JPH11322642A - モノおよび/またはビス(モノおよび/またはジおよび/またはトリクロロメチル)ベンゼンの連続製造方法 - Google Patents
モノおよび/またはビス(モノおよび/またはジおよび/またはトリクロロメチル)ベンゼンの連続製造方法Info
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- JPH11322642A JPH11322642A JP11103247A JP10324799A JPH11322642A JP H11322642 A JPH11322642 A JP H11322642A JP 11103247 A JP11103247 A JP 11103247A JP 10324799 A JP10324799 A JP 10324799A JP H11322642 A JPH11322642 A JP H11322642A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
- C07C17/10—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of hydrogen atoms
- C07C17/14—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of hydrogen atoms in the side-chain of aromatic compounds
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- C07C19/01—Acyclic saturated compounds containing halogen atoms containing chlorine
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 対応するモノまたはジメチルベンゼンを複数
の反応器中でカスケード状に徐々に塩素化する、ベンゼ
ン環がハロゲン原子で置換されていてもよいモノおよび
/またはビス(モノおよび/またはジおよび/またはト
リクロロメチル)ベンゼンの連続製造方法。 【解決手段】 第一反応器の体積を他の各反応器の体積
より大きくし、他の反応器からの全て流出流を第一反応
器へ送る。
の反応器中でカスケード状に徐々に塩素化する、ベンゼ
ン環がハロゲン原子で置換されていてもよいモノおよび
/またはビス(モノおよび/またはジおよび/またはト
リクロロメチル)ベンゼンの連続製造方法。 【解決手段】 第一反応器の体積を他の各反応器の体積
より大きくし、他の反応器からの全て流出流を第一反応
器へ送る。
Description
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、モノおよび/また
はビス(モノおよび/またはジおよび/またはトリクロ
ロメチル)ベンゼンの連続製造方法に関するものであ
る。
はビス(モノおよび/またはジおよび/またはトリクロ
ロメチル)ベンゼンの連続製造方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】モノおよび/またはビス(モノおよび/
またはジおよび/またはトリクロロメチル)ベンゼンは
殺虫剤、着色材、除草剤およびプラスチック用添加剤
(紫外線安定剤)の製造における重要な中間体である。
またはジおよび/またはトリクロロメチル)ベンゼンは
殺虫剤、着色材、除草剤およびプラスチック用添加剤
(紫外線安定剤)の製造における重要な中間体である。
【0003】この塩素化中間体を得るための従来法はメ
チルベンゼンの塩素化を化学的にまたは光化学的に開始
させる方法である。この反応は一般に塩素ガスを用いて
工業的に実施されている。この反応は気/液反応である
ので全反応速度は化学反応速度と物理速度すなわち塩素
ガスの拡散速度とで支配される。化学反応速度は主とし
てベンゼンへの置換基の種類と反応開始方法とに依存す
る。
チルベンゼンの塩素化を化学的にまたは光化学的に開始
させる方法である。この反応は一般に塩素ガスを用いて
工業的に実施されている。この反応は気/液反応である
ので全反応速度は化学反応速度と物理速度すなわち塩素
ガスの拡散速度とで支配される。化学反応速度は主とし
てベンゼンへの置換基の種類と反応開始方法とに依存す
る。
【0004】これはラジカル連鎖反応で、その収率は塩
素化段階、すなわち出発材料の−CH3から塩化物−C
H2Clを作る段階から、二塩化化合物−CHCl2を
作る段階、最後の三塩化物−CCl3を作る段階になる
につれて大きく低下する。また、反応の最後には置換可
能な−CH3の水素原子の比率が相対的に少なくなる
と、環の塩素化等の副反応が起こることがある。これら
副反応は塩素量が増加し、十分量なラジカル種が存在し
ない時、特に増加する。
素化段階、すなわち出発材料の−CH3から塩化物−C
H2Clを作る段階から、二塩化化合物−CHCl2を
作る段階、最後の三塩化物−CCl3を作る段階になる
につれて大きく低下する。また、反応の最後には置換可
能な−CH3の水素原子の比率が相対的に少なくなる
と、環の塩素化等の副反応が起こることがある。これら
副反応は塩素量が増加し、十分量なラジカル種が存在し
ない時、特に増加する。
【0005】フランス特許出願第2,156,911号
に記載のトリクロロメチルベンゼンの製造法では、上記
の欠点を解決するたに、余剰塩素を窒素等の不活性ガス
で希釈して好ましくない副反応を減少させている。この
特許ではさらに、未塩素化中間体の塩素化を完了させる
ために滞留時間(接触触媒時間)を長くしている。
に記載のトリクロロメチルベンゼンの製造法では、上記
の欠点を解決するたに、余剰塩素を窒素等の不活性ガス
で希釈して好ましくない副反応を減少させている。この
特許ではさらに、未塩素化中間体の塩素化を完了させる
ために滞留時間(接触触媒時間)を長くしている。
【0006】しかし、この方法には欠点がある。すなわ
ち、多量の過剰塩素を不活性ガスと一緒に反応流体中に
送らなければならず、反応中に製造した塩酸ガスを回収
する場合や分解操作あるいは第二の塩素化プラントでそ
れを使用する場合に、多量の反応流体を連続的に処理し
なければならないという欠点がある。このフランス特許
出願第2,156,911号では2つのセクションに分
けた反応器をカスケードにしてトルエンを光化学的に塩
素化する。
ち、多量の過剰塩素を不活性ガスと一緒に反応流体中に
送らなければならず、反応中に製造した塩酸ガスを回収
する場合や分解操作あるいは第二の塩素化プラントでそ
れを使用する場合に、多量の反応流体を連続的に処理し
なければならないという欠点がある。このフランス特許
出願第2,156,911号では2つのセクションに分
けた反応器をカスケードにしてトルエンを光化学的に塩
素化する。
【0007】5つの反応器から成る第一セクションには
トルエン1モルにつき2.3〜2.9モル、すなわちト
リクロロメチルベンゼンを製造するのに必要な理論塩素
量の86〜96%の塩素を注入する。次いで、得られた
混合物は4つの反応器から成る第二セクションで塩素化
する。余剰塩素は不活性ガスで希釈されている。最終反
応器からの流れは第一セクションの最初の反応器へ送
る。排出されるHCLの塩素含有率は1%以下である。
第二セクションの最終反応器は2つのセクションのそれ
以前の反応器全ての容積の2〜3倍の容積を有してい
る。
トルエン1モルにつき2.3〜2.9モル、すなわちト
リクロロメチルベンゼンを製造するのに必要な理論塩素
量の86〜96%の塩素を注入する。次いで、得られた
混合物は4つの反応器から成る第二セクションで塩素化
する。余剰塩素は不活性ガスで希釈されている。最終反
応器からの流れは第一セクションの最初の反応器へ送
る。排出されるHCLの塩素含有率は1%以下である。
第二セクションの最終反応器は2つのセクションのそれ
以前の反応器全ての容積の2〜3倍の容積を有してい
る。
【0008】しかし、この装置では副産物を十分に除去
することができない。得られた最終製造物は環が塩素化
された副産物を約5%含む。
することができない。得られた最終製造物は環が塩素化
された副産物を約5%含む。
【0009】米国特許第4,056,455号には10
個の反応器でカスケード状に反応させるトルエンの連続
光塩素化方法が記載されている。トルエンは第一反応器
に導入し、反応器2〜9には所定量の塩素ガスを供給す
る。塩素を多く含む反応器5〜10からの流れは反応器
2および3へ戻す。同様に、反応器2〜4からの流れは
高濃度のトルエンを含む反応器1へ導入してHCl中に
含まれる塩素の大部分を変換する。
個の反応器でカスケード状に反応させるトルエンの連続
光塩素化方法が記載されている。トルエンは第一反応器
に導入し、反応器2〜9には所定量の塩素ガスを供給す
る。塩素を多く含む反応器5〜10からの流れは反応器
2および3へ戻す。同様に、反応器2〜4からの流れは
高濃度のトルエンを含む反応器1へ導入してHCl中に
含まれる塩素の大部分を変換する。
【0010】しかし、この方法はかなりの量、2%まで
量の塩素を含むことが分かっている。このような多量な
量の塩素が存在すると、水で塩酸を洗浄する際に随伴さ
れるメチルベンゼン環の塩素化が起こり、塩酸溶液の品
質が悪くなる。すなわち、メチルクロロベンゼン(重質
生成物)をストリッピングで除去するのが難しく、それ
らを含む相の再循環は不可能である。また、10個の反
応器は、この特許の図1の概念図に示すように、同じに
表されている。すなわち、反応器の大きさが異なると予
想させるものは何もない。
量の塩素を含むことが分かっている。このような多量な
量の塩素が存在すると、水で塩酸を洗浄する際に随伴さ
れるメチルベンゼン環の塩素化が起こり、塩酸溶液の品
質が悪くなる。すなわち、メチルクロロベンゼン(重質
生成物)をストリッピングで除去するのが難しく、それ
らを含む相の再循環は不可能である。また、10個の反
応器は、この特許の図1の概念図に示すように、同じに
表されている。すなわち、反応器の大きさが異なると予
想させるものは何もない。
【0011】また、酸素はラジカル反応、特に芳香族お
よび脂肪族有機化合物の塩素化反応に作用することが一
般に知られている。この作用は反応促進に好ましい場合
も、好ましくない場合もある。Serguchav Jv. A 達(Zh
urnal org. khim, (1983)XIX, Vol. 5, p. 1020-1023)
はトルエンの側鎖のラジカル塩素化速度における酸素の
作用を研究している。その結果、十分に脱酸素化したト
ルエンを用い、90℃〜130℃の温度で、塩素を0.
02重量%の範囲のO2含有物と一緒に用いて反応を実
施することによって、26時間後に化学開始剤や光線無
しにトルエンのトリクロロメチルベンゼンへの塩素化が
95%の収率で起こることを示している。
よび脂肪族有機化合物の塩素化反応に作用することが一
般に知られている。この作用は反応促進に好ましい場合
も、好ましくない場合もある。Serguchav Jv. A 達(Zh
urnal org. khim, (1983)XIX, Vol. 5, p. 1020-1023)
はトルエンの側鎖のラジカル塩素化速度における酸素の
作用を研究している。その結果、十分に脱酸素化したト
ルエンを用い、90℃〜130℃の温度で、塩素を0.
02重量%の範囲のO2含有物と一緒に用いて反応を実
施することによって、26時間後に化学開始剤や光線無
しにトルエンのトリクロロメチルベンゼンへの塩素化が
95%の収率で起こることを示している。
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は上記従
来法の欠点のないモノおよび/またはビス(モノおよび
/またはジおよび/またはトリクロロメチル)ベンゼン
の連続製造方法を提供することにある。
来法の欠点のないモノおよび/またはビス(モノおよび
/またはジおよび/またはトリクロロメチル)ベンゼン
の連続製造方法を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明者は、対応するモ
ノまたはジメチルベンゼンを複数の反応器中でカスケー
ド状に徐々に塩素化する、ベンゼン環がハロゲン原子で
置換されていてもよいモノおよび/またはビス(モノお
よび/またはジおよび/またはトリクロロメチル)ベン
ゼンの連続製造方法において、第一反応器の体積を他の
各反応器の体積より大きくし、他の反応器からの全て流
出流を第一反応器へ送ることを特徴とする方法を見い出
した。
ノまたはジメチルベンゼンを複数の反応器中でカスケー
ド状に徐々に塩素化する、ベンゼン環がハロゲン原子で
置換されていてもよいモノおよび/またはビス(モノお
よび/またはジおよび/またはトリクロロメチル)ベン
ゼンの連続製造方法において、第一反応器の体積を他の
各反応器の体積より大きくし、他の反応器からの全て流
出流を第一反応器へ送ることを特徴とする方法を見い出
した。
【0013】
【発明の実施の形態】本発明方法では、光照射下に50
℃〜180℃、好ましくは75℃〜145℃の温度で反
応を実施する。また、ガス(塩素+HCl)中に50v
pm以下、好ましくは20vpm以下の量で酸素が存在
する状態で反応を実施する。本発明では、第一反応器に
導入するモノまたはジメチルベンゼンは予め共沸乾燥で
脱酸素化するか、または(好ましくは)第一反応器から
出る主として塩酸から成るガス流でストリッピッングし
て脱酸素化する。
℃〜180℃、好ましくは75℃〜145℃の温度で反
応を実施する。また、ガス(塩素+HCl)中に50v
pm以下、好ましくは20vpm以下の量で酸素が存在
する状態で反応を実施する。本発明では、第一反応器に
導入するモノまたはジメチルベンゼンは予め共沸乾燥で
脱酸素化するか、または(好ましくは)第一反応器から
出る主として塩酸から成るガス流でストリッピッングし
て脱酸素化する。
【0014】第一反応器の体積は他の反応器の体積より
大きい。塩素ガスは当業者に周知な一般的手段、例えば
脱気によって精製する。いわゆるメンブレン電解法等の
酸素をほとんど含まない塩素製造方法からの塩素を再蒸
発して用いることもできる。本発明では、第一反応器の
体積は第二反応器の体積の1.5倍〜2倍にし、必要に
応じて第三反応器の体積の2.5倍〜3倍、他の反応器
の体積の8〜10倍にする。
大きい。塩素ガスは当業者に周知な一般的手段、例えば
脱気によって精製する。いわゆるメンブレン電解法等の
酸素をほとんど含まない塩素製造方法からの塩素を再蒸
発して用いることもできる。本発明では、第一反応器の
体積は第二反応器の体積の1.5倍〜2倍にし、必要に
応じて第三反応器の体積の2.5倍〜3倍、他の反応器
の体積の8〜10倍にする。
【0015】反応器数は塩素化の程度および製品に必要
な規格に依存して大きく変化する。モノまたはビス(ト
リクロロメチル)ベンゼンを得る場合には少なくとも5
つ、好ましくは6つの反応器を用いる。この構成では1
番目以外の全ての反応器に新しい塩素を供給する。モノ
またはビス(モノまたはジクロロメチル)ベンゼンを得
たい場合には2または3個の反応器を用いる。この構成
では全ての反応器に新しい塩素ガスを供給することがで
きる。
な規格に依存して大きく変化する。モノまたはビス(ト
リクロロメチル)ベンゼンを得る場合には少なくとも5
つ、好ましくは6つの反応器を用いる。この構成では1
番目以外の全ての反応器に新しい塩素を供給する。モノ
またはビス(モノまたはジクロロメチル)ベンゼンを得
たい場合には2または3個の反応器を用いる。この構成
では全ての反応器に新しい塩素ガスを供給することがで
きる。
【0016】本発明では光照射源として1〜15kW、
好ましくは3〜10kWの水銀灯を用いる。反応器1つ
当たりの水銀灯の数は出力に応じて大きな幅で変化す
る。この数は反応器当たり1〜5にすることができる。
水銀灯は反応混合物中に浸漬しているのが好ましい。
好ましくは3〜10kWの水銀灯を用いる。反応器1つ
当たりの水銀灯の数は出力に応じて大きな幅で変化す
る。この数は反応器当たり1〜5にすることができる。
水銀灯は反応混合物中に浸漬しているのが好ましい。
【0017】本発明では第一反応器(単数または複数)
は一般的な反応器で、必要に応じてバッフルを備え、そ
れによってガス流を撹拌する。反応器は上部が支持され
た反応器全体を垂直に貫通する少なくとも一つの軸線方
向の水銀灯を備えている。液体および塩素は底部に導入
し、反応器の上部へ上昇させ、そこから排出する。
は一般的な反応器で、必要に応じてバッフルを備え、そ
れによってガス流を撹拌する。反応器は上部が支持され
た反応器全体を垂直に貫通する少なくとも一つの軸線方
向の水銀灯を備えている。液体および塩素は底部に導入
し、反応器の上部へ上昇させ、そこから排出する。
【0018】塩素化で発生する反応熱は任意の公知手
段、ジャケット内を循環する連続冷却水流や反応器の内
側または外側に設けられた交換機、或いは最も揮発性し
易い化合物の蒸発等で反応器から除去される。一般に反
応は大気圧下で実施するのが好ましい。より高いまたは
低い圧力を用いることもできるが、一般にはプロセスに
いかなる実質的変化ももたらさない。圧力は各反応器内
で用いられる温度で、塩素が常にガス状であるように選
択するのが好ましい。本発明では温度は各反応器で同じ
でも違っていてもよいが、50℃〜180℃、好ましく
は75℃〜145℃である。
段、ジャケット内を循環する連続冷却水流や反応器の内
側または外側に設けられた交換機、或いは最も揮発性し
易い化合物の蒸発等で反応器から除去される。一般に反
応は大気圧下で実施するのが好ましい。より高いまたは
低い圧力を用いることもできるが、一般にはプロセスに
いかなる実質的変化ももたらさない。圧力は各反応器内
で用いられる温度で、塩素が常にガス状であるように選
択するのが好ましい。本発明では温度は各反応器で同じ
でも違っていてもよいが、50℃〜180℃、好ましく
は75℃〜145℃である。
【0019】本発明では、液体の塩素化反応混合物は一
つの反応器から別の反応器へ重力で移動し、最終反応器
から貯蔵タンクへ送るのが有利である。生成した塩化水
素、未反応の塩素および必要に応じて随伴される塩化物
を含む第一反応器以外の全ての反応器からの排ガスは第
一反応器に導入される。第一反応器から流出する塩酸の
塩素含有率は一般に0.2重量%以下である。
つの反応器から別の反応器へ重力で移動し、最終反応器
から貯蔵タンクへ送るのが有利である。生成した塩化水
素、未反応の塩素および必要に応じて随伴される塩化物
を含む第一反応器以外の全ての反応器からの排ガスは第
一反応器に導入される。第一反応器から流出する塩酸の
塩素含有率は一般に0.2重量%以下である。
【0020】塩素/塩素化物のモル比は希望する塩素化
物に依存する。トリクロロメチルベンゼンを得る時のこ
の比は約3/1である。ジクロロメチルベンゼンを得た
い場合のこの比は2/1以上、好ましくは2.01/1
〜2.05/1である。モノおよびジクロロメチルベン
ゼンの混合物を得たい場合のこの比は大きく変化し、モ
ノおよびジクロロメチルベンゼンの所望量に依存する。
物に依存する。トリクロロメチルベンゼンを得る時のこ
の比は約3/1である。ジクロロメチルベンゼンを得た
い場合のこの比は2/1以上、好ましくは2.01/1
〜2.05/1である。モノおよびジクロロメチルベン
ゼンの混合物を得たい場合のこの比は大きく変化し、モ
ノおよびジクロロメチルベンゼンの所望量に依存する。
【0021】反応物が固体、例えば1,4−ビス(トリ
クロロメチル)−ベンゼンの場合、好ましくは弗素化溶
媒および塩素化溶媒からなる群の中から選択した軽い不
活性溶媒を使用できる。このような溶媒の例としては四
塩化炭素、クロロホルムまたは1,4−クロロトリフル
オロメチルベンゼンが挙げられる。塩化ベンジルを多く
含む混合物を得たい場合には、トルエンに対する塩素の
モル比を0.4〜0.6にして反応を実施するのが有利
である。本発明で使用できるモノまたはジメチルベンゼ
ンの例としてはトルエン、クロロトルエン、フルオロト
ルエン、2,4−および2,6−ジクロロトルエン、キ
シレンおよびこれら化合物の少なくとも2つの混合物が
挙げられる。本発明方法は特にトルエン、キシレンおよ
びパラ−クロロトルエンに適用される。
クロロメチル)−ベンゼンの場合、好ましくは弗素化溶
媒および塩素化溶媒からなる群の中から選択した軽い不
活性溶媒を使用できる。このような溶媒の例としては四
塩化炭素、クロロホルムまたは1,4−クロロトリフル
オロメチルベンゼンが挙げられる。塩化ベンジルを多く
含む混合物を得たい場合には、トルエンに対する塩素の
モル比を0.4〜0.6にして反応を実施するのが有利
である。本発明で使用できるモノまたはジメチルベンゼ
ンの例としてはトルエン、クロロトルエン、フルオロト
ルエン、2,4−および2,6−ジクロロトルエン、キ
シレンおよびこれら化合物の少なくとも2つの混合物が
挙げられる。本発明方法は特にトルエン、キシレンおよ
びパラ−クロロトルエンに適用される。
【0022】本発明方法はモノおよびビス(モノおよび
/またはジおよび/またはトリクロロメチル)ベンゼン
の収率が高い点で有利である。さらに、得られたHCl
の塩素含有率は≦0.2重量%である。本発明方法はさ
らに、反応器の数を変えることによってモノまたはビス
(トリクロロメチル)−ベンゼンまたはモノまたはビス
(モノおよび/またはジクロロメチル)ベンゼンを製造
することができる点で自由度が大きい。以下、本発明の
実施例を説明する。
/またはジおよび/またはトリクロロメチル)ベンゼン
の収率が高い点で有利である。さらに、得られたHCl
の塩素含有率は≦0.2重量%である。本発明方法はさ
らに、反応器の数を変えることによってモノまたはビス
(トリクロロメチル)−ベンゼンまたはモノまたはビス
(モノおよび/またはジクロロメチル)ベンゼンを製造
することができる点で自由度が大きい。以下、本発明の
実施例を説明する。
【0023】
【実施例】実施例1 トルエンの塩素化によるトリクロロメチルベンゼンの製
造 図1に表すように6つのライニングされた反応器をカス
ケード状に備えたプラントを使用する。各反応器には反
応混合物中に浸漬された水銀灯(図1には図示せず)が
備えられている。各反応器の体積、反応器毎の水銀ラン
プの数および出力は[表1]に示してある。このプラン
トで6.82キロモルのトルエンと20.7キロモルの
新しい塩素とを連続的に反応させる。これはトルエンに
対する塩素のモル比3.03に相当する。各反応器の温
度は[表1]に示してある。
造 図1に表すように6つのライニングされた反応器をカス
ケード状に備えたプラントを使用する。各反応器には反
応混合物中に浸漬された水銀灯(図1には図示せず)が
備えられている。各反応器の体積、反応器毎の水銀ラン
プの数および出力は[表1]に示してある。このプラン
トで6.82キロモルのトルエンと20.7キロモルの
新しい塩素とを連続的に反応させる。これはトルエンに
対する塩素のモル比3.03に相当する。各反応器の温
度は[表1]に示してある。
【0024】各反応器2〜6には管路12.1、12.
2、12.3、12.4および12.5を介して新しい
塩素を[表1]に示した流量で導入した。反応器1には
管路11を介して、予め脱酸素化して酸素含有率を5m
g/kg以下にしたトルエンを流量627.44kg/
hで導入した。この流れは管路13.1、13.2、1
3.3、13.4および13.5を介して重力で反応器
2〜6に送られ、最後にC6H5CCl3が形成され
る。
2、12.3、12.4および12.5を介して新しい
塩素を[表1]に示した流量で導入した。反応器1には
管路11を介して、予め脱酸素化して酸素含有率を5m
g/kg以下にしたトルエンを流量627.44kg/
hで導入した。この流れは管路13.1、13.2、1
3.3、13.4および13.5を介して重力で反応器
2〜6に送られ、最後にC6H5CCl3が形成され
る。
【0025】
【表1】
【0026】管路16を介して毎時1335.48kg
のトリクロロメチルベンゼンが得られる。[表1]には
反応器1に供給されるトルエンの流量および反応器2〜
6に供給される新鮮な塩素の流量も示してある。反応器
2〜6から出する排ガスを各管路14.1、14.2、
14.3、14.4および14.5を介して管路15に
集めて反応器1に導入する。反応器1に流入する排ガス
はHClガスおよび未反応の塩素をそれぞれ約40重量
%および約13重量%含み、さらに未変換トルエン(約
8%)および随伴するモノ、ジおよびトリクロロメチル
ベンゼンも含む。
のトリクロロメチルベンゼンが得られる。[表1]には
反応器1に供給されるトルエンの流量および反応器2〜
6に供給される新鮮な塩素の流量も示してある。反応器
2〜6から出する排ガスを各管路14.1、14.2、
14.3、14.4および14.5を介して管路15に
集めて反応器1に導入する。反応器1に流入する排ガス
はHClガスおよび未反応の塩素をそれぞれ約40重量
%および約13重量%含み、さらに未変換トルエン(約
8%)および随伴するモノ、ジおよびトリクロロメチル
ベンゼンも含む。
【0027】[表2]は各反応器から出る液体反応物の
組成(重量%)を示す。この表でY1はクロロメチルベ
ンゼン、Y2はジクロロメチルベンゼン、Y3はトリク
ロロメチルベンゼンを表す。「重質生成物」は環が塩素
化された生成物を意味する。反応器1から管路17を介
して出る塩化水素の塩素含有率は0.2重量%以下であ
る。得られたトリクロロメチルベンゼンは97.7%の
純度を有し、ジクロロメチルベンゼンの重量含有率は
0.11%で、残部副産物は主として環が塩素化したト
リクロロメチルベンゼンまたは2重結合に付加した塩素
化物および2つの芳香族環を有する結合生成物から成
る。
組成(重量%)を示す。この表でY1はクロロメチルベ
ンゼン、Y2はジクロロメチルベンゼン、Y3はトリク
ロロメチルベンゼンを表す。「重質生成物」は環が塩素
化された生成物を意味する。反応器1から管路17を介
して出る塩化水素の塩素含有率は0.2重量%以下であ
る。得られたトリクロロメチルベンゼンは97.7%の
純度を有し、ジクロロメチルベンゼンの重量含有率は
0.11%で、残部副産物は主として環が塩素化したト
リクロロメチルベンゼンまたは2重結合に付加した塩素
化物および2つの芳香族環を有する結合生成物から成
る。
【0028】
【表2】
【0029】実施例2 クロロメチルベンゼンおよびジクロロメチルベンゼンの
製造 [図2]に表す2つのライニングした反応器を備えたプ
ラントを用いる。各反応器は反応混合物中に浸漬した水
銀灯(このランプは図2には表されていない)を備えて
いる。2つの反応器の体積、反応器毎のランプ数および
出力は[表3]に示してある。このプラントでは、3
3.15キロモルのトルエンと18.31キロモルの新
鮮な塩素が連続的に反応される。これはトルエンに対す
る塩素のモル比0.55に相当する。2つの反応器の温
度を[表3]に示す。
製造 [図2]に表す2つのライニングした反応器を備えたプ
ラントを用いる。各反応器は反応混合物中に浸漬した水
銀灯(このランプは図2には表されていない)を備えて
いる。2つの反応器の体積、反応器毎のランプ数および
出力は[表3]に示してある。このプラントでは、3
3.15キロモルのトルエンと18.31キロモルの新
鮮な塩素が連続的に反応される。これはトルエンに対す
る塩素のモル比0.55に相当する。2つの反応器の温
度を[表3]に示す。
【0030】新鮮な塩素を管路22.1および22.2
を介して反応器1a、2aに[表3]に示す流量で導入
する。予め脱酸素化して酸素含有率を約3mg/kgに
したトルエンを管21を介して流量3050kg/hで
反応器1aに送り、その流れを管23.1を介して反応
器2aに重力で送る。この間に、C6H5CH2Clと
C6H5CHCl2の混合物が生成する。51.93重
量%のクロロメイチルベンゼンと、6.78重量%のジ
クロロメチルベンゼンと、41.12重%の未変換トル
エンとからなる混合物が管路25を介して毎時368
1.7kgで得られる。この混合物を次いで減圧蒸留す
る。。
を介して反応器1a、2aに[表3]に示す流量で導入
する。予め脱酸素化して酸素含有率を約3mg/kgに
したトルエンを管21を介して流量3050kg/hで
反応器1aに送り、その流れを管23.1を介して反応
器2aに重力で送る。この間に、C6H5CH2Clと
C6H5CHCl2の混合物が生成する。51.93重
量%のクロロメイチルベンゼンと、6.78重量%のジ
クロロメチルベンゼンと、41.12重%の未変換トル
エンとからなる混合物が管路25を介して毎時368
1.7kgで得られる。この混合物を次いで減圧蒸留す
る。。
【0031】
【表3】
【0032】反応器2aから管路24を介して出る排ガ
スを反応器1aに導入する。このガスはHClガスおよ
び未反応塩素をそれぞれ約42重量%および1重量%以
下含む。各反応器から出る液体反応生成物の重量組成は
[表4]に示してある。この表でY1はクロロメチルベ
ンゼン、Y2はジクロロメチルベンゼン、Y3はトリク
ロロメチルベンゼンを表す。
スを反応器1aに導入する。このガスはHClガスおよ
び未反応塩素をそれぞれ約42重量%および1重量%以
下含む。各反応器から出る液体反応生成物の重量組成は
[表4]に示してある。この表でY1はクロロメチルベ
ンゼン、Y2はジクロロメチルベンゼン、Y3はトリク
ロロメチルベンゼンを表す。
【0033】
【表4】 管路26を介して反応器1aから出る塩化水素の塩素含
有率は0.2重量%以下である。
有率は0.2重量%以下である。
【図1】 本発明方法を実施するのに用いられる装置の
概念図。
概念図。
【図2】 本発明方法を実施するのに用いられる装置の
別の概念図。
別の概念図。
Claims (9)
- 【請求項1】 対応するモノまたはジメチルベンゼンを
複数の反応器中でカスケード状に徐々に塩素化する、ベ
ンゼン環がハロゲン原子で置換されていてもよいモノお
よび/またはビス(モノおよび/またはジおよび/また
はトリクロロメチル)ベンゼンの連続製造方法におい
て、 第一反応器の体積を他の各反応器の体積より大きくし、
他の反応器からの全て流出流を第一反応器へ送ることを
特徴とする方法。 - 【請求項2】 光照射で反応を実施する請求項1に記載
の方法。 - 【請求項3】 50℃〜180℃の温度で反応を実施す
る請求項1またはに記載の方法。 - 【請求項4】 ガス中に50vpm以下の量の酸素が存
在する状態で反応を実施する請求項1〜3のいづれか一
項に記載の方法。 - 【請求項5】 第一反応器の体積が第二反応器の体積の
1.5倍〜2倍であり、必要に応じて第三反応器の体積
の2.5倍〜3倍、さらに他の反応器の体積の8〜10
倍にする請求項1〜4のいづれか一項に記載の方法。 - 【請求項6】 反応を6つの反応器でカスケード状に実
施する請求項1〜5のいづれか一項に記載のトリクロロ
メチルベンゼンの連続的製造方法。 - 【請求項7】 第一反応器以外の反応器に新しい塩素を
導入して反応を実施する請求項6に記載の方法。 - 【請求項8】 反応を2つの反応器で実施する請求項1
〜5のいづれか一項に記載の(モノおよびジクロロメチ
ル)ベンゼンの連続的製造方法。 - 【請求項9】 2つの反応器に新しい塩素を導入して反
応を実施する請求項8に記載の方法。
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FR9804460 | 1998-04-09 |
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JP11103247A Expired - Fee Related JP3059717B2 (ja) | 1998-04-09 | 1999-04-09 | モノおよび/またはビス(モノおよび/またはジおよび/またはトリクロロメチル)ベンゼンの連続製造方法 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN104591958B (zh) * | 2015-02-03 | 2016-09-07 | 上海方纶新材料科技有限公司 | 连续化生产三氯甲基取代苯的方法和装置 |
CN107417490B (zh) * | 2017-05-23 | 2021-09-10 | 方圆化工有限公司 | 塔式连续光氯化法制氯苄 |
CN109970507B (zh) * | 2019-04-30 | 2022-09-27 | 山东道可化学有限公司 | 一种3,4-二氯三氟甲苯的连续化生产方法及连续生产设备 |
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US2810688A (en) * | 1954-08-20 | 1957-10-22 | Dow Chemical Co | Process for preparation of poly(perchloromethyl) benzenes |
DE2139779B1 (de) * | 1971-08-09 | 1972-12-07 | Farbwerke Hoechst AG, vormals Mei ster Lucius & Bruning, 6000 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von chlorsubstituierten Benzyl und Benzal Chloriden |
US3816287A (en) * | 1971-10-22 | 1974-06-11 | Bayer Ag | Photolytic process for the continuous production of benzotrichloride with a low benzal chloride content |
DE2530094C2 (de) * | 1975-07-05 | 1979-06-07 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Mono- oder DKtrichlormethyl)benzolen |
-
1998
- 1998-04-09 FR FR9804460A patent/FR2777277A1/fr active Pending
-
1999
- 1999-03-30 DE DE69902965T patent/DE69902965T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1999-03-30 EP EP99400766A patent/EP0955283B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1999-03-30 AT AT99400766T patent/ATE224345T1/de not_active IP Right Cessation
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- 1999-04-08 CA CA002266764A patent/CA2266764A1/fr not_active Abandoned
- 1999-04-09 US US09/288,675 patent/US6265628B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-04-09 JP JP11103247A patent/JP3059717B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1999-04-09 CN CN99106099A patent/CN1239713A/zh active Pending
- 1999-04-09 KR KR1019990012435A patent/KR19990087896A/ko not_active Application Discontinuation
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002212131A (ja) * | 2001-01-12 | 2002-07-31 | Bayer Ag | トリフルオロメチル−置換ビフェニルカルボン酸の製造方法、ならびに新規トリクロロメチル−およびトリフルオロメチル−置換ビフェニルカルボニトリル |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NO991659L (no) | 1999-10-11 |
DE69902965T2 (de) | 2003-06-05 |
JP3059717B2 (ja) | 2000-07-04 |
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NO991659D0 (no) | 1999-04-08 |
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CN1239713A (zh) | 1999-12-29 |
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