Ａ）の
パターン歪が実現されてスキューの補正を行なうことが
できる。

【００３８】画面サイズが□２０ｍｍ、スキューの量が
１ｐｐｍで他の誤差が全くないウエハーパターンに対
し、収差のないステッパーで重ね合わせを行なう場合を
例にとると、コーナー部で発生する位置合わせ誤差は１
０ｎｍである。ステッパーで本発明の縦横倍率補正機構
５により４５度方向を長軸とする縦横倍率差を０．５ｐ
ｐｍ発生させ、レチクルを０．５ｐｐｍ回転させると、
丁度１ｐｐｍのスキューを発生させることができ、コー
ナーでの位置合わせ誤差を殆ど０にすることができる。
蛇足ながら、スキューの方向が図４と反対の右下がり方
向の場合には、長軸の方向を１３５度になるようにβ軸
を合わせる。あとは同様に補正できる。

【００３９】実際にはステップ＆スキャン装置に投影倍
率誤差、スキャン倍率誤差があり、ステッパーにも投影
倍率誤差、縦横倍率誤差等がある。従ってステッパー側
で補正を行なうときは投影倍率補正量、縦横倍率の補正
角度及び補正量、ウエハーまたはレチクルの回転補正量
を最適に選ぶことが必要となる。

【００４０】以上の投影光学系での補正に対し、投影光
学系の状態をモニターする手順を実施形態３として示
す。図１の投影露光装置にはＴＴＬアライメントスコー
プ２が搭載されている。該アライメントスコープ２は投
影レンズ６を通して図５に示すレチクル３上のマーク３
ａと、ウエハーステージ７上に載置された基準プレート
９上のマーク９ａとの位置ずれを計測することができる
ので、投影レンズ６の状態がモニターできる。

【００４１】ＴＴＬアライメントスコープ２は対物位置
を駆動しながら、基準レチクル３上の複数個のマークと
基準プレート９上にあってレチクル３上のマークと対応
する位置に配置されている複数個のマークの位置関係を
計測することができる。該計測により投影レンズ６の倍
率等の投影格子の変化をモニターすることが可能であ
る。基準プレート９はウエハーステージ７上にあるの
で、基準プレート９上のマークは１点でもよい。１点で
あっても、ウエハーステージ７を駆動しながらレチクル
３上の複数のマークを計測すれば、ステージ座標基準で
投影レンズ６の倍率等の投影格子の変化を計測すること
が可能である。

【００４２】定期的に上記計測を行ない、投影格子の変
化量に基づいて、投影倍率及び縦横倍率差を制御するこ
とにより、常に安定した投影状態を保つことができる。
このような計測で、例えば、露光等による投影レンズの
投影座標の変化を補正することも可能である。

【００４３】本発明の実施形態４は投影格子を計測する
手法としてフォトクロミック材料を使用した方式であ
る。フォトクロミック材料はある波長の光を当てると、
その場所の透過率が変化する材料である。

【００４４】その原理を利用してウエハー上にフォトク
ロミック材料を塗布してウエハーステージ７上に搭載
し、投影レンズ６の下に送り込んだ後、照明系１から露
光光を照射して、レチクル像をウエハー上のフォトクロ
ミック材料に焼き付ける。そのままウエハーステージ７
を駆動してオフアクシスアライメントスコープ８で焼き
付けられたレチクル像を計測すれば、ウエハーステージ
７の座標基準で投影レンズの投影格子が計測できる。

【００４５】定期的に上記計測を行ない、投影格子の計
測値に基づいて投影倍率及び縦横倍率差を制御すること
で常に安定した投影状態を保つことができる。

【００４６】次にステップ＆スキャン型の投影露光装置
で前の工程が作成されたウエハーに対して本発明のステ
ッパーで位置合わせを行なう方法を実施形態５として説
明する。

【００４７】オフアクシスアライメントスコープ８はウ
エハーステージ７上に載置されたウエハー上のアライメ
ントマーク１０ａを計測する。該ウエハーは図６に示す
様にテップ＆スキャン型の投影露光装置で前の工程が露
光されている。アライメントマーク１０ａの計測に当た
っては複数ショット内の複数マークを計測することによ
り、ウエハー内のショット配列誤差（位置ずれ、倍率、
回転、直交度）とショット内誤差（倍率、回転、スキュ
ー、縦横倍率差）を分離することができる。

【００４８】複数ショットの選択はウエハーの中心に対
してバランスよく選択することが好ましく、複数マーク
の選択ではショットのコーナー近辺の４ケ所を含む選択
が好ましい。

【００４９】この結果、ショット配列に関してはウエハ
ーステージの座標補正、ショット内の誤差に関しては投
影倍率、縦横倍率補正（角度、量）及びウエハーまたは
レチクルの回転補正を行なえば、ステップ＆スキャン型
の投影露光装置で作成されたウエハーパターンに対して
も、精度よく位置合わせし露光することができる。

【００５０】実施形態５ではオフアクシスアライメント
スコープを用いてウエハーを観察する方式を示したが、
同様のことは実施形態６としてＴＴＬアライメントスコ
ープ２を用いても実現できる。ＴＴＬアライメントスコ
ープ２には露光光を用いて位置計測可能なシステムが搭
載されており、レチクル３とウエハーの重ね合わせずれ
を直接検出することができる。アライメントスコープ２
ではウエハーの誤差と装置の誤差が重畳した状態で観察
されるため、補正量を直接求めることができる。この場
合、縦横倍率補正機構と倍率補正機構とレチクルまたは
ウエハーの回転補正の駆動量がショット内補正成分とし
てＴＴＬアライメントスコープによる計測値で決定され
る。

【００５１】実施形態５及び６ではショット内の複数点
を計測し、該計測結果より補正を行なう例を示したが、
先行ウエハーを用いて予め重ね合わせの評価を行ない、
該評価結果を用いることも可能である。先行ウエハーと
は生産に先だって試験的に実際に対象となるウエハーを
露光処理するものである。該評価結果よりショット内の
誤差に関しては一定の投影倍率、縦横倍率（角度、量）
及びウエハーまたはレチクルの回転補正を行ない、ショ
ット配列の補正のみをウエハー毎に行なうことにより、
ショット内のアライメントマークの計測点数を減らすこ
とができ、スループットの向上を達成することができ
る。

【００５２】

【発明の効果】以上述べてきたように本発明ではステッ
プ型の投影露光装置であるステッパーにおいて、投影面
内の一つの軸と該軸に直交する軸との間に任意の投影倍
率を発生させるとともに該軸の方向を任意に設定できる
機構を投影光学系内に設けることにより、従来補正の対
象としなかっ縦横の倍率成分とスキュー成分を補正する
ことを可能とした。このため複数の装置を用いたときの
装置間のマッチングや、ステップ＆スキャン型の投影露
光装置で作成されたウエハーパターンとの重ね合わせ精
度が飛躍的に向上し、高集積化が求められている半導体
素子製作上の要求に対応することが可能となった。

【００５３】また本発明では、複数の装置間の重ね合わ
せ精度を向上させたため、製造コストを低減させるため
に求められている高生産性の装置と高解像性能の装置の
最適組み合わせの幅を広げることが可能となり、生産効
率の向上にも寄与するところが大きい。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態１の投影露光装置の構成図、

【図２】本発明の縦横倍率補正機構、

【図３】縦横倍率が発生した時の補正手順を示す図、

【図４】スキューが発生した時の補正手順を示す図、

【図５】レチクル及び基準プレート上のマークの一例、

【図６】ステップ＆スキャン投影露光装置で作成したウ
エハーパターン。

【符号の説明】

１照明系、２アライメントスコープ、３レチクル、４レチクルステージ、５縦横倍率補正機構、６投影レンズ、７ウエハーステージ、８オフアクシスアライメントスコープ、９基準プレート、１０ウエハーアライメントマーク、５１ガラス板、５２たわみ駆動アクチュエータ、５３ θステージ、５４支持台、５５ θ駆動モータ。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】第１物体の像を第２物体に投影光学系に
より露光転写する投影露光装置おいて、該投影光学系が
像を形成する投影面内の一軸方向と該一軸方向と直交す
る直交軸との間に、任意の投影倍率差を発生させる縦横
倍率補正機構を備えていることを特徴とする投影露光装
置。
【請求項２】該縦横倍率補正機構が前記投影面内の一
軸方向を任意に選択することが可能なことを特徴とする
請求項１記載の投影露光装置。
【請求項３】前記投影光学系が倍率補正機構を備えて
いることを特徴とする請求項２記載の投影露光装置。
【請求項４】前記縦横倍率補正機構が第１物体と該投
影光学系との間に配置されていることを特徴とする請求
項３記載の投影露光装置。
【請求項５】前記縦横倍率補正機構が平行平板を所定
の量、可変にたわませることのできる機構により構成さ
れていることを特徴とする請求項４記載の投影露光装
置。
【請求項６】前記縦横倍率補正機構が平行平板を所定
の軸に対して対称な２次曲線状にたわませることを特徴
とする請求項５記載の投影露光装置。
【請求項７】前記縦横倍率補正機構の平行平板のたわ
み量が正負２方向に制御可能なことを特徴とする請求項
６記載の投影露光装置。
【請求項８】前記縦横倍率補正機構を駆動する際、前
記倍率補正機構を同時に駆動することを特徴とする請求
項３記載の投影露光装置。
【請求項９】前記縦横倍率補正機構と前記倍率補正機
構を駆動する際、前記第１物体の回転を行なうことを特
徴とする請求項８記載の投影露光装置。
【請求項１０】前記縦横倍率補正機構と前記倍率補正
機構を駆動する際、前記第２物体の回転を行なうことを
特徴とする請求項８記載の投影露光装置。
【請求項１１】前記縦横倍率補正機構の軸を前記投影
露光装置の投影面内に設定されたｘ、ｙ軸に対し概ね４
５度方向に設定するとともに、縦横倍率差Δｋ１をスキ
ューの発生方向をｙ軸に対しθ１としたとき、 Δｋ１＝０．５×ｔａｎθ１発生させることを特徴とする請求項３記載の投影露光装
置。
【請求項１２】前記縦横倍率補正機構の軸を前記投影
露光装置の投影面内に設定されたｘ、ｙ軸に対し概ね４
５度方向に設定するとともに、前記倍率補正機構と前記
第１物体の回転を同時に駆動することを特徴とする請求
項１１記載の投影露光装置。
【請求項１３】前記縦横倍率補正機構の軸を前記投影
露光装置の投影面内に設定されたｘ、ｙ軸に対し概ね４
５度方向に設定するとともに、前記倍率補正機構と前記
第２物体の回転を同時に駆動することを特徴とする請求
項１２記載の投影露光装置。
【請求項１４】前記縦横倍率補正機構と前記倍率補正
機構を駆動量を、前記投影露光装置に備えられたＴＴＬ
アライメントスコープによる計測値を用いて決定するこ
とを特徴とする請求項８記載の投影露光装置。
【請求項１５】前記ＴＴＬアライメントスコープの計
測を基準となる第１物体上のマークと投影面上に設けら
れた基準マークで行なうことを特徴とする請求項１４記
載の投影露光装置。
【請求項１６】前記ＴＴＬアライメントスコープの計
測を、該第１物体上に設けられた複数個のマークと該投
影面上の対応する位置に設けられた複数個の基準マーク
で行なうことを特徴とする請求項１５記載の投影露光装
置。
【請求項１７】前記ＴＴＬアライメントスコープの計
測を、該第１物体上に設けられた複数個のマークに対し
該投影面上に設けられた一つの基準マークを駆動しなが
ら行なうことを特徴とする請求項１５記載の投影露光装
置。
【請求項１８】前記縦横倍率補正機構と前記倍率補正
機構と前記第１または第２物体の回転補正駆動量を、前
記投影露光装置に備えられたＴＴＬアライメントスコー
プによる計測値を用いて決定することを特徴とする請求
項１４記載の投影露光装置。
【請求項１９】前記ＴＴＬアライメントスコープの計
測を該第１物体上に設けられた複数個のマークとウエハ
ーを観察した結果に基づいて行なうことを特徴とする請
求項１８記載の投影露光装置。
【請求項２０】前記縦横倍率補正機構と前記倍率補正
機構の駆動量を、前記投影露光装置に備えられたオフア
クシスアライメントスコープによる計測値を用いて決定
することを特徴とする請求項８記載の投影露光装置。
【請求項２１】前記縦横倍率補正機構と前記倍率補正
機構と前記第１または第２物体の回転補正の駆動量を、
前記投影露光装置に備えられたオフアクシスアライメン
トスコープによる計測値を用いて決定することを特徴と
する請求項２０記載の投影露光装置。
【請求項２２】前記オフアクシスアライメントスコー
プによる計測を前記投影露光装置によって露光されたフ
ォトクロミック材料を用いて行なうことを特徴とする請
求項２１記載の投影露光装置。
【請求項２３】前記オフアクシスアライメントスコー
プによる計測をウエハー上に形成されたアライメントマ
ークを観察して行なうことを特徴とする請求項２１記載
の投影露光装置。
【請求項２４】前記観察するアライメントマークが複
数のショット内の複数個のマークであることを特徴とす
る請求項２３記載の投影露光装置。
【請求項２５】前記オフアクシスアライメントスコー
プによる計測に従い、前記投影露光装置の投影ショット
の配列に関しては第２物体の搭載されたステージ座標で
補正し、該ショット内の補正に関しては該縦横倍率補正
機構と前記倍率補正機構と前記第１または第２物体の回
転機構を駆動して行なうことを特徴とする請求項２４記
載の投影露光装置。
【請求項２６】前記第１物体と第２物体の位置合わせ
露光において、先行して露光した第２物体の評価に基づ
いて、該ショット内誤差については第１または第２物体
の回転補正と前記投影光学系の倍率補正及び縦横倍率補
正を一定値で行ない、ショット配列の誤差のみを前記第
２物体の搭載されたステージの座標で補正することを特
徴とする請求項８記載の投影露光装置。
【請求項２７】第１物体の像を第２物体に投影光学系
により露光転写する投影露光装置を用いた投影露光方法
において、該投影光学系が像を形成する投影面内の一軸
方向と該一軸方向と直交する直交軸との間に投影倍率差
を発生させる縦横倍率補正機構を設け、該投影倍率差を
制御しながら露光することを特徴とする投影露光方法。
【請求項２８】前記縦横倍率補正機構を駆動する際、
前記投影光学系に備えられた倍率補正機構の駆動と前記
第１又は第２物体の回転を合わせて行なうことを特徴と
する請求項２７記載の投影露光方法。
【請求項２９】前記縦横倍率補正機構の軸を前記投影
露光装置の投影面内に設定されたｘ、ｙ軸に対し概ね４
５度方向に設定するとともに、縦横倍率差Δｋ１をスキ
ューの発生方向をｙ軸に対しθ１としたとき、 Δｋ１＝０．５×ｔａｎθ１発生させるとともに、前記倍率補正機構と前記第１又は
第２物体の回転を同時に駆動することを特徴とする請求
項２８記載の投影露光方法。
【請求項３０】前記縦横倍率補正機構と前記倍率補正
機構と前記第１または第２物体の回転補正の駆動量を、
前記投影露光装置に備えられたＴＴＬアライメントスコ
ープによる計測値を用いて決定することを特徴とする請
求項２９記載の投影露光方法。
【請求項３１】前記ＴＴＬアライメントスコープの計
測を基準となる第１物体上のマークと投影面上に設けら
れた基準マークで行なうことを特徴とする請求項３０記
載の投影露光方法。
【請求項３２】前記ＴＴＬアライメントスコープの計
測を該第１物体上に設けられた複数個のマークとウエハ
ーを観察した結果に基づいて行なうことを特徴とする請
求項３０記載の投影露光方法。
【請求項３３】前記縦横倍率補正機構と前記倍率補正
機構と前記第１または第２物体の回転補正駆動量を、前
記投影露光装置に備えられたオフアクシスアライメント
スコープによる計測値を用いて決定することを特徴とす
る請求項２９記載の投影露光方法。
【請求項３４】前記オフアクシスアライメントスコー
プによる計測に従い、前記投影露光装置の投影ショット
の配列に関しては第２物体の搭載されたステージの座標
で補正し、該ショット内の補正に関しては該縦横倍率補
正機構と前記倍率補正機構と前記第１または第２物体の
回転機構を駆動して行なうことを特徴とする請求項３３
記載の投影露光方法。
【請求項３５】前記第１物体と第２物体の位置合わせ
露光において、先行して露光した第２物体の評価に基づ
いて、該ショット内誤差については第１または第２物体
の回転補正と前記投影光学系の倍率補正及び縦横倍率補
正を一定値で行ない、ショット配列の誤差のみを前記第
２物体の搭載されたステージの座標で補正することを特
徴とする請求項２７記載の投影露光方法。