JPH11290792A - 処理液供給装置 - Google Patents
処理液供給装置Info
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- JPH11290792A JPH11290792A JP10090398A JP10090398A JPH11290792A JP H11290792 A JPH11290792 A JP H11290792A JP 10090398 A JP10090398 A JP 10090398A JP 10090398 A JP10090398 A JP 10090398A JP H11290792 A JPH11290792 A JP H11290792A
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- nozzle
- processing liquid
- bubbles
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 処理液を無駄に排液せずに容易にノズル内の
エア抜きを行って処理液供給時の気泡によるトラブルを
防止する。 【解決手段】 ノズル口8に連通する塗布液通路のノズ
ル部材9内の液溜り部14に通気性かつ非通液性の素材
よりなる区画部材21,22が設けられ、これらの区画
部材21,22内を減圧ポンプ25で減圧するため、外
部塗布液槽17から処理液供給配管15を介して液溜り
部14内に至った塗布液16中に気泡が存在していたと
しても、液溜り部14内の区画部材21,22に気泡だ
けが吸引されて取り込まれ、気泡の取り除かれた塗布液
はスリット部8aを経てノズル口8から基板2の被塗布
面に吐出される。
エア抜きを行って処理液供給時の気泡によるトラブルを
防止する。 【解決手段】 ノズル口8に連通する塗布液通路のノズ
ル部材9内の液溜り部14に通気性かつ非通液性の素材
よりなる区画部材21,22が設けられ、これらの区画
部材21,22内を減圧ポンプ25で減圧するため、外
部塗布液槽17から処理液供給配管15を介して液溜り
部14内に至った塗布液16中に気泡が存在していたと
しても、液溜り部14内の区画部材21,22に気泡だ
けが吸引されて取り込まれ、気泡の取り除かれた塗布液
はスリット部8aを経てノズル口8から基板2の被塗布
面に吐出される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、処理液供給口から
基板に対して処理液を供給する処理液供給装置に関す
る。
基板に対して処理液を供給する処理液供給装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】この種の処理液供給装置は、液晶表示デ
バイス(LCD)、プラズマ表示デバイス(PDP)、
半導体デバイスおよびその他の各種電子部品などの製造
プロセスにおいて、LCDまたはPDP用ガラス基板、
半導体基板およびプリント基板などの基板表面に対し
て、フォトレジスト液や現像液、洗浄液などの各種処理
液を供給していた。
バイス(LCD)、プラズマ表示デバイス(PDP)、
半導体デバイスおよびその他の各種電子部品などの製造
プロセスにおいて、LCDまたはPDP用ガラス基板、
半導体基板およびプリント基板などの基板表面に対し
て、フォトレジスト液や現像液、洗浄液などの各種処理
液を供給していた。
【0003】例えば、立設された縦方向の基板面に対し
てフォトレジスト液などの塗布液を供給可能な処理液供
給装置としてのノズルを下方向に相対移動させつつ、毛
管現象で塗布液槽から汲み上げられた塗布液をノズルの
処理液供給口から基板面に吐出して塗布するスリットコ
ータがある。
てフォトレジスト液などの塗布液を供給可能な処理液供
給装置としてのノズルを下方向に相対移動させつつ、毛
管現象で塗布液槽から汲み上げられた塗布液をノズルの
処理液供給口から基板面に吐出して塗布するスリットコ
ータがある。
【0004】また、例えば、基板を水平に保った状態
で、処理液供給装置としてのノズルを基板の上方へ移動
させてその処理液供給口から基板上に処理液を供給し、
基板を回転させて基板上の処理液に遠心力を与えること
で、基板表面上の外周部まで均一に処理液を塗布するス
ピンコータが広く利用されている。
で、処理液供給装置としてのノズルを基板の上方へ移動
させてその処理液供給口から基板上に処理液を供給し、
基板を回転させて基板上の処理液に遠心力を与えること
で、基板表面上の外周部まで均一に処理液を塗布するス
ピンコータが広く利用されている。
【0005】さらに、これらのスリットコータやスピン
コータのノズルの他に、超音波洗浄ノズルや現像ノズ
ル、エッジリンスノズルなどがあり、それらのノズルの
処理液供給口の形状はスリット式、単孔式または多孔式
(一列または複数列)となっている。
コータのノズルの他に、超音波洗浄ノズルや現像ノズ
ル、エッジリンスノズルなどがあり、それらのノズルの
処理液供給口の形状はスリット式、単孔式または多孔式
(一列または複数列)となっている。
【0006】これらのノズル内部では、装置設置場所の
微妙な温度変化などによる混入空気の気化によって液中
に気泡が発生する場合がある。また、ノズルに至る配管
途中で内部圧力の変化などにより発生または混入した気
泡がノズル内に侵入する場合もある。さらに、塗布終了
後に余剰液を吸い込むサックバック機構では、その余剰
液を処理液供給口から引き戻す際に、そのスリット部な
どで均等に戻すことができず、左右のスリット端部など
で小さい気泡を吸い込む場合がある。つまり、その調整
が微妙でプロセスマージンが少ないために、気泡がノズ
ルの処理液供給口のスリット部や多孔部に留まらずにノ
ズル内部まで侵入してしまう場合がある。さらには、こ
れらの上記各原因によって気泡が発生するが、その膨張
によってノズルの処理液供給口から液のボタ落ちが発生
すると、その収縮によってノズルの処理液供給口からノ
ズル内部まで気泡が侵入する場合もある。このように、
液のボタ落ちが発生すると、逆に、気泡の弾性により気
泡が混入しやすくなるという悪循環を起こすことにな
る。
微妙な温度変化などによる混入空気の気化によって液中
に気泡が発生する場合がある。また、ノズルに至る配管
途中で内部圧力の変化などにより発生または混入した気
泡がノズル内に侵入する場合もある。さらに、塗布終了
後に余剰液を吸い込むサックバック機構では、その余剰
液を処理液供給口から引き戻す際に、そのスリット部な
どで均等に戻すことができず、左右のスリット端部など
で小さい気泡を吸い込む場合がある。つまり、その調整
が微妙でプロセスマージンが少ないために、気泡がノズ
ルの処理液供給口のスリット部や多孔部に留まらずにノ
ズル内部まで侵入してしまう場合がある。さらには、こ
れらの上記各原因によって気泡が発生するが、その膨張
によってノズルの処理液供給口から液のボタ落ちが発生
すると、その収縮によってノズルの処理液供給口からノ
ズル内部まで気泡が侵入する場合もある。このように、
液のボタ落ちが発生すると、逆に、気泡の弾性により気
泡が混入しやすくなるという悪循環を起こすことにな
る。
【0007】このような構成では、ノズル内にある気泡
が液処理中に処理液供給口から出てしまう場合には、プ
ロセス不良を発生させてしまうという問題を有してい
た。例えば、スリットコータでは、気泡の部分がノズル
走行方向にスジ状の塗布ムラになって製品不良に直結す
る。また、例えばスリット式ノズルを基板に対して動か
しつつ塗布液をプリコートし、その後、基板を回転させ
るいわゆるスリット&スピン塗布方式においては、プリ
コート時にはスピンによる均一塗布が可能な最小量の塗
布液のみを供給することが望ましいが、この時に気泡が
塗布液に混ざると、スピン処理時に放射状の塗りムラを
発生する。さらに、現像液のパドル形成用ノズルによる
パドル形成時では、パドル内に気泡が存在することによ
って、その気泡部分では現像液に触れず現像されない状
態となって部分的現像不良が発生する。
が液処理中に処理液供給口から出てしまう場合には、プ
ロセス不良を発生させてしまうという問題を有してい
た。例えば、スリットコータでは、気泡の部分がノズル
走行方向にスジ状の塗布ムラになって製品不良に直結す
る。また、例えばスリット式ノズルを基板に対して動か
しつつ塗布液をプリコートし、その後、基板を回転させ
るいわゆるスリット&スピン塗布方式においては、プリ
コート時にはスピンによる均一塗布が可能な最小量の塗
布液のみを供給することが望ましいが、この時に気泡が
塗布液に混ざると、スピン処理時に放射状の塗りムラを
発生する。さらに、現像液のパドル形成用ノズルによる
パドル形成時では、パドル内に気泡が存在することによ
って、その気泡部分では現像液に触れず現像されない状
態となって部分的現像不良が発生する。
【0008】また、ノズル内にある気泡が液処理中に処
理液供給口から出ずにノズル内部に留まってしまう場合
には、スリット&スピンコータや現像パドル形成用ノズ
ルなどで、気泡の弾性や温度膨張などによってノズル移
動中に製品である基板上に液のボタ落ちを起こしたり、
また、スリットコータなどでは気泡の弾性により吐出圧
力をかけてもその圧力を気泡が一部吸収してしまって制
御応答性(レスポンス)が悪化し基板の有効エリアにお
いても塗布の不均一性が発生してしまう。また、流水式
高周波洗浄ノズルでは、発振子は液体に対してエネルギ
ーを与えるように発振するとよいが、気泡の量にもよる
が空気などの気体中の発振ではエネルギーを与えきれず
に、発振子の空発振による破損(自己破壊)が発生す
る。
理液供給口から出ずにノズル内部に留まってしまう場合
には、スリット&スピンコータや現像パドル形成用ノズ
ルなどで、気泡の弾性や温度膨張などによってノズル移
動中に製品である基板上に液のボタ落ちを起こしたり、
また、スリットコータなどでは気泡の弾性により吐出圧
力をかけてもその圧力を気泡が一部吸収してしまって制
御応答性(レスポンス)が悪化し基板の有効エリアにお
いても塗布の不均一性が発生してしまう。また、流水式
高周波洗浄ノズルでは、発振子は液体に対してエネルギ
ーを与えるように発振するとよいが、気泡の量にもよる
が空気などの気体中の発振ではエネルギーを与えきれず
に、発振子の空発振による破損(自己破壊)が発生す
る。
【0009】これらを解決するために、例えば、ノズル
内タンク上部にエア抜きベントを設け、定期的またはノ
ズルの調子が悪いときの不定期的に、エア抜きベントを
介してノズル内タンクを加圧しつつエア抜きベントの弁
を開状態にしてオートシーケンスまたはマニュアルにて
エア抜き制御を行っていた。また、ノズルIN側ポート
に取り付けられたエアディテクタが、通過した気泡を検
知した場合に、その装置に停止命令をかけて停止させ、
エア抜きベントを介してノズル内タンクを加圧しつつ、
その弁を開状態にしてオートシーケンスまたはマニュア
ルにてエア抜き制御を行っていた。これらの各種ノズル
において、エアがみを防止するべく処理液供給口から処
理液を吐出すると同時にエアベントラインよりスローリ
ークさせる系統を設けている場合もあった。さらに、エ
ア抜きベントより上記タイミング(液の吐出と同時)に
真空引きによる気泡の吸引を行っていた。さらに、処理
液供給口から気泡を排出するべくオートシーケンスまた
はマニュアルにてノズル待機部などで塗布前のダミーデ
ィスペンスなどを行っていた。さらに、スリット&スピ
ンコータによるレジストプリコート時や、現像パドル形
成用ノズルによる現像液のパドル形成時などに、気泡に
よる製品不良を防止するべく、気泡が介在しない場合よ
りも多量のディスペンスを行い、基板の吐出部全面を液
で濡れるようにしていた。さらには、バー状の流水式高
周波洗浄ノズルでは流水開始後、発振子をオンするまで
にディレイタイマなどによってタイムラグを設けて空発
振による自己破壊を防止していた。
内タンク上部にエア抜きベントを設け、定期的またはノ
ズルの調子が悪いときの不定期的に、エア抜きベントを
介してノズル内タンクを加圧しつつエア抜きベントの弁
を開状態にしてオートシーケンスまたはマニュアルにて
エア抜き制御を行っていた。また、ノズルIN側ポート
に取り付けられたエアディテクタが、通過した気泡を検
知した場合に、その装置に停止命令をかけて停止させ、
エア抜きベントを介してノズル内タンクを加圧しつつ、
その弁を開状態にしてオートシーケンスまたはマニュア
ルにてエア抜き制御を行っていた。これらの各種ノズル
において、エアがみを防止するべく処理液供給口から処
理液を吐出すると同時にエアベントラインよりスローリ
ークさせる系統を設けている場合もあった。さらに、エ
ア抜きベントより上記タイミング(液の吐出と同時)に
真空引きによる気泡の吸引を行っていた。さらに、処理
液供給口から気泡を排出するべくオートシーケンスまた
はマニュアルにてノズル待機部などで塗布前のダミーデ
ィスペンスなどを行っていた。さらに、スリット&スピ
ンコータによるレジストプリコート時や、現像パドル形
成用ノズルによる現像液のパドル形成時などに、気泡に
よる製品不良を防止するべく、気泡が介在しない場合よ
りも多量のディスペンスを行い、基板の吐出部全面を液
で濡れるようにしていた。さらには、バー状の流水式高
周波洗浄ノズルでは流水開始後、発振子をオンするまで
にディレイタイマなどによってタイムラグを設けて空発
振による自己破壊を防止していた。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】ところが、ノズル内タ
ンクを加圧する加圧方式や、液吐出時同時リーク方式に
より気泡を同時にエア抜きベントから排出する場合に
は、気泡だけではなく一部の液をも排液してしまうた
め、液が無駄となって効率的ではないという問題を有し
ていた。この場合、エア抜き効果にマージンを持たせる
ほど、より不利になる。また、エア抜きベントからの気
泡の排出と同時に処理液供給口側からも液が排出するよ
うにすれば、より多量の無駄な液が発生してしまう。さ
らに、この処理液がレジスト液などの薬液の場合には、
ベントラインの中で液が乾燥することによる配管詰まり
を防止するために、洗浄液が必要になるとともに、自動
化の場合には装置が複雑化(信頼性低下)し、マニュア
ルの場合には定期的にメンテナンスが必要となる。
ンクを加圧する加圧方式や、液吐出時同時リーク方式に
より気泡を同時にエア抜きベントから排出する場合に
は、気泡だけではなく一部の液をも排液してしまうた
め、液が無駄となって効率的ではないという問題を有し
ていた。この場合、エア抜き効果にマージンを持たせる
ほど、より不利になる。また、エア抜きベントからの気
泡の排出と同時に処理液供給口側からも液が排出するよ
うにすれば、より多量の無駄な液が発生してしまう。さ
らに、この処理液がレジスト液などの薬液の場合には、
ベントラインの中で液が乾燥することによる配管詰まり
を防止するために、洗浄液が必要になるとともに、自動
化の場合には装置が複雑化(信頼性低下)し、マニュア
ルの場合には定期的にメンテナンスが必要となる。
【0011】また、エア抜きベントからの真空吸引の場
合には、気泡だけではなく一部の液も同時に真空吸引さ
れてしまうために、無駄液が多量に出て効率的ではない
という問題を有していた。この場合にもエア抜き効果に
マージンを持たせるほど、より不利になる。さらに、真
空吸引でエア抜きベントから余分に気泡や液を引き込む
結果、ノズル内タンクに気泡をも侵入させてしまう。ま
た、この処理液がレジスト液などの薬液の場合には、ベ
ントラインの中で液が乾燥することによる配管詰まりを
防止するために、洗浄液が必要になるとともに、自動化
の場合には装置が複雑化(信頼性低下)し、マニュアル
の場合には定期的なメンテナンスが必要となる。さら
に、この気泡吸引用の真空源に処理液を侵入させてしま
わないためにトラップタンクが必要となり、自動化すれ
ば満杯検知センサを必要とするなど、その構成がさらに
複雑化すると共に、その分、信頼性が低下し、マニュア
ルの場合にはトラップ液量の点検やドレイン作業などの
メンテナンスが必要になる。
合には、気泡だけではなく一部の液も同時に真空吸引さ
れてしまうために、無駄液が多量に出て効率的ではない
という問題を有していた。この場合にもエア抜き効果に
マージンを持たせるほど、より不利になる。さらに、真
空吸引でエア抜きベントから余分に気泡や液を引き込む
結果、ノズル内タンクに気泡をも侵入させてしまう。ま
た、この処理液がレジスト液などの薬液の場合には、ベ
ントラインの中で液が乾燥することによる配管詰まりを
防止するために、洗浄液が必要になるとともに、自動化
の場合には装置が複雑化(信頼性低下)し、マニュアル
の場合には定期的なメンテナンスが必要となる。さら
に、この気泡吸引用の真空源に処理液を侵入させてしま
わないためにトラップタンクが必要となり、自動化すれ
ば満杯検知センサを必要とするなど、その構成がさらに
複雑化すると共に、その分、信頼性が低下し、マニュア
ルの場合にはトラップ液量の点検やドレイン作業などの
メンテナンスが必要になる。
【0012】さらに、吐出時同時リーク方式を含む加圧
式および真空吸引式ベント取付の何れの場合にも、長尺
ノズルでそのノズル内のタンク部上部の傾斜を充分に大
きく取ると、ノズル内のタンク部の容積が大きくなり過
ぎて無効量が増えて好ましくなく、かつ、液容積が大き
くなることによる粘弾性増加の影響で、レスポンスが劣
化してしまったり、液重量の増加によるボタ落ちが発生
したりする。また逆に、ノズル内のタンク部上部の傾斜
が小さいと、気泡を速やかにエア抜きベント側に移動さ
せるのが困難となる。この場合、多量のダミーディスペ
ンスが必要となり、ダウンタイムの増加や液の無効量の
増加を招いてしまう。
式および真空吸引式ベント取付の何れの場合にも、長尺
ノズルでそのノズル内のタンク部上部の傾斜を充分に大
きく取ると、ノズル内のタンク部の容積が大きくなり過
ぎて無効量が増えて好ましくなく、かつ、液容積が大き
くなることによる粘弾性増加の影響で、レスポンスが劣
化してしまったり、液重量の増加によるボタ落ちが発生
したりする。また逆に、ノズル内のタンク部上部の傾斜
が小さいと、気泡を速やかにエア抜きベント側に移動さ
せるのが困難となる。この場合、多量のダミーディスペ
ンスが必要となり、ダウンタイムの増加や液の無効量の
増加を招いてしまう。
【0013】一方、ノズルの処理液供給口であるスリッ
ト部からダミーディスペンスなどで気泡を排出する場
合、処理液の吐出レートが低いと、内壁に付着した気泡
を移動させることが困難である。このため、大流速で多
量の液をプリディスペンスする必要があり、無駄となる
液が増加し、場合によっては、ベローズポンプによるダ
ミーディスペンスでは、1ショットの容量、吐出レート
の低さなどで気泡を排出しきれない場合もあり得る。こ
のとき、気泡の排出能力(容量・吐出レート)を考慮し
てポンプのスペックを決定すると、オーバースペックに
よるコストアップ、粘弾性増加による制御応答性(レス
ポンス)の低下、塗布精度の悪化、液の無効量の増大な
どの問題が発生する。
ト部からダミーディスペンスなどで気泡を排出する場
合、処理液の吐出レートが低いと、内壁に付着した気泡
を移動させることが困難である。このため、大流速で多
量の液をプリディスペンスする必要があり、無駄となる
液が増加し、場合によっては、ベローズポンプによるダ
ミーディスペンスでは、1ショットの容量、吐出レート
の低さなどで気泡を排出しきれない場合もあり得る。こ
のとき、気泡の排出能力(容量・吐出レート)を考慮し
てポンプのスペックを決定すると、オーバースペックに
よるコストアップ、粘弾性増加による制御応答性(レス
ポンス)の低下、塗布精度の悪化、液の無効量の増大な
どの問題が発生する。
【0014】また、例えば、現像パドル形成時などの気
泡の混入を前提に液の吐出量を設定すると、液の消費量
が増え、その分、液の無駄が発生することになる。ま
た、流水式高周波洗浄ノズルでは、流水開始後に発振子
をオンするまでにタイムラグを設けて空発振を防止して
いるため、その分、処理時間が長くなってしまう。
泡の混入を前提に液の吐出量を設定すると、液の消費量
が増え、その分、液の無駄が発生することになる。ま
た、流水式高周波洗浄ノズルでは、流水開始後に発振子
をオンするまでにタイムラグを設けて空発振を防止して
いるため、その分、処理時間が長くなってしまう。
【0015】本発明は、上記従来の問題を解決するもの
で、処理液を無駄に排液せずに容易にノズル内のエア抜
きを行うことができて、処理液供給時の気泡によるトラ
ブルを防止することができる処理液供給装置を提供する
ことを目的とする。
で、処理液を無駄に排液せずに容易にノズル内のエア抜
きを行うことができて、処理液供給時の気泡によるトラ
ブルを防止することができる処理液供給装置を提供する
ことを目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明の処理液供給装置
は、処理液供給口から基板に対して処理液を供給する処
理液供給装置であって、処理液供給口に連通する通路
と、通路に気体吸引除去部が設けられ通路内の気体を気
体吸引除去部を介して通路の外部に吸引除去する気体吸
引除去手段とを有することを特徴とするものである。
は、処理液供給口から基板に対して処理液を供給する処
理液供給装置であって、処理液供給口に連通する通路
と、通路に気体吸引除去部が設けられ通路内の気体を気
体吸引除去部を介して通路の外部に吸引除去する気体吸
引除去手段とを有することを特徴とするものである。
【0017】この構成により、気体吸引除去部が処理液
供給口に連通する通路に設けられているので、従来のよ
うに気泡を排出させるために処理液を無駄に排液せず
に、気体吸引除去部から容易にノズル内の気体を吸引除
去することが可能になることから、処理液供給時の気泡
によるトラブルが防止される。
供給口に連通する通路に設けられているので、従来のよ
うに気泡を排出させるために処理液を無駄に排液せず
に、気体吸引除去部から容易にノズル内の気体を吸引除
去することが可能になることから、処理液供給時の気泡
によるトラブルが防止される。
【0018】また、本発明の処理液供給装置は、処理液
供給口から基板に対して処理液を供給する処理液供給装
置であって、処理液供給口に連通する通路と、通路に設
けられた通気性かつ非通液性の素材よりなる区画部材
と、区画部材により通路内の処理液から隔てられた領域
を減圧する減圧手段とを有することを特徴とするもので
ある。
供給口から基板に対して処理液を供給する処理液供給装
置であって、処理液供給口に連通する通路と、通路に設
けられた通気性かつ非通液性の素材よりなる区画部材
と、区画部材により通路内の処理液から隔てられた領域
を減圧する減圧手段とを有することを特徴とするもので
ある。
【0019】この構成により、気体吸引除去部として、
処理液供給口に連通する通路に通気性かつ非通液性の素
材よりなる区画部材が設けられ、この区画部材内を減圧
手段で減圧することで、区画部材内に気体だけが通過し
処理液は通過しないので、従来のように気泡を排出させ
るために処理液を無駄に排液することなく、気体吸引除
去部から容易にノズル内の気体だけを吸引除去すること
が可能になることから、処理液供給時の気泡によるトラ
ブルが防止される。
処理液供給口に連通する通路に通気性かつ非通液性の素
材よりなる区画部材が設けられ、この区画部材内を減圧
手段で減圧することで、区画部材内に気体だけが通過し
処理液は通過しないので、従来のように気泡を排出させ
るために処理液を無駄に排液することなく、気体吸引除
去部から容易にノズル内の気体だけを吸引除去すること
が可能になることから、処理液供給時の気泡によるトラ
ブルが防止される。
【0020】また、好ましくは、本発明の処理液供給装
置において、区画部材は素材を管状に形成されると共に
前記通路内に配置されており、減圧手段は管状区画部材
の管内領域を減圧するように構成している。
置において、区画部材は素材を管状に形成されると共に
前記通路内に配置されており、減圧手段は管状区画部材
の管内領域を減圧するように構成している。
【0021】この構成により、区画部材が管構成となっ
ていることから、幅が広いスリット部を通過する処理液
中の気泡を吸引除去するのにも適しており、複数の管構
成とすればその表面積が大きくなって処理液中の気泡と
の接触面積も大きくなり気泡がより容易に取り除かれ得
る。
ていることから、幅が広いスリット部を通過する処理液
中の気泡を吸引除去するのにも適しており、複数の管構
成とすればその表面積が大きくなって処理液中の気泡と
の接触面積も大きくなり気泡がより容易に取り除かれ得
る。
【0022】さらに、好ましくは、本発明の処理液供給
装置における通路は、基板に対して処理液を供給する処
理液供給口を有するノズルと、このノズルに連通する処
理液供給配管とから構成され、区画部材はノズル内に配
置されている。
装置における通路は、基板に対して処理液を供給する処
理液供給口を有するノズルと、このノズルに連通する処
理液供給配管とから構成され、区画部材はノズル内に配
置されている。
【0023】この構成により、処理液は処理液供給配管
からノズルを介してその処理液供給口に流れるが、気泡
除去用の区画部材をノズル内に配置するようにすれば、
ノズル内では処理液通路が多少広がっているので、処理
液の流れを阻害することなく、効率的に処理液中の気泡
を取り除くことが可能となる。
からノズルを介してその処理液供給口に流れるが、気泡
除去用の区画部材をノズル内に配置するようにすれば、
ノズル内では処理液通路が多少広がっているので、処理
液の流れを阻害することなく、効率的に処理液中の気泡
を取り除くことが可能となる。
【0024】また、好ましくは、本発明の処理液供給装
置における区画部材はノズル内の通路の略最上位置に配
設されている。
置における区画部材はノズル内の通路の略最上位置に配
設されている。
【0025】この構成により、気泡除去用の区画部材が
ノズル内の略最上位置に配設されていれば、気泡には上
方向に浮力が働いているので、ノズル内の略最上位置に
気泡が集まりやすく、気泡をより効率的に取り除くこと
が可能となる。
ノズル内の略最上位置に配設されていれば、気泡には上
方向に浮力が働いているので、ノズル内の略最上位置に
気泡が集まりやすく、気泡をより効率的に取り除くこと
が可能となる。
【0026】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る処理液供給装
置が用いられた塗布装置の実施形態について図面を参照
して説明するが、本発明は以下に示す実施形態に限定さ
れるものではない。
置が用いられた塗布装置の実施形態について図面を参照
して説明するが、本発明は以下に示す実施形態に限定さ
れるものではない。
【0027】(実施形態1)図1は本発明の実施形態1
の塗布装置の構成を示す斜視図である。
の塗布装置の構成を示す斜視図である。
【0028】図1において、壁状に構成されて立設され
た架台1の表面側中央部に、ガラス基板などの基板2の
被塗布面を外側に向けた状態で基板2を吸着して鉛直姿
勢に保持する吸着ステージ3が配設されている。この吸
着ステージ3の手前側に架けられたベース部材4の両端
部が各スチールベルト5に連結されており、吸着ステー
ジ3上の基板2の被塗布面に対してベース部材4がリニ
アモータ6などの駆動源によって上下動自在に構成され
ている。このベース部材4上の中央部分にはノズルユニ
ット7が載置されている。このノズルユニット7は、図
2に示すように、基板2の被塗布面に対向して開口した
水平方向の細長いノズル口8から塗布液を吐出可能なノ
ズル部材9と、このノズル部材9のノズル口8を、基板
2の被塗布面への対向位置(塗布位置)Mと点線で示す
ノズル口8が下方を向いたダミーディスペンス(洗浄)
位置Nとの間で、ノズル部材8の長手方向の回動軸10
を回動中心としてシリンダ11のロッド12の伸縮で回
動させるノズル部材回動機構部13とを有している。
た架台1の表面側中央部に、ガラス基板などの基板2の
被塗布面を外側に向けた状態で基板2を吸着して鉛直姿
勢に保持する吸着ステージ3が配設されている。この吸
着ステージ3の手前側に架けられたベース部材4の両端
部が各スチールベルト5に連結されており、吸着ステー
ジ3上の基板2の被塗布面に対してベース部材4がリニ
アモータ6などの駆動源によって上下動自在に構成され
ている。このベース部材4上の中央部分にはノズルユニ
ット7が載置されている。このノズルユニット7は、図
2に示すように、基板2の被塗布面に対向して開口した
水平方向の細長いノズル口8から塗布液を吐出可能なノ
ズル部材9と、このノズル部材9のノズル口8を、基板
2の被塗布面への対向位置(塗布位置)Mと点線で示す
ノズル口8が下方を向いたダミーディスペンス(洗浄)
位置Nとの間で、ノズル部材8の長手方向の回動軸10
を回動中心としてシリンダ11のロッド12の伸縮で回
動させるノズル部材回動機構部13とを有している。
【0029】このノズル部材9の内部には、図3に示す
ように、気層のない液溜り部14が形成されている。こ
の液溜り部14は、斜め上方に位置するノズル口8に塗
布液流出通路としてのスリット8aを介して連結されて
いると共に、その液溜り部14の下方部には塗布液供給
管15の一端が連結されている。この塗布液供給管15
の他端は、処理液としてのフォトレジスト液などの塗布
液16を所定量貯留可能な外部塗布液槽17の底部に連
結されている。また、この外部塗布液槽17の上部蓋1
8には塗布液供給管19がバルブ20を介して連結され
ており、外部塗布液槽17内に塗布液16が供給可能と
なっている。また、外部塗布液槽17には、その内部に
貯留される塗布液16の液面よりも上方部分において外
部塗布液槽17内部と連通してその内部を加圧し、減圧
し、または大気開放にするための圧力設定機構(図示せ
ず)が接続されている。
ように、気層のない液溜り部14が形成されている。こ
の液溜り部14は、斜め上方に位置するノズル口8に塗
布液流出通路としてのスリット8aを介して連結されて
いると共に、その液溜り部14の下方部には塗布液供給
管15の一端が連結されている。この塗布液供給管15
の他端は、処理液としてのフォトレジスト液などの塗布
液16を所定量貯留可能な外部塗布液槽17の底部に連
結されている。また、この外部塗布液槽17の上部蓋1
8には塗布液供給管19がバルブ20を介して連結され
ており、外部塗布液槽17内に塗布液16が供給可能と
なっている。また、外部塗布液槽17には、その内部に
貯留される塗布液16の液面よりも上方部分において外
部塗布液槽17内部と連通してその内部を加圧し、減圧
し、または大気開放にするための圧力設定機構(図示せ
ず)が接続されている。
【0030】これらの塗布液供給管15、液溜り部14
およびスリット8aによって塗布液通路が構成されてお
り、この外部塗布液槽17内の塗布液16が塗布液通路
を経てノズル口8から吐出可能なようになっている。つ
まり、この塗布液通路は、基板2に対して塗布液を供給
するノズル口8である供給口を有するノズル部材9と、
このノズル部材9に連通する処理液供給配管15とから
構成されている。
およびスリット8aによって塗布液通路が構成されてお
り、この外部塗布液槽17内の塗布液16が塗布液通路
を経てノズル口8から吐出可能なようになっている。つ
まり、この塗布液通路は、基板2に対して塗布液を供給
するノズル口8である供給口を有するノズル部材9と、
このノズル部材9に連通する処理液供給配管15とから
構成されている。
【0031】また、この塗布液通路である液溜り部14
の内部には、通気性かつ非通液性の素材よりなる気体吸
引除去部(中空糸脱気モジュール)としての区画部材2
1,22がそれぞれ配設されている。このように、ノズ
ル部材9内の液溜り部14では塗布液通路が広がってい
るために、塗布液の流れを阻害することなく、また、液
溜り部14からスリット8aに至る塗布液通路は狭まっ
ているために、より効率的に塗布液中の気泡を集めて取
り除くことができるようになっている。また、これらの
区画部材21,22はそれぞれ配管23さらに、手動ま
たは自動でオンオフ自在なバルブ24を介して減圧手段
としての減圧ポンプ25に接続されており、液溜り部1
4内の液と区画部材21,22により隔てられた領域を
減圧するようになっている。つまり、中空糸脱気モジュ
ールの内部を真空源に接続するように配管されて、モジ
ュールに近接する気泡は真空によってモジュール内部に
吸引され、液はモジュール内に吸引されて入らないの
で、連続除去処理を行っても液自体の濃度などの変化は
起こらない。これらの区画部材21,22、配管23、
バルブ24および減圧ポンプ25により気体吸引除去手
段26が構成され、塗布液中の気体を吸引除去するよう
になっている。この減圧ポンプ25による区画部材2
1,22内の減圧は、塗布処理時だけではなく、塗布処
理前に空気に触れている塗布液だけを捨てるダミーディ
スペンス時にも行うようにし、このときに気泡がノズル
内の液溜り部14に侵入した場合であっても気泡の除去
を行うことができるようにしている。これらの気体吸引
除去手段26、ノズル部材9、処理液供給配管15およ
び外部塗布液槽17により処理液供給装置が構成されて
いる。
の内部には、通気性かつ非通液性の素材よりなる気体吸
引除去部(中空糸脱気モジュール)としての区画部材2
1,22がそれぞれ配設されている。このように、ノズ
ル部材9内の液溜り部14では塗布液通路が広がってい
るために、塗布液の流れを阻害することなく、また、液
溜り部14からスリット8aに至る塗布液通路は狭まっ
ているために、より効率的に塗布液中の気泡を集めて取
り除くことができるようになっている。また、これらの
区画部材21,22はそれぞれ配管23さらに、手動ま
たは自動でオンオフ自在なバルブ24を介して減圧手段
としての減圧ポンプ25に接続されており、液溜り部1
4内の液と区画部材21,22により隔てられた領域を
減圧するようになっている。つまり、中空糸脱気モジュ
ールの内部を真空源に接続するように配管されて、モジ
ュールに近接する気泡は真空によってモジュール内部に
吸引され、液はモジュール内に吸引されて入らないの
で、連続除去処理を行っても液自体の濃度などの変化は
起こらない。これらの区画部材21,22、配管23、
バルブ24および減圧ポンプ25により気体吸引除去手
段26が構成され、塗布液中の気体を吸引除去するよう
になっている。この減圧ポンプ25による区画部材2
1,22内の減圧は、塗布処理時だけではなく、塗布処
理前に空気に触れている塗布液だけを捨てるダミーディ
スペンス時にも行うようにし、このときに気泡がノズル
内の液溜り部14に侵入した場合であっても気泡の除去
を行うことができるようにしている。これらの気体吸引
除去手段26、ノズル部材9、処理液供給配管15およ
び外部塗布液槽17により処理液供給装置が構成されて
いる。
【0032】さらに、これらの区画部材21,22はそ
れぞれ、気液選択膜を構成する、通気性はあるが通液性
はない布素材(例えばポリテトラフロロエチレン系多孔
質材など)の中空の管状(気液セパレータチューブ)に
構成されている。この気液セパレータチューブは具体的
にはゴアテックスメンブランチューブであってもよく、
このゴアテックスは登録商標である。つまり、区画部材
21,22の壁面にはそれぞれ微小孔があいており、そ
の素材は水分などの液を弾く発液性を有しているため
に、液はその微小孔を通過できず、空気などの気体は弾
かないのでその微小孔を容易に通過できるようになって
いる。このような中空の管状部材が複数本(例えば10
0本〜200本)束ねられて区画部材21,22をそれ
ぞれ構成している。このように、区画部材21,22が
それぞれ複数の管で構成されていれば、その表面積が大
きくなって塗布液中の気泡との接触面積も大きくなり気
泡が容易に取り除かれる。また、区画部材21,22が
それぞれ、図4に示すように幅が広いスリット部8aの
開口幅方向(ノズル部材9の長手方向)にその長手方向
を配置するようにすれば、幅が広いスリット部8aに対
して通過する塗布液中の気泡を容易に均一に吸引除去す
ることができる。
れぞれ、気液選択膜を構成する、通気性はあるが通液性
はない布素材(例えばポリテトラフロロエチレン系多孔
質材など)の中空の管状(気液セパレータチューブ)に
構成されている。この気液セパレータチューブは具体的
にはゴアテックスメンブランチューブであってもよく、
このゴアテックスは登録商標である。つまり、区画部材
21,22の壁面にはそれぞれ微小孔があいており、そ
の素材は水分などの液を弾く発液性を有しているため
に、液はその微小孔を通過できず、空気などの気体は弾
かないのでその微小孔を容易に通過できるようになって
いる。このような中空の管状部材が複数本(例えば10
0本〜200本)束ねられて区画部材21,22をそれ
ぞれ構成している。このように、区画部材21,22が
それぞれ複数の管で構成されていれば、その表面積が大
きくなって塗布液中の気泡との接触面積も大きくなり気
泡が容易に取り除かれる。また、区画部材21,22が
それぞれ、図4に示すように幅が広いスリット部8aの
開口幅方向(ノズル部材9の長手方向)にその長手方向
を配置するようにすれば、幅が広いスリット部8aに対
して通過する塗布液中の気泡を容易に均一に吸引除去す
ることができる。
【0033】さらに、これらの区画部材21,22はそ
れぞれノズル部材9内の略最上位置に配設されている。
つまり、区画部材21は、ノズル部材9のノズル口8を
基板2の被塗布面への対向位置(塗布位置)Mにおい
て、塗布液の流れを阻害しないノズル部材9内の液溜り
部14の略最上位置に配設されている。また、区画部材
22は、ノズル口8が下方を向いたダミーディスペンス
位置Nにおいて、ノズル部材9内の液溜り部14の略最
上位置に配設されている。このように、気泡除去用の区
画部材21または区画部材22がノズル部材9内の液溜
り部14の略最上位置に配設されていれば、気泡には上
方向に浮力が働くため、ノズル部材9内の最上位置に気
泡が集まりやすく、その集まった気泡を区画部材21,
22からより効率的に取り除くことができるようになっ
ている。
れぞれノズル部材9内の略最上位置に配設されている。
つまり、区画部材21は、ノズル部材9のノズル口8を
基板2の被塗布面への対向位置(塗布位置)Mにおい
て、塗布液の流れを阻害しないノズル部材9内の液溜り
部14の略最上位置に配設されている。また、区画部材
22は、ノズル口8が下方を向いたダミーディスペンス
位置Nにおいて、ノズル部材9内の液溜り部14の略最
上位置に配設されている。このように、気泡除去用の区
画部材21または区画部材22がノズル部材9内の液溜
り部14の略最上位置に配設されていれば、気泡には上
方向に浮力が働くため、ノズル部材9内の最上位置に気
泡が集まりやすく、その集まった気泡を区画部材21,
22からより効率的に取り除くことができるようになっ
ている。
【0034】上記構成により、気体吸引除去部として、
ノズル口8に連通する塗布液通路のノズル部材9内の液
溜り部14に通気性かつ非通液性の素材よりなる区画部
材21,22が設けられ、これらの区画部材21,22
内を減圧ポンプ25で減圧するため、外部塗布液槽17
から処理液供給配管15を介して液溜り部14内に至っ
た塗布液16中に気泡が存在していたとしても、液溜り
部14内の区画部材21,22に気泡だけが吸引されて
取り込まれ、気泡の取り除かれた塗布液はスリット部8
aを経てノズル口8から基板2の被塗布面に吐出される
ことになる。このように、区画部材21,22内に気体
だけが通過し塗布液は通過しないため、従来のようにノ
ズル部材9の内部の気泡を取り除くべく、多量の塗布液
を無駄に排液するようなことはなく容易にノズル内の気
体だけを吸引除去することができることから、基板2へ
の処理液供給時の気泡によるトラブルを全て防止するこ
とができる。
ノズル口8に連通する塗布液通路のノズル部材9内の液
溜り部14に通気性かつ非通液性の素材よりなる区画部
材21,22が設けられ、これらの区画部材21,22
内を減圧ポンプ25で減圧するため、外部塗布液槽17
から処理液供給配管15を介して液溜り部14内に至っ
た塗布液16中に気泡が存在していたとしても、液溜り
部14内の区画部材21,22に気泡だけが吸引されて
取り込まれ、気泡の取り除かれた塗布液はスリット部8
aを経てノズル口8から基板2の被塗布面に吐出される
ことになる。このように、区画部材21,22内に気体
だけが通過し塗布液は通過しないため、従来のようにノ
ズル部材9の内部の気泡を取り除くべく、多量の塗布液
を無駄に排液するようなことはなく容易にノズル内の気
体だけを吸引除去することができることから、基板2へ
の処理液供給時の気泡によるトラブルを全て防止するこ
とができる。
【0035】したがって、従来の加圧式または吐出時同
時リーク式エア抜きベント取付けと異なり、気泡を除去
するべくノズル口8より余分に排液させる必要がないた
め、液の無駄が抑制される。
時リーク式エア抜きベント取付けと異なり、気泡を除去
するべくノズル口8より余分に排液させる必要がないた
め、液の無駄が抑制される。
【0036】また、従来の真空吸引式エア抜きベント方
式と異なり、気泡の脱気によるノズル口8からの気泡の
侵入は極微量でありスリットおよび多孔部の先端付近に
留まって問題に至らない。また、エア抜きのマージンに
余裕を見て長時間脱気処理を行っても、それによる液移
動がないことから、ノズル口8からノズル部材9内まで
の気泡の侵入がない。さらに、従来のように、脱気用ラ
インにトラップタンクやその満杯検知センサ、ドレイン
ラインを必要としないため、装置が複雑化せず、その信
頼性も向上する。
式と異なり、気泡の脱気によるノズル口8からの気泡の
侵入は極微量でありスリットおよび多孔部の先端付近に
留まって問題に至らない。また、エア抜きのマージンに
余裕を見て長時間脱気処理を行っても、それによる液移
動がないことから、ノズル口8からノズル部材9内まで
の気泡の侵入がない。さらに、従来のように、脱気用ラ
インにトラップタンクやその満杯検知センサ、ドレイン
ラインを必要としないため、装置が複雑化せず、その信
頼性も向上する。
【0037】さらに、従来の加圧式または真空吸引式エ
ア抜きベント方式と異なり、余分な液までベントライン
から排液しないため、液の無駄が少ない。また、液がレ
ジスト液などの薬液の場合であっても、ベントラインの
中で液が乾燥することによる配管詰まりを防止するため
の洗浄をする必要がなく、洗浄液を消費せず、自動化の
場合、装置の複雑化(信頼性低下)を防止し、マニュア
ルの場合、定期的なメンテナンスの発生を防止する。さ
らに、長尺なノズルであっても、ノズル部材9内の気泡
を速やかにベントへ移動させる必要がないため、ノズル
部材9内の液溜り部14などのタンク部の上部(天井
面)の傾斜を大きく取る必要がないため、タンク部の内
部容積が大きくなり過ぎず、無効量が増えることなく、
液容積が増えることによる粘弾性増加の影響によるレス
ポンス劣化を防止でき、液重量の増加によるボタ落ちも
防止することができる。
ア抜きベント方式と異なり、余分な液までベントライン
から排液しないため、液の無駄が少ない。また、液がレ
ジスト液などの薬液の場合であっても、ベントラインの
中で液が乾燥することによる配管詰まりを防止するため
の洗浄をする必要がなく、洗浄液を消費せず、自動化の
場合、装置の複雑化(信頼性低下)を防止し、マニュア
ルの場合、定期的なメンテナンスの発生を防止する。さ
らに、長尺なノズルであっても、ノズル部材9内の気泡
を速やかにベントへ移動させる必要がないため、ノズル
部材9内の液溜り部14などのタンク部の上部(天井
面)の傾斜を大きく取る必要がないため、タンク部の内
部容積が大きくなり過ぎず、無効量が増えることなく、
液容積が増えることによる粘弾性増加の影響によるレス
ポンス劣化を防止でき、液重量の増加によるボタ落ちも
防止することができる。
【0038】さらに、気泡の除去を目的とするダミーデ
ィスペンスが不要となるか、従来の脱気方式と併用の場
合にはディスペンス回数を削減でき、液の無効量を削減
することができる。
ィスペンスが不要となるか、従来の脱気方式と併用の場
合にはディスペンス回数を削減でき、液の無効量を削減
することができる。
【0039】さらに、従来のように、気泡が介在しない
場合よりも多量のディスペンスを行って、基板上の液吐
出部全面を液で濡れるようにする必要がないため、液の
無駄がない。
場合よりも多量のディスペンスを行って、基板上の液吐
出部全面を液で濡れるようにする必要がないため、液の
無駄がない。
【0040】さらに、縦型のスリットコータのように基
本塗布原理が毛細管作用による吸い出し式の場合、長手
方向のどの位置であっても、ノズル部材9内のタンク部
である液溜り部14は同一断面形状で塗布均一性とエア
抜き効果が同時に成立するため、装置が大掛かりになら
ず、単純な形状で済むため、ノズル加工精度が出しやす
く、かつコストダウンが可能である。
本塗布原理が毛細管作用による吸い出し式の場合、長手
方向のどの位置であっても、ノズル部材9内のタンク部
である液溜り部14は同一断面形状で塗布均一性とエア
抜き効果が同時に成立するため、装置が大掛かりになら
ず、単純な形状で済むため、ノズル加工精度が出しやす
く、かつコストダウンが可能である。
【0041】さらに、液吐出流量に影響させないで液吐
出処理中に脱気が可能なため、オーバーラップが可能で
タクト短縮が可能である。
出処理中に脱気が可能なため、オーバーラップが可能で
タクト短縮が可能である。
【0042】さらに、上記以外の気泡の発生または混入
による製品欠陥も確実に防止することができる。
による製品欠陥も確実に防止することができる。
【0043】(実施形態2)上記実施形態1では通気性
かつ非通液性の素材よりなる区画部材21,22を縦型
の塗布装置であるメニスカスコータのノズル部材9内の
液溜り部14に設けたが、本実施形態2では洗浄液を基
板面上に供給するスピン洗浄処理装置のノズル部材内
に、通気性かつ非通液性の素材よりなる区画部材を設け
た場合である。
かつ非通液性の素材よりなる区画部材21,22を縦型
の塗布装置であるメニスカスコータのノズル部材9内の
液溜り部14に設けたが、本実施形態2では洗浄液を基
板面上に供給するスピン洗浄処理装置のノズル部材内
に、通気性かつ非通液性の素材よりなる区画部材を設け
た場合である。
【0044】図5は、本発明の実施形態2における回転
式基板処理装置の構成を示す斜視図である。
式基板処理装置の構成を示す斜視図である。
【0045】図1において、回転式基板処理装置31
は、上面に基板32を載置してバキュームチャックで保
持すると共に回転自在な支持手段としての円形の基板保
持部材33と、この基板保持部材33を垂直回転軸34
を介して回転駆動させるモータ(図示せず)と、基板保
持部材33の周囲を集液フード35で環状に囲み、洗浄
時に飛散した洗浄液を集液する集液排出手段36と、こ
の集液排出手段36の外側近傍位置に配設され、パーテ
ィクル除去用の超音波振動が加えられた洗浄液を吐出す
るノズル口38を基板32の上方で回動させつつ基板3
2の上面に向けて吐出させて超音波洗浄する処理液供給
装置としての超音波洗浄手段37とを有している。
は、上面に基板32を載置してバキュームチャックで保
持すると共に回転自在な支持手段としての円形の基板保
持部材33と、この基板保持部材33を垂直回転軸34
を介して回転駆動させるモータ(図示せず)と、基板保
持部材33の周囲を集液フード35で環状に囲み、洗浄
時に飛散した洗浄液を集液する集液排出手段36と、こ
の集液排出手段36の外側近傍位置に配設され、パーテ
ィクル除去用の超音波振動が加えられた洗浄液を吐出す
るノズル口38を基板32の上方で回動させつつ基板3
2の上面に向けて吐出させて超音波洗浄する処理液供給
装置としての超音波洗浄手段37とを有している。
【0046】この超音波洗浄手段37は、集液排出手段
36の外側近傍位置に立設された垂直ロッド39と、こ
の垂直ロッド39の上端部に水平に延びるように延設さ
れた駆動アーム40と、この駆動アーム40の先端部に
設けられ、超音波振動が加えられた洗浄液をノズル口3
8から吐出するノズル部材41とを有している。この駆
動アーム40は、基板32の上面とノズル部材41とを
所定距離だけ上方に離間させた状態で、垂直ロッド39
の中心軸39aを回動中心として、回転する基板32の
回転中央部を通過する回転端部間を、駆動アーム40の
先端のノズル部材41をモータ(図示せず)で円弧状に
揺動するように制御が為される。
36の外側近傍位置に立設された垂直ロッド39と、こ
の垂直ロッド39の上端部に水平に延びるように延設さ
れた駆動アーム40と、この駆動アーム40の先端部に
設けられ、超音波振動が加えられた洗浄液をノズル口3
8から吐出するノズル部材41とを有している。この駆
動アーム40は、基板32の上面とノズル部材41とを
所定距離だけ上方に離間させた状態で、垂直ロッド39
の中心軸39aを回動中心として、回転する基板32の
回転中央部を通過する回転端部間を、駆動アーム40の
先端のノズル部材41をモータ(図示せず)で円弧状に
揺動するように制御が為される。
【0047】また、このノズル部材41内の天井面に
は、図6に示すように、超音波発生器である振動子4
3,44が取り付けられている。これらの振動子43,
44で洗浄液通路45内に供給された洗浄液に洗浄用の
超音波振動が与えられるようになっている。この超音波
振動が与えられた洗浄液を、円形のノズル口38から基
板32の上面に向けて吐出して超音波洗浄するようにな
っている。また、このノズル部材41内の洗浄液通路4
5の最上位置には、通気性かつ非通液性の素材よりなる
区画部材46が配設されている。区画部材46がノズル
部材41内の最上位置に配設されていれば、気泡には上
方向に浮力が働くため、ノズル部材41内の最上位置に
気泡が集まりやすく、その集まった気泡をより効率的に
取り除くことができる。また、区画部材46は、洗浄液
の流れを阻害することがないように開口部45aを充分
に明けるように配設されている。
は、図6に示すように、超音波発生器である振動子4
3,44が取り付けられている。これらの振動子43,
44で洗浄液通路45内に供給された洗浄液に洗浄用の
超音波振動が与えられるようになっている。この超音波
振動が与えられた洗浄液を、円形のノズル口38から基
板32の上面に向けて吐出して超音波洗浄するようにな
っている。また、このノズル部材41内の洗浄液通路4
5の最上位置には、通気性かつ非通液性の素材よりなる
区画部材46が配設されている。区画部材46がノズル
部材41内の最上位置に配設されていれば、気泡には上
方向に浮力が働くため、ノズル部材41内の最上位置に
気泡が集まりやすく、その集まった気泡をより効率的に
取り除くことができる。また、区画部材46は、洗浄液
の流れを阻害することがないように開口部45aを充分
に明けるように配設されている。
【0048】また、この区画部材46は配管47さら
に、手動または自動でオンオフ自在なバルブ48を介し
て減圧手段としての減圧ポンプ49に接続されており、
ノズル部材41内の洗浄液通路45内の液と区画部材4
6により隔てられた領域を減圧するようになっている。
この区画部材46、配管47、バルブ48および減圧ポ
ンプ49により気体吸引除去手段50が構成され、洗浄
液中の気体を吸引除去するようになっている。この減圧
ポンプ49による区画部材46内の減圧は、洗浄処理時
だけではなく、洗浄処理前に振動子43,44の空振動
を防止するために洗浄液を流し始めるときにも行うよう
にし、このときに気泡が洗浄液通路45内に侵入した場
合であっても気泡の除去を行うことができるようになっ
ている。
に、手動または自動でオンオフ自在なバルブ48を介し
て減圧手段としての減圧ポンプ49に接続されており、
ノズル部材41内の洗浄液通路45内の液と区画部材4
6により隔てられた領域を減圧するようになっている。
この区画部材46、配管47、バルブ48および減圧ポ
ンプ49により気体吸引除去手段50が構成され、洗浄
液中の気体を吸引除去するようになっている。この減圧
ポンプ49による区画部材46内の減圧は、洗浄処理時
だけではなく、洗浄処理前に振動子43,44の空振動
を防止するために洗浄液を流し始めるときにも行うよう
にし、このときに気泡が洗浄液通路45内に侵入した場
合であっても気泡の除去を行うことができるようになっ
ている。
【0049】さらに、この区画部材46は、通気性はあ
るが通液性はない布素材などの中空の管状に構成されて
いる。つまり、区画部材46の壁面には微小孔が明いて
おり、その素材は水分などの液を弾く発液性を有してい
るために、液はその微小孔を通過できず、空気などの気
体は弾かないのでその微小孔を容易に通過できるように
なっている。このような中空の管状部材が複数本束ねら
れた状態で環状に配設されている。このように、区画部
材46が複数の管で構成されていれば、その表面積が大
きくなって液中の気泡との接触面積も大きくなり気泡が
容易に取り除かれる。
るが通液性はない布素材などの中空の管状に構成されて
いる。つまり、区画部材46の壁面には微小孔が明いて
おり、その素材は水分などの液を弾く発液性を有してい
るために、液はその微小孔を通過できず、空気などの気
体は弾かないのでその微小孔を容易に通過できるように
なっている。このような中空の管状部材が複数本束ねら
れた状態で環状に配設されている。このように、区画部
材46が複数の管で構成されていれば、その表面積が大
きくなって液中の気泡との接触面積も大きくなり気泡が
容易に取り除かれる。
【0050】上記構成により、気体吸引除去部として、
ノズル口38に連通するノズル部材41内の最上位置に
通気性かつ非通液性の素材よりなる区画部材46が設け
られ、この区画部材46内を減圧ポンプ49で減圧する
ため、洗浄液通路45内の洗浄液中に気泡が存在してい
たとしても、区画部材46から気泡だけが吸引されて取
り込まれ、気泡の取り除かれた洗浄液はノズル口38か
ら基板32の上面に吐出されることになる。このよう
に、区画部材46内に気体だけが通過し洗浄液は通過し
ないため、従来のようにノズル部材41内の気泡を取り
除いたり、振動子43,44の空振動を防止するべく、
多量の洗浄液を無駄に排液するようなことはなく容易に
ノズル内の気体だけを吸引除去することができることか
ら、基板32への処理液供給時の気泡によるトラブルを
全て防止することができる。
ノズル口38に連通するノズル部材41内の最上位置に
通気性かつ非通液性の素材よりなる区画部材46が設け
られ、この区画部材46内を減圧ポンプ49で減圧する
ため、洗浄液通路45内の洗浄液中に気泡が存在してい
たとしても、区画部材46から気泡だけが吸引されて取
り込まれ、気泡の取り除かれた洗浄液はノズル口38か
ら基板32の上面に吐出されることになる。このよう
に、区画部材46内に気体だけが通過し洗浄液は通過し
ないため、従来のようにノズル部材41内の気泡を取り
除いたり、振動子43,44の空振動を防止するべく、
多量の洗浄液を無駄に排液するようなことはなく容易に
ノズル内の気体だけを吸引除去することができることか
ら、基板32への処理液供給時の気泡によるトラブルを
全て防止することができる。
【0051】また、このような流水式高周波洗浄ノズル
では、流水開始後に発振子43,44をオンするまでに
タイムラグを設けて空発振を防止するようなことは必要
なく、このため、処理時間の無駄がなくなる。
では、流水開始後に発振子43,44をオンするまでに
タイムラグを設けて空発振を防止するようなことは必要
なく、このため、処理時間の無駄がなくなる。
【0052】なお、超音波洗浄手段37のノズル部材4
1を設けたこの実施形態2の洗浄装置の代りに、処理液
供給装置としての図7の塗布液供給手段51のノズル部
材52を設けた塗布装置や、処理液供給装置としての図
8の現像液供給手段53のノズル部材54を設けた現像
装置であっても上記実施形態1,2と同様の効果を奏す
ることができる。これらのノズル部材52,54はいず
れもスリット状のノズル口を有し、その内部の液通路5
5の略最上位置には、ノズル部材41の場合と同様に通
気性はあるが通液性はない布素材よりなる管状の区画部
材46aが配設されている。図7および図8では図示し
ていないが、区画部材46aに接続された配管47、バ
ルブ48および減圧ポンプ49が設けられて気体吸引除
去手段が構成され、液中の気体を吸引除去するようにな
っている。図8のノズル部材54が傾いているのは、ス
リット状のノズル口56に現像液が付かないように液を
吐出するためであり、ノズル部材54の走行方向に傾い
ている。
1を設けたこの実施形態2の洗浄装置の代りに、処理液
供給装置としての図7の塗布液供給手段51のノズル部
材52を設けた塗布装置や、処理液供給装置としての図
8の現像液供給手段53のノズル部材54を設けた現像
装置であっても上記実施形態1,2と同様の効果を奏す
ることができる。これらのノズル部材52,54はいず
れもスリット状のノズル口を有し、その内部の液通路5
5の略最上位置には、ノズル部材41の場合と同様に通
気性はあるが通液性はない布素材よりなる管状の区画部
材46aが配設されている。図7および図8では図示し
ていないが、区画部材46aに接続された配管47、バ
ルブ48および減圧ポンプ49が設けられて気体吸引除
去手段が構成され、液中の気体を吸引除去するようにな
っている。図8のノズル部材54が傾いているのは、ス
リット状のノズル口56に現像液が付かないように液を
吐出するためであり、ノズル部材54の走行方向に傾い
ている。
【0053】また、超音波洗浄手段37の円形のノズル
部材41の代りに、図9のスリット状のノズル口57を
下方面に有した超音波洗浄手段58の長尺なノズル部材
59であってもよい。この場合にも、ノズル部材59内
の液通路60の天井面には超音波発生器である複数の振
動子61が取り付けられている。また、液通路60の略
最上位置には、ノズル部材41の場合と同様に管状の区
画部材46bが配設されている。図9には図示していな
いが、区画部材46b、配管47、バルブ48および減
圧ポンプ49が設けられて気体吸引除去手段が構成さ
れ、液中の気体を吸引除去するようになっている。
部材41の代りに、図9のスリット状のノズル口57を
下方面に有した超音波洗浄手段58の長尺なノズル部材
59であってもよい。この場合にも、ノズル部材59内
の液通路60の天井面には超音波発生器である複数の振
動子61が取り付けられている。また、液通路60の略
最上位置には、ノズル部材41の場合と同様に管状の区
画部材46bが配設されている。図9には図示していな
いが、区画部材46b、配管47、バルブ48および減
圧ポンプ49が設けられて気体吸引除去手段が構成さ
れ、液中の気体を吸引除去するようになっている。
【0054】(実施形態3)本実施形態3はエッジリン
ス処理装置のノズル部材内に、通気性かつ非通液性の素
材よりなる区画部材を設けた場合である。
ス処理装置のノズル部材内に、通気性かつ非通液性の素
材よりなる区画部材を設けた場合である。
【0055】図10は、本発明の実施形態3のエッジリ
ンス処理を示す平面図であり、図11は図10のエッジ
リンス処理装置のBB線断面図である。
ンス処理を示す平面図であり、図11は図10のエッジ
リンス処理装置のBB線断面図である。
【0056】図10および図11において、エッジリン
ス処理装置71には、円形基板であるウエハ72の端縁
部分を収容かつ通過可能な略コ字状のエッジリンス溝7
3が設けられている。このエッジリンス溝73内には、
ウエハ72の上下面の端縁部分に対してそれぞれ、塗布
膜などを溶かすエッジリンス液を出射する各ノズル部材
74と、そのエッジリンス液で溶かされた塗布膜をエッ
ジリンス液と共に吸引して取り除く吸引口75とが配設
されており、ノズル部材74からウエハ72の上下端縁
部分に所定のエッジリンス液が供給され吸引口75から
不要な塗布膜などが取り除かれるようになっている。
ス処理装置71には、円形基板であるウエハ72の端縁
部分を収容かつ通過可能な略コ字状のエッジリンス溝7
3が設けられている。このエッジリンス溝73内には、
ウエハ72の上下面の端縁部分に対してそれぞれ、塗布
膜などを溶かすエッジリンス液を出射する各ノズル部材
74と、そのエッジリンス液で溶かされた塗布膜をエッ
ジリンス液と共に吸引して取り除く吸引口75とが配設
されており、ノズル部材74からウエハ72の上下端縁
部分に所定のエッジリンス液が供給され吸引口75から
不要な塗布膜などが取り除かれるようになっている。
【0057】これらの各ノズル部材74内の液通路76
の略最上位置には、通気性かつ非通液性の素材よりなる
区画部材46cが配設されている。区画部材46cがノ
ズル部材74内の略最上位置に配設されていれば、気泡
には上方向に浮力が働くため、ノズル部材74内の最上
位置に気泡が集まりやすく、その集まった気泡をより効
率的に取り除くことができる。ここでは、各ノズル部材
74内の天井面に傾斜を付けて気泡が集まりやすく構成
している。
の略最上位置には、通気性かつ非通液性の素材よりなる
区画部材46cが配設されている。区画部材46cがノ
ズル部材74内の略最上位置に配設されていれば、気泡
には上方向に浮力が働くため、ノズル部材74内の最上
位置に気泡が集まりやすく、その集まった気泡をより効
率的に取り除くことができる。ここでは、各ノズル部材
74内の天井面に傾斜を付けて気泡が集まりやすく構成
している。
【0058】また、この区画部材46cは、ここでは図
示していないが、上記実施形態1と同様の配管47さら
にバルブ48を介して減圧手段としての減圧ポンプ49
に接続されており、ノズル部材74内の液通路76内の
液と区画部材46cにより隔てられた領域を減圧するよ
うになっている。この区画部材46c、配管47、バル
ブ48および減圧ポンプ49により気体吸引除去手段が
構成され、液中の気体を吸引除去するようになってい
る。この減圧ポンプ49による区画部材46c内の減圧
は、エッジリンス処理時だけではなく、エッジリンス処
理前に液を吐出するときにも行うようにし、このときに
気泡が液通路76内に侵入した場合であっても気泡の除
去を行うことができるようにしている。
示していないが、上記実施形態1と同様の配管47さら
にバルブ48を介して減圧手段としての減圧ポンプ49
に接続されており、ノズル部材74内の液通路76内の
液と区画部材46cにより隔てられた領域を減圧するよ
うになっている。この区画部材46c、配管47、バル
ブ48および減圧ポンプ49により気体吸引除去手段が
構成され、液中の気体を吸引除去するようになってい
る。この減圧ポンプ49による区画部材46c内の減圧
は、エッジリンス処理時だけではなく、エッジリンス処
理前に液を吐出するときにも行うようにし、このときに
気泡が液通路76内に侵入した場合であっても気泡の除
去を行うことができるようにしている。
【0059】さらに、この区画部材46cは、通気性は
あるが通液性はない布素材などの中空の管状に構成され
ている。つまり、区画部材46cの壁面には微小孔が明
いており、その素材は水分などの液を弾く発液性を有し
ているために、液はその微小孔を通過できず、空気など
の気体は弾かないのでその微小孔を容易に通過できるよ
うになっている。このような中空の管状部材が複数本束
ねられた状態で配設されている。このように、区画部材
46cが複数の管で構成されていれば、その表面積が大
きくなって液中の気泡との接触面積も大きくなり気泡が
容易に取り除かれる。
あるが通液性はない布素材などの中空の管状に構成され
ている。つまり、区画部材46cの壁面には微小孔が明
いており、その素材は水分などの液を弾く発液性を有し
ているために、液はその微小孔を通過できず、空気など
の気体は弾かないのでその微小孔を容易に通過できるよ
うになっている。このような中空の管状部材が複数本束
ねられた状態で配設されている。このように、区画部材
46cが複数の管で構成されていれば、その表面積が大
きくなって液中の気泡との接触面積も大きくなり気泡が
容易に取り除かれる。
【0060】上記構成により、気体吸引除去部として、
ノズル部材74内の略最上位置に通気性かつ非通液性の
素材よりなる区画部材46cが設けられ、この区画部材
46c内を減圧ポンプ49で減圧するため、液通路76
内の液中に気泡が存在していたとしても、区画部材46
cから気泡だけが吸引されて取り込まれ、気泡の取り除
かれた液は、ウエハ72の外周端縁側に傾斜したノズル
口77からウエハ72の上面および下面にそれぞれ吐出
されることになる。このように、区画部材46c内には
気体だけが通過し液は通過しないため、従来のようにノ
ズル部材74内の気泡を取り除くべく、多量の液を無駄
に排液するようなことなく容易にノズル部材74内の気
体だけを吸引除去することができることから、ウエハ7
2への液供給時の気泡の弾けによる歩留まり低下などの
トラブルを防止することができる。
ノズル部材74内の略最上位置に通気性かつ非通液性の
素材よりなる区画部材46cが設けられ、この区画部材
46c内を減圧ポンプ49で減圧するため、液通路76
内の液中に気泡が存在していたとしても、区画部材46
cから気泡だけが吸引されて取り込まれ、気泡の取り除
かれた液は、ウエハ72の外周端縁側に傾斜したノズル
口77からウエハ72の上面および下面にそれぞれ吐出
されることになる。このように、区画部材46c内には
気体だけが通過し液は通過しないため、従来のようにノ
ズル部材74内の気泡を取り除くべく、多量の液を無駄
に排液するようなことなく容易にノズル部材74内の気
体だけを吸引除去することができることから、ウエハ7
2への液供給時の気泡の弾けによる歩留まり低下などの
トラブルを防止することができる。
【0061】なお、上記実施形態1〜3では、通気性か
つ非通液性の素材よりなる区画部材を管状または複数の
管状に構成したが、これに限らず、例えば図12に示す
ようにノズル部材内の略最上位置(天井面)に真空吸引
用の凹部81を設け、この凹部81の開放口を覆うよう
に、通気性かつ非通液性の素材よりなる区画部材82を
設けても良い。
つ非通液性の素材よりなる区画部材を管状または複数の
管状に構成したが、これに限らず、例えば図12に示す
ようにノズル部材内の略最上位置(天井面)に真空吸引
用の凹部81を設け、この凹部81の開放口を覆うよう
に、通気性かつ非通液性の素材よりなる区画部材82を
設けても良い。
【0062】また、上記実施形態1〜3では、通気性か
つ非通液性の素材よりなる区画部材を、気泡が浮力で集
まるノズル部材内の略最上位置に配設したが、これに限
らず、ノズル部材内において、液流れが阻害されない程
度に液通路を絞った位置に区画部材を配設することで、
そこを通過する気泡を確実に効率良く取り除くようにす
ることができる。
つ非通液性の素材よりなる区画部材を、気泡が浮力で集
まるノズル部材内の略最上位置に配設したが、これに限
らず、ノズル部材内において、液流れが阻害されない程
度に液通路を絞った位置に区画部材を配設することで、
そこを通過する気泡を確実に効率良く取り除くようにす
ることができる。
【0063】さらに、上記実施形態1〜3の気体吸引除
去手段に併用するように、従来のダミーディスペンス方
式、加圧式エア抜きベント方式、真空吸引式エア抜きベ
ント方式、またはこれらを組み合わせてノズル部材内の
液中の気泡をより効果的に除去する構成とすることもで
きる。
去手段に併用するように、従来のダミーディスペンス方
式、加圧式エア抜きベント方式、真空吸引式エア抜きベ
ント方式、またはこれらを組み合わせてノズル部材内の
液中の気泡をより効果的に除去する構成とすることもで
きる。
【0064】さらに、上記実施形態2,3のように、ノ
ズル部材内の区画部材の設置位置は、ノズル部材の姿勢
が一定の場合には、ノズル部材内の略最上位置に取り付
け、また、上記実施形態1のように、ノズル部材の姿勢
が例えば待機位置と処理位置など複数に変化する場合に
は、その姿勢毎にノズル部材内の略最上位置に複数取り
付けるようにしたが、上記実施形態1の場合であって
も、ノズル部材の姿勢が例えば待機位置と処理位置の何
れかにおいて区画部材をノズル部材内の略最上位置に取
り付けるようにしてもよい。
ズル部材内の区画部材の設置位置は、ノズル部材の姿勢
が一定の場合には、ノズル部材内の略最上位置に取り付
け、また、上記実施形態1のように、ノズル部材の姿勢
が例えば待機位置と処理位置など複数に変化する場合に
は、その姿勢毎にノズル部材内の略最上位置に複数取り
付けるようにしたが、上記実施形態1の場合であって
も、ノズル部材の姿勢が例えば待機位置と処理位置の何
れかにおいて区画部材をノズル部材内の略最上位置に取
り付けるようにしてもよい。
【0065】
【発明の効果】以上のように請求項1によれば、気体吸
引除去部が処理液供給口に連通する通路に設けられてい
るため、処理液を無駄に排液せずに容易にノズル内の気
体を吸引除去することができて、処理液供給時の気泡に
よるトラブルを防止することができる。
引除去部が処理液供給口に連通する通路に設けられてい
るため、処理液を無駄に排液せずに容易にノズル内の気
体を吸引除去することができて、処理液供給時の気泡に
よるトラブルを防止することができる。
【0066】また、請求項2によれば、気体吸引除去部
として、処理液供給口に連通する通路に通気性かつ非通
液性の素材よりなる区画部材が設けられ、この区画部材
内を減圧手段で減圧することで、区画部材内に気体だけ
が通過し処理液は通過しないため、処理液を無駄に排液
することなく容易にノズル内の気体だけを吸引除去する
ことができて、処理液供給時の気泡によるトラブルを防
止することができる。
として、処理液供給口に連通する通路に通気性かつ非通
液性の素材よりなる区画部材が設けられ、この区画部材
内を減圧手段で減圧することで、区画部材内に気体だけ
が通過し処理液は通過しないため、処理液を無駄に排液
することなく容易にノズル内の気体だけを吸引除去する
ことができて、処理液供給時の気泡によるトラブルを防
止することができる。
【0067】さらに、請求項3によれば、区画部材が管
構成となっていることから、幅が広いスリット部を通過
する処理液中の気泡を吸引除去するのに適しており、複
数の管構成とすればその表面積が大きくなって処理液中
の気泡との接触面積も大きくなって気泡を容易に取り除
くことができる。
構成となっていることから、幅が広いスリット部を通過
する処理液中の気泡を吸引除去するのに適しており、複
数の管構成とすればその表面積が大きくなって処理液中
の気泡との接触面積も大きくなって気泡を容易に取り除
くことができる。
【0068】さらに、請求項4によれば、処理液は処理
液供給配管からノズルを介してその処理液供給口に流れ
るが、気泡除去用の区画部材をノズル内に配置すること
で、ノズル内では処理液通路が多少広がっているため、
処理液の流れを阻害することなく、効率的に処理液中の
気泡を取り除くことができる。
液供給配管からノズルを介してその処理液供給口に流れ
るが、気泡除去用の区画部材をノズル内に配置すること
で、ノズル内では処理液通路が多少広がっているため、
処理液の流れを阻害することなく、効率的に処理液中の
気泡を取り除くことができる。
【0069】さらに、請求項5によれば、気泡除去用の
区画部材がノズル内の最上位置に配設されていれば、気
泡には上方向に浮力が働いているため、ノズル内の最上
位置に気泡が集まりやすく、気泡をより効率的に取り除
くことができる。
区画部材がノズル内の最上位置に配設されていれば、気
泡には上方向に浮力が働いているため、ノズル内の最上
位置に気泡が集まりやすく、気泡をより効率的に取り除
くことができる。
【図1】本発明の実施形態1の塗布装置の構成を示す斜
視図である。
視図である。
【図2】図1のノズルユニットの要部構成を示す側面図
である。
である。
【図3】図2のノズル部材および塗布液供給部の要部構
成を示す縦断面図である。
成を示す縦断面図である。
【図4】図2のノズル部材内の要部構成を示す横断面図
である。
である。
【図5】本発明の実施形態2における回転式基板処理装
置の構成を示す斜視図である。
置の構成を示す斜視図である。
【図6】図5のノズル部材内の要部構成を示す縦断面図
である。
である。
【図7】図5のノズル部材の他の例を示す縦断面図であ
る。
る。
【図8】図5のノズル部材のさらに他の例を示す縦断面
図である。
図である。
【図9】図5のノズル部材のさらに他の例を示す縦断面
図である。
図である。
【図10】本発明の実施形態3のエッジリンス処理を示
す平面図である。
す平面図である。
【図11】図10のエッジリンス処理装置のBB線断面
図である。
図である。
【図12】本発明の実施形態1〜3の区画部材の他の例
を示すノズル部材の天井面の一部断面図である。
を示すノズル部材の天井面の一部断面図である。
2,32 基板 8,38,56,57,77 ノズル口 8a スリット 9,41,52,54,74 ノズル部材 14 液溜り部 15 塗布液供給管 16 塗布液 17 外部塗布液槽 21,22,46,46a,46b,46c,82
区画部材 23,47 配管 24,48 バルブ 25,49 減圧ポンプ 26,50 気体吸引除去手段 37 超音波洗浄手段 43,44 振動子 45 洗浄液通路 45a 開口部 51 塗布液供給手段 53 現像液供給手段 55,76 液通路 71 エッジリンス処理装置 72 ウエハ 73 エッジリンス溝 75 吸引口 81 凹部
区画部材 23,47 配管 24,48 バルブ 25,49 減圧ポンプ 26,50 気体吸引除去手段 37 超音波洗浄手段 43,44 振動子 45 洗浄液通路 45a 開口部 51 塗布液供給手段 53 現像液供給手段 55,76 液通路 71 エッジリンス処理装置 72 ウエハ 73 エッジリンス溝 75 吸引口 81 凹部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI // B05C 11/10 B05C 11/10
Claims (5)
- 【請求項1】 処理液供給口から基板に対して処理液を
供給する処理液供給装置であって、 前記処理液供給口に連通する通路と、 該通路に気体吸引除去部が設けられ該通路内の気体を前
記気体吸引除去部を介して前記通路の外部に吸引除去す
る気体吸引除去手段とを有することを特徴とする処理液
供給装置。 - 【請求項2】 処理液供給口から基板に対して処理液を
供給する処理液供給装置であって、 前記処理液供給口に連通する通路と、 該通路に設けられた通気性かつ非通液性の素材よりなる
区画部材と、 前記区画部材により前記通路内の処理液から隔てられた
領域を減圧する減圧手段とを有することを特徴とする処
理液供給装置。 - 【請求項3】 前記区画部材は素材を管状に形成される
と共に前記通路内に配置されており、 前記減圧手段は前記管状区画部材の管内領域を減圧する
ように構成したことを特徴とする請求項2に記載の処理
液供給装置。 - 【請求項4】 前記通路は、基板に対して処理液を供給
する処理液供給口を有するノズルと、該ノズルに連通す
る処理液供給配管とから構成され、前記区画部材は前記
ノズル内に配置されていることを特徴とする請求項2ま
たは3に記載の処理液供給装置。 - 【請求項5】 前記区画部材は前記ノズル内の通路の略
最上位置に配設されていることを特徴とする請求項2〜
4の何れかに記載の処理液供給装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10090398A JPH11290792A (ja) | 1998-04-13 | 1998-04-13 | 処理液供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10090398A JPH11290792A (ja) | 1998-04-13 | 1998-04-13 | 処理液供給装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11290792A true JPH11290792A (ja) | 1999-10-26 |
Family
ID=14286311
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10090398A Withdrawn JPH11290792A (ja) | 1998-04-13 | 1998-04-13 | 処理液供給装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11290792A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002210923A (ja) * | 2001-01-17 | 2002-07-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 印刷機のクリーニング方法 |
JP2006087999A (ja) * | 2004-09-22 | 2006-04-06 | Toppan Printing Co Ltd | スリットノズルの塗布システム |
JP2008124203A (ja) * | 2006-11-10 | 2008-05-29 | Kurita Water Ind Ltd | 洗浄装置 |
US7491270B2 (en) | 2004-10-26 | 2009-02-17 | Sumco Corporation | Heat shield member and single crystal pulling device |
-
1998
- 1998-04-13 JP JP10090398A patent/JPH11290792A/ja not_active Withdrawn
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