JPH11347331A

JPH11347331A - エアワッシャ

Info

Publication number: JPH11347331A
Application number: JP10161219A
Authority: JP
Inventors: Mitsukazu Yamagata; 允和山形; Shuzo Akita; 州三秋田; Tsugiaki Kamimura; 次明上村; Masaaki Shinohara; 正明篠原
Original assignee: Sanki Engineering Co Ltd; Kubota Corp; Kubota Kucho KK
Current assignee: Sanki Engineering Co Ltd; Kubota Corp; Kubota Kucho KK
Priority date: 1998-06-10
Filing date: 1998-06-10
Publication date: 1999-12-21
Anticipated expiration: 2018-06-10
Also published as: JP3698548B2

Abstract

(57)【要約】【課題】空気中の塵埃や有害ガスを確実に除去すると
ともに、清浄水として使用する純水の供給量を低減し、
かつ飽和効率の高い加湿を行なうエアワッシャを提供す
る。【解決手段】空気流の流れ方向に沿って上流エアワッ
シャ部１３と下流エアワッシャ部１４を連通して設け、
各エアワッシャ部１３、１４に、水噴霧室１５、、１６
と、ワッシャメディア１７、１８、２２、２３、２４
と、ワッシャメディア１８、２３に達する噴霧水を噴霧
するノズル１９、２５と、噴霧水を受け止める貯水槽１
５、２７と、各ノズル１９、２５に循環水を供給する循
環水供給系２１、２８と、補給水をノズル２６に供給す
る補給水供給系３６とを設け、貯水槽１５と貯水槽２７
とを連通する連絡管３８を設け、貯水槽２０にオーバー
フロー配管３９を設けた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体工場等にお
ける空気調和装置に係り、空気中の塵埃や有害ガスを除
去するとともに、飽和効率の高い加湿を行なうエアワッ
シャに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のエアワッシャとしては、例えば特
開平７−９６１２２号公報に開示するものがあり、その
概要を図４に示す。図４において、エアワッシャｌは、
空気が上流側から下流側に向けて通過する水噴霧室２を
備え、水噴霧室２のほぼ中央に空気の流れ方向（図中に
矢印で示す）に延びる仕切板３を設け、仕切板３に対向
して水噴霧装置４のノズル４ａを配置している。

【０００３】このエアワッシャ１において、仕切板３に
衝突するように、水噴霧装置４のノズル４ａから清浄水
を噴霧水として噴霧すると、水噴霧室２を通過する空気
中の塵埃が噴霧水に衝突し、塵埃は噴霧水とともに仕切
板３に達して仕切板３の表面に形成する水膜に補えられ
て、水膜の落下とともに仕切板３に沿って流下する。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記したエアワッシャ
１は、空気中の塵埃の除去を目的としたものであり、こ
のエアワッシャｌで空気を飽和状態付近まで加湿するに
は、水噴霧室２における空気の流量に対する噴霧水量の
割合を、塵埃を除去するための通常の割合より高く設定
する必要があり、水噴霧装置４のノズル４ａに清浄水を
圧送するためのポンプに大きな出力のものを要すること
になり、空気に効率よく加湿することができなかった。

【０００５】ところで、水噴霧室２を通過する空気中の
有害ガス成分を噴霧水によって吸収除去しようとする場
合には、有害ガスの除去性能を維持するために、噴霧水
の清浄度を所定値以上に保つ必要があり、噴霧水を循環
利用する場合には、噴霧水に取り込んだ有害ガス成分の
濃度が所定値以下を保つように、新たに清浄水を補給す
る必要がある。

【０００６】しかし、系内を循環する循環水に対して清
浄水を供給するに際し、循環水を一時的に貯留する水槽
へ清浄水を供給する場合には、水槽内に滞留する循環水
中の有害ガス成分の濃度を希釈することになり、言い換
えると補給水として供給する清浄水が水槽中の有害ガス
成分によって汚濁されるので、補給する清浄水の清浄性
を十分に活用することができなかった。しかも、補給水
の全量に純水を使用する場合には多量の純水を要し、純
水製造装置に容量の大きなものが必要となり、コストが
高くなる問題があった。

【０００７】また、ガス除去率に限界があり、集積度が
飛躍的に高まった半導体工場では、更なる有害ガスの低
減が要求されており、エアワッシャの下流にコストの高
いケミカルフィルタを設置する必要があった。

【０００８】あるいは、半導体工場の立地条件によって
は、高濃度の有害ガスが発生する地域があり、従来形式
のエアワッシャを通過したガス濃度が一般の外気のガス
濃度と同等にしかならない状態となり、エアワッシャの
下流にコストの高いケミカルフィルタを設置する必要が
あった。

【０００９】本発明は上記した課題を解決するものであ
り、空気中の塵埃や有害ガスを確実に除去するととも
に、清浄水として使用する純水の供給量を低減し、かつ
飽和効率の高い加湿を行なうエアワッシャを提供するこ
とを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記した課題を解決する
ために、本発明のエアワッシャは、空気流の流れ方向に
沿って上流エアワッシャ部と下流エアワッシャ部を連通
して設け、上流エアワッシャ部に、空気入口と空気出口
とを有し、空気入口から空気出口に向かって空気流が生
じる第１水噴霧室と、第１水噴霧室の空気入口に配置す
る第１ワッシャメディアと、第１水噴霧室の空気出口に
配置する第２ワッシャメディアと、第１水噴霧室内の第
１ワッシャメディアより下流側に位置し、空気流とは逆
方向に向けて第１ワッシャメディアに達する噴霧水を噴
霧する第１段ノズルと、水噴霧室内に位置して流下する
噴霧水を受け止める第１貯水槽と、第１貯水槽内の循環
水を第１段ノズルに循環供給する第１循環水供給系とを
設け、下流エアワッシャ部に、空気入口と空気出口とを
有し、空気入口から空気出口に向かって空気流が生じる
第２水噴霧室と、第２水噴霧室の空気入口に配置する第
３ワッシャメディアと、第２水噴霧室内に空気流を横切
って配置する第４ワッシャメディアと、第２水噴霧室の
空気出口に配置する第５ワッシャメディアと、第２水噴
霧室内の第３ワッシャメディアより下流側に位置し、空
気流とは逆方向に向けて第３ワッシャメディアに達する
噴霧水を噴霧する第２段ノズルと、第２水噴霧室内の第
４ワッシャメディアより下流側に位置し、空気流の順方
向又は逆方向に向けて噴霧水を噴霧する第３段ノズル
と、第２水噴霧室内に位置して流下する噴霧水を受け止
める第２貯水槽と、第２貯水槽内の循環水を第２段ノズ
ルに循環供給する第２循環水供給系と、補給水を第３段
ノズルに供給する補給水供給系とを設け、第１貯水槽と
第２貯水槽とを連通する連絡管を設け、第１貯水槽にオ
ーバーフロー配管を設けた構成としてものである。

【００１１】上記した構成により、上流エアワッシャ部
において、第１水噴霧室の空気入口から第１ワッシャメ
ディアを通して流入する空気流に対し、その流れに対向
するように第１貯水槽からの水を第１段ノズルから噴霧
すると、噴霧水が空気中の塵埃や有害ガスに衝突し、衝
突した空気中の塵埃や有害ガスが噴霧水とともに第１ワ
ッシャメディアに達し、第１ワッシャメディアが塵埃や
有害ガスを伴った噴霧水を捕捉する。

【００１２】第１ワッシャメディアに達した噴霧水は、
第１ワッシャメディアに付着した塵埃を洗い流して流下
するとともに有害ガスを取り込んで第１貯水槽へ流入
し、流下する過程において蒸発して空気を加湿する。

【００１３】第ｌワッシャメディアに衝突しなかった噴
霧水は、一部が水噴霧室の天井面、壁面または貯水面に
衝突するが、それ以外は空気流に乗って移動し、その過
程において蒸発して空気を加湿するとともに、空気中の
塵埃や有害ガスを取り込んで第２ワッシャメディアに達
し、第２ワッシャメディアが塵埃や有害ガスを伴った噴
霧水を捕捉する。第１貯水槽に滞留する循環水は、第１
循環水供給系を通って循環し、再び第１段ノズルから噴
霧する。第２ワッシャメディアを通過した空気は、空気
出口を通って下流エアワッシャ部に流入する。

【００１４】下流エアワッシャ部において、第２水噴霧
室の空気入口から第３ワッシャメディアを通して流入す
る空気流に対し、その流れに対向するように第２貯水槽
からの水を第３段ノズルから噴霧すると、噴霧水が空気
中の塵埃や有害ガスに衝突し、衝突した空気中の塵埃や
有害ガスが噴霧水とともに第３ワッシャメディアに達
し、第３ワッシャメディアが塵埃や有害ガスを伴った噴
霧水を捕捉する。

【００１５】第３ワッシャメディアに達した噴霧水は、
第３ワッシャメディアに付着した塵埃を洗い流して流下
するとともに有害ガスを取り込んで第２貯水槽へ流入
し、流下する過程において蒸発して空気を加湿するが、
この過程では飽和状態に近く、加湿量は非常に僅かであ
る。これ以後では加湿は行なわれない。

【００１６】第３ワッシャメディアに衝突しなかった噴
霧水は、一部が第２水噴霧室の天井面、壁面または貯水
面に衝突するが、それ以外は空気流に乗って移動し、そ
の過程において空気中の塵埃や有害ガスを取り込んで第
４ワッシャメディアに達し、第４ワッシャメディアが塵
埃や有害ガスを伴った噴霧水を捕捉する。

【００１７】第４ワッシャメディアに達した噴霧水は、
第４ワッシャメディアに付着した塵埃を洗い流して流下
するとともに有害ガスを取り込んで第２貯水槽へ流入す
る。第２貯水槽に滞留する循環水は、第２循環水供給系
を通って循環し、再び第２段ノズルから噴霧する。

【００１８】第４ワッシャメディアを通過した空気流に
対し、清浄な補給水を第３段ノズルから噴霧すると、清
浄な水の噴霧水が空気中に残存する塵埃や有害ガスに衝
突し、衝突した塵埃や有害ガスが噴霧水とともに第５ワ
ッシャメディアに達し、第５ワッシャメディアが塵埃や
有害ガスを伴った噴霧水を捕捉する。

【００１９】第５ワッシャメディアに達した噴霧水は、
第５ワッシャメディアに付着した塵埃を洗い流して流下
するとともに有害ガスを取り込んで第２貯水槽へ流入す
る。第２貯水槽へ流入した清浄な水は補給水として循環
水に合流し、第２循環水供給系を通って第２段ノズルか
ら循環水として噴霧する。第５ワッシャメディアを通過
した空気は、浄化して十分に加湿した清浄な空気として
空気出口から流出する。

【００２０】補給水は、空気の加湿に伴って減少する循
環水の減少量を補うとともに、循環水中の有害ガス濃度
を一定値以下に維持するために必要な量を第３段ノズル
と第２貯水槽へ供給し、第１貯水槽と第２貯水槽の水位
を保つ位置に設けるオーバーフロー配管から余分となる
水を排出する。

【００２１】このように、第１段ノズルおよび第２段ノ
ズルから噴霧水を空気流に対向するように噴射し、折り
返すように空気を加湿するので、空気の流量に対する噴
霧水の量の割合を低く設定しても、各ワッシャメディア
によって空気中の塵埃や有害ガスを十分に除去するとと
もに効率よく空気を加湿でき、各循環水供給系における
ポンプ等のアクチュエータの出力を低減することができ
る。

【００２２】しかも、第３段ノズルから噴霧する清浄な
水は、初期清浄度を保った状態で噴霧水となるので、第
１、第２、第３、第４ワッシャメディアを通過した有害
ガスに対して、その清浄性を有効に活かして高い除去性
能を発揮することができる。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。図１〜図３に示すように、エアワッ
シャ１１は、矩形の流路断面を有する本体ケーシング１
２の内部に、空気流の流れ方向に沿って上流エアワッシ
ャ部１３と下流エアワッシャ部１４を連通して配設して
おり、上流エアワッシャ部１３に所定長さの第１水噴霧
室１５を有し、下流エアワッシャ部１４に所定長さの第
２水噴霧室１６を有している。

【００２４】第１水噴霧室１５は、その一端に形成した
空気入口１５ａにおいてダクト（図示せず）に接続して
おり、このダクトから流入する空気Ａが第１水噴霧室１
５の流路を通って他端に形成した空気出口１５ｂから流
出する。

【００２５】第１水噴霧室１５には、空気入口１５ａに
位置して第１ワッシャメディア１７を配置し、空気出口
１５ｂに位置して第２ワッシャメディア１８を配置して
おり、後述する第１循環水供給系に連通する複数の第１
段ノズル１９を第１ワッシャメディア１７より下流側に
位置して配置している。第１段ノズル１９は、空気流と
は逆方向に向けて第１ワッシャメディア１７に達する噴
霧水を噴霧するものである。第１段ノズル１９からの噴
霧水の圧力と、第１段ノズル１９と第１ワッシャメディ
ア１７の距離は、所定の噴霧角度（６０度〜７０度）程
度が確保され、第１水噴霧室１５内に所定流量の空気を
流しているときに噴霧水の一部（１／３程度）が第１ワ
ッシャメディア１７に衝突する程度に設定する。また、
残りの水の一部（１／３程度、全水量の２／９）が、第
１水噴霧室１５内において天井面、壁面等に衝突し、そ
の残りの水（全水量の５／９）が空気の流れに乗って移
動し、第２ワッシャメディア１８に衝突するように設定
する。

【００２６】第１水噴霧室１５の下部には、流下する噴
霧水を受け止める第１貯水槽２０が設けてあり、第１貯
水槽２０に滞留する循環水を第１段ノズル１９に循環供
給する循環水供給系２１が第１貯水槽２０の下部に連通
して設けてある。

【００２７】下流エアワッシャ部１４の第２水噴霧室１
６は、その一端に形成した空気入口１６ａにおいて上流
エアワッシャ部１４の空気出口１５ｂに接続しており、
流入する空気Ａが第２水噴霧室１６の流路を通って他端
に形成した空気出口１６ｂから流出する。

【００２８】第２水噴霧室１６には、空気入口１６ａに
位置して第３ワッシャメディア２２を配置し、空気流を
横切って第４ワッシャメディア２３を配置し、空気出口
１６ｂに位置して第５ワッシャメディア２４を配置して
いる。第３ワッシャメディア２２より下流側に位置し
て、空気流とは逆方向に向けて第３ワッシャメディア２
２に達する噴霧水を噴霧する第２段ノズル２５を配置
し、第４ワッシャメディア２３より下流側に位置して、
空気流の順方向に向けて噴霧水を噴霧する第３段ノズル
２６を配置している。

【００２９】第２段ノズル２５からの噴霧水の圧力と、
第２段ノズル２５と第３ワッシャメディア２２の距離
は、所定の噴霧角度（６０度〜７０度）程度が確保さ
れ、第２水噴霧室１６内に所定流量の空気を流している
ときに噴霧水の一部（１／３程度）が第３ワッシャメデ
ィア２２に衝突する程度に設定する。また、残りの水の
一部（１／３程度、全水量の２／９）が、第２水噴霧室
１６内において天井面、壁面等に衝突し、その残りの水
（全水量の５／９）が空気の流れに乗って移動し、第４
ワッシャメディア２３に衝突するように設定する。

【００３０】第３段ノズル２６の噴霧水の圧力や設置位
置および噴霧方向は、第２水噴霧室１６内に所定流量の
空気を流しているときに、噴霧水が上流の第４ワッシャ
メディア２３に衝突せずに、第５ワッシャメディア２４
に広く拡散して衝突するように設定する。図示する第３
段ノズル２６の噴霧方向は空気流と順方向であるが、上
記条件を満たせば空気流と逆方向でも良い。

【００３１】第２水噴霧室１６の下部には、流下する噴
霧水を受け止める第２貯水槽２７が設けてあり、第２貯
水槽２７に滞留する循環水を第２段ノズル２５に循環供
給する第２循環水供給系２８が第２貯水槽２７の下部に
連通して設けてある。

【００３２】第１循環水供給系１９および第２循環水供
給系２８のそれぞれには、各貯水槽２０、２７の下部に
開口する吸込管３１と、吸込管３１に接続した循環ポン
プ３２と、循環ポンプ３２を駆動するモータ３３と、循
環ポンプ３２の吐出口に接続して各水噴霧室１５、１６
の上方に配置した吐出管３４と、吐出管３４から分岐し
て各水噴霧室１５、１６の内部に垂直方向に配設した複
数の分岐管３５とからなり、各分岐管３５に前述した複
数の第１段ノズル１９、第２段ノズル２５を設けてい
る。

【００３３】第３段ノズル２６に補給水として純水を供
給する補給水供給系３６は、清浄水供給装置（図示せ
ず）もしくは純水供給装置（図示せず）に接続してお
り、第２水噴霧室１６の上方に配置した給水管３７を有
し、給水管３７に複数の第３段ノズル２６を設けてい
る。第１貯水槽２０と第２貯水槽２７とを連通して連絡
管３８を設け、第１貯水槽２０にオーバーフロー配管３
９を設け、第２貯水槽２７に予備給水管４０を設けてい
る。

【００３４】第２水噴霧室１６の下流側には、第２水噴
霧室１６を通過した空気に含まれる水滴等を除去するエ
リミネータ４１が配置してあり、第２水噴霧室１６の空
気出口１６ｂには、第２水噴霧室１６と同様の流路断面
形状を有する所定長さの冷却室４２が接続してある。冷
却室４２の内部には冷却器として冷却コイル４３が設け
てあり、冷却室４２の下方にはドレンパン４４が形成し
てある。このドレンパン４４の凹みには冷却室４２の外
部へ通じるドレンパイプ４５が接続してある。第２水噴
霧室１６の下流側には送風機（図示せず）が配置してあ
り、この送風機を作動することによって各水噴霧室の流
路に空気を導く。

【００３５】尚、各ワッシャメディアは、空気流の流路
断面とほぼ等しい形状を有し、ポリ塩化ビニルデン系繊
維やステンレスの線材等からなり、たとえば２５ｍｍ〜
５０ｍｍ程度の厚みを有するマット状のものである。

【００３６】上記した構成における作用を説明する。空
気Ａは空気入口１５ａから第１ワッシャメディア１７を
通して第１水噴霧室１５に流入する。この空気流に対
し、その流れに対向するように第１貯水槽２０からの循
環水を第１段ノズル１９から噴霧する。噴霧水は空気中
の塵埃や有害ガスに衝突し、衝突した空気中の塵埃や有
害ガスが噴霧水とともに第１ワッシャメディア１７に達
し、第１ワッシャメディア１７が塵埃や有害ガスを伴っ
た噴霧水を捕捉する。第１ワッシャメディア１７では、
噴霧水が第１ワッシャメディア１７に付着した塵埃を洗
い流して流下するとともに、有害ガスを取り込んで第１
貯水槽２０へ流入する。噴霧水は流下する過程において
蒸発して空気を加湿する。

【００３７】第ｌワッシャメディア１７に衝突しなかっ
た噴霧水は、一部が第１水噴霧室１５の天井面、壁面ま
たは貯水面に衝突するが、それ以外は空気流に乗って移
動し、その過程において蒸発して空気を加湿するととも
に、空気中の塵埃や有害ガスを取り込んで第２ワッシャ
メディア１８に達し、第２ワッシャメディア１８が塵埃
や有害ガスを伴った噴霧水を捕捉する。

【００３８】第２ワッシャメディア１８では、噴霧水が
第２ワッシャメディア１８に付着した塵埃を洗い流して
流下するとともに、有害ガスを取り込んで第１貯水槽２
０へ流入する。噴霧水は流下する過程において蒸発して
空気を加湿する。第１貯水槽２０へ流入した水は、第１
循環水供給系２１を通って第１段ノズル１９から循環水
として噴霧する。

【００３９】下流エアワッシャ部１４において、第２水
噴霧室１６の空気入口１６ａから第３ワッシャメディア
２２を通して流入する空気流に対し、その流れに対向す
るように第２貯水槽２７からの水を第３段ノズル２６か
ら噴霧すると、噴霧水が空気中の塵埃や有害ガスに衝突
し、衝突した空気中の塵埃や有害ガスが噴霧水とともに
第３ワッシャメディア２２に達し、第３ワッシャメディ
ア２２が塵埃や有害ガスを伴った噴霧水を捕捉する。

【００４０】第３ワッシャメディア２２に達した噴霧水
は、第３ワッシャメディア２２に付着した塵埃を洗い流
して流下するとともに有害ガスを取り込んで第２貯水槽
２７へ流入し、流下する過程においてわずかであるが蒸
発して空気を加湿する。

【００４１】第３ワッシャメディア２２に衝突しなかっ
た噴霧水は、一部が第２水噴霧室１６の天井面、壁面ま
たは貯水面に衝突するが、それ以外は空気流に乗って移
動し、その過程において空気中の塵埃や有害ガスを取り
込んで第４ワッシャメディア２３に達し、第４ワッシャ
メディア２３が塵埃や有害ガスを伴った噴霧水を捕捉す
る。

【００４２】第４ワッシャメディア２３に達した噴霧水
は、第４ワッシャメディア２３に付着した塵埃を洗い流
して流下するとともに有害ガスを取り込んで第２貯水槽
２７へ流入する。第２貯水槽２７に滞留する循環水は、
第２循環水供給系２８を通って循環し、再び第２段ノズ
ル２５から噴霧する。

【００４３】第４ワッシャメディア２３を通過した空気
流に対し、清浄な補給水を第３段ノズル２６から噴霧す
ると、清浄な水の噴霧水が空気中に残存する塵埃や有害
ガスに衝突し、衝突した塵埃や有害ガスが噴霧水ととも
に第５ワッシャメディア２４に達し、第５ワッシャメデ
ィア２４が塵埃や有害ガスを伴った噴霧水を捕捉する。
第５ワッシャメディア２４に達した噴霧水は、第５ワッ
シャメディア２４に付着した塵埃を洗い流して流下する
とともに有害ガスを取り込んで第２貯水槽２７へ流入す
る。

【００４４】第２貯水槽２７へ流入した清浄な水は補給
水として循環水に合流し、第２循環水供給系２８を通っ
て第２段ノズル２５から循環水として噴霧する。第５ワ
ッシャメディア２４を通過した空気は、浄化して十分に
加湿した清浄な空気として空気出口１６ｂから流出す
る。

【００４５】補給水は、空気の加湿に伴って減少する循
環水の減少量を補うとともに、循環水中の有害ガス濃度
を一定値以下に維持するために必要な量を第３段ノズル
２６と第２貯水槽２７へ供給し、第１貯水槽２０と第２
貯水槽２７の水位を保つようにオーバーフロー配管３９
から余分となる水を排出する。

【００４６】第５ワッシャメディア２４を通過した空気
は、エリミネータ４１に流入し、エリミネータ４１にお
いて空気中の水滴を除去する。エリミネータ４１から流
出する空気は冷却室４２に導き、冷却コイル４３によっ
て冷却する。

【００４７】したがって、上述した構成においては、流
入する空気を多段に浄化でき、しかも空気流の下流に清
浄度の高い水を噴霧するので、ガス除去効果が高まり、
大気の有害ガス濃度が高濃度である地域においても使用
することができる。

【００４８】因みに、表１は本発明の効果を示すもので
あり、表から明らかなように、一般的なガス濃度の大気
に適用した場合にも、ガス濃度が高濃度である大気に適
用した場合においても、優れた浄化効果を得ることがで
きる。

【００４９】

【表１】

【００５０】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、第
１段ノズルおよび第２段ノズルから噴霧水を空気流に対
向するように噴射し、折り返すように空気を加湿するの
で、空気の流量に対する噴霧水の量の割合を低く設定し
ても、各ワッシャメディアによって空気中の塵埃や有害
ガスを十分に除去するとともに効率よく空気を加湿で
き、各循環水供給系におけるポンプ等のアクチュエータ
の出力を低減することができる。

【００５１】しかも、第３段ノズルから噴霧する清浄な
水は、初期清浄度を保った状態で噴霧水となるので、第
１、第２、第３、第４ワッシャメディアを通過した有害
ガスに対して、その清浄性を有効に活かして高い除去性
能を発揮することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態を示すエアワッシャの平断面
図である。

【図２】同エアワッシャの縦断面図である。

【図３】同エアワッシャの横断面図である。

【図４】従来のエアワッシャの構成を示す模式図であ
る。

【符号の説明】

Ａ空気１１エアワッシャ１２本体ケーシング１３上流エアワッシャ部１４下流エアワッシャ部１５第１水噴霧室１５ａ空気入口１５ｂ空気出口１６第２水噴霧室１６ａ空気入口１６ｂ空気出口１７第１ワッシャメディア１８第２ワッシャメディア１９第１段ノズル２０第１貯水槽２１第１循環水供給系２２第３ワッシャメディア２３第４ワッシャメディア２４第５ワッシャメディア２５第２段ノズル２６第３段ノズル２７第２貯水槽２８第２循環水供給系３８連絡管３９オーバーフロー配管

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者秋田州三栃木県宇都宮市平出工業団地28 クボタ空調株式会社栃木工場内 (72)発明者上村次明栃木県宇都宮市平出工業団地28 クボタ空調株式会社栃木工場内 (72)発明者篠原正明栃木県宇都宮市平出工業団地28 クボタ空調株式会社栃木工場内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】空気流の流れ方向に沿って上流エアワッ
シャ部と下流エアワッシャ部を連通して設け、上流エアワッシャ部に、空気入口と空気出口とを有し、
空気入口から空気出口に向かって空気流が生じる第１水
噴霧室と、第１水噴霧室の空気入口に配置する第１ワッ
シャメディアと、第１水噴霧室の空気出口に配置する第
２ワッシャメディアと、第１水噴霧室内の第１ワッシャ
メディアより下流側に位置し、空気流とは逆方向に向け
て第１ワッシャメディアに達する噴霧水を噴霧する第１
段ノズルと、水噴霧室内に位置して流下する噴霧水を受
け止める第１貯水槽と、第１貯水槽内の循環水を第１段
ノズルに循環供給する第１循環水供給系とを設け、下流エアワッシャ部に、空気入口と空気出口とを有し、
空気入口から空気出口に向かって空気流が生じる第２水
噴霧室と、第２水噴霧室の空気入口に配置する第３ワッ
シャメディアと、第２水噴霧室内に空気流を横切って配
置する第４ワッシャメディアと、第２水噴霧室の空気出
口に配置する第５ワッシャメディアと、第２水噴霧室内
の第３ワッシャメディアより下流側に位置し、空気流と
は逆方向に向けて第３ワッシャメディアに達する噴霧水
を噴霧する第２段ノズルと、第２水噴霧室内の第４ワッ
シャメディアより下流側に位置し、空気流の順方向又は
逆方向に向けて噴霧水を噴霧する第３段ノズルと、第２
水噴霧室内に位置して流下する噴霧水を受け止める第２
貯水槽と、第２貯水槽内の循環水を第２段ノズルに循環
供給する第２循環水供給系と、補給水を第３段ノズルに
供給する補給水供給系とを設け、第１貯水槽と第２貯水
槽とを連通する連絡管を設け、第１貯水槽にオーバーフ
ロー配管を設けたことを特徴とするエアワッシャ。