JPH11322649A - 光学活性アルコールの製造方法 - Google Patents
光学活性アルコールの製造方法Info
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- JPH11322649A JPH11322649A JP10303951A JP30395198A JPH11322649A JP H11322649 A JPH11322649 A JP H11322649A JP 10303951 A JP10303951 A JP 10303951A JP 30395198 A JP30395198 A JP 30395198A JP H11322649 A JPH11322649 A JP H11322649A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 工業的製造においてより少ない触媒量で高い
化学収率、高いｅｅが得られる光学活性アルコールの製
造方法の提供。 【解決手段】 一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は、互いに異なり、置換基を有し
ていてもよい芳香族炭化水素基、飽和若しくは不飽和の
脂肪族炭化水素基、環式脂肪族炭化水素基又は複素環基
を表す。また、Ｒ1 及びＲ2 が結合して環を形成しても
よい）で示されるケトン類を、遷移金属触媒及び第三級
アミン類の存在下、ギ酸を水素供与体とする水素移動型
不斉還元反応により還元する際、アミンに対する反応系
に存在するギ酸のモル比が２．２以下の範囲内で反応を
行うことを特徴とする一般式（II） 【化２】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は式（Ｉ）と同義である）で示さ
れる光学活性アルコールの製造方法。
化学収率、高いｅｅが得られる光学活性アルコールの製
造方法の提供。 【解決手段】 一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は、互いに異なり、置換基を有し
ていてもよい芳香族炭化水素基、飽和若しくは不飽和の
脂肪族炭化水素基、環式脂肪族炭化水素基又は複素環基
を表す。また、Ｒ1 及びＲ2 が結合して環を形成しても
よい）で示されるケトン類を、遷移金属触媒及び第三級
アミン類の存在下、ギ酸を水素供与体とする水素移動型
不斉還元反応により還元する際、アミンに対する反応系
に存在するギ酸のモル比が２．２以下の範囲内で反応を
行うことを特徴とする一般式（II） 【化２】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は式（Ｉ）と同義である）で示さ
れる光学活性アルコールの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学活性アルコー
ルの製造方法に関する。詳しくは、ケトン類を、アミン
の存在下、ギ酸を水素供与体とする水素移動型不斉還元
反応により還元する方法の改良に関する。本発明の方法
は、医薬、農薬の合成中間体として有用な光学活性α−
メチルベンジルアルコール類の合成に好適である。
ルの製造方法に関する。詳しくは、ケトン類を、アミン
の存在下、ギ酸を水素供与体とする水素移動型不斉還元
反応により還元する方法の改良に関する。本発明の方法
は、医薬、農薬の合成中間体として有用な光学活性α−
メチルベンジルアルコール類の合成に好適である。
【０００２】
【従来の技術】光学活性アルコールは医薬、農薬の中間
体として重要な化合物であり、その有効な合成法の一つ
として、ケトンを基質とする水素移動型不斉還元反応が
知られている。水素移動型不斉還元反応はイソプロパノ
ールやギ酸等の水素供与性化合物を水素源とする不斉還
元反応であり、水素ガス還元やボロヒドリド還元に比べ
安全性や経済性の面で優れた反応である。
体として重要な化合物であり、その有効な合成法の一つ
として、ケトンを基質とする水素移動型不斉還元反応が
知られている。水素移動型不斉還元反応はイソプロパノ
ールやギ酸等の水素供与性化合物を水素源とする不斉還
元反応であり、水素ガス還元やボロヒドリド還元に比べ
安全性や経済性の面で優れた反応である。
【０００３】ＮｏｙｏｒｉらはＪ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓ
ｏｃ．，１１８，２５２１（１９９６）においてギ酸−
トリエチルアミン共沸混合物（ギ酸：トリエチルアミン
＝５：２（モル比））を水素源とし、ルテニウム化合物
を触媒とするケトンの不斉還元方法を開示している。本
反応においてはギ酸から生ずる二酸化炭素が系外に除去
されるため、イソプロパノールを水素源に用いた場合に
比べると高い平衡転化率が達成され、また分子触媒によ
り高い不斉収率が達成されている。
ｏｃ．，１１８，２５２１（１９９６）においてギ酸−
トリエチルアミン共沸混合物（ギ酸：トリエチルアミン
＝５：２（モル比））を水素源とし、ルテニウム化合物
を触媒とするケトンの不斉還元方法を開示している。本
反応においてはギ酸から生ずる二酸化炭素が系外に除去
されるため、イソプロパノールを水素源に用いた場合に
比べると高い平衡転化率が達成され、また分子触媒によ
り高い不斉収率が達成されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記方
法を含め水素移動型不斉還元反応は、本来反応速度が遅
く、触媒に対する基質のモル比（Ｓ／Ｃ）が２００の条
件下でも室温では約２０時間の反応時間を要するという
問題がある。本発明は、工業的製造の場合、より少ない
触媒量で高い化学収率、高いエナンチオマー過剰率（以
下、ｅｅと略記する）が得られる光学活性アルコールの
製造方法を提供することを目的とする。
法を含め水素移動型不斉還元反応は、本来反応速度が遅
く、触媒に対する基質のモル比（Ｓ／Ｃ）が２００の条
件下でも室温では約２０時間の反応時間を要するという
問題がある。本発明は、工業的製造の場合、より少ない
触媒量で高い化学収率、高いエナンチオマー過剰率（以
下、ｅｅと略記する）が得られる光学活性アルコールの
製造方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため鋭意検討した結果、ケトン類をギ酸を水
素供与体とする水素移動型不斉還元反応により還元する
際、アミンに対するギ酸のモル比を共沸組成比から低下
させることにより反応速度が大幅に向上することを見い
出し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明の要旨
は、一般式（Ｉ）
を解決するため鋭意検討した結果、ケトン類をギ酸を水
素供与体とする水素移動型不斉還元反応により還元する
際、アミンに対するギ酸のモル比を共沸組成比から低下
させることにより反応速度が大幅に向上することを見い
出し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明の要旨
は、一般式（Ｉ）
【０００６】
【化３】
【０００７】（式中、Ｒ1 及びＲ2 は、互いに異なり、
置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、飽和若し
くは不飽和の脂肪族炭化水素基、環式脂肪族炭化水素基
又は複素環基を表す。また、Ｒ1 及びＲ2 が結合して環
を形成してもよい）で示されるケトン類を、遷移金属触
媒及び第三級アミン類の存在下、ギ酸を水素供与体とす
る水素移動型不斉還元反応により還元する際、アミンに
対する反応系に存在するギ酸のモル比が２．２以下の範
囲内で反応を行うことを特徴とする一般式（II）
置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、飽和若し
くは不飽和の脂肪族炭化水素基、環式脂肪族炭化水素基
又は複素環基を表す。また、Ｒ1 及びＲ2 が結合して環
を形成してもよい）で示されるケトン類を、遷移金属触
媒及び第三級アミン類の存在下、ギ酸を水素供与体とす
る水素移動型不斉還元反応により還元する際、アミンに
対する反応系に存在するギ酸のモル比が２．２以下の範
囲内で反応を行うことを特徴とする一般式（II）
【０００８】
【化４】
【０００９】（式中、Ｒ1 及びＲ2 は式（Ｉ）と同義で
ある）で示される光学活性アルコールの製造方法にあ
る。また、本発明は反応終了後に得られる反応液よりア
ミンを蒸留により回収し、このアミンを反応にリサイク
ルすることを特徴とする光学活性アルコールの製造方法
にある。
ある）で示される光学活性アルコールの製造方法にあ
る。また、本発明は反応終了後に得られる反応液よりア
ミンを蒸留により回収し、このアミンを反応にリサイク
ルすることを特徴とする光学活性アルコールの製造方法
にある。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明で用いられる原料のケトンは式（Ｉ）で示
されるものである。式（Ｉ）において、Ｒ1 及びＲ
2 は、具体的には、例えば単環又は多環の芳香族炭化水
素基、直鎖又は分岐のアルキル基、アルケニル基、シク
ロアルキル基等の脂肪族炭化水素基、窒素、酸素、硫黄
等の原子を含有する複素環基を表し、これらの基は更に
置換基を有していてもよい。但し、Ｒ1 とＲ2 は同一で
はない。
する。本発明で用いられる原料のケトンは式（Ｉ）で示
されるものである。式（Ｉ）において、Ｒ1 及びＲ
2 は、具体的には、例えば単環又は多環の芳香族炭化水
素基、直鎖又は分岐のアルキル基、アルケニル基、シク
ロアルキル基等の脂肪族炭化水素基、窒素、酸素、硫黄
等の原子を含有する複素環基を表し、これらの基は更に
置換基を有していてもよい。但し、Ｒ1 とＲ2 は同一で
はない。
【００１１】特に本発明方法の適用性が高いケトンは、
式（Ｉ）において、Ｒ1 及びＲ2 の何れか一方が、Ｃ1
〜Ｃ4 のアルキル基であり、他方が、ＸｎＡｒ−基（式
中、Ａｒは芳香族炭化水素基又は複素環基を表し、Ｘ
は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ1 〜Ｃ4 のアルキル
基、Ｃ1 〜Ｃ4 のアルコキシ基、Ｃ1 〜Ｃ4 のハロアル
キル基、Ｃ1 〜Ｃ4 のハロアルコキシ基、Ｃ1 〜Ｃ4 の
アルキルチオ基、Ｃ2 〜Ｃ 6 のアルキニルオキシ基、シ
アノ基、ニトロ基又はアリール基を表し、ｎは１〜３の
整数を表す。但し、ｎが２又は３であるとき、Ｘは同一
でも異なっていても良く、また隣接する二つのＸが合体
してＡｒと縮合環を形成してもよい）で示されるケトン
である。
式（Ｉ）において、Ｒ1 及びＲ2 の何れか一方が、Ｃ1
〜Ｃ4 のアルキル基であり、他方が、ＸｎＡｒ−基（式
中、Ａｒは芳香族炭化水素基又は複素環基を表し、Ｘ
は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ1 〜Ｃ4 のアルキル
基、Ｃ1 〜Ｃ4 のアルコキシ基、Ｃ1 〜Ｃ4 のハロアル
キル基、Ｃ1 〜Ｃ4 のハロアルコキシ基、Ｃ1 〜Ｃ4 の
アルキルチオ基、Ｃ2 〜Ｃ 6 のアルキニルオキシ基、シ
アノ基、ニトロ基又はアリール基を表し、ｎは１〜３の
整数を表す。但し、ｎが２又は３であるとき、Ｘは同一
でも異なっていても良く、また隣接する二つのＸが合体
してＡｒと縮合環を形成してもよい）で示されるケトン
である。
【００１２】具体的にはＡｒで示される芳香族炭化水素
基としては、フェニル基、ナフチル基が、また、複素環
基としては、ピリジル基、チエニル基、チアゾリル基等
が挙げられる。Ｘで示されるハロゲン原子としては、塩
素原子、臭素原子、フッ素原子等；Ｃ1 〜Ｃ4 のアルキ
ル基又はアルコキシ基としては、メチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−
ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基等のアルキ
ル基及びこれに対応するアルコキシ基等；Ｃ1〜Ｃ4 の
ハロアルキル基、ハロアルコキシ基としては、クロロメ
チル基、トリフルオロメチル基、ジフルオロエチル基、
ペンタフルオロエチル基等のハロアルキル基及びこれに
対応するアルコキシ基等；Ｃ1 〜Ｃ4 のアルキルチオ基
としては、前述のアルキル基に対応するアルキルチオ基
が例示される。また、アルキニルオキシ基としては、プ
ロパルギルオキシ基、ブチニルオキシ基等が例示され
る。
基としては、フェニル基、ナフチル基が、また、複素環
基としては、ピリジル基、チエニル基、チアゾリル基等
が挙げられる。Ｘで示されるハロゲン原子としては、塩
素原子、臭素原子、フッ素原子等；Ｃ1 〜Ｃ4 のアルキ
ル基又はアルコキシ基としては、メチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−
ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基等のアルキ
ル基及びこれに対応するアルコキシ基等；Ｃ1〜Ｃ4 の
ハロアルキル基、ハロアルコキシ基としては、クロロメ
チル基、トリフルオロメチル基、ジフルオロエチル基、
ペンタフルオロエチル基等のハロアルキル基及びこれに
対応するアルコキシ基等；Ｃ1 〜Ｃ4 のアルキルチオ基
としては、前述のアルキル基に対応するアルキルチオ基
が例示される。また、アルキニルオキシ基としては、プ
ロパルギルオキシ基、ブチニルオキシ基等が例示され
る。
【００１３】またＸｎＡｒ−については、メチレンジオ
キシフェニル基、エチレンジオキシフェニル基等の隣接
する二個のＸが合体してＡｒと縮合環を形成する場合も
ある。本発明の原料として最も好ましい具体例として
は、アセトフェノン、ｍ−クロロアセトフェノン、ｍ−
フルオロアセトフェノン、ｍ−トリフルオロメチルアセ
トフェノン、ｍ−トリフルオロメトキシアセトフェノ
ン、フェニルエチルケトン、フェニルイソプロピルケト
ン、フェニル−ｎ−プロピルケトン、フェニル−ｎ−ブ
チルケトン、１−インダノン、α−テトラロン等が例示
される。
キシフェニル基、エチレンジオキシフェニル基等の隣接
する二個のＸが合体してＡｒと縮合環を形成する場合も
ある。本発明の原料として最も好ましい具体例として
は、アセトフェノン、ｍ−クロロアセトフェノン、ｍ−
フルオロアセトフェノン、ｍ−トリフルオロメチルアセ
トフェノン、ｍ−トリフルオロメトキシアセトフェノ
ン、フェニルエチルケトン、フェニルイソプロピルケト
ン、フェニル−ｎ−プロピルケトン、フェニル−ｎ−ブ
チルケトン、１−インダノン、α−テトラロン等が例示
される。
【００１４】本発明においては、水素供与体としてギ酸
を用いる。工業的に得られるギ酸としては、種々の含水
量のものが入手可能であるが、本反応においてはなるべ
く水分量の少ないものが望ましく、具体的には９９重量
％ギ酸が例示される。原料となるケトンに対するギ酸の
モル比としては１〜１００モル倍、好ましくは１〜１０
モル倍、更に好ましくは１〜１．２モル倍が例示され
る。
を用いる。工業的に得られるギ酸としては、種々の含水
量のものが入手可能であるが、本反応においてはなるべ
く水分量の少ないものが望ましく、具体的には９９重量
％ギ酸が例示される。原料となるケトンに対するギ酸の
モル比としては１〜１００モル倍、好ましくは１〜１０
モル倍、更に好ましくは１〜１．２モル倍が例示され
る。
【００１５】本反応においてはケトンと等モル量のギ酸
が反応において消費される。ギ酸の仕込方法としては、
等モル量ないし過剰量のギ酸を仕込時に混合させる方法
と、ギ酸を連続的又は間欠的に添加しながら反応を進行
させる方法とがある。ギ酸を添加しながら反応を進行さ
せることが、生産性の向上及び暴走反応の回避の点で有
用である。
が反応において消費される。ギ酸の仕込方法としては、
等モル量ないし過剰量のギ酸を仕込時に混合させる方法
と、ギ酸を連続的又は間欠的に添加しながら反応を進行
させる方法とがある。ギ酸を添加しながら反応を進行さ
せることが、生産性の向上及び暴走反応の回避の点で有
用である。
【００１６】本発明においてはアミンを共存させて反応
を行う。アミンとしてはアンモニア、メチルアミン、ベ
ンジルアミン等の第一級アミン、ジメチルアミン、ジエ
チルアミン等の第二級アミン、トリメチルアミン、トリ
エチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、ピリジン等の
第三級アミンが用いられる。これらの中、第三級アミン
が好適であり、トリメチルアミン、トリエチルアミン、
トリｎ−プロピルアミン等の第三級脂肪族アミンが好ま
しく、特にトリエチルアミンが好ましい。
を行う。アミンとしてはアンモニア、メチルアミン、ベ
ンジルアミン等の第一級アミン、ジメチルアミン、ジエ
チルアミン等の第二級アミン、トリメチルアミン、トリ
エチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、ピリジン等の
第三級アミンが用いられる。これらの中、第三級アミン
が好適であり、トリメチルアミン、トリエチルアミン、
トリｎ−プロピルアミン等の第三級脂肪族アミンが好ま
しく、特にトリエチルアミンが好ましい。
【００１７】アミンの量は少なくとも触媒に対して過剰
量が必要で、アミンの最適な仕込量は原料ケトンや使用
アミンにより異なるが、通常は原料ケトンに対するアミ
ンのモル比として０．０１〜１００、好ましくは０．１
〜２の範囲で行われる。本発明はアミンに対するギ酸の
モル比（以下、「ギ酸／アミン比」とする）を２．２以
下の範囲内で行うことを特徴とする。アミンの存在量に
応じてギ酸の最大仕込量が決定される。好ましいギ酸／
アミン比は１以下である。ギ酸は反応の進行に伴い消費
されるので、ギ酸の仕込量がケトンに対して１以下であ
る場合には、反応の進行に伴いギ酸／アミン比は０にな
り反応が停止する。再びギ酸を添加することにより反応
は再開する。
量が必要で、アミンの最適な仕込量は原料ケトンや使用
アミンにより異なるが、通常は原料ケトンに対するアミ
ンのモル比として０．０１〜１００、好ましくは０．１
〜２の範囲で行われる。本発明はアミンに対するギ酸の
モル比（以下、「ギ酸／アミン比」とする）を２．２以
下の範囲内で行うことを特徴とする。アミンの存在量に
応じてギ酸の最大仕込量が決定される。好ましいギ酸／
アミン比は１以下である。ギ酸は反応の進行に伴い消費
されるので、ギ酸の仕込量がケトンに対して１以下であ
る場合には、反応の進行に伴いギ酸／アミン比は０にな
り反応が停止する。再びギ酸を添加することにより反応
は再開する。
【００１８】また種々の第三級アミンはギ酸と共沸混合
物を生成することが知られており（有機合成化学協会
誌，３４，Ｎｏ．２，６７（１９７６））、本発明にお
いてギ酸とアミンの供給法としてギ酸−アミン共沸混合
物を使用することも可能である。共沸混合物中のアミン
のギ酸に対するモル比は通常２．３から２．５であり、
本発明においてはギ酸−アミン共沸混合物にアミンを添
加することにより、好適なギ酸／アミン比に調製するこ
とが望ましい。
物を生成することが知られており（有機合成化学協会
誌，３４，Ｎｏ．２，６７（１９７６））、本発明にお
いてギ酸とアミンの供給法としてギ酸−アミン共沸混合
物を使用することも可能である。共沸混合物中のアミン
のギ酸に対するモル比は通常２．３から２．５であり、
本発明においてはギ酸−アミン共沸混合物にアミンを添
加することにより、好適なギ酸／アミン比に調製するこ
とが望ましい。
【００１９】本発明の触媒としては、一般的に知られて
いる水素移動型不斉還元触媒が用いられる。触媒の一般
的な形態としては光学活性な配位子を有する遷移金属化
合物であり、これらの例としては、米国特許第４，０５
３，５２１号明細書、特開昭６２−２７３９８９号公
報、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．３８，Ｎｏ．
２，２１５（１９９７）、ＷＯ９７／２０７８９号公報
等に記載された触媒が例示される。遷移金属としてはル
テニウム、ロジウム、イリジウム、サマリウム等が例示
できるが、好ましくはルテニウムである。
いる水素移動型不斉還元触媒が用いられる。触媒の一般
的な形態としては光学活性な配位子を有する遷移金属化
合物であり、これらの例としては、米国特許第４，０５
３，５２１号明細書、特開昭６２−２７３９８９号公
報、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．３８，Ｎｏ．
２，２１５（１９９７）、ＷＯ９７／２０７８９号公報
等に記載された触媒が例示される。遷移金属としてはル
テニウム、ロジウム、イリジウム、サマリウム等が例示
できるが、好ましくはルテニウムである。
【００２０】配位子としては光学活性ホスフィン誘導
体、光学活性アミン誘導体、光学活性アミノホスフィン
誘導体、光学活性アミノアルコール誘導体、光学活性ア
ミノ酸誘導体等が知られており、これらの中、光学活性
１，２−ジフェニルエチレンジアミン誘導体が優れてい
る。一般的にはルテニウム化合物と光学活性配位子を塩
基の存在下若しくは不存在下に溶媒中で反応させること
により光学活性触媒を調製する。原料となるルテニウム
化合物としては［ＲｕＣｌ2 （ｃｙｍｅｎｅ）］2 、
［ＲｕＣｌ2 （ｍｅｓｉｔｙｌｅｎｅ）］2 、［ＲｕＣ
ｌ2 （ｂｅｎｚｅｎｅ）］2 等のルテニウムアレン錯
体、ＲｕＣｌ2 （ＰＰｈ3 ）等のルテニウムホスフィン
錯体等が挙げられる。調製された光学活性触媒はそれを
含む調製粗液の濃縮物として還元反応に供してもよい
が、好ましくは更に再結晶等の精製操作を行い、純粋な
光学活性錯体として反応に用いる。光学活性１，２−ジ
フェニルエチレンジアミン誘導体を配位子として有する
ルテニウム錯体の典型的な例はＷＯ９７／２０７８９号
公報に開示されている。典型的に用いられるルテニウム
アレン錯体、光学活性配位子及び光学活性ルテニウム錯
体を表−１、表−２及び表−３に示す。
体、光学活性アミン誘導体、光学活性アミノホスフィン
誘導体、光学活性アミノアルコール誘導体、光学活性ア
ミノ酸誘導体等が知られており、これらの中、光学活性
１，２−ジフェニルエチレンジアミン誘導体が優れてい
る。一般的にはルテニウム化合物と光学活性配位子を塩
基の存在下若しくは不存在下に溶媒中で反応させること
により光学活性触媒を調製する。原料となるルテニウム
化合物としては［ＲｕＣｌ2 （ｃｙｍｅｎｅ）］2 、
［ＲｕＣｌ2 （ｍｅｓｉｔｙｌｅｎｅ）］2 、［ＲｕＣ
ｌ2 （ｂｅｎｚｅｎｅ）］2 等のルテニウムアレン錯
体、ＲｕＣｌ2 （ＰＰｈ3 ）等のルテニウムホスフィン
錯体等が挙げられる。調製された光学活性触媒はそれを
含む調製粗液の濃縮物として還元反応に供してもよい
が、好ましくは更に再結晶等の精製操作を行い、純粋な
光学活性錯体として反応に用いる。光学活性１，２−ジ
フェニルエチレンジアミン誘導体を配位子として有する
ルテニウム錯体の典型的な例はＷＯ９７／２０７８９号
公報に開示されている。典型的に用いられるルテニウム
アレン錯体、光学活性配位子及び光学活性ルテニウム錯
体を表−１、表−２及び表−３に示す。
【００２１】
【表１】
【００２２】
【表２】
【００２３】
【表３】
【００２４】触媒量は基質により異なるが、基質／触媒
モル比（Ｓ／Ｃ）として１００〜１０００００、通常は
２００〜１００００で実施される。反応温度は、触媒に
よりその最適温度範囲が異なるため、特に限定されるも
のではないが、好ましくは、−２０〜１００℃の範囲で
実施する。実用的な反応速度と高いｅｅを得るためには
１０〜６０℃の範囲で実施することが更に好ましい。一
般に反応温度を上げると反応時間は短縮され、光学純度
は低下するが、反応の進行に応じて、若しくは最終段階
において温度を上昇させることは光学純度を維持しつつ
化学収率を向上させる方法として有効である。
モル比（Ｓ／Ｃ）として１００〜１０００００、通常は
２００〜１００００で実施される。反応温度は、触媒に
よりその最適温度範囲が異なるため、特に限定されるも
のではないが、好ましくは、−２０〜１００℃の範囲で
実施する。実用的な反応速度と高いｅｅを得るためには
１０〜６０℃の範囲で実施することが更に好ましい。一
般に反応温度を上げると反応時間は短縮され、光学純度
は低下するが、反応の進行に応じて、若しくは最終段階
において温度を上昇させることは光学純度を維持しつつ
化学収率を向上させる方法として有効である。
【００２５】本発明において製造される式（II）で示さ
れる光学活性アルコールの具体例としては、光学活性１
−フェニルエタノール、光学活性１−（３−クロロフェ
ニル）エタノール、光学活性１−（３−フルオロフェニ
ル）エタノール、光学活性１−（３−トリフルオロメチ
ルフェニル）エタノール、光学活性１−フェニルイソプ
ロパノール、光学活性１−フェニル−ｎ−プロパノー
ル、光学活性１−フェニル−ｎ−ブタノール、光学活性
１−インダノール、光学活性α−テトラロノール等が例
示される。
れる光学活性アルコールの具体例としては、光学活性１
−フェニルエタノール、光学活性１−（３−クロロフェ
ニル）エタノール、光学活性１−（３−フルオロフェニ
ル）エタノール、光学活性１−（３−トリフルオロメチ
ルフェニル）エタノール、光学活性１−フェニルイソプ
ロパノール、光学活性１−フェニル−ｎ−プロパノー
ル、光学活性１−フェニル−ｎ−ブタノール、光学活性
１−インダノール、光学活性α−テトラロノール等が例
示される。
【００２６】本発明においては反応終了後、アミンは反
応液からの直接蒸留により回収される。回収されたアミ
ンは反応に再利用できる。過剰添加して使用した反応液
中に残留するギ酸はアミンとの共沸混合物として回収で
き、同様に反応に再利用できる。従って、再利用できる
アミンには、アミン自体とギ酸−アミン共沸混合物の両
方が含まれる。必要に応じ触媒と生成物とを分離するこ
ともできる。分離法としては生成物の蒸留や再結晶が一
般的に行われる。
応液からの直接蒸留により回収される。回収されたアミ
ンは反応に再利用できる。過剰添加して使用した反応液
中に残留するギ酸はアミンとの共沸混合物として回収で
き、同様に反応に再利用できる。従って、再利用できる
アミンには、アミン自体とギ酸−アミン共沸混合物の両
方が含まれる。必要に応じ触媒と生成物とを分離するこ
ともできる。分離法としては生成物の蒸留や再結晶が一
般的に行われる。
【００２７】反応終了後に水と有機溶媒を加え抽出を行
うことは従来知られており、抽出によっても生成物のア
ルコールと反応試剤を分離することができる。有機溶媒
としては分液操作が行えるものであればよく、ヘキサ
ン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素溶媒、トルエ
ン、ベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒、エチルエーテ
ル、イソプロピルエーテル等のエーテル類、酢酸エチル
等のエステル類、ジクロロメタン、クロロホルム等の含
ハロゲン炭化水素溶媒が例示される。抽出された生成物
は蒸留、カラムクロマトグラフィー、再結晶等の一般的
な精製法により精製される。
うことは従来知られており、抽出によっても生成物のア
ルコールと反応試剤を分離することができる。有機溶媒
としては分液操作が行えるものであればよく、ヘキサ
ン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素溶媒、トルエ
ン、ベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒、エチルエーテ
ル、イソプロピルエーテル等のエーテル類、酢酸エチル
等のエステル類、ジクロロメタン、クロロホルム等の含
ハロゲン炭化水素溶媒が例示される。抽出された生成物
は蒸留、カラムクロマトグラフィー、再結晶等の一般的
な精製法により精製される。
【００２８】
【実施例】以下、実施例及び比較例を挙げて、更に詳細
に本発明について説明するが、本発明はその要旨を超え
ない限り、以下の実施例に制約されるものではない。な
お、実施例中、ｅｅはエナンチオマー過剰率を示し、Ｓ
／Ｃは触媒に対する基質のモル比を示す。
に本発明について説明するが、本発明はその要旨を超え
ない限り、以下の実施例に制約されるものではない。な
お、実施例中、ｅｅはエナンチオマー過剰率を示し、Ｓ
／Ｃは触媒に対する基質のモル比を示す。
【００２９】参考例１ 触媒調整方法 ［ＲｕＣｌ2 （ｃｙｍｅｎｅ）］2 （Ｍ−２）の合成 塩化ルテニウム水和物１０ｇにエタノール２００ｍｌ、
α−テルピネン４５ｍｌ、水２２ｍｌを加え、４時間加
熱還流した後、エタノールの大部分を減圧蒸留で除いて
濃縮した。濾過により得られた結晶をエタノールとヘキ
サンの１：１混合液で洗浄し、減圧乾燥したところ、赤
色の［ＲｕＣｌ2 （ｃｙｍｅｎｅ）］2１１．５ｇ（収
率９２％）を得た。
α−テルピネン４５ｍｌ、水２２ｍｌを加え、４時間加
熱還流した後、エタノールの大部分を減圧蒸留で除いて
濃縮した。濾過により得られた結晶をエタノールとヘキ
サンの１：１混合液で洗浄し、減圧乾燥したところ、赤
色の［ＲｕＣｌ2 （ｃｙｍｅｎｅ）］2１１．５ｇ（収
率９２％）を得た。
【００３０】（Ｓ，Ｓ）−ｐ−トルエンスルホニルジフ
ェニルエチレンジアミン（ＳＳ−ＴｓＤＰＥＮ、Ｌ−
２）の合成 （Ｓ，Ｓ）−ジフェニルエチレンジアミン１０．６ｇを
ジクロロメタン１００ｍｌに溶解してトリエチルアミン
７ｍｌを加え、ｐ−トルエンスルホニルクロリド９．５
ｇを水冷しながら少量ずつ添加した。室温で２時間撹拌
した後濾過して不溶物を取り除き、濾液に水５０ｍｌを
加えて振り混ぜ有機層を分取した。更に洗浄の操作を繰
り返した後、硫酸マグネシウムを加えて脱水し濃縮し
た。析出した結晶を濾別し、ジクロロメタンとヘキサン
の１：１混合液で洗浄して減圧乾燥したところ、白色の
（Ｓ，Ｓ）−ｐ−トルエンスルホニルジフェニルエチレ
ンジアミン１６．６ｇ（収率９０％）を得た。
ェニルエチレンジアミン（ＳＳ−ＴｓＤＰＥＮ、Ｌ−
２）の合成 （Ｓ，Ｓ）−ジフェニルエチレンジアミン１０．６ｇを
ジクロロメタン１００ｍｌに溶解してトリエチルアミン
７ｍｌを加え、ｐ−トルエンスルホニルクロリド９．５
ｇを水冷しながら少量ずつ添加した。室温で２時間撹拌
した後濾過して不溶物を取り除き、濾液に水５０ｍｌを
加えて振り混ぜ有機層を分取した。更に洗浄の操作を繰
り返した後、硫酸マグネシウムを加えて脱水し濃縮し
た。析出した結晶を濾別し、ジクロロメタンとヘキサン
の１：１混合液で洗浄して減圧乾燥したところ、白色の
（Ｓ，Ｓ）−ｐ−トルエンスルホニルジフェニルエチレ
ンジアミン１６．６ｇ（収率９０％）を得た。
【００３１】光学活性ルテニウム錯体（ＳＳ−ＴｓＤＰ
ＥＮ−Ｒｕ、Ｃ−１）の合成 ［ＲｕＣｌ2 （ｃｙｍｅｎｅ）］2 ７．６６ｇと（Ｓ
Ｓ）−ｐ−トルエンスルホニルジフェニルエチレンジア
ミン９．１６ｇに２−プロパノール１５０ｍｌとトリエ
チルアミン７ｍｌを加え、窒素下８０℃で１時間撹拌し
た。氷冷して析出した結晶を濾過し、２−プロパノール
とヘキサンの１：１混合液で洗浄した。更に水で洗浄し
減圧乾燥してオレンジ色の結晶１２．６ｇ（収率７９
％）を得た。結晶を除いた後の濾液を濃縮後ジクロロメ
タン３０ｍｌを加え、生成した白色の塩を更に濾過によ
り除き、得られた濾液を濃縮して得た褐色固体を水で洗
浄し減圧乾燥したところ、茶褐色の結晶５．３ｇを得
た。これに２−プロパノール５０ｍｌを加えて８０℃で
１０分窒素下で加熱撹拌し、冷却後析出した結晶を濾過
して２−プロパノールとヘキサンの１：１混合液で洗浄
し減圧乾燥したところ、オレンジ色の結晶１．９ｇ（収
率１２％、合計収率９１％）を得た。
ＥＮ−Ｒｕ、Ｃ−１）の合成 ［ＲｕＣｌ2 （ｃｙｍｅｎｅ）］2 ７．６６ｇと（Ｓ
Ｓ）−ｐ−トルエンスルホニルジフェニルエチレンジア
ミン９．１６ｇに２−プロパノール１５０ｍｌとトリエ
チルアミン７ｍｌを加え、窒素下８０℃で１時間撹拌し
た。氷冷して析出した結晶を濾過し、２−プロパノール
とヘキサンの１：１混合液で洗浄した。更に水で洗浄し
減圧乾燥してオレンジ色の結晶１２．６ｇ（収率７９
％）を得た。結晶を除いた後の濾液を濃縮後ジクロロメ
タン３０ｍｌを加え、生成した白色の塩を更に濾過によ
り除き、得られた濾液を濃縮して得た褐色固体を水で洗
浄し減圧乾燥したところ、茶褐色の結晶５．３ｇを得
た。これに２−プロパノール５０ｍｌを加えて８０℃で
１０分窒素下で加熱撹拌し、冷却後析出した結晶を濾過
して２−プロパノールとヘキサンの１：１混合液で洗浄
し減圧乾燥したところ、オレンジ色の結晶１．９ｇ（収
率１２％、合計収率９１％）を得た。
【００３２】実施例１ ギ酸１３５ｇ（２．９３ｍＭ）とトリエチルアミン１１
８ｇ（１．１７ｍＭ）を混合した溶液を減圧下に蒸留す
ることにより、４５ｍｍＨｇで沸点１１９℃の留分を共
沸混合物（以下、ＴＥＡＦと略記する）１３７ｇを得
た。ＮＭＲにより分析したところ、ＴＥＡＦ中のギ酸と
トリエチルアミンのモル比はほぼ５：２であった。
８ｇ（１．１７ｍＭ）を混合した溶液を減圧下に蒸留す
ることにより、４５ｍｍＨｇで沸点１１９℃の留分を共
沸混合物（以下、ＴＥＡＦと略記する）１３７ｇを得
た。ＮＭＲにより分析したところ、ＴＥＡＦ中のギ酸と
トリエチルアミンのモル比はほぼ５：２であった。
【００３３】［ＲｕＣｌ2 （ｃｙｍｅｎｅ）］2 １２．
４ｍｇ（０．０２ｍＭ）とｐ−トルエンスルホニルジフ
ェニルエチレンジアミン１４．７ｍｇ（０．００８ｍ
Ｍ）に、水素化カルシウムを加えて脱水蒸留した２−プ
ロパノール２ｍｌとトリエチルアミン１１．２μｌ
（０．０８ｍＭ）を加え、８０℃で１時間、窒素下で加
熱撹拌した（以下、触媒液と称する）。
４ｍｇ（０．０２ｍＭ）とｐ−トルエンスルホニルジフ
ェニルエチレンジアミン１４．７ｍｇ（０．００８ｍ
Ｍ）に、水素化カルシウムを加えて脱水蒸留した２−プ
ロパノール２ｍｌとトリエチルアミン１１．２μｌ
（０．０８ｍＭ）を加え、８０℃で１時間、窒素下で加
熱撹拌した（以下、触媒液と称する）。
【００３４】触媒液０．３ｍｌ（０．００６ｍＭ）を容
積１０ｍｌのフラスコに加え、室温で減圧して溶媒を除
去し赤色固体を得た。ここにＴＥＡＦ１．０ｍｌとトリ
エチルアミン０．５ｍｌを加えた（ギ酸／トリエチルア
ミン＝１．４３）。更にｍ−トリフルオロメチルアセト
フェノン０．５６４ｇ（３．０ｍＭ、Ｓ／Ｃ５００）を
加えて室温で２５時間撹拌し、反応液をＨＰＬＣで分析
したところ、化学収率９７．８％、ｅｅ９２．２％で目
的のＳ−１−（３−トリフルオロメチルフェニル）エタ
ノールが得られた。
積１０ｍｌのフラスコに加え、室温で減圧して溶媒を除
去し赤色固体を得た。ここにＴＥＡＦ１．０ｍｌとトリ
エチルアミン０．５ｍｌを加えた（ギ酸／トリエチルア
ミン＝１．４３）。更にｍ−トリフルオロメチルアセト
フェノン０．５６４ｇ（３．０ｍＭ、Ｓ／Ｃ５００）を
加えて室温で２５時間撹拌し、反応液をＨＰＬＣで分析
したところ、化学収率９７．８％、ｅｅ９２．２％で目
的のＳ−１−（３−トリフルオロメチルフェニル）エタ
ノールが得られた。
【００３５】実施例２〜５及び比較例１ ギ酸とトリエチルアミンの比を以下の様に変えた他は実
施例１と同様に室温で２５時間の反応を行ったところ、
表−４に示すような化学収率及びｅｅで目的の光学活性
アルコールが得られた。
施例１と同様に室温で２５時間の反応を行ったところ、
表−４に示すような化学収率及びｅｅで目的の光学活性
アルコールが得られた。
【００３６】
【表４】 Ｅｔ3 Ｎ：トリエチルアミン
【００３７】実施例６ 容積３００ｍｌの四つ口フラスコにＴＥＡＦ１０９ｇ、
トリエチルアミン２４．６ｇ（ギ酸１．２６ｍｏｌ、ト
リエチルアミン合計０．７５ｍｏｌ、ＨＣＯ2Ｈ／Ｅｔ
3 Ｎ＝１．６９）、ｍ−トリフルオロメチルアセトフェ
ノン１０５ｇ（５５８ｍＭ）を加えた。ＳＳ−ＴｓＤＰ
ＥＮ−Ｒｕ４９４ｇ（０．７７７ｍＭ）をＤＭＦ３ｍｌ
に溶かし、反応液に加えたところ、直ちに発泡が始まっ
た。温度を３０℃に保ち、光学活性ガスクロマトグラフ
ィーで追跡しながら反応を行い、２５時間で転化率９９
％に達した。反応終了後、イソプロピルエーテル７４
ｇ、１規定塩酸６６ｇを加え撹拌した後静置した。下水
層を分液し、油層を更に２５重量％食塩水７９ｇで洗浄
した。油層に無水硫酸マグネシウム１３ｇを加え脱水し
た後、濾過により塩を除いた。濾液を濃縮し、更に減圧
蒸留を行い、１７ｍｍＨｇ、１００〜１０２℃で目的の
Ｓ−１−（３−トリフルオロメチルフェニル）エタノー
ルを化学収率９５％、ｅｅ９３％で得た。
トリエチルアミン２４．６ｇ（ギ酸１．２６ｍｏｌ、ト
リエチルアミン合計０．７５ｍｏｌ、ＨＣＯ2Ｈ／Ｅｔ
3 Ｎ＝１．６９）、ｍ−トリフルオロメチルアセトフェ
ノン１０５ｇ（５５８ｍＭ）を加えた。ＳＳ−ＴｓＤＰ
ＥＮ−Ｒｕ４９４ｇ（０．７７７ｍＭ）をＤＭＦ３ｍｌ
に溶かし、反応液に加えたところ、直ちに発泡が始まっ
た。温度を３０℃に保ち、光学活性ガスクロマトグラフ
ィーで追跡しながら反応を行い、２５時間で転化率９９
％に達した。反応終了後、イソプロピルエーテル７４
ｇ、１規定塩酸６６ｇを加え撹拌した後静置した。下水
層を分液し、油層を更に２５重量％食塩水７９ｇで洗浄
した。油層に無水硫酸マグネシウム１３ｇを加え脱水し
た後、濾過により塩を除いた。濾液を濃縮し、更に減圧
蒸留を行い、１７ｍｍＨｇ、１００〜１０２℃で目的の
Ｓ−１−（３−トリフルオロメチルフェニル）エタノー
ルを化学収率９５％、ｅｅ９３％で得た。
【００３８】実施例７ ＴＥＡＦ２ｍｌ、トリエチルアミン２ｍｌ（ギ酸／トリ
エチルアミン０．９８）、ｍ−トリフルオロメチルアセ
トフェノン（以下、ＭＴＦＡと略記する）３．７７ｇ
（２０ｍＭ、ギ酸／ＭＴＦＡ＝１．１６）を混合し、こ
こにＳＳ−ＴｓＤＰＥＮ−Ｒｕの１モル濃度ＤＭＦ溶液
０．１ｍｌ（Ｓ／Ｃ２０００）を加え、５０℃で５時間
撹拌した。反応液を光学活性ガスクロマトグラフィーで
分析したところ、化学収率９６．２％、ｅｅ９１．２％
で目的のＳ−１−（３−トリフルオロメチルフェニル）
エタノール（以下Ｓ−ＢＡと略記する）が得られた。
エチルアミン０．９８）、ｍ−トリフルオロメチルアセ
トフェノン（以下、ＭＴＦＡと略記する）３．７７ｇ
（２０ｍＭ、ギ酸／ＭＴＦＡ＝１．１６）を混合し、こ
こにＳＳ−ＴｓＤＰＥＮ−Ｒｕの１モル濃度ＤＭＦ溶液
０．１ｍｌ（Ｓ／Ｃ２０００）を加え、５０℃で５時間
撹拌した。反応液を光学活性ガスクロマトグラフィーで
分析したところ、化学収率９６．２％、ｅｅ９１．２％
で目的のＳ−１−（３−トリフルオロメチルフェニル）
エタノール（以下Ｓ−ＢＡと略記する）が得られた。
【００３９】実施例８〜１３ ギ酸とトリエチルアミンの比を以下の様に変えた他は実
施例７と同様に５０℃で５時間の反応を行ったところ、
表−５に示すような化学収率及びｅｅでＳ−ＢＡが得ら
れた。
施例７と同様に５０℃で５時間の反応を行ったところ、
表−５に示すような化学収率及びｅｅでＳ−ＢＡが得ら
れた。
【００４０】
【表５】
【００４１】実施例１４ ２０ｍＬ二つ口フラスコにＲｕ触媒ＳＳ−ＴｓＤＰＥＮ
−Ｒｕを０．８９１ｇ（１．４０ｍｍｏｌ）秤り取り、
窒素下でＤＭＦ７．０ｍＬを加えて触媒溶液を調製し
た。１Ｌ三つ口フラスコにトリエチルアミン２８２．３
ｇ（２．７９ｍｏｌ）を入れ、窒素流通下でギ酸（９９
％）１３３．９ｇ（２．８８ｍｏｌ）を冷却しながら少
量づつ加えた。室温に戻してＭＴＦＡ５００．０ｇ
（２．６６ｍｏｌ）と触媒溶液６．６５ｍｌ（１．３３
ｍｍｏｌ）を加え、バス温５０℃で窒素流通下２４時間
撹拌したところ、化学収率９９．６％、ｅｅ９０．７％
でＳ−ＢＡを得た。この反応溶液を減圧下で蒸留し、沸
点３７〜４０℃／３０〜１４７ｍｍＨｇでトリエチルア
ミン２５０ｇを回収し（回収率９５％）、沸点９４℃／
１１ｍｍＨｇでＳ−ＢＡ４７７ｇ（回収率９７％）をｅ
ｅ８９．８％で得た。
−Ｒｕを０．８９１ｇ（１．４０ｍｍｏｌ）秤り取り、
窒素下でＤＭＦ７．０ｍＬを加えて触媒溶液を調製し
た。１Ｌ三つ口フラスコにトリエチルアミン２８２．３
ｇ（２．７９ｍｏｌ）を入れ、窒素流通下でギ酸（９９
％）１３３．９ｇ（２．８８ｍｏｌ）を冷却しながら少
量づつ加えた。室温に戻してＭＴＦＡ５００．０ｇ
（２．６６ｍｏｌ）と触媒溶液６．６５ｍｌ（１．３３
ｍｍｏｌ）を加え、バス温５０℃で窒素流通下２４時間
撹拌したところ、化学収率９９．６％、ｅｅ９０．７％
でＳ−ＢＡを得た。この反応溶液を減圧下で蒸留し、沸
点３７〜４０℃／３０〜１４７ｍｍＨｇでトリエチルア
ミン２５０ｇを回収し（回収率９５％）、沸点９４℃／
１１ｍｍＨｇでＳ−ＢＡ４７７ｇ（回収率９７％）をｅ
ｅ８９．８％で得た。
【００４２】実施例１５ 実施例１４にて回収したトリエチルアミン３．１９ｇ
（３１．５ｍＭ）、ギ酸１．６４ｇ（３５．５ｍＭ）、
ＭＴＦＡ５．６４ｇ（３０ｍＭ）を混合し、ＳＳ−Ｔｓ
ＤＰＥＮ−Ｒｕ０．１モル濃度ＤＭＦ溶液０．１ｍｌ
（Ｓ／Ｃ３０００）を加えて５０℃で２４時間撹拌した
ところ、Ｓ−ＢＡを化学収率９９．９％、ｅｅ９２．４
％で得た。
（３１．５ｍＭ）、ギ酸１．６４ｇ（３５．５ｍＭ）、
ＭＴＦＡ５．６４ｇ（３０ｍＭ）を混合し、ＳＳ−Ｔｓ
ＤＰＥＮ−Ｒｕ０．１モル濃度ＤＭＦ溶液０．１ｍｌ
（Ｓ／Ｃ３０００）を加えて５０℃で２４時間撹拌した
ところ、Ｓ−ＢＡを化学収率９９．９％、ｅｅ９２．４
％で得た。
【００４３】実施例１６ １０ｍｌ三つ口フラスコにＳＳ−ＴｓＤＰＥＮ−Ｒｕ
１．７ｍｇ（２．６７μＭ）、ＭＴＦＡ１．０ｇ（５．
４ｍＭ）、トリエチルアミン０．１９ｍｌ（１．３ｍ
Ｍ）を混合した。反応液を５０℃で撹拌しながら、ギ酸
０．０５ｍｌ（１．３ｍＭ）を加えた。反応をガスクロ
マトグラフィーで追跡しながら、１時間おきに同量のギ
酸を四回追加し、合成０．２５ｍｌのギ酸を４時間で追
加した。５時間後、Ｓ−ＢＡが化学収率９８．３％、ｅ
ｅ８９．５％で得られた。なお、この実施例におけるギ
酸投入量及び系内のギ酸／アミン比の推移を表−６に示
す。
１．７ｍｇ（２．６７μＭ）、ＭＴＦＡ１．０ｇ（５．
４ｍＭ）、トリエチルアミン０．１９ｍｌ（１．３ｍ
Ｍ）を混合した。反応液を５０℃で撹拌しながら、ギ酸
０．０５ｍｌ（１．３ｍＭ）を加えた。反応をガスクロ
マトグラフィーで追跡しながら、１時間おきに同量のギ
酸を四回追加し、合成０．２５ｍｌのギ酸を４時間で追
加した。５時間後、Ｓ−ＢＡが化学収率９８．３％、ｅ
ｅ８９．５％で得られた。なお、この実施例におけるギ
酸投入量及び系内のギ酸／アミン比の推移を表−６に示
す。
【００４４】
【表６】
【００４５】
【発明の効果】本発明によれば、光学活性アルコールを
より少ない触媒量で高い化学収率で且つ高いｅｅで製造
することができ、その工業的製造において有利である。
より少ない触媒量で高い化学収率で且つ高いｅｅで製造
することができ、その工業的製造において有利である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｍ 7:00
Claims (3)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は、互いに異なり、置換基を有し
ていてもよい芳香族炭化水素基、飽和若しくは不飽和の
脂肪族炭化水素基、環式脂肪族炭化水素基又は複素環基
を表す。また、Ｒ1 及びＲ2 が結合して環を形成しても
よい）で示されるケトン類を、遷移金属触媒及び第三級
アミン類の存在下、ギ酸を水素供与体とする水素移動型
不斉還元反応により還元する際、アミンに対する反応系
に存在するギ酸のモル比が２．２以下の範囲内で反応を
行うことを特徴とする一般式（II） 【化２】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は式（Ｉ）と同義である）で示さ
れる光学活性アルコールの製造方法。 - 【請求項２】 一般式（Ｉ）において、Ｒ1 及びＲ2 の
何れか一方が、炭素数１ないし４のアルキル基であり、
他方が、ＸｎＡｒ−基（式中、Ａｒは芳香族炭化水素基
又は複素環基を表し、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、
炭素数１ないし４のアルキル基、炭素数１ないし４のハ
ロアルキル基、炭素数１ないし４のアルコキシ基、炭素
数１ないし４のハロアルコキシ基、炭素数１ないし４の
アルキルチオ基、炭素数２ないし６のアルキニルオキシ
基、シアノ基、ニトロ基又はアリール基を表し、ｎは、
１ないし３の整数を表す。但し、ｎが２又は３であると
き、Ｘは同一でも異なっていてもよく、また隣接する二
つのＸが合体してＡｒと縮合環を形成してもよい）であ
ることを特徴とする請求項１に記載の光学活性アルコー
ルの製造方法。 - 【請求項３】 反応終了後に得られる反応液よりアミン
を回収し、このアミンを反応系にリサイクルすることを
特徴とする請求項１又は２に記載の光学活性アルコール
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10303951A JPH11322649A (ja) | 1998-03-16 | 1998-10-26 | 光学活性アルコールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10-64994 | 1998-03-16 | ||
| JP6499498 | 1998-03-16 | ||
| JP10303951A JPH11322649A (ja) | 1998-03-16 | 1998-10-26 | 光学活性アルコールの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11322649A true JPH11322649A (ja) | 1999-11-24 |
Family
ID=26406141
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10303951A Pending JPH11322649A (ja) | 1998-03-16 | 1998-10-26 | 光学活性アルコールの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11322649A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002080429A (ja) * | 2000-06-21 | 2002-03-19 | Daikin Ind Ltd | 光学活性な含フッ素β−ヒドロキシエステルの製造方法、光学活性な含フッ素アルコール類の製造方法及び光学活性な含フッ素２−ヒドロキシアルカンアミド又は／及び光学活性な含フッ素アルコールの製造方法、並びに光学活性な含フッ素乳酸又はその誘導体の製造方法 |
| JP2002179628A (ja) * | 2000-12-08 | 2002-06-26 | Daiichi Fine Chemical Co Ltd | 光学活性ジアミン誘導体の製造法 |
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