JPH11285644A - 触媒の製造方法 - Google Patents
触媒の製造方法Info
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- JPH11285644A JPH11285644A JP11006333A JP633399A JPH11285644A JP H11285644 A JPH11285644 A JP H11285644A JP 11006333 A JP11006333 A JP 11006333A JP 633399 A JP633399 A JP 633399A JP H11285644 A JPH11285644 A JP H11285644A
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/92—Chemical or biological purification of waste gases of engine exhaust gases
- B01D53/94—Chemical or biological purification of waste gases of engine exhaust gases by catalytic processes
- B01D53/9445—Simultaneously removing carbon monoxide, hydrocarbons or nitrogen oxides making use of three-way catalysts [TWC] or four-way-catalysts [FWC]
- B01D53/945—Simultaneously removing carbon monoxide, hydrocarbons or nitrogen oxides making use of three-way catalysts [TWC] or four-way-catalysts [FWC] characterised by a specific catalyst
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/38—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals
- B01J23/40—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals of the platinum group metals
- B01J23/46—Ruthenium, rhodium, osmium or iridium
- B01J23/464—Rhodium
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- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
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- B01J37/02—Impregnation, coating or precipitation
- B01J37/0201—Impregnation
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- B01J37/08—Heat treatment
- B01J37/082—Decomposition and pyrolysis
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- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02T—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO TRANSPORTATION
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 触媒金属の基材中での分散性を高めることが
でき、さらには触媒製造時における触媒金属の酸化を抑
制することができる排気ガス浄化用触媒の製造方法を提
供する。 【解決手段】 排気ガス浄化用触媒3の製造において、
触媒金属としてロジウム及び白金を含む上側触媒層6の
形成工程では、ロジウムカルボニルクラスターをメタノ
ールに溶解させてなるロジウムカルボニルクラスター溶
液を用いてロジウムを基材に担持させるようにしてい
る。これにより、ロジウムの基材中での分散性が大幅に
高められ、かつ該触媒製造時(焼成時等)におけるロジ
ウムの酸化が有効に抑制される。かくして、この排気ガ
ス浄化用触媒によれば、とくに排気ガス低温時及び排気
ガス高温時のNOxの浄化性能が大幅に高められる。
でき、さらには触媒製造時における触媒金属の酸化を抑
制することができる排気ガス浄化用触媒の製造方法を提
供する。 【解決手段】 排気ガス浄化用触媒3の製造において、
触媒金属としてロジウム及び白金を含む上側触媒層6の
形成工程では、ロジウムカルボニルクラスターをメタノ
ールに溶解させてなるロジウムカルボニルクラスター溶
液を用いてロジウムを基材に担持させるようにしてい
る。これにより、ロジウムの基材中での分散性が大幅に
高められ、かつ該触媒製造時(焼成時等)におけるロジ
ウムの酸化が有効に抑制される。かくして、この排気ガ
ス浄化用触媒によれば、とくに排気ガス低温時及び排気
ガス高温時のNOxの浄化性能が大幅に高められる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、触媒金属が基材に
担持されてなる触媒の製造方法に関するものであって、
とくに触媒金属の基材中での分散性を高めることがで
き、さらには製造時における触媒金属の酸化を抑制する
ことができる触媒の製造方法に関するものである。
担持されてなる触媒の製造方法に関するものであって、
とくに触媒金属の基材中での分散性を高めることがで
き、さらには製造時における触媒金属の酸化を抑制する
ことができる触媒の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、自動車用エンジン等から排出さ
れる排気ガスにはHC(炭化水素)、CO(一酸化炭素)、
NOx(窒素酸化物)等の大気汚染物質が含まれているの
で、近年、該排気ガスの規制が世界的に強化されつつあ
る。例えば、大気汚染が大きな社会問題となっている米
国カリフォルニア州では、企業平均NMOG規制が導入
され、該排気ガスの規制レベルが今後段階的に強化され
てゆくといった状況にあるが、このような規制に対処す
るには、LEVあるいはULEVといった低公害車両を
市場に導入(1997年〜2000年より段階的に導
入)してゆく必要がある。
れる排気ガスにはHC(炭化水素)、CO(一酸化炭素)、
NOx(窒素酸化物)等の大気汚染物質が含まれているの
で、近年、該排気ガスの規制が世界的に強化されつつあ
る。例えば、大気汚染が大きな社会問題となっている米
国カリフォルニア州では、企業平均NMOG規制が導入
され、該排気ガスの規制レベルが今後段階的に強化され
てゆくといった状況にあるが、このような規制に対処す
るには、LEVあるいはULEVといった低公害車両を
市場に導入(1997年〜2000年より段階的に導
入)してゆく必要がある。
【0003】このため、自動車用エンジン等の排気系に
は、普通、排気ガスを浄化するために、排気ガス浄化用
触媒を用いた排気ガス浄化装置(触媒コンバータ)が設
けられる。そして、かかる排気ガス浄化用触媒として
は、従来より、パラジウム、白金、ロジウム等の触媒金
属がセリア、アルミナ、ゼオライト等からなる多孔性の
基材に担持されたものが広く用いられている。
は、普通、排気ガスを浄化するために、排気ガス浄化用
触媒を用いた排気ガス浄化装置(触媒コンバータ)が設
けられる。そして、かかる排気ガス浄化用触媒として
は、従来より、パラジウム、白金、ロジウム等の触媒金
属がセリア、アルミナ、ゼオライト等からなる多孔性の
基材に担持されたものが広く用いられている。
【0004】かくして、本願出願人は、特願平9−57
485号の明細書中において、ハニカム担体表面に、触
媒金属であるパラジウムがアルミナ、セリア等からなる
基材に担持されてなる下側触媒層と、触媒金属である白
金及びロジウムがセリアからなる基材に担持されてなる
上側触媒層とを設けることにより、耐熱性を高めつつ、
排気ガス低温時における触媒活性の向上と、排気ガス高
温時におけるNOx浄化性能の向上とを図るようにした
排気ガス浄化用触媒を提案している。なお、この排気ガ
ス浄化用触媒において、パラジウムは主として排気ガス
低温時における触媒活性を高めるために用いられてい
る。
485号の明細書中において、ハニカム担体表面に、触
媒金属であるパラジウムがアルミナ、セリア等からなる
基材に担持されてなる下側触媒層と、触媒金属である白
金及びロジウムがセリアからなる基材に担持されてなる
上側触媒層とを設けることにより、耐熱性を高めつつ、
排気ガス低温時における触媒活性の向上と、排気ガス高
温時におけるNOx浄化性能の向上とを図るようにした
排気ガス浄化用触媒を提案している。なお、この排気ガ
ス浄化用触媒において、パラジウムは主として排気ガス
低温時における触媒活性を高めるために用いられてい
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、本願出
願人にかかる特願平9−57485号の明細書中に開示
された排気ガス浄化用触媒においても、排気ガス高温時
におけるNOx浄化率はなお改善の余地があるといった
問題がある。すなわち、この排気ガス浄化用触媒では、
例えば1100°Cでの高温エージング後における、排
気ガス温度が500°Cの場合のNOx浄化率(C50
0浄化率)は、おおむね80%程度(リグテスト)であ
り、いまひとつの改善が求められている。
願人にかかる特願平9−57485号の明細書中に開示
された排気ガス浄化用触媒においても、排気ガス高温時
におけるNOx浄化率はなお改善の余地があるといった
問題がある。すなわち、この排気ガス浄化用触媒では、
例えば1100°Cでの高温エージング後における、排
気ガス温度が500°Cの場合のNOx浄化率(C50
0浄化率)は、おおむね80%程度(リグテスト)であ
り、いまひとつの改善が求められている。
【0006】本願発明者の知見によれば、上記排気ガス
浄化用触媒の排気ガス高温時におけるNOx浄化率がい
まひとつ不十分であるのは、触媒金属の基材中での分散
が比較的悪く該触媒金属が十分に微細化されていないた
め、あるいは該排気ガス浄化用触媒の製造時(焼成時
等)に触媒金属の一部が酸化されてその触媒活性が低下
するためであろうと推測される。したがって、触媒金属
の基材中で分散性を十分に高め、さらには製造時におけ
る触媒金属の酸化を抑制ないしは防止することにより、
該排気ガス浄化用触媒の排気ガス高温時におけるNOx
浄化率を高めることができ、さらにはその他の大気汚染
物質の浄化率をも高めることができるものと推測され
る。
浄化用触媒の排気ガス高温時におけるNOx浄化率がい
まひとつ不十分であるのは、触媒金属の基材中での分散
が比較的悪く該触媒金属が十分に微細化されていないた
め、あるいは該排気ガス浄化用触媒の製造時(焼成時
等)に触媒金属の一部が酸化されてその触媒活性が低下
するためであろうと推測される。したがって、触媒金属
の基材中で分散性を十分に高め、さらには製造時におけ
る触媒金属の酸化を抑制ないしは防止することにより、
該排気ガス浄化用触媒の排気ガス高温時におけるNOx
浄化率を高めることができ、さらにはその他の大気汚染
物質の浄化率をも高めることができるものと推測され
る。
【0007】本発明は、このような知見に鑑み、上記従
来の問題点を解決するためになされたものであって、触
媒金属の基材中での分散性を高めることができ、さらに
は触媒製造時における触媒金属の酸化を抑制ないしは防
止することができる触媒の製造方法を提供することを解
決すべき課題とする。
来の問題点を解決するためになされたものであって、触
媒金属の基材中での分散性を高めることができ、さらに
は触媒製造時における触媒金属の酸化を抑制ないしは防
止することができる触媒の製造方法を提供することを解
決すべき課題とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めになされた本発明にかかる触媒の製造方法は、(a)
第1の触媒金属(例えば、ロジウム等の貴金属)を含み
カルボニル基(多重結合を含む特性基の1つ)を配位子
とする金属クラスター錯体(カルボニルクラスター)と
メタノールとを混合して金属クラスター錯体メタノール
溶液を調製し、(b)金属クラスター錯体メタノール溶
液を基材(例えば、酸化セリウム、別名セリア)に付着
(含浸)させ、(c)基材に付着している金属クラスタ
ー錯体から配位子を離脱させて、第1の触媒金属を基材
に(超微細な金属粒子として)担持させるようにしたこ
とを特徴とするものである。
めになされた本発明にかかる触媒の製造方法は、(a)
第1の触媒金属(例えば、ロジウム等の貴金属)を含み
カルボニル基(多重結合を含む特性基の1つ)を配位子
とする金属クラスター錯体(カルボニルクラスター)と
メタノールとを混合して金属クラスター錯体メタノール
溶液を調製し、(b)金属クラスター錯体メタノール溶
液を基材(例えば、酸化セリウム、別名セリア)に付着
(含浸)させ、(c)基材に付着している金属クラスタ
ー錯体から配位子を離脱させて、第1の触媒金属を基材
に(超微細な金属粒子として)担持させるようにしたこ
とを特徴とするものである。
【0009】この触媒の製造方法においては、第1の触
媒金属を基材に担持させた後、さらに(d)該基材を乾
燥させ、(e)第1の触媒金属とは異なる第2の触媒金
属(例えば、白金等の貴金属)と水とを混合して触媒金
属水溶液を調製し、(f)触媒金属水溶液を基材に付着
させて、第2の触媒金属を基材に担持させるのが好まし
い。なお、この場合、メタノールを用いずにその他の有
機溶媒を用いてもよい。
媒金属を基材に担持させた後、さらに(d)該基材を乾
燥させ、(e)第1の触媒金属とは異なる第2の触媒金
属(例えば、白金等の貴金属)と水とを混合して触媒金
属水溶液を調製し、(f)触媒金属水溶液を基材に付着
させて、第2の触媒金属を基材に担持させるのが好まし
い。なお、この場合、メタノールを用いずにその他の有
機溶媒を用いてもよい。
【0010】ここにおいて、上記配位子として用いられ
る、CとOの2重結合を有するカルボニル基(=C=
O)は、とくに金属に対する反応性に富み、とり得る化
合物形態のバリエーションに富んでいる。また、メタノ
ールはカルボニルクラスターを溶解させる力がとくに強
く、かつ溶解度が高い。このため、これらの組み合わせ
によれば、触媒金属(とくにロジウム)を非常に細かい
粒子として(高分散状態で)基材に担持させることがで
きる。また、複数の触媒金属を基材に担持させる場合で
あっても、これらをより高分散状態で担持させることが
できる。
る、CとOの2重結合を有するカルボニル基(=C=
O)は、とくに金属に対する反応性に富み、とり得る化
合物形態のバリエーションに富んでいる。また、メタノ
ールはカルボニルクラスターを溶解させる力がとくに強
く、かつ溶解度が高い。このため、これらの組み合わせ
によれば、触媒金属(とくにロジウム)を非常に細かい
粒子として(高分散状態で)基材に担持させることがで
きる。また、複数の触媒金属を基材に担持させる場合で
あっても、これらをより高分散状態で担持させることが
できる。
【0011】本発明にかかるこの触媒の製造方法によれ
ば、触媒金属の基材中での分散性を大幅に高めることが
でき、該触媒金属を超微細粒子の形態で安定して基材に
担持させることができる。したがって、該触媒を排気ガ
ス浄化用触媒として用いる場合は、排気ガス高温時にお
けるNOx浄化率はもとより、その他の大気汚染物質の
浄化率をも大幅に高めることができる。なお、本発明に
かかる触媒の製造方法は、排気ガス浄化用触媒の製造に
限定されるものでななく、種々の触媒の製造に幅広く用
いることができるのはもちろんである。
ば、触媒金属の基材中での分散性を大幅に高めることが
でき、該触媒金属を超微細粒子の形態で安定して基材に
担持させることができる。したがって、該触媒を排気ガ
ス浄化用触媒として用いる場合は、排気ガス高温時にお
けるNOx浄化率はもとより、その他の大気汚染物質の
浄化率をも大幅に高めることができる。なお、本発明に
かかる触媒の製造方法は、排気ガス浄化用触媒の製造に
限定されるものでななく、種々の触媒の製造に幅広く用
いることができるのはもちろんである。
【0012】上記触媒の製造方法において、触媒金属ク
ラスター錯体を溶解させる溶媒は、水以外の溶媒であれ
ばメタノールでなくてもよい(例えば、アセトン、トル
エン、ペンタン、ジクロルメタン等の有機溶媒)。
ラスター錯体を溶解させる溶媒は、水以外の溶媒であれ
ばメタノールでなくてもよい(例えば、アセトン、トル
エン、ペンタン、ジクロルメタン等の有機溶媒)。
【0013】一般に、触媒金属クラスター錯体を溶解さ
せる溶媒として水を用いた場合は、触媒金属は触媒製造
時(焼成時等)に上記水の存在によって酸化が促進され
る。しかしながら、該溶媒として水以外の溶媒、例えば
有機溶媒を用いた場合は、該触媒の製造時(焼成時等)
における触媒金属の酸化が効果的に抑制ないしは防止さ
れ、該触媒金属の触媒活性が高められる。なお、触媒金
属クラスター錯体を溶解させる溶媒としてメタノールを
用いれば、触媒金属の基材中での分散性をなお一層高め
ることができる。このため、該触媒を排気ガス浄化用触
媒として用いる場合は、排気ガス高温時におけるNOx
浄化率、あるいはその他の大気汚染物質の浄化率をさら
に高めることができる。
せる溶媒として水を用いた場合は、触媒金属は触媒製造
時(焼成時等)に上記水の存在によって酸化が促進され
る。しかしながら、該溶媒として水以外の溶媒、例えば
有機溶媒を用いた場合は、該触媒の製造時(焼成時等)
における触媒金属の酸化が効果的に抑制ないしは防止さ
れ、該触媒金属の触媒活性が高められる。なお、触媒金
属クラスター錯体を溶解させる溶媒としてメタノールを
用いれば、触媒金属の基材中での分散性をなお一層高め
ることができる。このため、該触媒を排気ガス浄化用触
媒として用いる場合は、排気ガス高温時におけるNOx
浄化率、あるいはその他の大気汚染物質の浄化率をさら
に高めることができる。
【0014】上記触媒の製造方法においては、触媒金属
としてロジウムを用いるのが好ましい。けだし、ロジウ
ムは、金属クラスター錯体を容易に形成するからであ
る。なお、触媒金属は、金属クラスター錯体を形成する
ことが可能なものであればどのようなものでも用いるこ
とができ、例えばロジウム以外に白金等を用いることが
できる。また、基材の材料としては、例えばセリア、ア
ルミナ、ゼオライト等を用いることができる。
としてロジウムを用いるのが好ましい。けだし、ロジウ
ムは、金属クラスター錯体を容易に形成するからであ
る。なお、触媒金属は、金属クラスター錯体を形成する
ことが可能なものであればどのようなものでも用いるこ
とができ、例えばロジウム以外に白金等を用いることが
できる。また、基材の材料としては、例えばセリア、ア
ルミナ、ゼオライト等を用いることができる。
【0015】上記の触媒の製造方法においては、金属ク
ラスター錯体溶液を基材に付着(含浸)させた後、該基
材を焼成することにより、基材に付着している金属クラ
スター錯体から配位子を容易に離脱させて、触媒金属を
金属状態で基材に担持させることができる。
ラスター錯体溶液を基材に付着(含浸)させた後、該基
材を焼成することにより、基材に付着している金属クラ
スター錯体から配位子を容易に離脱させて、触媒金属を
金属状態で基材に担持させることができる。
【0016】このように、本発明にかかる触媒の製造方
法によれば触媒金属の基材中での分散性を大幅に高める
ことができるが、その理由はおよそ次のとおりである。
すなわち、一般に金属クラスターは複数(3個以上)の
金属原子が集合した超微細な原子団であり、化学材料と
いうよりはむしろ超微細な金属の粒子というべき性質の
ものである。このため、本発明にかかる触媒の製造方法
によれば、このような超微細粒子状の触媒金属をこのま
まの形態(超微細粒子状態)で基材に担持させることが
でき、該触媒金属の基材中での分散性を大幅に高めるこ
とができるわけである。
法によれば触媒金属の基材中での分散性を大幅に高める
ことができるが、その理由はおよそ次のとおりである。
すなわち、一般に金属クラスターは複数(3個以上)の
金属原子が集合した超微細な原子団であり、化学材料と
いうよりはむしろ超微細な金属の粒子というべき性質の
ものである。このため、本発明にかかる触媒の製造方法
によれば、このような超微細粒子状の触媒金属をこのま
まの形態(超微細粒子状態)で基材に担持させることが
でき、該触媒金属の基材中での分散性を大幅に高めるこ
とができるわけである。
【0017】なお、金属クラスター錯体ではなく触媒金
属の硝酸塩等を用いる従来の触媒の製造方法では、担持
工程初期には触媒金属が硝酸塩の形態で担持され、かつ
水溶液を用いての担持であるので、触媒金属はかなり大
きな粒子の形態で基材に担持され、また焼成時に触媒金
属が酸化されやすい。これに対して、カルボニルクラス
ター等の金属クラスター錯体を用いる場合は、触媒金属
を超微粒子状態で直接基材に担持させることができるの
で、触媒金属の分散性が高められる。
属の硝酸塩等を用いる従来の触媒の製造方法では、担持
工程初期には触媒金属が硝酸塩の形態で担持され、かつ
水溶液を用いての担持であるので、触媒金属はかなり大
きな粒子の形態で基材に担持され、また焼成時に触媒金
属が酸化されやすい。これに対して、カルボニルクラス
ター等の金属クラスター錯体を用いる場合は、触媒金属
を超微粒子状態で直接基材に担持させることができるの
で、触媒金属の分散性が高められる。
【0018】本発明にかかる触媒の製造方法において
は、金属クラスター錯体を用いているので、触媒金属を
還元状態(金属状態)で基材に担持させることができる
が、これは、一般に金属クラスター錯体はその金属成分
を純粋な金属状態で析出させることができるといった特
性をもつことを利用している。なお、かかる手法は、他
の技術分野、例えば金属ニッケルの精製においても用い
られているものである(Ni(CO)4←→Ni+4C
O)。
は、金属クラスター錯体を用いているので、触媒金属を
還元状態(金属状態)で基材に担持させることができる
が、これは、一般に金属クラスター錯体はその金属成分
を純粋な金属状態で析出させることができるといった特
性をもつことを利用している。なお、かかる手法は、他
の技術分野、例えば金属ニッケルの精製においても用い
られているものである(Ni(CO)4←→Ni+4C
O)。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を具体
的に説明する。図2に示すように、自動車用エンジン
(図示せず)の排気ガスを大気中に排出するための排気系
1には排気ガス浄化装置2(触媒コンバータ)が介設さ
れ、この排気ガス浄化装置2内には、排気ガス中のH
C、CO、NOx等の大気汚染物質を浄化して、無害な
H2O、CO2、N2等にコンバートする排気ガス浄化用
触媒3が充填されている。
的に説明する。図2に示すように、自動車用エンジン
(図示せず)の排気ガスを大気中に排出するための排気系
1には排気ガス浄化装置2(触媒コンバータ)が介設さ
れ、この排気ガス浄化装置2内には、排気ガス中のH
C、CO、NOx等の大気汚染物質を浄化して、無害な
H2O、CO2、N2等にコンバートする排気ガス浄化用
触媒3が充填されている。
【0020】ここで、排気ガス浄化装置2は、排気系1
の上流部分すなわち排気マニホールドに介設されてい
る。すなわち、この排気ガス浄化装置2は、いわゆる直
結タイプの排気ガス浄化装置である。したがって、排気
ガス浄化装置2に導入される排気ガス温度は比較的高く
なり、エンジン始動開始直後等において排気ガス浄化用
触媒3の昇温が促進され、その排気ガス浄化性能が高め
られる。また、エンジンは、エンジン始動直後から所定
期間だけ空燃比を理論空燃比(A/F=14.7)より
もリッチ(例えば、A/F=13〜14)に設定し、所
定期間経過後は空燃比を理論空燃比に設定してO2フィ
ードバック制御を実行する。
の上流部分すなわち排気マニホールドに介設されてい
る。すなわち、この排気ガス浄化装置2は、いわゆる直
結タイプの排気ガス浄化装置である。したがって、排気
ガス浄化装置2に導入される排気ガス温度は比較的高く
なり、エンジン始動開始直後等において排気ガス浄化用
触媒3の昇温が促進され、その排気ガス浄化性能が高め
られる。また、エンジンは、エンジン始動直後から所定
期間だけ空燃比を理論空燃比(A/F=14.7)より
もリッチ(例えば、A/F=13〜14)に設定し、所
定期間経過後は空燃比を理論空燃比に設定してO2フィ
ードバック制御を実行する。
【0021】図1に示すように、排気ガス浄化用触媒3
においては、耐熱性に優れた担体材料であるコージェラ
イトからなるハニカム状の担体4上に下側触媒層5が形
成(固定)されている。そして、この下側触媒層5の上
に、さらに上側触媒層6が形成されている。なお、ここ
では担体材料としてコージェライトを用いているが、担
体材料がコージェライトに限定されるものではないのは
もちろんである。
においては、耐熱性に優れた担体材料であるコージェラ
イトからなるハニカム状の担体4上に下側触媒層5が形
成(固定)されている。そして、この下側触媒層5の上
に、さらに上側触媒層6が形成されている。なお、ここ
では担体材料としてコージェライトを用いているが、担
体材料がコージェライトに限定されるものではないのは
もちろんである。
【0022】下側触媒層5は、基本的には、触媒金属
(活性種)であるパラジウムが、基材である多孔性のγ
−アルミナ(γ−Al2O3)に担持されてなる構造とさ
れている。さらに、下側触媒層5には、助触媒(OS
C:酸素貯蔵剤)として酸化セリウム(セリア)とセリ
ウム・プラセオジム複合酸化物((Ce,Pr)複合酸
化物)とが含まれている。この(Ce,Pr)複合酸化
物中においては、セリウムとプラセオジムとが化学的な
結合関係を有して結晶化している。なお、γ−アルミナ
と酸化セリウムと(Ce,Pr)複合酸化物とは物理的
に混合されているだけであり、これらの間に化学的な結
合関係は存在しない。
(活性種)であるパラジウムが、基材である多孔性のγ
−アルミナ(γ−Al2O3)に担持されてなる構造とさ
れている。さらに、下側触媒層5には、助触媒(OS
C:酸素貯蔵剤)として酸化セリウム(セリア)とセリ
ウム・プラセオジム複合酸化物((Ce,Pr)複合酸
化物)とが含まれている。この(Ce,Pr)複合酸化
物中においては、セリウムとプラセオジムとが化学的な
結合関係を有して結晶化している。なお、γ−アルミナ
と酸化セリウムと(Ce,Pr)複合酸化物とは物理的
に混合されているだけであり、これらの間に化学的な結
合関係は存在しない。
【0023】この下側触媒層5において、(Ce,P
r)複合酸化物中におけるセリウムとプラセオジムの比
率は任意に設定することができるが、この実施の形態で
はセリウムとプラセオジムのモル比が9:1に設定され
ている。なお、セリウムの原子量は140.12であ
り、他方プラセオジムの原子量は140.91であり、
したがって両者の原子量がほぼ等しいので、上記のセリ
ウムとプラセオジムの重量比は、これらのモル比とほぼ
等しくなる。
r)複合酸化物中におけるセリウムとプラセオジムの比
率は任意に設定することができるが、この実施の形態で
はセリウムとプラセオジムのモル比が9:1に設定され
ている。なお、セリウムの原子量は140.12であ
り、他方プラセオジムの原子量は140.91であり、
したがって両者の原子量がほぼ等しいので、上記のセリ
ウムとプラセオジムの重量比は、これらのモル比とほぼ
等しくなる。
【0024】この下側触媒層5においては、γ−アルミ
ナと酸化セリウムと(Ce,Pr)複合酸化物の相互の
比率は、重量比で10:9:1(絶対量としては、それ
ぞれ30g/L−cat[ハニカム担体1リットル当た
りの重量]、27g/L−cat、3g/L−cat)
に設定されている。また、パラジウム担持量は4.7g
/L−catに設定されている。
ナと酸化セリウムと(Ce,Pr)複合酸化物の相互の
比率は、重量比で10:9:1(絶対量としては、それ
ぞれ30g/L−cat[ハニカム担体1リットル当た
りの重量]、27g/L−cat、3g/L−cat)
に設定されている。また、パラジウム担持量は4.7g
/L−catに設定されている。
【0025】他方、上側触媒層6は、触媒金属(活性
種)である白金(Pt)及びロジウム(Rh)が、基材
であるとともに助触媒としても機能する酸化セリウム
(絶対量で、60g/L−cat)に担持されてなる構
造とされている。ここで、上側触媒層6には(Ce,P
r)複合酸化物は含まれていない。けだし、(Ce,P
r)複合酸化物は、白金及びロジウムの触媒活性を低下
させるからである。また、白金及びロジウムの担持量は
1g/L−catに設定され、白金とロジウムの比率は
重量比で1:2に設定されている。なお、排気ガス浄化
用触媒全体としては、白金とパラジウムとロジウムの比
率(Pt/Pd/Rh)は1:14:2となっており、
総触媒担持量は5.7g/L−catとなっている。
種)である白金(Pt)及びロジウム(Rh)が、基材
であるとともに助触媒としても機能する酸化セリウム
(絶対量で、60g/L−cat)に担持されてなる構
造とされている。ここで、上側触媒層6には(Ce,P
r)複合酸化物は含まれていない。けだし、(Ce,P
r)複合酸化物は、白金及びロジウムの触媒活性を低下
させるからである。また、白金及びロジウムの担持量は
1g/L−catに設定され、白金とロジウムの比率は
重量比で1:2に設定されている。なお、排気ガス浄化
用触媒全体としては、白金とパラジウムとロジウムの比
率(Pt/Pd/Rh)は1:14:2となっており、
総触媒担持量は5.7g/L−catとなっている。
【0026】上側触媒層6には、基材としてγ−アルミ
ナが含まれてもよいが、この場合は上側触媒層6中にお
けるアルミナ含有率を、下側触媒層5中のγ−アルミナ
含有率よりも低くすることが必要である。また、この排
気ガス浄化用触媒3において、下側触媒層5および上側
触媒層6の不純物含有率は、いずれも1重量%未満であ
ることが好ましい。
ナが含まれてもよいが、この場合は上側触媒層6中にお
けるアルミナ含有率を、下側触媒層5中のγ−アルミナ
含有率よりも低くすることが必要である。また、この排
気ガス浄化用触媒3において、下側触媒層5および上側
触媒層6の不純物含有率は、いずれも1重量%未満であ
ることが好ましい。
【0027】以下、かかる排気ガス浄化用触媒3(Pt
/Pd/Rh=1/14/2、触媒総担持量5.7g/L
−cat)の典型的な製造方法を説明する。すなわち、
この排気ガス浄化用触媒3は、次の各工程を経て製造さ
れる。 (1)γ−アルミナの熱処理 純粋なγ−アルミナの粉末を900℃の空気中に50時
間さらして該γ−アルミナに対して熱処理を施す。これ
により、触媒の耐熱性が向上する。
/Pd/Rh=1/14/2、触媒総担持量5.7g/L
−cat)の典型的な製造方法を説明する。すなわち、
この排気ガス浄化用触媒3は、次の各工程を経て製造さ
れる。 (1)γ−アルミナの熱処理 純粋なγ−アルミナの粉末を900℃の空気中に50時
間さらして該γ−アルミナに対して熱処理を施す。これ
により、触媒の耐熱性が向上する。
【0028】(2)パラジウムの担持 熱処理されたγ−アルミナと酸化セリウム粉末とを重量
比10:9で物理的に混合した後、この混合物にパラジ
ウム化合物水溶液(例えば、ジニトロジアミンパラジウ
ム水溶液)を溶液滴下含浸法により含浸させ、この後該
混合物を乾燥させてパラジウム担持粉末を得る。ここ
で、パラジウム化合物水溶液の濃度は、上記のγ−アル
ミナと酸化セリウムの混合物58.5gに、4.69g
のパラジウム(金属)が担持されるよう、4%程度に設
定される。
比10:9で物理的に混合した後、この混合物にパラジ
ウム化合物水溶液(例えば、ジニトロジアミンパラジウ
ム水溶液)を溶液滴下含浸法により含浸させ、この後該
混合物を乾燥させてパラジウム担持粉末を得る。ここ
で、パラジウム化合物水溶液の濃度は、上記のγ−アル
ミナと酸化セリウムの混合物58.5gに、4.69g
のパラジウム(金属)が担持されるよう、4%程度に設
定される。
【0029】(3)(Ce,Pr)複合酸化物の合成 セリウムの硝酸塩水溶液とプラセオジムの硝酸塩水溶液
とを混合した後、この混合物にアンモニアを加えて共沈
を起こさせる。そして、この沈殿物を洗浄し、さらに乾
燥させた後、600℃程度の温度で焼成する。これによ
り、(Ce,Pr)複合酸化物粉末が得られる。この
(Ce,Pr)複合酸化物中におけるセリウムとプラセ
オジムのモル比率(重量比にほぼ一致する)は、9:1
に設定される。なお、上記溶液については、硝酸塩水溶
液に限定されるものではない。
とを混合した後、この混合物にアンモニアを加えて共沈
を起こさせる。そして、この沈殿物を洗浄し、さらに乾
燥させた後、600℃程度の温度で焼成する。これによ
り、(Ce,Pr)複合酸化物粉末が得られる。この
(Ce,Pr)複合酸化物中におけるセリウムとプラセ
オジムのモル比率(重量比にほぼ一致する)は、9:1
に設定される。なお、上記溶液については、硝酸塩水溶
液に限定されるものではない。
【0030】(4)下側触媒層用ウォッシュコートスラ
リの調製 上記パラジウム担持粉末と上記(Ce,Pr)複合酸化
物粉末(Ce:Pr=9:1)と水とバインダ(触媒材料
粉末の10%)とを混合して、下側触媒層用ウォッシュ
コートスラリを調製する。この下側触媒層用ウォッシュ
コートスラリにおいて、γ−アルミナと酸化セリウムと
(Ce,Pr)複合酸化物の相互間の重量比は、10:
9:1に設定される。
リの調製 上記パラジウム担持粉末と上記(Ce,Pr)複合酸化
物粉末(Ce:Pr=9:1)と水とバインダ(触媒材料
粉末の10%)とを混合して、下側触媒層用ウォッシュ
コートスラリを調製する。この下側触媒層用ウォッシュ
コートスラリにおいて、γ−アルミナと酸化セリウムと
(Ce,Pr)複合酸化物の相互間の重量比は、10:
9:1に設定される。
【0031】(5)下側触媒層(下層)を形成するため
のウォッシュコート コージェライトからなるハニカム状の担体4を下側触媒
層用ウォッシュコートスラリに浸漬し、この後余分なス
ラリを吹き飛ばす。かくして、担体4が下側触媒層用ウ
ォッシュコートスラリによってコーティングされる。そ
して、このようにコーティングされた担体4を150℃
程度の温度で乾燥させ、さらにこの後500℃の温度で
2時間程度焼成する。かくして、担体4の上に下側触媒
層5が形成(固定)される。
のウォッシュコート コージェライトからなるハニカム状の担体4を下側触媒
層用ウォッシュコートスラリに浸漬し、この後余分なス
ラリを吹き飛ばす。かくして、担体4が下側触媒層用ウ
ォッシュコートスラリによってコーティングされる。そ
して、このようにコーティングされた担体4を150℃
程度の温度で乾燥させ、さらにこの後500℃の温度で
2時間程度焼成する。かくして、担体4の上に下側触媒
層5が形成(固定)される。
【0032】(6)ロジウム(ロジウムカルボニルクラ
スター)の担持 純粋な酸化セリウム粉末60gに、ロジウムカルボニル
クラスターをメタノールに溶解させてなるロジウムカル
ボニルクラスター溶液を、溶液滴下含浸法により含浸さ
せ、この後該混合物を乾燥させる。ここで、ロジウムカ
ルボニルクラスター溶液の濃度は、ロジウム担持量が
0.67g/L−catとなるように、好ましく設定さ
れる。
スター)の担持 純粋な酸化セリウム粉末60gに、ロジウムカルボニル
クラスターをメタノールに溶解させてなるロジウムカル
ボニルクラスター溶液を、溶液滴下含浸法により含浸さ
せ、この後該混合物を乾燥させる。ここで、ロジウムカ
ルボニルクラスター溶液の濃度は、ロジウム担持量が
0.67g/L−catとなるように、好ましく設定さ
れる。
【0033】(7)白金の担持 さらに、ロジウムカルボニルクラスターが付着している
上記の酸化セリウム粉末に、白金化合物水溶液(Pt
(NH3)2(NO2)2)を滴下して含浸させ、この後該
酸化セリウム粉末を乾燥させる。ここで、白金化合物水
溶液の濃度は、白金担持量が0.33g/L−catと
なるように、好ましく設定される。
上記の酸化セリウム粉末に、白金化合物水溶液(Pt
(NH3)2(NO2)2)を滴下して含浸させ、この後該
酸化セリウム粉末を乾燥させる。ここで、白金化合物水
溶液の濃度は、白金担持量が0.33g/L−catと
なるように、好ましく設定される。
【0034】(8)上側触媒層用ウォッシュコートスラ
リの調製 ロジウムカルボニルクラスター及び白金化合物が付着し
ている上記の酸化セリウム粉末と水とバインダとを混合
して、上側触媒層用ウォッシュコートスラリを調製す
る。
リの調製 ロジウムカルボニルクラスター及び白金化合物が付着し
ている上記の酸化セリウム粉末と水とバインダとを混合
して、上側触媒層用ウォッシュコートスラリを調製す
る。
【0035】(9)上側触媒層(上層)を形成するため
のウォッシュコート 担体4の表面上に形成された下側触媒層5の表面上に、
上側触媒層用ウォッシュコートスラリをコーティングす
る。そして、このようにコーティングされた担体4を1
50℃程度の温度で乾燥させ、さらにこの後500℃の
温度で2時間程度焼成する。かくして、担体4の上に下
側触媒層5が形成(固定)され、さらにこの下側触媒層
5の上に上側触媒層6が形成(固定)された排気ガス浄
化用触媒3が完成する。
のウォッシュコート 担体4の表面上に形成された下側触媒層5の表面上に、
上側触媒層用ウォッシュコートスラリをコーティングす
る。そして、このようにコーティングされた担体4を1
50℃程度の温度で乾燥させ、さらにこの後500℃の
温度で2時間程度焼成する。かくして、担体4の上に下
側触媒層5が形成(固定)され、さらにこの下側触媒層
5の上に上側触媒層6が形成(固定)された排気ガス浄
化用触媒3が完成する。
【0036】このようにして得られた排気ガス浄化用触
媒3においては、ロジウムの基材中での分散性が大幅に
高められ、該ロジウムが超微細粒子の形態で安定して基
材に担持されている。このため、排気ガス高温時におけ
るNOx浄化率はもとより、その他の大気汚染物質の浄
化率も大幅に高められる。また、ロジウムカルボニルク
ラスター溶液には水が含まれていないので、該排気ガス
浄化用触媒3の製造時(焼成時等)におけるロジウムの
酸化が効果的に抑制ないしは防止され、該ロジウムの触
媒活性が高められる。なお、ロジウムカルボニルクラス
ターを溶解させる溶媒としてメタノールを用いているの
で、ロジウムの基材中での分散性がさらに高められ、排
気ガス高温時におけるNOx浄化率、あるいはその他の
大気汚染物質の浄化率がさらに高められる。
媒3においては、ロジウムの基材中での分散性が大幅に
高められ、該ロジウムが超微細粒子の形態で安定して基
材に担持されている。このため、排気ガス高温時におけ
るNOx浄化率はもとより、その他の大気汚染物質の浄
化率も大幅に高められる。また、ロジウムカルボニルク
ラスター溶液には水が含まれていないので、該排気ガス
浄化用触媒3の製造時(焼成時等)におけるロジウムの
酸化が効果的に抑制ないしは防止され、該ロジウムの触
媒活性が高められる。なお、ロジウムカルボニルクラス
ターを溶解させる溶媒としてメタノールを用いているの
で、ロジウムの基材中での分散性がさらに高められ、排
気ガス高温時におけるNOx浄化率、あるいはその他の
大気汚染物質の浄化率がさらに高められる。
【0037】以下、このようにして製造された本発明に
かかる排気ガス浄化用触媒の排気ガス浄化性能を測定し
た結果を、本発明によらない方法(従来の製造方法)で
製造された排気ガス浄化用触媒と対比しつつ説明する。
なお、これらの測定(リグ評価)に用いられた排気ガス
浄化用触媒は次の4種(比較例及び実施例1〜3)であ
る。
かかる排気ガス浄化用触媒の排気ガス浄化性能を測定し
た結果を、本発明によらない方法(従来の製造方法)で
製造された排気ガス浄化用触媒と対比しつつ説明する。
なお、これらの測定(リグ評価)に用いられた排気ガス
浄化用触媒は次の4種(比較例及び実施例1〜3)であ
る。
【0038】(1)比較例にかかる排気ガス浄化用触媒 従来の製造方法で製造された排気ガス浄化用触媒であ
り、該製造において上側触媒層形成工程におけるロジウ
ムの担持には、ロジウムカルボニルクラスター溶液(R
h4(CO)12)ではなく硝酸ロジウム水溶液(Rh(N
O3)3)が用いられている。該製造におけるその他の点
については、前記の典型的な製造方法と同様である。
り、該製造において上側触媒層形成工程におけるロジウ
ムの担持には、ロジウムカルボニルクラスター溶液(R
h4(CO)12)ではなく硝酸ロジウム水溶液(Rh(N
O3)3)が用いられている。該製造におけるその他の点
については、前記の典型的な製造方法と同様である。
【0039】(2)実施例1にかかる排気ガス浄化用触
媒 前記の典型的な製造方法で製造された本発明にかかる排
気ガス浄化用触媒である。 (3)実施例2にかかる排気ガス浄化用触媒 本発明にかかる製造方法で製造された排気ガス浄化用触
媒ではあるが、該製造においては前記の典型的な製造方
法とは若干異なり、上側触媒層形成工程でまず白金カル
ボニルクラスター溶液([Pt3(CO)6]5[N(C2
H5)4]2)を用いて白金を基材に担持させ、この後硝
酸ロジウム水溶液を用いてロジウムを基材に担持させて
いる。該製造におけるその他の点については、前記の典
型的な製造方法と同様である。 (4)実施例3にかかる排気ガス浄化用触媒 本発明にかかる製造方法で製造された排気ガス浄化用触
媒ではあるが、該製造においては前記の典型的な製造方
法とは若干異なり、上側触媒層形成工程で、ロジウムカ
ルボニルクラスター溶液及び白金カルボニルクラスター
溶液を用いてロジウム及び白金を同時に基材に担持させ
ている。該製造におけるその他の点については、前記の
典型的な製造方法と同様である。
媒 前記の典型的な製造方法で製造された本発明にかかる排
気ガス浄化用触媒である。 (3)実施例2にかかる排気ガス浄化用触媒 本発明にかかる製造方法で製造された排気ガス浄化用触
媒ではあるが、該製造においては前記の典型的な製造方
法とは若干異なり、上側触媒層形成工程でまず白金カル
ボニルクラスター溶液([Pt3(CO)6]5[N(C2
H5)4]2)を用いて白金を基材に担持させ、この後硝
酸ロジウム水溶液を用いてロジウムを基材に担持させて
いる。該製造におけるその他の点については、前記の典
型的な製造方法と同様である。 (4)実施例3にかかる排気ガス浄化用触媒 本発明にかかる製造方法で製造された排気ガス浄化用触
媒ではあるが、該製造においては前記の典型的な製造方
法とは若干異なり、上側触媒層形成工程で、ロジウムカ
ルボニルクラスター溶液及び白金カルボニルクラスター
溶液を用いてロジウム及び白金を同時に基材に担持させ
ている。該製造におけるその他の点については、前記の
典型的な製造方法と同様である。
【0040】また、該測定における測定条件は、次のと
おりである。 (1)触媒仕様:Pt/Pd/Rh=1/14/2(重量比) 総触媒担持量=5.7g/L−cat (2)評価条件:A/F=14.7±0.9(周期的変動) A/F変動周波数=1Hz SV=60000h-1 排気ガス入口温度=100〜500℃ (3)触媒容量:φ1inch×50mm、24cc (4)担体条件:6mil/400cpsi (5)エージング処理条件:1100℃×24hr(大気中)
おりである。 (1)触媒仕様:Pt/Pd/Rh=1/14/2(重量比) 総触媒担持量=5.7g/L−cat (2)評価条件:A/F=14.7±0.9(周期的変動) A/F変動周波数=1Hz SV=60000h-1 排気ガス入口温度=100〜500℃ (3)触媒容量:φ1inch×50mm、24cc (4)担体条件:6mil/400cpsi (5)エージング処理条件:1100℃×24hr(大気中)
【0041】この測定における空燃比の設定条件(A/
F=14.7±0.9)はおよそ次のとおりである。す
なわち、A/F=14.7に相当する所定の組成のメイ
ンストリームガス(合成ガス)を定常的に流しつつ、1
Hzで所定量の組成の打ち込みガスをパルス状に打ち込
み、空燃比A/Fを±0.9の振幅で強制的に振動させ
る。ここで、A/F=14.7に相当するメインストリ
ームガスの組成は、例えば次のように設定される。 CO2:13.9% O2:0.6% CO :0.6% H2:0.2% HC :0.056% NO:0.1% H2O:10% N2:残部 そして、A/F=±0.9の振幅の振動を生じさせる打
ち込みガスとしては、空燃比A/Fをリッチ側へ振らせ
る場合(A/F=13.8)はCO及びH2を用い、リ
ーン側へ振らせる場合(A/F=15.6)はO2を用
いる。なお、各サンプルのエージング処理(熱処理)
は、高温耐熱性を確認するために、これらを1100℃
の大気中に24時間さらすことにより行った。
F=14.7±0.9)はおよそ次のとおりである。す
なわち、A/F=14.7に相当する所定の組成のメイ
ンストリームガス(合成ガス)を定常的に流しつつ、1
Hzで所定量の組成の打ち込みガスをパルス状に打ち込
み、空燃比A/Fを±0.9の振幅で強制的に振動させ
る。ここで、A/F=14.7に相当するメインストリ
ームガスの組成は、例えば次のように設定される。 CO2:13.9% O2:0.6% CO :0.6% H2:0.2% HC :0.056% NO:0.1% H2O:10% N2:残部 そして、A/F=±0.9の振幅の振動を生じさせる打
ち込みガスとしては、空燃比A/Fをリッチ側へ振らせ
る場合(A/F=13.8)はCO及びH2を用い、リ
ーン側へ振らせる場合(A/F=15.6)はO2を用
いる。なお、各サンプルのエージング処理(熱処理)
は、高温耐熱性を確認するために、これらを1100℃
の大気中に24時間さらすことにより行った。
【0042】表1〜4に、それぞれ、比較例及び実施例
1〜3にかかる排気ガス浄化用触媒について、排気ガス
入口温度を100℃から500℃まで変化させつつH
C、CO及びNOxの浄化率を測定した結果を示す。
1〜3にかかる排気ガス浄化用触媒について、排気ガス
入口温度を100℃から500℃まで変化させつつH
C、CO及びNOxの浄化率を測定した結果を示す。
【0043】
【表1】
【0044】
【表2】
【0045】
【表3】
【0046】
【表4】
【0047】また、図3に、表1〜4に示す測定結果に
基づいて、比較例及び実施例1〜3にかかる排気ガス浄
化用触媒について、HC、CO及びNOxのT50温度
を求めた結果を示す。さらに、図4に、表1〜4に示す
測定結果に基づいて、比較例及び実施例1〜3にかかる
排気ガス浄化用触媒について、HC、CO及びNOxの
C500浄化率を求めた結果を示す。
基づいて、比較例及び実施例1〜3にかかる排気ガス浄
化用触媒について、HC、CO及びNOxのT50温度
を求めた結果を示す。さらに、図4に、表1〜4に示す
測定結果に基づいて、比較例及び実施例1〜3にかかる
排気ガス浄化用触媒について、HC、CO及びNOxの
C500浄化率を求めた結果を示す。
【0048】なお、ここでT50温度とは、大気汚染物
質(例えば、HC、CO、NOx)の浄化率が50%と
なるときの排気ガス入口温度[℃]である。つまり、T
50温度は排気ガス浄化用触媒の低温時における排気ガ
ス浄化性能ないしは低温活性を評価するための指標であ
り、T50温度が低いものほど低温時における排気ガス
浄化性能ないしは低温活性が高いことになる。
質(例えば、HC、CO、NOx)の浄化率が50%と
なるときの排気ガス入口温度[℃]である。つまり、T
50温度は排気ガス浄化用触媒の低温時における排気ガ
ス浄化性能ないしは低温活性を評価するための指標であ
り、T50温度が低いものほど低温時における排気ガス
浄化性能ないしは低温活性が高いことになる。
【0049】また、C500浄化率とは、排気ガスの入
口温度が500℃である場合の大気汚染物質(例えば、
HC、CO、NOx)の浄化率[%]である。つまり、
C500浄化率は、500℃程度の高温時における排気
ガス浄化性能を評価するための指標である。
口温度が500℃である場合の大気汚染物質(例えば、
HC、CO、NOx)の浄化率[%]である。つまり、
C500浄化率は、500℃程度の高温時における排気
ガス浄化性能を評価するための指標である。
【0050】図3に示すように、ロジウムの担持にのみ
カルボニルクラスターを用いた実施例1では、カルボニ
ルクラスターを全く用いていない比較例(従来例)に比
べてHC、CO及びNOxのすべてについて、T50温
度が低下しており、排気ガス低温時における排気ガス浄
化性能が極めて良好であることがわかる。また、ロジウ
ム及び白金の担持にそれぞれカルボニルクラスターを用
いた実施例3でも、実施例1の場合とほぼ同等に、比較
例に比べてHC、CO及びNOxのすべてについてT5
0温度が低下しており、排気ガス低温時における排気ガ
ス浄化性能が良好であることがわかる。なお、白金の担
持にのみカルボニルクラスターを用いた実施例2では、
比較例に比べてNOxについてのT50温度のみ低下し
ているにすぎない。しかしながら、排気ガス低温時にお
けるNOx浄化性能の向上を図る上では、この実施例2
も十分に有効であるといえる。
カルボニルクラスターを用いた実施例1では、カルボニ
ルクラスターを全く用いていない比較例(従来例)に比
べてHC、CO及びNOxのすべてについて、T50温
度が低下しており、排気ガス低温時における排気ガス浄
化性能が極めて良好であることがわかる。また、ロジウ
ム及び白金の担持にそれぞれカルボニルクラスターを用
いた実施例3でも、実施例1の場合とほぼ同等に、比較
例に比べてHC、CO及びNOxのすべてについてT5
0温度が低下しており、排気ガス低温時における排気ガ
ス浄化性能が良好であることがわかる。なお、白金の担
持にのみカルボニルクラスターを用いた実施例2では、
比較例に比べてNOxについてのT50温度のみ低下し
ているにすぎない。しかしながら、排気ガス低温時にお
けるNOx浄化性能の向上を図る上では、この実施例2
も十分に有効であるといえる。
【0051】図4に示すように、実施例1では、比較例
に比べて、COについてのC500浄化率がわずかに低
下しているものの、NOxについてのC500浄化率は
大幅に増加している(83%→99%)。すなわち、実
施例1では、比較例に比べてNOx排出量が、1/17
に低減されることになる。((100−99)/(10
0−83)=1/17)に低減されることになる。した
がって、この実施例1は、排気ガス高温時におけるNO
xの浄化に極めて有効であることがわかる。また、実施
例3でも、実施例1には及ばないものの、比較例に比べ
てNOxについてのC500浄化率が増加しており(8
3%→88%)、排気ガス高温時における排気ガス浄化
性能が良好であることがわかる。なお、実施例2では、
比較例に比べて、C500浄化率が増加している項目は
なく、したがって実施例2は排気ガス高温時における排
気ガス浄化性能についてはさほど効果を発揮しない。
に比べて、COについてのC500浄化率がわずかに低
下しているものの、NOxについてのC500浄化率は
大幅に増加している(83%→99%)。すなわち、実
施例1では、比較例に比べてNOx排出量が、1/17
に低減されることになる。((100−99)/(10
0−83)=1/17)に低減されることになる。した
がって、この実施例1は、排気ガス高温時におけるNO
xの浄化に極めて有効であることがわかる。また、実施
例3でも、実施例1には及ばないものの、比較例に比べ
てNOxについてのC500浄化率が増加しており(8
3%→88%)、排気ガス高温時における排気ガス浄化
性能が良好であることがわかる。なお、実施例2では、
比較例に比べて、C500浄化率が増加している項目は
なく、したがって実施例2は排気ガス高温時における排
気ガス浄化性能についてはさほど効果を発揮しない。
【0052】図5に、比較例及び実施例1〜3にかかる
排気ガス浄化用触媒について、A/Fウィンドウを測定
した結果を示す。なお、ここでA/Fウィンドウとは、
CO及びNOxの浄化率がいずれも80%以上となる空
燃比領域(範囲)を意味し、したがってA/Fウィンド
ウが大きいほど、空燃比の変化に対する排気ガス浄化性
能の安定性が高いことになる。
排気ガス浄化用触媒について、A/Fウィンドウを測定
した結果を示す。なお、ここでA/Fウィンドウとは、
CO及びNOxの浄化率がいずれも80%以上となる空
燃比領域(範囲)を意味し、したがってA/Fウィンド
ウが大きいほど、空燃比の変化に対する排気ガス浄化性
能の安定性が高いことになる。
【0053】なお、このA/Fウィンドウの測定におけ
る測定条件は、およそ次のとおりである。 (1)触媒仕様:Pt/Pd/Rh=1/14/2(重量比) 総触媒担持量=5.7g/L−cat (2)評価条件:A/F領域=14.0〜15.0 SV=60000h-1 排気ガス入口温度=400℃ (3)触媒容量:φ1inch×50mm、24cc (4)担体条件:6mil/400cpsi (5)エージング処理条件:1100℃×24hr(大気中)
る測定条件は、およそ次のとおりである。 (1)触媒仕様:Pt/Pd/Rh=1/14/2(重量比) 総触媒担持量=5.7g/L−cat (2)評価条件:A/F領域=14.0〜15.0 SV=60000h-1 排気ガス入口温度=400℃ (3)触媒容量:φ1inch×50mm、24cc (4)担体条件:6mil/400cpsi (5)エージング処理条件:1100℃×24hr(大気中)
【0054】図5に示すように、実施例1では、比較例
に比べてA/Fウィンドウが広くなっている。したがっ
て、実施例1は、比較例に比べて、空燃比変動に対する
排気ガス浄化性能の安定性が高いことがわかる。なお、
実施例2及び実施例3では、比較例に比べてA/Fウィ
ンドウはやや狭くなっている。
に比べてA/Fウィンドウが広くなっている。したがっ
て、実施例1は、比較例に比べて、空燃比変動に対する
排気ガス浄化性能の安定性が高いことがわかる。なお、
実施例2及び実施例3では、比較例に比べてA/Fウィ
ンドウはやや狭くなっている。
【0055】以上の測定結果に鑑みれば、ロジウムの担
持にロジウムカルボニルクラスターを用いるのが、とく
に有効であることがわかる。以上、本発明にかかる触媒
の製造方法によれば、触媒金属の基材中での分散性を高
めることができ、さらには触媒製造時における触媒金属
の酸化を抑制ないしは防止することができる。
持にロジウムカルボニルクラスターを用いるのが、とく
に有効であることがわかる。以上、本発明にかかる触媒
の製造方法によれば、触媒金属の基材中での分散性を高
めることができ、さらには触媒製造時における触媒金属
の酸化を抑制ないしは防止することができる。
【0056】以下、触媒金属クラスターを溶解させる溶
媒としてメタノールを用いた触媒と、トルエンを用いた
触媒とについて、それぞれ、HC、CO及びNOxのT
50温度とC500浄化率とを実測して得られた結果に
ついて説明する。これらの触媒は、いずれもロジウム及
び白金が担持された上層と、パラジウムが担持された下
層とからなる2層構造の触媒である。そして、上層及び
下層には、触媒金属の耐熱性を高めるために、3wt%
のバリウムが添加されている。なお、バリウムは、上層
及び下層を形成後、両層に酢酸バリウムを含浸させるこ
とにより添加した。その他の測定条件はおよそ次のとお
りである。 (1)触媒仕様:Pt/Pd/Rh=1/17/3(重量比) 総触媒担持量=5.25g/L−cat(上・下層合わせて ) (2)エージング処理条件:1100℃×24hr
媒としてメタノールを用いた触媒と、トルエンを用いた
触媒とについて、それぞれ、HC、CO及びNOxのT
50温度とC500浄化率とを実測して得られた結果に
ついて説明する。これらの触媒は、いずれもロジウム及
び白金が担持された上層と、パラジウムが担持された下
層とからなる2層構造の触媒である。そして、上層及び
下層には、触媒金属の耐熱性を高めるために、3wt%
のバリウムが添加されている。なお、バリウムは、上層
及び下層を形成後、両層に酢酸バリウムを含浸させるこ
とにより添加した。その他の測定条件はおよそ次のとお
りである。 (1)触媒仕様:Pt/Pd/Rh=1/17/3(重量比) 総触媒担持量=5.25g/L−cat(上・下層合わせて ) (2)エージング処理条件:1100℃×24hr
【0057】これらの触媒のHC、CO及びNOxにつ
いてのT50温度及びC500浄化率の実測値は次のと
おりである。
いてのT50温度及びC500浄化率の実測値は次のと
おりである。
【0058】この測定結果によれば、触媒金属クラスタ
ーを溶解させる溶媒としてメタノールを用いた場合は、
トルエンを用いた場合に較べて、HC、CO及びNOx
のいずれについてもT50温度が低く、したがって低温
活性が優れていることがわかる。また、CO及びNOx
のC500浄化率についても、メタノールを用いた触媒
の方が、トルエンを用いた触媒よりも良好な結果が得ら
れている。したがって、メタノールは、触媒金属クラス
ターを溶解させる溶剤として非常に優れていることがわ
かる。
ーを溶解させる溶媒としてメタノールを用いた場合は、
トルエンを用いた場合に較べて、HC、CO及びNOx
のいずれについてもT50温度が低く、したがって低温
活性が優れていることがわかる。また、CO及びNOx
のC500浄化率についても、メタノールを用いた触媒
の方が、トルエンを用いた触媒よりも良好な結果が得ら
れている。したがって、メタノールは、触媒金属クラス
ターを溶解させる溶剤として非常に優れていることがわ
かる。
【図1】 本発明にかかる排気ガス浄化用触媒の縦断面
説明図である。
説明図である。
【図2】 図1に示す排気ガス浄化用触媒を用いた排気
ガス浄化装置の縦断面説明図である。
ガス浄化装置の縦断面説明図である。
【図3】 本発明にかかる排気ガス浄化用触媒(実施例
1〜3)の、HC、CO及びNOxについてのT50温
度を、比較例と対比して示した棒グラフである。
1〜3)の、HC、CO及びNOxについてのT50温
度を、比較例と対比して示した棒グラフである。
【図4】 本発明にかかる排気ガス浄化用触媒(実施例
1〜3)の、HC、CO及びNOxについてのC500
浄化率を、比較例と対比して示した棒グラフである。
1〜3)の、HC、CO及びNOxについてのC500
浄化率を、比較例と対比して示した棒グラフである。
【図5】 本発明にかかる排気ガス浄化用触媒(実施例
1〜3)の、HC、CO及びNOxについてのA/Fウ
ィンドウを、比較例と対比して示した図である。
1〜3)の、HC、CO及びNOxについてのA/Fウ
ィンドウを、比較例と対比して示した図である。
1…排気系 2…排気ガス浄化装置 3…排気ガス浄化用触媒 4…担体 5…下側触媒層 6…上側触媒層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI B01J 23/46 311 B01D 53/36 102B 23/63 104A B01J 23/56 301A (72)発明者 市川 智士 広島県安芸郡府中町新地3番1号 マツダ 株式会社内
Claims (8)
- 【請求項1】 第1の触媒金属を含みカルボニル基を配
位子とする金属クラスター錯体とメタノールとを混合し
て金属クラスター錯体メタノール溶液を調製し、 上記金属クラスター錯体メタノール溶液を基材に付着さ
せ、 上記基材に付着している上記金属クラスター錯体から上
記配位子を離脱させて、上記第1の触媒金属を上記基材
に担持させるようにしたことを特徴とする触媒の製造方
法。 - 【請求項2】 上記第1の触媒金属が貴金属であること
を特徴とする請求項1に記載の触媒の製造方法。 - 【請求項3】 上記貴金属がロジウムであることを特徴
とする請求項2に記載の触媒の製造方法。 - 【請求項4】 上記第1の触媒金属を上記基材に担持さ
せた後、該基材を乾燥させ、 上記第1の触媒金属とは異なる第2の触媒金属と水とを
混合して触媒金属水溶液を調製し、 上記触媒金属水溶液を上記基材に付着させて、上記第2
の触媒金属を上記基材に担持させるようにしたことを特
徴とする請求項1に記載の触媒の製造方法。 - 【請求項5】 上記第1の触媒金属がロジウムであり、
上記第2の触媒金属が白金であることを特徴とする請求
項4に記載の触媒の製造方法。 - 【請求項6】 上記基材が酸化セリウムであることを特
徴とする請求項1〜5のいずれか1つに記載の触媒の製
造方法。 - 【請求項7】 第1の触媒金属を含みカルボニル基を
配位子とする金属クラスター錯体と有機溶媒とを混合し
て金属クラスター錯体有機溶媒溶液を調製し、 上記金属クラスター錯体有機溶媒溶液を基材に付着さ
せ、 上記基材に付着している上記金属クラスター錯体から上
記配位子を離脱させて、上記第1の触媒金属を上記基材
に担持させ、 上記基材を乾燥させ、 上記第1の触媒金属とは異なる第2の触媒金属と水とを
混合して触媒金属水溶液を調製し、 上記触媒金属水溶液を上記基材に付着させて、上記第2
の触媒金属を上記基材に担持させるようにしたことを特
徴とする触媒の製造方法。 - 【請求項8】 上記第1の触媒金属がロジウムであり、
上記第2の触媒金属が白金であることを特徴とする請求
項7に記載の触媒の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11006333A JPH11285644A (ja) | 1998-02-04 | 1999-01-13 | 触媒の製造方法 |
ES99102169T ES2180234T3 (es) | 1998-02-04 | 1999-02-03 | Metodo de fabricacion de catalizadores. |
DE69902063T DE69902063T2 (de) | 1998-02-04 | 1999-02-03 | Verfahren zur Katalysatorherstellung |
US09/243,489 US6171999B1 (en) | 1998-02-04 | 1999-02-03 | Method of manufacturing catalyst |
EP99102169A EP0934774B1 (en) | 1998-02-04 | 1999-02-03 | Method of manufacturing catalyst |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10-23098 | 1998-02-04 | ||
JP2309898 | 1998-02-04 | ||
JP11006333A JPH11285644A (ja) | 1998-02-04 | 1999-01-13 | 触媒の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11285644A true JPH11285644A (ja) | 1999-10-19 |
Family
ID=26340447
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11006333A Pending JPH11285644A (ja) | 1998-02-04 | 1999-01-13 | 触媒の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6171999B1 (ja) |
EP (1) | EP0934774B1 (ja) |
JP (1) | JPH11285644A (ja) |
DE (1) | DE69902063T2 (ja) |
ES (1) | ES2180234T3 (ja) |
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---|---|---|---|---|
JP2007087972A (ja) * | 2007-01-05 | 2007-04-05 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 分子ビーム装置 |
JP2007134346A (ja) * | 2007-01-10 | 2007-05-31 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 分子ビーム装置 |
WO2007105747A1 (ja) | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | 新規イリジウムー白金錯体及びその製造方法 |
EP2140940A2 (en) | 2006-03-01 | 2010-01-06 | Toyota Jidosha Kabusiki Kaisha | Metal complex and exhaust gas purification catalyst manufacture method using the same |
JP2010172848A (ja) * | 2009-01-30 | 2010-08-12 | Toyota Central R&D Labs Inc | 排ガス浄化用触媒及びその製造方法 |
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US20070118002A1 (en) * | 2003-10-15 | 2007-05-24 | Linkov Vladimir M | Conversion of alkanes having at most 5 carbonatoms to alcohols and/or aldehydes using a platinum complex catalyst |
JP2006055807A (ja) * | 2004-08-23 | 2006-03-02 | Toyota Motor Corp | 貴金属クラスター担持触媒の製造方法 |
JP4386045B2 (ja) * | 2006-03-01 | 2009-12-16 | トヨタ自動車株式会社 | 担持型触媒の製造方法 |
US8716165B2 (en) * | 2008-04-30 | 2014-05-06 | Corning Incorporated | Catalysts on substrates and methods for providing the same |
US11446637B2 (en) * | 2020-06-18 | 2022-09-20 | GM Global Technology Operations LLC | Bi-metallic three-way catalyst materials and appurtenant devices and systems |
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GB1520513A (en) | 1975-07-22 | 1978-08-09 | Shoei Chemical Ind Co | Method for producing a catalyst composition having a carb-bon fibre carrier |
JPS5441291A (en) | 1977-09-09 | 1979-04-02 | Sagami Chem Res Center | Cluster fixed substance, production thereof and catalyst |
US4174298A (en) * | 1978-01-09 | 1979-11-13 | Uop Inc. | Activated multimetallic catalytic composite |
US4302400A (en) | 1979-12-10 | 1981-11-24 | Exxon Research & Engineering Co. | Heteronuclear noble metal cluster catalysts |
EP0139240B1 (en) | 1983-09-27 | 1989-01-11 | Uop Inc. | Catalyst and method for treating exhaust gases |
US4868148A (en) * | 1987-08-24 | 1989-09-19 | Allied-Signal Inc. | Layered automotive catalytic composite |
JP3285614B2 (ja) * | 1992-07-30 | 2002-05-27 | 日本碍子株式会社 | 排ガス浄化用触媒及びその製造方法 |
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US6090744A (en) | 1996-03-28 | 2000-07-18 | Mazda Motor Corporation | Catalyst for cleaning exhaust gas |
JPH09313893A (ja) | 1996-03-28 | 1997-12-09 | Mazda Motor Corp | 排気ガス浄化用触媒およびその製造方法 |
-
1999
- 1999-01-13 JP JP11006333A patent/JPH11285644A/ja active Pending
- 1999-02-03 EP EP99102169A patent/EP0934774B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-02-03 ES ES99102169T patent/ES2180234T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-02-03 US US09/243,489 patent/US6171999B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-02-03 DE DE69902063T patent/DE69902063T2/de not_active Expired - Fee Related
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WO2007105747A1 (ja) | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | 新規イリジウムー白金錯体及びその製造方法 |
JP2007087972A (ja) * | 2007-01-05 | 2007-04-05 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 分子ビーム装置 |
JP4534020B2 (ja) * | 2007-01-05 | 2010-09-01 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 分子ビーム装置 |
JP2007134346A (ja) * | 2007-01-10 | 2007-05-31 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 分子ビーム装置 |
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---|---|
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DE69902063T2 (de) | 2003-03-06 |
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EP0934774A2 (en) | 1999-08-11 |
US6171999B1 (en) | 2001-01-09 |
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