JPH11271655A - レーザー走査光学装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 回折光学素子を一種類の形状で形成すると共
に、光量ロスすることなく、スポット径を小さくし、か
つ焦点深度を増大させて高画質な画像を得ることができ
るレーザー走査光学装置を得ること。 【解決手段】 画像信号に応じて光源手段から光変調さ
れ出射した光束をコリメーターレンズにより略平行光束
として偏向手段に導光し、偏向手段により偏向された光
束を結像手段を介して被走査面上に導光し、被走査面上
を走査する際、光源手段と該偏向手段との間の光路中に
ビーム整形手段を設け、ビーム整形手段はそこから射出
する光束の光強度分布が光軸近傍に比べて周辺部で強く
なる輪帯状の光束に整形する第１、第２の回折光学素子
を有し、第１、第２の回折光学素子間で偏向される光束
を一度光軸と交わるように構成することによって、第
１、第２の回折光学素子を同一形状より形成したこと。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はレーザー走査光学装
置に関し、特に回折光学素子より成るビーム整形手段に
より光源手段から出射された光束を効果的にビーム整形
することにより、スポット径を小さくすると共に焦点深
度を増加させることができる、例えば電子写真プロセス
を有するレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）やデジタル
複写機等の装置に好適なレーザー走査光学装置に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】従来よりレーザービームプリンタやデジ
タル複写機等に用いられる走査光学装置においては画像
信号に応じて光源手段から光変調され出射した光束（レ
ーザー光束）を、例えばポリゴンミラーから成る光偏向
器により周期的に偏向させ、ｆ−θ特性を有する結像光
学系により感光性の記録媒体（感光ドラム）面上にスポ
ット状に集束させ、その面上を光走査して画像記録を行
なっている。

【０００３】図１０はこの種の走査光学装置の要部概略
図である。

【０００４】同図においてレーザーユニット１１１から
出射した光束は該レーザーユニット１１１の内部に設け
たコリメーターレンズにより略平行光束に変換され、シ
リンドリカルレンズ１１２に入射している。シリンドリ
カルレンズ１１２に入射した平行光束のうち主走査断面
においてはそのまま平行光束の状態で射出する。又副走
査断面においては収束して光偏向器１１３の偏向面（反
射面）１１３ａにほぼ線像として結像している。そして
偏向面１１３ａで偏向した光束は球面レンズ１１４とト
ーリックレンズ１１５とを有する結像光学系（ｆθレン
ズ系）１２０を介して感光ドラム面１１６上に集光し、
該光偏向器１１３を図中矢印Ａ方向に回転させることに
より、該感光ドラム面１１６上を図中矢印Ｂ方向（主走
査方向）に光走査している。これにより記録媒体である
感光ドラム面１１６上に画像記録を行なっている。

【０００５】図１１は図１０に示したレーザユニット１
１１の拡大説明図である。

【０００６】同図において１０１は光源としての半導体
レーザ、１０２は基台、１０３はホルダー、１０４はレ
ンズ鏡筒、１０５はコリメータレンズ、１０６は開口絞
りである。

【０００７】同図において画像情報を含んだ駆動信号に
制御された半導体レーザ１０１から出射された光束はコ
リメータレンズ１０５により平行光束に変換され、開口
絞り１０６によって光束断面の大きさが決められレーザ
ユニット１１１から射出される。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】近年、レーザービーム
プリンタやデジタル複写機等は高解像度化及び高画質化
が求められてきており、特に高分解能、ハーフトーン
（中間階調）における豊かな階調再現に応える為に、被
走査面である感光ドラム面上でのスポット径を、より小
さくすることが求められている。

【０００９】しかしながら単純にＮ．Ａ（開口数）を広
げることでスポット径を小さくすると焦点深度が減少
し、製造公差が厳しくなるという問題点がある。

【００１０】この問題点を解決する為に、例えば特開平
５−３０７１５１号公報で見られるように、第１種０次
のベッセルビームを発生させてスポット径を小さくする
と共に焦点深度を増加させる方法が提案されている。

【００１１】しかしながらベッセルビームを発生させる
為に、例えば円錐プリズムや位相・振幅フィルタ等を使
用しなければならず、その為装置全体が複雑化になり易
い傾向にあった。

【００１２】そこで低コストでスポット径を小さくする
と共にビームの副極大の影響を最小限に抑え、焦点深度
を増加させる手段として、例えば図９に示すようにコリ
メーターレンズ１０５で略平行光束に変換された該平行
光束の光軸近傍の光束を遮光手段１０８により遮光し、
輪帯状（リング状）にビーム形状を整形する走査光学装
置が提案されている。

【００１３】しかしながら上記の走査光学装置を、例え
ば高精細化を必要とするレーザープリンタ（特にカラー
レーザープリンタ）に適用した場合はレーザー光束の中
央部の光束を遮光することによる光量ロスが許容できな
くなってくるという問題点が生じてくる。

【００１４】本発明の第１の目的は光源手段と偏向手段
との間の光路中に第１、第２の回折光学素子を有するビ
ーム整形手段を設け、該第１、第２の回折光学素子間で
偏向される光束を一度光軸と交わるように構成し、該光
源手段から出射する光束を効果的にビーム整形すること
により、光量ロスすることなく、スポット径を小さく
し、かつ焦点深度を増大させて高画質な画像を得ること
ができ、更には該第１、第２の回折光学素子を同一形状
のものを使用することができるレーザー走査光学装置の
提供にある。

【００１５】本発明の第２の目的は上記の構成において
第１、第２の回折光学素子間に絞り部材を設けることに
より、フレア光の抑制された良好なるスポットを被走査
面上で得ることができるレーザー走査光学装置の提供に
ある。

【００１６】

【課題を解決するための手段】本発明のレーザー走査光
学装置は、 (1) 画像信号に応じて光源手段から光変調され出射した
光束をコリメーターレンズにより略平行光束として偏向
手段に導光し、該偏向手段により偏向された光束を結像
手段を介して被走査面上に導光し、該被走査面上を走査
するレーザー走査光学装置において、該光源手段と該偏
向手段との間の光路中にビーム整形手段を設け、該ビー
ム整形手段はそこから射出する光束の光強度分布が光軸
近傍に比べて周辺部で強くなる輪帯状の光束に整形する
第１、第２の回折光学素子を有し、該第１、第２の回折
光学素子間で偏向される光束を一度光軸と交わるように
構成することによって、該第１、第２の回折光学素子を
同一形状より形成したことを特徴としている。

【００１７】特に(1-1) 前記第１の回折光学素子は前記
コリメーターレンズからの入射平行光束を光軸の回りに
所定の角度に偏向させ、前記第２の回折光学素子は該第
１の回折光学素子で偏向された光束を再度光軸回りの平
行光束に偏向させることや、(1-2) 前記第１の回折光学
素子は前記コリメーターレンズからの入射平行光束を偏
向させる角度を主走査方向と副走査方向とで互いに異な
らせ、前記第２の回折光学素子は該第１の回折光学素子
で偏向された光束を輪帯状の平行光束に偏向させること
や、(1-3) 前記第１、第２の回折光学素子は、同一種類
の材料からなる基板より製造されていることや、(1-4)
前記第１、第２の回折光学素子は、同一基板の両面に各
々製造されていること、等を特徴としている。

【００１８】(2) 画像信号に応じて光源手段から光変調
され出射した光束をコリメーターレンズにより略平行光
束として偏向手段に導光し、該偏向手段により偏向され
た光束を結像手段を介して被走査面上に導光し、該被走
査面上を走査するレーザー走査光学装置において、該光
源手段と該偏向手段との間の光路中にビーム整形手段を
設け、該ビーム整形手段はそこから射出する光束の光強
度分布が光軸近傍に比べて周辺部で強くなる輪帯状の光
束に整形する第１、第２の回折光学素子を有し、該第
１、第２の回折光学素子間で偏向される光束を一度光軸
と交わるように構成することによって、該第１、第２の
回折光学素子を同一形状より形成し、該第１、第２の回
折光学素子間に絞り部材を設けたことを特徴としてい
る。

【００１９】特に(2-1) 前記第１の回折光学素子は前記
コリメーターレンズからの入射平行光束を光軸の回りに
所定の角度に偏向させ、前記第２の回折光学素子は該第
１の回折光学素子で偏向された光束を再度光軸回りの平
行光束に偏向させることや、(2-2) 前記第１の回折光学
素子は前記コリメーターレンズからの入射平行光束を偏
向させる角度を主走査方向と副走査方向とで互いに異な
らせ、前記第２の回折光学素子は該第１の回折光学素子
で偏向された光束を輪帯状の平行光束に偏向させること
や、(2-3) 前記第１、第２の回折光学素子は、同一種類
の材料からなる基板より製造されていることや、(2-4)
前記絞り部材は前記第１の回折光学素子からの射出光束
の外輪の光束を制限することや、(2-5) 前記絞り部材は
前記第１の回折光学素子からの射出光束の内輪の光束を
制限することや、(2-6) 前記絞り部材は前記第１の回折
光学素子からの射出光束の外輪及び内輪の光束を制限す
ること、等を特徴としている。

【００２０】

【発明の実施の形態】図１は本発明の実施形態１のレー
ザー走査光学装置の光学系の要部概略図である。図２は
図１に示した光源手段からビーム整形手段までの主要部
分の要部概略図である。図３（Ａ），（Ｂ）は各々順に
図２に示した第１、第２の回折光学素子の形状を示す拡
大説明図である。

【００２１】図中、１は光源手段であり、例えば半導体
レーザより成っている。２はコリメーターレンズであ
り、光源手段１から出射した光束（レーザー光束）を略
平行光束に変換している。３は絞り部材（開口絞り）で
あり、光束の断面の大きさを整形している。

【００２２】４はビーム整形手段であり、該ビーム整形
手段４から射出する光束の光強度分布が光軸近傍に比べ
て周辺部で強くなる輪帯状（リング状）の光束に整形す
る第１、第２の回折光学素子９，１０を有し、該第１、
第２の回折光学素子９，１０間で偏向される光束を一度
光軸と交わるように構成することによって、該第１、第
２の回折光学素子９，１０を同一形状（一種類の形状）
より形成している。本実施形態における第１の回折光学
素子９はコリメーターレンズ２からの入射平行光束を光
軸の回りに所定の角度に偏向させ、第２の回折光学素子
１０は該第１の回折光学素子９で偏向された光束を再度
光軸回りの平行光束に偏向させている。また第１の回折
光学素子９と第２の回折光学素子１０の基板の材質（材
料）を同一にして製造している。

【００２３】１１，１２は各々順に第１、第２の回折光
学素子９，１０の第１、第２の回折格子である。

【００２４】５はシリンドリカルレンズであり、副走査
方向にのみ所定の屈折力を有している。６は光偏向器で
あり、例えばポリゴンミラーより成っており、モータ等
の駆動手段（不図示）により矢印Ａ方向に一定速度で回
転している。７は結像手段としてのｆθ特性を有する結
像光学系（ｆθレンズ系）であり、単一のトーリックレ
ンズより成っており、光偏向器６で偏向された光束を被
走査面としての感光ドラム面８上に結像させている。

【００２５】本実施形態において画像信号に応じて光源
手段１から光変調され出射した光束はコリメーターレン
ズ２で略平行光束に変換され、絞り部材３によってその
光束断面の大きさがビーム整形されてビーム整形手段４
に入射する。そしてビーム整形手段４により該ビーム整
形手段４から射出される光束の光強度分布が光軸近傍に
比べて周辺部で強くなる輪帯状（リング状）の光束にビ
ーム整形され、シリンドリカルレンズ５に入射する。シ
リンドリカルレンズ５に入射した略平行光束のうち主走
査断面においてはそのまま略平行光束の状態で射出す
る。また副走査断面においては収束して光偏向器６の偏
向面（反射面）６ａにほぼ線像として結像する。そして
光偏向器６で偏向反射した光束は結像光学系７を介して
感光ドラム面８上に集光し、該光偏向器６を図中矢印Ａ
方向に回転させることにより、該感光ドラム面８上を図
中矢印Ｂ方向（主走査方向）に等速走査している。これ
により記録媒体である感光ドラム面８上に画像記録を行
なっている。

【００２６】次にビーム整形手段で光源手段から出射し
た光束を輪帯状の光束にビーム整形する手段について図
２を用いて説明する。

【００２７】図２においては上述の如く半導体レーザ１
から出射した光束がコリメーターレンズ２により略平行
光束に変換され、絞り部材３によりその光束断面の大き
さ（光束の外径）が規制される。この絞り部材３は光束
の放射角のばらつきによるスポット径のばらつきを抑
え、安定したスポット径を得るようにしたものである。
その後、ビーム整形手段４を構成する第１の回折光学素
子９に入射し、該第１の回折光学素子９により入射平行
光束は所定の角度で光軸へ向かって偏向される。そして
光軸と交わった後、放射状に拡がった光束は第２の回折
光学素子１０に入射し、再度光軸に平行な平行光束に変
換される。この際、第１の回折光学素子９と第２の回折
光学素子１０との間隔を所望の距離だけ離せばビーム整
形手段４から射出される光束の光強度分布が光軸近傍に
比べて周辺部で強くなる輪帯状（リング状）の光束とな
る。尚、周辺部に比べて光強度分布が弱くなる光軸近傍
の光束を以下「暗部の光束」と称す。従ってビーム整形
手段４の入射側の入射光束において光軸近傍の光束は射
出側で周辺の光束に、周辺光束は射出側で光軸側の暗部
の光束となる。

【００２８】ここで第１の回折光学素子９の第１の回折
格子（格子面）１１と第２の回折光学素子１０の第２の
回折格子（格子面）１２との距離及び各格子ピッチを任
意に選択することによりリング形状を任意に整形するこ
とができる。

【００２９】本実施形態における第１の回折光学素子９
と第２の回折光学素子１０は共に入射光束を所望の角度
に曲げるだけの機能を有し、集光又は発散等の光学的作
用は持っていない。従って図３（Ａ），（Ｂ）に示すよ
うに第１、第２の回折光学素子９，１０共に各回折格子
１１，１２の格子ピッチは等ピッチな光軸を中心とする
同心円となる。尚、図３（Ａ），（Ｂ）において第１、
第２の回折光学素子９，１０の格子形状は各々階段状の
格子になっているが、これは特に限定されたものでな
く、例えば鋸歯状の回折格子でも本発明は十分に適用す
ることができる。

【００３０】更に本実施形態では第１の回折格子１１の
偏向角と、第２の回折格子１２の偏向角が同じなので同
図に示すように格子領域を広くとることによって第１と
第２の回折光学格子９，１０を同材質で全く同一格子形
状（一種類の形状）のものを使用することができる。

【００３１】次に具体的な例を挙げて説明する。図２に
おいて輪帯状にビーム整形された後の光束のビーム形状
が、例えば外形ｂがφ６ｍｍ、暗部ａがφ２ｍｍの同心
円となる場合について考えてみる。ここでビーム整形手
段４を構成する第１、第２の回折光学素子９，１０の間
隔をｔとする。ｂ＝６ｍｍ，ａ＝２ｍｍであるので、ｂ
−ａ＝４ｍｍとなり、ビーム整形手段４へ入射する光束
はφ４ｍｍのビームにする必要がある。その為、絞り部
材３としてφ４ｍｍの円形開口を設けることになる。

【００３２】次に間隔ｔを１０．０ｍｍとした場合、回
折格子の回折角θとしては

【００３３】

【数１】 となる。レーザ波長をλ＝６７５ｎｍとすると、格子ピ
ッチＰはＰｓｉｎθ＝ｍλ（ｍは整数、本実施形態では
ｍ＝１）より Ｐ＝ｍλ／ｓｉｎθ＝１．０６７５／ｓｉｎ（５．７
１）＝６．７８μｍ となる。又格子厚ｄは（ｎ−１）ｄ＝Ｌλよりｎ＝１．
５１６３３、Ｌ＝１とすると、 ｄ＝１．３１３μｍ となる。

【００３４】このように本実施形態では上述の如く半導
体レーザ１と光偏向器６との間の光路中に第１、第２の
回折光学素子９，１０を有するビーム整形手段４を設
け、該第１、第２の回折光学素子９，１０間で偏向され
る光束を一度光軸と交わるように構成し、該半導体レー
ザ１から出射した光束を効果的にビーム整形することに
より、光量ロスすることなく、スポット径を小さくし、
かつ焦点深度を増大させて高画質な画像を得ることがで
き、更には該第１、第２の回折光学素子９，１０を同材
質で同一形状のものを使用することができる。

【００３５】［第２の実施形態］図４は本発明の実施形
態２のビーム整形手段の形状を示す要部断面図である。
同図において前記図２に示した要素と同一要素には同符
番を付している。

【００３６】本実施形態において前述の実施形態１と異
なる点はビーム整形手段を構成する第１、第２の回折光
学素子の回折格子を同一基板の両面に各々設けて一体化
にして構成したことである。その他の構成及び光学的作
用は前述の実施形態１と略同様であり、これにより同様
な効果を得ている。

【００３７】即ち、同図において４４はビーム整形手段
であり、同一基板の両面に第１、第２の回折光学素子の
第１、第２の回折格子４１，４２を各々設けている。こ
のようにビーム整形手段４４を構成することにより、本
実施形態においては第１、第２の回折格子４１，４２の
光軸を高精度に合わせることができ、又部品点数が減る
ので保持部材等のメカ部品も減少し、これにより装置全
体のコンパクト化及び低コスト化を図っている。

【００３８】［第３の実施形態］図５、図６、図７は各
々本発明の実施形態３の光源手段からビーム整形手段ま
での主要部分の要部概略図である。同図において前記図
２に示した要素と同一要素には同符番を付している。

【００３９】本実施形態において前述の実施形態１と異
なる点はビーム整形手段を構成する第１、第２の回折光
学素子間に絞り部材（開口絞り）を設けたことである。
その他の構成及び光学的作用は前述の実施形態１と略同
様であり、これにより同様な効果を得ている。

【００４０】即ち、図５、図６、図７において２３は絞
り部材（開口絞り）であり、第１の回折光学素子９から
の射出光束の外輪又は／及び内輪の光束を制限してお
り、設計回折次数以外の回折光がフレア光として画像に
影響するのを防止している。

【００４１】本実施形態において図５では絞り部材２３
により外輪の光束を制限しており、図６では内輪の光束
を制限しており、図７では外輪と内輪との光束を同時に
制限している。これらはメカニカルな開口絞りで実現す
ることができる。

【００４２】本実施形態ではこのように上述の如く補助
的な絞り部材２３を第１、第２の回折光学素子９，１０
間に設けることにより、フレア光が抑制された良好なる
スポットを被走査面上で得ている。

【００４３】尚、本実施形態においてはコリメーターレ
ンズ２とビーム整形手段５４との間の光路中に前述の実
施形態１と同様に絞り部材３を設けているが、上記の補
助的な絞り部材２３で十分光束を制限できるなら設けな
くても本発明は前述の実施形態と同様に適用することが
できる。

【００４４】［第４の実施形態］図８は本発明の実施形
態４の光源手段からビーム整形手段までの主要部分の要
部概略図である。同図において前記図２に示した要素と
同一要素には同符番を付している。

【００４５】本実施形態において前述の実施形態１と異
なる点はビーム整形手段から射出される輪帯状の光束の
形状（輪帯形状）又は／及び周辺部に比べて光強度分布
が弱い光軸近傍（暗部）の光束の形状を楕円形状とした
ことである。その他の構成及び光学的作用は前述の実施
形態１と略同様であり、これにより同様な効果を得てい
る。

【００４６】即ち、同図において８４はビーム整形手段
であり、第１の回折光学素子１９と第２の回折光学素子
２０とを有し、該第１の回折光学素子１９はコリメータ
ーレンズ２からの入射平行光束を偏向させる角度を主走
査方向と副走査方向とで互いに異ならせており、該第２
の回折光学素子２０は該第１の回折光学素子１９で偏向
された光束を輪帯状の平行光束としている。このように
ビーム整形手段８４を構成することにより、本実施形態
では輪帯状の光束の形状又は／及び周辺部に比べて光強
度分布が弱い光軸近傍（暗部）の光束の形状を円形状以
外に整形している。

【００４７】即ち、前述の各実施形態において光束の形
状は全て回転対称で、かつ円形状の輪帯部と暗部とで構
成されていたが、これに限定される必要はなく、例えば
同図に示すように入力側の光束の形状を円形状とし、出
力側の光束の形状を楕円の輪帯状の開口にしても良い。

【００４８】本実施形態では通常の光学系とは異なり、
第１、第２の回折光学素子１９，２０の格子ピッチを任
意に変えることにより、光束の形状を円形から楕円に変
換している。このように光束の形状を楕円の輪帯状に整
形することによっても本発明は前述の各実施形態と略同
様な効果を得ることができる。

【００４９】当然ながら、図８に示した以外にも光束形
状を、例えば入射側が楕円で射出側が円形、輪帯部が円
形で暗部が楕円等の種々の組み合わせも考えられる。こ
こでは全ての組み合わせについては記述しない。これら
のパラメータはレーザ光束の放射角とその単品ばらつ
き、光学系の主走査方向及び副走査方向の結像倍率、所
望のスポット径等から最適な構成を選定することができ
る。

【００５０】

【発明の効果】第１の発明によれば前述の如く光源手段
と偏向手段との間の光路中に第１、第２の回折光学素子
を有するビーム整形手段を設け、該第１、第２の回折光
学素子間で偏向される光束を一度光軸と交わるように構
成し、該光源手段から出射する光束を効果的にビーム整
形することにより、光量ロスすることなく、スポット径
を小さくし、かつ焦点深度を増大させて高画質な画像を
得ることができ、更には該第１、第２の回折光学素子を
同一形状のものを使用することができるレーザー走査光
学装置を達成することができる。

【００５１】第２の発明によれば前述の如く上記の構成
において第１、第２の回折光学素子間に絞り部材を設け
ることにより、フレア光の抑制された良好なるスポット
を被走査面上で得ることができるレーザー走査光学装置
を達成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の実施形態１の要部概略図

【図２】 本発明の実施形態１の主要部分の要部概略図

【図３】 本発明の実施形態１の第１、第２の回折光学
素子の拡大説明図

【図４】 本発明の実施形態２の第１、第２の回折光学
素子の拡大説明図

【図５】 本発明の実施形態３の主要部分の要部概略図

【図６】 本発明の実施形態３の主要部分の要部概略図

【図７】 本発明の実施形態３の主要部分の要部概略図

【図８】 本発明の実施形態４の主要部分の要部概略図

【図９】 従来の走査光学装置の主要部分の要部概略図

【図１０】 従来の走査光学装置の光学系の要部概略図

【図１１】 図１０に示したレーザユニットの要部概略
図

【符号の説明】

１ 光源手段 ２ コリメーターレンズ ３ 絞り部材 ４，４４，５４，８４ ビーム整形手段 ５ シリンドリカルレンズ ６ 偏向手段 ７ 結像手段 ８ 被走査面 ９，１９ 第１の回折光学素子 １０，２０ 第２の回折光学素子 １１，４１ 第１の回折格子 １２，４２ 第２の回折格子 ２３ 絞り部材

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 画像信号に応じて光源手段から光変調さ
   れ出射した光束をコリメーターレンズにより略平行光束
   として偏向手段に導光し、該偏向手段により偏向された
   光束を結像手段を介して被走査面上に導光し、該被走査
   面上を走査するレーザー走査光学装置において、 該光源手段と該偏向手段との間の光路中にビーム整形手
   段を設け、該ビーム整形手段はそこから射出する光束の
   光強度分布が光軸近傍に比べて周辺部で強くなる輪帯状
   の光束に整形する第１、第２の回折光学素子を有し、 該第１、第２の回折光学素子間で偏向される光束を一度
   光軸と交わるように構成することによって、該第１、第
   ２の回折光学素子を同一形状より形成したことを特徴と
   するレーザー走査光学装置。
2. 【請求項２】 前記第１の回折光学素子は前記コリメー
   ターレンズからの入射平行光束を光軸の回りに所定の角
   度に偏向させ、前記第２の回折光学素子は該第１の回折
   光学素子で偏向された光束を再度光軸回りの平行光束に
   偏向させることを特徴とする請求項１のレーザー走査光
   学装置。
3. 【請求項３】 前記第１の回折光学素子は前記コリメー
   ターレンズからの入射平行光束を偏向させる角度を主走
   査方向と副走査方向とで互いに異ならせ、前記第２の回
   折光学素子は該第１の回折光学素子で偏向された光束を
   輪帯状の平行光束に偏向させることを特徴とする請求項
   １のレーザー走査光学装置。
4. 【請求項４】 前記第１、第２の回折光学素子は、同一
   種類の材料からなる基板より製造されていることを特徴
   とする請求項１、２又は３のレーザー走査光学装置。
5. 【請求項５】 前記第１、第２の回折光学素子は、同一
   基板の両面に各々製造されていることを特徴とする請求
   項２のレーザー走査光学装置。
6. 【請求項６】 画像信号に応じて光源手段から光変調さ
   れ出射した光束をコリメーターレンズにより略平行光束
   として偏向手段に導光し、該偏向手段により偏向された
   光束を結像手段を介して被走査面上に導光し、該被走査
   面上を走査するレーザー走査光学装置において、 該光源手段と該偏向手段との間の光路中にビーム整形手
   段を設け、該ビーム整形手段はそこから射出する光束の
   光強度分布が光軸近傍に比べて周辺部で強くなる輪帯状
   の光束に整形する第１、第２の回折光学素子を有し、 該第１、第２の回折光学素子間で偏向される光束を一度
   光軸と交わるように構成することによって、該第１、第
   ２の回折光学素子を同一形状より形成し、 該第１、第２の回折光学素子間に絞り部材を設けたこと
   を特徴とするレーザー走査光学装置。
7. 【請求項７】 前記第１の回折光学素子は前記コリメー
   ターレンズからの入射平行光束を光軸の回りに所定の角
   度に偏向させ、前記第２の回折光学素子は該第１の回折
   光学素子で偏向された光束を再度光軸回りの平行光束に
   偏向させることを特徴とする請求項６のレーザー走査光
   学装置。
8. 【請求項８】 前記第１の回折光学素子は前記コリメー
   ターレンズからの入射平行光束を偏向させる角度を主走
   査方向と副走査方向とで互いに異ならせ、前記第２の回
   折光学素子は該第１の回折光学素子で偏向された光束を
   輪帯状の平行光束に偏向させることを特徴とする請求項
   ６のレーザー走査光学装置。
9. 【請求項９】 前記第１、第２の回折光学素子は、同一
   種類の材料からなる基板より製造されていることを特徴
   とする請求項６、７又は８のレーザー走査光学装置。
10. 【請求項１０】 前記絞り部材は前記第１の回折光学素
    子からの射出光束の外輪の光束を制限することを特徴と
    する請求項６のレーザー走査光学装置。
11. 【請求項１１】 前記絞り部材は前記第１の回折光学素
    子からの射出光束の内輪の光束を制限することを特徴と
    する請求項６のレーザー走査光学装置。
12. 【請求項１２】 前記絞り部材は前記第１の回折光学素
    子からの射出光束の外輪及び内輪の光束を制限すること
    を特徴とする請求項６のレーザー走査光学装置。