JPH11288535A - Disk original plate preparing device - Google Patents
Disk original plate preparing deviceInfo
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- JPH11288535A JPH11288535A JP10087601A JP8760198A JPH11288535A JP H11288535 A JPH11288535 A JP H11288535A JP 10087601 A JP10087601 A JP 10087601A JP 8760198 A JP8760198 A JP 8760198A JP H11288535 A JPH11288535 A JP H11288535A
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- G11B9/10—Recording or reproducing using a method not covered by one of the main groups G11B3/00 - G11B7/00; Record carriers therefor using electron beam; Record carriers therefor
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスクや光磁
気ディスク等のディスク状光記録媒体を製作する際に用
いられるディスク原盤の作成装置に関し、さらに詳しく
はこのディスク原盤に情報信号等に対応したピットパタ
ーンや情報信号等が記録されるグルーブパターンを電子
ビームによってカッティングするディスク原盤作成装置
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for producing a master disk used for manufacturing a disk-shaped optical recording medium such as an optical disk or a magneto-optical disk. The present invention relates to a master disc manufacturing apparatus for cutting a groove pattern in which a pit pattern, an information signal, and the like are recorded by an electron beam.
【０００２】[0002]
【従来の技術】例えば、光ディスクは、ガラス原板から
スタンパを製作するディスク原盤工程と、スタンパを組
み込んだ成形金型によってディスクを成形するディスク
化工程とを経て製作される。すなわち、ディスク原盤工
程は、一般に主面にフォトレジスト層を形成したガラス
原板に記録すべき情報信号等に対応したピットパターン
潜像を形成するフォトレジスト層のカッティングを行っ
た後、現像処理等や電鋳処理を施してスタンパを形成す
るためのディスク原盤を製作する。2. Description of the Related Art For example, an optical disk is manufactured through a disk mastering step of manufacturing a stamper from a glass base plate and a disk forming step of forming a disk with a molding die incorporating the stamper. That is, the disc mastering process generally involves cutting a photoresist layer that forms a pit pattern latent image corresponding to an information signal or the like to be recorded on a glass master having a photoresist layer formed on the main surface, followed by development processing and the like. A disc master for forming a stamper by performing an electroforming process is manufactured.
【０００３】ディスク原盤のカッティングは、従来、大
気雰囲気中で光源から出射された可視光や紫外線レーザ
を高倍率の対物レンズによって波長レベルのスポット径
まで集束してガラス原板に形成したフォトレジスト層に
照射することにより行っていた。したがって、光ディス
クにおいては、情報信号等の高密度記録化の要求が大き
いものの、記録用レーザ光のスポット径の限界によって
記録すべき情報信号等の記録分解能が制限されることか
らその達成に限界があった。Conventionally, the cutting of a master disc is performed by focusing a visible light or ultraviolet laser emitted from a light source in an air atmosphere to a spot diameter at a wavelength level by a high-magnification objective lens on a photoresist layer formed on a glass base plate. It was performed by irradiation. Therefore, although there is a great demand for high density recording of information signals and the like in optical discs, there is a limit to the achievement because the recording resolution of information signals and the like to be recorded is limited by the limit of the spot diameter of the recording laser beam. there were.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】光ディスクにおいて
は、ディスク原盤のカッティングに際して、可視光や紫
外線レーザよりも波長が短く記録分解能の向上が図られ
る電子ビームを用いることによって情報信号等の高密度
記録化を達成する方法が検討されている。ディスク原盤
作成装置は、電子ビームが大気中において著しく拡散、
減衰する特性を有していることから、従来のレーザカッ
ティング装置のレーザ光源を単に電子ビームを出射集束
する電子銃に置き換えることによって構成することはで
きない。ディスク原盤作成装置は、電子銃或いはディス
ク原盤等の電子ビームが伝播或いは通過する部位を真空
空間中に構成しなければならない。In the case of an optical disk, when cutting an original disk, a high-density recording of information signals and the like is achieved by using an electron beam having a shorter wavelength than visible light or ultraviolet laser and improving the recording resolution. Methods to achieve this are being considered. The disk master making device remarkably diffuses the electron beam in the atmosphere,
Due to the attenuating characteristic, the laser light source of the conventional laser cutting device cannot be configured simply by replacing it with an electron gun that emits and focuses an electron beam. In the disk master making apparatus, a portion through which an electron beam propagates or passes, such as an electron gun or a disk master, must be formed in a vacuum space.
【０００５】提案された電子ビームを用いるディスク原
盤作成装置は、従来のレーザを用いたディスク原盤作成
装置と同様に、電子ビームの照射位置とディスク原盤の
半径方向の相対的移動とを直線移動機構によって行うよ
うに構成されている。すなわち、かかるディスク原盤作
成装置においても、ディスク原盤が、ターンテーブルや
スピンドルモータ等からなる回転駆動機構によって位置
決め保持して回転駆動されるとともに、この回転駆動機
構をトラッキング駆動機構によりディスク原盤の直径方
向に移動動作させるように構成されている。[0005] The proposed disk master making apparatus using an electron beam, like a conventional disk master making apparatus using a laser, uses a linear movement mechanism to determine the irradiation position of the electron beam and the relative movement of the disk master in the radial direction. It is configured to do so. In other words, in such a disc master making apparatus, the disc master is positioned and held and rotated by a rotary drive mechanism including a turntable, a spindle motor and the like, and the rotary drive mechanism is moved in the diametrical direction of the disc master by a tracking drive mechanism. Is configured to be moved.
【０００６】ディスク原盤作成装置は、ディスク原盤に
対して微細なピッチで微小なピットパターン潜像を形成
することから、各駆動機構が極めて高精度に位置決め制
御されるとともに駆動制御されなければならない。ディ
スク原盤作成装置は、かかる高精度の位置決め制御或い
は駆動制御を行うために、トラッキング駆動機構の可動
部位が低摩擦係数であるとともに摩擦変動が小さい機構
によって構成されなければならない。勿論、ディスク原
盤作成装置は、上述したように少なくともディスク原盤
と電子ビームの出射部とが真空条件に保持されることを
必須の構成要件とされなければならない。[0006] Since the disk master forming apparatus forms minute pit pattern latent images at a fine pitch on the disk master, each drive mechanism must be very accurately positioned and driven and controlled. In order to perform such high-precision positioning control or drive control, the master disc manufacturing apparatus must be configured by a mechanism in which the movable portion of the tracking drive mechanism has a low friction coefficient and small friction fluctuation. Needless to say, the disc master making apparatus must have an essential component that at least the disc master and the electron beam emitting section are maintained in a vacuum condition as described above.
【０００７】すなわち、ディスク原盤作成装置は、ディ
スク原盤を駆動する回転駆動機構がトラッキング駆動機
構によって高精度に位置決め制御されて直線移動される
とともに、移動領域の全域に亘ってシールド機構により
真空槽の真空条件が保持される構成が必要とされる。し
かしながら、かかる条件を達成する構成は、未だ実現さ
れておらず、電子ビームによってカッティングを行う実
用的なディスク原盤作成装置の実現が困難な状況にあ
る。That is, in the disk master forming apparatus, the rotary drive mechanism for driving the disk master is linearly moved while being accurately positioned and controlled by the tracking drive mechanism, and the vacuum chamber is controlled by the shield mechanism over the entire moving area. A configuration in which vacuum conditions are maintained is required. However, a configuration for achieving such a condition has not yet been realized, and it is difficult to realize a practical disk master making apparatus that performs cutting with an electron beam.
【０００８】このため、電子ビームを用いたディスク原
盤作成装置としては、例えば電子銃や、ディスク原盤の
駆動機構を構成する回転駆動機構とトラッキング駆動機
構等を全て真空槽内に収納して構成することが考慮され
る。しかしながら、かかるディスク原盤作成装置は、真
空槽が大型化するとともにこの真空槽内の真空条件を保
持するために大容量の真空ポンプを必要とすることか
ら、莫大な設備コストとランニングコストとが必要とな
って光ディスクの製造コストを増大させるといった問題
がある。また、ディスク原盤作成装置は、真空槽内を所
定の真空条件に設定するための準備時間が長くなって効
率が低下するとともに保守点検等の能率も悪くなるとい
った問題がある。For this reason, an apparatus for producing a master disc using an electron beam, for example, comprises an electron gun, a rotary drive mechanism and a tracking drive mechanism which constitute a drive mechanism for the master disc, all housed in a vacuum chamber. Is considered. However, such a disk master making apparatus requires an enormous equipment cost and a running cost because the vacuum chamber becomes large and a large-capacity vacuum pump is required to maintain the vacuum conditions in the vacuum chamber. Therefore, there is a problem that the manufacturing cost of the optical disk increases. Further, the disk master making apparatus has a problem that the preparation time for setting the inside of the vacuum chamber to a predetermined vacuum condition becomes longer, the efficiency is reduced, and the efficiency of maintenance and inspection is also reduced.
【０００９】さらに、かかるディスク原盤作成装置にお
いては、各機構部が真空条件下で高精度の位置決め制
御、駆動制御が行われなければならない。機構部は、真
空条件下において、大気雰囲気中と比較して各部の摩擦
力が大きくなるといった特徴を有している。ディスク原
盤作成装置は、微細加工装置であることから、各機構部
に使用する潤滑剤の影響を抑えるためにその使用量が制
限される。したがって、ディスク原盤作成装置は、各機
構部位が上述した厳しい条件をクリアする材質、構造、
品質を以って構成されなければならずその実現が極めて
困難であるばかりでなく、例え実用化された場合にも大
気雰囲気中で使用されるものと比較して極めて高価とな
ってしまうといった問題がある。Further, in such a disk master making apparatus, each mechanism must perform high-precision positioning control and drive control under vacuum conditions. The mechanism section has a feature that the frictional force of each section is larger under vacuum conditions than in the air atmosphere. Since the disk master recording apparatus is a micro-processing apparatus, its use amount is limited in order to suppress the influence of the lubricant used for each mechanism. Therefore, the master disc manufacturing apparatus is made of a material, structure,
It must be constructed with high quality and is not only extremely difficult to realize, but also extremely expensive when used in practice, compared to those used in air atmosphere. There is.
【００１０】したがって、本発明は、上述した問題点を
解決して電子ビームによるディスク原盤のカッティング
の実用化を達成したディスク原盤作成装置を提供するこ
とを目的に提案されたものである。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been proposed with the object of providing a master disk forming apparatus which solves the above-mentioned problems and achieves the practical use of the master disk cutting by an electron beam.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】この目的を達成する本発
明にかかるディスク原盤作成装置は、ターンテーブルを
含むディスク原盤を回転駆動する原盤回転機構部とディ
スク原盤に電子ビームを照射する電子ビーム出射ヘッド
機構部のいずれか一方の機構部を固定部として構成する
とともに、他方の機構部が静圧軸受によって回転部位を
支持されてなる回動駆動機構にその回転中心に対して偏
芯された位置に搭載されることによって円弧状に回動動
作する回動部として構成されてなる。According to the present invention, there is provided an apparatus for producing a master disc, which achieves this object, comprises: a master rotating mechanism for rotating a master disc including a turntable; and an electron beam irradiator for irradiating the master disc with an electron beam. A position where one of the head mechanisms is configured as a fixed part, and the other mechanism is eccentric with respect to the center of rotation of a rotary drive mechanism having a rotating part supported by a hydrostatic bearing. Is configured as a rotating portion that rotates in an arc shape by being mounted on the rotating member.
【００１２】以上のように構成された本発明にかかるデ
ィスク原盤作成装置によれば、原盤回転機構部の駆動部
位や回転駆動機構がそれぞれ静圧軸受を介して真空槽の
外部に設けられることから、真空槽の小型化が図られる
とともに、これら各駆動機構を真空条件下で高精度に駆
動されるために必要な特殊な仕様で構成する必要は無く
かつ高精度の位置決め制御や駆動制御が可能となる。ま
た、ディスク原盤作成装置によれば、各静圧軸受によっ
て真空槽内の真空条件が確実に保持される。したがっ
て、ディスク原盤作成装置は、電子ビーム出射ヘッド機
構から出射される電子ビームによってディスク原盤の電
子線用レジスト層に記録する情報信号等に応じたピット
パターン潜像等を極めて高精度かつ高密度にカッティン
グすることが可能となり、情報信号等の高密度記録化が
図られたディスク状光記録媒体の製造を実現する。[0012] According to the disk master making apparatus of the present invention configured as described above, the driving parts and the rotation driving mechanism of the master rotating mechanism are provided outside the vacuum chamber via the static pressure bearings. In addition to miniaturization of the vacuum chamber, it is not necessary to configure each of these drive mechanisms with the special specifications required to be driven with high accuracy under vacuum conditions, and high-precision positioning control and drive control are possible. Becomes Further, according to the master disk forming apparatus, the vacuum conditions in the vacuum chamber are reliably maintained by each hydrostatic bearing. Therefore, the master disc producing apparatus can produce a pit pattern latent image or the like corresponding to an information signal or the like recorded on the electron beam resist layer of the master disc with an electron beam emitted from the electron beam emitting head mechanism with extremely high precision and high density. Cutting can be performed, and manufacture of a disc-shaped optical recording medium in which information signals and the like are recorded at high density is realized.
【００１３】[0013]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。本発明の第１の実施
の形態として示すディスク原盤作成装置１０は、光ディ
スクの製造工程に設置されてディスク原盤１に情報信号
等に応じてピットパターン潜像をスパイラル状にカッテ
ィングする。ディスク原盤作成装置１０は、例えば直径
１２ｃｍの光ディスクについて記憶容量が３０ＧＢとす
る高密度記録化を図るために、ディスク原盤１に対して
トラックピッチが０．２９μｍ、ピッチ幅が０．１４μ
ｍ、最短ピッチ長が０．１６μｍのピットパターン潜像
をカッティングする。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. A master disc manufacturing apparatus 10 shown as a first embodiment of the present invention is installed in a manufacturing process of an optical disc and spirally cuts a pit pattern latent image on the master disc 1 according to an information signal or the like. The master disc producing apparatus 10 has a track pitch of 0.29 μm and a pitch width of 0.14 μ with respect to the master disc 1 in order to achieve high-density recording with a storage capacity of 30 GB for an optical disc having a diameter of 12 cm, for example.
m, a pit pattern latent image having a minimum pitch length of 0.16 μm is cut.
【００１４】ディスク原盤１は、図６（Ａ）に示すよう
に、高精度に研磨した厚みが数ｍｍの石英ガラス板２の
表面に電子線用レジスト層３が塗布されてなる。ディス
ク原盤１は、石英ガラス板２の他にも、例えばセラミッ
クや金属板等が用いられ、数十ｎｍ以下の表面粗さでか
つ数μｍ以下の平行平面を以って精密に形成される。勿
論、ディスク原盤１は、情報信号等の記録エリアよりも
大きな外径を有し、円盤或いは多角形に形成される。As shown in FIG. 6A, a disk master 1 is formed by applying a resist layer 3 for electron beam to a surface of a quartz glass plate 2 having a thickness of several mm polished with high precision. The disk master 1 is made of, for example, a ceramic or metal plate in addition to the quartz glass plate 2, and is formed precisely with a parallel surface of several tens nm or less and surface roughness of several tens nm or less. Of course, the master disc 1 has an outer diameter larger than a recording area for information signals and the like, and is formed in a disk or a polygon.
【００１５】電子線用レジスト層３は、例えばスピンコ
ート法等によって石英ガラス板２の表面に電子線用レジ
スト剤が均一な厚みで塗布されてなる。電子線用レジス
ト剤には、露光により酸が生成され、この酸が触媒とし
て作用する感光性樹脂からなるいわゆる化学増幅形レジ
ストが用いられる。電子線用レジスト層３は、厚みが１
００ｎｍ乃至２００ｎｍの範囲でλ／（４ｎ）（但し、
λは読取光の波長、ｎはディスク基板の屈折率）の条件
を満たして成膜される。The electron beam resist layer 3 is formed by applying an electron beam resist agent to the surface of the quartz glass plate 2 with a uniform thickness by, for example, a spin coating method or the like. As the electron beam resist agent, a so-called chemically amplified resist made of a photosensitive resin in which an acid is generated by exposure and the acid acts as a catalyst is used. The electron beam resist layer 3 has a thickness of 1
Λ / (4n) in the range of 00 nm to 200 nm (however,
λ is the wavelength of the reading light, and n is the refractive index of the disk substrate).
【００１６】ディスク原盤１には、後述するようにディ
スク原盤作成装置１０によって情報信号等に応じて変調
された電子ビームが電子線用レジスト層３に照射され
る。ディスク原盤１には、図５に示すように、回転駆動
された状態で電子ビームがその主面に対して円弧状軌道
を以って移動しながら電子線用レジスト層３に照射され
る。ディスク原盤１は、電子線用レジスト層３の電子ビ
ームが照射された部分がアルカリ可溶状態となる。As will be described later, the disk master 1 is irradiated with an electron beam modulated by the disk master making apparatus 10 in accordance with an information signal or the like onto the electron beam resist layer 3. As shown in FIG. 5, the electron beam is irradiated onto the electron beam resist layer 3 while rotating and driving the disk master 1 along an arc-shaped orbit with respect to the main surface thereof. In the disk master 1, a portion of the electron beam resist layer 3 irradiated with the electron beam is in an alkali-soluble state.
【００１７】したがって、ディスク原盤１は、カッティ
ング終了後にアルカリ現像液による現像処理が施される
ことによって露光された部分の電子線用レジスト剤が除
去され、図６（Ｂ）に示すように、石英ガラス板２の表
面に情報信号等に応じたピットパターン４が精密に形成
される。ディスク原盤１は、従来と同様に、無電解メッ
キやスバッタリング等によってピットパターン４が形成
された表面の導体化処理が施された後、電鋳メッキ処理
が施されてレプリカのスタンパを形成する。Therefore, after the completion of cutting, the disk master 1 is subjected to a developing treatment with an alkali developing solution to remove an exposed portion of the electron beam resist agent, and as shown in FIG. A pit pattern 4 corresponding to an information signal or the like is precisely formed on the surface of the glass plate 2. In the same manner as in the prior art, the disc master 1 is subjected to electroconducting plating, sputtering, or the like on the surface on which the pit pattern 4 is formed, and then electroformed plating to form a replica stamper. I do.
【００１８】ディスク原盤作成装置１０は、図１に示す
ように、真空槽１１と、ディスク原盤１を回転駆動する
原盤回転駆動機構１２と、電子ビームを出射する電子ビ
ーム出射ヘッド機構１３と、この電子ビーム出射ヘッド
機構１３を回動させるヘッド回動駆動機構１４等の各部
によって構成される。真空槽１１は、エアーダンパ１５
によって外部振動を除去する防振対策を施された状態で
設置される。As shown in FIG. 1, the master disc producing apparatus 10 comprises a vacuum chamber 11, a master rotation drive mechanism 12 for driving the master disc 1 to rotate, an electron beam emitting head mechanism 13 for emitting an electron beam, and a It is constituted by various parts such as a head rotation drive mechanism 14 for rotating the electron beam emission head mechanism 13. The vacuum chamber 11 has an air damper 15.
It is installed with anti-vibration measures to remove external vibrations.
【００１９】真空槽１１には、詳細を省略する真空ポン
プ１６の給排管１６ａが接続されており、この真空ポン
プ１６を駆動することによって内部空間部１７が所定の
真空条件に設定保持される。さらに、真空槽１１には、
図示しないが内部空間部１７にディスク原盤１を搬送し
て原盤回転駆動機構１２に設置する搬送機構や、全体を
大気雰囲気中にさらすこと無くディスク原盤１の出し入
れを可能とするゲート機構等が付設される。The vacuum tank 11 is connected to a supply / discharge pipe 16a of a vacuum pump 16, which is not described in detail. By driving the vacuum pump 16, the internal space 17 is set and maintained at a predetermined vacuum condition. . Further, in the vacuum chamber 11,
Although not shown, a transport mechanism for transporting the disc master 1 to the internal space 17 and setting it on the master rotation drive mechanism 12 and a gate mechanism for allowing the disc master 1 to be taken in and out without exposing the entire disc to the atmosphere are additionally provided. Is done.
【００２０】真空槽１１には、底面部１１ａに後述する
原盤回転駆動機構１２の出力軸２５を内部空間部１７へ
と貫通させる軸穴１８が形成されている。この軸穴１８
は、図１に示すように底面部１１ａの中心に対して、側
方に偏位した位置に形成されている。軸穴１８には、内
部空間部１７を真空条件に保持するとともに出力軸２５
を回転自在に軸支する磁性流体シール１９が組み付けら
れている。In the vacuum chamber 11, a shaft hole 18 is formed in the bottom surface 11a so that an output shaft 25 of the master disk rotation drive mechanism 12 described later penetrates into the internal space 17. This shaft hole 18
Are formed at positions deviated laterally with respect to the center of the bottom surface 11a as shown in FIG. The shaft hole 18 holds the internal space 17 under vacuum conditions and
A magnetic fluid seal 19 that rotatably supports the magnetic fluid seal 19 is assembled.
【００２１】磁性流体シール１９は、詳細を省略する
が、周知のように磁性体を内包するコロイド流体を着磁
された軸穴１８或いは出力軸２５との間に保持させてそ
の磁力圧によりこの出力軸２５を低摩擦係数かつ低摩擦
変動で軸穴１８に軸支するとともに真空槽１１の真空条
件を保持する。また、磁性流体シール１９は、磁性流体
の作用によって真空槽１１の内部空間部１７と大気との
間をシールドしてこの内部空間部１７の真空条件を保持
する作用を奏する。Although the details of the magnetic fluid seal 19 are omitted, as is well known, a colloid fluid containing a magnetic substance is held between the magnetized shaft hole 18 and the output shaft 25, and the magnetic force is applied by the magnetic force. The output shaft 25 is supported by the shaft hole 18 with a low friction coefficient and a low friction fluctuation, and the vacuum condition of the vacuum chamber 11 is maintained. In addition, the magnetic fluid seal 19 has a function of shielding the space between the internal space 17 of the vacuum chamber 11 and the atmosphere by the action of the magnetic fluid and maintaining a vacuum condition of the internal space 17.
【００２２】真空槽１１には、天井部１１ｂに後述する
ヘッド回動駆動機構１４のヘッド取付部材３５を回転自
在に支持するガイド軸穴２０が形成されている。ガイド
軸穴２０は、図１及び図２に示すように、その中心が天
井部１１ｂの中心に位置するようにして、換言すれば底
面部１１ａの軸穴１８と中心を異にして形成されてい
る。ガイド軸穴２０にも、内部空間部１７を真空条件に
保持するとともにヘッド取付部材３５を回転自在に支持
する磁性流体シール２１が組み付けられている。この磁
性流体シール２１も、上述した磁性流体シール１９と同
様に構成されている。磁性流体シール２１は、後述する
ようにもっぱら回動されるヘッド取付部材３５の筒状脚
部３７を低摩擦係数かつ低摩擦変動でガイド軸穴２０に
軸支するとともに真空槽１１の真空条件を保持して内部
空間部１７に臨ませる作用を奏している。In the vacuum chamber 11, a guide shaft hole 20 for rotatably supporting a head mounting member 35 of a head rotation drive mechanism 14, which will be described later, is formed in a ceiling portion 11b. As shown in FIGS. 1 and 2, the guide shaft hole 20 is formed so that its center is located at the center of the ceiling portion 11b, in other words, the center thereof is different from the center of the shaft hole 18 of the bottom surface portion 11a. I have. The guide shaft hole 20 is also provided with a magnetic fluid seal 21 that holds the internal space portion 17 under vacuum conditions and rotatably supports the head mounting member 35. The magnetic fluid seal 21 has the same configuration as the magnetic fluid seal 19 described above. The magnetic fluid seal 21 supports the cylindrical leg 37 of the head mounting member 35 which is rotated only as described later in the guide shaft hole 20 with a low friction coefficient and low friction fluctuation, and adjusts the vacuum condition of the vacuum chamber 11. It has the effect of holding and facing the internal space 17.
【００２３】真空槽１１には、図１及び図２に示すよう
に、天井部１１ｂの上面に環状の静圧軸受部２２が設け
られている。静圧軸受部２２は、上述したヘッド回動駆
動機構１４のヘッド取付部材３５を回転自在に支持する
軸受であり、内周部分に全周に亘って軸受穴２２ａが形
成されている。静圧軸受部２２は、内部空間２３が高圧
の空気流で満たされており、真空槽１１の内部空間部１
７の真空条件を保持する作用も奏している。As shown in FIGS. 1 and 2, the vacuum chamber 11 is provided with an annular hydrostatic bearing 22 on the upper surface of the ceiling 11b. The hydrostatic bearing portion 22 is a bearing that rotatably supports the head mounting member 35 of the above-described head rotation drive mechanism 14, and has a bearing hole 22a formed in the entire inner peripheral portion. The internal space 23 of the static pressure bearing portion 22 is filled with a high-pressure airflow, and the internal space portion 1 of the vacuum chamber 11 is
7 is also maintained.
【００２４】原盤回転駆動機構１２は、真空槽１１の外
部に設けられ静圧軸受やエンコーダ等を内蔵したＤＣブ
ラシレスモータ２４と、上述した磁性流体シール１９を
介して真空槽１１の内部空間部１７に導かれた出力軸２
５と、この出力軸２５の先端部に取り付けられて回転駆
動されるとともにディスク原盤１を位置決め載置するタ
ーンテーブル２６等の部材によって構成されている。Ｄ
Ｃブラシレスモータ２４は、図示しないサーボ機構によ
り回転速度が精密に制御されるＰＬＬ制御型ＤＣブラシ
レスモータにより構成される。ＤＣブラシレスモータ２
４は、例えば図示しない回転型エンコーダによって検出
される速度パルス信号と記録制御部から供給される指令
パルス信号との位相差が検出され、その差を最小限に抑
えるように回転速度が制御される。ＤＣブラシレスモー
タ２４は、例えば３６００ｒｐｍ程度までの高速回転駆
動が可能とされ、サーボ機構によって１回転当たり１０
-7以下の回転ジッタで制御される。The master disk rotation drive mechanism 12 includes a DC brushless motor 24 provided outside the vacuum chamber 11 and having a built-in hydrostatic bearing and encoder, and the internal space 17 of the vacuum chamber 11 via the magnetic fluid seal 19 described above. Output shaft 2 led to
5 and a member such as a turntable 26 which is attached to the distal end of the output shaft 25, is driven to rotate, and positions and mounts the disk master 1. D
The C brushless motor 24 is constituted by a PLL control type DC brushless motor whose rotation speed is precisely controlled by a servo mechanism (not shown). DC brushless motor 2
Reference numeral 4 denotes a phase difference between a speed pulse signal detected by, for example, a rotary encoder (not shown) and a command pulse signal supplied from the recording control unit, and the rotation speed is controlled so as to minimize the difference. . The DC brushless motor 24 can be driven at a high speed of, for example, about 3600 rpm, and is driven at a speed of 10
It is controlled with a rotation jitter of -7 or less.
【００２５】出力軸２５は、大気雰囲気から軸穴１８を
貫通して真空雰囲気中に延在されるが、磁性流体シール
１９によって低摩擦係数及び低摩擦変動を以って軸受け
されることから円滑な回転動作を行う。ターンテーブル
２６は、詳細を省略するがその主面上にディスク原盤１
を位置決めした状態で真空チャッキングするとともにＤ
Ｃブラシレスモータ２４によって所定の速度を以って回
転駆動される。The output shaft 25 extends from the atmosphere to a vacuum through the shaft hole 18 through the shaft hole 18, but is smoothly carried out by the magnetic fluid seal 19 with a low friction coefficient and low friction fluctuation. Perform a rotating operation. Although the details of the turntable 26 are omitted, the master disc 1 is provided on its main surface.
Vacuum chucking while positioning D
The C brushless motor 24 is driven to rotate at a predetermined speed.
【００２６】原盤回転駆動機構１２は、上述したように
駆動部位が大気雰囲気中に配置されるとともにディスク
原盤１の載置部が真空槽１１の内部空間部１７に配置さ
れてなる。原盤回転駆動機構１２は、出力軸２５を真空
槽１１に設けた磁性流体シール１９によって軸受けされ
ることから、ターンテーブル２６が円滑かつ精密に回転
されるとともに真空槽１１を確実にシールドしてその内
部空間部１７の真空条件を確実に保持する。また、原盤
回転駆動機構１２は、上述したように軸穴１８が真空槽
１１の中心に対して側方に偏位した位置に設けられてい
ることから、その回転中心も真空槽１１の中心に対して
偏位してターンテーブル２６を回転駆動する。As described above, the master rotation drive mechanism 12 has a drive portion disposed in the atmosphere and the mounting portion of the disk master 1 is disposed in the internal space 17 of the vacuum chamber 11. In the master disc rotation drive mechanism 12, the output shaft 25 is supported by the magnetic fluid seal 19 provided in the vacuum chamber 11, so that the turntable 26 is rotated smoothly and precisely, and the vacuum chamber 11 is securely shielded. The vacuum condition of the internal space 17 is reliably maintained. Further, since the shaft hole 18 is provided at a position deviated laterally with respect to the center of the vacuum chamber 11 as described above, the rotation center of the master disk rotation drive mechanism 12 is also located at the center of the vacuum chamber 11. Then, the turntable 26 is driven to rotate.
【００２７】電子ビーム出射ヘッド機構１３は、詳細を
後述するようにヘッド回動駆動機構１４によって駆動さ
れるヘッド取付部材３５に搭載されており、円弧状の軌
道に沿って移動される。電子ビーム出射ヘッド機構１３
は、図示しないコンピュータ制御装置により、電子ビー
ム出射のオン・オフ、電子ビームのビームスポットのサ
イズ調整或いは電子ビームのウォブリング等の制御が行
われる。電子ビーム出射ヘッド機構１３は、図３に詳細
を示すように、一端側が電子ビームを出射する電子ビー
ム出射面２７ａとして構成された有底筒状の電子銃筒２
７と、この電子銃筒２７の内部に順に組み合わされた電
子銃２８と、コンデンサレンズ２９と、ブランキング電
極３０と、アパーチャ３１と、ビーム偏向電極３２と、
フォーカス調整レンズ３３と、対物レンズ３４等によっ
て構成されてなる。The electron beam emitting head mechanism 13 is mounted on a head mounting member 35 driven by a head rotation driving mechanism 14 as described in detail later, and is moved along an arc-shaped orbit. Electron beam emission head mechanism 13
A computer controller (not shown) controls on / off of the emission of the electron beam, adjustment of the size of the beam spot of the electron beam, or wobbling of the electron beam. As shown in detail in FIG. 3, the electron beam emitting head mechanism 13 has a bottomed cylindrical electron gun barrel 2 having one end configured as an electron beam emitting surface 27a for emitting an electron beam.
7, an electron gun 28, a condenser lens 29, a blanking electrode 30, an aperture 31, a beam deflection electrode 32,
It is composed of a focus adjustment lens 33, an objective lens 34 and the like.
【００２８】電子ビーム出射ヘッド機構１３は、電子銃
筒２７がヘッド取付部材３５に設けた取付穴３６に貫通
されるとともにその外周部に一体に形成した取付フラン
ジ部２７ｂを固定することによって、ヘッド取付部材３
５に取り付けられている。電子ビーム出射ヘッド機構１
３は、この状態において電子ビーム出射面２７ａが真空
槽１１の内部空間部１７に臨ませられている。電子ビー
ム出射ヘッド機構１３は、詳細には電子ビーム出射面２
７ａが原盤回転駆動機構１２のターンテーブル２６上に
位置決め載置されたディスク原盤１の主面と近接した状
態で対向位置している。The electron beam emitting head mechanism 13 is configured such that an electron gun barrel 27 is penetrated through a mounting hole 36 provided in a head mounting member 35, and a mounting flange portion 27b integrally formed on the outer periphery thereof is fixed. Mounting member 3
5 is attached. Electron beam emission head mechanism 1
In 3, the electron beam emission surface 27 a faces the internal space 17 of the vacuum chamber 11 in this state. The electron beam emission head mechanism 13 is, in detail, an electron beam emission surface 2.
7a is opposed to and close to the main surface of the disk master 1 positioned and mounted on the turntable 26 of the master rotation drive mechanism 12.
【００２９】電子銃２８は、例えばＬａＢ6等の熱電子
線銃によって構成され、陽極により数１０ＫｅＶに加速
された電子ビームを放出する。コンデンサレンズ２９
は、放出された電子ビームを集束してアパーチャ３１へ
と導く。ブランキング電極３０は、コンピュータ制御装
置からの出力信号に基づいて電子ビーム出射のオン・オ
フ制御を行う。ブランキング電極３０は、詳細には電極
間に電圧が印加されることにより電子ビームを大きく偏
向させてアパーチャ３１の電子ビーム出射孔３１ａに集
束させないようにすることによって電子ビームをオフ状
態とする。The electron gun 28 is composed of, for example, a thermionic beam gun such as LaB 6 and emits an electron beam accelerated to several tens KeV by an anode. Condenser lens 29
Focuses the emitted electron beam and guides it to the aperture 31. The blanking electrode 30 performs on / off control of electron beam emission based on an output signal from a computer control device. In detail, the blanking electrode 30 turns off the electron beam by applying a voltage between the electrodes so that the electron beam is largely deflected so as not to be focused on the electron beam exit hole 31 a of the aperture 31.
【００３０】ビーム偏向電極３２は、電極間に電圧が印
加されることにより電子ビームを偏向させるが、電子ビ
ーム出射面２７ａから出射される電子ビームをディスク
原盤１上でｎｍからμｍの精度で偏向させるウォブリン
グ作用を奏する電極である。フォーカス調整レンズ３３
は、進行方向に垂直に電界を与えて進路を偏向させる静
電型或いは進行方向に垂直に磁界を与えて進路を偏向さ
せる電磁型レンズであり、対物レンズ３４とともにディ
スク原盤１に照射される電子ビームを数ｎｍから数μｍ
のスポット径に集光させて照射する。The beam deflecting electrode 32 deflects the electron beam by applying a voltage between the electrodes. The beam deflecting electrode 32 deflects the electron beam emitted from the electron beam emitting surface 27a on the master disk 1 with an accuracy of nm to μm. This is an electrode that exhibits a wobbling action. Focus adjustment lens 33
Is an electrostatic type lens that applies an electric field perpendicular to the traveling direction to deflect the course, or an electromagnetic lens that applies a magnetic field perpendicular to the traveling direction to deflect the course. Beam from several nm to several μm
Light is condensed to a spot diameter of.
【００３１】以上のように構成された電子ビーム出射ヘ
ッド機構１３は、図１及び図２に示すように、そのビー
ム軸Ｌ１がヘッド回動駆動機構１４を構成するヘッド取
付部材３５にその回転中心Ｏ１から外方へと偏芯量Δｘ
を以って偏芯位置されるようにして搭載されている。勿
論、電子ビーム出射ヘッド機構１３は、後述するように
ヘッド回動駆動機構１４によってヘッド取付部材３５が
回動された際に、ディスク原盤１のピットパターン形成
領域を通過する円弧軌道上を通過するようにしてこのヘ
ッド取付部材３５に搭載される。As shown in FIGS. 1 and 2, the beam axis L1 of the electron beam emitting head mechanism 13 having the above-described structure is attached to the head mounting member 35 constituting the head rotation driving mechanism 14 by the rotation center thereof. Eccentric amount Δx outward from O1
It is mounted so that it is positioned eccentrically. Of course, the electron beam emitting head mechanism 13 passes on a circular orbit passing through the pit pattern forming area of the master disc 1 when the head mounting member 35 is rotated by the head rotation driving mechanism 14 as described later. In this way, the head mounting member 35 is mounted.
【００３２】ヘッド回動駆動機構１４は、ヘッド取付部
材３５と、ヘッド駆動部材３９と、ボイスコイルモータ
４２と、ピニオン４４等の部材によって構成される。ヘ
ッド取付部材３５は、図１及び図２に示すように、底面
に筒状脚部３７が一体に形成された全体略円盤状を呈し
ており、その外周部３８が上述した真空槽１１に設けた
静圧軸受部２２によって回動自在に支持されている。The head rotation driving mechanism 14 is composed of members such as a head mounting member 35, a head driving member 39, a voice coil motor 42, and a pinion 44. As shown in FIGS. 1 and 2, the head mounting member 35 has a substantially disk shape in which a cylindrical leg 37 is integrally formed on the bottom surface, and an outer peripheral portion 38 is provided in the above-described vacuum chamber 11. And is rotatably supported by the static pressure bearing portion 22.
【００３３】すなわち、ヘッド取付部材３５は、外周部
３８が軸受穴２２ａを介して高圧空気流が充填された内
部空間２３に臨ませられることによって、真空槽１１に
対して、その略中心位置を回動中心Ｏ１として回動自在
に組み合わされている。ヘッド取付部材３５は、この状
態において筒状脚部３７がガイド軸穴２０を介して真空
槽１１の内部空間部１７に臨ませられており、搭載した
電子ビーム出射ヘッド機構１３の先端部をこの内部空間
部１７に臨ませる。That is, the head mounting member 35 has its outer peripheral portion 38 facing the internal space 23 filled with the high-pressure air flow through the bearing hole 22a, so that the head mounting member 35 is substantially centered with respect to the vacuum chamber 11. It is rotatably combined as a rotation center O1. In this state, the cylindrical leg portion 37 of the head mounting member 35 faces the internal space 17 of the vacuum chamber 11 through the guide shaft hole 20. It faces the internal space 17.
【００３４】ヘッド取付部材３５には、回動中心Ｏ１に
対して電子ビーム出射ヘッド機構１３の取付位置とほぼ
対向する位置の上面に、ヘッド駆動部材３９が取付部４
１を介して一体に取り付けられている。ヘッド駆動部材
３９は、ヘッド取付部材３５と同心円の一部を構成する
全体が円弧状を呈して形成されるとともに、静圧軸受部
２２を迂回するために断面がクランク状を呈して形成さ
れている。ヘッド駆動部材３９には、ヘッド取付部材３
５の上面と平行に対峙する水平部の外周縁に外周ウォー
ムギャ４０が形成されている。The head mounting member 35 has a head driving member 39 on the upper surface at a position substantially opposite to the mounting position of the electron beam emitting head mechanism 13 with respect to the rotation center O1.
1 are attached integrally. The head drive member 39 is formed so as to form a part of a concentric circle with the head mounting member 35 so as to have an arc shape, and has a crank-shaped cross section to bypass the hydrostatic bearing portion 22. I have. The head driving member 39 includes the head mounting member 3
An outer peripheral worm gear 40 is formed on an outer peripheral edge of a horizontal portion facing in parallel with the upper surface of 5.
【００３５】ヘッド駆動部材３９は、ボイスコイルモー
タ４２、回転軸４３及び外周ウォームギャ４０と噛合す
るピニオン４４からなる駆動部によりディスク原盤１を
載置したターンテーブル２６の回転角度に応じて高精度
に位置決め制御されて回動される。すなわち、ターンテ
ーブル２６は、上述したＤＣブラシレスモータ２４に組
み込まれた図示しない高分解能の回転型エンコーダによ
ってその回転角度がパルス信号或いは回転角度をあらわ
すデジタル信号やアナログ信号として制御部へと供給さ
れるように構成されている。制御部は、このターンテー
ブル２６の角度情報に基づいて目標位置との位置誤差を
検出してボイスコイルモータ４２に制御出力を送出す
る。The head drive member 39 is driven with high precision by a drive unit comprising a voice coil motor 42, a rotating shaft 43 and a pinion 44 meshing with the outer peripheral worm gear 40 in accordance with the rotation angle of the turntable 26 on which the master disc 1 is mounted. The positioning is controlled and it is rotated. That is, the rotation angle of the turntable 26 is supplied to the control unit as a pulse signal or a digital signal or an analog signal representing the rotation angle by a high-resolution rotary encoder (not shown) incorporated in the DC brushless motor 24 described above. It is configured as follows. The control unit detects a position error from the target position based on the angle information of the turntable 26, and sends a control output to the voice coil motor 42.
【００３６】ボイスコイルモータ４２は、この制御出力
に基づいて回転軸４３を所定の速度で回転させる。回転
軸４３には、ピニオン４４が固定されている。したがっ
て、ヘッド駆動部材３９は、ピニオン４４と噛合する外
周ウォームギャ４０を介して所定の速度で円弧状軌道を
以って回動される。ヘッド回動駆動機構１４は、ヘッド
駆動部材３９が一体化されたヘッド取付部材３５を静圧
軸受部２２を介して高精度にかつ円滑に回動させる。し
たがって、このヘッド取付部材３５に搭載された電子ビ
ーム出射ヘッド機構１３は、上述したようにディスク原
盤１のピットパターン形成領域を通過する円弧軌道上に
沿って所定の速度で移動される。なお、ヘッド回動駆動
機構１４は、バックラッシュが少なく高精度に位置決め
伝達を可能とする外周ウォームギャ４０とピニオン４４
とによって精密送り機構を構成したが、かかる送り機構
に限定されるものでは無いことは勿論である。The voice coil motor 42 rotates the rotating shaft 43 at a predetermined speed based on the control output. A pinion 44 is fixed to the rotation shaft 43. Therefore, the head drive member 39 is rotated at a predetermined speed along an arc-shaped orbit through the outer peripheral worm gear 40 meshing with the pinion 44. The head rotation drive mechanism 14 smoothly and precisely rotates the head mounting member 35 with the head driving member 39 via the hydrostatic bearing 22. Therefore, the electron beam emitting head mechanism 13 mounted on the head mounting member 35 is moved at a predetermined speed along the circular orbit passing through the pit pattern forming area of the master disk 1 as described above. The head rotation drive mechanism 14 includes an outer peripheral worm gear 40 and a pinion 44 that enable highly accurate positioning transmission with little backlash.
Although the precision feed mechanism is constituted by the above, it is a matter of course that the present invention is not limited to such a feed mechanism.
【００３７】以上のように構成されたディスク原盤作成
装置１０においては、真空槽１１を開放して内部空間部
１７に収納された原盤回転駆動機構１２のターンテーブ
ル２６上にディスク原盤１が載置される。ディスク原盤
１は、カッティング動作中に遠心力が発生して位置ずれ
が生じないように、その重心位置をターンテーブル２６
の回転中心に一致させて真空チャッキングされる。ディ
スク原盤作成装置１０は、ディスク原盤１を設置した状
態で真空ポンプ１６が駆動されて真空槽１１の内部空間
部１７を排気して所定の真空条件に設定する。In the disk master making apparatus 10 constructed as described above, the vacuum chamber 11 is opened and the disk master 1 is placed on the turntable 26 of the master rotation drive mechanism 12 housed in the internal space 17. Is done. The center of gravity of the disc master 1 is positioned on the turntable 26 so that centrifugal force is not generated during the cutting operation and displacement occurs.
Vacuum chucking is performed so as to match the rotation center of. In the disk master making apparatus 10, the vacuum pump 16 is driven in a state where the disk master 1 is installed, and the internal space 17 of the vacuum chamber 11 is evacuated to set a predetermined vacuum condition.
【００３８】ディスク原盤作成装置１０は、電子ビーム
出射ヘッド機構１３の制御部を調整操作して、電子ビー
ム出射面２７ａから出射される電子ビームが所定のスポ
ット径でディスク原盤１の電子線用レジスト層３に集束
するようにする。なお、この調整操作は、例えば電子ビ
ームが電子線用レジスト層３で焦点を結ぶようにした
り、予め定めた間隔にディスク原盤１の主面と電子ビー
ム出射面２７ａとを調整位置させる等によって行う。The master disc producing apparatus 10 adjusts the control unit of the electron beam emitting head mechanism 13 so that the electron beam emitted from the electron beam emitting surface 27a has a predetermined spot diameter and has a predetermined spot diameter. Focus on layer 3. This adjustment operation is performed, for example, by focusing the electron beam on the electron beam resist layer 3 or by adjusting the main surface of the disk master 1 and the electron beam emission surface 27a at predetermined intervals. .
【００３９】ディスク原盤作成装置１０は、ヘッド回動
駆動機構１４を駆動してディスク原盤１に形成するピッ
トパターンの開始位置に電子ビーム出射面２７ａから出
射される電子ビームのスポットが位置するように、ヘッ
ド駆動部材３９及びヘッド取付部材３５を介して電子ビ
ーム出射ヘッド機構１３をディスク原盤１の半径方向に
移動させる。ディスク原盤作成装置１０は、原盤回転駆
動機構１２を駆動してディスク原盤１を所定の速度で回
転駆動する。ディスク原盤作成装置１０は、電子ビーム
出射ヘッド機構１３から電子ビームをディスク原盤１に
照射するとともに、ヘッド回動駆動機構１４を駆動して
電子ビーム出射ヘッド機構１３をディスク原盤１の半径
方向へと移動させる。The master disk forming apparatus 10 drives the head rotation drive mechanism 14 so that the spot of the electron beam emitted from the electron beam emitting surface 27a is located at the start position of the pit pattern formed on the master disk 1. The electron beam emitting head mechanism 13 is moved in the radial direction of the master disc 1 via the head driving member 39 and the head mounting member 35. The disk master creating apparatus 10 drives the disk rotating mechanism 12 to rotate the disk 1 at a predetermined speed. The master disc producing apparatus 10 irradiates an electron beam from the electron beam emitting head mechanism 13 onto the master disc 1 and drives the head rotation drive mechanism 14 to move the electron beam emitting head mechanism 13 in the radial direction of the master disc 1. Move.
【００４０】ディスク原盤作成装置１０は、上述したよ
うにディスク原盤１の回転中心とヘッド取付部材３５の
回転中心Ｏ１とが偏芯位置されるとともに、電子ビーム
出射ヘッド機構１３がヘッド取付部材３５に対してその
回転中心Ｏ１からΔｘの偏芯量を以って偏芯して取り付
けられて構成されている。したがって、ディスク原盤作
成装置１０は、電子ビーム出射ヘッド機構１３から出射
された電子ビームが回転駆動されるディスク原盤１の主
面に対してスパイラル状に走査して情報信号等に応じた
ピットパターンのカッティングを行う。As described above, in the master disc producing apparatus 10, the center of rotation of the master disc 1 and the center of rotation O1 of the head mounting member 35 are eccentrically positioned, and the electron beam emitting head mechanism 13 is attached to the head mounting member 35. On the other hand, it is mounted eccentrically with an eccentric amount of Δx from the rotation center O1. Therefore, the disk master creating apparatus 10 scans the main surface of the disk master 1 on which the electron beam emitted from the electron beam emitting head mechanism 13 is rotationally driven in a spiral manner to form a pit pattern corresponding to an information signal or the like. Perform cutting.
【００４１】ディスク原盤作成装置１０は、ディスク原
盤１に対するピットパターンのカッティングを、角速度
一定、線速度一定或いはこれらを複合して行うことが可
能であり、また電子ビーム出射ヘッド機構１３の円弧移
動の状態によって変化する円弧角度とピットパターンの
トラックピッチの間隔も制御部の演算によって補正が可
能とされる。ディスク原盤作成装置１０は、ディスク原
盤１に対するピットパターンのカッティングの開始と終
了とが、電子ビームの出射オン・オフとカッティング開
始／終了位置または時間によって制御される。ディスク
原盤作成装置１０は、ディスク原盤１の回転動作と電子
ビームの出射オンによる走査とが実際の記録開始位置ま
たは時間よりも先行して行われる。また、ディスク原盤
作成装置１０は、ディスク原盤１の停止動作と電子ビー
ムの出射オフとが、実際の記録終了位置又は時間よりも
遅れて行われる。The master disc producing apparatus 10 can perform the cutting of the pit pattern on the master disc 1 at a constant angular velocity, a constant linear velocity, or a combination thereof. The interval between the arc angle and the track pitch of the pit pattern, which varies depending on the state, can be corrected by the calculation of the control unit. In the master disc producing apparatus 10, the start and end of the cutting of the pit pattern on the master disc 1 are controlled by the on / off of the electron beam emission and the cutting start / end position or time. In the master disc producing apparatus 10, the rotation operation of the master disc 1 and the scanning by turning on the emission of the electron beam are performed prior to the actual recording start position or time. In the master disc producing apparatus 10, the operation of stopping the master disc 1 and the turning off of the electron beam are performed later than the actual recording end position or time.
【００４２】ディスク原盤作成装置１０は、電子ビーム
出射ヘッド機構１３のヘッド取付部材３５の回転中心Ｏ
１からの偏芯量Δｘが、電子ビームがディスク原盤１の
情報信号等の記録領域５の内周部５ａから外周部５ｂま
でを図４破線ａで示すように走査可能とすることから、
少なくとも記録領域５の半分の偏芯量に設定される。ま
た、ディスク原盤作成装置１０は、ディスク原盤１の記
録領域５の内周部５ａ或いは外周部５ｂの領域外に例え
ば制御信号等の情報信号が記録される場合があるので、
同図破線ｂで示すように電子ビームがこのディスク原盤
１を走査可能とするように偏芯量Δｘを設定することが
好ましい。さらに、ディスク原盤作成装置１０は、同図
破線ｃ、ｄに示すように電子ビームの円弧状軌道の曲率
が大きいほど、走査中の円弧移動と直線移動との軌跡差
が小さくなるので補正量も少なくなる。したがって、デ
ィスク原盤作成装置１０は、これらの条件と各機構部等
の大きさ等の条件を勘案して最適な偏芯量Δｘが設定さ
れる。The master disc producing apparatus 10 is arranged such that the center O of rotation of the head mounting member 35 of the electron beam emitting head mechanism 13 is
Since the eccentricity Δx from 1 makes it possible for the electron beam to scan from the inner peripheral portion 5a to the outer peripheral portion 5b of the recording area 5 for recording information signals and the like of the master disc 1 as shown by the broken line a in FIG.
The eccentric amount is set to at least half of the recording area 5. In addition, the disc master recording apparatus 10 may record an information signal such as a control signal outside the area of the inner periphery 5a or the outer periphery 5b of the recording area 5 of the disc master 1 in some cases.
It is preferable to set the eccentricity Δx so that the electron beam can scan the master disc 1 as shown by a broken line b in FIG. Further, as shown in dashed lines c and d in the figure, the larger the curvature of the arc-shaped trajectory of the electron beam, the smaller the difference in the trajectory between the circular movement and the linear movement during scanning. Less. Therefore, the disc mastering apparatus 10 sets the optimum amount of eccentricity Δx in consideration of these conditions and conditions such as the size of each mechanism.
【００４３】上述した第１の実施の形態として示したデ
ィスク原盤作成装置１０は、回転駆動されるディスク原
盤１に対して電子ビーム出射ヘッド機構１３が円弧状の
軌道に沿って半径方向に移動するように構成されてい
る。本発明の第２の実施の形態として図７に示したディ
スク原盤作成装置５０は、電子ビーム出射ヘッド機構１
３が固定されるとともにディスク原盤１が回転駆動され
ながらこの電子ビーム出射ヘッド機構１３に対して円弧
状の軌道に沿って移動されるように構成したことを特徴
とする。なお、以下のディスク原盤作成装置５０の説明
において、上述したディスク原盤作成装置１０の各部と
対応する部位については同一符号を付すことによってそ
の詳細な説明を省略する。In the disk master making apparatus 10 shown as the first embodiment, the electron beam emitting head mechanism 13 moves in the radial direction along an arc-shaped orbit with respect to the disk master 1 that is driven to rotate. It is configured as follows. A disk master making apparatus 50 shown in FIG. 7 as a second embodiment of the present invention includes an electron beam emitting head mechanism 1.
3, the disk master 1 is moved along an arc-shaped trajectory with respect to the electron beam emitting head mechanism 13 while being rotationally driven. In the following description of the disk master making device 50, the same reference numerals are given to the portions corresponding to the respective components of the disk master making device 10 described above, and the detailed description thereof will be omitted.
【００４４】ディスク原盤作成装置５０は、真空槽１１
の上面部１１ｂに、その中心から側方に偏位した位置に
設けられた取付穴１１ｃに電子ビーム出射ヘッド機構１
３が直接取り付けられている。電子ビーム出射ヘッド機
構１３は、電子銃筒２７の外周面と取付穴１１ｃの内面
とに図示しないシールド構造が設けられることによって
真空槽１１の内部空間部１７の真空条件を保持した状態
でその電子ビーム出射面２７ａが内部空間部１７に臨ま
せられている。The disk master making apparatus 50 includes the vacuum chamber 11
The electron beam emitting head mechanism 1 is attached to a mounting hole 11c provided at a position deviated laterally from the center of
3 is directly attached. The electron beam emitting head mechanism 13 is provided with a shield structure (not shown) on the outer peripheral surface of the electron gun barrel 27 and the inner surface of the mounting hole 11c, so that the vacuum condition of the internal space 17 of the vacuum chamber 11 is maintained. The beam emission surface 27a faces the internal space 17.
【００４５】ディスク原盤作成装置５０は、真空槽１１
の底面部１１ａの中心に位置して、原盤回転駆動機構１
２を円弧状の軌道に沿って回動動作させる詳細を後述す
る原盤回動機構５１を組み付ける大きな内径のガイド軸
穴５２が形成されている。ガイド軸穴５２には、後述す
る原盤回動機構５１の原盤回転機構取付部材５７の外周
部とガイド軸穴１１ｃの内周壁との間に構成される間隙
を確実にシーリングして真空槽１１の内部空間部１７の
真空条件を保持する磁性流体シール５３が設けられてい
る。磁性流体シール５３は、摩擦係数、摩擦変動を低減
して原盤回転機構取付部材５７を回転自在に支持して円
滑に回動されるように作用する。なお、磁性流体シール
５３は、上述したディスク原盤作成装置１０の磁性流体
シール２１と対応する部材である。The master disc producing apparatus 50 includes the vacuum chamber 11
Of the master disk rotation drive mechanism 1
A guide shaft hole 52 having a large inner diameter is formed in which a master disc rotating mechanism 51, which will be described in detail later, for rotating the disc 2 along an arc-shaped orbit is formed. In the guide shaft hole 52, a gap formed between an outer peripheral portion of a master disk rotating mechanism mounting member 57 of the master disk rotating mechanism 51 described later and an inner peripheral wall of the guide shaft hole 11c is reliably sealed to form the vacuum chamber 11 A magnetic fluid seal 53 for maintaining the vacuum condition of the internal space 17 is provided. The magnetic fluid seal 53 acts so as to rotatably support the master disk rotating mechanism mounting member 57 by reducing the friction coefficient and the friction fluctuation so as to be smoothly rotated. Note that the magnetic fluid seal 53 is a member corresponding to the magnetic fluid seal 21 of the above-described master disc manufacturing apparatus 10.
【００４６】真空槽１１には、その底面部１１ａにガイ
ド軸穴５２と同心円をなす環状の静圧軸受部５４が設け
られている。静圧軸受部５４は、原盤回転機構取付部材
５７を真空槽１１の真空条件を保持しながら低摩擦係
数、低摩擦変動を以って円滑にかつ精密に回動動作させ
る部位であり、上述した静圧軸受部２２と対応する。静
圧軸受部５４は、内部空間５５が高圧の空気流で満たさ
れており、側面に全周に亘って軸受穴５６が開口されて
いる。The vacuum chamber 11 is provided with an annular hydrostatic bearing 54 which is concentric with the guide shaft hole 52 on the bottom surface 11a. The hydrostatic bearing part 54 is a part for smoothly and precisely rotating the master disk rotating mechanism mounting member 57 with a low friction coefficient and low friction fluctuation while maintaining the vacuum condition of the vacuum chamber 11, as described above. Corresponds to the hydrostatic bearing portion 22. The internal space 55 of the static pressure bearing portion 54 is filled with a high-pressure airflow, and a bearing hole 56 is opened on the entire side surface of the static pressure bearing portion 54.
【００４７】原盤回動機構５１は、原盤回転機構取付部
材５７と、原盤駆動部材６３と、ボイスコイルモータ６
４と、回転軸６６及びピニオン６７等の部材によって構
成される。原盤回転機構取付部材５７は、上述したヘッ
ド取付部材３５に対応する部材であり、図７に示すよう
に主面部５８にその回転中心０２に対して原盤回転駆動
機構１２をその回転中心０３を側方へΔｙの偏芯量を以
って搭載してなる。The master rotating mechanism 51 includes a master rotating mechanism mounting member 57, a master driving member 63, and a voice coil motor 6.
4 and members such as a rotating shaft 66 and a pinion 67. The master rotation mechanism mounting member 57 is a member corresponding to the above-described head mounting member 35. As shown in FIG. 7, the master rotation driving mechanism 12 is disposed on the main surface portion 58 with respect to the rotation center 02. In the direction with an eccentric amount of Δy.
【００４８】すなわち、原盤回転機構取付部材５７は、
主面部５８がガイド軸穴５２の内径よりもやや小径とさ
れた外径を有する円盤状に形成されるとともに、底面部
に原盤回転駆動機構１２のＤＣブラシレスモータ２４を
組み付ける組付空間部５９が構成されてなる。原盤回転
機構取付部材５７には、主面部５８に中心より外周側に
Δｙの間隔を以ってＤＣブラシレスモータ２４の出力軸
２５を真空槽１１の内部空間部１７に貫通させる軸穴６
０が設けられている。軸穴６０には、磁性流体シール６
１が組み付けられており、出力軸２５が真空槽１１の真
空条件を保持しながら低摩擦係数、低摩擦変動を以って
円滑に回転させる。That is, the master rotation mechanism mounting member 57 is
The main surface portion 58 is formed in a disk shape having an outer diameter slightly smaller than the inner diameter of the guide shaft hole 52, and an assembling space portion 59 for assembling the DC brushless motor 24 of the master rotation drive mechanism 12 on the bottom surface portion. It is composed. The shaft rotation hole 6 through which the output shaft 25 of the DC brushless motor 24 penetrates through the inner space 17 of the vacuum chamber 11 at a distance of Δy from the center to the main surface portion 58 in the master disk rotating mechanism mounting member 57.
0 is provided. In the shaft hole 60, the magnetic fluid seal 6 is provided.
1, the output shaft 25 rotates smoothly with a low friction coefficient and low friction fluctuation while maintaining the vacuum condition of the vacuum chamber 11.
【００４９】原盤回転機構取付部材５７は、その外周部
６２が軸受穴５６を介して高圧空気流が充填された内部
空間５５に臨ませられることによって、上述した真空槽
１１に設けた静圧軸受部５４によって回動自在に支持さ
れている。原盤回転機構取付部材５７は、この状態にお
いて搭載した原盤回転駆動機構１２のターンテーブル２
６を真空槽１１の内部空間部１７に臨ませる。原盤回転
機構取付部材５７は、このように静圧軸受部５４によっ
て回動自在に支持されることから、真空槽１１の内部空
間部１７の真空条件を保持しながら低摩擦係数、低摩擦
変動を以って円滑かつ高精度に位置決め制御されて回転
する。The master disk rotating mechanism mounting member 57 has its outer peripheral portion 62 exposed to the internal space 55 filled with the high-pressure air flow through the bearing hole 56, so that the hydrostatic bearing provided in the vacuum chamber 11 is provided. It is rotatably supported by the part 54. The master rotation mechanism mounting member 57 is used for the turntable 2 of the master rotation drive mechanism 12 mounted in this state.
6 faces the internal space 17 of the vacuum chamber 11. Since the master disk rotating mechanism mounting member 57 is rotatably supported by the hydrostatic bearing 54 in this manner, the low friction coefficient and low friction fluctuation can be reduced while maintaining the vacuum condition of the internal space 17 of the vacuum chamber 11. As a result, the rotation is smoothly and precisely controlled by the positioning control.
【００５０】原盤回転機構取付部材５７には、回転中心
Ｏ２に対して原盤回転駆動機構１２の取付位置と対向す
る位置に原盤駆動部材６３が取り付けられている。原盤
駆動部材６３は、上述したヘッド駆動部材３９と対応す
る部材であって、原盤回転機構取付部材５７と同心円の
一部を構成する全体が円弧状を呈して形成されるととも
に、静圧軸受部５５を迂回するために断面がクランク状
を呈して形成されている。原盤回転機構取付部材５７に
は、外周縁に外周ウォームギャ６４が一体に形成されて
いる。A master drive member 63 is attached to the master rotation mechanism mounting member 57 at a position opposite to the mounting position of the master rotation drive mechanism 12 with respect to the rotation center O2. The master drive member 63 is a member corresponding to the above-described head drive member 39, and is entirely formed as a part of a concentric circle with the master rotation mechanism mounting member 57 in an arc shape, and has a hydrostatic bearing portion. In order to bypass 55, the cross section is formed in a crank shape. An outer peripheral worm gear 64 is integrally formed on the outer peripheral edge of the master disk rotating mechanism mounting member 57.
【００５１】原盤回転機構取付部材５７は、ボイスコイ
ルモータ６５、回転軸６６及び外周ウォームギャ６４と
噛合するピニオン６７からなる駆動部によりディスク原
盤１を載置したターンテーブル２６の回転角度に応じて
高精度に位置決め制御されて回動される。これらボイス
コイルモータ６５、回転軸６６及びピニオン６７は、上
述したボイスコイルモータ４２、回転軸４３及びピニオ
ン４４にそれぞれ対応しており、その構成並びに動作の
説明を省略する。勿論、ボイスコイルモータ６５は、タ
ーンテーブル２６に付設した回転型エンコーダの検出出
力に基づく制御部からの制御信号によって回転速度が制
御される。The master disk rotating mechanism mounting member 57 has a height corresponding to the rotation angle of the turntable 26 on which the disk master 1 is mounted by a drive unit including a voice coil motor 65, a rotating shaft 66 and a pinion 67 meshing with the outer peripheral worm gear 64. Rotation is performed with precision positioning control. The voice coil motor 65, the rotating shaft 66, and the pinion 67 correspond to the voice coil motor 42, the rotating shaft 43, and the pinion 44, respectively, and the description of the configuration and operation will be omitted. Of course, the rotation speed of the voice coil motor 65 is controlled by a control signal from a control unit based on a detection output of a rotary encoder attached to the turntable 26.
【００５２】以上のように構成されたディスク原盤作成
装置５０は、ディスク原盤１に対する基本的なカッティ
ング操作が上述したディスク原盤作成装置１０によるデ
ィスク原盤１に対するカッティング操作とほぼ同様に行
われる。ディスク原盤作成装置５０は、上述したように
電子ビーム出射ヘッド機構１３が固定されるとともにデ
ィスク原盤１を載置して回転駆動する原盤回転駆動機構
１２が円弧状の軌道を以って回動する。In the disk master making apparatus 50 configured as described above, the basic cutting operation on the disk master 1 is performed in substantially the same manner as the cutting operation on the disk master 1 by the disk master making apparatus 10 described above. As described above, in the master disc producing apparatus 50, the electron beam emitting head mechanism 13 is fixed, and the master disc rotating drive mechanism 12 that mounts and drives the disc master 1 rotates on an arc-shaped orbit. .
【００５３】ディスク原盤作成装置５０は、ディスク原
盤１を設置した状態で真空ポンプ１６が駆動されて真空
槽１１の内部空間部１７を排気して所定の真空条件に設
定する。真空槽１１は、底面部１１ａに原盤回転駆動機
構１２を搭載した原盤回転機構取付部材５７が回転自在
に組み合わされているが、磁性流体シール６１及び静圧
軸受部５４によって内部空間部１７の真空条件が保持さ
れる。In the master disc producing apparatus 50, the vacuum pump 16 is driven with the disc master 1 installed, and the internal space 17 of the vacuum chamber 11 is evacuated to set a predetermined vacuum condition. The vacuum chamber 11 is rotatably combined with a master disk rotation mechanism mounting member 57 having a master disk rotation drive mechanism 12 mounted on a bottom surface 11 a. The vacuum in the internal space 17 is controlled by a magnetic fluid seal 61 and a static pressure bearing 54. Conditions are maintained.
【００５４】ディスク原盤作成装置５０は、電子ビーム
出射ヘッド機構１３等についての所定の調整操作を行っ
た後、原盤回転駆動機構１２を駆動してディスク原盤１
を所定の速度で回転駆動するとともに電子ビーム出射ヘ
ッド機構１３から電子ビームをディスク原盤１に照射す
る。ディスク原盤作成装置５０は、この状態で原盤回動
機構５１の原盤回転機構取付部材５７が回転されて回転
中心Ｏ２に対して偏芯されて搭載された原盤回転駆動機
構１２を円弧状軌道に沿って移動させる。After performing a predetermined adjustment operation on the electron beam emitting head mechanism 13 and the like, the master disc producing apparatus 50 drives the master rotation drive mechanism 12 to drive the master disc 1.
Is rotated at a predetermined speed, and an electron beam is emitted from the electron beam emitting head mechanism 13 to the master disc 1. In this state, the master disk forming apparatus 50 rotates the master rotating mechanism mounting member 57 of the master rotating mechanism 51 to move the master rotating drive mechanism 12 mounted eccentrically with respect to the rotation center O2 along the arc-shaped orbit. To move.
【００５５】ディスク原盤作成装置５０は、円弧状軌道
に沿って移動される原盤回転駆動機構１２のターンテー
ブル２６上に位置決め載置された状態で回転されるディ
スク原盤１に対して電子ビーム出射ヘッド機構１３から
出射された電子ビームを照射する。電子ビームは、円弧
移動と直線移動との軌跡差により回転駆動されるディス
ク原盤１の主面をスパイラル状に走査して情報信号等に
応じたピットパターンのカッティングを行う。The master disc producing apparatus 50 is an electron beam emitting head for rotating the master disc 1 rotated while being positioned and mounted on the turntable 26 of the master rotating drive mechanism 12 moved along an arc-shaped orbit. The electron beam emitted from the mechanism 13 is irradiated. The electron beam spirally scans the main surface of the disk master 1 which is rotationally driven by the difference between the trajectory of the circular movement and the linear movement, and cuts a pit pattern according to an information signal or the like.
【００５６】ディスク原盤作成装置５０は、上述したよ
うに電子ビーム出射ヘッド機構１３を固定部として構成
するとともに原盤回転駆動機構１２を可動部として構成
してなる。これに対して、上述したディスク原盤作成装
置１０は、上述したように電子ビーム出射ヘッド機構１
３を可動部として構成するとともに原盤回転駆動機構１
２を固定部として構成してなる。かかる構成は、原盤回
転駆動機構１２と電子ビーム出射ヘッド機構１３のいず
れが軽量でありより簡易な構造で高精度に位置決めされ
た状態で駆動されるかによって選択される。As described above, the master disk forming apparatus 50 includes the electron beam emitting head mechanism 13 as a fixed part and the master rotation drive mechanism 12 as a movable part. On the other hand, the above-described disk master making apparatus 10 has the electron beam emitting head mechanism 1 as described above.
3 as a movable part and a master disc rotation drive mechanism 1
2 is configured as a fixed part. This configuration is selected depending on which of the master disk rotation drive mechanism 12 and the electron beam emission head mechanism 13 is driven in a state of being positioned with high accuracy with a lighter and simpler structure.
【００５７】[0057]
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明にか
かるディスク原盤作成装置によれば、ディスク原盤を回
転駆動する原盤回転機構部と電子ビームを出射する電子
ビーム出射ヘッド機構部のいずれか一方の機構部を固定
部として構成するとともに、他方の機構部が静圧軸受に
よって回転部位を支持されてなる回動駆動機構にその回
転中心に対して偏芯された位置に搭載されることによっ
て円弧状に回動動作する回動部として構成され、真空条
件が確実に保持された真空槽内でディスク原盤に対する
電子ビームの照射が行われるとともに原盤回転機構や回
転駆動機構の駆動部位が大気雰囲気中に配置されること
から、ディスク原盤に対する情報信号等に応じたピット
パターン潜像等が極めて高精度かつ高密度にカッティン
グされる。ディスク原盤作成装置は、真空槽の小型化が
図られるとともに駆動部位を真空条件での特殊仕様に構
成する必要が無いことから小型化、簡易化或いはコスト
低減が図られまた高精度のディスク原盤を効率よくかつ
低コストで製作することを可能とする。さらに、ディス
ク原盤作成装置は、真空槽内の清浄度の維持が容易であ
るとともに駆動部位が真空槽の外部に設けられたことに
よって保守点検等が容易に行われる。As described above in detail, according to the disk master making apparatus of the present invention, either the master rotating mechanism for driving the disk master for rotation or the electron beam emitting head mechanism for emitting the electron beam is provided. By constituting one mechanism part as a fixed part, the other mechanism part is mounted at a position eccentric with respect to its rotation center on a rotation drive mechanism whose rotating part is supported by a static pressure bearing It is configured as a rotating part that rotates in an arc shape, irradiates an electron beam to the disk master in a vacuum chamber where vacuum conditions are securely maintained, and drives the master rotation mechanism and the rotation drive mechanism in the atmosphere. Since the pit pattern latent image and the like corresponding to the information signal and the like for the master disc are cut with high precision and high density. The disk master making device can reduce the size of the vacuum chamber, and it is not necessary to configure the drive parts to special specifications under vacuum conditions. Therefore, miniaturization, simplification, or cost reduction can be achieved. This enables efficient and low-cost production. In addition, the disk master making apparatus can easily maintain the cleanliness in the vacuum chamber, and can easily perform maintenance and inspection and the like by providing the driving part outside the vacuum chamber.
【図１】本発明にかかるディスク原盤作成装置の第１の
実施の形態を示す要部縦断面図である。FIG. 1 is a vertical sectional view showing a main part of a first embodiment of a disc master making apparatus according to the present invention.
【図２】同ディスク原盤作成装置の要部平面図である。FIG. 2 is a plan view of a main part of the disk master production apparatus.
【図３】同ディスク原盤作成装置に備えられる電子ビー
ム出射ヘッド機構の詳細を示す要部縦断面図である。FIG. 3 is a longitudinal sectional view of a main part showing details of an electron beam emitting head mechanism provided in the disk master making apparatus.
【図４】同ディスク原盤作成装置によるピットパターン
形成動作の説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of a pit pattern forming operation by the disk master making apparatus.
【図５】同ディスク原盤作成装置によるピットパターン
形成動作の原理を説明する模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram illustrating the principle of a pit pattern forming operation performed by the disk master forming apparatus.
【図６】ディスク原盤を説明する縦断面図であり、同図
（Ａ）はディスク原盤を示し、同図（Ｂ）はピットパタ
ーンが形成された状態を示す。FIGS. 6A and 6B are longitudinal cross-sectional views illustrating a master disc, wherein FIG. 6A shows the master disc, and FIG. 6B shows a state in which a pit pattern is formed.
【図７】本発明にかかるディスク原盤作成装置の第２の
実施の形態を示す要部縦断面図である。FIG. 7 is a vertical sectional view of a main part of a second embodiment of a disk master recording apparatus according to the present invention.
１ ディスク原盤、３ 電子線用レジスト層、４ ピッ
トパターン、１０ ディスク原盤作成装置、１１ 真空
槽、１２ 原盤回転駆動機構、１３ 電子ビーム出射ヘ
ッド機構、１４ ヘッド回動駆動機構、１７ 真空空間
部、１８ 軸穴、１９ 磁性流体シール、２０ ガイド
穴、２１ 磁性流体シール、２２ 静圧軸受部、２４
ＤＣブラシレスモータ、２５ 出力軸、２６ ターンテ
ーブル、２７ 電子銃筒、２７ａ 電子ビーム出射面、
２８ 電子銃、３４ 対物レンズ、３５ ヘッド取付部
材、３９ ヘッド駆動部材、４０ 外周ウォームギャ
部、４２ ボイスコイルモータ、４３ 回転軸、４４
ピニオン、５０ ディスク原盤作成装置、５１ 原盤回
動機構、５２ ガイド軸穴、５３ 磁性流体シール、５
４ 静圧軸受部、５７ 原盤回転機構取付部材、６１
磁性流体シール、６３原盤駆動部材、６４ 外周ウォー
ムギャ部、６５ ボイスコイルモータ、６６回転軸、６
７ ピニオンReference Signs List 1 disc master, 3 electron beam resist layer, 4 pit pattern, 10 disc master making device, 11 vacuum tank, 12 master rotation drive mechanism, 13 electron beam emission head mechanism, 14 head rotation drive mechanism, 17 vacuum space, Reference Signs List 18 shaft hole, 19 magnetic fluid seal, 20 guide hole, 21 magnetic fluid seal, 22 hydrostatic bearing, 24
DC brushless motor, 25 output shaft, 26 turntable, 27 electron gun barrel, 27a electron beam emission surface,
28 electron gun, 34 objective lens, 35 head mounting member, 39 head driving member, 40 outer worm gear section, 42 voice coil motor, 43 rotating shaft, 44
Pinion, 50 disc master making device, 51 master turning mechanism, 52 guide shaft hole, 53 magnetic fluid seal, 5
4 Static pressure bearing part, 57 Master disk rotation mechanism mounting member, 61
Magnetic fluid seal, 63 master drive member, 64 outer worm gear section, 65 voice coil motor, 66 rotating shaft, 6
7 Pinion
Claims (3)
れてなるディスク原盤をターンテーブル上に位置決め保
持した状態で収納する真空槽と、 上記ターンテーブルを含み上記ディスク原盤を所定の速
度で回転駆動する原盤回転機構部と、 上記真空槽内に臨ませられた電子ビーム出射面から記録
する情報信号等に応じて電子ビームスポットを上記ディ
スク原盤の主面に照射して上記電子線用レジスト層のカ
ッティングを行う電子ビーム出射ヘッド機構部とを備
え、 上記原盤回転機構部と電子ビーム出射ヘッド機構部と
は、いずれか一方の機構部が固定部として構成されると
ともに他方の機構部が上記真空槽に対して静圧軸受によ
って回転部を支持されてなる回転駆動機構にその回転中
心に対して偏芯された位置に搭載されることにより円弧
状の軌道上に沿って移動される回動部として構成されて
なり、 上記原盤回転機構によって回転駆動される上記ディスク
原盤に対して、上記電子ビームスポットが半径方向にス
パイラル状に移動して上記電子線用レジスト層のカッテ
ィングが行われることを特徴としたディスク原盤作成装
置。1. A vacuum chamber for accommodating a disk master having a main surface on which a resist layer for electron beams is formed and formed on a turntable while holding the same on a turntable; A master rotation mechanism that is driven to rotate by an electron beam spot on the main surface of the disk master according to an information signal or the like to be recorded from an electron beam emission surface facing the vacuum chamber. An electron beam emission head mechanism for cutting the resist layer; the master disk rotation mechanism and the electron beam emission head mechanism are configured such that one of the mechanisms is configured as a fixed part and the other is configured as a fixed part. An arc-shaped part is mounted on a rotary drive mechanism whose rotating part is supported by a hydrostatic bearing with respect to the vacuum chamber at a position eccentric with respect to the center of rotation. The electron beam spot is spirally moved in the radial direction with respect to the master disk that is driven to rotate by the master rotating mechanism. An apparatus for producing a master disc, wherein a line resist layer is cut.
自在に支持されるとともに上記電子ビーム出射ヘッド機
構を回転中心から偏芯した位置に搭載してなる回動支持
部材と、 上記回動支持部材に一体に設けられた円弧状の被駆動部
材と、 上記被駆動部材を円弧状軌道に沿って回動させる駆動部
材とから構成されることによって、上記電子ビーム出射
ヘッド機構部を回動部として構成し、 上記電子ビーム出射ヘッド機構から出射する電子ビーム
が上記原盤回転機構によって回転駆動される上記ディス
ク原盤に対して円弧状軌道に沿って走査させることを特
徴とする請求項１に記載のディスク原盤作成装置。2. The rotary drive mechanism is rotatably supported by the vacuum chamber via a static pressure bearing and a magnetic fluid seal, and mounts the electron beam emission head mechanism at a position eccentric from a center of rotation. A rotation supporting member, an arc-shaped driven member provided integrally with the rotation supporting member, and a driving member for rotating the driven member along an arc-shaped orbit. The electron beam emitting head mechanism is configured as a rotating unit, and the electron beam emitted from the electron beam emitting head mechanism is caused to scan along the arc-shaped trajectory on the disk master that is rotationally driven by the master rotating mechanism. 2. The disk master making apparatus according to claim 1, wherein:
ともに上記原盤回転機構を回転中心から偏芯した位置に
搭載してなる回動支持部材と、 上記回動支持部材に一体に設けられた円弧状の被駆動部
材と、 上記被駆動部材を円弧状軌道に沿って回動させる駆動部
材とから構成されることによって、上記原盤回転機構部
を回動部として構成し、 上記原盤回転機構によって回転駆動される上記ディスク
原盤が上記真空槽に取り付けられた上記電子ビーム出射
ヘッド機構に対して円弧状軌道に沿って移動されながら
出射される電子ビームを走査されることを特徴とする請
求項１に記載のディスク原盤作成装置。3. The rotation drive mechanism is rotatably supported by the vacuum chamber via a static pressure bearing, and includes a rotation support member having the master disk rotation mechanism mounted at a position eccentric from a rotation center. An arc driven member integrally provided on the rotation supporting member, and a driving member for rotating the driven member along an arc-shaped trajectory, thereby forming the master disc rotating mechanism section. An electron beam emitted as the disk master, which is configured as a rotating unit and is rotationally driven by the master rotating mechanism, is moved along an arc-shaped trajectory with respect to the electron beam emission head mechanism attached to the vacuum chamber. 2. The apparatus according to claim 1, wherein the disk is scanned.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08760198A JP4026219B2 (en) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | Disc master production device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11288535A true JPH11288535A (en) | 1999-10-19 |
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|---|---|
| JP (1) | JP4026219B2 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1152417A2 (en) * | 2000-03-02 | 2001-11-07 | Sony Corporation | Electron beam irradiation apparatus, electron beam irradiation method, original disk, stamper, and recording medium |
| KR100449993B1 (en) * | 2000-11-01 | 2004-09-30 | 파이오니아 코포레이션 | Optical disc and apparatus for manufacturing a master disc therefor |
| US7176471B2 (en) | 2002-10-28 | 2007-02-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Electron beam exposure method and electron beam exposure apparatus |
-
1998
- 1998-03-31 JP JP08760198A patent/JP4026219B2/en not_active Expired - Fee Related
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| EP1152417A3 (en) * | 2000-03-02 | 2001-11-28 | Sony Corporation | Electron beam irradiation apparatus, electron beam irradiation method, original disk, stamper, and recording medium |
| US7034319B2 (en) | 2000-03-02 | 2006-04-25 | Sony Corporation | Electron beam irradiation apparatus, electron beam irradiation method, original disk, stamper, and recording medium |
| KR100449993B1 (en) * | 2000-11-01 | 2004-09-30 | 파이오니아 코포레이션 | Optical disc and apparatus for manufacturing a master disc therefor |
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