JPH11282142A - 感光材料処理装置の処理部密閉構造 - Google Patents
感光材料処理装置の処理部密閉構造Info
- Publication number
- JPH11282142A JPH11282142A JP10083263A JP8326398A JPH11282142A JP H11282142 A JPH11282142 A JP H11282142A JP 10083263 A JP10083263 A JP 10083263A JP 8326398 A JP8326398 A JP 8326398A JP H11282142 A JPH11282142 A JP H11282142A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- roller
- photosensitive material
- processing
- developer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/3042—Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Abstract
よる処理液の劣化を低下させ、また、処理液の補充量を
減らすことを課題とする。 【解決手段】 現像槽14に貯留された現像液の液面に
は、箱状の遮蔽蓋76が配設されており、その底壁76
Aが処理液と空気との接触をできるだけ小さくして、炭
酸ガスによる処理液の劣化と、水分の蒸発を抑えてい
る。また、遮蔽蓋76の周壁76Bの上部とPS版プロ
セッサーの上部を覆うカバー78が密着しており、現像
液上部の空気の流れ(挿入口22から排出口へ至る空気
の流れ)を遮断している。これにより、現像部18の密
閉度が高まり、炭酸ガスによる現像液の劣化が低下し、
また、現像液の補充量が低減する。
Description
る感光材料処理装置の処理部密閉構造に関する。
下「PS版」という)は感光性平版印刷版処理装置(以
下「PS版プロセッサー」という)によって現像処理さ
れる。このPS版プロセッサーでは、画像が記録された
PS版を現像槽内を搬送しながらこの現像槽に貯留して
いる現像液に浸漬すると共に、現像液中のブラシローラ
等の擦り手段によってPS版の非画像部分の感光層を除
去するようになっている。このようにして現像処理の終
了したPS版は、水洗部で水洗水によって水洗された後
(水洗処理)、不感脂化処理部でガム液が塗布され(不
感脂化処理)て版面保護等の処理が行われる。
面には、空気中の炭酸ガスと現像液との接触をできるだ
け少なくするため、板状の浮蓋が浮かべられている。
浮かべるだけでは、PS版プロセッサーの挿入口から排
出口へ至る空気の流れを遮断することができない。この
ため、浮蓋の上方を空気が流れて新しい炭酸ガスが浮蓋
によって覆われていない現像液の表面に触れ、炭酸ガス
による現像液の劣化を促進する。また、現像液中の水分
が蒸発して現像液の補充量が増加する。
ブラシローラ等を駆動させるギア等の駆動部が現像槽内
の現像液面上方に設けられているので、現像液上方の空
気の流れを止めるための遮断物を設けることがむずかし
かったので、現像液の空気中の炭酸ガスによる劣化をよ
り少なくすることができなかった。
の流れを遮断して、炭酸ガスによる処理液の劣化を低下
させ、また、処理液中の水分の蒸発を少なくして、処理
液の補充量を減らすことを課題とする。
は、処理槽に貯留された処理液に感光材料を浸漬させ、
搬送手段で処理液中を搬送しながら感光材料を処理す
る。この処理槽には、遮蔽蓋が設けられており、処理液
と空気との接触をできるだけ少なくして、炭酸ガスによ
る処理液の劣化と、水分の蒸発を抑えている。
は接触しており、処理液上部の空気の流れ(感光材料の
挿入口から排出口へ至る空気の流れ)を遮断している。
これにより、処理槽の密閉度が高まり、炭酸ガスによる
処理液の劣化が低下し、また、水分の蒸発も押さえられ
て処理液の補充量が低減する。
に遮蔽蓋の上部と係合する係合部が形成されている。こ
の係合部によって、カバーと遮蔽蓋の密着度が高まり、
処理液上部の空気の流れが確実に遮断される。
に形成された側板で、搬送手段の搬送系と、搬送系を駆
動させる駆動系が仕切られている。そして、駆動系の上
部を側板に続く蓋部で覆い駆動系を密閉している。この
ため、従来のように、感光材料を搬送する搬送系の上方
に駆動系を設けないので、搬送系の上方に遮蔽蓋を容易
に設置することができ、空気の流れを遮断できる。ま
た、駆動系から搬送系側への空気の流れを遮断できる。
これにより、空気中の炭酸ガスによる処理液の劣化を少
なくすることができる。
材料の搬送方向上流側の底壁角部に、感光材料の搬送方
向と交わる方向に感光材料搬送用のローラが設けられて
いる。この構成により、感光材料はローラに案内され、
底壁角部に当って傷付くことがない。
の箱体で構成され、軽量化が図られている。
性平版印刷版処理装置(以下「PS版プロセッサー1
0」と言う)が示されている。PS版プロセッサー10
は、図示しない焼付装置によって画像が焼付けられた感
光性平版印刷版(以下「PS版12」と言う)を現像処
理する。 (PS版プロセッサーの概要)PS版プロセッサー10
は、PS版12を現像処理するための現像部18と、P
S版12に付着した現像液を水洗して水洗処理する水洗
部24と、水洗後のPS版12にガム液を塗布して不感
脂化処理するフィニッシャー部26と、PS版12を乾
燥する乾燥部16とを備えている。なお、現像部18は
現像槽14を、水洗部24は水洗槽28を、フィニッシ
ャー部26はガム液槽30を備えている。
は、PS版12が挿入されるスリット状の挿入口22が
設けられている。挿入口22の内側には、一対の搬送ロ
ーラ32が配設されており、挿入口22から挿入された
PS版12が、この搬送ローラ32によって挟持搬送さ
れ、水平方向に対して所定の角度で現像槽14へ向けて
送り出されるようになっている。
が下方に向けて突出された略逆山形状とされており、こ
の現像槽14内には、PS版12の搬送方向に沿って上
流側から順に、一対の搬送ローラ34、ブラシローラ3
6、38及び一対の絞りローラ40が配設されている。
これらの搬送ローラ34、ブラシローラ36、38及び
絞りローラ40は、図4に示す側板42と外板パネル2
0との間に配設された駆動機構によって、回転するよう
になっている。
6を間に置いてバックアップローラ44、46が対向配
置され、さらに、ブラシローラ38と対向してバックア
ップローラ48が配置されている。これらのバックアッ
プローラ44、46、48には、駆動力は伝達されず回
転自在となっている。
継手管50を介して、現像槽14内の現像液が吸引され
て、側壁に形成された吐出口を通じて現像槽14内に吐
出され、現像液の循環及び攪拌が行われる。
流側の水洗部24には、水洗槽28の上方にそれぞれ一
対の搬送ローラ54、56が配設されている。これらの
搬送ローラ54、56は、側板に回転可能に支持されて
おり、駆動手段の駆動力が伝達され、現像部18から送
り込まれたPS版12の搬送路を形成している。
間には、スプレーパイプ58が対向配置されており、噴
出口が搬送路に向けられている。スプレーパイプ58か
らは、図示しない水洗水タンクからポンプによって汲み
上げられた水洗水が噴出され、PS版12の表面及び裏
面が水洗水によって洗浄される。なお、洗浄後の水洗水
は水洗槽28へ流れる。
部であるフィニッシャー部26のガム液槽30の上方に
は、一対の絞りローラ60が設けられている。そして、
搬送ローラ56によって送り出されるPS版12が、こ
の絞りローラ60へ送られる。
方向にスプレーパイプ62が対向配置され、噴出口が搬
送路に向けられている。このスプレーパイプ62から
は、ガム液槽30からポンプによって吸い込まれたガム
液が噴出され、PS版12の表面及び裏面に塗布され
る。
均一に塗布されたPS版12は、シャッター64で開閉
される通路口66を通じて、乾燥部16へ案内される。
この乾燥部16では、ガイドローラ68、それぞれ一対
の串ローラ70、72によって搬送され、乾燥されたP
S版12が、排出口74からPS版プロセッサー10の
外へ排出される。
シャー部26、及び乾燥部16における特徴的な構造を
説明する。 (現像部の密閉構造)図2〜図4に示すように、現像槽
14の槽壁と一体に4ヵ所に設けられた支持部15に支
えられて、箱状の遮蔽蓋76が配設されている。遮蔽蓋
76の底壁76Aは、搬送ローラ34、ブラシローラ3
6、バックアップローラ48の上部外周面と接触しない
ように、円弧状に連続して湾曲し、ローラ等と干渉しな
いようになっている。
ように、現像槽14を構成する側板42の内寸法と略同
一とされており、底壁76Aと側板42の隙間から液面
が露出しないようになっている。さらに、遮蔽蓋76の
周壁76Bは、PS版プロセッサー10の上部を覆うカ
バー78まで至っている。
れており、遮蔽蓋76を現像槽14にセットしてカバー
78を被せたとき、溝80と周壁76Bの上部が係合し
て、現像槽14の上部を完全に密閉する。また、溝80
に代えて凸部を形成して周壁76Bの上部と係合するよ
うにしてもよい。
角部には、PS版12の搬送方向と平行にテーパーが形
成されており、このテーパーに沿ってブラッケト81が
挿入口22側へ張り出している。このブラケット81に
は、串ローラ83が架け渡されている。
(挿入口22から排出口74へ至る空気の流れ)が、遮
蔽蓋76の周壁76Bとカバー78によって完全に遮断
される。このため、現像部18の密閉度が高まり、新た
な炭酸ガスが流入しないので、炭酸ガスによる現像液の
劣化が低下し、また、現像液中の水分の蒸発が少なくな
り、現像液の補充量が減少する。さらに、PS版12
は、串ローラ83に案内されるので、底壁76Aの上流
側角部に当って傷付くことがない。
に中空の箱体とされているので、現像部18の空間の多
くを占めて空気の流れを遮断する大型の箱体となってい
るにもかかわらず、軽量となっており、現像部18への
着脱の作業性もよい。
6Aより常に上方になるように現像液中に補充液を補充
するようにしている。これによって底壁76Aの下側に
空間ができて空気が入り込むことがない。
ラ32、一対の絞りローラ40及び60に接し、かつ一
方の側板42から他方の側板42にかけてゴムブレード
90が設けられ、通路口66にはシャッター64が設け
られているので、現像部18の密閉度がさらに高まり炭
酸ガスによる現像液の劣化及び現像液中の水分の蒸発が
さらにおさえられ、現像液の補充量をさらに少なくする
ことができるとともに水洗部24、フィッシャー部26
の密閉度も高まる。したがって 水洗槽28内の水洗水
及びガム液槽30内のガム液中の水分の蒸発もおさえら
れ、それぞれの補充量が減少する。
ことにより、カバー78の裏面に水分が結露する部分が
少なくなるので、結露した水滴が搬送されるPS版12
上に落下することによるPS版面の処理ムラ、結露した
水滴が側板42の上部等に付着することによるカビの発
生、カバー78を開いたときに生じる水滴の滴りによる
衣服の濡れ等を防止することができる。
流入するのを防ぐゴムブレード21を設けてもよい。
蓋としたが、これに限らず、中空でない中身の詰まった
遮蔽蓋であってもよい。
槽14の槽壁と一体に設けられた4か所の支持部15に
支えられ、周壁76Bの上部はカバー78で押さえられ
る構造としたが、遮蔽蓋76を現像槽14中の現像液に
浮かぶようにし、その現像液面が一定の位置になるよう
にオーバーフロー管の先端を位置させ、現像液面が下が
らないように補充液を補充するようにしてもよい。この
とき、遮蔽蓋76の同壁76Bの上部は常にカバー78
の裏面に接触することになる。
蔽蓋76の周壁76Bの上部にジャバラ方式又は釣りざ
お方式の伸縮自在な部材を設けて、現像液面が変動して
もカバー78と遮蔽蓋76の間が常に密閉状態になる構
造にしてもよい。 (駆動部の密閉構造)図4に示すように、一対の搬送ロ
ーラ34(一例として)を駆動させる駆動ギア71、8
2、73、84、75が、側板42と外板パネル20と
の間に収納されている。現像槽14にネジ止めされて現
像槽14と一体にされた側板42には、水平に延出する
L字状の蓋部42Aが一体成形されており、この蓋部4
2Aが側板42と外板パネル20との間の空間を密閉し
ている。このため、従来のように、駆動ギアの設置部の
上部開口を通じて空気が現像槽内に流入して現像液と接
触することがなく、現像槽14の密閉度が向上する。
れてもよく、溶接により一体にされてもよい。 (ローラの支持部機構その1)通常、搬送ローラを現像
槽から着脱するには、回転軸についている軸受けとギア
を一緒に外す必要がある。このため、搬送ローラの着脱
作業が容易でなく、また、現像槽の側板に軸受けとギア
を挿入する溝を形成する必要があり、この溝を通して現
像槽内に空気が流入してしまい、現像槽内の空気の流れ
を遮断する構造とすることができない。
支持部機構では、左側の側板98には、取付孔100が
穿設され、この取付孔100に筒状の軸受け102が挿
入固定されている。軸受け102には、ストッパー10
2Aが半径方向へ張り出しており、側板98に当って、
軸受け102の挿入量を決定している。
4と小径の軸孔106が同軸上に形成されている。軸孔
104には、搬送ローラ108の回転軸110が回転可
能に軸支されている。この回転軸110の端部からは、
カップリング用の連結シャフト112が突設されてい
る。
に示すように、軸芯に沿って半割りにカットされてい
る。そして、軸孔106に回転可能に軸支され、同じく
先端部が軸芯に沿って半割りされた連結シャフト114
とカップリングできるようになっている。
116に軸支されたシャフト118の他端から突設され
ている。シャフト118には、駆動ギア120が固定さ
れており、伝達ギア122を介して駆動力が伝達される
ようになっている。
124には、軸受け126が挿入固定されている。軸受
け126の軸孔128には、搬送ローラ108の回転軸
110が、回転可能に軸支されており、C形状のスペー
サー130が、軸受け126と搬送ローラ108のロー
ラ部との間に嵌め込まれている。
8をセットするときは、図5に示すように、先ず、軸受
け126の軸孔128へ回転軸110の右端部を深く差
し込み、次に、図6に示すように、回転軸110を左側
へ引き出すようにして、連結シャフト112を軸受け1
02の軸孔104へ突っ込む。これにより、連結シャフ
ト112が連結シャフト114とカップリングされ、駆
動ギア120から駆動力が連結シャフト114、112
を介して、回転軸110に伝達される。
114とをカップリングさせた後は、スペーサー130
を回転軸110に嵌め込み、搬送ローラ108の軸方向
へのガタ付きを抑え、カップリング部分が外れないよう
にする。なお、搬送ローラ108を取り外すときは、上
述した手順と逆の手順を踏めばよい。
の軸受けに対して搬送ローラを着脱可能とすることで、
現像槽を隙間なく、完全に密閉することができる。ま
た、搬送ローラ110の着脱作業が短時間で済む。 (カップリングの適用例)また、上述したカップリング
構造を利用することで、ギアとシャフトをねじ等で固定
する必要がなくなり、ねじが緩むことによる駆動伝達系
のトラブルを無くすことができる。
側板134に取付けられた軸受け138には、搬送ロー
ラ132の回転軸140が回転可能に軸支されている。
回転軸140には、駆動ギア142が固定されており、
側板134と外板パネル136との間に配置された伝達
ギア144と噛み合っている。
6が一体成形されている。ボス146の先端部は、軸芯
に沿って半割りにカットされている。また、ボス146
は、側板134と外板パネル136との間に掛け渡され
たシャフト152へ回転自在に挿通されている。
150が一体成形されたハスバギア148が挿通されて
いる。ボス150の先端部は、軸芯に沿って半割りにカ
ットされ、ボス146とカップリングされている。これ
によって、ウォームギア154により駆動力を伝達され
たハスバギア148が伝達ギア144と一体となって回
転し、駆動ギア142を回転駆動させる。
ア144及びハスバギア148と一体成形されそれぞれ
半割りにカットされたボス146とボス150をカップ
リングさせて回転させる構造とすることで、伝達ギア1
44とボス146、ハスバギア148とボス150をネ
ジ止めする必要がなくネジがゆるむ等のトラブルをなく
すことができる。
0に示すボス156、158のようにスクリュー形とし
てもよく、図11に示すように、ボス162の外周面に
周方向に沿って所定の間隔で凹部162Aを形成し、ボ
ス160から凹部162Aと係合する4本のフィンガー
160Aを突設させる構成でもよい。これによって、ボ
ス162とボス160とのカップリング作業が迅速に行
える。 (ローラの支持部機構その2)処理液を取り扱うPS版
プロセッサー10の特性として、図12に示すように、
駆動系のギアが回転することによって、処理液につかっ
ている下方のギア166によってくみ上げられた処理液
が駆動ギア168まで上がってくることがある。
ジ170を設けて、返し溝174を形成し、処理液がシ
ャフト176を伝わって回転軸172とこれを軸に回転
するシャフト176の間に流れ込まないように、また、
処理液がシャフト176、ギア165、167を伝わっ
て軸受169と回転軸171の間に流れ込まないように
液切りを行なっている。
172とシャフト176の間や軸受169と回転軸17
1の間に処理液のカス等が入り込んで回転軸172、シ
ャフト176、軸受169、回転軸171が磨耗するこ
とがない。 (現像槽の搬送ガイド)図13及び図14に示すよう
に、挿入口22に近い現像槽14の傾斜した底壁には、
所定の間隔でガイドリブ178が立設されている。この
ガイドリブ178の上面は、搬送ローラ32と搬送ロー
ラ34で形成される搬送路上にあり、現像層14の底壁
の傾斜と同方向に傾斜している。また、現像槽14の搬
入面14Cから立ち上がるガイドリブ178の高さL
は、一例として5mmとされている。
に、現像槽14の底壁にPS版12を接触させて、挿入
口22から挿入されたPS版12を搬送ローラ34へ案
内する場合、毛細管現象により、現像槽14の底壁とP
S版12との接触面を伝わって現像液が上昇して現像槽
14の外に持ち出される恐れがあったからである。
ドリブ178によって搬送されるPS版12と現像槽1
4の底壁との間に毛細管現象が生じない十分な隙間が生
じる。このため、液漏れのないガイド構造とすることが
できる。なお、本例では、ガイドリブ178の高さLを
5mmとしているが、この値は、現像液の性状等によっ
て決定されるものである(ガイドリブの間隔も現像液の
性状等に依存する)。 (ブラシローラのバックアップ構造)図1に示すよう
に、PS版プロセッサー10では、ブラシローラ36、
38でPS版12の表面及び裏面を擦って現像を促進
し、非画像部分の感光層を除去するようになっている
が、そのときのPS版12の受けとして、バックアップ
ローラ44、46、48を配置している。
コストがアップする。これに替えて、通版性のよいガイ
ド板をPS版12の受けとすることも考えられるが、P
S版12の感光層にブラシローラの毛先部を押し付けた
状態でブラシローラを回転させ、非画像部分の感光層を
除去する必要があるので、ブラシローラの毛先部がガイ
ド板へ押しつけられて、PS版プロセッサー10が停止
している時に、ブラシローラの毛先部に癖がついて曲が
ったままになり、擦り機能が低下する恐れがある。
に示すように、ブラシローラ182の下方に位置するガ
イド板180を切り開いて、ブラシローラ182がガイ
ド板180に触れない構造とすることが考えられる。
版12の先端部が搬送方向と反対側に向かって下方に傾
斜したガイド片180Aに当り、上方に案内され、その
後、図18に示すように、ブラシローラ182で非画像
部分の感光層が擦り取られながらガイド板180に沿っ
て移動する。
止しているときには、ブラシローラ182の毛先部がガ
イド板180に当らない構造とすることで、毛先部に癖
が付かない。このため、安定した擦り機能を発揮するこ
とができる。また、ガイド板180を開口することで、
現像液中のカスがガイド板180上に溜まることがな
く、PS版の版面汚れを防止することができる。
182の毛先部が当たるガイド板180の部位を切欠
き、エッジ部を下方へ折り曲げて開口部180Cとし、
この開口部180Cの間に串ローラ184を配置するよ
うにしてもよい。この串ローラ184で、PS版12の
先端部を円滑にガイドすることができる。
く、ブラシローラ182の毛先部が当らないように、湾
曲部180Bを凹設してもよい。この構成では、ガイド
板180を打ち出すだけで良いので加工が容易である。 (串ローラの支持構造)上述したように、現像槽14に
は、ブラシローラのバックアップ用として串ローラが配
設されることがある。この串ローラは、自走する必要が
ないので、側板に穿設された軸孔へステイの両端が差し
込まれた状態で支持されている。
る場合、串ローラの差し込み作業が面倒である。
部186が凹設された受け板184を、現像槽14と一
体成形して、串ローラ188のステイ188Aを上方か
ら落とし込むようにして支持することが考えられる。こ
の構成により、従来のように、ステイを軸孔に差し込む
必要がないので、串ローラの着脱が容易となる。
の成形材料を削減するため、現像槽14の内壁にU字状
の受け部190を一体成形して、串ローラ188のステ
イ188Aを上方から落とし込むようにしてもよい。 (串ローラの製造方法)従来の串ローラは、PVC(ポ
リ塩化ビニル)樹脂で成形された円筒管を、ゴムローラ
の中心部を貫通した円孔へ圧入し、この円筒管にステイ
を挿通して、製造されていた。そして、円筒管がスペー
サとして機能し、ゴムローラの間隔を一定に保つように
なっていた。
する作業は容易でなく、結構な手間を要している。
ーラ192と円筒状のスペーサ194を一体に二重成形
することで、組付け工数を削減することができる。な
お、ローラ192は、ゴム又はエラストマー(具体的に
は、商品名でサントプレーン)で、スペーサ194はP
P(ポリプロピレン)樹脂で成形されている。
スペーサ194へステイ196を挿通させるだけで、串
ローラが完成する。 (絞りローラの構造)図1及び図24に示すように、現
像処理が終了したPS版12は、絞りローラ40によっ
て現像液を絞り取られながら現像槽14から引き出さ
れ、水洗部24へ送られる。
ローラ45が均一の硬さのローラであると、挟持搬送さ
れるPS版12の端部に隣接する位置に隙間43が生じ
て現像液が充分絞り取られずに絞りローラ45に残り、
絞りローラ45を通過したPS版12の端部に付着して
しまい、絞り不良を生じることがある。
の両端部が接触する絞りローラ40の両端部40Bを軟
質のゴムで形成し、中央部40Cを硬質のゴムで形成し
た。これにより、図26(B)に示すように、絞りロー
ラ40の中央部40Cの硬質のゴム部分により、PS版
12を確実に挟持搬送する能力を維持しながら、PS版
12の幅方向端部の軟質のゴム部40BがPS版12の
端部形状になじんで隙間を生ずることがないので、PS
版12に付着している現像液を絞りローラ40によって
確実に絞り取ることができ、PS版12の両端部に現像
液が残ってしまうことがない。
それぞれの一対の絞りローラ54、56及びフィニシャ
ー部26に配置される一対の絞りローラ60等の他の絞
りローラに適用できることは無論である。 (軸受け脱落防止構造)通常、ローラの回転軸から軸受
けが脱落しないように、Eリングが回転軸に取付けられ
るようになっている。しかし、回転軸に取付溝を加工す
る必要があり、また、Eリングを装着する治具も必要と
なる。
Eリングに替えて弾性を有するOリング204を回転軸
206に装着して、軸受け208から段付部206Bを
有する回転軸206が抜け落ちないようにしている。こ
のOリング204は、治具を必要とせず、軸端から弾性
に抗して指で押し込むだけでよいので、加工と組付け工
数を削減できる。
に環状溝206Aを形成して、弾性を有するOリング2
04を装着するようにしてもよい。さらに、ローラ部側
に弾性を有するOリング210を装着してもよい。いず
れのOリングも液切り効果とともにローラ200の位置
決め効果がある。つまり、PS版12に供給された処理
液がローラ200によって絞り取られるときに、この絞
り取られた処理液が回転軸206を伝わって軸受け20
8の中に入り込んで磨耗が生ずるのをOリング210で
防ぐことができる。また、環状溝206Aに装着された
Oリング204とOリング210とによって軸受け20
8に対するローラ200の位置決めをすることができ
る。
のOリングを装着する部分ごとに異なる色のOリングを
使うことにより、Oリングをはめ込んだローラをどの処
理部に使うのかを素早く判断することができ、ローラを
間違えることなく決められた処理部へ装着することがで
きる。 (シャッター開閉構造)図1に示すように、乾燥部16
とフィニッシャー部26をつなぐ通路口66は、シャッ
ター64で開閉されるようになっている。これは、PS
版12が通過するときだけシャッター64を開くこと
で、現像部18、水洗部24、フィニッシャー部26の
処理部内部と外部との空気の流れを遮断して炭酸ガスに
よる現像液の劣化、現像液、水洗水、ガム液中の水分の
蒸発を防止する共に、乾燥部16の温かい空気が通路口
66を通じてフィニッシャー部26へ流れ込んで、絞り
ローラ60にフィニッシャー液の成分が析出するのを防
止するためである。
の周縁はパッキン212が貼着され、長板状のシャッタ
ー64で通路口66を閉じることにより、空気の流通を
遮断するように工夫されている。シャッター64の基部
64Aからは、長手方向にシャフト214が突設されて
いる。
を介して、乾燥部16の側板に支持されている。また、
一方のシャフト214には、伝達ギア218が固定され
ている。この伝達ギア218は、モータMの回転軸に取
付けられた駆動ギア220と噛み合っている。
することにより、シャッター64をシャフト214回り
にスイングさせ、通路口66を開閉させることができ
る。
えて、ソレノイド222を用いてシャッター64をスイ
ングさせてもよい。すなわち、シャフト214にアーム
224の中央部を固定し、アーム224の一端部を、ソ
レノド222のプランジャー222Aに連結されたスプ
リング228で下方に付勢し、また、アーム224の他
端部を、ブラケット230に連結されたスプリング22
6で下方に付勢して平衡状態を保つ構成とする。
出すと、アーム224が時計回りに回転して、シャッタ
ー64をスイングさせ、通路口66を開放する。
を利用したシャッターの開閉構造が示されている。
させて、通路口66を開閉するため、シャッター232
の上部両端をスプリング234で吊下している。また、
シャッター232の下方の両角部には、昇降ピン236
が突設されている。
38の端部に形成された長孔240へスライド可能に挿
通されている。また、昇降ピン236の頭部には、皿板
242が取付けられており、昇降ピン236が長孔24
0から抜け落ちないようになっている。
は、連結ピン244で回動可能に連結されている。この
連結ピン244は、通路口66の下方に配置されたソレ
ノド246のプランジャー246Aに連結されている。
略中央部には、長孔237が形成されている。長孔23
7には、ブラケット239の立面から突設された軸ピン
241が挿通され、この軸ピン241を支点として、リ
ンク材238が回転するようになっている。なお、軸ピ
ン241の頭部には、皿板243が取付けられており、
軸ピン241が長孔237から抜け落ちないようになっ
ている。
ンジャー246Aを上方に押し上げ連結ピン244を上
げると、二本のリンク材238が軸ピン241を支点と
し回転してへノ字状となり、長孔240の孔壁が昇降ピ
ン236を押し下げ、スプリング234の付勢力に抗し
て、シャッター232を下降させる。これによって、通
路口66が開放され、PS版12が通過可能となる。
246Aを引き込んで連結ピン244を下げると、二本
のリンク材238が軸ピン241を支点とし回転しV字
状となり、長孔240の孔壁が昇降ピン236を押し上
げ、スプリング234の付勢力を利用してシャッター2
32を上昇させる。これによって、通路口66が閉止さ
れ、処理部の空気が乾燥部へ流出することがなく、乾燥
部の乾燥風がフィニッシャー部に入らない。 (ローラの軸受け構造)図1に示す乾燥部16に配設さ
れる搬送ローラ70には、図33に示すような花形のロ
ーラを使用し、PS版12への接触面積をできるだけ少
なくして、乾燥能力向上とPS版12へのローラの付着
を防止している。また従来は、上下の搬送ローラ70の
間に所定の隙間を形成するため、それぞれの軸受け間に
スペーサーを入れていたが、本例では、部品点数を削減
するため、スペーサーがない構造としている。
溝250、252を形成し、この取付溝250、252
に、ステイ254の端部を軸支する軸受け256、25
8を嵌合させる構成である。
り大きく、取付溝250に嵌合する大きさとされ、ま
た、軸受け258の幅寸法は、取付溝250を通り抜
け、取付溝252に嵌合する大きさとされている。
け256が段部250Aに載り、軸受け258が溝底2
52Aに載って、上下の搬送ローラ70の間に所定の隙
間を形成する。
取付溝の形状と軸受けの大きさを変えることにより調整
することができるが、図35に示すように、長方形の軸
受け260を用いて、一方を縦に他方を横にし、それに
対応する取付溝262、264を側板248に形成すれ
ば、一種類の軸受けで搬送ローラ70の間に所定の隙間
を形成することができる。これによって、部品点数がさ
らに削減でき、また、組立工数も削減できる。
密閉度が高まり、空気の流れを遮断することができるの
で、炭酸ガスによる処理液の劣化を少なくすることがで
きる。また、処理液の水分の蒸発が抑えられるので、処
理液の補充量を減らすことができる。さらに、遮蔽蓋と
搬送される感光材料との接触を避けることができる。
である。
蔽蓋、及びカバーを示す分解斜視図である。
断面図である。
断面図である。
の軸受け部を示す断面図である。
の軸受け部を示す断面図である。
いられたカップリング構造を示す斜視図である。
いられた他のカップリング構造を示す斜視図である。
いられた他のカップリング構造を示す要部断面図であ
る。
用いられた別のカップリング構造を示す斜視図である。
用いられた他のカップリング構造を示す斜視図である。
液切り構造を示す側面図である。
リブを示す斜視図である。
リブとPS版との関係を示す断面図である。
ーラのバックアップ構造を示す斜視図である。
ーラのバックアップ構造を示す側面図である。
ーラのバックアップ構造を示す側面図である。
ーラのバックアップ構造を示す側面図である。
ーラの他のバックアップ構造を示す側面図である。
ーラの別のバックアップ構造を示す側面図である。
の支持構造を示す斜視図である。
の他の支持構造を示す斜視図である。
の構造を示す分解斜視図である。
ラの構造を示す斜視図である。
ラを示す正面図である。
正面図、(B)は本形態に係る絞りローラの絞り状態を
示す正面図である。
落防止構造を示す要部正面図である。
け脱落防止構造を示す要部正面図である。
ー開閉機構を示す分解斜視図である。
ッター開閉機構を示す分解斜視図である。
ッター開閉機構を示す正面図である。
ッター開閉機構を示す正面図である。
ラの軸受け構造を示す分解斜視図である。
ラの軸受け構造を示す断面図であである。
ラの他の軸受け構造を示す分解斜視図である。
Claims (5)
- 【請求項1】 感光材料を処理する処理液が貯留された
処理槽と、前記処理槽に配設され前記感光材料を搬送す
る搬送手段と、前記処理槽に配設される遮蔽蓋と、前記
処理槽を覆い前記遮蔽蓋の上部に接触するカバーと、を
有することを特徴とする感光材料処理装置の処理部密閉
構造。 - 【請求項2】 前記カバーの裏面に前記遮蔽蓋の上部と
係合する係合部が形成されたことを特徴とする請求項1
に記載の感光材料処理装置の処理部密閉構造。 - 【請求項3】 前記処理槽と一体に形成された側板で、
前記搬送手段を前記感光材料を搬送する搬送系とこの搬
送系を駆動させる駆動系とに仕切り、前記駆動系の上部
を前記側板に続く蓋部で覆い前記駆動系を密閉したこと
を特徴とする請求項1又は請求項2に記載の感光材料処
理装置の処理部密閉構造。 - 【請求項4】 前記遮蔽蓋の前記感光材料の搬送方向上
流側の底壁角部に前記感光材料の搬送方向と交わる方向
に前記感光材料搬送用のローラを設けたことを特徴とす
る請求項1〜請求項3の何れかに記載の感光材料処理装
置の処理部密閉構造。 - 【請求項5】 前記遮蔽蓋を中空の箱体としたことを特
徴とする請求項1〜請求項4の何れかに記載の感光材料
処理装置の処理部密閉構造。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10083263A JPH11282142A (ja) | 1998-03-30 | 1998-03-30 | 感光材料処理装置の処理部密閉構造 |
US09/274,352 US6149320A (en) | 1998-03-30 | 1999-03-23 | Photosensitive material processing apparatus and sealing structure for processing section of the apparatus |
DE69910645T DE69910645T2 (de) | 1998-03-30 | 1999-03-29 | Entwicklungsgerät für fotoempfindliches Material und eine Abdichtung für den Entwicklungsabschnitt des Geräts |
EP99106425A EP0947885B1 (en) | 1998-03-30 | 1999-03-29 | Photosensitive material processing apparatus and sealing structure for processing section of the apparatus |
DK99106425T DK0947885T3 (da) | 1998-03-30 | 1999-03-29 | Fotofølsomt materialebehandlingsapparatur og tætningsstruktur til behandlingsdelen af apparaturet |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10083263A JPH11282142A (ja) | 1998-03-30 | 1998-03-30 | 感光材料処理装置の処理部密閉構造 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11282142A true JPH11282142A (ja) | 1999-10-15 |
Family
ID=13797476
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10083263A Pending JPH11282142A (ja) | 1998-03-30 | 1998-03-30 | 感光材料処理装置の処理部密閉構造 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6149320A (ja) |
EP (1) | EP0947885B1 (ja) |
JP (1) | JPH11282142A (ja) |
DE (1) | DE69910645T2 (ja) |
DK (1) | DK0947885T3 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3791735B2 (ja) * | 1998-12-22 | 2006-06-28 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷用版材の現像方法 |
JP4154094B2 (ja) * | 1999-09-13 | 2008-09-24 | 富士フイルム株式会社 | 自動現像装置 |
DK1099981T3 (da) * | 1999-11-09 | 2012-10-15 | Fujifilm Corp | Indretning til bearbejdning af fotofølsomt materiale |
DK1280531T3 (da) * | 2000-05-12 | 2007-05-29 | Novalar Pharmaceuticals Inc | Formulering bestående af phentolaminmesylat og anvendelse heraf |
US7963708B1 (en) * | 2009-12-08 | 2011-06-21 | Eastman Kodak Company | Minimize carbonization of developer liquid |
CN204887205U (zh) * | 2015-07-28 | 2015-12-16 | 惠州市东阳塑胶模型有限公司 | 跟焦装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4179208A (en) * | 1977-04-08 | 1979-12-18 | Martino Peter V | Horizontal one step automatic plate processor |
DE8028682U1 (de) * | 1980-10-28 | 1981-02-12 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Entwicklungsgeraet |
DE4307923B4 (de) * | 1992-03-13 | 2008-07-31 | Fujifilm Corp. | Plattenmaterial-Bearbeitungsvorrichtung |
JP3032660B2 (ja) * | 1993-04-07 | 2000-04-17 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版処理装置 |
EP0896251A1 (en) * | 1997-07-28 | 1999-02-10 | Agfa-Gevaert N.V. | Method of making a lithographic printing plate |
-
1998
- 1998-03-30 JP JP10083263A patent/JPH11282142A/ja active Pending
-
1999
- 1999-03-23 US US09/274,352 patent/US6149320A/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-03-29 EP EP99106425A patent/EP0947885B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-03-29 DE DE69910645T patent/DE69910645T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-03-29 DK DK99106425T patent/DK0947885T3/da active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0947885B1 (en) | 2003-08-27 |
EP0947885A1 (en) | 1999-10-06 |
DK0947885T3 (da) | 2003-12-01 |
DE69910645T2 (de) | 2004-06-17 |
US6149320A (en) | 2000-11-21 |
DE69910645D1 (de) | 2003-10-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH11282142A (ja) | 感光材料処理装置の処理部密閉構造 | |
JPH11282145A (ja) | 感光材料処理装置のスプレーパイプ取付構造 | |
JPH11282173A (ja) | 感光材料処理装置の補充ノズル取付構造 | |
JPH11282174A (ja) | 感光材料処理装置のスプレーパイプ取付構造 | |
JPH11236919A (ja) | 感光材料処理装置用ローラの軸受構造 | |
JP2696762B2 (ja) | 感光材料処理装置 | |
JP2611010B2 (ja) | クリ−ニング装置及びプロセスカ−トリッジ | |
JP2722426B2 (ja) | 感光材料処理装置 | |
JP2722427B2 (ja) | ブレード組立体および感光材料処理装置 | |
JP3032660B2 (ja) | 感光性平版印刷版処理装置 | |
JP3133563B2 (ja) | 感光材料処理装置 | |
JP3286394B2 (ja) | 感光性平版印刷版処理装置 | |
JP3035421B2 (ja) | ローラ対の取り付け構造 | |
JPH08220723A (ja) | 感光材料処理装置 | |
JP3657140B2 (ja) | 感光材料処理装置 | |
JP2648986B2 (ja) | 感光材料処理装置 | |
JP3273654B2 (ja) | 感光性平版印刷版の処理装置 | |
JPH0725797Y2 (ja) | 感光材料処理機 | |
JP3902334B2 (ja) | 処理液流出構造 | |
JPH0862981A (ja) | トナー容器及び現像装置 | |
JPH03100650A (ja) | 処理槽ユニット | |
JPH05265225A (ja) | 感光性平版印刷版の自動現像機 | |
JP2005031199A (ja) | 感光材料現像処理装置 | |
JP2000003022A (ja) | 写真処理装置 | |
JP2003241353A (ja) | 感光材料現像処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040330 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040330 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051028 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051108 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060228 |