JPH11322851A - プロピレン共重合体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 剛性と耐衝撃性のバランスに優れたプロピレ
ン−エチレンブロック共重合体および、透明性と剛性の
バランスに優れたプロピレン−エチレンランダム共重合
体を得る方法を提供。 【解決手段】 （Ａ）マグネシウム、チタン、ハロゲン
および電子供与性化合物を必須成分とする固体成分をＢ
ｒ₂、Ｉ₂、ＣＢｒ₄、ＣＩ₄、アルキルブロマイド、アル
キルアイオダイド、または化合物ＭｅｔＲ_X（Ｍｅｔは
Ｍｇ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ又は遷
移金属元素を示し、ＲはＢｒ、Ｉまたは炭化水素含有基
を示し、少なくとも一つはＢｒまたはＩであり、ｘはＭ
ｅｔの原子価を示す。）で処理した固体触媒成分、
（Ｂ）特定の有機アルミニウム化合物、（Ｃ）アルキル
アルコキシシラン化合物、及び（Ｄ）化合物ＭｅｔＲ_X
（同上）からなる重合用触媒の存在下にプロピレンとエ
チレンを共重合する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プロピレン−エチ
レンの共重合体の製造方法に関し、特に、剛性と耐衝撃
性のバランスに優れたプロピレン−エチレンブロック共
重合体、または透明性と剛性のバランスに優れたプロピ
レン−エチレンランダム共重合体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】プロピレン−エチレン共重合体は、耐衝
撃性が改良されたポリプロピレン樹脂として用いられ、
耐熱性、耐薬品性、電気的性質に優れており、更には剛
性、引張強度、光学的特性、加工性が良好であり射出成
形、フィルム成形、シート成形、ブロー成形等に利用さ
れ、また、該プロピレン−エチレン共重合体は、低比重
であり、自動車、家電等の工業材料や一般雑貨等の分野
で広く用いられている。

【０００３】Ｍｇ，Ｔｉ、ハロゲンおよび電子供与性化
合物を必須成分とする触媒成分と有機アルミニウム化合
物、シラン化合物からなるプロピレン重合用触媒はよく
知られている。その際シラン化合物を変えることによ
り、得られるポリプロピレンの立体規則性を変えること
ができる（特開平７−１０９３０９号公報）。このよう
に、ポリプロピレンの立体規則性を向上させ、その剛性
を改良することが行われてきている。さらに、エチレン
等の他のオレフィンとの共重合によって、それぞれの工
業用途に応じた耐衝撃性や透明性の改良が検討されてい
る。

【０００４】例えば、共重合体の剛性と耐衝撃性のバラ
ンスを改良する方法として、プロピレンと他のオレフィ
ンとの重合比を変えながら段階的に重合する方法、すな
わち多段重合の方法が種々提案されている（例えば、特
公平３−４４５６号公報）。また、その他の改良方法と
して、共重合の際にケイ素化合物を存在させることも知
られている（特開平６−７３１１３号公報）。しかしな
がら、いずれの方法でも、剛性と耐衝撃性の物性のバラ
ンスに十分に優れたプロピレン−エチレン共重合体は得
られていない。

【０００５】透明性を改良する手段としては、プロピレ
ンを重合する際に少量のエチレンを添加してランダム共
重合体を製造する方法がよく知られている。しかしなが
ら、添加するエチレンの量が多いほど透明性は向上する
もののポリプロピレンの結晶性が乱されるため剛性の高
さが損なわれてしまう。一方、剛性を改良する方法も種
々提案されているが、それらの多くはポリプロピレンに
核剤を添加するなどの後処理を施す方法である。したが
って、プロセス面からコスト高となる上、添加剤によっ
ては外観を損なうものもある。重合方法により剛性を改
良する方法も提案されているが、いずれも剛性は不十分
である。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、プロピレン
−エチレン共重合体の内、プロピレン−エチレンブロッ
ク共重合体においては、剛性と耐衝撃性のバランスに優
れた共重合体を得る方法を、プロピレン−エチレンラン
ダム共重合体においては、透明性と剛性のバランスに優
れた共重合体を得る方法を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、プロピレ
ン−エチレン共重合体の製造方法について検討を重ねた
結果、固体成分をＢｒ、Ｉを含んだ特定の化合物で処理
して得られた固体触媒成分を用い、重合時、更に特定の
金属ハロゲン化合物を存在させてプロピレンとエチレン
の共重合体を製造することにより本発明の目的を達成し
うることを見出した。

【０００８】すなわち、本発明は、（Ａ）マグネシウ
ム、チタン、ハロゲンおよび電子供与性化合物を必須成
分とする固体成分をＢｒ₂、Ｉ₂、ＣＢｒ₄、ＣＩ₄、アル
キルブロマイド、アルキルアイオダイド、または一般式
ＭｅｔＲ_X（式中、ＭｅｔはＭｇ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｇ
ｅ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ又は遷移金属元素を示し、ＲはＢ
ｒ、Ｉまたは炭化水素含有基を示し、少なくとも一つは
ＢｒまたはＩであり、ｘはＭｅｔの原子価を示す。）で
示される化合物で処理をした固体触媒成分、（Ｂ）一般
式（Ｒ^k）_rＡｌ（Ｙ）_3-r（ここで、Ｒ^kはそれぞれ独立
して、アルキル基およびアリール基であり、Ｙはそれぞ
れ独立して、アルコキシ基およびアリールオキシ基から
選ばれる基であり、ｒは０≦ｒ≦３の範囲の任意の数で
ある。）で示される有機アルミニウム化合物又は酸素原
子若しくは窒素原子を介して２個以上のアルミニウムが
結合した有機アルミニウム化合物の中から少なくとも１
つ以上選ばれた有機アルミニウム化合物、（Ｃ）アルキ
ルアルコキシシラン化合物、及び（Ｄ）一般式ＭｅｔＲ
_X（式中、ＭｅｔはＭｇ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｉ
ｎ、Ｓｎ、Ｓｂ又は遷移金属元素を示し、Ｒはハロゲン
原子、または炭化水素含有基を示し、少なくとも一つは
ハロゲン原子であり、ｘはＭｅｔの原子価を示す。）で
示される化合物からなる重合用触媒の存在下にプロピレ
ンとエチレンを共重合することを特徴とするプロピレン
−エチレン共重合体の製造方法である。

【０００９】本発明の実施態様を以下に示す。 （イ）（Ａ）の固体成分が、マグネシウム、チタン、ハ
ロゲン、金属酸化物および電子供与性化合物を必須成分
とする固体成分である前記のプロピレン−エチレン共重
合体の製造方法。 （ロ）（Ａ）の固体触媒成分が、マグネシウム、チタ
ン、ハロゲンおよび電子供与性化合物を必須成分とする
固体成分をＢｒ₂、Ｉ₂、ＣＢｒ₄、ＣＩ₄、アルキルブロ
マイド、アルキルアイオダイド、または一般式ＭｅｔＲ
_X（式中、ＭｅｔはＴｉ、Ｍｇ、Ｂ、Ａｌ、Ｃｏ、Ｒ
ｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｚｎを示し、ＲはＢｒ、Ｉまたは炭化
水素含有基を示し、少なくとも一つはＢｒまたはＩであ
り、ｘはＭｅｔの原子価を示す。）で示される化合物で
処理をした固体触媒成分である前記のプロピレン−エチ
レン共重合体の製造方法。 （ハ）（Ａ）の固体触媒成分が、マグネシウム、チタ
ン、ハロゲンおよび電子供与性化合物を必須成分とする
固体成分をＢｒ₂、Ｉ₂、ＣＢｒ₄、ＣＩ₄、アルキルブロ
マイド、アルキルアイオダイド、または一般式ＭｅｔＲ
_X（式中、ＭｅｔはＴｉ、Ｍｇ、Ｂ、Ａｌ、Ｃｏ、Ｒ
ｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｚｎを示し、ＲはＢｒ、Ｉまたは炭化
水素含有基を示し、ＢｒまたはＩが２個以上であり、ｘ
はＭｅｔの原子価を示す。）で示される化合物で処理を
した固体触媒成分である前記のプロピレン−エチレン共
重合体の製造方法。 （ニ）（Ａ）の固体成分を処理する一般式ＭｅｔＲ_Xで
表される化合物が、臭化ホウ素、沃化化ホウ素、エチル
ジブロモホウ素、エチルアルミニウムセスキブロマイ
ド、エチルアルミニウムセスキアイオダイド、エチルア
ルミニウムジブロマイド、臭化アルミニウム、臭化パラ
ジウム、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム
ジブロマイド、臭化ニッケル、臭化亜鉛、臭化マグネシ
ウムである前記のプロピレン−エチレン共重合体の製造
方法。 （ホ）成分（Ｂ）がトリアルキルアルミニウムである前
記のプロピレン−エチレン共重合体の製造方法。 （ヘ）成分（Ｃ）アルキルアルコキシシラン化合物が、
一般式： Ｒ¹Ｓｉ（ＯＲ²）（ＯＣＨ₃）₂ （上記式中、Ｒ¹は、炭素数３〜６の分岐状または環状
のアルキル基であり、Ｒ²は、炭素数３〜６の、分岐状
アルキル基、アルケニル基またはアルキニル基である）
で示されるアルキルトリアルコキシシランである前記プ
ロピレン−エチレン共重合体の製造方法。 （ト）成分（Ｄ）が、一般式ＭｅｔＲ_X（式中、Ｍｅｔ
はＴｉ、Ｍｇ、Ｂ、Ａｌ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｚ
ｎを示し、Ｒはハロゲン原子、または炭化水素含有基を
示し、少なくとも一つはハロゲン原子であり、ｘはＭｅ
ｔの原子価を示す。）で示される化合物である前記のプ
ロピレン−エチレン共重合体の製造方法。。 （チ）成分（Ｄ）が、一般式ＭｅｔＲ_X（式中、Ｍｅｔ
はＴｉ、Ｍｇ、Ｂ、Ａｌ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｚ
ｎを示し、Ｒはハロゲン原子、または炭化水素含有基を
示し、少なくとも二つ以上はハロゲン原子であり、ｘは
Ｍｅｔの原子価を示す。）で示される化合物である前記
プロピレン−エチレン共重合体の製造方法。 （リ）成分（Ｄ）が、一般式ＭｅｔＲ_X（式中、Ｍｅｔ
はＴｉ、Ｍｇ、Ｂ、Ａｌ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｚ
ｎを示し、Ｒはハロゲン原子、または炭化水素含有基を
示し、Ｂｒ、Ｉを少なくとも一つ含み、ｘはＭｅｔの原
子価を示す。）で示される化合物である前記プロピレン
−エチレン共重合体の製造方法。 （ヌ）成分（Ｄ）が、一般式ＭｅｔＲ_X（式中、Ｍｅｔ
はＴｉ、Ｍｇ、Ｂ、Ａｌ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｚ
ｎを示し、Ｒはハロゲン原子、または炭化水素含有基を
示し、Ｂｒ、Ｉを二つ以上含み、ｘはＭｅｔの原子価を
示す。）で示される化合物である前記プロピレン−エチ
レン共重合体の製造方法。 （ル）成分（Ｄ）が、臭化ホウ素、沃化ホウ素、エチル
ジブロモホウ素、エチルアルミニウムセスキクロライ
ド、エチルアルミニウムジブロマイド、臭化アルミニウ
ム、臭化パラジウム、ビス（トリフェニルフォスフィ
ン）パラジウムジブロマイド、臭化ニッケル、臭化亜
鉛、臭化マグネシウムである前記プロピレン−エチレン
共重合体の製造方法。 （ヲ）（Ａ）マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび電
子供与性化合物を必須成分とする固体成分をＢｒ₂、
Ｉ₂、ＣＢｒ₄、ＣＩ₄、アルキルブロマイド、アルキル
アイオダイド、または一般式ＭｅｔＲ_X（式中、Ｍｅｔ
はＭｇ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ又は
遷移金属元素を示し、ＲはＢｒ、Ｉまたは炭化水素含有
基を示し、少なくとも一つはＢｒまたはＩであり、ｘは
Ｍｅｔの原子価を示す。）で示される化合物で処理をし
た固体触媒成分、（Ｂ）一般式（Ｒ^k）_rＡｌ（Ｙ）_3-r
（ここで、Ｒ^kはそれぞれ独立して、アルキル基および
アリール基であり、Ｙはそれぞれ独立して、アルコキシ
基およびアリールオキシ基から選ばれる基であり、ｒは
０≦ｒ≦３の範囲の任意の数である。）で示される有機
アルミニウム化合物又は酸素原子若しくは窒素原子を介
して２個以上のアルミニウムが結合した有機アルミニウ
ム化合物の中から少なくとも１つ以上選ばれた有機アル
ミニウム化合物、（Ｃ）アルキルアルコキシシラン化合
物、（Ｄ）一般式ＭｅｔＲ_X（式中、ＭｅｔはＭｇ、
Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ又は遷移金属
元素を示し、Ｒはハロゲン原子、または炭化水素含有基
を示し、少なくとも一つはハロゲン原子であり、ｘはＭ
ｅｔの原子価を示す。）で示される化合物、及び（Ｅ）
ＺｎＲ₂（式中、Ｒはアルキル基を示す。）で示される
亜鉛化合物からなる重合用触媒の存在下にプロピレンと
エチレンを共重合することを特徴とするプロピレン−エ
チレン共重合体の製造方法。 （ワ）（Ａ）マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび電
子供与性化合物を必須成分とする固体成分をＢｒ₂、
Ｉ₂、ＣＢｒ₄、ＣＩ₄、アルキルブロマイド、アルキル
アイオダイド、または一般式ＭｅｔＲ_X（式中、Ｍｅｔ
はＭｇ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ又は
遷移金属元素を示し、ＲはＢｒ、Ｉまたは炭化水素含有
基を示し、少なくとも一つはＢｒまたはＩであり、ｘは
Ｍｅｔの原子価を示す。）で示される化合物で処理をし
た固体触媒成分、（Ｂ）一般式（Ｒ^k）_rＡｌ（Ｙ）_3-r
（ここで、Ｒ^kはそれぞれ独立して、アルキル基および
アリール基であり、Ｙはそれぞれ独立して、アルコキシ
基およびアリールオキシ基から選ばれる基であり、ｒは
０≦ｒ≦３の範囲の任意の数である。）で示される有機
アルミニウム化合物又は酸素原子若しくは窒素原子を介
して２個以上のアルミニウムが結合した有機アルミニウ
ム化合物の中から少なくとも１つ以上選ばれた有機アル
ミニウム化合物、（Ｃ）アルキルアルコキシシラン化合
物、（Ｄ）一般式ＭｅｔＲ_X（式中、ＭｅｔはＭｇ、
Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ又は遷移金属
元素を示し、Ｒはハロゲン原子、または炭化水素含有基
を示し、少なくとも一つはハロゲン原子であり、ｘはＭ
ｅｔの原子価を示す。）で示される化合物、（Ｅ）Ｚｎ
Ｒ₂（式中、Ｒはアルキル基を示す。）で示される亜鉛
化合物及び（Ｆ）ＡｌＲ₃（式中、Ｒはそれぞれ独立し
た水素原子またはアルキル基であり、少なくとも一つは
水素原子である。）で表される化合物からなる重合用触
媒の存在下にプロピレンとエチレンを共重合することを
特徴とするプロピレン−エチレン共重合体の製造方法。 （カ）（Ａ）マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび電
子供与性化合物を必須成分とする固体成分をＢｒ₂、
Ｉ₂、ＣＢｒ₄、ＣＩ₄、アルキルブロマイド、アルキル
アイオダイド、または一般式ＭｅｔＲ_X（式中、Ｍｅｔ
はＭｇ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ又は
遷移金属元素を示し、ＲはＢｒ、Ｉまたは炭化水素含有
基を示し、少なくとも一つはＢｒまたはＩであり、ｘは
Ｍｅｔの原子価を示す。）で示される化合物で処理をし
た固体触媒成分、（Ｂ）一般式（Ｒ^k）_rＡｌ（Ｙ）_3-r
（ここで、Ｒ^kはそれぞれ独立して、アルキル基および
アリール基であり、Ｙはそれぞれ独立して、アルコキシ
基およびアリールオキシ基から選ばれる基であり、ｒは
０≦ｒ≦３の範囲の任意の数である。）で示される有機
アルミニウム化合物又は酸素原子若しくは窒素原子を介
して２個以上のアルミニウムが結合した有機アルミニウ
ム化合物の中から少なくとも１つ以上選ばれた有機アル
ミニウム化合物、（Ｃ）アルキルアルコキシシラン化合
物、（Ｄ）一般式ＭｅｔＲ_X（式中、ＭｅｔはＭｇ、
Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ又は遷移金属
元素を示し、Ｒはハロゲン原子、または炭化水素含有基
を示し、少なくとも一つはハロゲン原子であり、ｘはＭ
ｅｔの原子価を示す。）で示される化合物、（Ｅ）Ｚｎ
Ｒ₂（式中、Ｒはアルキル基を示す。）で示される亜鉛
化合物、（Ｆ）ＡｌＲ₃（式中、Ｒはそれぞれ独立した
水素原子またはアルキル基であり、少なくとも一つは水
素原子である。）で表される化合物および（Ｇ）一般式
Ｃｐ_nＭＹ_4-n（式中、Ｃｐは置換又は非置換シクロペン
タジエニル基、ＭはＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆから選ばれる元
素、Ｙは水素、ハロゲン、アルコキシ基、アミノ基、炭
素数１〜１０のアルキル又はアリール基から選ばれる
基、ｎは１〜３の整数を示す。）で表される化合物から
なる重合用触媒の存在下にプロピレンとエチレンを共重
合することを特徴とするプロピレン−エチレンブロック
共重合体の製造方法。

【００１０】

【発明の実施の形態】１．固体成分 本発明の固体触媒成分（Ａ）は、Ｔｉ、Ｍｇ、ハロゲン
および電子供与性化合物を必須とする固体成分を、Ｂｒ
₂、Ｉ₂、ＣＢｒ₄、ＣＩ₄、アルキルブロマイド、アルキ
ルアイオダイド、または一般式ＭｅｔＲ_xで示される化
合物により処理して得られる。本発明の固体触媒成分
（Ａ）に用いる固体成分は、マグネシウム、チタン、ハ
ロゲンおよび電子供与性化合物を必須成分とし、必要に
応じて金属酸化物を含むことができる。固体成分は、そ
れ自体公知の成分である。このような成分は通常、マグ
ネシウム化合物、チタン化合物および電子供与性化合
物、さらに前記各化合物がハロゲンを有しない化合物の
場合は、ハロゲン含有化合物をそれぞれ接触することに
より、調製される。以下各成分について説明する。

【００１１】（１）マグネシウム マグネシウム化合物は、一般式ＭｇＲ^aＲ^bで表される。
ここで、Ｒ^a及びＲ^bは同一か異なる炭化水素基、ＯＲ基
（Ｒは炭化水素基）、ハロゲン原子を示す。より詳細に
は、Ｒ^a及びＲ^bの炭化水素基としては、炭素素１〜２０
個のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アル
アルキル基が、ＯＲ基としては、Ｒが炭素数１〜１２個
のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルア
ルキル基が、ハロゲン原子としては塩素、臭素、ヨウ
素、フッ素等が挙げられる。

【００１２】これら化合物の具体例を下記に示す。下記
化学式において、Ｍｅ：メチル、Ｅｔ：エチル、Ｐｒ：
プロピル、ｉ−Ｐｒ：イソプロピル、Ｂｕ：ブチル、ｉ
−Ｂｕ：イソブチル、ｔ−Ｂｕ：ターシャリーブチル、
Ｈｅ：ヘキシル、Ｏｃｔ：オクチル、Ｐｈ：フェニル、
ｃｙＨｅ：シクロヘキシルをそれぞれ示す。

【００１３】ＭｇＭｅ₂、ＭｇＥｔ₂、Ｍｇ（ｉ−Ｐｒ）
₂、ＭｇＢｕ₂、ＭｇＨｅ₂、ＭｇＯｃｔ₂、ＭｇＥｔＢ
ｕ、ＭｇＰｈ₂、ＭｇｃｙＨｅ₂、Ｍｇ（ＯＭｅ）₂、Ｍ
ｇ（ＯＥｔ）₂、Ｍｇ（ＯＢｕ）₂、Ｍｇ（ＯＨｅ）₂、
Ｍｇ（ＯＯｃｔ）₂、Ｍｇ（ＯＰｈ）₂、Ｍｇ（ＯｃｙＨ
ｅ）₂、ＥｔＭｇＣｌ、ＢｕＭｇＣｌ、ＨｅＭｇＣｌ、
ｉ−ＢｕＭｇＣｌ、ｔ−ＢｕＭｇＣｌ、ＰｈＭｇＣｌ、
ＰｈＣＨ₂ＭｇＣｌ、ＥｔＭｇＢｒ、ＢｕＭｇＢｒ、Ｐ
ｈＭｇＢｒ、ＢｕＭｇＩ、ＥｔＯＭｇＣｌ、ＢｕＯＭｇ
Ｃｌ、ＨｅＯＭｇＣｌ、ＰｈＯＭｇＣｌ、ＥｔＯＭｇＢ
ｒ、ＢｕＯＭｇＢｒ、ＥｔＯＭｇＩ、ＭｇＣｌ₂、Ｍｇ
Ｂｒ₂、ＭｇＩ₂。

【００１４】上記マグネシウム化合物は、成分Ａを調製
する際に、金属マグネシウム又はその他のマグネシウム
化合物から調製することも可能である。その一例とし
て、金属マグネシウム、ハロゲン化炭化水素及び一般式
Ｘ_nＭ（ＯＲ）_m-nのアルコキシ基含有化合物（式中、Ｘ
は水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜２０個の炭
化水素基、Ｍはホウ素、炭素、アルミニウム、ケイ素ま
たはリン原子、Ｒは炭素数１〜２０個の炭化水素基、ｍ
はＭの原子価、ｍ＞ｎ≧０を示す。）を接触させる方法
が挙げられる。

【００１５】該アルコキシ基含有化合物の一般式のＸ及
びＲの炭化水素基としては、メチル（Ｍｅ）、エチル
（Ｅｔ）、プロピル（Ｐｒ）、ｉ−プロピル、（ｉ−Ｐ
ｒ）、ブチル（Ｂｕ）、ｉ−ブチル（ｉ−Ｂｕ）、ヘキ
シル（Ｈｅ）、オクチル（Ｏｃｔ）等のアルキル基、シ
クロヘキシル（ｃｙＨｅ）、メチルシクロヘキシル等の
シクロアルキル基、アリル、プロペニル、ブテニル等の
アルケニル基、フェニル（Ｐｈ）、トリル、キシリル等
のアリール基、フェネチル、３−フェニルピロピル等の
アルアルキル基が挙げられる。これらの中でも、特に炭
素数１〜１０個のアルキル基が望ましい。以下、アルコ
キシ基含有化合物の具体例を挙げる。

【００１６】Ｍが炭素の場合の化合物 式Ｃ（ＯＲ）₄に含まれるＣ（ＯＭｅ）₄、Ｃ（ＯＥｔ）
₄、Ｃ（ＯＰｒ）₄、Ｃ（ＯＢｕ）₄、Ｃ（Ｏｉ−Ｂ
ｕ）₄、Ｃ（ＯＨｅ）₄、Ｃ（ＯＯｃｔ）₄：式ＸＣ（Ｏ
Ｒ）₃に含まれるＨＣ（ＯＭｅ）₃、ＨＣ（ＯＥｔ）₃、
ＨＣ（ＯＰｒ）₃、ＨＣ（ＯＢｕ）₃、ＨＣ（ＯＨ
ｅ）₃、ＨＣ（ＯＰｈ）₃；ＭｅＣ（ＯＭｅ）₃，Ｍｅｃ
（ＯＥｔ）₃、ＥｔＣ（ＯＭｅ）₃、ＥｔＣ（ＯＥ
ｔ）₃、ｃｙＨｅＣ（ＯＥｔ）₃、ＰｈＣ（ＯＭｅ）₃、
ＰｈＣ（ＯＥｔ）₃、ＣＨ₂ＣｌＣ（ＯＥｔ）₃、ＭｅＣ
ＨＢｒＣ（ＯＥｔ）₃、ＭｅＣＨＣｌＣ（ＯＥｔ）₃；Ｃ
ｌＣ（ＯＭｅ）₃、ＣｌＣ（ＯＥｔ）₃、ＣｌＣ（Ｏｉ−
Ｂｕ）₃、ＢｒＣ（ＯＥｔ）₃；式Ｘ₂Ｃ（ＯＲ）₂に含ま
れるＭｅＣＨ（ＯＭｅ）₂、ＭｅＣＨ（ＯＥｔ）₂、ＣＨ
₂（ＯＭｅ）₂、ＣＨ₂（ＯＥｔ）₂、ＣＨ₂ＣｌＣＨ（Ｏ
Ｅｔ）₂、ＣＨＣｌ₂ＣＨ（ＯＥｔ）₂、ＣＣｌ₃ＣＨ（Ｏ
Ｅｔ）₂、ＣＨ₂ＢｒＣＨ（ＯＥｔ）₂、ＰｈＣＨ（ＯＥ
ｔ）₂。

【００１７】Ｍがケイ素の場合の化合物 式Ｓｉ（ＯＲ）₄に含まれるＳｉ（０Ｍｅ）₄、Ｓｉ（Ｏ
Ｅｔ）₄、Ｓｉ（ＯＢｕ）₄、Ｓｉ（Ｏｉ−Ｂｕ）₄、Ｓ
ｉ（ＯＨｅ）₄、Ｓｉ（ＯＯｃｔ）₄、Ｓｉ（ＯＰ
ｈ）₄：式ＸＳｉ（ＯＲ）₃に含まれるＨＳｉ（ＯＥｔ）
₃、ＨＳｉ（ＯＢｕ）₃、ＨＳｉ（ＯＨｅ）₃、ＨＳｉ
（ＯＰｈ）₃；ＭｅＳｉ（ＯＭｅ）₃、ＭｅＳｉ（ＯＥ
ｔ）₃、ＭｅＳｉ（ＯＢｕ）₃、ＥｔＳｉ（ＯＥｔ）₃、
ＰｈＳｉ（ＯＥｔ）₃、ＥｔＳｉ（ＯＰｈ）₃；ＣｌＳｉ
（ＯＭｅ）₃、ＣｌＳｉ（ＯＥｔ）₃、ＣｌＳｉ（ＯＢ
ｕ）₃、ＣｌＳｉ（ＯＰｈ）₃、ＢｒＳｉ（ＯＥｔ）₃；
式Ｘ₂Ｓｉ（ＯＲ）₂に含まれるＭｅ₂Ｓｉ（ＯＭｅ）₂、
Ｍｅ₂Ｓｉ（ＯＥｔ）₂、Ｅｔ₂Ｓｉ（ＯＥｔ）₂；ＭｅＣ
ｌＳｉ（ＯＥｔ）₂；ＣＨＣｌ₂ＳｉＨ（ＯＥｔ）₂；Ｃ
Ｃｌ₃ＳｉＨ（ＯＥｔ）₂；ＭｅＢｕＳｉ（ＯＥｔ）₂：
Ｘ₃ＳｉＯＲに含まれるＭｅ₃ＳｉＯＭｅ、Ｍｅ₃ＳｉＯ
Ｅｔ、Ｍｅ₃ＳｉＯＢｕ、Ｍｅ₃ＳｉＯＰｈ、Ｅｔ₃Ｓｉ
ＯＥｔ、Ｐｈ₃ＳｉＯＥｔ。

【００１８】Ｍがホウ素の場合の化合物 式Ｂ（ＯＲ）₃に含まれるＢ（ＯＥｔ）₃、Ｂ（ＯＢｕ）
₃、Ｂ（ＯＨｅ）₃、Ｂ（ＯＰｈ）₃。

【００１９】Ｍがアルミニウムの場合の化合物 式Ａｌ（ＯＲ）₃に含まれるＡｌ（ＯＭｅ）₃、Ａｌ（Ｏ
Ｅｔ）₃、Ａｌ（ＯＰｒ）₃、Ａｌ（Ｏｉ−Ｐｒ）₃、Ａ
ｌ（ＯＢｕ）₃、Ａｌ（Ｏｔ−Ｂｕ）₃、Ａｌ（ＯＨｅ）
₃、Ａｌ（ＯＰｈ）₃。

【００２０】Ｍがリンの場合の化合物 式Ｐ（ＯＲ）₃に含まれるＰ（ＯＭｅ）₃、Ｐ（ＯＥｔ）
₃、Ｐ（ＯＢｕ）₃、Ｐ（ＯＨｅ）₃、Ｐ（ＯＰｈ）₃。

【００２１】更に、前記マグネシウム化合物は、周期表
第ＩＩ族又は第ＩＩＩａ族金属（Ｍ′）の有機化合物と
の錯体も使用することができる。該錯体は一般式ＭｇＲ
^aＲ^b・ｐ（Ｍ′Ｒ^c _q）で表される（Ｒ^aおよびＲ^bは前記
と同義）。該金属（Ｍ′）としては、アルミニウム、亜
鉛、カルシウム等であり、Ｒ^Cは炭素数１〜１２個のア
ルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルアルキ
ル基である。また、ｑは金属Ｍ′の原子価を、ｐは０．
１〜１０の数を示す。Ｍ′Ｒ^C _qで表される化合の具体例
としては、ＡｌＭｅ₃、ＡｌＥｔ₃、Ａｌ（ｉ−Ｂ
ｕ）₃、ＡｌＰｈ₃、ＺｎＭｅ₂、ＺｎＥｔ₂、ＺｎＢ
ｕ₂、ＺｎＰｈ₂、ＣａＥｔ₂、ＣａＰｈ₂等が挙げられ
る。

【００２２】（２）チタン チタン化合物は、三価および四価のチタン化合物であ
り、それらを例示すると、四塩化チタン、四臭化チタ
ン、トリクロロエトキシチタン、トリクロロブトキシチ
タン、ジクロロジエトキシチタン、ジクロロジブトキシ
チタン、ジクロロジフェノキシチタン、クロロトリエト
キシチタン、クロロトリブトキシチタン、テトラブトキ
シチタン、三塩化チタン等を挙げることができる。これ
らの中でも、四塩化チタン、トリクロロエトキシチタ
ン、ジクロロジブトキシチタン、ジクロロジフェノキシ
チタン等の四価のチタンハロゲン化物が望ましく、特に
四塩化チタンが望ましい。

【００２３】（３）電子供与性化合物 電子供与性化合物としては、カルボン酸類、カルボン酸
無水物、カルボン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化
物、アルコール類、エーテル類、ケトン類、アミン類、
アミド類、ニトリル類、アルデヒド類、アルコレート
類、有機基と炭素若しくは酸素を介して結合したリン、
ヒ素およびアンチモン化合物、ホスホアミド類、チオエ
ーテル類、チオエステル類、炭素エステル等が挙げられ
る。これらのうちカルボン酸類、カルボン酸無水物、カ
ルボン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化物、アルコ
ール類、エーテル類が好ましく用いられる。

【００２４】（ａ）カルボン酸類 カルボン酸の具体例としては、ギ酸、酢酸、プロピオン
酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、ピバリン
酸、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等の脂肪族
モノカルボン酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、ア
ジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸等の脂肪
族ジカルボン酸、酒石酸等の脂肪族オキシカルボン酸、
シクロヘキサンモノカルボン酸、シクロヘキセンモノカ
ルボン酸、シス−１，２−シクロヘキサンジカルボン
酸、シス−４−メチルシクロヘキセン−１，２−ジカル
ボン酸等の脂環式カルボン酸、安息香酸、トルイル酸、
アニス酸、ｐ−第三級ブチル安息香酸、ナフトエ酸、ケ
イ皮酸等の芳香族モノカルボン酸、フタル酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸、ナフタル酸、トリメリト酸、ヘミ
メリト酸、トリメシン酸、ピロメリト酸、メリト酸等の
芳香族多価カルボン酸等が挙げられる。

【００２５】（ｂ）カルボン酸無水物 カルボン酸無水物としては、上記のカルボン酸類の無水
物が使用し得る。

【００２６】（ｃ）カルボン酸エステル カルボン酸エステルとしては、上記のカルボン酸類のモ
ノ又は多価エステルを使用することができ、その具体例
として、ギ酸ブチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、イソ酪
酸イソブチル、ピバリン酸プロピル、ピバリン酸イソブ
チル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタク
リル酸エチル、メタクリル酸イソブチル、マロン酸ジエ
チル、マロン酸ジイソブチル、コハク酸ジエチル、コハ
ク酸ジブチル、コハク酸ジイソブチル、グルタル酸ジエ
チル、グルタル酸ジブチル、グルタル酸ジイソブチル、
アジピン酸ジイソブチル、セバシン酸ジブチル、セバシ
ン酸ジイソブチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジ
ブチル、マレイン酸ジイソブチル、フマル酸モノメチ
ル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジイソブチル、酒石酸
ジエチル、酒石酸ジブチル、酒石酸ジイソブチル、シク
ロヘキサンカルボン酸エチル、安息香酸メチル、安息香
酸エチル、ｐ−トルイル酸メチル、ｐ−第三級ブチル、
安息香酸エチル、ｐ−アニス酸エチル、α−ナフトエ酸
エチル、α−ナフトエ酸イソブチル、ケイ皮酸エチル、
フタル酸モノメチル、フタル酸モノブチル、フタル酸ジ
ブチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジヘキシル、
フタル酸ジオクチル、フタル酸ジ−２−エチルヘキシ
ル、フタル酸ジアリル、フタル酸ジフェニル、イソフタ
ル酸ジエチル、イソフタル酸ジイソブチル、テレフタル
酸ジエチル、テレフタル酸ジブチル、ナフタル酸ジエチ
ル、ナフタル酸ジブチル、トリメリト酸トリエチル、ト
リメリト酸トリブチル、ピロメリト酸テトラメチル、ピ
ロメリト酸テトラエチル、ピロメリト酸テトラブチル等
が挙げられる。

【００２７】（ｄ）カルボン酸ハロゲン化物 カルボン酸ハロゲン化物としては、上記のカルボン酸類
の酸ハロゲン化物を使用することができ、その具体例と
して、酢酸クロリド、酢酸ブロミド、酢酸アイオダイ
ド、プロピオン酸クロリド、酪酸クロリド、酪酸ブロミ
ド、酪酸アイオダイド、ピバリン酸クロリド、ピバリン
酸ブロミド、アクリル酸クロリド、アクリル酸ブロミ
ド、アクリル酸アイオダイド、メタクリル酸クロリド、
メタクリル酸ブロミド、メタクリル酸アイオダイド、ク
ロトン酸クロリド、マロン酸クロリド、マロン酸ブロミ
ド、コハク酸クロリド、コハク酸ブロミド、グルタル酸
クロリド、グルタル酸ブロミド、アジピン酸クロリド、
アジピン酸ブロミド、セバシン酸クロリド、セバシン酸
ブロミド、マレイン酸クロリド、マレイン酸ブロミド、
フマル酸クロリド、フマル酸ブロミド、酒石酸クロリ
ド、酒石酸ブロミド、シクロヘキサンカルボン酸クロリ
ド、シクロヘキサンカルボン酸ブロミド、１−シクロヘ
キセンカルボン酸クロリド、シス−４−メチルシクロヘ
キセンカルボン酸クロリド、シス−４−メチルシクロヘ
キセンカルボン酸ブロミド、塩化ベンゾイル、臭化ベン
ゾイル、ｐ−トルイル酸クロリド、ｐ−トルイル酸ブロ
ミド、ｐ−アニス酸クロリド、ｐ−アニス酸ブロミド、
α−ナフトエ酸クロリド、ケイ皮酸クロリド、ケイ皮酸
ブロミド、フタル酸ジクロリド、フタル酸ジブロミド、
イソフタル酸ジクロリド、イソフタル酸ジブロミド、テ
レフタル酸ジクロリド、ナフタル酸ジクロリドが挙げら
れる。また、アジピン酸モノメチルクロリド、マレイン
酸モノエチルクロリド、マレイン酸モノメチルクロリ
ド、フタル酸ブチルクロリドのようなジカルボン酸のモ
ノアルキルハロゲン化物も使用し得る。

【００２８】（ｅ）アルコール類 アルコール類は、一般式Ｒ^dＯＨで表される。式におい
てＲ^dは炭素数１〜１２個のアルキル、アルケニル、シ
クロアルキル、アリール、アルアルキルである。その具
体例としては、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、、ブタノールイソブタノール、
ペンタノール、ヘキサノール、オクタノール、２−エチ
ルヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコ
ール、アリルアルコール、フェノール、クレゾール、キ
シレノール、エチルフェノール、イソプロピルフェノー
ル、ｐ−ターシャリー−ブチルフェノール、ｎ−オクチ
ルフェノール等である。

【００２９】（ｆ）エーテル類 エーテル類は、一般式Ｒ^eＯＲ^fで表される。式において
Ｒ^e、 Ｒ^fは炭素数１〜１２個のアルキル、アルケニ
ル、シクロアルキル、アリール、アルアルキルであり、
Ｒ^eとＲ^fは同じでも異なっていてもよい。その具体例と
しては、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、
ジブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジイソアミ
ルエーテル、ジ−２−エチルヘキシルエーテル、ジアリ
ルエーテル、エチルアリルエーテル、ブチルアリルエー
テル、ジフェニルエーテル、アニソール、エチルフェニ
ルエーテル等である。

【００３０】（４）ハロゲン ハロゲン含有化合物としては、ハロゲン化炭化水素、ハ
ロゲン含有アルコール、水素−ケイ素結合を有するハロ
ゲン化ケイ素化合物、周期表第ＩＩＩａ族、ＩＶａ族、
Ｖａ族元素のハロゲン化物（以下、金属ハライドとい
う。）等が挙げられる。

【００３１】（ａ）ハロゲン化炭化水素 ハロゲン化炭化水素としては、炭素数１〜１２個の飽和
又は不飽和の脂肪族、脂環式及び芳香族炭化水素のモノ
およびポリハロゲン置換体が使用される。それら化合物
の具体的な例は、脂肪族化合物では、メチルクロライ
ド、メチルブロマイド、メチルアイオダイド、メチレン
クロライド、メチレンブロマイド、メチレンアイオダイ
ド、クロロホルム、ブロモホルム、ヨードホルム、四塩
化炭素、四臭化炭素、四ヨウ化炭素、エチルクロライ
ド、エチルブロマイド、エチルアイオダイド、１，２−
ジクロロエタン，１，２−ジブロモエタン、１，２−ジ
ヨードエタン、メチルクロロホルム、メチルブロモホル
ム、メチルヨードホルム、１，１，２−トリクロロエチ
レン、１，１，２−トリブロモエチレン，１，１，２，
２−テトラクロロエチレン、ペンタクロロエタン、ヘキ
サクロロエタン、ヘキサブロモエタン、ｎ−プロピルク
ロライド、１，２−ジクロロプロパン、ヘキサクロロプ
ロピレン、オクタクロロプロパン、デカブロモブタン、
塩素化パラフィン等が挙げられる。脂環式化合物ではク
ロロシクロプロパン、テトラクロロシクロペンタン、ヘ
キサクロロシクロペンタジエン、ヘキサクロロシクロヘ
キサン等が挙げられる。芳香族化合物ではクロロベンゼ
ン、ブロモベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、ｐ−ジク
ロロベンゼン、ヘキサクロロベンゼン、ヘキサブロモベ
ンゼン、ベンゾトリクロライド、ｐ−クロロベンゾトリ
クロライド等が挙げられる。これらの化合物は、一種の
みならず二種以上用いてもよい。

【００３２】（ｂ）ハロゲン含有アルコール ハロゲン含有アルコールとしては、一分子中に一個又は
二個以上の水酸基を有するモノ又は多価アルコール中
の、水酸基以外の任意の一個又は二個以上の水素原子が
ハロゲン原子で置換された化合物を使用できる。ハロゲ
ン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素原子が挙
げられ、塩素原子が望ましい。

【００３３】それら化合物を例示すると、２−クロロエ
タノール、１−クロロ−２−プロパノール、３−クロロ
−１−プロパノール、１−クロロ−２−メチル−２−プ
ロパノール、４−クロロ−１−ブタノール、５−クロロ
−１−ペンタノール、６−クロロ−１−ヘキサノール、
３−クロロ−１，２−プロパンジオール、２−クロロシ
クロヘキサノール、４−クロロベンズヒドロール、
（ｍ，ｏ,ｐ）−クロロベンジルアルコール、４−クロ
ロカテコール、４−クロロ−（ｍ，ｏ）−クレゾール、
６−クロロ−（ｍ，ｏ）−クレゾール、４−クロロ−
３，５−ジメチルフェノール、クロロハイドロキノン、
２−ベンジル−４−クロロフェノール、４−クロロ−１
−ナフトール、（ｍ，ｏ，ｐ）−クロロフェノール，ｐ
−クロロ−α−メチルベンジルアルコール、２−クロロ
−４−フェニルフェノール、６−クロロチモール、４−
クロロレゾルシン、２−ブロモエタノール、３−ブロモ
−１−プロパノール、１−ブロモ−２−プロパノール、
１−ブロモ−２−ブタノール、２−ブロモ−ｐ−クレゾ
ール、１−ブロモ−２−ナフトール、６−ブロモ−２−
ナフトール、（ｍ，ｏ，ｐ）−ブロモフェノール、４−
ブロモレゾルシン、（ｍ，ｏ，ｐ）−フルオロフェノー
ル，ｐ−イオドフェノール：２，２−ジクロロエタノー
ル、２，３−ジクロロ−１−プロパノール、１，３−ジ
クロロ−２−プロパノール、３−クロロ−１−（α−ク
ロロメチル）−１−プロパノール、２，３−ジブロモ−
１−プロパノール、１，３−ジブロモ−２−プロパノー
ル、２，４−ジブロモフェノール、２，４−ジブロモ−
１−ナフトール：２，２，２ートリクロロエタノール、
１，１，１−トリクロロ−２−プロパノール、β,β,
β，−トリクロロ−ｔｅｒｔ−ブタノール、２，３，４
−トリクロロフェノール、２，４，５−トリクロロフェ
ノール、２，４，６−トリクロロフェノール、２，４，
６−トリブロモフェノール、２，３，５−トリブロモ−
２−ヒドロキシトルエン、２，３，５−トリブロモ−４
−ヒドロキシトルエン、２，２，２−トリフルオロエタ
ノール、α,α,α−トリフルオロ−ｍ−クレゾール、
２，４，６−トリイオドフェノール：２，２，４，６−
テトラクロロフェノール、テトラクロロハイドロキノ
ン、テトラクロロビスフェノールＡ、テトラブロモビス
フェノールＡ、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−
プロパノール、２，３，５，６−テトラフルオロフェノ
ール、テトラフルオロレゾルシン等があげられる。

【００３４】（ｃ）水素−ケイ素結合を有するハロゲン
化ケイ素化合物 水素−ケイ素結合を有するハロゲン化ケイ素化合物とし
ては、ＨＳｉＣｌ₃、Ｈ₂ＳｉＣｌ₂、Ｈ₃ＳｉＣｌ、Ｈ
（ＣＨ₃）ＳｉＣｌ₂、Ｈ（Ｃ₂Ｈ₅）ＳｉＣｌ₂、Ｈ（ｔ
−Ｃ₄Ｈ₉）ＳｉＣｌ₂、Ｈ（Ｃ₆Ｈ₅）ＳｉＣｌ₂、Ｈ（Ｃ
Ｈ₃）₂ＳｉＣｌ、Ｈ（ｉ−Ｃ₃Ｈ₇）₂ＳｉＣｌ、Ｈ₂（Ｃ
₂Ｈ₅）ＳｉＣｌ、Ｈ₂（ｎ−Ｃ₄Ｈ₉ ）ＳｉＣｌ、Ｈ
₂（Ｃ₆Ｈ₄ＣＨ₃）ＳｉＣｌ、ＨＳｉＣｌ（Ｃ₆Ｈ₅）₂等
が挙げられる。

【００３５】（ｄ）金属ハライド 金属ハライドとしては、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、
Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉの塩化物、
フッ化物、臭化物、ヨウ化物が挙げられ、特にＢＣ
ｌ₃、ＢＢｒ₃，ＢＩ₃、ＡｌＣｌ₃、ＡｌＢｒ₃、ＧａＣ
ｌ₃、ＧａＢｒ_3、ＩｎＣｌ₃、ＴｌＣｌ₃、ＳｉＣｌ₄、Ｓ
ｎＣｌ₄、ＳｂＣｌ₅、ＳｂＦ₅等が好適である。

【００３６】（５）金属酸化物 （Ａ）成分には、金属酸化物を坦体として用いることも
できる。金属酸化物は、元素の周期表第ＩＩ族〜第ＩＶ
族の群から選ばれる元素の酸化物であり、それらを例示
すると、Ｂ₂Ｏ₃、ＭｇＯ、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、Ｃａ
Ｏ、ＴｉＯ₂、ＺｎＯ、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ_2、ＢａＯ、Ｔｈ
Ｏ₂等が挙げられる。これらの中でもＢ₂Ｏ₃、ＭｇＯ、
Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂が好ましく、特
にＳｉＯ₂が好ましい。さらに、これら金属酸化物を含
む複合酸化物、例えばＳｉＯ₂−ＭｇＯ、ＳｉＯ₂−Ａｌ
₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂、ＳｉＯ₂−Ｖ₂Ｏ₅、ＳｉＯ₂−
Ｃｒ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂−ＭｇＯ等を使用すること
もできる。

【００３７】これら金属酸化物は、通常粉末状のものが
使用される。粉末の大きさおよび形状等の形態は、得ら
れるオレフィン重合体の形態に影響を及ぼすことが多い
ので、適宜調節することが望ましい。金属酸化物は、使
用にあたって被毒物質を除去する等の目的から、可能な
限り高温で焼成し、さらに大気と直接接触しないように
取り扱うのが望ましい。

【００３８】（６）成分（Ａ）の調製 マグネシウム化合物（成分１）、チタン化合物（成分
２）、電子供与性化合物（成分３）、更に必要に応じて
接触させることのできる金属酸化物およびハロゲン含有
化合物との接触は、不活性媒体の存在下、又は不存在
下、混合撹拌するか、機械的に共粉砕することによりな
される。接触は４０〜１５０℃の加熱下で行うことがで
きる。不活性媒体としては、ヘキサン、ヘプタン、オク
タン等の飽和脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロ
ヘキサン等の飽和脂環式炭化水素、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素が使用し得る。

【００３９】本発明における成分（Ａ）の望ましい調整
法としては、マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび電
子供与性化合物を必須成分とする固体成分（Ａ）の場合
は、、特開昭６３−２６４６０７号、同５８−１９８５
０３号、同６２−１４６９０４号公報等に開示されてい
る方法が挙げられる。より詳細には、 （イ）金属マグネシウム、（ロ）ハロゲン化炭化水
素、（ハ）一般式Ｘ_nＭ（ＯＲ）_m-nの化合物（前記のア
ルコキシ基含有化合物と同じ）を接触させることにより
得られるマグネシウム含有固体を（ニ）ハロゲン含有ア
ルコールと接触させ、次いで（ホ）電子供与性化合物及
び（ヘ）チタン化合物と接触させる方法（特開昭６３−
２６４６０７号公報）、 （イ）マグネシウムジアルコキシドと（ロ）水素−ケ
イ素結合を有するハロゲン化ケイ素化合物を接触させた
後、（ハ）ハロゲン化チタン化合物を接触させ、次いで
（ニ）電子供与性化合物と接触させる（必要に応じてハ
ロゲン化チタン化合物を接触させる）方法（特開昭６２
−１４６９０４号公報）、 （イ）マグネシウムジアルコキシドと（ロ）水素−ケ
イ素結合を有するハロゲン化ケイ素化合物を接触させた
後、（ハ）電子供与性化合物と接触させ、次いで（ニ）
チタン化合物を接触させる方法（特開昭５８−１９８５
０３号公報）である。これらの中でもの方法が望まし
い。

【００４０】上記のようにして成分（Ａ）は調製される
が、成分（Ａ）は必要に応じて前記の不活性媒体で洗浄
してもよく、更に乾燥してもよい。成分（Ａ）中には、
好ましくはＭｇが５〜４０重量％、Ｔｉが１〜２．５重
量％、ハロゲンが３０〜７０重量％、電子供与性化合物
が０〜２０重量％含まれる。

【００４１】また、マグネシウム、チタン、ハロゲン、
金属酸化物および電子供与性化合物を必須成分とする固
体成分（Ａ′）の望ましい調整法としては、特開昭５８
−１６２６０７号公報、同５５−９４９０９号公報、同
５５−１１５４０５号公報、同５７−１０８１０７号公
報、同６１−２１１０９号公報、同６１−１７４２０４
号公報、同６１−１７４２０５号公報、同６１−１７４
２０６号公報、同６２−７７０６号公報等に開示されて
いる方法が挙げられる。より詳細には、 金属酸化物とマグネシウムジアルコキシドとの反応生
成物を、電子供与性化合物および４価のハロゲン化チタ
ンと接触させる方法（特開昭５８−１６２６０７号公
報）、 無機酸化物とマグネシウムヒドロカルビルハライド化
合物との反応生成物を、ルイス塩基化合物および四塩化
チタンと接触させる方法（特開昭５５−９４９０９号公
報）、 シリカ等の多孔質担体とアルキルマグネシウム化合物
との反応生成物を、チタン化合物と接触させる前に電子
供与性化合物およびハロゲン化ケイ素化合物と接触させ
る方法（特開昭５５−１１５４０５号公報、同５７−１
０８１０７号公報）、 金属酸化物、アルコキシ基含有マグネシウム化合物、
オルト位にカルボキシル基を持つ芳香族多価カルボン酸
もしくはその誘導体およびチタン化合物を接触させる方
法（特開昭６１−１７４２０４号公報）、 金属酸化物、アルコキシ基含有マグネシウム化合物、
水素−ケイ素結合を有するケイ素化合物、電子供与性化
合物およびチタン化合物を接触させる方法（特開昭６１
−１７４２０５号公報）、 金属酸化物、アルコキシ基含有マグネシウム化合物、
ハロゲン元素もしくはハロゲン含有化合物、電子供与性
化合物およびチタン化合物を接触させる方法（特開昭６
１−１７４２０６号公報）、 金属酸化物、ジヒドロカルビルマグネシウムおよびハ
ロゲン含有アルコールを接触させることによって得られ
る反応生成物を、電子供与性化合物およびチタン化合物
と接触させる方法（特開昭６１−２１１０９号公報）、 金属酸化物、ヒドロカルビルマグネシウムおよびヒド
ロカルビルオキシ基含有化合物（前記アルコキシ基含有
化合物に担当）を接触させることによって得られる固体
をハロゲン含有アルコールと接触させ、さらに電子供与
性化合物およびチタン化合物と接触させる方法（特開昭
６２−７７０６号公報）である。これらの中でも〜
の方法が、特におよびの方法が望ましい。

【００４２】成分（Ａ′）中には、好ましくはＭｇが２
〜１２％、Ｔｉが１〜５％、ハロゲンが１０〜３５重量
％、金属酸化物が３０〜７０重量％、電子供与性化合物
が０〜２０重量％含まれる。

【００４３】２．固体成分の処理による固体触媒成分
（Ａ）の製造 本発明の固体触媒成分（Ａ）は、前記固体成分をＢ
ｒ₂、Ｉ₂、ＣＢｒ₄、ＣＩ₄、アルキルブロマイド、アル
キルアイオダイド、または一般式ＭｅｔＲ_xで示される
化合物により処理して製造される。本発明で用いる一般
式ＭｅｔＲ_xで示される化合物において、Ｍｅｔは、Ｍ
ｇ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂまたは遷
移金属元素、好ましくはＴｉ、Ｍｇ、Ｂ、Ａｌ、Ｃｏ、
Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｚｎである。Ｒは、Ｂｒ、Ｉまたは
炭化水素含有基を示し、少なくとも一つはＢｒまたはＩ
であり、好ましくはＢｒまたはＩを二つ以上を含む。炭
化水素含有基としては、メチル、エチル、プロピル、ブ
チル、ヘキシル、オクチル等のアルキル基、メトキシ、
エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔ
−ブトキシ等のアルコキシ基、フェニル等のアリール
基、フェノキシ等のアリールオキシ基、トリフェニルフ
ォスフィン等のフォスフィン基が挙げられる。ｘは上記
のＭｅｔの原子価である。

【００４４】具体的な化合物としては、臭化ホウ素、沃
化ホウ素、エチルジブロモホウ素、エチルアルミニウム
セスキブロマイド、エチルアルミニウムセスキアイオダ
イド、エチルアルミニウムジブロマイド、臭化アルミニ
ウム、臭化パラジウム、ビス（トリフェニルフォスフィ
ン）パラジウムジブロマイド、臭化ニッケル、臭化亜
鉛、臭化マグネシウム等が挙げられる。また、アルキル
ブロマイドおよびアルキルアイオダイドのアルキル基と
しては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシ
ル、オクチル等が挙げられる。

【００４５】固体成分の処理方法は、Ｂｒ₂、Ｉ₂、ＣＢ
ｒ₄、ＣＩ₄、アルキルブロマイド、アルキルアイオダイ
ド、または一般式ＭｅｔＲ_xで示される化合物を不活性
媒体の存在下、又は不存在下、固体成分と混合撹拌する
か、機械的に共粉砕することによりなされる。処理は４
０〜１５０℃の加熱下で行う。不活性媒体としては、ヘ
キサン、ヘプタン、オクタン等の飽和脂肪族炭化水素、
シクロペンタン、シクロヘキサン等の飽和脂環式炭化水
素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
が使用し得る。

【００４６】３．成分（Ｂ） 一般式（Ｒ^k）_rＡｌ
（Ｙ）_3-r（ここで、Ｒ^kはそれぞれ独立して、アルキル
基およびアリール基であり、Ｙはそれぞれ独立して、ア
ルコキシ基およびアリールオキシ基から選ばれる基であ
り、ｒは０≦ｒ≦３の範囲の任意の数である。）で示さ
れる有機アルミニウム化合物又は酸素原子若しくは窒素
原子を介して２個以上のアルミニウムが結合した有機ア
ルミニウム化合物の中から少なくとも１つ以上選ばれた
有機アルミニウム化合物 成分（Ｂ）有機アルミニウム化合物は、一般式： （Ｒ^k）_rＡｌ（Ｙ）_3-r （ここで、Ｒ^kはそれぞれ独立して、アルキル基および
アリール基から選ばれる基であり、Ｙはそれぞれ独立し
て、塩素、アルコキシ基およびアリールオキシ基から選
ばれる基であり、ｒは０≦ｒ≦３の範囲の任意の数であ
る。）で示される化合物である。好ましくは、次に示す
化合物から１種単独または２種以上の組合せを選択し、
使用することができる。

【００４７】（ｉ）ジアルキルアルミニウムモノアルコ
キシド、例えばジメチルアルミニウムメトキシド、ジエ
チルアルミニウムエトキシド、ジプロピルアルミニウム
エトキシド、ジイソプロピルアルミニウムエトキシド、
ジイソブチルアルミニウムエトキシド、ジ（ｎ−ブチ
ル）アルミニウムエトキシド、ジ（ｎ−ヘキシル）アル
ミニウムエトキシド、ジ（ｎ−オクチル）アルミニウム
エトキシド等が挙げられる。

【００４８】（ｉｉ）アルキルアルミニウムジアルコキ
シド、例えばメチルアルミニウムジエトキシド、エチル
アルミニウムジエトキシド、プロピルアルミニウムジエ
トキシド、ｎ−ブチルアルミニウムジエトキシド、イソ
ブチルアルミニウムジエトキシド、ｎ−ヘキシルアルミ
ニウムジエトキシド、ｎ−オクチルアルミニウムジエト
キシド等が挙げられる。

【００４９】（ｉｉｉ）トリアルコキシアルミニウム、
例えばトリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミ
ニウム等が挙げられる。

【００５０】（ｉｖ）アルキルアルミノキサン、例えば
メチルアルミノキサン、エチルアルミノキサン等が挙げ
られる。

【００５１】（ｖ）ジアルキルアルミニウムモノフェノ
キシド、例えばジエチルアルミニウムフェノキシド、ジ
イソブチルアルミニウムフェノキシド等が挙げられる。

【００５２】（ｖｉ）トリアルキルアルミニウム、例え
ばトリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、
トリプロピルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニ
ウム、トリブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミ
ニウム、トリヘキシルアルミニウム等が挙げられる。

【００５３】上記のアルキル基は、好ましくは炭素数１
〜１８のアルキル基であり、アルコキシ基は好ましくは
炭素数１〜１０のアルコキシ基である。アリール基は、
例えばフェニル基等であり、アリールオキシ基は、例え
ばフェノキシ基等である。

【００５４】なかでも、トリアルキルアルミニウムが好
ましく、特にトリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウムおよびトリイソブチルアルミニウムが好まし
く、ＭＦＲ向上の観点からは、トリメチルアルミニウム
が最も好ましい。また、トリアルキルアルミニウムは、
その他の有機アルミニウム化合物と併用することができ
る。

【００５５】あるいは、上記以外の有機アルミニウム化
合物として酸素原子又は窒素原子を介して２個以上のア
ルミニウムが結合した有機アルミニウム化合物が使用で
きる。そのような化合物としては、例えば（Ｃ₂Ｈ₅）₂
ＡｌＯＡｌ（Ｃ₂Ｈ₅）₂、（Ｃ₄Ｈ₉）₂ＡｌＯＡｌ（Ｃ₄
Ｈ₉）₂、（Ｃ₂Ｈ₅）₂ＡｌＮ（Ｃ₂Ｈ₅）Ａｌ（Ｃ₂Ｈ₅）₂
等が挙げられる。

【００５６】４．成分（Ｃ）アルキルアルコキシシラン
化合物 本発明の成分（Ｃ）アルキルアルコキシシラン化合物
は、例えば次式： （Ｒ¹）_sＳｉ（ＯＲ²）_4-s （上記式中、Ｒ¹はそれぞれ独立して、炭素数１〜６
（好ましくは３〜５）のアルキル基およびシクロアルキ
ル基から選ばれ、Ｒ²はそれぞれ独立して、炭素数１〜
６のアルキル基、アルケニル基およびアルキニル基から
選ばれ、ｓは１≦ｓ≦３の範囲の数である）で示される
アルキルアルコキシシランが挙げられる。しかし、これ
らに限定されることはない。

【００５７】Ｒ¹としては、例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル
基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−アミル基、シクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。Ｒ¹は好
ましくは、プロピル基、シクロペンチル基、イソプロピ
ル基、ｔｅｒｔ−ブチル基から選ばれる。Ｒ²として
は、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅ
ｒｔ−アミル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル
基、２−メチル−３−ブテニル基、３−メチル−２−ブ
テニル基、２−メチル−３−ブチニル基等が挙げられ
る。Ｒ²は好ましくは、メチル基、エチル基、イソプロ
ピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基から選
ばれる。

【００５８】具体的化合物としては、例えばｔｅｒｔ−
ブトキシシクロペンチルジメトキシシラン、イソプロポ
キシシクロペンチルジメトキシシラン、ｓｅｃ−ブトキ
シシクロペンチルジメトキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブト
キシプロピルメトキシシラン、プロピルトリエトキシシ
ラン、ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンチルジメトキシシラ
ン、ｔｅｒｔ−アミルオキシシクロペンチルジメトキシ
シラン、（２−メチル−３−ブテン−２−オキシ）シク
ロペンチルジメトキシシラン、（３−メチル−２−ブテ
ン−１−オキシ）シクロペンチルジメトキシシラン、
（２−メチル−３−ブテン−２−オキシ）シクロペンチ
ルジメトキシシラン、ｔｅｒｔ−ブトキシシクロヘキシ
ルジメトキシシラン、イソプロポキシシクロヘキシルジ
メトキシシラン、ｓｅｃ−ブトキシシクロヘキシルジメ
トキシシラン、ｔｅｒｔ−アミルオキシシクロヘキシル
ジメトキシシラン、（２−メチル−３−ブテン−２−オ
キシ）シクロヘキシルジメトキシシラン、（３−メチル
−２−ブテン−１−オキシ）シクロヘキシルジメトキシ
シラン、（２−メチル−３−ブテン−２−オキシ）シク
ロヘキシルジメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジ
メトキシシラン、ジシクロペンチルジメトキシシラン、
シクロペンチルメチルジメトキシシラン、シクロペンチ
ルエチルジメトキシラン、シクロペンチルトリメトキシ
ラン等が挙げられる。

【００５９】アルキルアルコキシシラン化合物として、
上記の他に、ラクトン基、カルボキシル基を含有するア
ルキルアルコキシラン、環構成原子としてケイ素原子、
窒素原子を有する複素環式置換基を有するアルキルアル
コキシシランなども、好ましく使用することができる。

【００６０】好ましい成分（Ｃ）は、分岐状のアルキル
基もしくはアルコキシ基または脂環式基を有するシラン
化合物であり、特に好ましくは、イソプロポキシシクロ
ペンチルジメトキシシラン、ｓｅｃ−ブトキシシクロペ
ンチルジメトキシラン、シクロヘキシルメチルジメトキ
シシラン、ジシクロペンチルジメトキシシラン、ジｓｅ
ｃ−ブトキシプロピルメトキシシラン、ｔｅｒｔ−ブチ
ルシクロペンチルジメトキシシラン、ｔｅｒｔ−アミル
オキシシクロペンチルジメトキシシランから少なくとも
１種選択される。

【００６１】５．成分（Ｄ） 本発明の成分（Ｄ）は、一般式ＭｅｔＲ_Xで示される化
合物である。式中、ＭｅｔはＭｇ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｇ
ｅ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ又は遷移金属元素であり、好まし
くはＴｉ、Ｍｇ、Ｂ、Ａｌ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、
Ｚｎであり、更に好ましくはＢ、Ａｌである。Ｒはハロ
ゲン原子、または炭化水素含有基を示し、少なくとも一
つはハロゲン原子であり、好ましくは２以上のハロゲン
原子であり、さらに好ましくはＢｒ、Ｉを少なくとも一
つ含み、最も好ましくはＢｒ、Ｉを２以上含む。炭化水
素含有基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、ヘキシル、オクチル等のアルキル基、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔ−
ブトキシ等のアルコキシ基、フェニル等のアリール基、
フェノキシ等のアリールオキシ基、トリフェニルフォス
フィン基等のフォスフィン基が挙げられる。ｘは上記の
Ｍｅｔの原子価である。具体的な化合物としては、臭化
ホウ素、沃化ホウ素、塩化ホウ素、エチルジブロモホウ
素、エチルアルミニウムセスキクロライド、エチルアル
ミニウムセスキブロマイド、エチルアルミニウムジブロ
マイド、臭化アルミニウム、臭化パラジウム、ビス（ト
リフェニルフォスフィン）パラジウムジブロマイド、臭
化ニッケル、臭化亜鉛、臭化マグネシウム等が挙げられ
る。

【００６２】６．成分（Ｅ） また、本発明では、必要に応じて成分（Ｅ）の亜鉛化合
物を添加して用いることができる。亜鉛化合物は、Ｚｎ
Ｒ₂で表されるアルキル亜鉛であり、アルキル基として
は、炭素数１〜４のアルキル基が挙げられる。具体的に
は、ジエチル亜鉛、ジメチル亜鉛等が挙げられる。

【００６３】７．成分（Ｆ） また、本発明では、必要に応じて成分（Ｆ）として、ア
ルミニウムハイドライド化合物を添加して用いることが
できる。成分（Ｆ）の使用により、立体規則性を維持し
ながら、ＭＦＲを高くすることができる。アルミニウム
ハイドライド化合物としては、ＡｌＲ₃（Ｒは、それぞ
れ独立した水素またはアルキル基であり、そのうち少な
くとも一つは水素である。）で表される化合物で、成分
（Ｂ）の有機アルミニウム化合物に該当しない化合物で
ある。具体的には、水素化アルミニウム、ジメチルアル
ミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドラ
イド、ジプロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブ
チルアルミニウムハイドライド等が挙げられる。

【００６４】８．成分（Ｇ） さらに、本発明のプロピレン−エチレンブロック共重合
体の製造においては、必要に応じて成分（Ｇ）として、
メタロセン化合物を添加して用いることができる。メタ
ロセン化合物としては、一般式Ｃｐ_nＭＹ_4-n（式中、Ｃ
ｐは置換又は非置換シクロペンタジエニル基、ＭはＴ
ｉ、Ｚｒ、Ｈｆから選ばれる元素、Ｙは水素、ハロゲ
ン、アルコキシ基、アミノ基、炭素数１〜１０のアルキ
ル又はアリール基から選ばれる基、ｎは１〜３の整数を
示す。）で表される化合物である。この化合物の内、ビ
ス（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロライド、
ビス（シクロペンタジエニル）チタニウムジブロマイド
が好ましい。

【００６５】９．（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、
（Ｅ）、（Ｆ）、（Ｇ）成分の割合 本発明の触媒は、上記した各成分から成るが、好ましく
は成分（Ａ）中のチタン１モル当たり、成分（Ｂ）を７
０〜６００モル、成分（Ｃ）を１０〜３０モルおよび成
分（Ｄ）を２〜２００モル配合する。より好ましくは成
分（Ａ）中のチタン１モル当たり、成分（Ｂ）を９０〜
４００モル、成分（Ｃ）１５〜２５モルおよび成分
（Ｄ）を９〜１５０モル配合する。また、成分（Ｅ）、
成分（Ｆ）、成分（Ｇ）を用いる場合は、成分（Ａ）中
のチタン１モル当たり成分（Ｅ）を３０〜５００モル、
成分（Ｆ）を２０〜３００モル、成分（Ｇ）を０．００
０１〜１モルを使用するのが好ましい。

【００６６】１０．予備重合 本発明において、成分（Ａ）は予備重合を行っても行わ
なくてもよく、予備重合を行う場合は、有機アルミニウ
ム（成分Ｈ）および所望により有機珪素化合物（成分
Ｉ）の存在下、オレフィンと接触させることにより行
う。有機アルミニウム（成Ｈ）は前述の成分（Ｂ）に記
載されたとおりの化合物の中から１種以上選択して使用
できる。これらの中でもトリアルキルアルミニウム、特
にトリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウ
ムが好ましい。また、有機珪素化合物（成分Ｉ）は前述
の成分（Ｃ）に記載された化合物がいずれも使用できる
が、その他にもアルキル基およびアルコキシ基が合計４
個珪素原子に結合したものであれば使用可能である。例
えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、
テトラブトキシシラン、テトライソブトキシシラン、テ
トラフェノキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メ
チルトリエトキシシランメチルトリブトキシシラン、メ
チルトリフェノキシシラン、エチルトリエトキシシラン
エチルトリイソブトキシシラン、プロピルトリエトキシ
シラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキ
シシラン、ブチルトリブトキシシラン、イソブチルトリ
イソブトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリ
ルトリメトキシシラン、ジメチルジイソプロポキシシラ
ン、ジメチルジブトキシシラン、ジメチルジフェノキシ
シラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジイソブ
トキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニ
ルジエトキシシラン、ジベンジルジエトキシシラン、ジ
ビニルジフェノキシシラン、ジアリルジプロポキシシラ
ン、ジフェニルジアリルオキシシラン、メチルフェニル
ジメトキシシラン、クロロフェニルジエトキシシランな
どが挙げられる。好ましい有機珪素化合物（成分Ｉ）
は、ｔ−ブトキシシクロペンチルジメトキシシラン、イ
ソプロポキシシクロペンチルジメトキシシランまたはｓ
−ブトキシシクロペンチルジメトキシシランが挙げられ
る。

【００６７】予備重合に使用されるオレフィンとして
は、エチレンの他、プロピレン、１−ブテン、１−ヘキ
セン、４−メチル−１−ペンテン等のα−オレフィンが
挙げられる。予備重合はノルマルブタン、イソブタン、
ノルマルペンタン、イソペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の不活性水素中で行うのが好ましい。予備重
合は通常１００℃以下の温度、好ましくは−３０℃〜＋
３０℃、更に好ましくは−２０℃〜＋２０℃の温度で行
われる。重合方式はバッチ式、連続式のいずれでもよ
く、２段以上の多段で行ってもよい。

【００６８】成分（Ｈ）は予備重合系での濃度が１０〜
５００ミリモル／リットル、好ましくは３０〜２００ミ
リモル／リットルになるように用いられ、また成分
（Ａ）中のチタン１モル当たり１〜５０，０００モル、
好ましくは２〜１，０００モルとなるように用いられ
る。成分（Ｉ）を用いる場合は、予備重合系での濃度が
１〜１，０００ミリモル／リットル、好ましくは５〜２
００ミリモル／リットルになるように用いられる。予備
重合により、成分（Ａ）中にオレフィンポリマーが取り
込まれるが、そのポリマー量は成分（Ａ）１ｇ当たり
０．１〜２００ｇ、特に０．５〜５０ｇとするのが好ま
しい。このようにして調製された触媒成分は、前記の不
活性媒体で希釈あるいは洗浄することができるが、触媒
劣化を防止する観点から、特に洗浄するのが好ましい。
洗浄後、必要に応じて乾燥しても良い。触媒を保存する
場合ではできるだけ低温で保存するのが好ましく、−５
０℃〜＋３０℃、特に−２０℃〜＋５℃の温度範囲が推
奨される。

【００６９】１１．プロピレンとエチレンの共重合 上記のようにして予備重合したもしくは予備重合しない
成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）及び成分（Ｄ）、
又は必要に応じて成分（Ｅ）、成分（Ｆ）、成分、
（Ｇ）を加えた成分からなる触媒の存在下、プロピレン
とエチレンを共重合する。プロピレン−エチレンブロッ
ク共重合体及びプロピレン−エチレンランダム共重合体
は、次の様にして行う。

【００７０】（１）プロピレン−エチレンブロック共重
合体 プロピレン−エチレンブロック共重合体は、プロピレン
を重合して高結晶性ポリプロピレンとする工程（ａ）
と、プロピレンとエチレンを共重合する工程（ｂ）とか
らなる。 （ａ）プロピレンの重合 工程（ａ）において、プロピレンを重合させる。プロピ
レンの重合における反応条件は、慣用の条件が使用でき
る。例えば、−８０〜＋１５０℃、好ましくは０〜１２
０℃、より好ましくは４０〜１２０℃の温度で、１〜６
０気圧で、０．５〜７時間行われる。重合反応は、気相
で行っても液相で行ってもよい。液相で行う場合には、
前記の不活性媒体中または液状モノマー中で行うことが
できる。また、重合は回分式または連続式のいずれで行
ってもよい。生成するポリマーの分子量を調節するため
に、重合反応系に、水素等公知の分子量制御剤を存在さ
せることができる。工程（ａ）では、そこで得られるポ
リプロピレンが、最終的に得られるブロック共重合体の
５０〜９８重量％、特に７０〜９５重量％となるように
するのが好ましい。

【００７１】（ｂ）プロピレンとエチレンの共重合 次に工程（ｂ）では、プロピレンとエチレンの共重合を
行う。共重合は、そこで得られる共重合体中のエチレン
含有量が好ましくは３０〜９５重量％、より好ましくは
４０〜８０重量％となるように、プロピレンとエチレン
を接触して反応させることによりなされる。共重合反応
の条件は、工程（ａ）で述べた重合反応条件から適宜選
択することができる。また、共重合反応系に、分子量制
御剤を存在させることができる。工程（ｂ）で得られる
共重合体ブロックの量は、最終的に得られるブロック共
重合体の５０〜２重量％、特に３０〜５重量％となるよ
うにするのが好ましい。本発明においては、工程
（ａ）、工程（ｂ）をその順序で行うことが好ましく、
工程（ａ）および（ｂ）をそれぞれ任意の回数行うこと
ができる。

【００７２】（２）プロピレン−エチレンランダム共重
合体 プロピレンとエチレンのランダム共重合における反応条
件は、慣用の条件が使用できる。例えば、−８０〜＋１
５０℃、好ましくは０〜１２０℃、より好ましくは４０
〜１２０℃の温度で、１〜６０気圧で、０．５〜７時間
行われる。重合反応は、気相で行っても液相で行っても
よい。液相で行う場合には、前記の不活性媒体中または
液状モノマー中で行うことができる。また、重合は回分
式または連続式のいずれで行ってもよい。生成するポリ
マーの分子量を調節するために、重合反応系に、水素等
公知の分子量制御剤を存在させることができる。共重合
体中のエチレン含量は、０．０１〜１０重量％が好まし
く、より好ましくは０．１〜８重量％である。

【００７３】

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳しく説
明する。なお％は、特に断らない限り重量％である。な
お、物性は以下の方法に準拠して測定した。 （１）ＭＦＲ：ＡＳＴＭ Ｄ１２３８に準拠し、２３０
℃、荷重２．１６ｋｇの条件で１０分間に押し出された
試料の質量を測定した。 （２）曲げ弾性率：ＪＩＳ Ｋ７２０３−１９８２に準
拠して測定した。 （３）デュポン衝撃強度：ＪＩＳ Ｋ７２１１−１９７
６に準拠して測定した。 （４）ヘイズ：ＡＳＴＭ Ｄ１００３に準拠して測定し
た。

【００７４】なお、曲げ弾性率およびデュポン衝撃強度
測定用の試験片は次のようにして作製した。重合体に、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール（ＢＨ
Ｔ）０．１８重量％、ジステアリルチオジプロピオネー
ト（ＤＳＴＤＰ）０．０８重量％、テトラキス−メチレ
ン−（３，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキシヒドロシンナ
メート）メタン（ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０：商標、チバ
ガイギー社製）０．０４重量％およびカルシウムステア
レート０．０６重量％を添加し、これらをドライブレン
ドした後、溶融混練しペレット化した。次に、このペレ
ットを用いて射出成形により試験片を作製した。また、
ヘイズ測定用の試験片は次のようにして作製した。重合
体に、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール
（ＢＨＴ）０．１重量％を添加し、これらをドライブレ
ンドした後、溶融混練しペレット化した。次に、このペ
レットを用いて射出成形により、厚さ１．０ｍｍの試験
片を作製した。

【００７５】実施例１ （１）固体成分の調製 還流冷却器をつけた１リットルの反応容器に、窒素ガス
雰囲気下で、チップ状の金属マグネシウム（純度９９．
５％、平均粒径１．６ｍｍ）８．３ｇおよびｎ−ヘキサ
ン２５０ｍｌを入れ、６８℃で１時間撹拌後、金属マグ
ネシウムを取り出し、６５℃で減圧乾燥するという方法
で予備活性化した金属マグネシウムを得た。

【００７６】次に、この金属マグネシウムに、ｎ−ブチ
ルエーテル１４０ｍｌおよびｎ−ブチルマグネシウムク
ロリドのｎ−ブチルエーテル溶液（１．７５モル／リッ
トル）０．５ｍｌ加えた懸濁液を５５℃に保ち、さらに
ｎ−ブチルエーテル５０ｍｌにｎ−ブチルクロリド３
８．５ｍｌを溶解した溶液を５０分間で滴下した。撹拌
下７０℃で４時間反応を行った後、反応液を２５℃に保
持した。次いで、この反応液にＨＣ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃５
５．７ｍｌを１時間かけて滴下した。滴下終了後、６０
℃で１５分間反応を行い、反応性生成固体をｎ−ヘキサ
ン各３００ｍｌで６回洗浄し、室温で１時間減圧乾燥し
て、Ｍｇ：１９．０％、塩素：２８．９％を含むマグネ
シウム含有固体３１．６ｇを回収した。

【００７７】還流冷却器、撹拌機および滴下ロートを取
り付けた３００ｍｌの反応容器に、窒素ガス雰囲気下、
マグネシウム含有固体６．３ｇおよびｎ−ヘプタン５０
ｍｌを入れ、懸濁液とし、室温で撹拌しながら２，２，
２−トリクロロエタノール２０ｍｌ（０．０２ミリモ
ル）とｎ−ヘプタン１１ｍｌとの混合溶液を滴下ロート
から３０分かけて滴下し、さらに８０℃で１時間撹拌し
た。得られた固体を濾過し、室温のｎ−ヘキサン各１０
０ｍｌで４回洗浄し、さらにトルエン各１００ｍｌで２
回洗浄して固体を得た。

【００７８】上記の固体にトルエン４０ｍｌを加え、更
に四塩化チタン／トルエンの体積比が３／２になるよう
に四塩化チタンを加えて、９０℃に昇温した。撹拌下、
フタル酸ジブチル２ｍｌとトルエン５ｍｌの混合溶液を
５分間かけて滴下した後、１２０℃で２時間撹拌した。
さらに、新たに、四塩化チタン／トルエンの体積比が３
／２になるように四塩化チタンを加えて、１２０℃で２
時間撹拌した。得られた固体物質を１１０℃で濾別し、
室温の各１００ｍｌのｎ−ヘキサンにて７回洗浄した。
かくして固体成分５．５ｇを得た。

【００７９】（２）固体触媒成分の調整 還流冷却器および撹拌機を取り付けた３００ｍｌの反応
容器に、窒素ガス雰囲気下、上記固体成分４ｇを入れ、
ｎ−ヘプタン１２０ｍｌを加えた。臭化ホウ素の１ｍｏ
ｌ／ｌｎ−ヘプタン溶液２３ｍｌを添加し、６５℃で１
時間撹拌した。得られた処理固体を室温のｎ−ヘキサン
各１００ｍｌで７回洗浄し、減圧乾燥して赤橙色粉末の
固体触媒成分（Ａ１）を得た。

【００８０】（３）プロピレン−エチレンブロック共重
合 （ａ）プロピレンの重合（工程ａ） 撹拌機を取り付けた１．５リットルのステンレス製のオ
ートクレーブに、窒素雰囲気下、上記（２）で得た固体
触媒成分（Ａ１）５．７ｍｇ、トリエチルアルミニウム
１．６ミリモル、ｔ−アミロキシシクロペンチルジメト
キシシラン０．０８ミリモルおよびｎ−ヘプタン７ｍｌ
を混合し、５分間保持したものを入れた。次いで、臭化
ホウ素を０．０１６ミリモルを加え、分子量制御剤とし
ての水素を６０００ｍｌ（常温、常圧）および液体プロ
ピレン１リットルを圧入した後、反応系を７０℃に昇温
して、１時間プロピレンの重合を行った。重合終了後、
未反応のプロピレンと水素をパージし、第１段目のポリ
マー（ポリプロピレン）を一部採取した。

【００８１】（ｂ）プロピレンとエチレンの共重合（工
程ｂ） 第１段目の重合に引き続いてプロピレンとエチレンのモ
ル比が１．５の混合ガスを供給して、プロピレンとエチ
レンの共重合を行った。容器内圧力を６ｋｇ／ｃｍ²Ｇ
に保ち、７５℃で２時間共重合を行った。重合終了後、
未反応ガスをパージしてポリマーを取り出し、乾燥し
た。最終的に得られたポリマーのＭＦＲは、５５ｇ／１
０分であった。分析の結果、工程（ｂ）の共重合によっ
て得られたポリマーの生成量は１９重量％であり、共重
合ポリマー中のエチレン含量は５０重量％であった。ま
た工程（ａ）の終了後にサンプリングしたポリマーのＭ
ＦＲは、１３８ｇ／１０分であった。最終ポリマーの物
性を測定したところ、曲げ弾性率は１１．２×１０³ｋ
ｇ／ｃｍ²、デュポン衝撃強度は６６．７ｋｇ・ｃｍで
あった。

【００８２】実施例２ 実施例１の（２）において、臭化ホウ素の代わりに臭化
アルミニウムを用いて触媒処理を行い、（３）において
ｔ−アミロキシシクロペンチルジメトキシシランの代わ
りに、ジシクロペンチルジメトキシシランを使用した以
外は、実施例１と同様にしてプロピレン共重合体を製造
した。各ブロックの重合比率、ＭＦＲ、ポリマーの物性
等の結果を表１に示す。

【００８３】実施例３ 実施例１の（２）において、臭化ホウ素の代わりに沃化
ホウ素を用いて触媒処理を行った以外は、実施例１と同
様にしてプロピレン共重合体を製造した。各ブロックの
重合比率、ＭＦＲ、ポリマーの物性等の結果を表１に示
す。

【００８４】実施例４ 実施例１の（２）において、臭化ホウ素の代わりにビス
（トリフェニルフォスフィン）パラジウムジブロマイド
の１ｍｏｌ／ｌトルエン溶液３７ｍｌを用いて触媒処理
を行った以外は、実施例１と同様にしてプロピレン共重
合体を製造した。各ブロックの重合比率、ＭＦＲ、ポリ
マーの物性等の結果を表１に示す。

【００８５】実施例５ （１）固体成分の調製 滴下ロートおよび撹拌機を取り付けた２００ｍｌのフラ
スコを窒素ガスで置換した。このフラスコに、窒素気流
中において２００℃で２時間、さらに７００℃で５時間
焼成したところの酸化ケイ素（ＤＡＶＩＳＯＮ社製、商
品名Ｇ−９５２）５ｇおよびｎ−ヘプタン４０ｍｌを入
れた。さらに、ｎ−ブチルエチルマグネシウム（以下、
ＢＥＭと称する）の２０％−ｎ−ヘプタン溶液（テキサ
スアルキルズ社製、商品名ＭＡＧＡＬＡ ＢＥＭ）２０
ｍｌを加え、９０℃で１時間撹拌した。

【００８６】得られた懸濁液を０℃に冷却した後、これ
に、テトラエトキシシラン１１．２ｇを２０ｍｌのｎ−
ヘプタンに溶解した溶液を滴下ロートから３０分間かけ
て滴下した。滴下終了後、２時間かけて５０℃に昇温
し、５０℃で１時間撹拌を続けた。撹拌終了後、デカン
テーションにより上澄液を除去し、生成した固体を６０
ｍｌのｎ−ヘプタンで、室温にて洗浄し、さらにデカン
テーションによって上澄液を除去した。このｎ−ヘプタ
ンによる洗浄処理をさらに４回行った。

【００８７】上記固体に、５０ｍｌのｎ−ヘプタンを加
えて懸濁液とし、これに、２，２，２−トリクロロエタ
ノール８．０ｇを１０ｍｌのｎ−ヘプタンに溶解した溶
液を、滴下ロートから２５℃にて１５分間かけて滴下し
た。滴下終了後、２５℃で３０分間撹拌を続けた。撹拌
終了後、室温において、６０ｍｌのｎ−ヘプタンにて２
回、６０ｍｌのトルエンにて３回それぞれ洗浄を行っ
た。得られた固体（固体成分Ｉと称する）を分析したと
ころ、ＳｉＯ₂：３６．６％、Ｍｇ：５．１％、Ｃｌ：
３８．５％を含有していた。

【００８８】上記で得られた固体成分Ｉに、ｎ−ヘプタ
ン１０ｍｌおよび四塩化チタン４０ｍｌを加え、９０℃
まで昇温し、ｎ−ヘプタン５ｍｌに溶解したフタル酸ジ
ｎ−ブチル０．６ｇを５分間かけて添加した。その後、
１１５℃に昇温し、２時間反応させた。９０℃に降温し
た後デカンテーションにより上澄液を除き、ｎ−ヘプタ
ン７０ｍｌで２回洗浄を行った。さらにｎ−ヘプタン１
５ｍｌと四塩化チタン４０ｍｌを加え、１１５℃で２時
間反応させた。反応終了後、得られた固体物質を６０ｍ
ｌのｎ−ヘキサンにて室温で８回洗浄を行った。次い
で、減圧下室温にて１時間乾燥を行い、８．３ｇの固体
成分を得た。分析の結果、この固体成分には、Ｔｉが
３．１重量％含まれており、その他にＳｉ、Ｍｇ、Ｃｌ
およびフタル酸ジｎ−ブチルが含まれていることを確認
した。

【００８９】（２）固体触媒成分の調整 還流冷却器および撹拌機を取り付けた３００ｍｌの反応
容器に、窒素ガス雰囲気下、上記固体成分４ｇを入れ、
ｎ−ヘプタン１２０ｍｌを加えた。臭化ホウ素の１ｍｏ
ｌ／ｌｎ−ヘプタン溶液２３ｍｌを添加し、６５℃で１
時間撹拌した。得られた処理固体を室温のｎ−ヘキサン
各１００ｍｌで７回洗浄し、減圧乾燥して赤橙色粉末の
固体触媒成分（Ａ２）を得た。

【００９０】（３）プロピレン−エチレンブロック共重
合 （ａ）プロピレンの重合（工程ａ） 撹拌機を取り付けた１．５リットルのステンレス製のオ
ートクレーブに、窒素雰囲気下、上記（２）で得た固体
触媒成分（Ａ２）１１．２ｍｇ、トリエチルアルミニウ
ム１．６ミリモル、ｔ−アミロキシシクロペンチルジメ
トキシシラン０．０８ミリモルおよびｎ−ヘプタン７ｍ
ｌを混合し、５分間保持したものを入れた。次いで、臭
化ホウ素０．０１６ミリモルを加え、分子量制御剤とし
ての水素を６０００ｍｌ（常温、常圧）および液体プロ
ピレン１リットルを圧入した後、反応系を７０℃に昇温
して、１時間プロピレンの重合を行った。重合終了後、
未反応のプロピレンと水素をパージし、第１段目のポリ
マー（ポリプロピレン）を一部採取した。

【００９１】（ｂ）プロピレンとエチレンの共重合（工
程ｂ） 第１段目の重合に引き続いてプロピレンとエチレンのモ
ル比が１．５の混合ガスを供給して、プロピレンとエチ
レンの共重合を行った。容器内圧力を６ｋｇ／ｃｍ²Ｇ
に保ち、７５℃で２時間共重合を行った。重合終了後、
未反応ガスをパージしてポリマーを取り出し、乾燥し
た。最終的に得られたポリマーのＭＦＲは、５７ｇ／１
０分であった。分析の結果、工程（ｂ）の共重合によっ
て得られたポリマーの生成量は２１重量％であり、共重
合ポリマー中のエチレン含量は５０重量％であった。ま
た工程（ａ）の終了後にサンプリングしたポリマーのＭ
ＦＲは、１５１ｇ／１０分であった。最終ポリマーの物
性を測定したところ、曲げ弾性率は９．８×１０³ｋｇ
／ｃｍ²、デュポン衝撃強度は６３．５ｋｇ・ｃｍであ
った。

【００９２】実施例６ 実施例５の（２）において、臭化ホウ素の代わりにエチ
ルジブロモホウ素の１ｍｏｌ／ｌｎ−ヘプタン溶液２７
ｍｌを用いて触媒処理を行った以外は、実施例５と同様
にしてプロピレン共重合体の製造を行った。各ブロック
の重合比率、ＭＦＲ、ポリマーの物性等の結果を表１に
示す。

【００９３】実施例７ 実施例５の（２）において、臭化ホウ素の代わりにジブ
ロモマグネシウムの１ｍｏｌ／ｌｎ−ヘプタンスラリー
２５ｍｌを用いて触媒処理を行った以外は、実施例５と
同様にしてプロピレン共重合体の製造を行った。各ブロ
ックの重合比率、ＭＦＲ、ポリマーの物性等の結果を表
１に示す。

【００９４】実施例８ 実施例１の（３）において、ｔ−アミロキシシクロペン
チルジメトキシシラン、臭化ホウ素の代わりに、表１示
す化合物を使用した以外は、実施例１と同様にしてプロ
ピレン共重合体の製造を行った。各ブロックの重合比
率、ＭＦＲ、ポリマーの物性等の結果を表１に示す。

【００９５】実施例９ 実施例１の（３）において、臭化ホウ素の代わりに沃化
ホウ素を使用した以外は、実施例１と同様にしてプロピ
レン共重合体の製造を行った。各ブロックの重合比率、
ＭＦＲ、ポリマーの物性等の結果を表１に示す。

【００９６】実施例１０ 実施例１の（３）において、臭化ホウ素の代わりに塩化
ホウ素０．１６ミリモルを使用した以外は、実施例１と
同様にしてプロピレン共重合体の製造を行った。各ブロ
ックの重合比率、ＭＦＲ、ポリマーの物性等の結果を表
１に示す。

【００９７】実施例１１ 実施例１の（３）において、トリエチルアルミニウムの
代わりにトリイソブチルアルミニウムを使用し、臭化ホ
ウ素の代わりに臭化亜鉛を使用した以外は、実施例１と
同様にしてプロピレン共重合体の製造を行った。各ブロ
ックの重合比率、ＭＦＲ、ポリマーの物性等の結果を表
１に示す。

【００９８】実施例１２ 実施例１の（３）において、トリエチルアルミニウムの
代わりにトリメチルアルミニウムを使用した以外は、実
施例１と同様にしてプロピレン共重合体の製造を行っ
た。各ブロックの重合比率、ＭＦＲ、ポリマーの物性等
の結果を表１に示す。

【００９９】実施例１３ 実施例１において、（ａ）プロピレンの重合（工程ａ）
を以下のように実施する以外は、実施例１と同様にして
プロピレン共重合体の製造を行った。結果を表１に示
す。 （ａ）プロピレンの重合（工程ａ） 撹拌機を取り付けた１．５リットルのステンレス製のオ
ートクレーブに、窒素雰囲気下、固体触媒成分（Ａ１）
５．８ｍｇ、トリエチルアルミニウム１．６ミリモル、
ｓｅｃ−ブトキシシクロペンチルジメトキシシラン０．
０８ミリモルおよびｎ−ヘプタン７ｍｌを混合し、５分
間保持したものを入れた。次いで、臭化ホウ素０．０１
６ミリモル、ジエチル亜鉛１．６ミリモル、ジエチルア
ルミニウムハイドライド０．４ミリモルを加え、分子量
制御剤としての水素を６０００ｍｌ（常温、常圧）、お
よび液体プロピレン１リットルを圧入した後、反応系を
７０℃に昇温して、５９分間プロピレンの重合を行っ
た。この時点でビス（シクロペンタジエニル）チタニウ
ムジクロライドの２．５×１０^-4ｍｏｌ／ｌトルエン溶
液１ｍｌを圧入した。１分後オートクレーブの撹拌を停
止し、同時に水素及び未反応のプロピレンをパージし、
第１段目のポリマー（ポリプロピレン）を一部採取し
た。

【０１００】比較例１ 実施例１において、（２）の臭化ホウ素処理を行わず、
（３）において臭化ホウ素を使用せず、水素の添加量を
８０００ｍｌ（常温、常圧）とした以外は、実施例１と
同様にしてプロピレン共重合体の製造を行った。結果を
表２に示す。

【０１０１】比較例２ 実施例１において、（２）の臭化ホウ素処理を行わなか
った以外は、実施例１と同様にしてプロピレン共重合体
の製造を行った。結果を表２に示す。

【０１０２】比較例３ 実施例１の（３）において、臭化ホウ素を使用しなかっ
た以外は、実施例１と同様にしてプロピレン共重合体の
製造を行った。結果を表２に示す。

【０１０３】比較例４ 実施例５において、（２）の臭化ホウ素処理を行わず、
（３）において臭化ホウ素を使用せず、水素の添加量を
８０００ｍｌ（常温、常圧）とした以外は、実施例５と
同様にしてプロピレン共重合体の製造を行った。結果を
表２に示す。

【０１０４】比較例５ 実施例５において、（２）の臭化ホウ素処理を行わなか
った以外は、実施例５と同様にしてプロピレン共重合体
の製造を行った。結果を表２に示す。

【０１０５】比較例６ 実施例５の（３）において、臭化ホウ素を使用しなかっ
た以外は、実施例５と同様にしてプロピレン共重合体の
製造を行った。結果を表２に示す。

【０１０６】比較例７ 実施例１において、（２）の臭化ホウ素処理を行わず、
（３）においてｔ−アミロキシシクロペンチルジメトキ
シシランの代わりにテトラエトキシシランを使用し、臭
化ホウ素を使用せず、水素の添加量を１４００ｍｌ（常
温、常圧）とした以外は、実施例１と同様にしてプロピ
レン共重合体の製造を行った。結果を表２に示す。

【０１０７】

【表１】

【０１０８】

【表２】

【０１０９】実施例１４ 還流冷却器および撹拌機を取り付けた３００ｍｌの反応
容器に、窒素ガス雰囲気下、実施例１の（１）で得られ
た固体成分４ｇを入れ、ｎ−ヘプタン１２０ｍｌを加え
た。臭化ホウ素の１ｍｏｌ／ｌｎ−ヘプタン溶液２３ｍ
ｌを添加し、６５℃で１時間撹拌した。得られた処理固
体を室温のｎ−ヘキサン各１００ｍｌで７回洗浄し、減
圧乾燥して赤橙色粉末の固体触媒成分（Ａ１）を得た。
撹拌機を取り付けた１．５リットルのステンレス製のオ
ートクレーブに、窒素雰囲気下、上記で得た固体触媒成
分（Ａ１）５．１ｍｇ、トリエチルアルミニウム１．６
ミリモル、ｔ−アミロキシシクロペンチルジメトキシシ
ラン０．０８ミリモルおよびｎ−ヘプタン７ｍｌを混合
し、５分間保持したものを入れた。次いで、臭化ホウ素
０．０１６ミリモルを加え、分子量制御剤としての水素
を２０００ｍｌ（常温、常圧）および液体プロピレン１
リットルを圧入した後、反応系を７０℃に昇温して、エ
チレンを連続的に供給して１時間プロピレンの重合を行
った。重合終了後、未反応のプロピレン、エチレン及び
水素をパージし、重合物を取り出して乾燥した。得られ
た重合物のＭＦＲは、３１．４ｇ／１０分、エチレン含
量は３．８重量％であった。物性を測定したところ、曲
げ弾性率は１１．８×１０³ｋｇ／ｃｍ²、ヘイズは１７
％であった。

【０１１０】実施例１５ 実施例１４において、臭化ホウ素の代わりに臭化アルミ
ニウムを用いて固体成分の処理を行い、トリエチルアル
ミニウムの代わりにトリイソブチルアルミニウムを使用
して共重合した以外は、実施例１４と同様にして、プロ
ピレン共重合体の製造を行った。結果を表３に示す。

【０１１１】実施例１６ 実施例１４において、臭化ホウ素の代わりに沃化ホウ素
を用いて固体成分の処理を行った以外は、実施例１４と
同様にして、プロピレン共重合体の製造を行った。結果
を表３に示す。

【０１１２】実施例１７ 実施例１４において、臭化ホウ素の代わりにビス（トリ
フェニルフォスフィン）パラジウムジブロマイドの１ｍ
ｏｌ／ｌトルエン溶液３７ｍｌを用いて固体成分の処理
を行った外は、実施例１４と同様にして、プロピレン共
重合体の製造を行った。結果を表３に示す。

【０１１３】実施例１８ 還流冷却器および撹拌機を取り付けた３００ｍｌの反応
容器に、窒素ガス雰囲気下、実施例５の（１）で得られ
た固体成分４ｇを入れ、ｎ−ヘプタン１２０ｍｌを加え
た。臭化ホウ素の１ｍｏｌ／ｌｎ−ヘプタン溶液２３ｍ
ｌを添加し、６５℃で１時間撹拌した。得られた処理固
体を室温のｎ−ヘキサン各１００ｍｌで７回洗浄し、減
圧乾燥して赤橙色粉末の固体触媒成分（Ａ２）を得た。
撹拌機を取り付けた１．５リットルのステンレス製のオ
ートクレーブに、窒素雰囲気下、上記で得た固体触媒成
分（Ａ２）１１．２ｍｇ、トリエチルアルミニウム１．
６ミリモル、ｔ−アミロキシシクロペンチルジメトキシ
シラン０．０８ミリモルおよびｎ−ヘプタン７ｍｌを混
合し、５分間保持したものを入れた。次いで、臭化ホウ
素０．０１６ミリモルを加え、分子量制御剤としての水
素を２０００ｍｌ（常温、常圧）および液体プロピレン
１リットルを圧入した後、反応系を７０℃に昇温して、
エチレンを連続的に供給して１時間プロピレンの重合を
行った。重合終了後、未反応のプロピレン、エチレン及
び水素をパージし、重合物を取り出して乾燥した。得ら
れた重合物のＭＦＲは、３３．３ｇ／１０分、エチレン
含量は４．０重量％であった。物性を測定したところ、
曲げ弾性率は１０．８×１０³ｋｇ／ｃｍ²、ヘイズは１
９％であった。

【０１１４】実施例１９ 実施例１８において、臭化ホウ素の代わりにエチルジブ
ロモホウ素の１ｍｏｌ／ｌｎ−ヘプタン溶液２７ｍｌを
用いて固体成分の処理を行い、ｔ−アミロキシシクロペ
ンチルジメトキシシランの代わりにジシクロペンチルジ
メトキシシランを使用して共重合をした以外は、実施例
１８と同様にしてプロピレン共重合体の製造を行った。
結果を表３に示す。

【０１１５】実施例２０ 実施例１４において、ｔ−アミロキシシクロペンチルジ
メトキシシランの代わりにｓｅｃ−ブトキシシクロペン
チルジメトキシシランを使用し、臭化ホウ素の代わりに
エチルジブロモホウ素を使用して共重合をした以外は、
実施例１４と同様にしてプロピレン共重合体の製造を行
った。結果を表３に示す。

【０１１６】実施例２１ 実施例１４において、臭化ホウ素の代わりに沃化ホウ素
を使用して共重合をした以外は、実施例１４と同様にし
てプロピレン共重合体の製造を行った。結果を表３に示
す。

【０１１７】実施例２２ 実施例１４において、臭化ホウ素の代わりに塩化ホウ素
０．１６ミリモルを用いて共重合をした以外は、実施例
１４と同様にしてプロピレン共重合体の製造を行った。
結果を表３に示す。

【０１１８】実施例２３〜２４ 実施例１４において、臭化ホウ素の代わりに表３に示す
化合物を用いて共重合をした以外は、実施例１４と同様
にしてプロピレン共重合体の製造を行った。結果を表３
に示す。

【０１１９】実施例２５ 実施例１４において、トリエチルアルミニウムの代わり
にトリメチルアルミニウムを使用し、ジエチル亜鉛１．
６ミリモル、ジエチルアルミニウムハイドライド０．４
ミリモルを加え、水素の添加量を１１００ｍｌ（常温、
常圧）として共重合を行った以外は、実施例１４と同様
にしてプロピレン共重合体の製造を行った。結果を表３
に示す。

【０１２０】比較例８ 実施例１４において、臭化ホウ素による固体成分の処理
を行わず、臭化ホウ素を使用しないで共重合した以外
は、実施例１４と同様にしてプロピレン共重合体の製造
を行った。結果を表４に示す。

【０１２１】比較例９ 実施例１４において、臭化ホウ素による固体成分の処理
を行わなかった以外は、実施例１４と同様にしてプロピ
レン共重合体の製造を行った。結果を表４に示す。

【０１２２】比較例１０ 実施例１４において、臭化ホウ素を使用しないで共重合
した以外は、実施例１４と同様にしてプロピレン共重合
体の製造を行った。結果を表４に示す。

【０１２３】比較例１１ 実施例１８において、臭化ホウ素による固体成分の処理
を行わず、臭化ホウ素を使用しないで共重合した以外
は、実施例１８と同様にしてプロピレン共重合体の製造
を行った。結果を表４に示す。

【０１２４】比較例１２ 実施例１８において、臭化ホウ素による固体成分の処理
を行わなかった以外は、実施例１８と同様にしてプロピ
レン共重合体の製造を行った。結果を表４に示す。

【０１２５】比較例１３ 実施例１８において、臭化ホウ素を使用しないで共重合
した以外は、実施例１８と同様にしてプロピレン共重合
体の製造を行った。結果を表４に示す。

【０１２６】比較例１４ 実施例１４において、臭化ホウ素による固体成分の処理
を行わず、ｔ−アミロキシシクロペンチルジメトキシシ
ランの代わりにシクロヘキシルメチルジメトキシシラン
を使用し、臭化ホウ素は使用せず、水素の添加量３２０
０ｍｌ（常温、常圧）で共重合を行った以外は、実施例
１４と同様にしてプロピレン共重合体の製造を行った。
結果を表４に示す。

【０１２７】

【表３】

【０１２８】

【表４】

【０１２９】

【発明の効果】本発明の方法によると、成形材料として
好適な高ＭＦＲ領域において、剛性と耐衝撃性のバラン
スに優れたプロピレン−エチレンブロック共重合体、お
よび透明性と剛性のバランスに優れたプロピレン−エチ
レンランダム共重合体を製造することが可能となった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明における触媒成分および重合方法のフロ
ーチャート図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 清水 聡 埼玉県入間郡大井町西鶴ヶ岡一丁目３番１ 号 東燃株式会社総合研究所内 (72)発明者 村上 直美 埼玉県入間郡大井町西鶴ヶ岡一丁目３番１ 号 東燃株式会社総合研究所内 (72)発明者 相場 一清 埼玉県入間郡大井町西鶴ヶ岡一丁目３番１ 号 東燃株式会社総合研究所内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）マグネシウム、チタン、ハロゲン
   および電子供与性化合物を必須成分とする固体成分をＢ
   ｒ₂、Ｉ₂、ＣＢｒ₄、ＣＩ₄、アルキルブロマイド、アル
   キルアイオダイド、または一般式ＭｅｔＲ_X（式中、Ｍ
   ｅｔはＭｇ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ
   又は遷移金属元素を示し、ＲはＢｒ、Ｉまたは炭化水素
   含有基を示し、少なくとも一つはＢｒまたはＩであり、
   ｘはＭｅｔの原子価を示す。）で示される化合物で処理
   をした固体触媒成分、（Ｂ）一般式（Ｒ^k）_rＡｌ（Ｙ）
   _3-r（ここで、Ｒ^kはそれぞれ独立して、アルキル基およ
   びアリール基であり、Ｙはそれぞれ独立して、アルコキ
   シ基およびアリールオキシ基から選ばれる基であり、ｒ
   は０≦ｒ≦３の範囲の任意の数である。）で示される有
   機アルミニウム化合物又は酸素原子若しくは窒素原子を
   介して２個以上のアルミニウムが結合した有機アルミニ
   ウム化合物の中から少なくとも１つ以上選ばれた有機ア
   ルミニウム化合物、（Ｃ）アルキルアルコキシシラン化
   合物、及び（Ｄ）一般式ＭｅｔＲ_X（式中、ＭｅｔはＭ
   ｇ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ又は遷移
   金属元素を示し、Ｒはハロゲン原子、または炭化水素含
   有基を示し、少なくとも一つはハロゲン原子であり、ｘ
   はＭｅｔの原子価を示す。）で示される化合物からなる
   重合用触媒の存在下にプロピレンとエチレンを共重合す
   ることを特徴とするプロピレン−エチレン共重合体の製
   造方法。
2. 【請求項２】 プロピレンとエチレンの共重合を、
   （ａ）プロピレンを重合する行程および（ｂ）プロピレ
   ンとエチレンを共重合する工程を行い、プロピレン−エ
   チレンブロック共重合体を製造することを特徴とする請
   求項１記載のプロピレン−エチレン共重合体の製造方
   法。
3. 【請求項３】 プロピレンとエチレンの共重合を、エチ
   レン含量０．０１〜１０重量％含む条件下で行い、プロ
   ピレン−エチレンランダム共重合体を製造することを特
   徴とする請求項１記載のプロピレン−エチレン共重合体
   の製造方法。