JPH11304641A - 波面収差測定方法及び波面収差測定装置 - Google Patents
波面収差測定方法及び波面収差測定装置Info
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- JPH11304641A JPH11304641A JP12952598A JP12952598A JPH11304641A JP H11304641 A JPH11304641 A JP H11304641A JP 12952598 A JP12952598 A JP 12952598A JP 12952598 A JP12952598 A JP 12952598A JP H11304641 A JPH11304641 A JP H11304641A
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Abstract
の透過波面収差を高精度に、且つ簡単な装置構成で測定
する波面収差測定方法と波面収差測定装置を提供するこ
と。 【解決手段】自らの主光線軸を中心に回転している被測
定光学系に対し、少なくとも一本の十分に細い第1の光
束を照射して該照射光のの透過光を得るとともに、該透
過光を参照となる第2の光束と干渉させ、被測定光学系
の回転に伴う2つの光束の光路長差の変動を観察する操
作を、複数の径に対し順次行ない、各測定径における被
測定光学系全周の2光路長差から、被測定光学系の透過
波面収差の各成分を取得する波面収差測定方法及び波面
収差測定装置。
Description
定方法及び波面収差測定装置に関するもので、特に収差
の大きな光学系であっても簡単な装置構成で、高精度に
波面の回転非対称成分を測定できる波面収差測定方法及
び波面収差測定装置を提供することを目的としたもので
ある。
ない高性能光学系が要求されている。高性能光学系にお
いては残存波面収差を極力ゼロに近づける必要があり、
光学設計と製造両面から残存収差の低減を図る必要が生
じている。
差を良好にするには、全系を構成する要素である単レン
ズや、単レンズ数枚からなる群レンズの製造誤差を減ら
し、各構成要素を設計値により近い性能にすることが必
要である。
差、アス収差等は組立後の空気間隔や単レンズ、群レン
ズの偏心等により調整可能である。一方、高次のコマ収
差、アス収差等の回転非対称成分に関しては、組み立て
後の調整方法がない。従って、高次成分及び回転非対称
成分を除去するには、予め組み立て前に各構成要素の持
つ透過波面収差を測定し、例えばレンズ面を非球面加工
するなどして、各構成要素の波面収差が設計値に近くな
るよう補正し、性能を保証する必要がある。
性能光学系であっても各構成要素が発生させる透過波面
収差は数100l〜数1000l、あるいはそれ以上の
大収差となるのが通例である。このため、各構成要素の
精度検証を通常の干渉計によって測定するのは不可能
で、いわゆるヌル法で高精度測定が行なわれている。
を高精度に測定するには、ヌル法で用いるヌル光学系
(ヌルレンズ)の波面収差を高精度に保証する必要があ
る。ヌルレンズは測定対象となる各構成要素が有する大
きな量の波面収差とほぼ同じ大きさで異符号の波面収差
を有するレンズである。ヌルレンズは測定の際、原器と
しての役割をはたすため、ヌルレンズ自体の波面収差の
絶対値の保証が重要であるが、収差の量が大きいため保
証が非常に困難である。
の精度検証に際しては以下の様な問題がある。即ち (1) 被測定光学系の透過波面収差をヌルレンズの精
度以上に測定することが不可能である。
毎に製作する必要がある。
コストアップ、大型化、複雑化へとつながる。
ヌルレンズを使用することなく、被測定光学系の透過波
面収差を高精度に、且つ簡単な装置構成で測定する波面
収差測定方法と波面収差測定装置を提供することを目的
としている。
め、本発明では自らの主光線軸を中心に回転している被
測定光学系に対し、少なくとも一本の十分に細い第1の
光束を照射して該照射光のの透過光を得るとともに、該
透過光を参照となる第2の光束と干渉させ、被測定光学
系の回転に伴う2つの光束の光路長差の変動を観察する
操作を、複数の径に対し順次行ない、各測定径における
被測定光学系全周の2光路長差から、被測定光学系の透
過波面収差の各成分を取得することを特徴としている。
差測定装置では、被測定光学系を保持しある回転軸を中
心に回転させる回転機構と、2つの可干渉性光束の発生
手段と、該2つの可干渉性光束のうち少なくとも第1の
光束を被測定光学系の所望の径に所望の角度で入射させ
るための光束偏向手段と、被測定光学系を透過した第1
の光束を垂直反射させる光束反射手段と、被測定光学系
を透過後、該光束反射手段で垂直反射して再び被測定光
学系を透過する第1の光束と、該2つの可干渉性光束の
もう一方に当たる第2の光束を結合して干渉させる光学
系を有し、被測定光学系の回転に伴って得られる該2つ
の可干渉性光束の干渉と該回転の方位情報から、被測定
光学系の透過波面収差を算出することを特徴としてい
る。
入射する第1の光束に対し、第2の光束は被測定光学系
のある物点に対する主光線と一致させて被測定光学系に
入射させたり、被測定光学系のレンズ面により反射させ
基準光としたり、被測定光学系外の基準面により反射さ
せ基準光としたりする自由度がある。第1の光束は被測
定光学系を往復で透過した後、第2の光束と結合されて
干渉し、該干渉信号と被測定光学系の回転方位の情報か
ら被測定光学系の収差を測定する。
るため、光束を2周波信号とし、ヘテロダイン検出を行
なうと分解能を向上させることができる。
光学系の一つの物点に対応する主光線が作る軸を中心に
回転するよう保持し、2つの可干渉性光束を回転軸を中
心として被測定光学系の同一の径に、同一の入射角度で
入射させる。入射した2つの光束は被測定光学系を透過
後、光束反射手段で垂直反射し、被測定光学系を再び透
過してから結合されて干渉し、該干渉信号と被測定光学
系の回転方位の情報から被測定光学系の収差を測定する
ことを特徴としている。
度で入射させるための光束偏向手段は回転軸に垂直な一
軸スライドを持ち、該一軸スライドは入射光束を一軸ス
ライドの長手方向に偏向する第1の偏向手段と、一軸ス
ライドに沿って移動し、第1の偏向手段から導かれる光
束を被測定光学系の所定の位置に所定の角度で入射させ
る第2の偏向手段と、第2の偏向手段を回転軸と一軸ス
ライドがなす平面に垂直な軸回りに回転可能とする回転
手段を有することを特徴としている。
つで計2つあり、2つの光束偏向手段間の相対角度は可
変となる手段を有することを特徴としている。nθ成分
を持つ波面収差を測定する時、前記相対角度を (2m+1))・π/n ただし2m+1<n;m=
0、1、2、… と設定すると良い。
所望の角度で入射する光束が、複数個の条件で入射する
様に順次前記光束偏向手段を制御する、具体的には入射
径rを順次変えるように光束偏向手段を調整して被測定
光学系の波面収差の情報を得ることを特徴とする。複数
個の入射径rで取得された情報を連結することによって
被測定光学系の全体の波面収差を高精度に求めることが
可能となった。
することも可能であるという特徴がある。偏心測定の場
合には回転軸を中心に回転している前記被測定光学系の
各面に対し、順次2つの可干渉性光束を被測定光学系対
象面の見かけの曲率中心近傍に集光交差させるように照
射する。被測定光学系の対象面から反射して戻ってきた
2つの可干渉性光束は結合されて干渉し、該干渉信号と
被測定光学系の回転方位から被測定光学系各面の前記回
転軸に対する偏心量を測定することができる。
収差測定装置(透過波面収差測定装置)の構成を示す図
である。xyz軸は図に示す通り、被測定光学系の光軸
方向をx軸に一致させる。
点が被測定光学系の光軸上で、主光線が光軸と一致して
いる場合を例に説明を行なう。
長は被測定光学系を実際に使用するときの波長が望まし
い。2はレーザー光束、24はビーム整形光学系、3は
光束2を二つの可干渉性光束2a、2bに分割するとと
もに、被測定光学系経由後の2光束を重ね合せるという
2つの役目を持つ光束分割結合素子である。図1の光束
分割結合素子3では光束分割面と光束反射面が平行なプ
リズムを使用した。
透過した2光束2a、2bを戻すための光束反射手段
で、本実施形態では、二つの光束を垂直反射できるよう
に球面ミラーを採用している。球面ミラー8は、2つの
光束が垂直反射するように、x方向に移動調整可能とな
っている。
10は保持回転手段9の回転軸、12は保持回転手段9
の回転方位検出手段である。13は演算装置で、光検出
手段14及び回転方位検出手段12からの信号を処理す
る。
1、一軸スライド22より構成されている。
の一方で回転軸10に平行な光線2aを90°偏向させ
るミラー等の偏向手段、21はy軸に平行な一軸スライ
ド、22は一軸スライド21方向に移動可能で、z軸回
りに回転可能なミラー等の偏向手段である。続いて本実
施形態の作用を説明する。
ム整形光学系24で十分に細い光束に変換された後、光
束分割結合素子3により、2光束2a、2bに分割され
て回転軸10と平行に偏向される。
さは被測定光学系7の測定したい径以外の影響を受けに
くくなるという意味で、細ければ細いほど透過波面収差
測定精度に有利である。また、光束の径が細いことは光
束内の収差が小さくなることを意味し、干渉縞のS/N
にも有利である。被測定光学系7で発生するの収差が大
きくて、2光束の干渉縞変動が検出できないような場合
は、ビーム整形光学系24で光束の波面にコマ成分を持
たせるなどの整形を施し、光検出手段14において干渉
縞変動が観察できるようにすることも可能である。
定光学系の光軸上を透過し、球面ミラー8で垂直反射し
た後、もと来た光路を通って光検出手段14に入射す
る。
射して偏向手段20でy軸方向に反射後、被測定光学系
7の測定したい径rに、測定したい入射角度で入射する
ように偏向される。具体的には光束2aは偏向手段20
で反射した後、一軸スライド21上での位置と、z軸回
りの回転を調整された偏向手段22により偏向を受け、
被測定光学系7に所望の位置及び角度を持つ光線として
入射する。被測定光学系7への光線の入射位置及び角度
は被測定光学系7の見かけの曲率中心への入射条件と一
致する。従って、入射側から見れば光束2aと2bは被
測定光学系7の見かけの曲率中心で集光交差するように
照射される。
は、被測定光学系7が実際使われる状況に近い状態で入
射させるのが適当である。被測定光学系7がある光学系
の一要素の場合も、入射光束は被測定光学系7が該光学
系に組み込まれたときに光線が透過する状態になるべく
近い状態であるが好ましい。例えば被測定光学系7がコ
リメーターレンズの場合は、被測定光学系7の光軸に平
行な光線を入射させるが望ましい。
向をミラーの移動、回転で行なっているが、本発明の実
施形態はこれに限らず、ミラーの代わりに角度可変の光
学クサビを用いたり、被測定光学系の光軸に移動可能な
集光レンズ等を設けて光束を偏向させる等の変形例が考
えられる。
し予め別手段により回転軸10に対して無偏心状態にセ
ッティングされるとともに、被測定光学系7透過後の光
束2aが垂直反射するように回転軸10の方向にも移動
調整されている。従って被測定光学系7透過後の光束2
aは、球面ミラー8により垂直反射し、元来た光路を通
って光束分割結合素子3により光束2bと結合される。
光束2aと光束2bは互いに干渉し、光検出手段14で
干渉縞が検出される。
被測定光学系7の光軸を透過しているので、被測定光学
系7の回転によって光路長が変化することはない。一
方、光束2aは被測定光学系7の収差によって光路長が
変動する。従って2つの光束2a、2bの2光路長差デ
ータは被測定光学系7の回転に応じて、被測定光学系の
収差に対応する変化をする。
干渉縞のコントラストが最大になるように光束偏向機構
23もしくは、球面ミラー8を微調整を行う。
転手段9を回転させ、光検出手段14からの信号と回転
方位検出手段12からの信号を演算手段13で処理す
る。光検出手段14からは2光束の光路長差分に応じた
干渉光の強度変化信号が得られる。
転方位検出手段12の検出信号を対応つけて記憶するこ
とにより、被測定光学系7の該入射光線状態における、
被測定光学系全周の2光路長差データを得ることができ
る。2光路長差データは回転に伴う周期信号となるが、
該周期信号の位相検出においては、2光束を2周波光と
し、ヘテロダイン法を使用すると、高精度な位相検出が
可能である。
aの被測定光学系7への入射径rを順次変化させなが
ら、2光路長差測定を行い、各測定径rに対するレンズ
全周の2光路長差データを取得する。入射径rの変更は
同一の像点、図1の場合には軸上像点に対する結像光束
群を順次選んでいくことにに対応する。
系からの射出状態が変化するので、光束2aが球面ミラ
ー8で垂直反射するように、球面ミラー8を回転軸10
方向に移動、調整する。球面ミラー8の移動量は移動量
検出手段11により測定され、移動に伴う光束2bの光
路長の変化による2光路長差に補正をかける。
ミラー8を光軸方向にΔ移動調整したとすると、光束2
bの光路長はr1測定時とr2測定時でΔ変化する。従
って測定径r1を基準に透過波面収差測定を行う場合、
測定径r2の2光路長差データをΔだけ補正すれば、径
r1を基準とした透過波面収差測定が可能となる。
学系7全周の2光路長差を、測定した径に関し連結すれ
ば、被測定光学系7全面の透過波面収差を得ることがで
きる。測定に用いた2光束2a、2bは被測定光学系を
2回透過しているので、2光路長差データに0.5をか
けたものが、被測定光学系の透過波面収差に相当する。
のうち光束2aを被測定光学系7の任意の位置に該位置
に対応した角度で入射させ、もう一本の光束2bを光軸
に入射させた。しかしながら本発明はこのような構成に
限らず、少なくとも2本の可干渉性光束のうち一本が、
被測定光学系の任意の位置に該位置に対応する角度で入
射する構成であればよい。図1においては光束2bが被
測定光学系の光軸を透過する構成になっているが、光束
2bを被測定光学系7の一番上の面でいわゆるキャッツ
アイ状態にして反射させ、該反射光と光束2aの干渉縞
を光検出手段14で検出する構成にしてもよい。また、
光束分割結合手段3において、光束2bを光束反射手段
25に向かう構成にして、光束反射手段25反射後の光
束2bと被測定光学系透過後の光束2aと干渉させる構
成にしてもよい。
もを球面ミラー8で反射させているが、被測定光学系透
過後の光束2aのみを球面ミラー8で垂直反射させ、光
束2bは回転軸10上にあり、回転軸10に垂直に設置
固定された反射手段で被測定光学系に戻す構成で、球面
ミラー8の移動に伴う2光路長差の補正を簡略化するこ
とも可能である。
段23と同じ構成の機構を設けて光束を垂直反射させる
ことも可能である。
差測定をフローにしたのが、図2である。
持回転手段にセットし、s102でワークの調心、s1
03で球面ミラー8の移動調整、偏心調整を行う。s1
04で光束偏向機構23を調整し、被測定光学系7に対
して、光束2aが所望の測定径rと角度で入射するよう
に調整する。s105ではワークを回転させて2光路長
差の測定を行い、s106で光束往復分の補正を行う。
光束2bを被測定光学系7の光軸に透過させる場合は、
移動量検出手段11において検出された球面ミラー8の
移動量分を補正する。s106までの工程で1つの測定
径rでの測定が終了する。
s103に戻って測定を繰り返す。全ての測定径を測定
し終えると、s107で各径における2光路長差データ
を連結し、全面の透過波面収差を取得する。この後必要
であればs108で透過波面収差をいわゆるクセ等の回
転対称な収差や、コマ、アス等の回転非対称な収差等へ
分離する。
って、他にも種々の変形例が適用できる。例えばs10
3とs104の順序を逆にしてもよいし、s106で2
光路長差補正後、すぐにs108で各収差成分の分離を
して、全径測定後s107で各測定径データを連結する
ことも可能である。
学系7の回転に伴い、1qの周期で変動するコマ成分、
2qの周期で変動するアス成分などの回転非対称成分、
被測定光学系の回転によらず変動しないクセ成分等の回
転対称成分の和になっている。s106のデータをフー
リエ変換等し、回転非対称な各成分と、回転対称成分を
分離してから、全径測定後s107で各成分を連結し全
面情報とすることができる。
に対して無偏心の状態にセットされている状態について
行なってきた。偏心のある場合には本出願人により出願
済みの2ビーム利用の偏心測定装置の特許の機能を本発
明に付加すれば、無偏心状態へのセッティングを容易に
行なうことが可能となる。
光束偏向機構23に近い面から順に2光束2a、2bを
順次垂直入射させて行なう。従って、入射する2光束は
被測定系各面の見かけの曲率中心近傍に集光交差するす
るように照射されることになる。
で反射して戻り、形成する干渉縞で測定を行なう。奥側
の偏心の測定には手前側の面の偏心状態を換算して補正
計算をかける。各面の偏心量をもとに光軸が算出され、
回転軸10に対する被測定光学系7の光軸の偏心量が取
得される。取得された偏心量を元に被測定光学系7を調
心し、被測定光学系7の光軸と回転軸とが無偏心状態に
なるまで、偏心測定と調心の作業を繰り返す。
と同じものでも構わないが、光源を切り替えて被測定光
学系7の各面の反射率が高い波長のものを使用すると、
戻り光の光量に関して有利で、干渉縞のS/N比が向上
する。
で、被測定光学系の偏心測定も可能なため、ヌル法に比
べ高精度で、かつ小型な装置で透過波面収差の測定が可
能である。
点が被測定光学系7の光軸上にあり、主光線が光軸と一
致している場合を例に説明した。別の実施形態として被
測定光学系7を光軸外のある物点に対応する主光線回り
に回転させて波面収差を測定する場合も原理は同一であ
る。光軸外の物点に対しての構成例は実施形態5で祥述
するが、本実施形態の保持回転手段9の代わりに図7に
示す被測定光学系7を傾斜し、平行移動させる保持回転
手段33を用い、被測定光学系7を測定したい主光線回
りに回転させることで透過波面の測定が可能となる。
び波面収差測定方法は、十分に細い可干渉性の2光束を
被測定光学系7の光軸を中心として同一の径rに同一の
入射角度で照射し、特に回転非対称な透過波面収差うち
nq成分(n;2m+1、m=0、1、2、…)を高精
度に測定するのに適したものである。
ため、物点が被測定光学系の光軸上にあり、主光線が光
軸が一致している場合を例に説明する。
装置の構成を示すものである。図中、図1と共通のもの
は同一の符号とし、座標軸の取り方も図1と同じで、被
測定光学系の光軸方向をx軸に一致させている。
被測定光学系7を実際に使用するときの波長が望まし
い。2はレーザー光束、24はビーム整形光学系、3は
光束2を2つの可干渉性光束2a、2bに分割するとと
もに、被測定面反射後の2光束を重ね合せる光束分割結
合素子である。光束分割結合素子3は本実施形態では、
光束分割面と光束反射面が平行なプリズムを使用した。
任意の位置に該位置に対応した角度で入射させる2光束
偏向機構で、2光束を偏向させる素子5である直角プリ
ズムミラーとz軸回りの回転とy軸方向への移動が可能
な偏向ミラー6a、6bより構成されている。
過した2光束2a、2bを戻すための光束反射手段で、
本実施形態では球面ミラーが用いられている。球面ミラ
ー8は透過してきた2光束が垂直反射するように、x方
向に移動調整可能である。
は保持回転手段9の回転軸、12は保持回転手段9の回
転方位検出手段、13は演算装置、14は光検出手段で
ある。
る。
ム整形光学系24で十分に細い光束に変換された後、光
束分割素子3により2光束2a、2bに分割されて、回
転軸10に平行に偏向され、2光束偏向機構4へ向か
う。
さは被測定光学系7の測定したい径以外の影響を受けに
くくなるので、細ければ細いほど透過波面収差測定精度
に有利である。また、光束の系が細いことは光束内の収
差が小さくなることを意味し、干渉縞のS/Nにも有利
である。被測定光学系7で発生するの収差が大きくて、
2光束の干渉縞変動が検出できないような場合は、ビー
ム整形光学系24で光束の波面にコマ成分を持たせるな
どの整形を施し、光検出手段14において干渉縞変動が
観察できるようにすることも可能である。
測定光学系7に対し、回転軸10を中心として相対方位
180°で入射するように、左右対称に構成されてい
る。
2bは、偏向手段5により相対角度180°で、y軸に
平行に偏向される。次いで2光束2a、2bは、y方向
に移動可能で、z軸回りに回転可能な偏向手段6a、6
bによって回転軸10に対し相対方位180°の軸対称
な状態で偏向を受け、被測定光学系7に向かう。
段6a、6bの移動、回転で、2光束の偏向方向を変化
させているが、本発明はこれに限らず、角度可変の光学
クサビを用いたり、2光束偏向機構として被測定光学系
7の光軸10に移動可能な集光レンズを設けて2光束を
入射させ、偏向させることも可能である。
度は、被測定光学系7が実際使われる状況に近い状態で
入射させるのが適当である。被測定光学系7がある光学
系の一要素の場合も、入射光束は被測定光学系7が該光
学系に組み込まれたときに光線が透過する状態になるべ
く近い状態であるが好ましい。例えば被測定光学系7が
コリメーターレンズの場合は、被測定光学系7の光軸に
平行な光線を入射させるが望ましい。
光軸と回転軸10が一致した無偏心状態にセットし、保
持回転手段9に保持される。被測定光学系7を透過した
2光束は、回転軸10方向に移動可能な球面ミラー8に
より反射する。球面ミラー8はあらかじめ、回転軸10
に対して無偏心状態になるよう、回転軸10に垂直な方
向に調整しておく。2光束は球面ミラー8で垂直反射
後、同一光路を辿って、今度は光束分割結合素子3で重
ね合わされ干渉縞を生じる。2光束の干渉縞は光検出手
段14により検出される。光検出手段14の信号の観測
より、2光束の干渉縞のコントラストが最大になるよう
に2光束偏向機構4もしくは、球面ミラー8を微調整を
行う。光検出手段14の出力信号は演算手段13に送ら
れる。
う光検出手段14からの信号と回転方位検出手段12か
らの信号が演算手段13で処理される。保持回転手段9
の回転に伴い、光検出手段14は2光束2a、2bの光
路長差分に応じた干渉光の強度変化信号を出力する。光
検出手段14の検出信号と測定方位を示す回転方位検出
手段12の検出信号を対応つけて記憶することによっ
て、該入射光線状態における、被測定光学系7全周の2
光路長差データを得ることができる。
が、該周期信号の位相検出においては、2光束を2周波
光とするヘテロダイン法を使用すると、高精度な位相検
出が可能である。
径rが順次変化するように、2光束偏向機構4を調整
し、各測定rにおける被測定光学系7全周の2光路長差
測定を行う。
光学系入射時の相対方位が180°であるため、図4で
示す透過波面収差の回転非対称成分のうち1q成分(コ
マ)、3q成分等の(m+1)q、(m=0、1、2、
…)の奇数次の非対称成分を合成した形となり、2q
(アス)、4q等の偶数次の成分は持たない。
過波面収差のnq成分(n=1、2、…)を振幅An、
初期位相qnを用いて、 Ansin(nq+qn) という形で表わすとすると、光路長差Lは2光束の被測
定光学系入射時の相対方位が180°なので、 とnが奇数の成分だけが残り、残った成分については各
成分の振幅Anが2倍になって測定される。ここで、δ
i,jはクロネッカーのデルタで、i=jなら1、i≠j
なら0である。
は同一径rでは方位によらず一定なので、本実施形態で
出力される2光路路長差には含まれない。
は、2光束が被測定光学系7を2度透過しているので、
実際の検出値は(1)式の2倍の値になる。検出される
信号には装置構成により元々存在する2光路長差など、
被測定光学系の回転により変化しない成分も含まれてい
るが、これらは、演算手段13において補正して除去可
能なため、最終的にある径rにおける、被測定光学系7
全周の透過波面収差を得ることができる。
対方位180°で可干渉性の2光束を入射させること
で、奇数次の回転非対称成分だけを高いS/N比で、高
精度に測定できることとなる。
収差から特定の成分をみるには、各径rに関して測定さ
れた透過波面収差に対しフーリエ変換やフィッティング
を行い、対象成分を取り出せばよい。
で、透過波面収差データから1q成分だけをとりだせば
よい。 (2) WACM(r)=C1(r)・sin(q+y1(r))、 ここで、C1(r)は測定径rにおける被測定光学系7
の透過波面収差のコマ成分の振幅、y1(r)は測定径
rにおけるコマ成分の初期位相である。
成分の振幅C1(r)と初期位相y1(r)ををさらに、
rの関数で表したい場合は以下のように行う。
に記述し直す。 (3) WACM(r)=A(r)cosq+B(r)sinq、 ただし、 (4) A(r)=W1r+W3r3+W5r5+W7r7+W9r9+…、 (5) B(r)=W2r+W4r3+W6r5+W8r7+W10r9+…、 である。
係数のコマ成分に関するものである。
1(r)をもとに(4)〜(7)式を用いて最小自乗法
等でフィッティングを行えば、コマの各波面収差係数W
1、W2、…を得ることができ、被測定光学系7全面の透
過波面収差を得ることができる。
についても透過波面収差のコマ成分を得ることが可能で
ある。
分、5q成分は、測定径rにおけるレンズ全周の透過波
面収差から、3q成分、5q成分をフーリエ変換や、フ
ィッティング等で抽出し、以下のように表わすことがで
きる。 (8) WA3(r)=C3(r)・sin(3q+y3(r))、 (9) WA5(r)=C5(r)・sin(5q+y5(r))。
成分に対応する。C3(r)、C5(r)は測定径rにお
ける透過波面収差の3q成分、5q成分の振幅、y
3(r)、y5(r)は測定径rにおける3q成分、5q
成分の初期位相である。
の3q成分の振幅や初期位相をrの関数で表したい場合
も、1θ成分であるコマ成分と同じように計算すること
ができる。
る。 (10) WA3(r)=A3(r)cos3q+B3(r)sin3q、 ただし、 (11) A3(r)=W31r+W33r3+W35r5+W37r7+W39r9+… (12) B3(r)=W32r+W34r3+W36r5+W38r7+W310r9+… ここで、W31、W32、…は、波面収差係数の3q成分に
関するものである。(8)式と(10)式を対応させる
と、 (13) C32(r)=A3 2(r)+B3 2(r) (14) tany3(r)=A3(r)/B3(r)、 となる。各測定径rに関する測定結果C3(r)、y
3(r)をもとに(11)〜(14)式を用いて最小自
乗法等でフィッティングを行えば、3q成分の各波面収
差係数W31、W32、…を得ることができる。
分の振幅をrのべきで表したい場合も、上記手法と同様
な方法で可能である。
に対して無偏心の状態にセットされている状態について
行なってきた。偏心のある場合には実施形態1の様に本
出願人により出願済みの2ビーム偏心測定装置の特許の
機能を本発明に付加すれば、無偏心状態へのセッティン
グを容易に行なうことが可能となる。
2光束偏向機構4に近い面から順に2光束2a、2bを
順次垂直入射させて行なう。偏心量は入射させた2ビー
ムが測定対象面で反射して戻り、形成する干渉縞で測定
を行なう。奥側の偏心の測定には手前側の面の偏心状態
を換算して補正計算をかける。各面の偏心量をもとに光
軸が算出され、回転軸10に対する被測定光学系7の光
軸の偏心量が取得される。取得された偏心量を元に被測
定光学系7を調心し、被測定光学系7の光軸と回転軸と
が無偏心状態になるまで、偏心測定と調心の作業を繰り
返す。
と同じものでも構わないが、光源を切り替えて被測定光
学系7の各面の反射率が高い波長のものを使用すると戻
り光の光量に関して有利で、干渉縞のS/N比が向上す
る。
で、被測定光学系7の偏心測定も可能なため、ヌル法に
比べ高精度で、かつ小型な装置で透過波面収差の測定が
可能である。
面のコマ成分に関して2光路長差が最大になる180°
を採用しているが、コマ成分の測定は相対方位が0°以
外ならば、何度でもかまわない。例えばコマ成分が大き
い場合、相対方位180°ではサンプリング間隔を小さ
くしないと測定不能になる場合がある。測定不能の場合
は相対方位を小さくして測定を行うと、2光路長差が小
さくなり有利である。
いるときのフローが図4である。
持回転手段9にセットし、s102でワークの調心、s
103で球面ミラーの移動調整、偏心調整を行う。次い
でs104で2光束2a、2bが被測定光学系に対して
所望の測定径rと角度で入射するように、2光束偏向機
構4を調整する。s105ではワークを回転させて2光
路長差の測定を行い、s106で光束往復分等の2光路
長差補正を行って、s107で各成分(nq成分、nは
奇数)を抽出する。s107までで1つの測定径rにお
ける測定が終了する。さらに他の測定径で測定する場合
は、s103に戻って測定を繰り返す。全ての測定径を
測定し終えたならば、s108で全面の透過波面収差の
算出を行う。
図4に限定されない。例えばs107のq成分抽出と2
光路長差補正は全測定径測定後一括に行うことにして、
s105で2光路長取得後すぐにs103に戻って測定
を続けてもいいし、s103とs104を逆にしてもよ
い。
とs107のステップを行わず、全ての測定径について
測定を行い、各径における2光路長差データを連結して
全面情報に直してから、各収差成分の分離を行うことも
可能である。
点が被測定光学系7の光軸上にあり、主光線が光軸と一
致している場合を例にとって説明した。別の実施形態と
して被測定光学系7の光軸外のある物点に対応する主光
線回りに被測定光学系を回転させて測定する場合も原理
は同一である。光軸外の物点に対しての構成例は実施形
態5で祥述するが、本実施形態の保持回転手段9の代わ
りに図7に示す被測定光学系7を傾斜し、平行移動させ
る保持回転手段33が用いられる。被測定光学系7を測
定したい主光線回りに回転させ、2光束偏向機構4が2
光束2a、2bを主光線がなす軸に対して被測定光学系
7の同一径に入射させるような構成にすると、光軸外の
物点に対しても測定可能となる。
び波面収差測定方法は、3q成分、5q成分等のnq成
分(nは奇数)の透過波面収差を測定する場合に関する
ものである。実施形態2では1θ成分のコマ収差を精度
良く測定するため、2光束の相対方位を180°に設定
した。しかしながら3q成分、5q成分等の3以上の高
次のnq成分(nは奇数)の透過波面収差を測定する場
合には、2光路長差が最大になる2光束の相対方位は必
ずしも180°に限定されず、2光束の相対方位が、 (15) (2m+1)・π/n、 ただし、(2m+1)<n;m=0、1、2、…、 なら、2光路長差の振幅が最大値となり、最もS/N比
が高い状態となる。
に相対方位π/3、5q成分の場合は相対方位π/5、
3π/5の場合でも2光路長差が最大となる。さらに、
2光束の相対方位を180°以外にしておけば、1θ成
分であるコマ成分の影響が小さくなるので、高次の奇数
次成分測定時に観測したい成分のS/N比が向上する。
としたのが本発明の実施形態3で、図3の波面測定装置
の2光束偏向機構4を図6に示す2光束偏向機構4’で
置換したことが特徴である。
方位をπ/3=60°としたときを例に説明を行なう。
これまでの実施形態と同じ部材に関しては同一の符号が
付けてあり、座標の取り方も前実施形態と同じとする。
図6は2光束偏向機構4’を図3におけるxの負の側か
らみている。また、本実施形態においても、説明を簡単
にするため、物点が被測定光学系の光軸上にあり、主光
線と光軸が一致している場合を例に説明する。
手段5a、5bと偏向手段6a、6bを有し、yz平面
にある一軸スライダ102a、102bと、各一軸スラ
イダの相対角度を可変とするスライド角度可変手段10
1から構成されている。図6では、一軸スライド102
aが固定で、一軸スライド102bを回転させる構成と
なっている。102b側を回転側としたのは光束2bが
被測定光学系7の光軸である回転軸10上を走っている
ためである。一軸スライド102bが固定で一軸スライ
ド102aが回転する構成、あるいは一軸スライド両方
が回転する構成も微小な系の変更で実現することができ
る。
分割結合素子3から来た2光束2a、2bが一軸スライ
ダ102bの回転に追随し、各一軸スライダ102a、
102bの長手方向に平行に偏向されるように設置され
る。偏向手段6a、6bは各一軸スライダ方向に移動可
能で、各一軸スライド102a、102bとx軸が作る
平面に垂直な軸回りに回転可能となっている。
作用は次のとおりである。
分割結合素子3により、回転軸10に平行に偏向され
る。2光束分割結合素子3は回転軸10と一致する光路
を通過する偏向光束2bが回転軸10上に存在する偏向
手段5bで反射し、回転軸10に平行でy軸方向にシフ
トした光路を通る光束2aがy軸上に存在する偏向手段
5aで反射するように光路を調整する。
段101により相対角度60°を持つように調整された
一軸スライド102a、102b上の偏向手段5a、5
bにより、各一軸スライドに平行で相対角度60°を持
つよう偏向を受ける。偏向を受けた2光束2a、2b
は、あらかじめ被測定光学系7の測定したい同一径rに
同一入射角度で入射するように移動調整した偏向手段6
a、6bにより偏向され、被測定光学系7へ向かう。2
光束2a、2bは被測定光学系7透過後、図3に示すよ
うにあらかじめ移動調整済みの球面ミラー8に垂直入射
して反射され、同一光路を辿ってもとの光学系に戻る。
次いで2光束2a、2bは2光束分離結合素子3で合成
されて受光素子14上に干渉縞を生じ、2光路長差が観
測される。球面ミラー8の位置は必要に応じて微調整が
行なわれる。
回転手段9で回転され、光検出手段14からの信号と回
転方位検出手段12からの信号が演算手段13で処理さ
れる。光検出手段14から得られるのは保持回転手段9
の回転に応じた2光束の光路長差による干渉光の強度変
化信号で、該強度変化信号は回転に伴う周期信号であ
る。該周期信号と測定方位を示す回転方位検出手段12
の検出信号とを対応つけて記憶することにより、被測定
光学系7の入射径rでの入射光線状態における、被測定
光学系全周の2光路長差データを得ることができる。
間の相対角度を60°に保ったまま、2光束の被測定光
学系7への入射径rが順次変化するように2光束偏向機
構4’を調整し同様の2光路長差測定を行う。測定され
た2光路長差データから実施形態2のように3q成分を
抽出すれば、被測定光学系7の測定径rにおける透過波
面収差の3q成分を取得することができ、同様に径rに
ついての取得データを連結すれば、3q成分の波面収差
係数が取得できる。
偏向機構4’のスライド角度可変手段101により、一
軸スライダ102s、102bの相対角度を18°か、
54°にすることで測定可能である。同様に、スライド
角度可変手段101を用いて一軸スライド間の相対角度
を変化させれば、さらに高次のnq成分(nは奇数)の
透過波面収差の測定も可能である。
点が被測定光学系7の光軸上にあり、主光線が光軸と一
致している場合を例に説明した。別の実施形態として被
測定光学系7の光軸外のある物点に対応する主光線回り
に被測定光学系を回転させて測定する場合も原理は同一
である。光軸外の物点に対しての構成例は実施形態5で
祥述するが、本実施形態の保持回転手段9の代わりに図
7に示す被測定光学系7を傾斜し、平行移動させる保持
回転手段33が用いられる。被測定光学系7を測定した
い主光線回りに回転させ、図6に示す2光束偏向機構
4’が2光束2a、2bを主光線がなす軸に対して被測
定光学系7の同一径に同一の入射角度で入射する構成に
すると、光軸外の物点に対しても測定可能となる。
び波面収差測定方法は、透過波面収差のうちアス成分
(2q)の測定に関するものである。本実施形態でも説
明を簡単にするため、物点が被測定光学系の光軸上にあ
り、主光線が光軸が一致している場合を例に説明する。
(nは偶数)を測定する場合、被測定光学系に入射させ
る2光束の相対方位は、(15)式と同様に、 (16) (2m+1)・π/n、 ただし、(2m+1)<n;m=0、1、2、…、 のとき2光路長差の振幅が最大値をとり、観測したい成
分のS/N比が向上する。例えば2q成分の場合は相対
方位π/2、4q成分の場合は相対方位π/4、3π/
4の場合に2光路長差が最大となる。
定装置の構成は実施形態2で説明したものを使用する。
即ち、図3の波面測定装置において2光束偏向機構4を
図6の2光束偏向機構4’に置換した構成である。
でスライド角度可変手段101により、一軸スライド1
02a、102bの相対角度を90°にしてアス成分の
測定を行なうことを特徴としている。
ム整形光学系24で十分に細い光束に変換された後、光
束分割結合素子3により2光束2a、2bに分割されて
回転軸10に平行な光束となって、図5の2光束偏向機
構4’に入射する。2光束分割結合素子3は回転軸10
上を通る光束2bが回転軸10上に存在する偏向手段5
bで反射し、回転軸10と平行でy軸方向にシフトした
位置を通る光束2aがy軸上に存在する偏向手段5aで
反射するように予め調整を行なっておく。
段101により相対角度90°を持つように調整された
一軸スライド102a、102b上の偏向手段5a、5
bにより、各一軸スライドに平行になるように偏向を受
ける。偏向を受けた2光束2a、2bは、あらかじめ被
測定光学系7の測定したい同一径rに同一角度で入射す
るように移動調整した偏向手段6a、6bで偏向を受
け、被測定光学系7へと向かう。
施形態1で説明したように、該被測定光学系7が実際に
使われる状況に近い角度とすることが望ましい。
後、図3で示した球面ミラー8で垂直反射し、同一光路
を辿ってもとの光学系に戻る。次いで、2光束2a、2
bは2光束分離結合素子3で結合されて光検出手段14
上に干渉縞を形成し、光電信号に変換される。光検出手
段14の信号の観測より2光束の干渉縞のコントラスト
が最大になるように2光束偏向機構4’もしくは、球面
ミラー8の微調整を行う。
持回転手段9により回転され、光検出手段14からの信
号と回転方位検出手段12からの信号が演算手段13で
処理される。光検出手段14から得られるのは保持回転
手段9の回転に応じた2光束の光路長差による干渉光の
強度変化信号で、該強度変化信号は回転に伴う周期信号
である。該周期信号と測定方位を示す回転方位検出手段
12の検出信号とを対応つけて記憶することにより、被
測定光学系7の入射径rでの入射光線状態における、被
測定光学系全周の2光路長差データを得ることができ
る。
を抜き出せば、被測定光学系7の光軸を中心とした透過
波面収差のアス成分が測定できる。本実施形態では2光
束を相対方位90°で被測定光学系7に入射させている
ので、2q成分は高いS/N比で測定される。
間の相対角度を90°に保ったまま、2光束の被測定光
学系7への入射径rが順次変化するように2光束偏向機
構4’を調整し、2光路長差測定を行う。測定された2
光路長差データから実施形態2と類似の手順で2q成分
を抽出すれば、被測定光学系7の測定径rにおける透過
波面収差の2q成分を取得することができ、径rについ
ての取得データを同様に連結すれば、2q成分の波面収
差係数が取得できる。
点が被測定光学系7の光軸上にあり、主光線が光軸と一
致している場合を例に説明した。別の実施形態として被
測定光学系7の光軸外のある物点に対応する主光線回り
に被測定光学系7を回転させて測定する場合も、原理は
同一である。光軸外の物点に対しての構成例は実施形態
5で祥述するが、本実施形態の保持回転手段9の代わり
に図7に示す被測定光学系7を傾斜し、平行移動させる
保持回転手段33が用いられる。被測定光学系7を測定
したい主光線回りに回転させ、図6に示す2光束偏向機
構4’が2光束2a、2bを主光線がなす軸に対して被
測定光学系7の同一径に同一の入射角度で入射させる構
成にすると、光軸外の物点に対しても測定が可能であ
る。
の軸外にある場合の波面収差測定装置及び波面収差測定
方法で図7に示す構成を取ったものである。
同一の符号で示され、座標系も図1と同様に設定されて
いる。
4’’は2光束偏向機構で光束分割結合素子30、偏向
手段31、32a、32bからなっている。30は光束
分割結合素子で光束を2つの可干渉性光束2a、2bに
分割するとともに、被測定光学系7透過後に戻ってきた
2光束を重ね合せる。31は光束2aの偏向手段、32
a、32bはそれぞれ光束2a、2bの偏向手段で、y
軸方向に移動可能で、z軸回りに回転可能となってい
る。33は被測定光学系7の保持回転手段で、被測定光
学系7を傾斜及び方向移動させ、該傾斜及び移動量は回
転方位検出手段12でモニターされている。
測定光学系7が平行移動と傾斜でき、軸外の物点に対応
する主光線を軸として回転できる構成となっている点が
実施形態1との違いである。また、2光束偏向機構4”
は2光束の一方を主光線として入射させ、もう一方を被
測定光学系7の所望の位置に所定の角度で入射させる。
の測定対象となる軸外の物点に入射する主光線と回転軸
10が一致するように、傾斜、平行移動量を調整する。
整形手段24で十分に細い光束に変換された後、偏向手
段29で偏向を受け、2光束分割結合素子30で、2光
束2a、2bに分割される。光束分割結合素子30によ
り反射された光束2bは偏向手段32bへ到達し、被測
定光学系7の測定対象となっている軸外物点に対応する
主光線と一致するよう偏向される。2光束分割結合素子
30を透過した光束2aは偏向手段31で反射後、偏向
素子32aにより被測定光学系7の所望の位置に所望の
角度で入射するように偏向される。
し、あらかじめ2光束が垂直反射するように調整された
球面ミラー8に垂直入射し反射される。球面ミラー8は
保持回転手段33による被測定光学系7の回転に伴い、
回転軸10回りを保持回転手段33に同期して回転す
る。球面ミラー8を反射した2光束は被測定光学系7を
同一光路を辿って透過して戻り、光束分割結合素子30
で重ね合わされて光検出手段14上に干渉縞を形成す
る。
段33を回転させると、光検出手段14からは2光束の
光路長差分に応じた干渉光の強度変化信号が周期信号と
して得られる。該強度変化信号と測定方位を示す回転方
位検出手段12の検出信号を対応つけて記憶することに
よって、該入射光線状態における被測定光学系7全周の
2光路長差データを得ることができる。光検出手段14
からの信号と、回転方位検出手段12からの信号は演算
手段13で処理される。
1等と同じく2光束2a、2bを2周波光とし、ヘテロ
ダイン法を使用すると高精度位相検出が可能である。
で、被測定光学系7が回転しても光路長が変化すること
はないが、光束2aは被測定光学系7の収差によって光
路長が変動する。得られた2光路長差データは回転保持
手段33の回転に応じて、被測定光学系7の収差に対応
する変化をする。
は固定のまま光束偏向機構4’’内の偏向手段32aを
調整し、光束2aの被測定光学系7への入射径rを所定
量変化させて2光路長差測定を同様に行う。入射径rを
順次変化させながら同様の測定を繰り返すことによっ
て、主光線の軸を中心として各測定径rに対するレンズ
全周の2光路長差データが取得できる。測定径rの変化
に伴って、光束2aの被測定光学系7からの射出状態が
変化するので、球面ミラー8は光束2aと2bがで垂直
射するように移動、調整される。球面ミラー8の移動に
伴い生じる光束2bの光路長変化は、球面ミラー8の移
動量を移動量検出手段11により測定した値を用いて補
正をかける。
回転軸10回りに測定した被測定光学系7全周の2光路
長差を複数個の径に関して連結すれば、被測定光学系7
全面の透過波面収差を得ることができる。得られるデー
タは光束2bが被測定光学系7に入射する状態が、被測
定光学系7のある物点に対する主光線と同等としたとき
のものである。また、2光束は被測定光学系7を2回透
過するので、2光路長差データに0.5を乗したしたも
のが、被測定光学系7の透過波面収差に相当する。
定装置及び波面収差測定方法においてはヌルレンズ等を
使用することなく、被測定光学系の透過波面収差を高精
度に、簡単な装置構成で測定することが可能となった。
とであらゆる光学系に対応できるため、被測定光学系毎
にヌルレンズを製作という繁雑さからも逃れることがで
きて、コスト面、日程的にも極めて有利である。またヌ
ルレンズを装着、あるいは交換するスペースも不要とな
るため、装置が大型化しないというメリットもある。
なヌルレンズ自体の収差の絶対値のキャリブレーション
が不要で誤差要因が小さい。本発明で測定対象とした波
面収差は2光束を干渉させて相対計測可能なものであ
り、常に一方が参照光となる、または配置上の条件で誤
差が最小となるように設定できるため、従来法より高精
度な測定が可能である。
の構成を示す図
のフローを示す図
の構成を示す図
のフローを示す図
の構成を示す図
の構成を示す図
Claims (33)
- 【請求項1】光学系の波面収差を測定する波面収差測定
装置において、該装置は被測定光学系を保持しある回転
軸を中心に回転させる回転機構と、2つの可干渉性光束
の発生手段と、該2つの可干渉性光束のうち少なくとも
第1の光束を被測定光学系の所望の径に所望の角度で入
射させるための光束偏向手段と、被測定光学系を透過し
た第1の光束を垂直反射させる光束反射手段と、被測定
光学系を透過後、該光束反射手段で垂直反射して再び被
測定光学系を透過する第1の光束と、該2つの可干渉性
光束のもう一方である第2の光束を結合して干渉させる
光学系を有し、被測定光学系の回転に伴って得られる該
2つの可干渉性光束の干渉と該回転の方位の情報から、
被測定光学系の透過波面収差を算出することを特徴とす
る波面収差測定装置。 - 【請求項2】前記回転軸が被測定光学系のある物点に対
する主光線と一致することを特徴とする請求項1記載の
波面収差測定装置。 - 【請求項3】前記回転に伴い該光束反射手段が回転する
ことを特徴とする請求項2記載の波面収差測定装置。 - 【請求項4】該2つの可干渉性光束の第2の光束を前記
主光線が作る軸から被測定光学系に入射させるととも
に、第1の光束を被測定光学系の所望の径に所望の角度
で入射させ、該2光束を被測定光学系を透過後、該光束
反射手段で垂直反射させてもう一度被測定光学系を透過
させた後、結合し、干渉させることを特徴とする請求項
2記載の波面収差測定装置。 - 【請求項5】該2つの可干渉光束の第2の光束を被測定
光学系のレンズ面により反射させ基準光とし、第1の光
束を被測定光学系の所望の径に所望の角度で入射させて
被測定光学系透過後、該光束反射手段で垂直反射して再
び被測定光学系を透過させた後、前記基準光と結合し、
干渉させることを特徴とする請求項2記載の波面収差測
定装置。 - 【請求項6】該2つの可干渉光束の第2の光束を被測定
光学系外の基準面により反射させて基準光とし、第1の
光束を被測定光学系の所望の径に所望の角度で入射させ
て被測定光学系透過させた後、該光束反射手段で垂直反
射して再び被測定光学系を透過させた後、前記基準光と
結合し、干渉させることを特徴とする請求項2記載の波
面収差測定装置。 - 【請求項7】被測定系の所望の径に所望の角度で入射す
る第1の光束が、複数個の入射径の条件を取る様に、順
次前記光束偏向手段を制御して被測定光学系の波面収差
の情報を得ることを特徴とする請求項4〜6記載の波面
収差測定装置。 - 【請求項8】前記複数個の条件で取得された情報を連結
して被測定光学系の全体の波面収差を得ることを特徴と
する請求項7記載の波面収差測定装置。 - 【請求項9】該2つの可干渉性光束によって形成される
干渉縞の位相を検出する手段がヘテロダイン法であるこ
とを特徴とする請求項1〜8記載の波面収差測定装置。 - 【請求項10】前記回転軸を中心に回転している被測定
光学系の各面に対して、順次、前記2つの可干渉性光束
を被測定光学系の対象面の見かけの曲率中心近傍に集光
交差させて照射し、該被測定光学系対象面から反射する
2つの可干渉性光束の重ね合せによって形成される干渉
縞の変動から、前記回転軸に対する被測定光学系各面の
偏心量を測定することを特徴とする請求項9記載の波面
収差測定装置。 - 【請求項11】光学系の波面収差を測定する波面収差測
定装置において、該装置は被測定光学系を保持しある回
転軸を中心に回転させる回転機構と、2つの可干渉性光
束の発生手段と、該2つの可干渉性光束が回転軸を中心
として被測定光学系に同一の径で同一の入射角度を持っ
て入射するように偏向させる光束偏向手段と、被測定光
学系を透過した光束を垂直反射させる光束反射手段と、
被測定光学系を透過後、該光束反射手段で垂直反射して
再び被測定光学系を透過する該2つの可干渉性光束を結
合して干渉させる光学系を有し、被測定光学系の回転に
伴って得られる該2つの可干渉性光束の干渉と該回転の
方位の情報から、被測定光学系の透過波面収差を算出す
ることを特徴とする波面収差測定装置。 - 【請求項12】請求項11記載の光束偏向手段は前記回
転軸に垂直な一軸スライドを持ち、該一軸スライドは入
射光束を一軸スライドの長手方向に偏向する第1の偏向
手段と、該一軸スライドに沿って移動し、第1の偏向手
段から導かれる光束を被測定光学系の所定の位置に所定
の角度で入射させる第2の偏向手段と、第2の偏向手段
を前記回転軸と一軸スライドがなす平面に垂直な軸回り
に回転可能とする回転手段を有することを特徴とする請
求項11記載の波面収差測定装置。 - 【請求項13】請求項11記載の光束偏向手段が該2つ
の可干渉性光束の各々に対して1つずつ計2つ設けら
れ、該2つの光束偏向手段間の相対角度を可変とする手
段を有することを特徴とする請求項12記載の透過波面
収差測定装置。 - 【請求項14】前記一軸スライドによって設定される被
測定系に対する入射径の条件を複数個とし、該複数個の
条件を、順次前記一軸スライドを制御して実現して、被
測定光学系の波面収差の情報を得ることを特徴とする請
求項13記載の波面収差測定装置。 - 【請求項15】前記複数個の条件で取得された情報を連
結して被測定光学系の全体の波面収差を得ることを特徴
とする請求項14記載の波面収差測定装置。 - 【請求項16】該2つの可干渉性光束によって形成され
る干渉縞の位相を検出する手段がヘテロダイン法である
ことを特徴とする請求項11〜15記載の波面収差測定
装置。 - 【請求項17】前記回転軸を中心に回転している被測定
光学系の各面に対して、順次、前記2つの可干渉性光束
を被測定光学系の対象面の見かけの曲率中心近傍に集光
交差させて照射し、該被測定光学系対象面から反射する
2つの可干渉性光束の重ね合せによって形成される干渉
縞の変動から、前記回転軸に対する被測定光学系各面の
偏心量を測定することを特徴とする請求項16記載の波
面収差測定装置。 - 【請求項18】光学系の波面収差を測定する波面収差測
定方法において、被測定光学系をある回転軸を中心に回
転させながら、2つの可干渉性光束のうち少なくとも第
1の光束を被測定光学系の所望の径に所望の角度で入射
させるとともに、被測定光学系を行き帰り同一の光路で
往復して戻ってきた第1の光束と該2つの可干渉性光束
の第2の光束を結合して得られる干渉信号と、被測定光
学系の回転方位の情報から、被測定光学系の波面収差を
算出することを特徴とする波面収差測定方法。 - 【請求項19】前記回転軸が被測定光学系のある物点に
対する主光線と一致することを特徴とする請求項18記
載の波面収差測定方法。 - 【請求項20】該2つの可干渉性光束の第2の光束が前
記主光線に一致し、第1の光束が被測定光学系の所望の
径に所望の角度で入射し、該2光束が被測定光学系を行
き帰り同一の光路で往復した後、結合して得られる干渉
信号と、被測定光学系の回転方位の情報から、被測定光
学系の波面収差を求めることを特徴とする請求項19記
載の波面収差測定方法。 - 【請求項21】該2つの可干渉性光束の第2の光束を被
測定光学系のレンズ面により反射させて基準光とし、第
1の光束を被測定光学系の所望の径に所望の角度で入射
し、被測定光学系を行き帰り同一の光路で往復した後、
前記基準光と結合して得られる干渉信号と、被測定光学
系の回転方位の情報から、被測定光学系の波面収差を求
めることを特徴とする請求項19記載の波面収差測定方
法。 - 【請求項22】該2つの可干渉性光束の第2の光束を被
測定光学系外の基準面により反射させて基準光とし、第
1の光束を被測定光学系の所望の径に所望の角度で入射
し、被測定光学系を行き帰り同一の光路で往復した後、
前記基準光と結合して得られる干渉信号と、被測定光学
系の回転方位の情報から、被測定光学系の波面収差を求
めることを特徴とする請求項19記載の波面収差測定方
法。 - 【請求項23】被測定系の所望の径に所望の角度で入射
する光束が、複数個の入射径の条件を取る様に、順次前
記光束偏向手段を制御して被測定光学系の波面収差の情
報を得ることを特徴とする請求項20〜22記載の波面
収差測定方法。 - 【請求項24】前記複数個の条件で取得された情報を連
結して被測定光学系の全体の波面収差を得ることを特徴
とする請求項23記載の波面収差測定方法。 - 【請求項25】該2つの可干渉性光束によって形成され
る干渉縞の位相をヘテロダイン法によって検出すること
を特徴とする請求項18〜24記載の波面収差測定方
法。 - 【請求項26】前記回転軸を中心に回転している被測定
光学系の各面に対して、順次、2つの可干渉性光束を被
測定光学系の対象面の見かけの曲率中心近傍に集光交差
させて照射し、該被測定光学系対象面から反射する2つ
の可干渉性光束の重ね合せによって形成される干渉縞の
変動から、前記回転軸に対する被測定光学系各面の偏心
量を測定することを特徴とする請求項25記載の波面収
差測定方法。 - 【請求項27】光学系の波面収差を測定する波面収差測
定方法において、被測定光学系を保持してある回転軸を
中心に回転させながら、2つの可干渉性光束を回転軸を
中心として被測定光学系に同一の径で同一の入射角度を
持って入射させ、該2つの可干渉性光束が被測定光学系
を往復させて戻った後、結合させて干渉させることによ
って得られる干渉信号と、被測定光学系の回転方位の情
報から、被測定光学系の波面収差を算出することを特徴
とする波面収差測定方法。 - 【請求項28】被測定光学系に同一の径で同一の入射角
度を持って入射する該2つの可干渉性光束の前記回転軸
に対する相対角度を可変として被測定光学系の波面収差
を測定することを特徴とする請求項27記載の透過波面
収差測定方法。 - 【請求項29】nθ成分を持つ波面収差を測定する時、
前記相対角度を (2m+1))・π/n ただし2m+1<n;m=
0、1、2、… と設定することを特徴とする請求項28記載の波面収差
測定方法。 - 【請求項30】被測定系に対する入射径の条件を複数個
として、被測定光学系の波面収差の情報を得ることを特
徴とする請求項29記載の波面収差測定方法。 - 【請求項31】前記複数個の条件で取得された情報を連
結して被測定光学系の全体の波面収差を得ることを特徴
とする請求項30記載の波面収差測定方法。 - 【請求項32】該2つの可干渉性光束によって形成され
る干渉縞の位相をヘテロダイン法によって検出すること
を特徴とする請求項27〜32記載の波面収差測定方
法。 - 【請求項33】前記回転軸を中心に回転している被測定
光学系の各面に対して、順次、2つの可干渉性光束を被
測定光学系の対象面の見かけの曲率中心近傍に集光交差
させて照射し、被測定光学系対象面から反射する前記2
つの可干渉性光束の重ね合せによって形成される干渉縞
の変動から、前記回転軸に対する被測定光学系各面の偏
心量を測定することを特徴とする請求項32記載の波面
収差測定方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12952598A JP3630983B2 (ja) | 1998-04-23 | 1998-04-23 | 波面収差測定方法及び波面収差測定装置 |
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JPH11304641A true JPH11304641A (ja) | 1999-11-05 |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009028332A1 (ja) * | 2007-08-27 | 2009-03-05 | Nikon Corporation | 波面収差計測装置および方法、並びに波面収差調整方法 |
CN102261985A (zh) * | 2011-06-13 | 2011-11-30 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 光学***波像差标定装置及该装置测试误差的标定方法 |
JP2021096131A (ja) * | 2019-12-17 | 2021-06-24 | キヤノン株式会社 | 偏芯計測方法および偏芯計測装置 |
-
1998
- 1998-04-23 JP JP12952598A patent/JP3630983B2/ja not_active Expired - Fee Related
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WO2009028332A1 (ja) * | 2007-08-27 | 2009-03-05 | Nikon Corporation | 波面収差計測装置および方法、並びに波面収差調整方法 |
JP2009075090A (ja) * | 2007-08-27 | 2009-04-09 | Nikon Corp | 波面収差計測装置および方法、並びに波面収差調整方法 |
US8797520B2 (en) | 2007-08-27 | 2014-08-05 | Nikon Corporation | Wavefront aberration measuring device and method and wavefront aberration adjusting method |
CN102261985A (zh) * | 2011-06-13 | 2011-11-30 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 光学***波像差标定装置及该装置测试误差的标定方法 |
JP2021096131A (ja) * | 2019-12-17 | 2021-06-24 | キヤノン株式会社 | 偏芯計測方法および偏芯計測装置 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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