JPH11329937A

JPH11329937A - リソグラフィシステム

Info

Publication number: JPH11329937A
Application number: JP13664998A
Authority: JP
Inventors: Intaku Tei; 寅澤鄭
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1998-05-19
Filing date: 1998-05-19
Publication date: 1999-11-30

Abstract

(57)【要約】【課題】小型の露光装置でありながらレチクルＲの収
容能力を増して、レチクルＲ交換の回数を減らすこと。【解決手段】ライブラリ装置３０内にレチクルライブ
ラリ３６を設置して、露光装置４０と５０とで共通に使
用する。これにより、露光装置４０、５０内にはレチク
ルライブラリを設置する必要がなくなり、小型にするこ
とができる。また、ライブラリ装置３０を露光装置４０
と５０とで共通に使用するのでトータルとしてもフット
プリントを小さくすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レチクルに形成さ
れたパターンを基板に露光する露光装置から、又は露光
装置へ、レチクルが収納されたレチクルケースを搬送す
るリソグラフィシステムに関し、特に、多くのレチクル
ケースを速やかに搬送することができるリソグラフィシ
ステムに関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体素子や液晶表示素子等をフォトリ
ソグラフィ工程で製造する際に、マスクやレチクル（以
下、レチクルという）に形成されたパターンの像を投影
光学系を介して感光剤が塗布された半導体ウエハやガラ
スプレート等の上に投影・転写する露光装置が使用され
ている。例えば、半導体素子製造時には、ウエハ表面に
多数の回路パターンを作り込むために、数枚から十数枚
あるいはそれ以上のレチクルを用いてパターンを重ね合
わせ露光することが行われる。各レチクルは、雰囲気中
の塵の付着や人が直接触れることによる汚染、あるいは
周囲の部材との接触による損傷等を防ぐため、専用のレ
チクルケースに収納して取り扱われるのが一般的であ
る。

【０００３】図６は、クリーンルーム内に設置されてい
る従来の露光装置の外観を示す略図である。露光装置の
本体は空調装置付きのチャンバー８０内に収容され、チ
ャンバー８０の内部は温度や清浄度（クリーン度）等の
環境が一定になるように空調されている。チャンバー８
０の一方の側面には、レチクル挿脱扉８１及びウエハ挿
脱扉８２が設けられている。レチクル挿脱扉８１の内側
には、露光装置で使用するレチクルを保管するレチクル
ライブラリ８３が配置されている。露光装置のオペレー
タは、クリーンルーム内のレチクルストッカから所望の
レチクルが納められたレチクルケースを取り出し、露光
装置のチャンバー８０のレチクル挿脱扉８１を開けて、
そのレチクルの入ったレチクルケースをレチクルライブ
ラリ８３の棚に収納する。また、レチクルライブラリ８
３から不要となったレチクルをケースごと取り出してレ
チクルストッカに戻す。

【０００４】露光時、露光装置本体のレチクル自動搬送
装置（レチクルローダ）は、レチクルライブラリ８３に
装着されたレチクルケースから必要なレチクルを取り出
し、投影光学系の上方に位置づけられたレチクルステー
ジへ自動搬送する。同様に、フォトレジスト等の感光剤
が塗布されたウエハは、ウエハ挿脱扉８２から露光装置
のチャンバー８０内に挿入され、ウエハ自動搬送装置
（ウエハローダ）により投影光学系の下方に位置する基
板ステージに一枚ずつ搬送される。こうしてレチクルに
形成されたパターンの像が投影光学系を介してウエハに
転写される。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】例えば特定用途向けＩ
Ｃ(Application-specificＩＣ：ＡＳＩＣ)を製造する場
合には、１枚のウエハ上の異なるショット領域に複数種
類のレチクルのパターンを切り換えて露光する必要があ
る。このパターンの微細化、高集積化に伴い１枚のウエ
ハを製造するのに必要なレチクルの種類もますます多く
なってきて、従来のレチクルライブラリでは一度に収容
しきれなくなってきている。また、必要とするレチクル
の種類が多くなってきているのに対応して、レチクルラ
イブラリを大きくすると、レチクルライブラリを内蔵す
る露光装置が大型化してしまう。

【０００６】本発明は、このような従来技術の問題点に
鑑みてなされたものであり、露光装置を小型にして、レ
チクル保管手段であるレチクルライブラリの収容能力を
増して、レチクルケースを速やかに搬送することができ
るリソグラフィシステムを提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、それぞれ本発明の一実施の形態を表す図２と図５と
に対応付けて説明すると、請求項１記載のリソグラフィ
システムは、レチクル（Ｒ）に形成されたパターンを基
板（Ｗ）に露光する複数の露光装置（４０，５０）と、
前記露光装置（４０，５０）の外部にあって前記レチク
ル（Ｒ）が収納されたレチクルケース（ＲＣ）を保管す
るレチクル保管手段（３０）と、前記複数の露光装置
（４０，５０）と前記レチクル保管手段（３０）との間
で前記レチクルケース（ＲＣ）を搬送する搬送手段（４
３，５３）とを備えるものである。

【０００８】また、請求項２記載のリソグラフィシステ
ムは、前記レチクル保管手段（３０）が前記複数の露光
装置（４０，５０）の間に配設されているものであるの
で、前記複数の露光装置（４０，５０）とレチクル保管
手段（３０）とを近接して配置することができ、その間
のレチクルケース（ＲＣ）の搬送経路を短くすることが
できる。さらに、請求項３記載のリソグラフィシステム
は、前記搬送手段（４３，５３）が前記露光装置（４
０，５０）の内部に配設されているものであるので、露
光装置（４０，５０）内部のレチクルケース（ＲＣ）の
搬送手段と兼用することもできる。

【０００９】また、請求項４記載のリソグラフィシステ
ムは、前記搬送手段（２９）が、前記複数の露光装置の
うちの第１の露光装置（４０ａ）で使用されたレチクル
（Ｒ）を前記第１の露光装置とは異なる第２の露光装置
（４０ｂ）に搬送するものであるので、レチクル保管手
段（３０）との間でのレチクル（Ｒ）のやり取りをする
ことなくレチクル（Ｒ）の交換をすることができ、スル
ープットが向上する。

【００１０】また、請求項５記載のリソグラフィシステ
ムは、前記搬送手段（４３）が、前記露光装置（４０）
の前記露光に用いられているレチクル（Ｒ）の次に使用
されるレチクル（Ｒ）を搬送するものであるので、露光
装置（４０）内にレチクル保管手段を必要としない。ま
た、請求項６記載のリソグラフィシステムは、前記レチ
クル保管手段（３０）が、前記複数のレチクルのうち前
記搬送手段（４３，５３）により搬入・搬出されるレチ
クルを一時的に保管する一時保管手段（３３）を備える
ものであるので、複数の露光装置（４０，５０）でレチ
クル保管手段（３０）を共通に利用しても待ちの発生を
少なくすることができる。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。最初に、図１により、レチクルを
収納するレチクルケースの一例について説明する。図１
はレチクルケースＲＣの一例を示し、レチクルケースの
上蓋を開けた状態を示している。このレチクルケースＲ
Ｃは、金属製の底板１上にコの字型の側面部材２を取り
付け、側面部材２の背面部にヒンジ３を介して開閉自在
に上蓋４を軸支し、上蓋４の先端部にヒンジ５を介して
前蓋６を軸支している。底板１と側面部材２との固定
は、導電性の接着剤、又はねじによって行われる。

【００１２】側面部材２は、背面部２ｃと、これを端部
で挟むように対向する一対のレチクル支持部２ａ及び２
ｂとを一体成形して形成し、図１に向かって左側のレチ
クル支持部２ａ上の内側には深い溝部２ｄが形成され、
溝部２ｄの中央に凸部２ｆが形成され、溝部２ｄを囲む
ように上蓋４が密着する浅い段差部２ｈが形成されてい
る。また、凸部２ｆの内側の溝部２ｄの上に、一対の長
いピン状のストッパ９Ａ及び１２Ａが一体的に植設さ
れ、それらストッパ９Ａ及び１２Ａの内側にレチクルを
支持するための一対の短いレチクル支持ピン１０Ａ及び
１１Ａが一体的に植設されている。

【００１３】右側のレチクル支持部２ｂにおいても、左
側のレチクル支持部２ａと対称に、深い溝部２ｅ、凸部
２ｇ、上蓋４が密着する浅い段差部２ｉが形成され、凸
部２ｇの内側の溝部２ｅの上に、ストッパ９Ｂ及び１２
Ｂと、レチクル支持ピン１０Ｂ及び１１Ｂとが一体的に
植設されている。但し、図１にはストッパ９Ｂのみが現
れている。

【００１４】また、レチクル支持部２ａ及び２ｂの外面
にそれぞれ一体的にガイド部７Ａ及び７Ｂが設けられ、
上蓋４を側面部材２の段差部２ｈ及び２ｉに密着させた
状態で、ガイド部７Ａ及び７Ｂに押さえばね８Ａ及び８
Ｂを差し込み、押さえばね８Ａ及び８Ｂで上蓋４を側面
部材２側に付勢して、上蓋４を側面部材２に固定する。
ガイド部７Ａ，７Ｂには、また、複数のレチクルをケー
スごと保管するレチクルライブラリにレチクルケースを
装填した状態でレチクルケースを固定するためのレチク
ルケース固定ピン（後述）が係合する凹部２４が設けら
れている。

【００１５】上蓋４の底面の向かって左側の中央部には
軸受け部１３Ａ及び１４Ａが一体的に植設され、軸受け
部１３Ａ及び１４Ａの間に回転自在にレチクル押さえ１
５Ａが取り付けられている。レチクル押さえ１５Ａは、
長い押さえ部１５Ａａと小さいばね係合部１５Ａｂとを
９０゜ねじれるように一体的に形成したものであり、上
蓋４の底面の奥側に植設されたばね掛け部１７Ａとばね
係合部１５Ａｂとを引っ張りコイルばね１６Ａで連結
し、前蓋６の内側に一体的に植設されたばね掛け部１９
Ａとばね係合部１５Ａｂとを引っ張りコイルばね１８Ａ
で連結する。

【００１６】上蓋４の底面の向かって右側でも、左側と
対称的に、軸受け部１３Ｂ及び１４Ｂが一体的に植設さ
れ、軸受け部１３Ａ及び１４Ａの間に回動自在にレチク
ル押さえ１５Ｂが取り付けられている。そして、上蓋４
の底面のばね掛け部１７Ｂとレチクル押さえ１５Ｂのば
ね係合部とを引っ張りコイルばね１６Ｂで連結し、前蓋
６の内側のばね掛け部１９Ｂとそのばね係合部とを引っ
張りコイルばね１８Ｂで連結する。この場合、前蓋６が
ヒンジ５を軸としてθ２方向に回転して開くと、引っ張
りコイルばね１６Ａ，１６Ｂ及び１８Ａ，１８Ｂの作用
でレチクル押さえ１５Ａ及び１５Ｂが回転して、押さえ
部１５Ａａ及び１５Ｂａが上蓋４にほぼ平行になる。一
方、前蓋４がヒンジ５を軸としてθ２方向に回転して閉
じると、レチクル押さえ１５Ａ，１５Ｂの押さえ部１５
Ａａ，１５Ｂａが上蓋４に垂直になる方向に回転する。
従って、これら押さえ部１５Ａａ，１５Ｂにより内部の
レチクルを固定することができる。

【００１７】図２は、本発明によるリソグラフィシステ
ムの一実施の形態を示す概略説明図である。また、図３
はその要部の模式的上面図である。図２及び図３には、
本実施例の説明のために不可欠なレチクル（レチクルケ
ース）搬送系と露光系のみを示し、ウエハ搬送系、チャ
ンバー内を所定の環境に維持するための空調系等は図示
を省略している。なお、図２及び図３において鉛直方向
（露光系の投影光学系の光軸方向）をＺ方向とし、Ｚ方
向と直交する方向をＸ方向及びＹ方向とする。

【００１８】ライブラリ装置３０のチャンバー３１の側
面にはヒンジを介して開閉することのできる開閉扉３２
が設けられている。開閉扉３２の内側（−Ｘ方向）に
は、レチクルＲをレチクルケースＲＣに収納したまま一
時的に保管する上下４段から成るレチクルバッファ３３
が設けられている。その最上段である第１段は、レチク
ルケース自動搬送ロボット（以下、ＡＧＶ＝Auto Guide
Vehicleという）２９（図８に図示）からレチクルケー
スＲＣを受け取り、レチクルケースバーコードリーダ
（不図示）によって受け取ったレチクルＲを識別し、後
述するレチクルライブラリ３６に渡すためのバッファで
ある。その第２段は、レチクルライブラリ３６からレチ
クルケースＲＣを受け取りＡＧＶ２９に渡すためのバッ
ファである。その第３段は、レチクルライブラリ３６と
露光装置４０とでレチクルケースＲＣを受け渡しするた
めのバッファである。その第４段は、レチクルライブラ
リ３６と露光装置５０とでレチクルケースＲＣを受け渡
しするためのバッファである。（表１参照）

【００１９】

【表１】

【００２０】レチクルバッファ３３の更に内側（−Ｘ方
向）には、レチクルケースＲＣを真空吸着するアーム３
５を有するロボット３４が設けられている。アーム３５
は、全体として上下方向（Ｚ方向、以下移動する方向に
ついては＋／−符号を無視する）に移動でき、ＸＹ平面
内で回転可能であるとともに回転軸に対して伸縮可能
で、レチクルバッファ３３及び後述するレチクルライブ
ラリ３６内にレチクルケースＲＣを受け渡し可能であ
る。ロボット３４の更に内側（−Ｘ方向）には、複数
（例えば１３枚や１５枚等）のレチクルＲを各々レチク
ルケースＲＣに収納したまま保管するレチクルライブラ
リ３６がベース３７上に配置されている。

【００２１】ライブラリ装置３０の両側には、互いに面
対称な構成の２つの露光装置４０、５０がライブラリ装
置３０にそれぞれ隣接して配置されている。そこで、露
光装置４０について説明すると、そのチャンバ４１のラ
イブラリ装置３０と接する部分はライブラリ装置３０の
チャンバ３１と兼用になっていて、レチクルバッファ３
３と対向する位置には開閉扉４２（図３参照）が設けら
れている。開閉扉４２の内側（Ｙ方向）には、アーム４
４を有するロボット４３が設けられている。アーム４４
は、図示省略するものの、レチクルケースＲＣを搬送す
るアーム部４４Ａと、レチクルＲ単体を搬送するアーム
部４４Ｂとを有する。

【００２２】アーム部４４Ａはレチクルバッファ３３と
レチクルバッファ４５との間でレチクルケースＲＣを搬
送する。アーム部４４Ｂは、レチクルバッファ４５と後
述のＣＸキャリア４６との間でレチクルＲを搬送する。
ロボット４３の横（−Ｘ方向）には、レチクルＲをレチ
クルケースＲＣに収納したまま一時的に保管する上下２
段から成るレチクルバッファ４５が設けられている。レ
チクルバッファ４５は、レチクルバッファ３３から搬送
されたレチクルケースＲＣを受け取るためのバッファで
ある。

【００２３】ロボット４３の更に奥側（Ｙ方向）上方に
はＣＸキャリア４６が設けられ、４辺を基準に２方向か
ら挟み込んでレチクルＲをプリアライメントする機構
（不図示）が設けられている。また、その下部に真空吸
着孔を有してレチクルＲの真空吸着保持及び保持解除を
行う。ＣＸキャリア４６はアーム４４と後述のロードア
ーム４８、アンロードアーム４９との間でレチクルＲの
搬送を行う。

【００２４】ＣＸキャリア４６とレチクルステージＲＳ
との間のレチクルＲの受け渡しは、ロードアーム４８と
アンロードアーム４９によって行われる。ロードアーム
４８とアンロードアーム４９はＹ方向、Ｚ方向に移動可
能である。ロードアーム４８とアンロードアーム４９と
は、ＣＸキャリア４６とレチクルステージＲＳとの間を
Ｙ方向に個別に移動可能であり、Ｚ方向については一体
に移動する構成となっている。ロードアーム４８とアン
ロードアーム４９とには、ＣＸキャリア４６と同様にレ
チクルＲを保持するための真空吸着孔が設けられてお
り、真空のＯＮ，ＯＦＦによりレチクルＲの真空吸着保
持、及び保持解除が可能となっている。

【００２５】また、チャンバー４１内には、露光系を構
成し、レチクルステージＲＳ上に保持されたレチクルＲ
を露光光で照明する不図示の照明光学系、ウエハＷを載
置してＸＹ方向に移動可能な基板ステージＳＴ、レチク
ルステージＲＳ上に保持されたレチクルＲのパターン像
をウエハＷ上に投影する投影光学系ＰＬ等からなる露光
系が配置されている。つぎに、上記のように構成された
リソグラフィシステムのレチクル搬送の動作について詳
細に説明する。

【００２６】レチクルＲはレチクルストッカ（不図示）
の中の数百個のレチクル保管棚にむき出しのまま保管さ
れている。ＡＧＶ２９から空のレチクルケースをレチク
ルストッカに受け渡すと、受け渡されたレチクルケース
はレチクル保管棚にセットされ、レチクル保管棚の使用
すべきレチクルの一枚がレチクルストッカ内の自動搬送
機構により取り出され、空のレチクルケース内に自動収
納され、再びＡＧＶ２９に戻される。

【００２７】レチクルストッカから所望のレチクルＲの
入ったレチクルケースＲＣを渡されたＡＧＶ２９は、上
位コンピュータと無線又は光通信により交信して、上位
コンピュータからの指令に基づいてそのレチクルケース
ＲＣを受け渡すべきライブラリ装置３０の前まで走行し
て停止する。ライブラリ装置３０側では、上位コンピュ
ータの指令に基づいて、ライブラリ装置３０を制御する
コンピュータの指令によりチャンバー３１の開閉扉３２
を開ける。ＡＧＶ２９は、ライブラリ装置３０の制御コ
ンピュータと光通信等によって交信して、相互にタイミ
ングをとりながら、レチクルストッカから搬送してきた
レチクルケースＲＣをレチクルバッファ３３の第１段に
受け渡し、レチクルケースＲＣは一時的に保管される。
レチクルバッファ３３の第１段において、レチクルケー
スＲＣはレチクルケースバーコードリーダによって識別
され、ロボット３４のアーム３５によって引き出され、
ロボット３４は１８０℃（以下回転は時計方向とする）
回転してＺ方向に移動して、レチクルケースＲＣはレチ
クルライブラリ３６の所定の段に保管される。

【００２８】この際レチクルバッファ３３があるため、
ロボット３４がレチクルケースＲＣをレチクルバッファ
３３の第１段から引き出した直後には、ＡＧＶ２９は次
のレチクルケースＲＣをレチクルバッファ３３の第１段
に挿入することができる。こうして、次々とレチクルケ
ースＲＣをレチクルライブラリ３６に搬送することがで
きる。

【００２９】レチクルライブラリ３６に保管されている
レチクルケースＲＣはロボット３４のアーム３５によっ
て引き出されて、ロボット３４はＺ方向に移動して１８
０℃回転をして、レチクルケースＲＣはレチクルバッフ
ァ３３の第３段に挿入され、一時的に保管され、つぎ
に、アーム４４のアーム部４４Ａによって引き出され
て、ロボット４４はＺ方向に移動し９０℃回転をして、
レチクルケースＲＣはレチクルバッファ４５の第１段に
挿入される。つぎに、レチクルケースＲＣに収納されて
いるレチクルＲはアーム４４のアーム部４４Ｂによって
引き出されて、ロボット４３がＺ方向に移動し９０℃回
転をして、レチクルＲをＣＸキャリア４６に搬送する。
ここで、レチクルＲはプリアライメントされる。つぎ
に、ＣＸキャリア４６はロードアーム４８にレチクルＲ
を受け渡す。

【００３０】レチクルステージＲＳ上のレチクルＲを交
換するときは、まず、アンロードアーム４９によって、
レチクルステージＲＳ上のレチクルＲをアンロードし
て、つぎに、ロードアーム４８によってレチクルＲをレ
チクルステージＲＳ上にロードし、アンロードアーム４
９上のレチクルＲをＣＸキャリア４６上に載置する。

【００３１】ＣＸキャリア４６上の使用されたレチクル
Ｒはアーム４４のアーム部４４Ｂによってレチクルバッ
ファ４５の第１段に挿入されているレチクルケースＲＣ
に搬送される。そして、この間にロボット３４は次に使
用するレチクルＲが収納されたレチクルケースＲＣをレ
チクルバッファ３３の第３段に挿入しているので、ロボ
ット４３は使用したレチクルケースＲＣをレチクルバッ
ファ４５の第１段に戻した直後には次に使用するレチク
ルケースＲＣをレチクルバッファ３３の第３段から引き
出すことができる。そこで、ロボット４３はＺ方向に移
動して−９０℃回転をして、アーム４４のアーム部４４
Ａはレチクルバッファ３３の第３段から次に使用するレ
チクルケースＲＣを引き出して、レチクルバッファ４５
の第２段に搬送する。つぎに、ロボット４３はＺ方向に
移動して、アーム４４のアーム部４４Ａはレチクルバッ
ファ４５の第１段に一時的に保管されていた使用された
レチクルケースＲＣをレチクルバッファ３３の第３段に
搬送し、ロボット３４のアーム３５、レチクルケースＲ
Ｃをレチクルライブラリ３６の所定の段に搬送する。

【００３２】レチクルライブラリ３６に保管されている
レチクルケースＲＣをレチクルストッカに戻すには、ロ
ボット３４のアーム３５によってレチクルライブラリ３
６内の所定の段に保管されているレチクルケースＲＣを
引き出して、ロボット３４はＺ方向に移動し１８０℃回
転をして、レチクルケースＲＣはレチクルバッファ３３
の第２段に挿入され一時的に保管され、つぎに、ＡＧＶ
２９によって引き出されて、レチクルストッカに戻され
る。

【００３３】また、これとは異なるレチクルケースＲＣ
の搬送経路として、レチクルライブラリ３６を介さずに
ロード又はアンロードすることもできる。すなわち、Ａ
ＧＶ２９によって搬送されてきたレチクルケースＲＣを
レチクルバッファ３３の第１段で受けて一時的に保管
し、レチクルケースＲＣはレチクルケースバーコードリ
ーダによって識別され、ロボット４３のアーム４４によ
って引き出され、ロボット４３はＺ方向に移動し９０℃
回転をして、レチクルケースＲＣはレチクルバッファ４
５の第１段に挿入され、一時的に保管され、後はレチク
ルライブラリ３６から搬送されてきた場合と同様であ
る。

【００３４】以上はライブラリ装置３０と露光装置４０
との間でレチクルケースＲＣをやり取りする動作の説明
であるが、露光装置５０は露光装置４０と面対称な構成
をしていて本質的には異ならないのでライブラリ装置３
０と露光装置５０との間でのレチクルケースＲＣのやり
取りも同様の動作で行われる。

【００３５】したがって、ライブラリ装置３０に保管さ
れているレチクルケースＲＣは露光装置４０及び５０で
共通に利用することができ、露光装置４０及び５０の中
にはレチクルライブラリを設ける必要がなくなり、露光
装置４０及び５０を小型にすることができる。また、露
光装置４０及び５０の両方で使用するレチクルケースＲ
Ｃはライブラリ装置３０に１回搬送するだけで済むの
で、それだけＡＧＶ２９による搬送の量を減らし通信の
量も減らすことができ、スループットを向上することが
できる。さらに、ライブラリ装置３０は２つの露光装置
４０及び５０で兼用しているので、トータルとしてもフ
ットプリント（床面積）を小さくすることができる。

【００３６】以上は露光装置４０と５０とが面対象の構
成である場合であったが、図４に本発明の別の一実施の
形態の模式的上面図を示すように、露光装置４０と全く
同一の構成の露光装置５０’をライブラリ装置３０’に
隣接させて構成することもできる。この場合、ライブラ
リ装置３０’は、レチクルバッファ３３では４段あった
バッファの内、第１段及び第２段を２段構成のレチクル
バッファ３３’として開閉扉３２’の内側に設置して、
その第３段は１段構成のレチクルバッファ３８’として
露光装置４０との間の開閉扉４２に対向して設置して、
その第４段は１段構成のレチクルバッファ３９’として
露光装置５０’との間の開閉扉５２’に対向して設置
し、これらレチクルバッファ３３’、３８’、３９’に
突出可能なアーム３５’を有するロボット３４’をこれ
らレチクルバッファ３３’、３８’、３９’の中心の位
置に設置して、さらに、そのロボット３４’の奥にレチ
クルライブラリ３６と同様の構成のレチクルライブラリ
３６’を設置するものである。

【００３７】レチクルバッファ３３の動作で説明したの
と同様に、レチクルバッファ３３’はレチクルライブラ
リ３６’とＡＧＶ２９との間でレチクルケースＲＣのや
り取りをするためのものであり、レチクルバッファ３
８’はレチクルライブラリ３６’と露光装置４０との間
でレチクルケースＲＣのやり取りをするためのものであ
り、レチクルバッファ３９’はレチクルライブラリ３
６’と露光装置５０’との間でレチクルケースＲＣのや
り取りをするためのものである。この様な構成にするこ
とにより、露光装置４０、５０’として同一の構成のも
のを採用することができる。

【００３８】図５に本発明の別の一実施の形態の模式的
上面図を示す。本実施の形態では、Ｃ／Ｄ（７１ａ〜７
１ｆ）（すなわち、ウエハＷにフォトレジスト等の感光
剤を塗布するコータ、及び、露光装置４０ａ〜４０ｆに
よって露光されたウエハＷを現像するデベロッパ）と露
光装置４０ａ〜４０ｆとをラック７０ａ〜７０ｆを介し
て接続して、いわゆる、インライン構成として、これら
を複数台設置し、これらに共通のライブラリ装置３０を
設置して、その間で、ＡＧＶ搬送路７２上を移動するＡ
ＧＶ２９によってレチクルケースＲＣを搬送するもので
ある。この場合にも、露光装置４０ａ〜４０ｆの中には
レチクルライブラリを設置する必要がないので、露光装
置４０ａ〜４０ｆを小型にすることができる。

【００３９】以上では、クリーンルーム内でレチクルス
トッカとライブラリ装置との間にレチクルが収納された
レチクルケースを搬送するＡＧＶがライブラリ装置の正
面からレチクルケースの受け渡しを行うものとして説明
してきた。しかし、ＡＧＶとライブラリ装置との間での
レチクルケースの授受は、ライブラリ装置の正面で行う
ことは必ずしも必要ではなく、ライブラリ装置の側面あ
るいは背面からレチクルケースの授受を行っても良い。

【００４０】また、ここで説明した例のＡＧＶはクリー
ンルームの床面を走行するタイプのものであった。しか
し、本発明で使用できるＡＧＶは床面を走行するタイプ
のものに限られない。例えば、レチクルストッカ及びラ
イブラリ装置の上方に軌道を敷設し、その軌道に沿って
モータによってあるいはリニアモータ方式によってレチ
クルケース搬送用のキャリアを移送するタイプのものと
することもできる。その場合、ＡＧＶとの間でレチクル
ケースの授受を行うためにレチクルストッカあるいはラ
イブラリ装置に設けられる開閉扉はレチクルストッカあ
るいはライブラリ装置の上面に設けても良い。あるい
は、レチクルストッカ及びライブラリ装置を設置してい
る床面下に軌道を敷設し、その軌道に沿ってレチクルケ
ース搬送用のキャリアを移送するようにしても良い。こ
の場合には、レチクルケースの授受を行うための開閉扉
をレチクルストッカ及びライブラリ装置の下面に設ける
こともできる。

【００４１】以上はレチクルケースＲＣをレチクルスト
ッカからライブラリ装置まで人手を介さずに自動的に搬
送する場合の説明であったが、必要に応じて人手によっ
て行うこともできる。ライブラリ装置の前面にＣＲＴ
（不図示）を設けて監視し、開閉扉を開けて、オペレー
タによりレチクルケースＲＣをレチクルバッファの所定
の位置に搬入又は搬出するか、又は、ライブラリ装置の
側面あるいは背面からレチクルライブラリの所定の位置
に直接に搬入又は搬出することもできる。

【００４２】また、レチクルバッファとして、４段構成
のレチクルバッファ３３、２段構成のレチクルバッファ
４５、５５、３３’、及び、１段構成のレチクルバッフ
ァ３８’、３９’の例を示したが、それぞれの段数は必
要に応じて増減可能である。また、時間的に余裕があれ
ばレチクルバッファを設ける必要はない。また、ライブ
ラリ装置内にレチクルライブラリが１つある場合を説明
したが、１つには限られず２、３、４等任意である。

【００４３】

【発明の効果】本発明によると、複数の露光装置により
レチクル保管手段を共有するので、露光装置の中にレチ
クル保管手段を設ける必要がなくなり、露光装置を小型
にすることができる。また、複数の露光装置で使用する
レチクルケースはレチクル保管手段に１回搬送するだけ
で済むので、それだけＡＧＶによる搬送の量を減らし通
信の量も減らすことができ、スループットを向上するこ
とができる。さらに、レチクル保管手段は複数の露光装
置で兼用しているので、トータルとしてもフットプリン
ト（床面積）を小さくすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】レチクルケースの一例を示す図であり、レチク
ルケースの上蓋を開けた状態を示す斜視図である。

【図２】本発明の一実施の形態を示す概略説明図であ
る。

【図３】本発明の一実施の形態の要部の模式的上面図で
ある。

【図４】本発明の他の一実施の形態の要部の模式的上面
図である。

【図５】本発明の更に他の一実施の形態の要部の模式的
上面図である。

【図６】クリーンルーム内に設置されている従来の露光
装置の外観を示す略図である。

【符号の説明】

ＰＬ…投影光学系、Ｒ…レチクル、ＲＣ…レチクルケー
ス、ＲＳ…レチクルステージ、ＳＴ…基板ステージ、Ｗ
…ウエハ、２…側面部材、３…ヒンジ、４…上蓋、５…
ヒンジ、６…前蓋，７Ａ，７Ｂ…ガイド部、８Ａ，８Ｂ
…押さえばね、９Ａ，９Ｂ，１２Ａ，１２Ｂ…ストッ
パ、１０Ａ，１０Ｂ，１１Ａ，１１Ｂ…レチクル支持ピ
ン、１５Ａ，１５Ｂ…レチクル押さえ、１６Ａ，１６
Ｂ，１８Ａ，１８Ｂ…引っ張りコイルばね、２１…ペリ
クル、２９…レチクルケース自動搬送ロボット（ＡＧ
Ｖ）、３０…ライブラリ装置、３１，４１，５１…チャ
ンバー、３２，４２，５２…開閉扉、３７，４７，５７
…ベース、３３，４５，５５…レチクルバッファ、３
４，４３，５３…ロボット、３５，４４，５４…アー
ム、３６…レチクルライブラリ、４０，５０…露光装
置、４６，５６…ＣＸキャリア、４８，５８…ロードア
ーム、４９，５９…アンロードアーム

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＨ０１Ｌ 21/30 ５１５Ｄ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】レチクルに形成されたパターンを基板に
露光する複数の露光装置と、前記露光装置の外部にあっ
て前記レチクルが収納されたレチクルケースを保管する
レチクル保管手段と、前記複数の露光装置と前記レチク
ル保管手段との間で前記レチクルケースを搬送する搬送
手段とを備えることを特徴とするリソグラフィシステ
ム。
【請求項２】請求項１記載のリソグラフィシステムに
おいて、前記レチクル保管手段は前記複数の露光装置の間に配設
されていることを特徴とするリソグラフィシステム。
【請求項３】請求項２記載のリソグラフィシステムに
おいて、前記搬送手段は前記露光装置の内部に配設されているこ
とを特徴とするリソグラフィシステム。
【請求項４】請求項１記載のリソグラフィシステムに
おいて、前記搬送手段は、前記複数の露光装置のうちの第１の露
光装置で使用されたレチクルを前記第１の露光装置とは
異なる第２の露光装置に搬送することを特徴とするリソ
グラフィシステム。
【請求項５】請求項１記載のリソグラフィシステムに
おいて、前記搬送手段は、前記露光装置の前記露光に用いられて
いるレチクルの次に使用されるレチクルを搬送すること
を特徴とするリソグラフィシステム。
【請求項６】請求項１記載のリソグラフィシステムに
おいて、前記レチクル保管手段は、前記複数のレチクルのうち前
記搬送手段により搬入・搬出されるレチクルを一時的に
保管する一時保管手段を備えることを特徴とするリソグ
ラフィシステム。