JPH11257847A - 高温エキスパンダ―及び低温エキスパンダ―を使用する空気の低温蒸留方法 - Google Patents

高温エキスパンダ―及び低温エキスパンダ―を使用する空気の低温蒸留方法

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JPH11257847A JP11014224A JP1422499A JPH11257847A JP H11257847 A JPH11257847 A JP H11257847A JP 11014224 A JP11014224 A JP 11014224A JP 1422499 A JP1422499 A JP 1422499A JP H11257847 A JPH11257847 A JP H11257847A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 低温空気分離による酸素の効率的な製造方法
を提供する。 【解決手段】 より高圧で操作する少なくとも1つの蒸
留塔(196)とより低圧で操作する1つの蒸留塔(1
98)を持つ蒸留塔系での空気分離方法であって、供給
空気を冷却してより高圧の塔に供給し、酸素製品を製造
するより低圧の塔の塔底での沸騰を窒素濃度が供給空気
のそれ以上の流れ(150)の凝縮によって行わせ、及
び少なくとも2つのエキスパンダーを使用してこの蒸留
塔系に寒冷を供給し、第1のエキスパンダー(102)
を周囲温度に近い又は周囲温度を超える入り口温度で操
作し、第2のエキスパンダー(139)を周囲温度未満
の入り口温度で操作するようにする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、低温空気分離によ
って酸素を効率的に製造するいくつかの方法に関する。
特に本発明は、酸素全体の少なくとも一部を99.5%
未満、好ましくは97%未満の純度で製造するのに魅力
的な低温空気分離法に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】99.
5%未満の純度を持つ酸素の効率的な製造を教示する多
数の米国特許がある。2つの例は米国特許第4,70
4,148号及び4,936,099号明細書である。
【0003】米国特許第2,753,698号明細書
は、分離する全ての空気を二段精留装置の高圧塔で予備
精留して粗製(不純)液体酸素(粗製LOX)塔底液及
び気体窒素留出物を製造する精留方法を開示する。その
ように製造された粗製LOXを、中間圧力に膨張させて
凝縮する窒素との熱交換により完全に気化させる。気化
した粗製酸素をわずかにあたため、動力を発生させて膨
張させ、そして高圧塔で凝縮して低圧塔の塔頂に入る窒
素によって二段精留装置の低圧塔でスクラビングする。
低圧塔の塔底は高圧塔からの窒素で再沸騰させる。以
後、寒冷を与えるこの方法をCGOX膨張と呼ぶ。この
特許明細書では他の寒冷源を使用しない。従って、従来
の低圧塔への空気膨張法は、この提案されたCGOX膨
張によって置き換えられる。実際、この特許明細書で
は、追加の空気を高圧塔に供給するため(低圧塔へ気体
空気を膨張させないので)結果として改良がなされ、高
圧塔の塔頂から追加の窒素還流が製造されることになる
と言及される。追加の窒素還流量は、高圧塔に供給され
る空気中の追加の窒素の量に等しいとされる。低圧塔の
上部での液体窒素によるスクラビング効率の改良を特許
請求して、低圧塔の下部での沸騰の不足を克服する。
【0004】米国特許第4,410,343号明細書
は、低圧及び中間圧の塔を使用する低純度酸素の製造方
法であって、空気を凝縮させて低圧塔の塔底液を沸騰さ
せ、及び結果として生じる空気を中間圧及び低圧の塔の
両方に供給する方法を開示する。
【0005】米国特許第4,704,148号明細書
は、空気分離のために高圧と低圧の蒸留塔を使用して低
純度酸素及び廃棄窒素流を製造する方法を開示する。主
熱交換器のコールドエンド(cold end)からの
供給空気を使用して、低圧蒸留塔を再沸騰させて低純度
酸素製品を気化させる。塔の再沸騰及び酸素製品の気化
の熱負荷は、空気画分(air fractions )の凝縮によ
る。この特許明細書では空気原料を3つの二次流れに分
割する。それらの二次流れの1つは全て凝縮させて低圧
及び高圧の蒸留塔の両方に還流を供給するのに使用す
る。第2の二次流れは部分的に凝縮させて、部分的に凝
縮した二次流れの蒸気部分を高圧蒸留塔の塔底に供給
し、及び液体部分は低圧蒸留塔に還流を供給させる。第
3の二次流れは膨張させて、寒冷を回収し、その後塔の
供給物として低圧蒸留塔に導入する。更に、高圧塔のコ
ンデンサーを低圧塔で中間リボイラーとして使用する。
【0006】国際特許出願PCT/US87/0166
5号明細書(米国特許第4,796,431号明細書)
においてEricksonは、高圧塔から窒素流れを引
き出す方法を教示する。これは、この窒素を中間圧力に
部分的に膨張させ、その後高圧塔の塔底からの粗製LO
X又は低圧塔の中間の高さからの液体のどちらかとの熱
交換によって凝縮させる。この冷却方法は、現在では窒
素の膨張に続く凝縮(NEC)と呼ばれる。一般的にN
ECはコールドボックス(cold box)に必要な
寒冷の全てをもたらす。Ericksonは、NEC単
独では寒冷を提供できない応用においてのみ、補足的な
寒冷をいくらかの供給空気の膨張によって供給すること
が必要であると教示している。しかしながら、エネルギ
ー消費を減少させるためにこの補足的な寒冷を使用する
ことは教示されていない。この補足的な寒冷はフローシ
ートに関して教示され、ここではフローシートへの他の
変更がなされて供給空気圧力を低下させた。これはエキ
スパンダーへの窒素の圧力、従ってNECから得られる
寒冷の量を低下させた。
【0007】Woodwardらの米国特許第4,93
6,099号明細書は低純度酸素製造に関してCGOX
膨張を使用する。この場合、気体酸素製品は供給空気の
うちの一部との熱交換によって低圧塔の塔底からの液体
酸素を蒸発させて製造する。
【0008】ドイツ特許28 54 508号明細書で
は高圧塔の圧力である空気原料の一部を、コールドボッ
クスに寒冷を与えるエキスパンダーからの仕事エネルギ
ーを使用して高温(warm level)で更に圧縮する。この
更に圧縮された空気流を部分的に冷却し、前記コンプレ
ッサーに動力を与えるものと同じエキスパンダーで膨張
させる。この設備構成において、更に圧縮するものとそ
の後寒冷のために膨張させる供給空気流の画分は同じも
のである。結果として、与えられた供給空気の画分によ
って、更なる寒冷がコールドボックス内でもたらされ
る。この特許明細書はこの過剰な寒冷を活かす以下の2
つの方法を教示する。(i)コールドボックスからのよ
り多くの液体製品を製造すること、(ii)コンプレッ
サー及びエキスパンダーを通る流れを圧縮し、それによ
って高圧塔への流量を増やすこと。高圧塔への流量の増
加は結果としてコールドボックスからのより多い生産量
をもたらすと主張されている。
【0009】米国特許第5,309,721号明細書で
は、2つの塔を使用する方法の低圧塔を大気圧よりもは
るかに高い圧力で操作する。低圧塔の塔頂から結果とし
て得られる窒素流れを2つの流れに分けて、それぞれの
流れを異なる温度レベルで操作する異なるエキスパンダ
ーで膨張させる。
【0010】米国特許第5,146,756号明細書は
2つのエキスパンダーを使用して、蒸留する供給空気流
れを冷却する主熱交換器内での冷却する流れと暖める流
れの大きな温度差を得ることも教示する。これを行って
主熱交換器のコアの数を減らす。しかしながら2つのエ
キスパンダーを操作するために低圧塔は2.5bar
(250kPa)よりも高圧で操作して低圧塔の塔頂か
ら取り出される窒素のうちの一部をこれらのエキスパン
ダーのうちの1つで膨張させなければならない。供給空
気の一部は第2のエキスパンダーで膨張させて低圧塔に
供給する。
【0011】米国特許第4,543,115号明細書
は、2つの異なる圧力の供給空気流れを圧縮によって製
造して分離のためにコールドボックスに供給する2つの
塔を使用する方法を教示する。より低圧の空気流れは低
圧の蒸留塔に供給し、より高圧の空気流れは高圧塔に送
る。2つの塔を使用するこの方法は、低純度酸素及び窒
素製品を製造する。
【0012】米国特許第4,964,901号明細書は
分離のためのコールドボックスへの2つの圧力の空気供
給物を使用することも教示する。より低圧の空気流れの
圧力は約1.5〜1.8bar(150〜180kP
a)であり、主空気コンプレッサーの中間段から引き出
される。空気の残部は更に加圧してより高圧にし、高圧
塔に送る。より低圧の空気は低圧塔に送る。そのような
方法に伴う問題点は、別の吸着剤層を使用してより低圧
の空気流れから水及び二酸化炭素のような不純物を除去
することである。より低圧であるために、大量の水がよ
り低圧の空気流れ中に存在し、これらは吸着剤層の大き
さだけではなくこれらの層の再生に必要なエネルギーも
増加させる。このことが費用のかかる方法にする。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明はより高圧で操作
する少なくとも1つの蒸留塔とより低圧で操作する1つ
の蒸留塔を持つ蒸留塔系での空気の低温蒸留方法に関
し、この方法は供給空気を冷却してより高圧の塔に供給
し、酸素製品を製造するより低圧の塔の塔底での沸騰を
窒素濃度が供給空気流れのそれ以上である流れの凝縮に
よって行い、及び少なくとも2つのエキスパンダーを使
用してこの蒸留塔系に寒冷を供給し、第1の前記エキス
パンダーを周囲温度に近い又は周囲温度を超える入り口
温度で操作し第2の前記エキスパンダーを周囲温度未満
の入り口温度で操作する低温蒸留方法であって、前記2
つのエキスパンダーの少なくとも1つが以下の(a)〜
(d)の4つの工程の少なくとも1つの工程を使用する
ことを特徴とする。 (a)供給空気のうちの一部を仕事膨張させる工程。 (b)窒素含有率が供給空気のそれ以上であるプロセス
流れを仕事膨張させ、その後次の2つの液体、すなわち
(i)より低圧の塔の中間の高さの液体、及び(ii)
少なくとも供給空気の酸素濃度である酸素濃度を有する
低圧塔への液体供給物のうちの1つ、の2つの液体の少
なくとも1つとの潜熱交換によって前記膨張した流れの
少なくとも一部を凝縮させる工程。 (c)圧力がより低圧の塔の圧力よりも高く酸素濃度が
少なくとも供給空気のそれと同じである酸素に富む液体
流れの少なくとも一部を蒸発させる潜熱交換によって、
窒素濃度が供給空気のそれ以上である少なくとも1つの
プロセス流れを凝縮させ、結果として得られた蒸気流れ
の少なくとも一部を仕事膨張させる工程。 (d)窒素含有率が供給空気のそれ以上であるより高圧
の塔からのプロセス流れを仕事膨張させて、この膨張し
た流れを気体製品流れとして引き出す工程。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明は低純度酸素を製造するエ
ネルギー及び費用により効率的な方法を教示する。低純
度酸素は酸素濃度が99.5%未満、好ましくは97%
未満の製品流れとして定義する。この方法では、少なく
とも2つの蒸留塔を含む蒸留系で供給空気を蒸留する。
1つの蒸留塔をより高圧で操作し(HP塔)、一方で他
方の塔をより低圧で操作する(LP塔)。LP蒸留塔の
塔底での沸騰は窒素濃度が供給空気流れのそれと等しい
又はそれより高い流れを凝縮させてなされる。本発明は
プロセス中で少なくとも2つのエキスパンダーを使用
し、第1のエキスパンダーは周囲温度に近い又は周囲温
度を超える入り口温度で操作し、第2のエキスパンダー
は周囲温度未満の入り口温度で操作する。本発明では前
記2つのエキスパンダーの少なくとも1つが以下の
(a)〜(d)の工程の少なくとも1つの工程を使用す
る。 (a)供給空気のうちの一部を仕事膨張させる工程。 (b)窒素含有率が供給空気のそれ以上であるプロセス
流れを仕事膨張させ、その後次の2つの液体、すなわち
(i)より低圧の塔の中間の高さの液体、及び(ii)
少なくとも供給空気における酸素濃度の酸素濃度を有す
る低圧塔への液体供給物のうちの1つ、の2つの液体の
少なくとも1つとの潜熱交換によって前記膨張した流れ
の少なくとも一部を凝縮させる工程。 (c)圧力がより低圧の塔の圧力よりも高く少なくとも
供給空気における酸素濃度の酸素濃度を有する酸素に富
む液体流れの少なくとも一部を蒸発させる潜熱交換によ
って、窒素含有率が供給空気のそれ以上である少なくと
も1つのプロセス流れを凝縮させ、結果として得られた
蒸気流れの少なくとも一部を仕事膨張させる工程。 (d)窒素含有率が供給空気のそれ以上であるより高圧
の塔からのプロセス流れを仕事膨張させて、この膨張し
た流れを気体製品流れとして引き出す工程。
【0015】本発明の方法では少なくとも2つのエキス
パンダーを使用し、第1のエキスパンダーの入り口流れ
の温度が周囲温度に近い又は周囲温度を超える温度であ
り、第2のエキスパンダーがプラントの寒冷必要量の少
なくとも一部分を提供するような1つ又は両方のエキス
パンダーために前記の工程のいずれかを使用する。
【0016】一般にプラントの寒冷を提供する第2のエ
キスパンダーは周囲温度よりもかなり低い入り口流れ温
度を持つ。この明細書においてはそのようなエキスパン
ダーを低温エキスパンダーと呼ぶ。同様に周囲温度に近
い又は周囲温度以上の入り口流れ温度を持つ第1のエキ
スパンダーは高温エキスパンダーと呼ぶ。
【0017】最も好ましい態様では、蒸留系はより高圧
の(HP)塔及びより低圧の(LP)塔からなる2塔系
を含む。供給空気の少なくとも一部はHP塔に供給す
る。製品酸素はLP塔の塔底から製造する。選択肢の工
程(a)のプロセス流れ又は工程(c)のプロセス流れ
は一般に、HP塔から引き出される高圧の窒素に富む蒸
気流れである。選択肢の工程(a)の仕事膨張の方法を
使用する場合には、高圧の窒素に富む蒸気流れを膨張さ
せ、その後LP塔の中間の高さの液体流れ又はHP塔の
塔底で生じてLP塔への供給物を形成する粗製液体酸素
(粗製LOX)流れとの潜熱交換により凝縮させる。こ
の方法では、粗製LOX流れの圧力をLP塔の圧力付近
まで落とす。高圧の窒素に富む流れを膨張させる前に部
分的に暖めることができる。選択肢の工程(c)の仕事
膨張の方法を使用する場合、高圧の窒素に富む流れをL
P塔の圧力を超える圧力の粗製LOX流れの少なくとも
一部との潜熱交換によって凝縮させ、粗製LOXの少な
くとも部分的な気化から得られる蒸気をLP塔に向けて
仕事膨張させる。仕事膨張の前に、粗製LOXの少なく
とも部分的な気化から得られる蒸気を部分的に暖めるこ
とができよう。粗製LOXの気化の代替案として、空気
よりも酸素含有率が高い酸素に富む液体をLP塔から引
き出し、そして少なくとも部分的な気化の前にLP塔の
圧力よりも高い所望の圧力に昇圧することができよう。
【0018】仕事膨張とは、プロセス流れがエキスパン
ダーで膨張するときに仕事を発生させることを意味す
る。この仕事は油圧ブレーキに放散、又は電力を発生さ
せるのに使用若しくはもう1つの他のプロセス流れを直
接圧縮するのに使用してもよい。
【0019】低純度酸素と並んで、他の製品も製造でき
る。これには、高純度酸素(99.5%以上の純度)、
窒素、アルゴン、クリプトン及びキセノンが含まれる。
必要ならば、液体製品も同時に製造することができる。
【0020】以下、図面を参照して本発明を説明する。
尚、図1〜5について言えば、これらの図において共通
の流れには同じ番号が用いられる。
【0021】ここで図1を参照して本発明を詳細に説明
する。水及び二酸化炭素のようなより重たい成分を含ん
でいない圧縮供給空気流れを流れ100として示す。供
給空気流れを3つの流れ102、106及び116に分
ける。主な画分である流れ106を2つの流れ107と
112に分割する。流れ112を主熱交換器190で冷
却し、及びその後高圧(HP)塔196の塔底に流れ1
14として供給する。高圧塔への供給物を蒸留して、塔
頂の高圧窒素蒸気流れ150及び塔底の粗製液体酸素
(粗製LOX)流れ130にする。粗製LOX流れを過
冷却器192で過冷却して低圧(LP)塔198に供給
し、ここでそれを蒸留して塔頂で低圧窒素蒸気流れ16
0を、及び塔底で液体酸素製品流れ170を製造する。
あるいは、酸素製品はLP塔の塔底から蒸気として引き
出してもよい。液体酸素製品流れ170をポンプ171
によって所望の圧力に昇圧し、その後適当に加圧したプ
ロセス流れとの熱交換によって気化させて、気体酸素
(GOX)製品流れ172を提供する。図1において、
適当に加圧したプロセス流れは管路118の供給空気の
画分である。LP塔の塔底での沸騰は、管路150の高
圧窒素流れを凝縮させることによってなされ、高圧液体
窒素流れ153を提供する。この高圧液体窒素流れのう
ちの一部は高圧塔に還流を供給し、他の部分は過冷却器
192で過冷却して、過冷却された液体窒素流れ158
を与える。この過冷却された液体窒素流れ158はその
後LP塔に還流として送る。
【0022】図1ではポンプ171から吸入排出される
液体酸素を気化させるために、供給空気流れ100のう
ちの一部の流れ116を随意の増圧器180で更に増圧
させ、そして冷却水(図示せず)で冷却し、その後主熱
交換器190で昇圧した液体酸素流れとの熱交換によっ
て冷却する。冷却した液体空気流れ118の一部をHP
塔に送り(流れ120)、他の部分(流れ122)を過
冷却器192でいくらか過冷却した後でLP塔に送る。
【0023】図1の発明では、使用される2つのエキス
パンダーは139及び182であり、両方のエキスパン
ダーで選択肢の膨張工程(a)に従って供給空気流れの
分割分を使用する。従ってわずかに周囲温度よりも高温
の供給空気分割流れ102を高温エキスパンダー182
で仕事膨張させて、LP塔の圧力に近い圧力にする。こ
の膨張した流れ103をその後主熱交換器190で冷却
して、LP塔の適切な箇所に供給する。好ましい態様に
おいては、仕事膨張前の流れ102の温度は周囲温度よ
りもはるかに高くなるべきである。このより高い温度は
流れ102と適切な熱源との熱交換によって達成するこ
とができる。高温エキスパンダー182での膨張の後で
流れ103の温度が周囲温度よりも高ければ、主熱交換
器への他の空気流れ(117又は112)と同様な温度
まで冷却するべきである。
【0024】図1の発明による第2のエキスパンダーは
低温エキスパンダー139である。この低温エキスパン
ダーはプラントのための寒冷を提供する。この目的のた
めに、供給空気流れ107のうちの一部を増圧器184
によって増圧する。この増圧された流れを冷却水(図示
せず)との熱交換によって初めに冷却し、その後主熱交
換器190で更に冷却して流れ108を提供する。この
更に冷却した流れ108を低温エキスパンダー139で
膨張させてLP塔の適当な箇所に供給する。一般に低温
エキスパンダー139への入り口流れ108の温度は周
囲温度よりもずっと低いことに注目されたい。低温エキ
スパンダー139から取り出される仕事エネルギーは増
圧器184を運転するのに使用する。もう1つの態様に
おいて増圧器184を使用して空気流れ107を増圧せ
ずに、代わりに増圧を全くしないで流れ107を主熱交
換器に直接供給して更に冷却された流れ108を提供し
てもよい。
【0025】図1の例示のフローシートにいくつかの既
知の変更を適用できる。例えばLP塔への液体窒素還流
は高圧液体窒素流れ153からではなく、HP塔の中間
の箇所から得ることができる。そのような場合、窒素製
品流れをHP塔の塔頂から引き出すことができる。それ
は高圧気体窒素流れ150のうちの一部及び/又は高圧
液体窒素流れ153のうちの一部でよい。
【0026】図2では、エキスパンダーの1つで選択肢
の膨張工程(d)に従ってプロセス流れを仕事膨張させ
る別の態様を示す。HP塔から引き出されたプロセス流
れを高温エキスパンダー又は低温エキスパンダーのいず
れかで膨張させるという選択があるが、図2ではこの膨
張は高温エキスパンダーでなされる。従って図2の系を
得るためには、図1の高温エキスパンダー182及び関
連する空気流れを取り除いて、その代わりに高温エキス
パンダー277を加える。高温エキスパンダー277へ
の供給流れ276は、HP塔の塔頂から高圧窒素蒸気流
れのうちの一部を引き出して(流れ274)主熱交換器
で暖めて得る。膨張した流れ278は製品流れとして利
用することができる。図2の好ましい態様では、高圧窒
素流れ276は、膨張の前に他の熱源との熱交換によっ
て更に暖めるべきである。これは高温エキスパンダー2
77から取り出される仕事を増加させることができる。
もう1つの態様では、高圧流れ274はHP塔の塔頂か
らでなく、この塔の塔頂よりも低い箇所から引き出すこ
とができる。
【0027】図3は選択肢の膨張工程(c)を使用し
て、図1の方法から低温エキスパンダー139を低温エ
キスパンダー339で取って代える本発明の方法を示
す。こうして本発明によれば、酸素濃度が供給空気のそ
れより高い粗製LOX流れの少なくとも一部を弁335
を通して減圧してHP塔とLP塔の圧力の中間の圧力に
する。図3では減圧の前に粗製LOXをLP塔からの戻
りの気体窒素流れとの熱交換によって過冷却器192で
過冷却する。この過冷却は随意である。減圧した粗製L
OX流れ336をリボイラー/コンデンサー394に送
り、管路354内の管路150からの高圧窒素流れの第
2の部分(選択肢の膨張工程(c)のプロセス流れ)と
の潜熱交換によって少なくとも部分的に沸騰させて、第
2の高圧液体窒素流れ356を供給する。第1及び第2
の高圧液体窒素流れはHP塔及びLP塔に必要な還流を
提供する。管路337内の減圧した粗製LOX流れの蒸
発した部分(ここでは粗製GOX流れと呼ぶ)を主熱交
換器190で部分的に暖めて、その後低温エキスパンダ
ー339で仕事膨張させてLP塔への追加の供給物にす
る。粗製GOX流れ337の部分的な加熱は随意であ
り、同様に仕事膨張の後で流れ340をLP塔に供給す
る前に更に冷却することができる。
【0028】図3の例示のフローシートにいくつかの既
知の変更を行うことができる。例えばHP塔からの全て
の粗製LOX流れ130をLP塔に送ることができ、リ
ボイラー/コンデンサー394へは少しも送らない。代
わりにLP塔の中間の高さから液体を引き出して、その
後HP塔とLP塔の圧力の中間の圧力に昇圧してリボイ
ラー/コンデンサー394に送る。リボイラー/コンデ
ンサー394での処理の残部は前記の流れ334のそれ
と似ている。もう1つの変更において、それぞれリボイ
ラー/コンデンサー193及び394で凝縮する2つの
高圧窒素流れ352及び354は、HP塔の同じ箇所か
らこなくてもよい。それぞれをHP塔の異なる高さから
得てもよく、それらのリボイラー(193及び394)
での凝縮の後でそれぞれを蒸留塔系の適切な箇所に送
る。一例として流れ354は高圧塔の塔頂よりも低い箇
所から引き出すことができ、リボイラー/コンデンサー
394での凝縮の後でそのうちの一部をHP塔の中間の
箇所に戻し、他の部分をLP塔に送ることができる。
【0029】図4は、プロセス流れが選択肢の膨張工程
(b)(ii)に従って低温エキスパンダーで仕事膨張
するもう1つの態様を示す。ここでは過冷却された粗製
LOX流れ334を弁335を通して減圧してLP塔の
圧力に非常に近い圧力にしてリボイラー/コンデンサー
394に供給する。管路354内の高圧窒素流れの第2
の部分(ここでは選択肢の膨張工程(a)のプロセス流
れ)を主熱交換器で部分的に暖めて(随意)その後エキ
スパンダー439で仕事膨張させて低圧窒素流れ440
を提供する。流れ440をその後リボイラー/コンデン
サー394で潜熱交換によって凝縮させていくらかの過
冷却後にLP塔に送る流れ442を提供する。リボイラ
ー/コンデンサー394からの蒸発させた流れ337及
び液体流れ342をLP塔の適切な箇所に送る。必要な
らば管路442内の凝縮した窒素流れのうちの一部を昇
圧してHP塔に送ることができる。再び、一方はリボイ
ラー/コンデンサー193で凝縮させ、他方はリボイラ
ー/コンデンサー394で凝縮させる2つの窒素流れは
HP塔の異なる高さから引き出すことができ、従って異
なる組成の流れでよい。
【0030】選択肢の膨張工程(b)(ii)に従って
低温エキスパンダーを使用する図4のもう1つの他の態
様も使用できる。この設備構成ではHP塔の塔底からの
全ての粗製LOX流れを全く蒸発させずにLP塔に送
る。リボイラー/コンデンサー394の代わりに中間リ
ボイラー/コンデンサーをLP塔の中間の高さで使用す
る。ここで、エキスパンダー439からの仕事膨張させ
た窒素流れ440をLP塔の中間の高さの液体との潜熱
交換によってこの中間リボイラー/コンデンサーで凝縮
させる。凝縮した窒素流れは図4のそれと同様な様式で
処理する。
【0031】図5の方法は、高温及び低温エキスパンダ
ーのプロセス流れをどのようにして相互に交換すること
ができるかを説明する。図4では供給空気流れのうちの
一部を高温エキスパンダーで膨張させ、HP塔からの高
圧窒素流れを低温エキスパンダーで膨張させる。図5で
は、高圧窒素流れを高温エキスパンダーで膨張させ、供
給空気流れのうちの一部を低温エキスパンダーで膨張さ
せる。従ってここでは、管路102内の空気流れのうち
の一部を主熱交換器で部分的に冷却し、その後低温エキ
スパンダー539で膨張させ、LP塔に供給する。HP
塔の塔頂からの高圧窒素流れ554を主熱交換器で暖め
て周囲温度に近い温度にして(流れ583)、その後高
温エキスパンダー582で膨張させる。高温エキスパン
ダーからの膨張した流れをその後主熱交換器で更に冷却
して、流れ540を提供する。流れ540の更なる処理
は図4の流れ440と同様である。高温エキスパンダー
582からより多くの仕事を取り出すためには、高温エ
キスパンダーでの膨張の前に別の熱源との熱交換によっ
て高圧窒素流れ583を更に暖めるべきである。
【0032】前記のように、高温エキスパンダーへの入
り口流れをふさわしい熱源との熱交換によって暖めるこ
とができる。これは高温エキスパンダーからの仕事の出
力を増加させる。熱源のいくらかの例は、スチーム、熱
水、高温気体流れ、バーナー等を含む。この高温エキス
パンダーは低レベルの熱を有効に回収することができ
る。低レベルの熱を回収するのに有益な設備構成を図6
に示す。ここではコンプレッサーを出る高温気体流れか
ら得られる熱を使用して、高温エキスパンダーへの流れ
を予備加熱する。図6では、図1の増圧器180からの
更に増圧した空気流れからの熱をこの目的のために使用
する。この様に増圧機からの管路662の更に増圧した
高温空気流れを主熱交換器695で管路602内のプロ
セス流れとの熱交換によって冷却する。暖めたプロセス
流れ684はその後高温エキスパンダー682で仕事膨
張させる。管路664の更に増圧して冷却した空気流れ
を冷却水で更に冷却して(流れ666)、主熱交換器に
直接供給し、昇圧された液体酸素を蒸発させることがで
きる。しかしながら図6では、管路666内の流れを高
温エキスパンダー682からの仕事エネルギーを使用す
る増圧器667によって再び増圧するオプションを示
す。図6において必要ならば、高温エキスパンダー68
2を出る流れ686は冷却水を使用して冷却してもよ
い。この図において、流れ602は高温エキスパンダー
で仕事膨張させる任意のプロセス流れに相当する。例え
ば流れ602は図1の流れ102、又は図2の流れ27
6、又は図5の流れ583等と同じである。
【0033】図1、3及び4において、高温エキスパン
ダーへの空気流れはHP塔への供給空気流れと同じ圧力
であるように理解される。これは好ましい様式である
が、2つの圧力が同じことは本質的なことではない。例
えば、図1の流れ102の圧力は流れ106の圧力より
もより高圧又は低圧でよい。しかしながら一般に流れ1
02の圧力は、流れ106の圧力と同じ又はより低圧で
ある。
【0034】ここまでは、全ての例示のフローシートは
1つかあるいは2つのリボイラー/コンデンサーを示し
ている。しかしながら本発明は、図1〜5で示されたも
の以外にLP塔で追加のリボイラー/コンデンサーを使
用する可能性を除外しないことが強調されるべきであ
る。必要ならばLP塔の塔底部分に更なるリボイラー/
コンデンサーを使用して、この部分での蒸気発生を更に
分割してもよい。任意の適当なプロセス流れを、これら
の追加のリボイラー/コンデンサーで完全に凝縮させて
もよくあるいは部分的に凝縮させてもよい。また、LP
塔に配置されたリボイラー/コンデンサーでHP塔の中
間の高さから引き出した蒸気流れを凝縮させる可能性を
考えてもよい。
【0035】選択肢の膨張工程(b)で仕事が得られる
本発明の全ての処理設備構成において、仕事膨張した後
のプロセス流れの全てをこの工程で教示されるように潜
熱交換によって凝縮させなくてもよい。この流れの一部
を製品流れとして回収、又は処理設備構成で何らかの他
の目的に使用することができる。例えば図4で示される
処理設備機構では、高圧塔からの高圧窒素流れの少なく
とも一部を本発明の選択肢の膨張工程(b)に従ってエ
キスパンダー439で仕事膨張させる。エキスパンダー
439を出る流れの一部を主熱交換器で更に暖めて、中
間圧力(MP)の窒素製品として回収することができ
る。
【0036】本発明の高温エキスパンダーから引き出さ
れる全ての仕事はコールドボックスの外で使用される。
一般に、必ずというわけではないが、低温エキスパンダ
ーから引き出される全ての仕事もコールドボックスの外
で使用するが、この引き出された仕事のうちの少なくと
も一部はコールドボックスの外で使用しなければならな
い。この目的のためにエキスパンダーの1つ又は両方
に、発電機を負荷させて電力を発生させてもよく、ある
いは高温コンプレッサーを負荷させて、周囲温度又はそ
れよりも高い温度でプロセス流れを圧縮してもよい。そ
のような高温コンプレッサーで圧縮することができるプ
ロセス流れのいくつかの例は、ポンプ送出された液体酸
素との熱交換によって最終的に凝縮させる更に加圧する
空気流れ(図1の流れ117)、製品窒素流れ(図1の
流れ164の全て又はその一部)、気体酸素流れ(図1
の管路172)である。
【0037】本発明の方法はHP塔から高圧窒素製品流
れを同時に効率的に製造することもできる。この高圧窒
素製品流れはHP塔の任意の適切な箇所から引き出すこ
とができる。この特徴は図1〜5のフローシートのいず
れにも示されていないが、本発明の本質的な部分であ
る。
【0038】最後に、酸素含有率が99.5%未満の低
純度酸素に並んで副生成物がある場合に、本発明の明細
書で教示される方法を使用することができる。例えば、
高純度(酸素含有率が99.5%以上)酸素を蒸留塔系
から同時に製造することができる。この仕事を達成する
1つの方法は、塔底よりも上の箇所でLP塔から低純度
酸素を引き出し、HP塔の塔底から高純度酸素を引き出
すことである。液体の状態で高純度酸素流れを引き出す
場合、それはポンプによって更に増圧させ、その後適当
なプロセス流れとの熱交換によって気化させることがで
きる。同様に、高圧で高純度の窒素製品流れを同時に製
造することができる。この仕事を達成する1つの方法
は、適当なリボイラー/コンデンサーの1つから凝縮し
た液体窒素流れの一部を取り、それを昇圧して所望の圧
力にして、その後適当なプロセス流れによって気化させ
ることである。
【0039】本発明の価値は、エネルギー消費の実質的
な減少を導くことである。以下に示すいくつかの既知の
従来技術の方法と比較することによってこれは容易に理
解できる。
【0040】第1の従来技術の方法を図7に示す。これ
は、LP塔への低温空気エキスパンダーを備える従来の
2塔のプロセスである。空気エキスパンダーからの仕事
エネルギーは、電気エネルギーとして回収する。図7の
プロセスは、高温エキスパンダー182、増圧器184
及び関連の管路を取り除いて、図1のプロセスから簡単
に導くことができる。流れ107は主熱交換器に直接供
給して、部分的に冷却し、そして低温エキスパンダーに
送る。
【0041】第2の従来技術の方法はドイツ特許285
4508によるもので、図8に示す。この方法は、高温
エキスパンダー182及び関連の管路を取り除くことに
よって容易に導かれる。この方法は膨張させる流れを、
エキスパンダーに機械的に結合したコンプレッサーで初
めに圧縮することを除いて図7のそれと同様である。
【0042】図1の方法を図7及び8の2つの従来技術
の方法と比較すると、従来技術の方法に対する本発明の
方法の優れた性能が明らかになる。所定の供給空気圧力
では、図1と図8の方法の唯一の違いは高温エキスパン
ダー182の使用だけである。高温エキスパンダー18
2で供給空気のうちの一部を膨張させることによって、
図1では仕事エネルギーが回収される。この仕事エネル
ギーを使用して電力を発生させるか、適切なプロセス流
れを圧縮することができる。これは明らかにプラントの
全体としてのエネルギー要求量を減らす。特にLP塔の
圧力が周囲圧力に近い場合、酸素回収に有意の影響を与
えずに供給空気画分の多くの部分(25%まで)を膨張
させることができることが知られている。従って、供給
空気の25%までとは言え、好ましくは15%までのみ
を高温エキスパンダーで膨張させることができる。膨張
させる厳密な量は特定の用途に依存する。例えば、最適
な低温エキスパンダー流量は熱の漏れ及び液体製造の量
に依存する。
【0043】本発明は図3〜5で示される方法に更に適
当である。米国特許第2,753,698号明細書は、
図3の低温エキスパンダー339で示されるような粗製
GOX膨張の使用を教示する。米国特許第4,796,
431号明細書は図4の低温エキスパンダー技術を教示
する。しかしながら、これら両方の特許明細書は高温エ
キスパンダーによるエネルギー回収の有益な面を利用し
損ねている。これらの方法では、LP塔で使用可能な総
計の沸騰及び還流は図7及び8の方法よりも一般に多
い。結果として図3及び4でははるかにより大量の空気
画分を高温エキスパンダーに送ることができる。これは
一層のエネルギーの節約をもたらす。
【0044】米国特許第4,964,901号明細書の
方法と比較すると、本発明の方法は1.5〜1.8ba
r(150〜180kPa)の非常に低圧の空気流れか
ら水を除去する必要がない。これは吸着剤層の大きさ及
び吸着剤層を再生するのに要するエネルギーを減少させ
る。更に、たいていの場合に本発明は2つの異なる圧力
で供給空気を処理するための2組の吸着剤層を持つ必要
をなくす。ここでは全ての供給空気を1つの圧力に圧縮
して、1組の吸着剤層に送る。これは方法を更に単純に
する。
【0045】HP塔の圧力が約60psia(絶対圧で
4bar(400kPa))超で約160psia(1
1bar(1.1MPa))未満の場合に、本発明は特
により有益である。この理由は一般に、高圧塔を60p
sia(400kPa)よりも低圧で操作することは供
給空気流れの一部がLP塔の塔底リボイラーで凝縮する
ことを要求するからである。これは蒸留塔に利用できる
液体窒素還流の量を減少させる。高温空気エキスパンダ
ーの使用は液体窒素還流の量を更に減少させる。更にエ
キスパンダーへの入り口圧力がここではより低いので、
取り出せる仕事の量は多くない。結果として、HP塔の
圧力が実質的に60psia(400kPa)よりも低
い場合には本発明の方法はあまり魅力的ではなくなる。
HP塔の圧力が160psia(1.1MPa)よりも
大きい場合、蒸留塔によって必要とされる液体窒素還流
の要求量が急に増加し、この場合はLP塔への高温供給
空気エキスパンダーの使用が魅力的ではなくなることが
あろう。
【0046】ここではいくらかの特定の態様を参照して
説明及び記述したが、本発明は詳細を示したものに限定
されるものではない。むしろ、本発明の本質から離れず
に特許請求の範囲及びこれと等価の範囲内で細部に様々
な変更ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明の第1の態様の概略図である。
【図2】図2は本発明の第2の態様の概略図である。
【図3】図3は本発明の第3の態様の概略図である。
【図4】図4は本発明の第4の態様の概略図である。
【図5】図5は本発明の第5の態様の概略図である。
【図6】図6は低レベルの熱を回収するために本発明で
有用な設備機構の概略図である。
【図7】図7は従来技術の方法の概略図である。
【図8】図8は従来技術の方法の概略図である。
【符号の説明】
100…圧縮供給原料流れ 130…粗製液体酸素(LOX)流れ 153…高圧液体窒素流れ 160…低圧気体窒素流れ 170、172…酸素製品流れ 190…主熱交換器 193…リボイラー/コンデンサー 196…高圧塔 198…低圧塔
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成11年2月3日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
フロントページの続き (72)発明者 ラケシュ アグラワル アメリカ合衆国,ペンシルバニア 18049, エモース,コモンウェルス ドライブ 4312 (72)発明者 ドン マイケル ヘロン アメリカ合衆国,ペンシルバニア 18051, フォーゲルスビル,ピーチ レーン 8228

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 より高圧で操作する少なくとも1つの蒸
    留塔とより低圧で操作する1つの蒸留塔を持つ蒸留塔系
    での空気の低温蒸留方法であって、供給空気を冷却して
    より高圧の塔に供給し、酸素製品を製造するより低圧の
    塔の塔底での沸騰を窒素濃度が供給空気流れのそれ以上
    の流れの凝縮によって行わせ、及び少なくとも2つのエ
    キスパンダーを使用してこの蒸留塔系に寒冷を供給し、
    第1の前記エキスパンダーを周囲温度に近い又は周囲温
    度を超える入り口温度で操作し、第2の前記エキスパン
    ダーを周囲温度未満の入り口温度で操作する方法であっ
    て、前記2つのエキスパンダーの少なくとも1つが以下
    の(a)〜(d)の4つの工程の少なくとも1つの工程
    を使用することを特徴とする空気の低温蒸留方法。 (a)供給空気のうちの一部を仕事膨張させる工程。 (b)窒素含有率が供給空気のそれ以上であるプロセス
    流れを仕事膨張させ、その後次の2つの液体、すなわち
    (i)より低圧の塔の中間の高さの液体、及び(ii)
    少なくとも供給空気の酸素濃度の酸素濃度を有する低圧
    塔への液体供給物のうちの1つ、の2つの液体の少なく
    とも1つとの潜熱交換によって前記膨張した流れの少な
    くとも一部を凝縮させる工程。 (c)圧力がより低圧の塔の圧力よりも高く少なくとも
    供給空気の酸素濃度の酸素濃度を有する酸素に富む液体
    流れの少なくとも一部を蒸発させる潜熱交換によって、
    窒素含有率が供給空気のそれ以上である少なくとも1つ
    のプロセス流れを凝縮させ、結果として得られた蒸気流
    れの少なくとも一部を仕事膨張させる工程。 (d)窒素含有率が供給空気のそれ以上であるより高圧
    の塔からのプロセス流れを仕事膨張させて、この膨張し
    た流れを気体製品流れとして引き出す工程。
  2. 【請求項2】 前記第1のエキスパンダーを前記工程
    (d)で操作し、前記第2のエキスパンダーを前記工程
    (a)で操作する請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 前記第1のエキスパンダーを前記工程
    (d)で操作し、前記第2のエキスパンダーを前記工程
    (b)で操作する請求項1に記載の方法。
  4. 【請求項4】 前記第1のエキスパンダーを前記工程
    (d)で操作し、前記第2のエキスパンダーを前記工程
    (c)で操作する請求項1に記載の方法。
  5. 【請求項5】 前記第1のエキスパンダーを前記工程
    (a)で操作し、前記第2のエキスパンダーを前記工程
    (b)で操作する請求項1に記載の方法。
  6. 【請求項6】 前記第1のエキスパンダーを前記工程
    (a)で操作し、前記第2のエキスパンダーを前記工程
    (c)で操作する請求項1に記載の方法。
  7. 【請求項7】 前記第1のエキスパンダーを前記工程
    (a)で操作し、前記第2のエキスパンダーを前記工程
    (a)で操作する請求項1に記載の方法。
  8. 【請求項8】 外部熱源との間接熱交換によって前記第
    1のエキスパンダーへの入り口流れを膨張の前に暖める
    請求項1に記載の方法。
  9. 【請求項9】 前記外部熱源が周囲温度よりも高温の圧
    縮気体流れである請求項8に記載の方法。
  10. 【請求項10】 前記周囲温度よりも高温の圧縮気体流
    れがコンプレッサーからの排出流れである請求項9に記
    載の方法。
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