JPH11312726A - Substrate carrying device - Google Patents
Substrate carrying deviceInfo
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- JPH11312726A JPH11312726A JP12034998A JP12034998A JPH11312726A JP H11312726 A JPH11312726 A JP H11312726A JP 12034998 A JP12034998 A JP 12034998A JP 12034998 A JP12034998 A JP 12034998A JP H11312726 A JPH11312726 A JP H11312726A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は半導体や液晶表示装
置等の製造に用いる基板を搬送する基板搬送装置に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate transfer device for transferring a substrate used for manufacturing a semiconductor or a liquid crystal display device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】図１２は特開平６−２９７３６３号公報
に記載された従来の基板搬送装置を示す。この装置は基
板１００を収容する第１の場所としてのカセット１０１
と、基板１００を支持する平面フォーク状の基板支持体
１０２とを備え、基板支持体１０２がカセット１０１に
進退及び上下動可能となっている。又、基板支持体１０
２には基板１００の辺縁の位置を検出する２つのセンサ
１０３，１０４が間隔を有して配置されている。2. Description of the Related Art FIG. 12 shows a conventional substrate transfer apparatus described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-297363. The apparatus includes a cassette 101 as a first place for storing a substrate 100.
And a substrate support 102 in the form of a flat fork for supporting the substrate 100. The substrate support 102 can move forward and backward and move up and down in the cassette 101. Also, the substrate support 10
2, two sensors 103 and 104 for detecting the position of the edge of the substrate 100 are arranged at intervals.
【０００３】この装置では、カセット１０１内に収容さ
れている基板１００の下側に入り込む際に基板１００の
前縁がセンサ１０３，１０４を横切るときの基板支持体
１０２の位置を検出し、この検出値から基板１００の前
後方向の位置ずれ及び傾きを算出する。その後、基板支
持体１０２が基板１００を持ち上げ、算出した算出値に
基づいて基板支持体１０２の位置及び傾きの補正を行
い、基板１００の位置補正をする。そして、基板支持体
１０２がカセット１００から退出して搬送先である第２
の位置に位置ずれなく基板１００をセットする。[0003] In this apparatus, the position of the substrate support 102 when the front edge of the substrate 100 crosses the sensors 103 and 104 when entering the lower side of the substrate 100 accommodated in the cassette 101 is detected. The position shift and the inclination of the substrate 100 in the front-back direction are calculated from the values. Thereafter, the substrate support 102 lifts the substrate 100, and corrects the position and the inclination of the substrate support 102 based on the calculated values to correct the position of the substrate 100. Then, the substrate support 102 exits from the cassette 100 and the second
The substrate 100 is set at the position shown in FIG.
【０００４】ところが、この装置では精度の高い検出が
可能であるが、基板１００の左右方向の位置ずれを検出
できない不便さがある。[0004] Although this apparatus can perform highly accurate detection, there is an inconvenience in that it is not possible to detect a lateral displacement of the substrate 100.
【０００５】図１３は別の従来の基板搬送装置であり、
基板支持体１０２には１つのセンサ１０３が配置されて
いる。これに加えて、カセット１０１の外側には基板支
持体１０２と直交する側方位置にセンサ台１０５が配置
されている。このセンサ台１０５はカセット１０１内に
進退自在となっており、その先端には２つのセンサ１０
６，１０６が間隔を有して取り付けられている。FIG. 13 shows another conventional substrate transfer apparatus.
One sensor 103 is arranged on the substrate support 102. In addition to this, a sensor base 105 is disposed outside the cassette 101 at a lateral position orthogonal to the substrate support 102. The sensor base 105 is movable in and out of the cassette 101, and has two sensors 10 at its tip.
6, 106 are mounted at intervals.
【０００６】図１４（ａ）〜（ｃ）は、図１３の装置の
作動を基板支持体１０２側（前方側）から示すものであ
る。これらの図で示すように、カセット１０１内の基板
１００はまちまちにずれた位置にある。このため、同図
（ｂ）及び（ｃ）に示すように、センサ台１０５を順
次、基板１００の側縁の下に入れ、センサ台１０５の２
つのセンサ１０６によって基板１００の左右方向のずれ
及び傾きを基板一枚ごとに算出する。 そして、カセッ
ト１０１内のいずれかの基板１００を取り出すときに
は、図１３に示すように、基板支持体１０２に設けたセ
ンサ１０３によって、その基板１００の前縁の位置を検
出することにより基板１００の前後方向のずれ量を算出
する。その後、基板支持体１０２が基板１００を持ち上
げて搬送し、図示しない第２の場所に置くとき、上述し
た算出量により基板１００の位置補正をして、第２の場
所に位置ずれなく基板１００をセットする。FIGS. 14A to 14C show the operation of the apparatus shown in FIG. 13 from the substrate support 102 side (front side). As shown in these figures, the substrates 100 in the cassette 101 are at different positions. For this reason, as shown in FIGS. 2B and 2C, the sensor base 105 is sequentially placed under the side edge of the substrate 100,
The left and right displacements and inclinations of the substrate 100 are calculated for each substrate by the two sensors 106. Then, when taking out one of the substrates 100 from the cassette 101, as shown in FIG. 13, a sensor 103 provided on the substrate support 102 detects the position of the front edge of the substrate 100, and thus the front and rear of the substrate 100 is detected. The shift amount in the direction is calculated. Thereafter, when the substrate support 102 lifts and transports the substrate 100 and places it in a second location (not shown), the substrate 100 is corrected in position by the above-described calculated amount, and the substrate 100 is moved to the second location without displacement. set.
【０００７】この装置では、基板１００の左右方向の位
置ずれも検出できるが、装置の構造が複雑で作動が複雑
となると共に、製造原価が高くなるのに加え、左右方向
の位置ずれ及び傾きを検出するのに長時間を要する問題
を有している。In this apparatus, the displacement of the substrate 100 in the left-right direction can be detected. However, the structure of the apparatus is complicated, the operation is complicated, and the manufacturing cost is increased. There is a problem that it takes a long time to detect.
【０００８】図１５（ａ）〜（ｆ）は、さらに別の従来
の基板搬送装置を図１４と同様に前方側から示すもので
あり、カセット１０１の左右の側方には、一対のフレー
ム１０７，１０７が進退及び上下動自在に配置されてい
る。それぞれのフレーム１０７におけるカセット１００
側には、カセット１０１内に段状に収容されている基板
１００の段数に合わせた数の位置決め部材１０８が取り
付けられている。FIGS. 15 (a) to 15 (f) show another conventional substrate transfer apparatus from the front side similarly to FIG. 14, and a pair of frames 107 are provided on the left and right sides of the cassette 101. FIG. , 107 are arranged to be able to move forward and backward and to move up and down. Cassette 100 in each frame 107
On the side, a number of positioning members 108 corresponding to the number of stages of the substrates 100 accommodated in the cassette 101 in stages are attached.
【０００９】位置決め部材１０８は基板１００の側縁を
押して基板１００を位置決めする段部１０８ａと、段部
１０８ａの前方に設けられて基板１００を持ち上げるた
めの爪部１０８ｂとを備えている。又、爪部１０８ｂに
は、ローラ１０９が取り付けられている。ローラ１０９
は基板１００を位置決めするときに、基板１００を支え
て転がることにより、爪部１０８ｂが基板１００と直接
に摺動してマイクロダストが発生することを防止するも
のである。The positioning member 108 includes a step 108a for pressing the side edge of the substrate 100 to position the substrate 100, and a claw 108b provided in front of the step 108a for lifting the substrate 100. A roller 109 is attached to the claw 108b. Roller 109
When the substrate 100 is positioned, the substrate 100 is supported and rolled to prevent the claw 108b from sliding directly on the substrate 100 to prevent the generation of micro dust.
【００１０】図１５（ａ）は一連の動作の開始以前の状
態であり、一対のフレーム１０７はカセット１０１の外
側に退避している。（ｂ）はフレーム１０７がカセット
１０１に接近した状態であり、位置決め部材１０８がそ
れぞれの基板１００の下に入っている。（ｃ）はフレー
ム１０７が上昇して位置決め部材１０８がそれぞれの基
板１００をローラ１０９を介して持ち上げた状態であ
る。FIG. 15A shows a state before the start of a series of operations, in which the pair of frames 107 are retracted outside the cassette 101. 4B shows a state in which the frame 107 is close to the cassette 101, and the positioning members 108 are under the respective substrates 100. FIG. (C) shows a state in which the frame 107 is lifted and the positioning member 108 lifts each substrate 100 via the roller 109.
【００１１】（ｄ）は基板１００をずれのない位置に整
列させる状態であり、一対のフレーム１０７がカセット
に更に接近し、位置決め部材１０８の段部１０８ｂがそ
れぞれの基板１００の側縁を押すことにより、基板１０
０の左右方向の位置ずれと傾きとをなくしている。な
お、このとき基板１００はローラ１０９を介して位置決
め部材１０８の段部１０８ｂに載っているため、段部１
０８ｂは基板１００と摺動することがなく、マイクロダ
ストを生じるおそれはない。（ｅ）は基板１００を整列
した後、一対のフレームが同図（ｂ）の高さまで下降す
る途中を示している。（ｆ）は以上の一連の動作を終了
して、フレーム１０７が同図（ａ）の位置まで待避した
状態を示す。FIG. 4D shows a state in which the substrates 100 are aligned in a position without displacement. When the pair of frames 107 further approach the cassette, the step 108 b of the positioning member 108 pushes the side edge of each substrate 100. The substrate 10
Zero positional deviation and inclination in the left-right direction are eliminated. At this time, since the substrate 100 is placed on the step 108b of the positioning member 108 via the roller 109, the step 1
08b does not slide on the substrate 100, and there is no possibility of generating micro dust. (E) shows a state in which the pair of frames are descending to the height in FIG. (F) shows a state in which the above-described series of operations has been completed, and the frame 107 has been retracted to the position shown in FIG.
【００１２】このような装置では、位置補正の計算など
の高度な制御が必要なく、設計が簡単となる特徴がある
が、基板１００の前後方向の位置ずれが補正できず、装
置も複雑で高価になるという問題点がある。Such an apparatus does not require advanced control such as calculation of position correction and has a feature that the design is simple. However, the apparatus cannot correct the positional deviation of the substrate 100 in the front-rear direction, and the apparatus is complicated and expensive. There is a problem that becomes.
【００１３】[0013]
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように従
来の基板搬送装置においては、第１の場所にある基板の
位置ずれと傾きを補正するに当たって、基板の左右か前
後方向の位置ずれを補正できなかったり、補正ができる
装置でも検出に長時間を要し、装置も複雑となる問題点
を有している。As described above, in the conventional substrate transfer apparatus, in correcting the positional deviation and the inclination of the substrate at the first position, the positional deviation of the substrate in the left-right or front-rear direction is corrected. Even an apparatus that cannot perform or can perform correction requires a long time for detection, and has a problem that the apparatus is complicated.
【００１４】本発明はこのような問題点を考慮してなさ
れたものであり、第１の場所で不正確な位置に置かれた
基板を持ち上げて搬送し、第２の場所で正確な位置にセ
ットする基板搬送装置において、簡単な構造で、第１の
場所における基板の位置ずれ量を検出して位置補正をす
ることができる基板搬送装置を提供することを目的とす
る。The present invention has been made in view of such a problem, and lifts and transports a substrate placed at an incorrect position at a first place, and moves the substrate to an accurate position at a second place. It is an object of the present invention to provide a substrate transfer apparatus which can set and correct a position by detecting a positional shift amount of a substrate at a first location with a simple structure.
【００１５】[0015]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１の発明は、第１の場所に置かれている多角
形の基板を持ち上げて移動することにより基板を第２の
場所に搬送する支持部材と、前記第１の場所から取り出
されて移動する基板の移動路上に固定的に配置され、基
板の隣り合う２辺上の少なくとも３点が通過するときの
前記支持部材の位置を検出する少なくとも２つの位置検
出センサと、この位置検出センサの検出値に基づいて前
記支持部材に対する基板の前後及び左右方向の位置ずれ
と傾きとを算出し、この算出値に基づいて前記支持部材
を駆動して前記第２の場所への正規位置となるように基
板の位置補正を行う制御手段と、を備えていることを特
徴とする。In order to achieve the above object, an object of the present invention is to lift a polygonal substrate placed at a first location and move the substrate to a second location. A supporting member to be conveyed, and a position of the supporting member which is fixedly arranged on a moving path of the substrate which is taken out from the first place and moves, and at least three points on two adjacent sides of the substrate pass therethrough. At least two position detection sensors to be detected, and a positional shift and a tilt of the substrate in the front-rear and left-right directions with respect to the support member are calculated based on the detection values of the position detection sensors, and the support member is calculated based on the calculated values. Control means for driving and correcting the position of the substrate so as to be a normal position to the second place.
【００１６】この発明では、基板の移動路上に固定的に
配置された位置検出センサが基板の隣り合う２辺から合
計３点以上の位置検出を行うため、支持部材に対する基
板の前後及び左右のずれと傾きのすべての位置情報を得
ることができる。制御手段はこの検出値に基づいて支持
部材を駆動して基板の位置補正を行うため、基板の位置
補正及び第２の位置に対する正規位置への搬送を簡単な
構造でしかも短時間で行うことができる。According to the present invention, since the position detection sensor fixedly disposed on the moving path of the substrate detects a total of three or more positions from two adjacent sides of the substrate, the position of the substrate with respect to the support member can be shifted in the front-rear and left-right directions. And all the position information of the inclination can be obtained. The control means drives the support member based on the detected value to correct the position of the substrate, so that the position correction of the substrate and the transfer to the normal position with respect to the second position can be performed with a simple structure and in a short time. it can.
【００１７】請求項２の発明は、請求項１記載の発明で
あって、前記制御手段によって回転並びに並進運動が制
御される搬送ロボットが前記第１の場所と第２の場所と
の間に配置されると共に、この搬送ロボットに相互に回
転可能な第１のアーム及び第２のアームが順次連結され
ており、前記第２のアームが回転可能な状態で前記支持
部材に連結されていることを特徴とする。According to a second aspect of the present invention, there is provided the first aspect of the present invention, wherein a transfer robot whose rotation and translation are controlled by the control means is disposed between the first location and the second location. And a first arm and a second arm rotatable with each other are sequentially connected to the transfer robot, and the second arm is connected to the support member in a rotatable state. Features.
【００１８】この発明では、制御手段によって制御され
た搬送ロボットの回転及び並進と、搬送ロボットに連結
された第１のアーム及び第２のアームの回転とを行うた
め、基板の位置補正を簡単に、しかも確実に行うことが
できる。According to the present invention, since the rotation and translation of the transfer robot controlled by the control means and the rotation of the first arm and the second arm connected to the transfer robot are performed, the position of the substrate can be easily corrected. In addition, it can be performed reliably.
【００１９】[0019]
【発明の実施の形態】図１〜図１１は本発明の一実施形
態の基板搬送装置を示す。基板搬送装置は図１及び図２
に示すように、基板３が複数段で収容される第１の場所
としてのカセット４と、カセット４から搬送された基板
３が正規位置に置かれることにより基板３の検査を行う
検査装置などが配置された第２の場所としての定位置１
０と、カセット４内から基板３を持ち上げて取り出す支
持部材１と、この支持部材１を駆動する搬送ロボット７
と、基板３の搬送路上に固定された２つの位置検出セン
サ２１，２２と、搬送ロボット７を制御する制御手段４
０とを備えている。1 to 11 show a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention. 1 and 2
As shown in FIG. 1, a cassette 4 as a first place for accommodating the substrates 3 in a plurality of stages, an inspection device for inspecting the substrates 3 by placing the substrates 3 conveyed from the cassettes 4 at proper positions, and the like. Fixed position 1 as the second place arranged
0, a support member 1 for lifting and taking out the substrate 3 from the cassette 4, and a transfer robot 7 for driving the support member 1.
And two position detection sensors 21 and 22 fixed on the transfer path of the substrate 3, and control means 4 for controlling the transfer robot 7.
0.
【００２０】基板３は半導体基板、液晶基板などからな
り、平面多角形に成形されている。図示する形態におい
て、平面矩形状の基板３が用いられている。The substrate 3 is composed of a semiconductor substrate, a liquid crystal substrate or the like, and is formed into a plane polygon. In the illustrated embodiment, a planar rectangular substrate 3 is used.
【００２１】２つの位置検出センサ２１，２２は支持部
材１によって持ち上げられてカセット４から取り出され
る基板３の辺縁が横切る状態を検出するものであり、こ
の検出によって支持部材１の位置が検出される。この検
出を行うため、位置検出センサ２１，２２は基板３を引
き出す方向に直交する方向に沿って並べられていると共
に、基板３の幅よりも小さくした状態で基板３の搬送路
上に固定されている。なお、これらの位置検出センサ２
１，２２はカセット４が載置される架台（図示省略）な
どに支持されることにより上述した検出を行う。The two position detecting sensors 21 and 22 are for detecting a state in which the edge of the substrate 3 lifted up by the support member 1 and taken out of the cassette 4 crosses, and the position of the support member 1 is detected by this detection. You. In order to perform this detection, the position detection sensors 21 and 22 are arranged along a direction orthogonal to the direction in which the substrate 3 is pulled out, and are fixed on the transport path of the substrate 3 in a state where the width is smaller than the width of the substrate 3. I have. Note that these position detection sensors 2
Reference numerals 1 and 22 perform the above-described detection by being supported by a frame (not shown) on which the cassette 4 is placed.
【００２２】２つの位置検出センサ２１，２２はそれぞ
れ一対の発光素子及び受光素子や磁気や電気によって位
置を検出するその他の検出素子から構成されている。図
１において、２１ａは位置検出センサ２１の発光素子、
２１ｂは同センサ２１の受光素子であり、基板３はこれ
らの間を通過する。図示を省略するが、位置検出センサ
２２も同様な構成となっている。Each of the two position detecting sensors 21 and 22 is composed of a pair of a light emitting element and a light receiving element, and another detecting element for detecting a position by magnetism or electricity. In FIG. 1, reference numeral 21a denotes a light emitting element of the position detection sensor 21,
21b is a light receiving element of the sensor 21, and the substrate 3 passes between them. Although not shown, the position detection sensor 22 has the same configuration.
【００２３】搬送ロボット７はカセット４及び定位置１
０の間に配置されている。この搬送ロボット７は回転及
び並進運動するロボット本体１７と、このロボット本体
１７に基端部分が回転可能に取り付けられた第２のアー
ム６と、第２のアーム６の先端部分に基端部分が回転可
能に連結された第１のアーム５とを備えている。これら
の第１及び第２のアーム５，６は実効長さが同一となっ
ていると共に、内部に設けられている連動機構（図示省
略）によって連結されることによって駆動される。支持
部材１は搬送ロボット７の第１のアーム５の先端部分に
回転可能に連結されており、これにより支持部材５は常
に直線に沿って並進運動することができる。The transfer robot 7 includes the cassette 4 and the fixed position 1
0. The transfer robot 7 has a robot body 17 that rotates and translates, a second arm 6 whose base end is rotatably attached to the robot body 17, and a base end at the distal end of the second arm 6. A first arm 5 rotatably connected to the first arm 5. These first and second arms 5 and 6 have the same effective length and are driven by being connected by an interlocking mechanism (not shown) provided inside. The support member 1 is rotatably connected to the distal end portion of the first arm 5 of the transfer robot 7, so that the support member 5 can always translate along a straight line.
【００２４】図５及び図６において、Ａは支持部材１が
第１のアーム５に回転可能に連結された回転中心、Ｃは
第２のアーム６がロボット本体１７に回転可能に連結さ
れた回転中心であり、図７〜図１１において、Ｂはロボ
ット本体１７が回転する回転中心である。この実施の形
態において、ロボット本体１７の回転中心Ｂに対して第
２のアーム６の回転中心Ｃが偏位した位置となってい
る。なお、カセット４内に段状で収容されている基板３
の高さに支持部材１を合わせると共に、支持部材１を上
方に移動して基板３を持ち上げるため、ロボット本体１
７内にはシリンダなどの上下動機構（図示省略）が設け
られている。In FIGS. 5 and 6, A is a rotation center where the support member 1 is rotatably connected to the first arm 5, and C is a rotation center where the second arm 6 is rotatably connected to the robot body 17. 7 to 11, B is a rotation center where the robot main body 17 rotates. In this embodiment, the rotation center C of the second arm 6 is deviated from the rotation center B of the robot body 17. The substrate 3 accommodated in the cassette 4 in a stepped manner
The height of the support member 1 is adjusted, and the robot body 1 is moved to lift the substrate 3 by moving the support member 1 upward.
A vertical movement mechanism (not shown) such as a cylinder is provided in 7.
【００２５】支持部材１は平面フォーク状に成形されて
おり、図２の実線で示すように先端部分がカセット４内
に進入することにより、カセット４内に段状に収容され
ている基板３を持ち上げる。そして、搬送ロボット７が
駆動することにより、支持部材１は図２の鎖線で示すよ
うに、基板３をカセット４内から取り出す。この基板３
の取り出しの際には、位置検出センサ２１又は／及び２
２によって基板３の前縁が検出される。その後、破線で
示すように、ロボット本体１７が横移動し、次に横移動
しながら回転することにより、基板３を定位置１０に搬
送して定位置１０に置く。以上の作動過程で基板３のず
れ量の算出と、基板３の位置補正が行われる。The support member 1 is formed in a flat fork shape, and the front end portion enters the cassette 4 as shown by a solid line in FIG. lift. When the transfer robot 7 is driven, the support member 1 takes out the substrate 3 from the cassette 4 as shown by a chain line in FIG. This substrate 3
When taking out, the position detection sensor 21 and / or 2
2, the leading edge of the substrate 3 is detected. Thereafter, as shown by the broken line, the robot main body 17 moves laterally, and then rotates while moving laterally, thereby transporting the substrate 3 to the fixed position 10 and placing it at the fixed position 10. In the above operation process, the calculation of the amount of displacement of the substrate 3 and the position correction of the substrate 3 are performed.
【００２６】制御手段４０は基板３を持ち上げている支
持部材１を駆動することにより、定位置１０への正規位
置となるように基板３の位置補正を行う。この位置補正
は位置検出センサ２１，２２が基板３の辺縁を検出した
検出値に基づいて行われるものであり、位置検出センサ
２１，２２から検出値が制御手段４０に出力される。こ
の検出値に基づいて、制御手段４０は基板３の前後及び
左右方向の位置ずれと、基板３の傾きとを算出し、この
算出値に基づいて支持部材１を駆動する。この実施の形
態では、支持部材１がロボット７に取り付けられている
ところから、制御手段４０はロボット７を駆動制御する
ことにより支持部材１を駆動する。かかる制御手段とし
ては、ロボット本体１７内に設けられたコンピュータ或
いはロボット本体１７に外付けされるコンピュータなど
を使用することができる。The control means 40 corrects the position of the substrate 3 by driving the supporting member 1 which lifts the substrate 3 so that the substrate 3 is brought to the normal position to the fixed position 10. This position correction is performed based on a detection value obtained by detecting the edge of the substrate 3 by the position detection sensors 21 and 22, and the detection value is output from the position detection sensors 21 and 22 to the control unit 40. Based on the detected value, the control means 40 calculates the positional deviation of the substrate 3 in the front-back and left-right directions and the inclination of the substrate 3, and drives the support member 1 based on the calculated value. In this embodiment, since the support member 1 is attached to the robot 7, the control unit 40 drives the support member 1 by controlling the drive of the robot 7. As such control means, a computer provided in the robot main body 17 or a computer external to the robot main body 17 can be used.
【００２７】図３（ａ）〜（ｅ）は以上の基板搬送装置
の作動を示し、図３（ａ）は第１の場所であるカセット
４の中で傾いた状態の基板３を取り出すため、基板３の
下に支持部材１が入った状態である。次に、支持部材１
は傾いた状態の基板３を持ち上げてカセット４の外側に
移動することにより、基板３をカセット４から取り出
す。FIGS. 3 (a) to 3 (e) show the operation of the above-described substrate transfer apparatus, and FIG. 3 (a) shows a state in which the substrate 3 is taken out of the cassette 4 which is the first place. This is a state in which the support member 1 is placed under the substrate 3. Next, the support member 1
The substrate 3 is taken out of the cassette 4 by lifting the inclined substrate 3 and moving the substrate 3 to the outside of the cassette 4.
【００２８】図３（ｂ）はこの基板３取り出しの途中の
状態を示し、基板３の前縁３１がカセット４の前方位置
の左側に配置されている位置検出センサ２１によって検
出される。このときの第２のアーム６の角度θ1 （図５
参照）を記録して、後述する算出を行うことにより、基
板３の前後方向のずれ量を算出することができる。この
ずれ量は、後述するようにｅ1 −ｅ0 である。FIG. 3B shows a state in which the substrate 3 is being taken out. The front edge 31 of the substrate 3 is detected by the position detection sensor 21 disposed on the left side of the front position of the cassette 4. At this time, the angle θ 1 of the second arm 6 (FIG. 5)
By recording the reference 3) and performing the calculation described later, the amount of displacement of the substrate 3 in the front-rear direction can be calculated. This shift amount is e 1 -e 0 as described later.
【００２９】図３（ｃ）は支持部材１がさらにカセット
４の外側に移動することにより、基板３の前縁３１が右
側の位置検出センサ２２によって検出された状態であ
る。このときの第２のアーム６の角度θ2 及び上述した
θ1 から、後述するように基板３の傾きθ3 を算出する
ことができる。FIG. 3C shows a state in which the front edge 31 of the substrate 3 is detected by the position detection sensor 22 on the right side by further moving the support member 1 outside the cassette 4. From the angle theta 2 and above theta 1 of the second arm 6 at this time, it is possible to calculate the tilt theta 3 of the substrate 3 as will be described later.
【００３０】図３（ｄ）は基板３をカセット４から完全
に引き出した状態である。位置センサ２１、２２はこの
（ｄ）の状態で基板３と重なる位置となるように、その
配置位置が予め設定されている。FIG. 3D shows a state in which the substrate 3 has been completely pulled out from the cassette 4. The arrangement positions of the position sensors 21 and 22 are set in advance so that the position sensors 21 and 22 overlap the substrate 3 in the state of (d).
【００３１】図３（ｅ）は第２の場所である定位置１０
に基板３を搬送するため、ロボット７が横（右）方向に
移動している状態である。この移動によって左側の位置
検出センサ２１が基板３の左側の側縁３２を検出する。
このときロボット７が横方向に移動した距離ｆ1 （図８
参照）を記録して、後述する算出を行うことにより、基
板３の左右方向のずれ量を算出することができる。この
ずれ量は、後述するように、ｆ1 −ｆ0 である。FIG. 3E shows a fixed position 10 as a second place.
In this state, the robot 7 is moving in the lateral (right) direction in order to carry the substrate 3. With this movement, the left position detection sensor 21 detects the left side edge 32 of the substrate 3.
At this time, the distance f 1 that the robot 7 has moved in the lateral direction (FIG. 8)
By recording the reference 3) and performing the calculation described later, the amount of displacement of the substrate 3 in the left-right direction can be calculated. This shift amount is f 1 −f 0 as described later.
【００３２】次に、以上の基板３の左右及び前後のずれ
量と傾き量の算出及びそれらの補正量の算出を図４〜図
１１により説明する。この場合、まずカセット４から基
板３の全体を取り出し、ロボット７が横（右）方向に移
動している途中で、基板３の前後及び左右方向のずれ量
並びに傾きを求める。なお、これらの図において、Ｘ軸
及びＹ軸からなる直交座標を、その原点が第２のアーム
６の回転中心Ｃと一致するように設定するものである。Next, the calculation of the amount of deviation and the amount of inclination of the substrate 3 and the amount of inclination thereof, and the calculation of the amount of correction thereof will be described with reference to FIGS. In this case, first, the entire substrate 3 is taken out from the cassette 4, and the amount of displacement and inclination of the substrate 3 in the front-back and left-right directions are obtained while the robot 7 is moving in the lateral (right) direction. In these figures, the orthogonal coordinates consisting of the X axis and the Y axis are set such that the origin thereof coincides with the rotation center C of the second arm 6.
【００３３】図４は図３（ａ）に対応し、支持部材１が
カセット４内に入って基板３を持ち上げた状態であり、
図５は図３（ｂ）に対応し、基板３をカセット４から取
り出すときに、位置検出センサ２１が基板３の前縁３１
を検出した状態である。このとき図５における位置検出
センサ２１と、支持部材１が第１のアームに連結されて
いる回転中心Ａとの間のＸ軸方向成分の距離ａ1 は、 ａ1 ＝ｃ−２ｂｃｏｓ（θ1 ）…（１）式 で算出される。（１）式において、ｂは第１のアーム５
及び第２のアーム６の実効長さ、ｃは位置検出センサ２
１、２２とＹ軸とのＸ軸方向成分の距離、θ１はＸ軸に
対する第２のアーム６の角度である。FIG. 4 corresponds to FIG. 3A and shows a state in which the support member 1 has entered the cassette 4 and lifted the substrate 3.
FIG. 5 corresponds to FIG. 3B. When the substrate 3 is taken out from the cassette 4, the position detection sensor 21 detects the front edge 31 of the substrate 3.
Is detected. At this time, the distance a 1 in the X-axis direction between the position detection sensor 21 in FIG. 5 and the rotation center A where the support member 1 is connected to the first arm is a 1 = c−2bcos (θ 1). )... It is calculated by the following equation (1). In the equation (1), b is the first arm 5
And the effective length of the second arm 6, c is the position detection sensor 2.
The distance θ1, in the X-axis direction component between Y1, and Y22, is the angle of the second arm 6 with respect to the X-axis.
【００３４】図６は図３（ｃ）に対応し、基板３をカセ
ット４から取り出す途中で基板３の前縁３１が位置検出
センサ２２によって検出された状態である。このとき、
位置検出センサ２２と上述したＡ点とのＸ軸方向成分の
距離ａ2 は、Ｘ軸に対する第２のアーム６の角度をθ2
とした場合、 ａ2 ＝ｃ−２ｂｃｏｓ（θ2 ）…（２）式 で算出される。FIG. 6 corresponds to FIG. 3C and shows a state in which the front edge 31 of the substrate 3 is detected by the position detection sensor 22 during the removal of the substrate 3 from the cassette 4. At this time,
The distance a 2 between the position detection sensor 22 and the point A in the X-axis direction component is represented by the angle θ 2 of the second arm 6 with respect to the X-axis.
In this case, a 2 = c−2bcos (θ 2 ) (2) is calculated.
【００３５】これらにより、基板３の傾きθ3 は、 θ3 ＝ｔａｎ-1（（ａ2 −ａ1 ）／ｄ）…（３）式 によって算出される。（３）式において、ｄは位置検出
センサ２１及び位置検出センサ２２のＹ軸方向成分の距
離である。Thus, the inclination θ 3 of the substrate 3 is calculated by the following equation: θ 3 = tan −1 ((a 2 −a 1 ) / d) (3) In the equation (3), d is the distance between the position detection sensor 21 and the position detection sensor 22 in the Y-axis direction component.
【００３６】図７は図３（ｄ）に対応し、基板３をカセ
ット４から完全に引き出した状態を示す。基板３の前縁
３１とＹ軸との距離ｅ1 は、Ｘ軸に対する第２のアーム
６の角度をθ4 とした場合、 ｅ1 ＝ａ1 ＋２ｂｃｏｓ（θ4 ）…（４）式 で算出される。この（４）式及び図７において、基板３
が第１のアーム５及び第２のアーム６によって直線的に
並進運動するため、ａ1 は図５におけるａ1 と変化がな
いものである。なお、図７において、ｅ0 は鎖線で示す
ように、基板３の位置ずれ及び角度ずれが全くない状態
での基板３の前縁３１とＹ軸との距離である。FIG. 7 corresponds to FIG. 3D and shows a state in which the substrate 3 has been completely pulled out of the cassette 4. The distance e 1 between the front edge 31 of the substrate 3 and the Y axis is calculated by e 1 = a 1 + 2bcos (θ 4 ) when the angle of the second arm 6 with respect to the X axis is θ 4. Is done. In the equation (4) and FIG.
There to linearly translate the first arm 5 and the second arm 6, a 1 is that there is no a 1 with changes in FIG. In FIG. 7, e 0 is the distance between the front edge 31 of the substrate 3 and the Y axis in a state where there is no positional deviation or angular deviation of the substrate 3 as indicated by a chain line.
【００３７】図８は図３（ｅ）に対応し、基板３の搬送
のためにロボット７がＹ軸に沿って横方向に移動してい
る状態であり、この状態では位置検出センサ２１が基板
３の側縁３２を検出する。同図において、ｆ1 は基板３
の側縁３２が位置検出センサ２１に検出されるまでロボ
ット７がＹ軸方向に動いた距離であり、ｆ0 は鎖線で示
すように、基板３の位置ずれ及び角度ずれが全くない場
合におけて基板３の前縁３１が位置検出センサ２１に検
出されるまでロボット７がＹ軸方向に動く距離である。
従って、基板３の左右方向のずれ量は、 ｆ1 −ｆ0 …（５）式 となる。FIG. 8 corresponds to FIG. 3 (e), in which the robot 7 is moving in the horizontal direction along the Y-axis in order to transport the substrate 3, and in this state, the position detection sensor 21 3 is detected. In the figure, f 1 is the substrate 3
Of the distance the robot 7 is moved in the Y-axis direction to the side edge 32 is detected in the position detecting sensor 21, f 0, as shown by a chain line, put when positional displacement and angular displacement of the substrate 3 is no This is the distance that the robot 7 moves in the Y-axis direction until the front edge 31 of the substrate 3 is detected by the position detection sensor 21.
Therefore, the deviation amount in the lateral direction of the substrate 3 becomes f 1 -f 0 ... (5) formula.
【００３８】この後、図９に示すように基板３の傾きθ
3 を補正する。図９は（３）式で算出された基板３の傾
きのみを補正した状態を示している。この図９において
は、理解を助けるために、図８でｆ1 を測定した後、図
７の位置にロボット７を戻して描いてある。しかし実機
の動作では、図９の位置までロボット７を戻さなくても
後述する式は同じとなる。Thereafter, as shown in FIG.
Correct 3 FIG. 9 shows a state where only the inclination of the substrate 3 calculated by the equation (3) is corrected. In FIG. 9, in order to facilitate understanding, after measuring the f 1 in FIG. 8, is drawn back to the robot 7 in the position of FIG. However, in the operation of the actual machine, the expressions described later are the same even if the robot 7 is not returned to the position of FIG.
【００３９】ここで、基板３はロボット７の回転中心Ｂ
の周りに回転する。この回転の角度は、基板３の傾きθ
3 を補正する前の−θ3 である。また、ロボット７全体
が回転するため、支持部材１の並進運動の方向はＸ1 軸
に変化している。更に、図９における破線３３は基板３
を回転させる前の基板３の前縁の位置を示している。Here, the substrate 3 is the rotation center B of the robot 7
Rotate around. The angle of this rotation is the inclination θ of the substrate 3.
3 is a -θ 3 of before be corrected. Further, since the whole robot 7 is rotated, the direction of the translational movement of the support member 1 is changed to the X 1 axis. Further, the broken line 33 in FIG.
2 shows the position of the front edge of the substrate 3 before rotating.
【００４０】図９から明らかなように、基板３をカセッ
ト４から完全に引き出したときの距離ｅ1 を算出するた
め、基板３の前縁３１を検出した位置Ｃ1 は、回転によ
ってＣ2 に移動している。従って、基板３を第２の位置
である定位置１０に置くときにＸ軸方向に移動すべき距
離はｇだけ変動する。以下、この量ｇを算出する。As is apparent from FIG. 9, the position C 1 at which the front edge 31 of the substrate 3 is detected is changed to C 2 by rotation in order to calculate the distance e 1 when the substrate 3 is completely pulled out from the cassette 4. I'm moving. Therefore, when the substrate 3 is placed at the fixed position 10 as the second position, the distance to be moved in the X-axis direction changes by g. Hereinafter, this amount g is calculated.
【００４１】図９における矢印Ｄ1 の長さｈは、 ｈ＝（（ｊ−ｋ）2 ＋ｅ1 2）1/2 …（６）式 で算出される。（６）式において、矢印Ｄ1 は点Ｂから
点Ｃ1 に向かう矢印であり、ｊは点Ｃ1 とＸ軸との距
離、ｋは点ＢとＸ軸との距離である。The length h of the arrow D 1 in FIG. 9 is calculated by the following expression: h = ((j−k) 2 + e 1 2 ) 1/2 (6) In equation (6), arrow D 1 is an arrow from point B to point C 1 , j is the distance between point C 1 and the X axis, and k is the distance between point B and the X axis.
【００４２】図９における矢印Ｄ1 とＹ軸のなす角θ5
は、時計方向回りを正とした場合、 θ5 ＝ｔａｎ-1（−ｅ1 ／（ｊ−ｋ））…（７）式 から算出することができる。The angle θ 5 between the arrow D 1 and the Y axis in FIG.
Can calculate a clockwise direction when a positive, θ 5 = tan -1 (-e 1 / (j-k)) from ... (7).
【００４３】ロボット７の回転によって、基板３のＸ軸
方向の移動量に生じる補正量ｇは、図９の点Ｂから点Ｃ
2 に向かう矢印Ｄ2 から、 ｇ＝−ｅ1 −ｈｓｉｎ（θ5 −θ3 ）…（８）式 により算出することができる。The amount of correction g generated in the amount of movement of the substrate 3 in the X-axis direction due to the rotation of the robot 7 changes from point B to point C in FIG.
From the arrow D2 toward 2 , g = −e 1 −hsin (θ 5 −θ 3 ) (8) can be calculated.
【００４４】図１０は（３）式で算出された基板３の傾
きのみを補正した状態であり、図９と同じ配置を示して
いる。但し、ｆ1 を算出するため、基板３の側縁３２を
検出した位置Ｅ1 が基板３の回転によってＥ2 に移動し
ている。図１０から明らかなように、基板３を第２の位
置である定位置１０に置くときに、Ｙ軸方向にｍだけ移
動させる必要がある。以下、この量ｍを求める。FIG. 10 shows a state where only the inclination of the substrate 3 calculated by the equation (3) is corrected, and shows the same arrangement as in FIG. However, in order to calculate the f 1, the position E 1 of detecting the side edge 32 of the substrate 3 is moved to the E 2 by the rotation of the substrate 3. As is clear from FIG. 10, when the substrate 3 is placed at the fixed position 10, which is the second position, it is necessary to move the substrate 3 by m in the Y-axis direction. Hereinafter, this quantity m is obtained.
【００４５】図１０の矢印Ｆ1 の長さｎは、 ｎ＝（ｐ2 ＋（ｆ1 ＋ｑ−ｋ）2 ）1/2 …（９）式 で算出される。（９）式において、矢印Ｆ1 は点Ｂから
点Ｅ1 に向かう矢印であり、ｐは点Ｅ1 とＹ軸との距
離、ｑは位置検出センサ２１とＸ軸との距離である。The length n of the arrow F 1 in FIG. 10 is calculated by the following equation: n = (p 2 + (f 1 + q−k) 2 ) 1/2 (9) (9) In the formula, the arrows F 1 is an arrow from point B to point E 1, p is the distance between the point E 1 and the Y-axis, q is the distance between the position detection sensor 21 and the X-axis.
【００４６】図１０において、矢印Ｆ1 とＹ軸とのなす
角度θ6 は、時計方向回りを正とした場合、 θ6 ＝ｔａｎ-1（ｐ／（ｆ1 ＋ｑ−ｋ））…（１０）式 により算出することができる。In FIG. 10, the angle θ 6 formed by the arrow F 1 and the Y axis is θ 6 = tan −1 (p / (f 1 + q−k)) when the clockwise direction is positive. ) Equation can be calculated.
【００４７】さらに、ロボット７の回転によって基板３
のＹ軸方向に生じる補正量ｍは、図中点Ｂから点Ｅ2 に
向かう矢印Ｆ２から、 ｍ＝（ｆ1 ＋ｑ−ｋ）−ｎｃｏｓ（θ6 ＋θ3 ）…（１１）式 から算出することができる。Further, the rotation of the robot 7 causes the substrate 3
Correction amount m that occurs in the Y-axis direction is calculated from the arrow F2 toward the point E 2 from FIG midpoint B, m = (f 1 + q-k) -ncos (θ 6 + θ 3) ... (11) equation be able to.
【００４８】以上から、第２の位置である定位置１０に
基板３を置くときの基板３の移動量を算出すると、図１
１は基板３を第２の位置である定位置１０に置く状態を
示している。図１１において、ロボット７が実際に基板
３を送り出す量ｒ1 は、 ｒ1 ＝（ｒ0 ＋ｅ0 −ｅ1 −ｇ）／ｃｏｓ（−θ3 ）…（１２）式 から算出される。（１２）式において、ｒ0 は基板３に
ずれも傾きも全くなかったときの送り出し量である。From the above, when the amount of movement of the substrate 3 when the substrate 3 is placed at the fixed position 10 as the second position is calculated, FIG.
Reference numeral 1 denotes a state where the substrate 3 is placed at a fixed position 10 which is a second position. In FIG. 11, the amount r 1 by which the robot 7 actually sends out the substrate 3 is calculated from the following equation: r 1 = (r 0 + e 0 −e 1 −g) / cos (−θ 3 ) (12) In the equation (12), r 0 is the feeding amount when the substrate 3 has no displacement or inclination.
【００４９】ロボット７が実際に基板３を送出すとき、
図１１における横方向にロボット７を変位させるべき量
ｓは、 ｓ＝（ｆ0 −ｆ1 ）−ｍ＋ｒ1 ｓｉｎ（−θ3 ）…（１３）式 から算出される。When the robot 7 actually sends out the substrate 3,
The amount s to displace the robot 7 in the lateral direction in FIG. 11 is calculated from the following equation: s = (f 0 −f 1 ) −m + r 1 sin (−θ 3 ) (13)
【００５０】なお、一般に基板３の送出し量ｒは、 ｒ（θ）＝２ｂ（ｃｏｓ（θ）−ｃｏｓ（−θ7 ）…（１４）式 として求められる。但し、θ7 は図１０の状態における
第２のアーム６とＸ1 軸との角度である。In general, the delivery amount r of the substrate 3 is obtained as follows: r (θ) = 2b (cos (θ) −cos (−θ 7 ) (14), where θ 7 in FIG. it is an angle between the second arm 6 and the X 1 axis in the state.
【００５１】そこで第２の位置である定位置１０に基板
３を置いたときの第２のアーム６とＸ1 軸の角度θ
8 は、（１２）式と（１４）式を等号で結び、（１４）
式でのθをθ8 とおくと、 （ｒ0 ＋ｅ0 −ｅ1 −ｇ）／ｃｏｓ（−θ3 ）＝２ｂ
（ｃｏｓ（θ8 ）−ｃｏｓ（−θ7 ）となるので、 θ8 ＝ｃｏｓ-1（（ｒ0 ＋ｅ0 −ｅ1 −ｇ）／２ｂｃｏｓ（−θ3 ）＋ｃｏｓ（ −θ7 ））…（１５）式 から算出することができる。[0051] Therefore the angle of the second arm 6 and X 1 axis when placing the substrate 3 in position 10 which is the second position θ
8 connects Equations (12) and (14) with an equal sign, and (14)
Assuming that θ in the equation is θ 8 , (r 0 + e 0 −e 1 −g) / cos (−θ 3 ) = 2b
(Cos (θ 8 ) −cos (−θ 7 ), θ 8 = cos −1 ((r 0 + e 0 −e 1 −g) / 2bcos (−θ 3 ) + cos (−θ 7 )) It can be calculated from equation (15).
【００５２】このような実施の形態の基板搬送装置によ
れば、既存の基板搬送装置に対して、２個の位置検出セ
ンサと演算を行う制御手段とを追加するだけで、基板３
を厳密に位置補正することができる効果がある。According to the substrate transfer apparatus of such an embodiment, the substrate 3 can be simply added to the existing substrate transfer apparatus by adding two position detection sensors and control means for performing calculations.
Has the effect that the position can be strictly corrected.
【００５３】[0053]
【発明の効果】以上説明したように、請求項１の発明に
よれば、最低２個の位置検出センサと、演算を行う制御
手段とを付加するだけで良く、簡単で安価な構成で、基
板の前後及び左右方向の位置ずれと傾きとを幾何学的に
厳密に補正して第２の場所に置くことができる。As described above, according to the first aspect of the present invention, it is only necessary to add at least two position detection sensors and control means for performing calculations. Can be strictly corrected geometrically in the front-back and left-right directions, and can be placed at the second location.
【００５４】請求項２の発明によれば、搬送ロボットの
回転及び並進と、第１のアーム及び第２のアームの回転
とを行うため、基板の位置補正を簡単にしかも確実に行
うことができる。According to the second aspect of the present invention, since the rotation and translation of the transfer robot and the rotation of the first arm and the second arm are performed, the position of the substrate can be corrected simply and reliably. .
【図１】本発明の一実施の形態の基板搬送装置の側面図
である。FIG. 1 is a side view of a substrate transfer device according to an embodiment of the present invention.
【図２】基板搬送装置の作動を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing the operation of the substrate transfer device.
【図３】（ａ）〜（ｅ）は基板の搬送手順を示す平面図
である。FIGS. 3A to 3E are plan views illustrating a procedure for transferring a substrate.
【図４】図３（ａ）の作動を説明する要部の拡大平面図
である。FIG. 4 is an enlarged plan view of a main part explaining the operation of FIG. 3 (a).
【図５】図３（ｂ）の作動を説明する要部の拡大平面図
である。FIG. 5 is an enlarged plan view of a main part explaining the operation of FIG. 3 (b).
【図６】図３（ｃ）の作動を説明する要部の拡大平面図
である。FIG. 6 is an enlarged plan view of a main part explaining the operation of FIG. 3 (c).
【図７】図３（ｄ）の作動を説明する要部の拡大平面図
である。FIG. 7 is an enlarged plan view of a main part explaining the operation of FIG. 3 (d).
【図８】図３（ｅ）の作動を説明する要部の拡大平面図
である。FIG. 8 is an enlarged plan view of a main part explaining the operation of FIG. 3 (e).
【図９】基板の傾きを補正する状態を示す要部の拡大平
面図である。FIG. 9 is an enlarged plan view of a main part showing a state in which the inclination of the substrate is corrected.
【図１０】基板の傾きを補正する状態をさらに詳細に示
す要部の拡大平面図である。FIG. 10 is an enlarged plan view of a main part showing in more detail a state in which the inclination of the substrate is corrected.
【図１１】基板を第２の場所に置く場合の基板の移動量
を説明する要部の拡大平面図である。FIG. 11 is an enlarged plan view of a main part explaining a moving amount of the substrate when the substrate is placed at a second location.
【図１２】従来の基板搬送装置の平面図である。FIG. 12 is a plan view of a conventional substrate transfer device.
【図１３】図１２を改良した従来の基板搬送装置の平面
図である。FIG. 13 is a plan view of a conventional substrate transfer device obtained by improving FIG.
【図１４】（ａ）〜（ｃ）は図１３の基板搬送装置の作
動を示す側面図である。14 (a) to (c) are side views showing the operation of the substrate transfer device of FIG.
【図１５】（ａ）〜（ｆ）はさらに別の従来の基板搬送
装置を作動順にを示す側面図である。15A to 15F are side views showing still another conventional substrate transfer device in the order of operation.
１ 支持部材 ３ 基板 ４ カセット（第１の場所） ５ 第１のアーム ６ 第２のアーム ７ 搬送ロボット １０ 定位置（第２の場所） ２１ ２２ 位置検出センサ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Support member 3 Substrate 4 Cassette (1st place) 5 1st arm 6 2nd arm 7 Transfer robot 10 Fixed position (2nd place) 21 22 Position detection sensor
Claims (2)
を持ち上げて移動することにより基板を第２の場所に搬
送する支持部材と、 前記第１の場所から取り出されて移動する基板の移動路
上に固定的に配置され、基板の隣り合う２辺上の少なく
とも３点が通過するときの前記支持部材の位置を検出す
る少なくとも２つの位置検出センサと、 この位置検出センサの検出値に基づいて前記支持部材に
対する基板の前後及び左右方向の位置ずれと傾きとを算
出し、この算出値に基づいて前記支持部材を駆動して前
記第２の場所への正規位置となるように基板の位置補正
を行う制御手段と、を備えていることを特徴とする基板
搬送装置。1. A support member for transporting a substrate to a second location by lifting and moving a polygonal substrate placed at a first location, and a substrate moving out of the first location At least two position detection sensors that are fixedly disposed on the movement path of the substrate and detect the position of the support member when at least three points on two adjacent sides of the substrate pass; Based on the calculated values, the displacement and inclination of the substrate in the front-rear and left-right directions with respect to the support member are calculated, and the support member is driven based on the calculated values so that the substrate is positioned at the normal position to the second location. A substrate transfer device comprising: a control unit that performs position correction.
動が制御される搬送ロボットが前記第１の場所と第２の
場所との間に配置されると共に、この搬送ロボットに相
互に回転可能な第１のアーム及び第２のアームが順次連
結されており、前記第２のアームが回転可能な状態で前
記支持部材に連結されていることを特徴とする請求項１
記載の基板搬送装置。2. A transfer robot whose rotation and translation are controlled by the control means is disposed between the first place and the second place, and a first robot rotatable with respect to the transfer robot. The second arm and the second arm are sequentially connected, and the second arm is rotatably connected to the support member.
The substrate transfer device according to any one of the preceding claims.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12034998A JPH11312726A (en) | 1998-04-30 | 1998-04-30 | Substrate carrying device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12034998A JPH11312726A (en) | 1998-04-30 | 1998-04-30 | Substrate carrying device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11312726A true JPH11312726A (en) | 1999-11-09 |
Family
ID=14784040
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12034998A Withdrawn JPH11312726A (en) | 1998-04-30 | 1998-04-30 | Substrate carrying device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11312726A (en) |
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