JPH11352426A - マルチビーム走査装置 - Google Patents
マルチビーム走査装置Info
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- JPH11352426A JPH11352426A JP10156119A JP15611998A JPH11352426A JP H11352426 A JPH11352426 A JP H11352426A JP 10156119 A JP10156119 A JP 10156119A JP 15611998 A JP15611998 A JP 15611998A JP H11352426 A JPH11352426 A JP H11352426A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】高価なビーム合成部品を用いずに複数ビームで
被走査面を走査でき、全てのビームについて、ビームス
ポット径、等速性等の光学特性を良好にする。 【構成】複数の光源１，２と、複数の光源をそれぞれカ
ップリングする複数の第１光学系３，４と、第一光学系
からのビームを、主走査方向に長く略線状に集光する第
２光学系５，６と、略線状の集光部の近傍に偏向反射面
７を有し、第２光学系からの複数ビームを等角速度的に
偏向し、偏向反射面とその回転軸７Ａが一定距離離れて
いる偏向器と、偏向器により偏向された複数の偏向ビー
ムを被走査面に向けて集光させ、被走査面を略等速的に
走査する走査結像素子１１，１２を含む第３光学系とを
有し、第２光学系からの複数のビームは、走査結像素子
の外側の同じ側から偏向反射面７に向かい、第２光学系
からの複数のビームのうち少なくとも２つは偏向回転面
内で開き角：γを有し、且つ、第３光学系１１，１２の
少なくとも１つの走査光学素子の光軸が全ての基準線Ｌ
１，Ｌ２からみて、偏向反射面に向かうビーム側にシフ
トして配備される。
被走査面を走査でき、全てのビームについて、ビームス
ポット径、等速性等の光学特性を良好にする。 【構成】複数の光源１，２と、複数の光源をそれぞれカ
ップリングする複数の第１光学系３，４と、第一光学系
からのビームを、主走査方向に長く略線状に集光する第
２光学系５，６と、略線状の集光部の近傍に偏向反射面
７を有し、第２光学系からの複数ビームを等角速度的に
偏向し、偏向反射面とその回転軸７Ａが一定距離離れて
いる偏向器と、偏向器により偏向された複数の偏向ビー
ムを被走査面に向けて集光させ、被走査面を略等速的に
走査する走査結像素子１１，１２を含む第３光学系とを
有し、第２光学系からの複数のビームは、走査結像素子
の外側の同じ側から偏向反射面７に向かい、第２光学系
からの複数のビームのうち少なくとも２つは偏向回転面
内で開き角：γを有し、且つ、第３光学系１１，１２の
少なくとも１つの走査光学素子の光軸が全ての基準線Ｌ
１，Ｌ２からみて、偏向反射面に向かうビーム側にシフ
トして配備される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明はマルチビーム走査
装置に関する。この発明は、デジタル複写装置、ファク
シミリやレーザプリンタにおける光走査装置に利用でき
る。
装置に関する。この発明は、デジタル複写装置、ファク
シミリやレーザプリンタにおける光走査装置に利用でき
る。
【０００２】
【従来の技術】デジタル複写装置等に関連して広く知ら
れた光走査装置は一般に、光源を第１光学系でカップリ
ングし、第１光学系からのビームを主走査方向（光源か
ら被走査面における光路の屈曲を無視して、被走査面上
における主走査方向と対応する方向を言う、副走査方向
についても同様である）に長く略線状に集光し、この線
状の集光部の近傍に偏向反射面を有する偏向器で偏向さ
せ、偏向器による偏向ビームを第３光学系により被走査
面上に集光させて被走査面の走査を行うようになってい
る。近来、光走査の高速化を目して、被走査面を複数ビ
ームで同時に走査するマルチビーム走査装置の実用化が
意図されている。マルチビーム走査装置では複数の光源
が用いられるが、これら複数の光源からの複数ビームを
被走査面上で近接して集光させるために、偏光を利用し
たビーム合成部品を用いて複数ビームを合成することが
提案されている（例えば、特開平８−３０４７２２号公
報）。これに対し、偏光を利用した高価なビーム合成部
品を用いることなくマルチビーム走査を可能にしたもの
として、複数のビームに偏向回転面内（偏向反射面の回
転軸に直交する平面）で「開き角（上記複数ビームを偏
向回転面に射影したときの各ビームの射影のなす角）」
を持たせる方式のマルチビーム走査装置が提案された
（特開平９−１４６０２４号公報）。しかし、この場
合、「偏向反射面とその回転軸が一定距離離れている偏
向器」を用いると、開き角を有する複数のビームで「サ
グ量（各ビームの線状の集光部と偏向反射面とが、偏向
反射面の回転に伴いずれる、ずれ量）」が異なるので、
全てのビームについて良好な光学特性（ビームスポット
径、等速性等）を得るには、ビームごとにサグ量が異な
るという事実に立脚した光学設計が必要になる。
れた光走査装置は一般に、光源を第１光学系でカップリ
ングし、第１光学系からのビームを主走査方向（光源か
ら被走査面における光路の屈曲を無視して、被走査面上
における主走査方向と対応する方向を言う、副走査方向
についても同様である）に長く略線状に集光し、この線
状の集光部の近傍に偏向反射面を有する偏向器で偏向さ
せ、偏向器による偏向ビームを第３光学系により被走査
面上に集光させて被走査面の走査を行うようになってい
る。近来、光走査の高速化を目して、被走査面を複数ビ
ームで同時に走査するマルチビーム走査装置の実用化が
意図されている。マルチビーム走査装置では複数の光源
が用いられるが、これら複数の光源からの複数ビームを
被走査面上で近接して集光させるために、偏光を利用し
たビーム合成部品を用いて複数ビームを合成することが
提案されている（例えば、特開平８−３０４７２２号公
報）。これに対し、偏光を利用した高価なビーム合成部
品を用いることなくマルチビーム走査を可能にしたもの
として、複数のビームに偏向回転面内（偏向反射面の回
転軸に直交する平面）で「開き角（上記複数ビームを偏
向回転面に射影したときの各ビームの射影のなす角）」
を持たせる方式のマルチビーム走査装置が提案された
（特開平９−１４６０２４号公報）。しかし、この場
合、「偏向反射面とその回転軸が一定距離離れている偏
向器」を用いると、開き角を有する複数のビームで「サ
グ量（各ビームの線状の集光部と偏向反射面とが、偏向
反射面の回転に伴いずれる、ずれ量）」が異なるので、
全てのビームについて良好な光学特性（ビームスポット
径、等速性等）を得るには、ビームごとにサグ量が異な
るという事実に立脚した光学設計が必要になる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、偏光を利
用した高価なビーム合成部品を用いずに複数ビームで被
走査面を走査でき、なおかつ、全てのビームについて、
ビームスポット径、等速性等の光学特性を良好にでき
る、高速化・高画質化に対応可能なマルチビーム走査装
置の実現を課題とする。
用した高価なビーム合成部品を用いずに複数ビームで被
走査面を走査でき、なおかつ、全てのビームについて、
ビームスポット径、等速性等の光学特性を良好にでき
る、高速化・高画質化に対応可能なマルチビーム走査装
置の実現を課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】この発明のマルチビーム
走査装置は、複数の光源と、複数の第１光学系と、第２
光学系と、偏向器と、第３光学系とを有する。
走査装置は、複数の光源と、複数の第１光学系と、第２
光学系と、偏向器と、第３光学系とを有する。
【０００５】「複数の光源」は、光走査用のビームをそ
れぞれ独立して放射する。これら光源としては半導体レ
ーザ（ＬＤ）が好適である。「第１光学系」は、これら
複数の光源をそれぞれカップリングする。第１光学系は
各光源に応じて設けられる。カップリングされたビーム
は「平行ビーム」となってもよいし「弱い収束ビームも
しくは弱い発散ビーム」となってもよい。「第２光学
系」は、各第一光学系からのビームを主走査方向に長く
略線状に集光させる光学系であり、シリンダレンズや凹
シリンダミラーを好適に利用することができる。この第
２光学系は、各光源からのビームごとに、即ち、光源と
同数設けても良いが、複数光源に共通して配備してもよ
い。「偏向器」は、略線状の集光部の近傍に偏向反射面
を有し、第２光学系からの複数ビームを等角速度的に偏
向するが、偏向反射面とその回転軸が一定距離離れてい
る。即ち、偏向器は、複数の光源からの各ビームに共通
して用いられ、複数の光源からのビームは、共通の偏向
反射面により偏向される。かかる偏向器としては、回転
多面鏡や回転２面鏡を好適に用いることができるが、偏
向反射面とその回転軸の離れた「回転単面鏡」を用いる
こともできる。「第３光学系」は、偏向器により偏向さ
れた複数の偏向ビームを被走査面に向けて集光させ、被
走査面を略等速的に走査する走査結像素子を含む。第３
光学系は、偏向ビームの光路を屈曲させる折り返しミラ
ー等の光学素子を含むことができる。「走査結像光学
系」は１以上のレンズ、あるいは１以上の結像ミラーに
より構成することができ、更には１以上のレンズと１以
上の結像ミラーの複合系として構成することもできる。
上記第２光学系からの複数のビームは、走査結像素子の
外側の同じ側から偏向反射面に向かい、第２光学系から
の複数のビームのうち少なくとも２つは偏向回転面内で
開き角を有する。「開き角」は、上記２つのビームを
「偏向回転面内に射影した状態」において「各ビームが
偏向反射面の側から第２光学系の側へ向かって開くよう
になす角」を言う。
れぞれ独立して放射する。これら光源としては半導体レ
ーザ（ＬＤ）が好適である。「第１光学系」は、これら
複数の光源をそれぞれカップリングする。第１光学系は
各光源に応じて設けられる。カップリングされたビーム
は「平行ビーム」となってもよいし「弱い収束ビームも
しくは弱い発散ビーム」となってもよい。「第２光学
系」は、各第一光学系からのビームを主走査方向に長く
略線状に集光させる光学系であり、シリンダレンズや凹
シリンダミラーを好適に利用することができる。この第
２光学系は、各光源からのビームごとに、即ち、光源と
同数設けても良いが、複数光源に共通して配備してもよ
い。「偏向器」は、略線状の集光部の近傍に偏向反射面
を有し、第２光学系からの複数ビームを等角速度的に偏
向するが、偏向反射面とその回転軸が一定距離離れてい
る。即ち、偏向器は、複数の光源からの各ビームに共通
して用いられ、複数の光源からのビームは、共通の偏向
反射面により偏向される。かかる偏向器としては、回転
多面鏡や回転２面鏡を好適に用いることができるが、偏
向反射面とその回転軸の離れた「回転単面鏡」を用いる
こともできる。「第３光学系」は、偏向器により偏向さ
れた複数の偏向ビームを被走査面に向けて集光させ、被
走査面を略等速的に走査する走査結像素子を含む。第３
光学系は、偏向ビームの光路を屈曲させる折り返しミラ
ー等の光学素子を含むことができる。「走査結像光学
系」は１以上のレンズ、あるいは１以上の結像ミラーに
より構成することができ、更には１以上のレンズと１以
上の結像ミラーの複合系として構成することもできる。
上記第２光学系からの複数のビームは、走査結像素子の
外側の同じ側から偏向反射面に向かい、第２光学系から
の複数のビームのうち少なくとも２つは偏向回転面内で
開き角を有する。「開き角」は、上記２つのビームを
「偏向回転面内に射影した状態」において「各ビームが
偏向反射面の側から第２光学系の側へ向かって開くよう
になす角」を言う。
【０００６】請求項１記載のマルチビーム走査装置は、
上記の如き構成において「偏向器による複数の偏向ビー
ムの主光線が被走査面上の走査ラインと直交するときの
該各主光線を基準線とするとき、第３光学系の少なくと
も１つの走査光学素子の光軸が上記全ての基準線からみ
て、偏向反射面に向かうビーム側にシフトして配備され
る」ことを特徴とする。「基準線」は、偏向器により偏
向された任意のビームの主光線をそのまま、走査結像光
学系により屈折させることなく被走査面に導いたとすれ
ば、被走査面上で走査ライン（当該ビームにより走査さ
れる線）に直交するであろう状態における主光線を、装
置空間に固定したものであって、一般には各ビームごと
に異なり、偏向回転面内への射影は互いに平行である。
この請求項１記載のマルチビーム走査装置において、第
３光学系の、少なくとも１つの走査光学素子を基準線に
対して、チルト（偏向回転面内で基準線に対して傾ける
ことを言う）して配備されることができる（請求項
２）。即ち、走査結像光学系はシフトとチルトを受ける
ことができる。シフト・チルトはいずれも、走査結像光
学系のサグによる性能劣化を回復させる有効な手段であ
る。請求項３記載のマルチビーム走査装置は、以下の如
き特徴を有する。即ち、上記複数の光源によるビームの
うちの１つのビームの、両最周辺像高での副走査方向結
像位置（両最周辺像高での副走査方向の像面湾曲量を言
う、以下同様）を、S1(+)，S1(-)、上記以外の１つの光
源によるビームの両最周辺像高での副走査方向結像位置
をS2(+)，S2(-)とするとき、これらが条件： （１） (S1(+)-S1(-))×(S2(+)-S2(-))＜0 を満足する。請求項４記載のマルチビーム走査装置は、
以下の如き特徴を有する。即ち、上記複数の光源による
ビームのうちの１つのビームの両最周辺像高での主走査
方向結像位置（両最周辺像高における主走査方向の像面
湾曲量をいう。以下同様）を、M1(+)，M1(-)、上記以外
の１つの光源によるビームの両最周辺像高での主走査方
向結像位置をM2(+)，M2(-)とするとき、これらが条件： （２） (M1(+)-M1(-))×(M2(+)-M2(-))＜0 を満足する。請求項５記載のマルチビーム走査装置は、
以下の如き特徴を有する。即ち、上記複数の光源による
ビームのうちの１つのビームの両最周辺像高での主走査
方向結像位置をM1(+)，M1(-)、副走査方向結像位置をS1
(+)，S1(-)、上記以外の１つの光源によるビームの両最
周辺像高での主走査方向結像位置をM2(+)，M2(-)、副走
査方向結像位置をS2(+),S2(-)とするとき、これらが条
件： （１） (S1(+)-S1(-))×(S2(+)-S2(-))＜0 （２） (M1(+)-M1(-))×(M2(+)-M2(-))＜0 を共に満足する。請求項６記載のマルチビーム走査装置
は、上記請求項１ないし５の任意の１に記載のマルチビ
ーム走査装置において、偏向回転面内に射影した場合、
少なくとも２つのビームが偏向面以後で交差することを
特徴とする。なお、シフトやチルトを行わない場合で
も、走査結像素子の屈折面や反射面を主走査方向および
／または副走査方向において、光軸に関して非対称な形
状とすることにより、上記の条件（１）および／または
（２）を満足させるようにすることができる。
上記の如き構成において「偏向器による複数の偏向ビー
ムの主光線が被走査面上の走査ラインと直交するときの
該各主光線を基準線とするとき、第３光学系の少なくと
も１つの走査光学素子の光軸が上記全ての基準線からみ
て、偏向反射面に向かうビーム側にシフトして配備され
る」ことを特徴とする。「基準線」は、偏向器により偏
向された任意のビームの主光線をそのまま、走査結像光
学系により屈折させることなく被走査面に導いたとすれ
ば、被走査面上で走査ライン（当該ビームにより走査さ
れる線）に直交するであろう状態における主光線を、装
置空間に固定したものであって、一般には各ビームごと
に異なり、偏向回転面内への射影は互いに平行である。
この請求項１記載のマルチビーム走査装置において、第
３光学系の、少なくとも１つの走査光学素子を基準線に
対して、チルト（偏向回転面内で基準線に対して傾ける
ことを言う）して配備されることができる（請求項
２）。即ち、走査結像光学系はシフトとチルトを受ける
ことができる。シフト・チルトはいずれも、走査結像光
学系のサグによる性能劣化を回復させる有効な手段であ
る。請求項３記載のマルチビーム走査装置は、以下の如
き特徴を有する。即ち、上記複数の光源によるビームの
うちの１つのビームの、両最周辺像高での副走査方向結
像位置（両最周辺像高での副走査方向の像面湾曲量を言
う、以下同様）を、S1(+)，S1(-)、上記以外の１つの光
源によるビームの両最周辺像高での副走査方向結像位置
をS2(+)，S2(-)とするとき、これらが条件： （１） (S1(+)-S1(-))×(S2(+)-S2(-))＜0 を満足する。請求項４記載のマルチビーム走査装置は、
以下の如き特徴を有する。即ち、上記複数の光源による
ビームのうちの１つのビームの両最周辺像高での主走査
方向結像位置（両最周辺像高における主走査方向の像面
湾曲量をいう。以下同様）を、M1(+)，M1(-)、上記以外
の１つの光源によるビームの両最周辺像高での主走査方
向結像位置をM2(+)，M2(-)とするとき、これらが条件： （２） (M1(+)-M1(-))×(M2(+)-M2(-))＜0 を満足する。請求項５記載のマルチビーム走査装置は、
以下の如き特徴を有する。即ち、上記複数の光源による
ビームのうちの１つのビームの両最周辺像高での主走査
方向結像位置をM1(+)，M1(-)、副走査方向結像位置をS1
(+)，S1(-)、上記以外の１つの光源によるビームの両最
周辺像高での主走査方向結像位置をM2(+)，M2(-)、副走
査方向結像位置をS2(+),S2(-)とするとき、これらが条
件： （１） (S1(+)-S1(-))×(S2(+)-S2(-))＜0 （２） (M1(+)-M1(-))×(M2(+)-M2(-))＜0 を共に満足する。請求項６記載のマルチビーム走査装置
は、上記請求項１ないし５の任意の１に記載のマルチビ
ーム走査装置において、偏向回転面内に射影した場合、
少なくとも２つのビームが偏向面以後で交差することを
特徴とする。なお、シフトやチルトを行わない場合で
も、走査結像素子の屈折面や反射面を主走査方向および
／または副走査方向において、光軸に関して非対称な形
状とすることにより、上記の条件（１）および／または
（２）を満足させるようにすることができる。
【０００７】
【発明の実施の形態】図１に示す実施の形態において、
「複数の光源」であるＬＤ１、ＬＤ２から出射された各
ビームは、それぞれ「第１光学系」をなすカップリング
レンズ３，４によりカップリングされ、「第２光学系」
をなすシリンダレンズ５，６により、それぞれが偏向反
射面７の近傍で主走査方向に長い略線状に結像する。２
ビームとも、同一の偏向器の共通の偏向反射面７により
反射されて等角速度的に偏向され、「第３光学系の走査
結像光学系」をなす走査レンズ１１、１２により被走査
面２０近傍にビームを結像させ、被走査面２０上に形成
されるビームスポットにより被走査面２０を略等速に走
査する。各ビームスポットは被走査面上において副走査
方向に所定の間隔をなす。従って、該間隔で離れた２本
の走査ラインが同時に走査される。このとき、第２光学
系であるシリンダ５，６を出射した２ビームは偏向回転
面（図１の図面に平行な面）内で開き角：γを有し、偏
向器の偏向反射面７とその回転軸７Ａは一定距離離れて
いる。
「複数の光源」であるＬＤ１、ＬＤ２から出射された各
ビームは、それぞれ「第１光学系」をなすカップリング
レンズ３，４によりカップリングされ、「第２光学系」
をなすシリンダレンズ５，６により、それぞれが偏向反
射面７の近傍で主走査方向に長い略線状に結像する。２
ビームとも、同一の偏向器の共通の偏向反射面７により
反射されて等角速度的に偏向され、「第３光学系の走査
結像光学系」をなす走査レンズ１１、１２により被走査
面２０近傍にビームを結像させ、被走査面２０上に形成
されるビームスポットにより被走査面２０を略等速に走
査する。各ビームスポットは被走査面上において副走査
方向に所定の間隔をなす。従って、該間隔で離れた２本
の走査ラインが同時に走査される。このとき、第２光学
系であるシリンダ５，６を出射した２ビームは偏向回転
面（図１の図面に平行な面）内で開き角：γを有し、偏
向器の偏向反射面７とその回転軸７Ａは一定距離離れて
いる。
【０００８】
【実施例】上記実施の形態に関する具体的な実施例を説
明する。
明する。
【０００９】実施例１ 図１に示す構成において、ＬＤ１、ＬＤ２から出射する
ビームをそれぞれビーム１、ビーム２とする。ビーム１
と基準線Ｌ１（ビーム１の主光線が被走査面２０上の走
査ラインと直交するときの線）のなす角は６０度、ビー
ム２と基準線Ｌ２（ビーム１の主光線が被走査面２０上
の走査ラインと直交するときの線）のなす角は６４．３
度に設定されている。従って、ビーム１，２の開き角：
γは４．３度である。ビーム１、２ともカップリングレ
ンズ３，４により「平行ビーム」とされている。偏向器
は偏向反射面を６面有する「回転多面鏡」であり、回転
軸７Ａから偏向反射面７までの距離は１８ｍｍである。
ビーム１が偏向反射面７により反射されて、その主光線
が基準線Ｌ１に合致するときの「ビーム１の偏向反射面
７への入射角」は３０度、ビーム２が偏向反射面７によ
り反射されて、その主光線が基準線Ｌ２に合致するとき
の「ビーム２の偏向反射面７への入射角」は３２．１５
度であり、勿論、基準線Ｌ１，Ｌ２は、偏向回転面（図
１に示された面）への射影が互いに平行である。
ビームをそれぞれビーム１、ビーム２とする。ビーム１
と基準線Ｌ１（ビーム１の主光線が被走査面２０上の走
査ラインと直交するときの線）のなす角は６０度、ビー
ム２と基準線Ｌ２（ビーム１の主光線が被走査面２０上
の走査ラインと直交するときの線）のなす角は６４．３
度に設定されている。従って、ビーム１，２の開き角：
γは４．３度である。ビーム１、２ともカップリングレ
ンズ３，４により「平行ビーム」とされている。偏向器
は偏向反射面を６面有する「回転多面鏡」であり、回転
軸７Ａから偏向反射面７までの距離は１８ｍｍである。
ビーム１が偏向反射面７により反射されて、その主光線
が基準線Ｌ１に合致するときの「ビーム１の偏向反射面
７への入射角」は３０度、ビーム２が偏向反射面７によ
り反射されて、その主光線が基準線Ｌ２に合致するとき
の「ビーム２の偏向反射面７への入射角」は３２．１５
度であり、勿論、基準線Ｌ１，Ｌ２は、偏向回転面（図
１に示された面）への射影が互いに平行である。
【００１０】第２光学系のシリンダレンズ５，６は同じ
もので、下記のデータを有する。第１面（入射側面）副
走査方向の曲率半径：Ｒ(シリンダ面):４８ｍｍ 第２面：平面 中心肉厚：３ｍｍ 使用波長での屈折率＝１．５１１１８
。
もので、下記のデータを有する。第１面（入射側面）副
走査方向の曲率半径：Ｒ(シリンダ面):４８ｍｍ 第２面：平面 中心肉厚：３ｍｍ 使用波長での屈折率＝１．５１１１８
。
【００１１】第３光学系の走査レンズ１１は両面とも
「共軸非球面」であり、光軸方向の座標をＸ、頂点から
の距離をr、近軸曲率半径をRN、円錐定数をKN、高次の
係数をRNA4、RNA6、RNA8、RNA10、…(Ｎは、入射側面に
就きＮ＝１、射出側面に就きＮ＝２)として、 X=r2/[RN+RN・√｛1-(1+KN)r2/RN2}]+RNA4・r4+RNA6・r
6+RNA8・r8+RNA10・r10 で表すことができる。走査レンズ１１の材質の使用波長
での屈折率をＮ、中心肉厚をＤとすると、上記非球面形
状および屈折率・中心肉厚のデータは以下の通りであ
る。 Ｒ１ −２６４．０ Ｋ１ ２．４４９ Ｒ１Ａ４ ２．５９４Ｅ−０７ Ｒ１Ａ６ １．２５６Ｅ−１１ Ｒ１Ａ８ −２．４１６Ｅ−１３ Ｒ１Ａ１０ ４．９１０Ｅ−１７ Ｄ ２３．３ Ｎ １．５２４４１ Ｒ２ −６１．３ Ｋ２ −０．０２１３ Ｒ２Ａ４ ５．９４９Ｅ−０７ Ｒ２Ａ６ １．１２０Ｅ−１２ Ｒ２Ａ８ ２．４５２Ｅ−１４ Ｒ２Ａ１０ −３．９６９Ｅ−１７ 上の表記において、例えば「Ｅ−１７」は、１０~17を
意味し、この数値が、直前の数値にかかるのである。以
下、同様である。
「共軸非球面」であり、光軸方向の座標をＸ、頂点から
の距離をr、近軸曲率半径をRN、円錐定数をKN、高次の
係数をRNA4、RNA6、RNA8、RNA10、…(Ｎは、入射側面に
就きＮ＝１、射出側面に就きＮ＝２)として、 X=r2/[RN+RN・√｛1-(1+KN)r2/RN2}]+RNA4・r4+RNA6・r
6+RNA8・r8+RNA10・r10 で表すことができる。走査レンズ１１の材質の使用波長
での屈折率をＮ、中心肉厚をＤとすると、上記非球面形
状および屈折率・中心肉厚のデータは以下の通りであ
る。 Ｒ１ −２６４．０ Ｋ１ ２．４４９ Ｒ１Ａ４ ２．５９４Ｅ−０７ Ｒ１Ａ６ １．２５６Ｅ−１１ Ｒ１Ａ８ −２．４１６Ｅ−１３ Ｒ１Ａ１０ ４．９１０Ｅ−１７ Ｄ ２３．３ Ｎ １．５２４４１ Ｒ２ −６１．３ Ｋ２ −０．０２１３ Ｒ２Ａ４ ５．９４９Ｅ−０７ Ｒ２Ａ６ １．１２０Ｅ−１２ Ｒ２Ａ８ ２．４５２Ｅ−１４ Ｒ２Ａ１０ −３．９６９Ｅ−１７ 上の表記において、例えば「Ｅ−１７」は、１０~17を
意味し、この数値が、直前の数値にかかるのである。以
下、同様である。
【００１２】第３光学系の走査レンズ１２は、両面とも
主走査方向に「非円弧形状」である。該非円弧形状は、光
軸方向の座標をＸ、主走査方向の座標をＹ、近軸曲率半
径をRmn、円錐定数をKmn、高次の係数をan、bn、cn、d
n、…（ｎは、入射側面につきｎ＝１、射出側面につき
ｎ＝２）として以下のように表現できる。 X=Y2/[Rmn+Rmn・√｛1-(1+Kmn)Y2/Rmn2}］+an・Y4+bn・
Y6+cn・Y8+dn・Y10 走査レンズ１２の材質の使用波長での屈折率をＮ、中心
肉厚をＤとすると、上記非球面形状および屈折率・中心
肉厚のデータは以下の通りである。 Rm1 -340.0 Km1 -62.03 a1 -1.047E-08 b1 -9.302E-12 c1 -1.271E-15 d1 1.863E-19 D 3.5 N 1.52441 Rm2 -680.0 Km2 19.12 a2 -1.314E-07 b2 -2.256E-12 c2 1.004E-16 d2 -2.522E-20
。
主走査方向に「非円弧形状」である。該非円弧形状は、光
軸方向の座標をＸ、主走査方向の座標をＹ、近軸曲率半
径をRmn、円錐定数をKmn、高次の係数をan、bn、cn、d
n、…（ｎは、入射側面につきｎ＝１、射出側面につき
ｎ＝２）として以下のように表現できる。 X=Y2/[Rmn+Rmn・√｛1-(1+Kmn)Y2/Rmn2}］+an・Y4+bn・
Y6+cn・Y8+dn・Y10 走査レンズ１２の材質の使用波長での屈折率をＮ、中心
肉厚をＤとすると、上記非球面形状および屈折率・中心
肉厚のデータは以下の通りである。 Rm1 -340.0 Km1 -62.03 a1 -1.047E-08 b1 -9.302E-12 c1 -1.271E-15 d1 1.863E-19 D 3.5 N 1.52441 Rm2 -680.0 Km2 19.12 a2 -1.314E-07 b2 -2.256E-12 c2 1.004E-16 d2 -2.522E-20
。
【００１３】走査レンズ１２の、副走査曲率半径（副走
査方向に平行な断面内の曲率半径）：rns(Y)（ｎは、入
射側面に就きｎ＝１、射出側面につきｎ＝２）は、主走
査方向の座標：Ｙに応じて、 rns(Y)=RnS+en・Y2+fn・Y4+gn・Y6+hn・Y8+in・Y10+jn
・Y12 (RnSはY=0での曲率半径）で表すことができ、以下のデ
ータで特定される。
査方向に平行な断面内の曲率半径）：rns(Y)（ｎは、入
射側面に就きｎ＝１、射出側面につきｎ＝２）は、主走
査方向の座標：Ｙに応じて、 rns(Y)=RnS+en・Y2+fn・Y4+gn・Y6+hn・Y8+in・Y10+jn
・Y12 (RnSはY=0での曲率半径）で表すことができ、以下のデ
ータで特定される。
【００１４】 R1S=-32.01 e1=1.385E-03,f1=-4.354E-07,g1=2.324E-11,h1=3.250E-15,i1=-2.023E-19, j1=-6.203E-23 R2S=-16.97 e2=f2=g2=・・・=0 。
【００１５】基準線Ｌ１の偏向反射面での反射点と走査
レンズ１１の第１面との距離：４４．４ｍｍ、走査レン
ズ１１の第２面と走査レンズ１２第１面との距離：５
０．４ｍｍ、走査レンズ１２の第２面と被走査面との距
離：１０７．１ｍｍである。また、偏向器による反射ビ
ームの主光線が基準線（Ｌ１、Ｌ２）と一致するときの
ビーム１のシリンダレンズから偏向反射面までの距離：
９１．９２ｍｍ、ビーム２のシリンダレンズから偏向反
射面までの距離：９１．６６ｍｍである。ビーム１が基
準線Ｌ１と一致するときの、偏向反射面上での２ビーム
の距離は０．６２ｍｍであり、偏向回転面に２ビームを
射影すると偏向反射面以後においてビーム１，２が交差
する。これにより、被走査面上で２ビームが走査できる
範囲の重なり部分を大きくでき、偏向反射面が小さくて
も広い範囲の走査が可能になる（請求項６）。
レンズ１１の第１面との距離：４４．４ｍｍ、走査レン
ズ１１の第２面と走査レンズ１２第１面との距離：５
０．４ｍｍ、走査レンズ１２の第２面と被走査面との距
離：１０７．１ｍｍである。また、偏向器による反射ビ
ームの主光線が基準線（Ｌ１、Ｌ２）と一致するときの
ビーム１のシリンダレンズから偏向反射面までの距離：
９１．９２ｍｍ、ビーム２のシリンダレンズから偏向反
射面までの距離：９１．６６ｍｍである。ビーム１が基
準線Ｌ１と一致するときの、偏向反射面上での２ビーム
の距離は０．６２ｍｍであり、偏向回転面に２ビームを
射影すると偏向反射面以後においてビーム１，２が交差
する。これにより、被走査面上で２ビームが走査できる
範囲の重なり部分を大きくでき、偏向反射面が小さくて
も広い範囲の走査が可能になる（請求項６）。
【００１６】図１に示すように、基準線Ｌ１から走査レ
ンズ１１の第１面頂点までの距離をΔ１、基準線Ｌ２か
ら走査レンズ１１の第１面頂点までの距離をΔ２、基準
線Ｌ１から走査レンズ１２の第１面頂点までの距離をΔ
１’、基準線Ｌ２から走査レンズ１２の第１面頂点まで
の距離をΔ２’(全て、偏向器への入射ビーム側，即
ち、図１の上方をプラス方向とする）とすると、Δ１＝
１．００ｍｍ，Δ２＝０．４５ｍｍ，Δ１’＝０．９０
ｍｍ，Δ２’＝０．３５ｍｍとなり、請求項１における
「シフトの条件」を満足している。チルト量：α、βは
共に０であり、走査レンズ１１、１２の光軸は互いに平
行である。
ンズ１１の第１面頂点までの距離をΔ１、基準線Ｌ２か
ら走査レンズ１１の第１面頂点までの距離をΔ２、基準
線Ｌ１から走査レンズ１２の第１面頂点までの距離をΔ
１’、基準線Ｌ２から走査レンズ１２の第１面頂点まで
の距離をΔ２’(全て、偏向器への入射ビーム側，即
ち、図１の上方をプラス方向とする）とすると、Δ１＝
１．００ｍｍ，Δ２＝０．４５ｍｍ，Δ１’＝０．９０
ｍｍ，Δ２’＝０．３５ｍｍとなり、請求項１における
「シフトの条件」を満足している。チルト量：α、βは
共に０であり、走査レンズ１１、１２の光軸は互いに平
行である。
【００１７】図２に示すように、偏向反射面７とその回
転軸７Ａが一致していない場合、周辺に向かうビームの
反射点は中心に向かうビームの反射点：Ｃに対して、入
射ビーム側（図の上方）にずれる。従って、第３光学系
の走査レンズの少なくとも１つは全ての基準線に対して
入射ビーム側にシフトしないと光学特性が劣化する。実
施例１の２ビームに関する主・副走査方向の像面湾曲及
び等速性（理想像高からのずれ量×１００／理想像向
（％））を図３に示す。これらは全て良好に補正されて
いる。実施例１において、S1(+)=0.01，S1(-)=0.11，S2
(+)=0.57，S2(-)=-0.37で、 (S1(+)-S1(-))×(S2(+)-S2(-))=-0.094 ＜ 0 となり、条件式(１)を満足する（請求項３）。また、M1
(+)=0.16，M1(-)=0.06，M2(+)=-0.14，M2(-)=0.11で、 (M1(+)-M1(-))×(M2(+)-M2(-))=-0.025 ＜ 0 となり、条件式(２)を満足する（請求項４)。即ち、実
施例１では、条件式(１)，(２)ともに満足され、主・副
走査方向とも良好な結像性能が得られる（請求項５）。
ビーム１，２が「開き角」を持って偏向器に入射してい
るため、ビーム１とビーム２とでサグ量が異なり、結像
性能が異なる。従って、条件式（１），（２）を満足し
ないと、一方のビームに対して良好な結像性能を持たせ
ることができても、他方のビームに対しては良好な結像
性能を持たせることができない。条件式(１)，(２)を満
足することにより、バランスのとれた設計が可能とな
る。
転軸７Ａが一致していない場合、周辺に向かうビームの
反射点は中心に向かうビームの反射点：Ｃに対して、入
射ビーム側（図の上方）にずれる。従って、第３光学系
の走査レンズの少なくとも１つは全ての基準線に対して
入射ビーム側にシフトしないと光学特性が劣化する。実
施例１の２ビームに関する主・副走査方向の像面湾曲及
び等速性（理想像高からのずれ量×１００／理想像向
（％））を図３に示す。これらは全て良好に補正されて
いる。実施例１において、S1(+)=0.01，S1(-)=0.11，S2
(+)=0.57，S2(-)=-0.37で、 (S1(+)-S1(-))×(S2(+)-S2(-))=-0.094 ＜ 0 となり、条件式(１)を満足する（請求項３）。また、M1
(+)=0.16，M1(-)=0.06，M2(+)=-0.14，M2(-)=0.11で、 (M1(+)-M1(-))×(M2(+)-M2(-))=-0.025 ＜ 0 となり、条件式(２)を満足する（請求項４)。即ち、実
施例１では、条件式(１)，(２)ともに満足され、主・副
走査方向とも良好な結像性能が得られる（請求項５）。
ビーム１，２が「開き角」を持って偏向器に入射してい
るため、ビーム１とビーム２とでサグ量が異なり、結像
性能が異なる。従って、条件式（１），（２）を満足し
ないと、一方のビームに対して良好な結像性能を持たせ
ることができても、他方のビームに対しては良好な結像
性能を持たせることができない。条件式(１)，(２)を満
足することにより、バランスのとれた設計が可能とな
る。
【００１８】比較例１ 実施例１に対する比較例として、実施例１に対し下記の
変更を行う。
変更を行う。
【００１９】Δ１＝０．００ｍｍ，Δ２＝−０．５５ｍ
ｍ，Δ１’＝０．００ｍｍ，Δ２’＝−０．５５ｍｍ このとき、走査レンズ１１は基準線Ｌ１に対してシフト
がないため、請求項１における「第３光学系の少なくと
も１つの走査光学素子の光軸が上記全ての基準線からみ
て、偏向反射面に向かうビーム側にシフトして配備され
る」との条件を満足しない。このときのビーム１，２に
関する像面湾曲および等速性は、図４に示すごとくであ
り、ビーム１，２とも特に副走査の像面湾曲が劣化して
いる。また、S1(+)=0.92，S1(-)=-0.73，S2(+)=1.37，S
2(-)=-1.21であって、 (S1(+)-S1(-))×(S2(+)-S2(-))=4.257 ＞ 0 、 M1(+)=-0.26,M1(-)=0.21,M2(+)=-0.79,M2(-)=0.19であ
って、 (M1(+)-M1(-))×(M2(+)-M2(-))=0.461 ＞0 となり、条件式(１)，(２)のいずれも満足されない。
ｍ，Δ１’＝０．００ｍｍ，Δ２’＝−０．５５ｍｍ このとき、走査レンズ１１は基準線Ｌ１に対してシフト
がないため、請求項１における「第３光学系の少なくと
も１つの走査光学素子の光軸が上記全ての基準線からみ
て、偏向反射面に向かうビーム側にシフトして配備され
る」との条件を満足しない。このときのビーム１，２に
関する像面湾曲および等速性は、図４に示すごとくであ
り、ビーム１，２とも特に副走査の像面湾曲が劣化して
いる。また、S1(+)=0.92，S1(-)=-0.73，S2(+)=1.37，S
2(-)=-1.21であって、 (S1(+)-S1(-))×(S2(+)-S2(-))=4.257 ＞ 0 、 M1(+)=-0.26,M1(-)=0.21,M2(+)=-0.79,M2(-)=0.19であ
って、 (M1(+)-M1(-))×(M2(+)-M2(-))=0.461 ＞0 となり、条件式(１)，(２)のいずれも満足されない。
【００２０】実施例２ 実施例１に対し下記の変更を行った。
【００２１】Δ１＝０．８０ｍｍ，Δ２＝０．２５ｍ
ｍ，Δ１’＝０．８０ｍｍ，Δ２’＝０．２５ｍｍ。即
ち、請求項１に於けるシフトの条件は満たされている。
基準線Ｌ１、Ｌ２に対する走査レンズ１１のチルト量を
α、基準線Ｌ１、Ｌ２に対する走査レンズ１２のチルト
量をα'（反時計まわりを正）とすると、α＝−０．０
７度 ，α’＝０．４０度即ち、走査レンズ１１，１２
とも基準線Ｌ１，Ｌ２に対しチルトされている。シフト
とともにチルトを与えることにより、設計の自由度が増
し、条件式(１),(２)の条件を満たすことができ、良好
な光学特性が得られる。
ｍ，Δ１’＝０．８０ｍｍ，Δ２’＝０．２５ｍｍ。即
ち、請求項１に於けるシフトの条件は満たされている。
基準線Ｌ１、Ｌ２に対する走査レンズ１１のチルト量を
α、基準線Ｌ１、Ｌ２に対する走査レンズ１２のチルト
量をα'（反時計まわりを正）とすると、α＝−０．０
７度 ，α’＝０．４０度即ち、走査レンズ１１，１２
とも基準線Ｌ１，Ｌ２に対しチルトされている。シフト
とともにチルトを与えることにより、設計の自由度が増
し、条件式(１),(２)の条件を満たすことができ、良好
な光学特性が得られる。
【００２２】実施例２の２ビームの主走査、副走査の像
面湾曲及び等速性を図５に示す。何れも良好に補正され
ている。また、S1(+)=-0.06，S1(-)=0.26，S2(+)=0.4
0，S2(-)=-0.22であって、 (S1(+)-S1(-))×(S2(+)-S2(-))=-0.20 ＜ 0 M1(+)=0.12，M1(-)=0.09，M2(+)=-0.20，M2(-)=0.14で
あって、 (M1(+)-M1(-))×(M2(+)-M2(-))=-0.01 ＜ 0 となり条件式(１)，(２)とも満足する。
面湾曲及び等速性を図５に示す。何れも良好に補正され
ている。また、S1(+)=-0.06，S1(-)=0.26，S2(+)=0.4
0，S2(-)=-0.22であって、 (S1(+)-S1(-))×(S2(+)-S2(-))=-0.20 ＜ 0 M1(+)=0.12，M1(-)=0.09，M2(+)=-0.20，M2(-)=0.14で
あって、 (M1(+)-M1(-))×(M2(+)-M2(-))=-0.01 ＜ 0 となり条件式(１)，(２)とも満足する。
【００２３】実施例３ 実施例１に対し下記の変更を行った。偏向反射面７によ
る反射ビームの主光線が基準線Ｌ１、Ｌ２と一致すると
きのビーム１のシリンダレンズ３から偏向反射面７まで
の距離：９１．９２ｍｍ、ビーム２のシリンダレンズ４
から偏向反射面７までの距離：９１．８８ｍｍ。ビーム
１が基準線Ｌ１と一致するとき、偏向反射面７上での２
ビームの距離は０．０ｍｍで、偏向回転面に２ビームを
射影すると偏向反射面上で交差する。Δ１＝０．８０ｍ
ｍ，Δ２＝０．７５ｍｍ，Δ１’＝０．８０ｍｍ，Δ
２’＝０．７５ｍｍで、請求項１における「第３光学系
の少なくとも１つの走査光学素子の光軸が上記全ての基
準線からみて、偏向反射面に向かうビーム側にシフトし
て配備される」との条件を満足する。
る反射ビームの主光線が基準線Ｌ１、Ｌ２と一致すると
きのビーム１のシリンダレンズ３から偏向反射面７まで
の距離：９１．９２ｍｍ、ビーム２のシリンダレンズ４
から偏向反射面７までの距離：９１．８８ｍｍ。ビーム
１が基準線Ｌ１と一致するとき、偏向反射面７上での２
ビームの距離は０．０ｍｍで、偏向回転面に２ビームを
射影すると偏向反射面上で交差する。Δ１＝０．８０ｍ
ｍ，Δ２＝０．７５ｍｍ，Δ１’＝０．８０ｍｍ，Δ
２’＝０．７５ｍｍで、請求項１における「第３光学系
の少なくとも１つの走査光学素子の光軸が上記全ての基
準線からみて、偏向反射面に向かうビーム側にシフトし
て配備される」との条件を満足する。
【００２４】チルト量：α＝−０．０６１度，α’＝
０．３５度である。 実施例３の２ビーム１，２に関する主・副走査方向の像
面湾曲及び等速性を図６に示す。これらは何れも良好に
補正されている。また、S1(+)=-0.02，S1(-)=0.22，S2
(+)=0.56，S2(-)=-0.12であり、 (S1(+)-S1(-))×(S2(+)-S2(-))=-0.16 ＜ 0 M1(+)=0.11，M1(-)=0.10，M2(+)=0.03，M2(-)=0.04であ
り、 (M1(+)-M1(-))×(M2(+)-M2(-))=-0.001 ＜ 0 となり条件式(１)，(２)とも満足する。上には光源とし
てＬＤ１，ＬＤ２の２つを用い、２ビームによる同時走
査の実施の形態を説明したが、３以上の光源を用いるこ
とができることは言うまでもない。３以上の光源を用い
る場合、各光源からのビームを偏向回転面に射影した状
態で、２以上のビームの主光線が互いに重なりあうよう
にすることができる。
０．３５度である。 実施例３の２ビーム１，２に関する主・副走査方向の像
面湾曲及び等速性を図６に示す。これらは何れも良好に
補正されている。また、S1(+)=-0.02，S1(-)=0.22，S2
(+)=0.56，S2(-)=-0.12であり、 (S1(+)-S1(-))×(S2(+)-S2(-))=-0.16 ＜ 0 M1(+)=0.11，M1(-)=0.10，M2(+)=0.03，M2(-)=0.04であ
り、 (M1(+)-M1(-))×(M2(+)-M2(-))=-0.001 ＜ 0 となり条件式(１)，(２)とも満足する。上には光源とし
てＬＤ１，ＬＤ２の２つを用い、２ビームによる同時走
査の実施の形態を説明したが、３以上の光源を用いるこ
とができることは言うまでもない。３以上の光源を用い
る場合、各光源からのビームを偏向回転面に射影した状
態で、２以上のビームの主光線が互いに重なりあうよう
にすることができる。
【００２５】
【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば新規なマルチビーム走査装置を実現できる。
ば新規なマルチビーム走査装置を実現できる。
【００２６】この発明のマルチビーム走査装置は、偏光
ビームスプリッタ等の高価なビーム合成手段を必要とせ
ず、少ない部品点数で安価に実現でき、各光源からのビ
ームに対して、像面湾曲や等速性等の特性を良好にする
ことができる。
ビームスプリッタ等の高価なビーム合成手段を必要とせ
ず、少ない部品点数で安価に実現でき、各光源からのビ
ームに対して、像面湾曲や等速性等の特性を良好にする
ことができる。
【００２７】請求項３〜５記載の発明によれば、条件
（１）および／または（２）を満足させることにより、
低コストに少ない部品点数で、複数のビームについて、
副走査方向および／または主走査方向の良好な像面湾曲
特性（小径で安定した副走査ビームスポット径）が得ら
れる。また、請求項６記載の発明によれば、光源側から
の複数ビームの偏向回転面内への射影で、少なくとも２
つのビームが偏向面以後で交差することにより、被走査
面上で２ビームが走査できる範囲の重なり部分を大きく
でき、偏向反射面が小さくても広い範囲の走査が可能に
なる。
（１）および／または（２）を満足させることにより、
低コストに少ない部品点数で、複数のビームについて、
副走査方向および／または主走査方向の良好な像面湾曲
特性（小径で安定した副走査ビームスポット径）が得ら
れる。また、請求項６記載の発明によれば、光源側から
の複数ビームの偏向回転面内への射影で、少なくとも２
つのビームが偏向面以後で交差することにより、被走査
面上で２ビームが走査できる範囲の重なり部分を大きく
でき、偏向反射面が小さくても広い範囲の走査が可能に
なる。
【図１】この発明のマルチビーム走査装置の実施の１形
態を説明するための図である。
態を説明するための図である。
【図２】第３光学系の走査結像素子のシフトの意義を説
明するための図である。
明するための図である。
【図３】実施例１のビーム１および２に関する像面湾曲
と等速性を示す図である。
と等速性を示す図である。
【図４】比較例１のビーム１および２に関する像面湾曲
と等速性を示す図である。
と等速性を示す図である。
【図５】実施例２のビーム１および２に関する像面湾曲
と等速性を示す図である。
と等速性を示す図である。
【図６】実施例３のビーム１および２に関する像面湾曲
と等速性を示す図である。
と等速性を示す図である。
１，２ 光源であるＬＤ（半導体レーザ） ３，４ 第１光学系であるカップリングレンズ ５，６ 第２光学系であるシリンダレンズ ７ 偏向反射面 ７Ａ 偏向器の回転軸 １１，１２ 第３光学系の走査結像素子をなす走査
レンズ Ｌ１，Ｌ２ 基準線 Δ１，Δ２，Δ１’，Δ２’ シフト量
レンズ Ｌ１，Ｌ２ 基準線 Δ１，Δ２，Δ１’，Δ２’ シフト量
Claims (6)
- 【請求項１】複数の光源と、 これら複数の光源をそれぞれカップリングする複数の第
１光学系と、 該第一光学系からのビームを、主走査方向に長く略線状
に集光する第２光学系と、 上記略線状の集光部の近傍に偏向反射面を有し、上記第
２光学系からの複数ビームを等角速度的に偏向し、上記
偏向反射面とその回転軸が一定距離離れている偏向器
と、 該偏向器により偏向された複数の偏向ビームを被走査面
に向けて集光させ、被走査面を略等速的に走査する走査
結像素子を含む第３光学系とを有し、 上記第２光学系からの複数のビームは、走査結像素子の
外側の同じ側から偏向反射面に向かい、 上記第２光学系からの複数のビームのうち少なくとも２
つは偏向回転面内で開き角を有し、且つ、 上記偏向器による複数の偏向ビームの主光線が被走査面
上の走査ラインと直交するときの該各主光線を基準線と
するとき、第３光学系の少なくとも１つの走査光学素子
の光軸が上記全ての基準線からみて、偏向反射面に向か
うビーム側にシフトして配備されることを特徴とするマ
ルチビーム走査装置。 - 【請求項２】請求項１記載のマルチビーム走査装置にお
いて、 第３光学系の、少なくとも１つの走査光学素子が基準線
に対して、チルトして配備されることを特徴とするマル
チビーム走査装置。 - 【請求項３】複数の光源と、 これら複数の光源をそれぞれカップリングする複数の第
１光学系と、 該第一光学系からのビームを、主走査方向に長く略線状
に集光する第２光学系と、 上記略線状の集光部の近傍に偏向反射面を有し、上記第
２光学系からの複数ビームを等角速度的に偏向し、上記
偏向反射面とその回転軸が一定距離離れている偏向器
と、 上記偏向された複数の偏向ビームを被走査面に向けて集
光させ、被走査面を略等速的に走査する走査結像素子を
含む第３光学系とを有し、 上記第２光学系からの複数のビームは、走査結像素子の
外側の同じ側から偏向反射面に向かい、 上記第２光学系からの複数のビームのうち少なくとも２
つは偏向回転面内で開き角を有し、 上記複数の光源によるビームのうちの１つのビームの両
最周辺像高での副走査方向結像位置をS1(+)，S1(-)、上
記以外の１つの光源によるビームの両最周辺像高での副
走査方向結像位置をS2(+)，S2(-)とするとき、これらが
条件： （１） (S1(+)-S1(-))×(S2(+)-S2(-))＜0 を満足することを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 【請求項４】複数の光源と、 これら複数の光源をそれぞれカップリングする複数の第
１光学系と、 該第一光学系からのビームを、主走査方向に長く略線状
に集光する第２光学系と、 上記略線状の集光部の近傍に偏向反射面を有し、上記第
２光学系からの複数ビームを等角速度的に偏向し、上記
偏向反射面とその回転軸が一定距離離れている偏向器
と、 上記偏向された複数の偏向ビームを被走査面に向けて集
光させ、被走査面を略等速的に走査する走査結像素子を
含む第３光学系とを有し、 上記第２光学系からの複数のビームは、走査結像素子の
外側の同じ側から偏向反射面に向かい、 上記第２光学系からの複数のビームのうち少なくとも２
つは偏向回転面内で開き角を有し、 上記複数の光源によるビームのうちの１つのビームの両
最周辺像高での主走査方向結像位置をM1(+)，M1(-)、上
記以外の１つの光源によるビームの両最周辺像高での主
走査方向結像位置をM2(+)，M2(-)とするとき、これらが
条件： （２） (M1(+)-M1(-))×(M2(+)-M2(-))＜0 を満足することを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 【請求項５】複数の光源と、 これら複数の光源をそれぞれカップリングする複数の第
１光学系と、 該第一光学系からのビームを、主走査方向に長く略線状
に集光する第２光学系と、 上記略線状の集光部の近傍に偏向反射面を有し、上記第
２光学系からの複数ビームを等角速度的に偏向し、上記
偏向反射面と回転軸が一定距離離れている偏向器と、 上記偏向された複数の偏向ビームを被走査面に向けて集
光させ、被走査面を略等速的に走査する走査結像素子を
含む第３光学系とを有し、 上記第２光学系からの複数のビームは、走査結像素子の
外側の同じ側から偏向反射面に向かい、 上記第２光学系からの複数のビームのうち少なくとも２
つは偏向回転面内で開き角を有し、 上記複数の光源によるビームのうちの１つのビームの両
最周辺像高での主走査方向結像位置をM1(+)，M1(-)、副
走査方向結像位置をS1(+)，S1(-)、上記以外の１つの光
源によるビームの両最周辺像高での主走査方向結像位置
をM2(+)，M2(-)、副走査方向結像位置をS2(+),S2(-)と
するとき、これらが条件： （１） (S1(+)-S1(-))×(S2(+)-S2(-))＜0 （２） (M1(+)-M1(-))×(M2(+)-M2(-))＜0 を共に満足することを特徴とするマルチビーム走査装
置。 - 【請求項６】請求項１ないし５の任意の１に記載のマル
チビーム走査装置において、 偏向回転面内に射影した場合、少なくとも２つのビーム
が偏向面以後で交差することを特徴とするマルチビーム
走査装置。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15611998A JP3619672B2 (ja) | 1998-06-04 | 1998-06-04 | マルチビーム走査装置 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15611998A JP3619672B2 (ja) | 1998-06-04 | 1998-06-04 | マルチビーム走査装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11352426A true JPH11352426A (ja) | 1999-12-24 |
| JP3619672B2 JP3619672B2 (ja) | 2005-02-09 |
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ID=15620744
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15611998A Expired - Fee Related JP3619672B2 (ja) | 1998-06-04 | 1998-06-04 | マルチビーム走査装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3619672B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6882404B2 (en) | 2002-07-25 | 2005-04-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning optical device and image forming apparatus using the same |
| JP2006323277A (ja) * | 2005-05-20 | 2006-11-30 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 光走査装置 |
| JP2015222336A (ja) * | 2014-05-22 | 2015-12-10 | 株式会社リコー | 光走査装置および画像形成装置 |
-
1998
- 1998-06-04 JP JP15611998A patent/JP3619672B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2006323277A (ja) * | 2005-05-20 | 2006-11-30 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 光走査装置 |
| JP2015222336A (ja) * | 2014-05-22 | 2015-12-10 | 株式会社リコー | 光走査装置および画像形成装置 |
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| JP3619672B2 (ja) | 2005-02-09 |
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