JPH11250438A - Magnetic recording medium, production of magnetic recording medium and magnetic recorder - Google Patents
Magnetic recording medium, production of magnetic recording medium and magnetic recorderInfo
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- JPH11250438A JPH11250438A JP5475398A JP5475398A JPH11250438A JP H11250438 A JPH11250438 A JP H11250438A JP 5475398 A JP5475398 A JP 5475398A JP 5475398 A JP5475398 A JP 5475398A JP H11250438 A JPH11250438 A JP H11250438A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体，磁
気記録媒体の製造方法及び磁気記録装置に関し、更に具
体的には、ノイズを下げ、ＳＮ比を向上させ、高密度記
録を実現させた磁気記録媒体，磁気記録媒体の製造方法
及び磁気記録装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium, a method of manufacturing a magnetic recording medium, and a magnetic recording apparatus, and more specifically, to realizing high-density recording by lowering noise, improving the S / N ratio. The present invention relates to a magnetic recording medium, a method for manufacturing a magnetic recording medium, and a magnetic recording device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】パーソナル・コンピュータ，エンジニア
リング・ワークステーション等のＯＡ機器の外部記憶装
置として広く用いられている磁気ディスク駆動装置（以
下、「ＨＤＤ」ともいう。）は、情報量の増大及び機器
の小型化に伴い益々大容量化及び小型化されつつある。
これらの要求から、ＨＤＤの主要構成部品の１つである
磁気ディスクの高記録密度化は、１９９１年以前は１０
年に約１０倍の割合で進行し、従来は２０００年頃に面
記録密度が１０3 Ｍｂ／ｉｎ2 （１Ｇｂ／ｉｎ2）にな
ると予測されていた。2. Description of the Related Art A magnetic disk drive (hereinafter, also referred to as "HDD"), which is widely used as an external storage device of OA equipment such as a personal computer and an engineering work station, has an increased amount of information and requires less equipment. With the miniaturization, the capacity and the miniaturization are increasing.
From these demands, increasing the recording density of a magnetic disk, which is one of the main components of an HDD, was 10 years before 1991.
It progresses at a rate of about 10 times a year, and it has been conventionally predicted that the areal recording density will be 10 3 Mb / in 2 (1 Gb / in 2 ) around 2000.
【０００３】しかし、最近の高密度化の動きは予想以上
に速く、特に３．５インチ以下の小型ＨＤＤにおいて
は、新しいタイプの磁気ヘッド（ＭＲヘッド）及び新し
いタイプの記録再生方式（ＰＲＭＬ方式）の採用と相ま
って飛躍的に向上し、１９９５年頃に１Ｇｂ／ｉｎ2 で
の面記録密度が実現されている。ＨＤＤの主要な構成要
素の１つである磁気ディスクは、現在まで、アルミナを
混合したγ酸化鉄を樹脂に分散して塗布，焼成，硬化す
る塗布型媒体、ＣｏＮｉＰ等の磁性薄膜をメッキにより
被覆するメッキ型磁気ディスク及びγ酸化鉄薄膜をスパ
ッタリングで成膜するフェライト媒体が主として実用化
されてきた。However, the recent trend for higher density is faster than expected, and especially in a small HDD of 3.5 inches or less, a new type of magnetic head (MR head) and a new type of recording / reproducing method (PRML method). The surface recording density at 1 Gb / in 2 has been realized around 1995. Up to now, magnetic disks, one of the main components of HDDs, have been coated with a magnetic thin film such as CoNiP or the like, a coating type medium in which gamma iron oxide mixed with alumina is dispersed, applied, fired, and cured in a resin. Plating magnetic disks and ferrite media in which a gamma iron oxide thin film is formed by sputtering have been mainly put to practical use.
【０００４】近年、５．２５インチ以下の中・小型磁気
ディスクでは、ＣｏＮｉ，ＣｏＣｒＴａ，ＣｏＰｔＣｒ
などのＣｏ系金属磁性薄膜がスパッタリング法により成
膜さる金属スパッタ媒体が主流になっている。これは、
磁気特性が容易に制御でき、小型化による線速度の低下
を補える大きな残留磁気密度が得られるためである。一
方、磁気ディスクに対応する磁気ヘッドとして従来から
磁気誘導型ヘッドが広く使われているが、ディスク装置
の小型化・大容量化を実現するため、一層高性能なヘッ
ドとして磁気抵抗効果型ヘッド（Magneto-Resistive he
ad）が開発され、実用化されている。このようなＭＲ素
子は従来の磁気誘導型に比べ極めて高い磁場検出能力を
持つため、同一条件で比較した場合、５〜１０倍の高い
出力が得られ、記録密度向上が可能になっている。最近
では、スピンバルブ膜を典型例とする、更に高感度な巨
大磁気抵抗効果型ヘッド（Giant Magneto-Resistive he
ad）の開発も進んでいる。In recent years, small and medium-sized magnetic disks of 5.25 inches or less have been manufactured using CoNi, CoCrTa, CoPtCr.
A metal sputter medium in which a Co-based metal magnetic thin film is formed by a sputtering method is mainly used. this is,
This is because magnetic properties can be easily controlled, and a large remanent magnetic density can be obtained that can compensate for a decrease in linear velocity due to miniaturization. On the other hand, a magnetic induction type head has been widely used as a magnetic head corresponding to a magnetic disk. However, in order to realize a smaller and larger-capacity disk device, a magnetoresistive effect type head ( Magneto-Resistive he
ad) has been developed and put into practical use. Such an MR element has an extremely high magnetic field detecting ability as compared with the conventional magnetic induction type, so that when compared under the same conditions, a high output of 5 to 10 times is obtained, and the recording density can be improved. Recently, a giant magnetoresistive head (Giant Magneto-Resistive head) with higher sensitivity, typically a spin valve film
ad) is also under development.
【０００５】ここで当然ながら、磁気ディスクの媒体ノ
イズも再生信号とともに高感度で検出されることにな
る。即ち、磁気ディスク装置のＳＮ比が媒体ノイズに大
きく左右されることになり、超低ノイズの磁気ディスク
媒体の開発が不可欠となっている。Here, naturally, the medium noise of the magnetic disk is detected with high sensitivity together with the reproduced signal. That is, the S / N ratio of the magnetic disk device is greatly affected by the medium noise, and the development of an ultra-low noise magnetic disk medium is indispensable.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】図６（Ａ）は、従来技
術に係る磁気ディスク断面構造を示し、図６（Ｂ）はこ
の磁気ディスクの製造工程のフローを示す図である。図
６（Ａ）及び（Ｂ）を参照すると、ステップＳ１０１に
おいて、アルミ合金基板１００が形成される。FIG. 6A shows a sectional structure of a magnetic disk according to the prior art, and FIG. 6B shows a flow of a manufacturing process of the magnetic disk. Referring to FIGS. 6A and 6B, in step S101, an aluminum alloy substrate 100 is formed.
【０００７】ステップＳ１０２において、Ａｌ合金基板
１の上に、ＮｉＰメッキ層２００が形成される。ステッ
プＳ１０３において、ＮｉＰメッキされたアルミ合金基
板は、両面研磨加工される。ステップＳ１０４におい
て、両面研磨されたＮｉＰメッキ・アルミ合金基板に対
し、テクスチャ加工が行われる。In step S 102, NiP plating layer 200 is formed on Al alloy substrate 1. In step S103, the NiP-plated aluminum alloy substrate is polished on both sides. In step S104, texture processing is performed on the NiP plated aluminum alloy substrate polished on both sides.
【０００８】ステップＳ１０５において、テクスチャ加
工が施されたＮｉＰメッキ・アルミ合金基板は洗浄され
る。この洗浄工程を経た清浄なＮｉＰメッキ・アルミ合
金基板は、対向ターゲット・スパッタリング装置を用い
て、Ｃｒ合金膜の下地層４００（ステップＳ１０７）、
磁性層５００（ステップＳ１０８）、カーボン保護膜６
００（ステップＳ１０９）の順にスパッタ膜が形成され
る。図６（Ｂ）において、これらの成膜工程を二重枠の
ブロックで表示する。なお、ここで、図６（Ｂ）に示す
製造工程フローでステップＳ１０６が抜けているのは、
後で図２を用いて説明する本発明の実施形態に係る製造
工程フローの対比において、その相違を明確にするため
である。In step S105, the textured NiP plated aluminum alloy substrate is cleaned. The clean NiP-plated aluminum alloy substrate that has passed through this cleaning step is subjected to a base layer 400 of a Cr alloy film (step S107) using a facing target sputtering apparatus.
Magnetic layer 500 (step S108), carbon protective film 6
A sputtered film is formed in the order of 00 (step S109). In FIG. 6B, these film forming steps are indicated by double-frame blocks. Here, step S106 is omitted in the manufacturing process flow shown in FIG.
This is to clarify the difference in the comparison of the manufacturing process flow according to the embodiment of the present invention, which will be described later with reference to FIG.
【０００９】ステップＳ１１０において、カーボン保護
膜６００の上に、潤滑層７００が形成される。以上の製
造工程を経て、ステップＳ１１１において、仕上がった
磁気ディスクに対して評価試験を行う。しかし、このよ
うな、アルミ合金基板などの非磁性体の上に、Ｃｒ合金
膜４００を用いた下地膜を介して、Ｃｏを主成分とする
合金を磁性膜４００（記録膜）とする磁気ディスクにお
いては、十分なＳＮ比が得られていない。In step S 110, a lubrication layer 700 is formed on carbon protective film 600. After the above manufacturing steps, in step S111, an evaluation test is performed on the finished magnetic disk. However, on such a non-magnetic material such as an aluminum alloy substrate, a magnetic disk in which an alloy containing Co as a main component is used as a magnetic film 400 (recording film) via a base film using a Cr alloy film 400. , A sufficient SN ratio has not been obtained.
【００１０】また、ＨＤＤの面記録密度は、トラック密
度と線記録密度で決定される。上述の磁性層の特性の改
善は、この内の線記録密度の改善に大きく寄与する。磁
気記録では、磁化の向きが反転した部分（磁化反転）に
データを対応させる。磁化反転の長さは、磁気ディスク
の特性に左右される。磁性層の保磁力Ｈｃに反比例し、
残留磁束密度Ｂｒと厚さｔの積に比例することが知られ
ている。従って、線記録密度の高い磁気ディスクを作る
には、磁性層のＨｃを高め、Ｂｒ・ｔを小さくすればよ
い。[0010] The areal recording density of an HDD is determined by the track density and the linear recording density. The improvement of the characteristics of the magnetic layer described above greatly contributes to the improvement of the linear recording density. In magnetic recording, data is made to correspond to a portion where the direction of magnetization is reversed (magnetization reversal). The length of the magnetization reversal depends on the characteristics of the magnetic disk. Inversely proportional to the coercive force Hc of the magnetic layer,
It is known that it is proportional to the product of the residual magnetic flux density Br and the thickness t. Therefore, in order to produce a magnetic disk having a high linear recording density, Hc of the magnetic layer should be increased and Br · t should be reduced.
【００１１】現在、ＭＲヘッド，GMR ヘッド（例えば、
ヘッドスピンバルブ・ヘッド）等の磁気ヘッドと磁気デ
ィスクの組み合わせにおいて、磁気ディスクの磁性層５
００の膜厚ｔと残留磁束密度Ｂｒの積Ｂｒ・ｔは、１２
０Ｇμｍ以下にする必要があるといわれている。従っ
て、このＢｒ・ｔ≦１２０Ｇμｍの要求も満足する必要
がある。At present, MR heads and GMR heads (for example,
In a combination of a magnetic head and a magnetic disk such as a spin valve head, the magnetic layer 5 of the magnetic disk
The product Br · t of the film thickness t of 00 and the residual magnetic flux density Br is 12
It is said that the thickness needs to be 0 Gm or less. Therefore, it is necessary to satisfy the requirement of Br · t ≦ 120 G μm.
【００１２】従って、本発明は、高いＳＮ比を有し、高
密度記録に適した磁気記録媒体を提供することを目的と
する。更に本発明は、高いＳＮ比を有し、磁性層の膜厚
と残留磁化の積Ｂｒ・ｔが、１２０Ｇμｍ以下であり、
高密度記録に適した磁気記録媒体を提供することを目的
とする。Accordingly, an object of the present invention is to provide a magnetic recording medium having a high SN ratio and suitable for high-density recording. Further, the present invention has a high SN ratio, and the product Br · t of the thickness of the magnetic layer and the residual magnetization is 120 Gμm or less;
An object is to provide a magnetic recording medium suitable for high-density recording.
【００１３】更に本発明は、高いＳＮ比を有し、高密度
記録に適した磁気記録媒体の製造方法を提供することを
目的とする。更に本発明は、高いＳＮ比を有し、高密度
記録に適した磁気記録装置を提供することを目的とす
る。Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a magnetic recording medium having a high SN ratio and suitable for high-density recording. Another object of the present invention is to provide a magnetic recording device having a high SN ratio and suitable for high-density recording.
【００１４】[0014]
【課題を解決するための手段】本発明は、少なくとも磁
性層の下方に下地層を備えた磁気記録媒体であって、該
下地層は、酸化ニッケル膜から成る第一下地層と、前記
第一下地層の上に形成されたＣｒ系金属膜から成る第二
下地層とを有している。この第一下地層を形成する酸化
ニッケル膜は、ＮｉＯ，ＮｉＯ2 ，Ｎｉ3 Ｏ4 及びＮｉ
2 Ｏ3 のいずれかの単一組成膜又はこれらの混合物から
なり、その膜厚が３ｎｍ以下であることを特徴とする。
なお、この磁性層は、Ｃｏ系の磁性材料からなってお
り、第二下地層を形成するＣｒ系金属膜はＣｒとＭｏを
有している。According to the present invention, there is provided a magnetic recording medium provided with an underlayer at least below a magnetic layer, wherein the underlayer comprises a first underlayer comprising a nickel oxide film; A second underlayer made of a Cr-based metal film formed on the underlayer. The nickel oxide film forming the first underlayer is made of NiO, NiO 2 , Ni 3 O 4 and Ni
It is made of a single composition film of 2 O 3 or a mixture thereof, and has a thickness of 3 nm or less.
The magnetic layer is made of a Co-based magnetic material, and the Cr-based metal film forming the second underlayer has Cr and Mo.
【００１５】このような構成を採択することにより、磁
気記録媒体は、従来のそれに比較して、ＳＮ比が大幅に
改善されることが判明した。本発明者等は、その原因
を、第一及び第二下地層の組み合わせによる格子整合、
第二下地層を形成する酸化ニッケル膜による磁性層の微
粒子化によるものと推定している。更に、本発明に係る
磁気記録媒体が磁気ディスクを構成している。By adopting such a configuration, it has been found that the SN ratio of the magnetic recording medium is greatly improved as compared with the conventional one. The present inventors, the cause, lattice matching by the combination of the first and second underlayer,
It is presumed that this is due to the micronization of the magnetic layer by the nickel oxide film forming the second underlayer. Further, the magnetic recording medium according to the present invention constitutes a magnetic disk.
【００１６】更に、本発明に係る磁気記録媒体が磁気デ
ィスクを構成し、該磁気ディスクは、ＮｉＰメッキされ
たアルミ・サブストレートと、前記アルミ・サブストレ
ートの上に形成された前記第一下地層と、該第一下地層
の上の形成された前記第二下地層と、前記第二下地層の
上に形成された前記磁性層と、前記磁性層の上に形成さ
れたカーボン保護膜と、前記カーボン保護膜の上に形成
された潤滑層とを有している。Further, the magnetic recording medium according to the present invention constitutes a magnetic disk, and the magnetic disk includes a NiP-plated aluminum substrate and the first underlayer formed on the aluminum substrate. And the second underlayer formed on the first underlayer, the magnetic layer formed on the second underlayer, a carbon protective film formed on the magnetic layer, A lubricating layer formed on the carbon protective film.
【００１７】このような磁気ディスクは、磁性層自体の
構成は従来と変更がないため、従来と同様に、磁性膜の
膜厚ｔと残留磁束Ｂｒの積Ｂｒ・ｔが、１２０Ｇμｍ以
下である。更に本発明に係る磁気記録媒体の製造方法
は、少なくとも、酸化ニッケル膜から成る第一下地層を
成膜し、前記第一下地層の上にＣｒ系金属膜から成る第
二下地層を成膜し、第二下地層の上に磁性層を成膜する
諸工程を有している。これら第一下地層の成膜工程，第
二下地層の成膜及び磁性層の成膜工程は、何れもスパッ
タリング法によっている。この際、第一下地層を形成す
る酸化ニッケル膜は、膜厚が３ｎｍ以下に成膜される。In such a magnetic disk, the product Br.t of the thickness t of the magnetic film and the residual magnetic flux Br is equal to or less than 120 Gm, as in the conventional case, since the configuration of the magnetic layer itself is not changed. Further, in the method of manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention, at least a first underlayer made of a nickel oxide film is formed, and a second underlayer made of a Cr-based metal film is formed on the first underlayer. And a step of forming a magnetic layer on the second underlayer. The first underlayer, the second underlayer, and the magnetic layer are all formed by a sputtering method. At this time, the nickel oxide film forming the first underlayer is formed to a thickness of 3 nm or less.
【００１８】磁気記録媒体の製造方法に関して、このよ
うな諸工程を採用することにより製造された磁気記録媒
体は、従来のそれに比較して、ＳＮ比が大幅に改善され
ることが判明した。その原因を、本発明者等は上述のよ
うに推定している。更に、本発明に係る磁気記録装置
は、少なくとも、請求項１に記載の磁気記録媒体と、該
磁気記録媒体に対向して配されたＭＲヘッド又はGMR ヘ
ッドから成る磁気ヘッドとを備えている。As to the method of manufacturing the magnetic recording medium, it has been found that the SN ratio of the magnetic recording medium manufactured by adopting the above-described steps is significantly improved as compared with the conventional method. The present inventors presume the cause as described above. Further, a magnetic recording apparatus according to the present invention includes at least a magnetic recording medium according to claim 1 and a magnetic head including an MR head or a GMR head disposed to face the magnetic recording medium.
【００１９】ＭＲヘッド又はGMR ヘッドの様な磁気ヘッ
ドは、高感度で信号を検出するため、再生信号と共にノ
イズも感度良く検出されるが、上述のようなＳＮ比に優
れた磁気記録媒体を使用することで、磁気記録装置は一
層の高密度記録が達成できる。A magnetic head such as an MR head or a GMR head detects a signal with high sensitivity, so that noise is detected with high sensitivity together with a reproduced signal. However, a magnetic recording medium having an excellent SN ratio as described above is used. By doing so, the magnetic recording device can achieve higher density recording.
【００２０】[0020]
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る磁気記録媒
体，磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録装置の各々の
実施の形態について、添付の図面を参照しながら説明す
る。 ［磁気ディスク及びその製造方法］ （磁気ディスクの構成及び製造方法）図１及び図２を参
照しながら本実施形態に係る磁気記録媒体及び磁気記録
媒体の製造方法について説明する。ここで、図１は、具
体的には磁気ディスク記録媒体の断面構造を示す図であ
り、図２は、具体的には磁気ディスク記録媒体の製造方
法を示す図である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of a magnetic recording medium, a method for manufacturing a magnetic recording medium, and a magnetic recording apparatus according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. [Magnetic Disk and Manufacturing Method Thereof] (Structure and Manufacturing Method of Magnetic Disk) A magnetic recording medium and a method for manufacturing a magnetic recording medium according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. Here, FIG. 1 is a view specifically showing a cross-sectional structure of the magnetic disk recording medium, and FIG. 2 is a view specifically showing a method of manufacturing the magnetic disk recording medium.
【００２１】図１の磁気ディスク断面構造は、図６
（Ａ）の従来のそれと比較して、第一下地層３が追加さ
れている点で相違する。これに対応して、図２の磁気デ
ィスク記録媒体の製造方法は、図６（Ｂ）のそれと比較
して、ステップＳ０６の第二下地層形成工程が追加され
ている点で相違する。図２及び図１を対照しながら参照
すると、ステップＳ０１において、ハード・ディスク用
ディスク基板として、アルミ合金基板１が形成される。
このアルミ合金としては、好ましくは、強度及び耐食性
が優れている、例えば、Ａｌ−Ｍｇ合金のＡＡ−５０８
６をベースに種々改良された材料が使用される。このよ
うな磁気ディスクに許される欠陥の基準は、ＨＤＤ（ハ
ード・ディスク駆動装置）においてエラー訂正の手法が
発達したものの、実質的には一層厳しくなりつつある。The sectional structure of the magnetic disk shown in FIG.
The difference is that the first underlayer 3 is added as compared with the conventional case of (A). Correspondingly, the method of manufacturing the magnetic disk recording medium of FIG. 2 is different from that of FIG. 6B in that a second underlayer forming step of step S06 is added. Referring to FIG. 2 and FIG. 1 in contrast, in step S01, an aluminum alloy substrate 1 is formed as a disk substrate for a hard disk.
The aluminum alloy is preferably excellent in strength and corrosion resistance, for example, AA-508 of Al-Mg alloy.
6, a variety of improved materials are used. The standard of the defect allowed in such a magnetic disk is substantially stricter even though an error correction method has been developed in a hard disk drive (HDD).
【００２２】アルミ合金材料としては、後工程において
欠陥を生じる原因の一つとなるＡｌ−Ｆｅ，Ｍｇ−Ｓｉ
などの金属間化合物の含有量を極力する少なくするため
に高純度化し、又、それらが存在する場合には欠陥を生
じない大きさにまで小さくし、均一に分散させる必要が
ある。得られたアルミ合金の箔板は、ブランキング（型
抜き）、熱処理、、面取り加工、砥石による研磨等の作
業を経て、アルミ合金基板（「アルミ・サブストレー
ト」とも称される。）に仕上げられる。アルミ・サブス
トレートは、物理的特性として、例えば、３．５インチ
磁気ディスクでは平面度８μｍ，面粗さＲａ０．０４μ
ｍ程度が要求されるが、高記録密度化のため要求仕様は
年々厳しくなっている。このようにして、図１のＡｌ合
金基板１が形成される。As the aluminum alloy material, Al—Fe, Mg—Si, which is one of the causes of defects in a later process, is used.
In order to minimize the content of the intermetallic compound such as, it is necessary to purify the material to a minimum, and if it exists, it is necessary to reduce the content to a size that does not cause defects and to uniformly disperse the compound. The obtained aluminum alloy foil plate is finished into an aluminum alloy substrate (also referred to as “aluminum substrate”) through operations such as blanking (die cutting), heat treatment, chamfering, and grinding with a grindstone. Can be The aluminum substrate has physical properties such as a flatness of 8 μm and a surface roughness Ra of 0.04 μm for a 3.5-inch magnetic disk, for example.
m is required, but the required specifications are becoming stricter every year for higher recording density. Thus, the Al alloy substrate 1 of FIG. 1 is formed.
【００２３】ステップＳ０２において、Ａｌ合金基板１
の上に、ＮｉＰメッキ層２が形成される。ＮｉＰメッキ
層２の膜厚は、約１０ｎｍである。磁気ディスク基板と
しては、磁気ヘッドを低く浮上させるため平面度が良
く、表面が平滑であることが必要である。その為には上
述のアルミ・サブストレート自体の良好な平面度や面精
度が前提となるが、ディスク起動時と停止時におけるヘ
ッドとの接触に耐えるだけの充分な硬さ、及びディスク
表面を高精度に仕上げるための研磨加工を可能にする表
面硬度を持たせるため、柔らかいアルミ・サブストレー
ト上に硬質メッキ層が必要となる。このために、ＮｉＰ
メッキ層２が設けられている。In step S02, the Al alloy substrate 1
The NiP plating layer 2 is formed thereon. The thickness of the NiP plating layer 2 is about 10 nm. The magnetic disk substrate needs to have good flatness and a smooth surface in order to raise the magnetic head low. For this purpose, it is assumed that the aluminum substrate itself has good flatness and surface accuracy, but the hardness is high enough to withstand contact with the head when starting and stopping the disk, and the surface of the disk is high. A hard plating layer is required on a soft aluminum substrate in order to have a surface hardness that enables polishing processing for finishing with precision. Because of this, NiP
A plating layer 2 is provided.
【００２４】また、このＮｉＰメッキ層２は記録情報の
再生時にノイズが生じないよう、後述のスパッタ工程に
おける加熱を経ても非磁性であることが要求される。従
って、本来磁性であるＮｉに、無電界メッキ作業におい
てＰを含有させて非晶質・非磁性化させている。ステッ
プＳ０３において、ＮｉＰメッキされたアルミ合金基板
は、両面研磨加工される。ＮｉＰメッキ・アルミ合金基
板は、メッキ膜特有のノジュールなどの小突起を持ち面
粗さが大きいため、両面同時バフ研磨でアルミナ等の砥
粒を用い鏡面仕上げを行う。３．５インチ両面研磨され
たＮｉＰメッキアルミ合金基板の一般的な仕様は、平面
度８μｍ，面粗さＲａ０．００１μｍ程度である。この
ようにして、図１のＮｉＰメッキ層２が形成される。The NiP plating layer 2 is required to be non-magnetic even after being heated in a sputtering step described later so that noise does not occur when reproducing recorded information. Therefore, Ni, which is originally magnetic, is made amorphous and non-magnetic by adding P in the electroless plating operation. In step S03, the NiP-plated aluminum alloy substrate is polished on both sides. Since the NiP plated aluminum alloy substrate has small protrusions such as nodules peculiar to the plating film and has a large surface roughness, mirror polishing is performed using abrasive grains such as alumina by simultaneous buff polishing on both surfaces. General specifications of a 3.5-inch double-side polished NiP plated aluminum alloy substrate are a flatness of about 8 μm and a surface roughness Ra of about 0.001 μm. Thus, the NiP plating layer 2 of FIG. 1 is formed.
【００２５】ステップＳ０４において、両面研磨された
ＮｉＰメッキされたアルミ合金基板に対し、テクスチャ
加工が行われる。このテクスチャ加工は、ディスク起動
時と停止時時におけるヘッドの吸着を防止するため、機
械加工によって適度な粗さ（テクスチャ）を付与する工
程である。磁気ディスクがヘッドと接触する際の摩擦力
を減らし、適当な溝加工を行って両者の接触面積を小さ
くしている。In step S04, texture processing is performed on the NiP-plated aluminum alloy substrate polished on both sides. The texture processing is a step of providing a suitable roughness (texture) by mechanical processing in order to prevent the head from being attracted when the disk is started and stopped. The frictional force when the magnetic disk contacts the head is reduced, and an appropriate groove is formed to reduce the contact area between the two.
【００２６】ステップＳ０５において、テクスチャ加工
が施されたＮｉＰメッキ・アルミ合金基板は洗浄され
る。洗浄工程を経た清浄なＮｉＰメッキ・アルミ合金基
板は、対向ターゲット・スパッタリング装置を用いて、
第一下地層（ステップＳ０６）、第二下地層（ステップ
Ｓ０７）、磁性層（ステップＳ０８）、カーボン保護膜
（ステップＳ０９）の順にスパッタ膜が形成される。図
２において、これらの部分は、各工程のボックスが二重
枠で示してある。本実施形態では、静止対向式ターゲッ
ト・スパッタリング装置を用い、対向した２つのターゲ
ットの中間に基板を１枚ずつ搬送して停止し、任意所定
の膜厚に達するまでスパッタリング成膜する。成膜後、
基板は別のターゲット上に移送して停止し、成膜し、こ
うして４種類の材料を順次成膜する。しかし、成膜は、
静止対向式ターゲット・スパッタリング装置に限定され
ず、例えば基板搬送式（インライン・スパッタリング）
装置を使用してもよい。In step S05, the textured NiP plated aluminum alloy substrate is cleaned. The clean NiP plated aluminum alloy substrate after the cleaning process is
A sputtered film is formed in the order of the first underlayer (Step S06), the second underlayer (Step S07), the magnetic layer (Step S08), and the carbon protective film (Step S09). In FIG. 2, in these portions, boxes for each step are shown by double frames. In the present embodiment, a stationary facing target sputtering apparatus is used, and the substrates are transported one by one between two opposed targets and stopped, and sputtering is performed until an arbitrary predetermined film thickness is reached. After film formation,
The substrate is transferred to another target and stopped, and a film is formed. Thus, four kinds of materials are sequentially formed. However, film formation
It is not limited to a stationary facing type target sputtering apparatus, for example, a substrate transfer type (in-line sputtering)
A device may be used.
【００２７】良好な磁気特性を得るため、各成膜工程で
は、スパッタリング時のバックグランド圧力、アルゴン
圧、スパッタ電力等の条件は最適なものに制御される。
スパッタリング条件の違いによって、組成の他にも結晶
構造や粒子状態も変化し磁気特性の変化をもたらすから
である。以下、順に説明する。ステップＳ０６におい
て、ＮｉＰメッキ層２の上に、第一下地層３が形成され
る。第一下地層３は、膜厚３ｎｍ以下のＮｉＯ膜から成
る。このＮｉＯ膜は、ＮｉＯ，ＮｉＯ2 ，Ｎｉ3 Ｏ4 及
びＮｉ2 Ｏ3のいずれかの単一組成膜又はこれらの混合
物であってよい。ステップＳ０６における第一下地層３
の具体的な形成は、ＲＦ（高周波）マグネトロン・スパ
ッタ法を用いて行われる。先ず、成膜前に、成膜室の真
空度を約３×１０-7 Ｔｏｒｒ以下に排気し、アルミサ
ブストレートの温度を約２８０℃に加熱する。第一下地
層３の成膜時には、成膜室の真空度を約２５ｍＴｏｒｒ
に保つように成膜室にＡｒガスを導入し、印加バイアス
電圧はゼロボルトとして、成膜作業を行っている。この
ようにして、図１の第一下地層３が形成される。In order to obtain good magnetic characteristics, conditions such as background pressure, argon pressure, and sputtering power during sputtering are controlled to be optimal in each film forming step.
This is because, due to the difference in sputtering conditions, in addition to the composition, the crystal structure and the state of particles also change, resulting in a change in magnetic properties. Hereinafter, description will be made in order. In step S06, the first underlayer 3 is formed on the NiP plating layer 2. The first underlayer 3 is made of a NiO film having a thickness of 3 nm or less. The NiO film may be a single composition film of any of NiO, NiO 2 , Ni 3 O 4 and Ni 2 O 3 or a mixture thereof. First underlayer 3 in step S06
Is formed using an RF (high frequency) magnetron sputtering method. First, before film formation, the degree of vacuum in the film formation chamber is evacuated to about 3 × 10 −7 Torr or less, and the temperature of the aluminum substrate is heated to about 280 ° C. When forming the first underlayer 3, the degree of vacuum in the film forming chamber is set to about 25 mTorr.
Ar gas is introduced into the film forming chamber so as to maintain the bias voltage, and the applied bias voltage is set to zero volt to perform the film forming operation. Thus, the first underlayer 3 of FIG. 1 is formed.
【００２８】ステップＳ０７において、第一下地層３の
上に、第二下地層４が形成される。第二下地層４は、磁
性層５の磁気特性を発現させるため成膜され、Ｃｒ膜又
はＣｒ系合金膜が用いられる。本実施形態では、第二下
地層４は膜厚約２５ｎｍのＣｒ90Ｍｏ10膜（ａｔ％）が
用いられる。ステップＳ０７における第二下地層４の具
体的な形成は、成膜時には、成膜室の真空度を約５ｍＴ
ｏｒｒに保つように成膜室にＡｒガスを導入し、印加バ
イアス電圧は−２００ボルトとして、作業を行ってい
る。このようにして、図１の第二下地層４が形成され
る。In step S07, the second underlayer 4 is formed on the first underlayer 3. The second underlayer 4 is formed to exhibit the magnetic characteristics of the magnetic layer 5 and is made of a Cr film or a Cr-based alloy film. In the present embodiment, a Cr 90 Mo 10 film (at%) having a thickness of about 25 nm is used as the second underlayer 4. The specific formation of the second underlayer 4 in step S07 is as follows.
Ar gas is introduced into the film formation chamber so as to maintain the pressure at orr, and the applied bias voltage is set to -200 volts. Thus, the second underlayer 4 of FIG. 1 is formed.
【００２９】ステップＳ０８において、第二下地層４の
上に、磁性層５が形成される。磁性層５は、Ｃｏを主成
分とし、保磁力などの磁気特性やノイズを制御するため
ＣｒやＰｔ等の添加物を加えたＣｏＰｔＣｒ系合金薄膜
から成る。ここで、磁性層５における磁気特性やノイズ
制御特性に関しては、磁気異方性や結晶構造が反映する
ので、Ｃｏ，Ｐｔ，Ｃｒの組成及び第二下地層４の膜厚
等の最適化によりノイズ特性の改善が図られている。こ
のため、磁性層５の下層にはＣｒ系の第二下地層４を用
い、また、アルミサブストレートにはステップＳ０４の
テクスチャ加工が施されている。In step S08, the magnetic layer 5 is formed on the second underlayer 4. The magnetic layer 5 is made of a CoPtCr-based alloy thin film containing Co as a main component and adding additives such as Cr and Pt for controlling magnetic characteristics such as coercive force and noise. Here, the magnetic properties and the noise control properties of the magnetic layer 5 are reflected by the magnetic anisotropy and the crystal structure, and therefore, by optimizing the composition of Co, Pt, and Cr and the film thickness of the second underlayer 4, the noise is controlled. The characteristics are improved. Therefore, a Cr-based second underlayer 4 is used as the lower layer of the magnetic layer 5, and the aluminum substrate is textured in step S04.
【００３０】本実施形態では、磁性層５は膜厚２５ｎｍ
のＣｏ72Ｃｒ19Ｐｔ5 Ｔａ2 Ｎｂ2膜（ａｔ％）が用い
られる。ステップＳ０８における磁性層５の具体的な成
膜条件は、第二下地層のそれと同じである。即ち、成膜
時には、成膜室の真空度を約５ｍＴｏｒｒに保つように
成膜室にＡｒガスを導入し、印加バイアス電圧は−２０
０ボルトとして、作業を行っている。磁性層５として
は、所望により、その他の材料、例えば、ＣｏＮｉＣ
ｒ，ＣｏＣｒＴａ等の合金膜を用いることもできる。こ
のようにして、図１の磁性層５が形成される。In this embodiment, the magnetic layer 5 has a thickness of 25 nm.
Co 72 Cr 19 Pt 5 Ta 2 Nb 2 film (at%) is used. The specific conditions for forming the magnetic layer 5 in step S08 are the same as those of the second underlayer. That is, during film formation, Ar gas is introduced into the film formation chamber so that the degree of vacuum in the film formation chamber is maintained at about 5 mTorr, and the applied bias voltage is −20.
We are working with 0 volts. The magnetic layer 5 may be made of another material such as CoNiC, if desired.
An alloy film of r, CoCrTa or the like can also be used. Thus, the magnetic layer 5 of FIG. 1 is formed.
【００３１】ステップＳ０９において、磁性層５の上
に、カーボン保護膜６が形成される。この工程で形成さ
れる保護膜と次工程で形成される潤滑層は、磁性層５を
磁気ヘッドの接触摺動による破壊から防御するために設
けられている。従って、保護膜及び潤滑層は、夫々の特
性の他に両者の界面の特性が重要となる。カーボン保護
膜６には、硬度，ヤング率，内部応力，付着力等の機械
的等特性が必要とされる。本実施形態では、図１のカー
ボン保護膜６は、例えば、膜厚約８ｎｍの炭素皮膜から
成る。ステップＳ０９におけるカーボン保護膜６の具体
的な成膜条件は、成膜室の真空度を約１０ｍＴｏｒｒに
保つように成膜室にＡｒガスを導入し、印加バイアス電
圧はゼロ ボルトとして、作業を行っている。このよう
にして、図１のカーボン保護膜６が形成される。In step S09, a carbon protective film 6 is formed on the magnetic layer 5. The protective film formed in this step and the lubricating layer formed in the next step are provided to protect the magnetic layer 5 from destruction due to contact sliding of the magnetic head. Therefore, the properties of the interface between the protective film and the lubricating layer are important in addition to the respective properties. The carbon protective film 6 is required to have mechanical properties such as hardness, Young's modulus, internal stress, and adhesive force. In the present embodiment, the carbon protective film 6 in FIG. 1 is formed of, for example, a carbon film having a thickness of about 8 nm. The specific conditions for forming the carbon protective film 6 in step S09 are as follows: Ar gas is introduced into the film formation chamber so that the degree of vacuum in the film formation chamber is maintained at about 10 mTorr, and the applied bias voltage is set to zero volt. ing. Thus, the carbon protective film 6 of FIG. 1 is formed.
【００３２】ステップＳ１０において、カーボン保護膜
６の上に、潤滑層７がディッピング式によって形成され
る。潤滑層形成は、低いグライド高さ（ヘッド浮上高
さ）と耐摺動性とを両立させるためである。従って、潤
滑層７には、摩擦係数，境界潤滑性，自己修復性，ステ
ィクション特性，スピンオフ特性，耐蒸発性，耐分解性
等が重要な特性である。In step S10, a lubricating layer 7 is formed on the carbon protective film 6 by dipping. The formation of the lubricating layer is for achieving both low glide height (head flying height) and sliding resistance. Therefore, the lubricating layer 7 has important properties such as a coefficient of friction, boundary lubrication, self-healing, stiction, spin-off, evaporation resistance, and decomposition resistance.
【００３３】ここで、スティクション特性とは極めて平
滑な面間に液体が存在すると、その表面エネルギーによ
りその２面間に大きな力が働く現象をいい、スピンオフ
特性とは、磁気ディスクの回転に伴う遠心力により潤滑
剤が飛散する特性をいう。また、潤滑分子は保護膜表面
に物理吸着又は化学吸着により付着し、且つ潤滑性を有
する必要がある。Here, the stiction characteristic refers to a phenomenon in which when a liquid exists between extremely smooth surfaces, a large force acts between the two surfaces due to the surface energy. The spin-off characteristic refers to a phenomenon associated with the rotation of the magnetic disk. It refers to the property that lubricant is scattered by centrifugal force. Further, the lubricating molecules need to adhere to the surface of the protective film by physical adsorption or chemical adsorption and have lubricity.
【００３４】潤滑層７としては、一般に、ＰＦＰＥ（パ
ーフロロポリエーテル）系の潤滑剤が最も広く使用され
ている。本実施形態では、図１の潤滑層７は膜厚約２０
〜３０ÅのＰＦＰＥから成る液体潤滑剤が用いられ、デ
ィップ式により潤滑層が形成されている。しかし、この
潤滑層７は、所望により、例えばスプレー式のような他
の方式によって形成することもできる。このようにし
て、図１の潤滑層７が形成される。As the lubricating layer 7, a PFPE (perfluoropolyether) type lubricant is generally most widely used. In this embodiment, the lubricating layer 7 of FIG.
A liquid lubricant made of PFPE of up to 30 ° is used, and a lubricating layer is formed by a dipping method. However, the lubricating layer 7 can be formed by another method such as a spray method, if desired. Thus, the lubrication layer 7 of FIG. 1 is formed.
【００３５】以上の製造工程を経て、ステップＳ１１に
おいて、図１に示すように仕上がった磁気ディスクに対
して評価試験を行う。評価試験は、主として、グライド
テスト及びサーティファイから成る。グライドテスト
は、所定のグライド高さを保証するため、予め出力校正
されたピエゾ素子を搭載したヘッドを保証すべき高さで
浮上させ、ディスク保証領域においてヘッド・ディスク
間の接触が全く無いことを確認する試験である。After the above manufacturing steps, in step S11, an evaluation test is performed on the magnetic disk finished as shown in FIG. The evaluation test mainly consists of a glide test and a certification. In the glide test, in order to guarantee a predetermined glide height, a head equipped with a piezo element that has been calibrated in advance is floated at the height that should be guaranteed, and it is checked that there is no contact between the head and the disk in the disk guaranteed area. This is a test to confirm.
【００３６】サーティファイは、完成した磁気ディスク
をディスク駆動装置に搭載し、実際に駆動して、記録再
生特性、欠陥数等を検査し、要求仕様を満足しているか
否かを確認する試験である。 （第一及び第二下地層の機能）現在までの所、上述した
Ｃｏ系磁性層５の下地として、ＮｉＯ膜から成る第一下
地層３とＣｒ系第二下地層４とを設けたことによる、磁
気ディスク基板のノイズ減少に影響する金属学的な理論
究明は成されていない。然し、現時点で本発明者等は、
次の二点で、後述するような磁気ディスクのＳＮ比の向
上が達成されたものと考えている。The certification is a test in which a completed magnetic disk is mounted on a disk drive, actually driven, and the recording / reproducing characteristics, the number of defects and the like are inspected to confirm whether or not required specifications are satisfied. . (Functions of First and Second Underlayers) Until now, the first underlayer 3 made of a NiO film and the second underlayer 4 made of Cr are provided as the underlayer of the Co-based magnetic layer 5 described above. However, no metallurgical theory has been studied which affects the noise reduction of the magnetic disk substrate. However, at present, the present inventors
It is considered that the improvement of the SN ratio of the magnetic disk described below has been achieved at the following two points.
【００３７】（１）第一下地層，第二下地層及び磁性層
の格子整合により、結晶配向性が制御可能となり、磁性
層のｃ軸（磁化容易軸）が容易に面内に向けられる。 （２）第一下地層のＮｉＯ膜の存在により、その上に設
けられた磁性層５の結晶が微細化する。 先ず、従来技術では、図６（Ａ）に関連して説明したよ
うに、Ｃｒ合金膜から成る下地層４００の上に、直接、
Ｃｏ系合金膜から成る磁性層５００を設けている。この
場合、Ｃｒ系合金膜はｂｃｃ構造をとり、その格子定数
が決まっている。このＣｒ系合金膜の上に、Ｃｏ系合金
膜から成る磁性層５００がスパッタされると、Ｃｒ系合
金膜の（１００）面の格子（間隔０．２８８ｎｍ）の対
角線の長さに、ｈｃｐ構造（六方晶）を持つＣｏ系合金
膜の（００１）面の格子の一辺が略一致している。この
ため、Ｃｏ系合金膜の（００１）面が膜面に対して面内
に向いている状態にあり、高い保磁力Ｈｃを持つことが
できる。(1) The crystal orientation can be controlled by lattice matching of the first underlayer, the second underlayer, and the magnetic layer, and the c-axis (easy axis of magnetization) of the magnetic layer can be easily oriented in the plane. (2) Due to the presence of the NiO film of the first underlayer, the crystal of the magnetic layer 5 provided thereon is refined. First, in the related art, as described with reference to FIG. 6A, the base layer 400 made of a Cr alloy film is directly
A magnetic layer 500 made of a Co-based alloy film is provided. In this case, the Cr-based alloy film has a bcc structure, and its lattice constant is determined. When the magnetic layer 500 made of a Co-based alloy film is sputtered on the Cr-based alloy film, the hcp structure is set to the length of the diagonal line of the lattice (interval 0.288 nm) of the (100) plane of the Cr-based alloy film. One side of the lattice of the (001) plane of the Co-based alloy film having (hexagonal) substantially coincides. For this reason, the (001) plane of the Co-based alloy film is oriented in-plane with respect to the film surface, and can have a high coercive force Hc.
【００３８】本実施例に係る磁気ディスクでは、図１に
関連して説明したように、ＮｉＯ膜から成る第一下地層
３の上にＣｒ系第二下地層４を設け、更にこの第二下地
層の上にＣｏ系磁性層５を設けている。即ち、従来技術
に比較して、第一下地層３が追加されている。図３に示
すように、この場合、第一下地層３のＮｉＯ膜の（１０
０）面の格子の一辺ａ１（０．４１９ｎｍ）は、その上
に存在する第二下地層４のＣｒ系合金膜の（１００）面
の格子間隔ａ２（０．２８８ｎｍ）の対角線長（０．４
０７ｎｍ）と略一致するため、ＮｉＯ膜の上にＣｒ系合
金膜はエピタキシャル成長する。In the magnetic disk according to this embodiment, as described with reference to FIG. 1, a Cr-based second underlayer 4 is provided on the first underlayer 3 made of a NiO film, and the second underlayer 4 is further provided. A Co-based magnetic layer 5 is provided on the underlayer. That is, the first underlayer 3 is added as compared with the related art. As shown in FIG. 3, in this case, (10) of the NiO film of the first underlayer 3 is used.
One side a1 (0.419 nm) of the lattice on the (0) plane is a diagonal line length (0 .0) of the lattice spacing a2 (0.288 nm) on the (100) plane of the Cr-based alloy film of the second underlayer 4 present thereon. 4
07 nm), the Cr-based alloy film grows epitaxially on the NiO film.
【００３９】次ぎに、このＣｒ系合金膜の上に、磁性膜
であるＣｏ系合金膜が成長する段階は、従来技術と同じ
である。その為、従来技術と同じように、第一下地層３
を追加することにより、第二下地層の上に成膜されるＣ
ｏ系合金磁性膜のｃ軸が面内になるよう結晶配向性を制
御することが可能である。このように第一下地層３，第
二下地層４及び磁性層５が、順に格子整合することによ
り、従来技術に比較して、一層、Ｃｏ系合金磁性膜のｃ
軸（磁化容易軸）を面内に向けることが容易に成るもの
と思われる。更に、反強磁性体であるＮｉＯ膜と強磁性
体であるＣｏ系合金磁性膜との交換相互作用により、磁
性膜の磁化が熱的にも安定になるものと思われる。Next, the step of growing a Co-based alloy film, which is a magnetic film, on this Cr-based alloy film is the same as in the prior art. Therefore, as in the prior art, the first underlayer 3
Is added, C is formed on the second underlayer.
It is possible to control the crystal orientation so that the c-axis of the o-based alloy magnetic film is in the plane. As described above, the first underlayer 3, the second underlayer 4, and the magnetic layer 5 are lattice-matched in this order, so that the c-based alloy magnetic film is more c-type than the prior art.
It seems that the axis (easy axis of magnetization) can be easily oriented in the plane. Further, it is considered that the exchange interaction between the antiferromagnetic NiO film and the ferromagnetic Co-based alloy magnetic film makes the magnetization of the magnetic film thermally stable.
【００４０】更に、第一地下層３を形成するＮｉＯ膜は
化合物であり、このＮｉＯ膜をスパッタリングで成膜す
るとき、ＮｉＯ粒子は基板（ＮｉＰメッキアルミ合金基
板）に付着した際に動き（拡散し）難い性質を有してい
る。基板に付着した直後に拡散移動すると粒子サイズが
大形化する。しかし、ＮｉＯ粒子はほとんど拡散移動し
ないので、従って、ＮｉＯ粒子自体が微細化する傾向に
ある。このため磁気ディスクのノイズ減少に良い影響を
与えているものと思われる。 何れにしても、本実施形
態に係る図１及び図２に関連して説明した磁気ディスク
は、次ぎに説明するようなノイズ減少の効果を有してい
ることを確認している。 ［磁気ディスクの評価結果］図４は、本実施例に係る磁
気ディスク（図１参照）のノイズ特性の測定結果のグラ
フである。試料として用いた磁気ディスクは、Ｎｉメッ
キのＡｌ合金から成るアルミ・サブストレート上に、第
一下地層４としてＮｉ50Ｏ50膜、第二下地層５としてＣ
ｒ90Ｍｏ10膜，磁性層６としてＣｏ72Ｃｒ19Ｐｔ5 Ｔａ
2 Ｎｂ2 膜を夫々成膜したものである。Further, the NiO film forming the first underground layer 3 is a compound. When this NiO film is formed by sputtering, the NiO particles move (diffuse) when they adhere to the substrate (NiP plated aluminum alloy substrate). C) It has difficult properties. When the particles are diffused and moved immediately after being attached to the substrate, the particle size increases. However, since the NiO particles hardly diffuse and move, the NiO particles themselves tend to be fine. This seems to have a good effect on the noise reduction of the magnetic disk. In any case, it has been confirmed that the magnetic disk described in connection with FIGS. 1 and 2 according to the present embodiment has an effect of reducing noise as described below. [Evaluation Results of Magnetic Disk] FIG. 4 is a graph showing measurement results of noise characteristics of the magnetic disk (see FIG. 1) according to the present embodiment. The magnetic disk used as the sample was a Ni 50 O 50 film as the first underlayer 4 and a C under the second underlayer 5 on an aluminum substrate made of a Ni-plated Al alloy.
r 90 Mo 10 film, Co 72 Cr 19 Pt 5 Ta as the magnetic layer 6
2 Nb 2 films are formed respectively.
【００４１】図４中、横軸は第一下地層（ＮｉＯ膜）４
の膜厚を０〜１０ｎｍまで変化させ、縦軸はＳＮ比（信
号振幅に対する雑音振幅の比）をデシベル単位で表して
いる。従って、第一下地層４の膜厚ゼロ、換言すれば第
一下地層４が存在しないときのデータは、従来技術その
ものである。そのため、図４は、本実施形態に係る磁気
ディスクの第一下地層４を変化させたときのＳＮ比と従
来技術に係る磁気ディスクのＳＮ比との比較データであ
る。In FIG. 4, the horizontal axis represents the first underlayer (NiO film) 4
Is changed from 0 to 10 nm, and the vertical axis represents the SN ratio (ratio of noise amplitude to signal amplitude) in decibels. Therefore, the data when the thickness of the first underlayer 4 is zero, in other words, when the first underlayer 4 is not present, is the data of the related art. Therefore, FIG. 4 shows comparison data of the SN ratio when the first underlayer 4 of the magnetic disk according to the present embodiment is changed and the SN ratio of the magnetic disk according to the related art.
【００４２】図４を参照すると、従来技術の磁気ディス
クでは、ＳＮ比は約１９．６ｄＢであるのに対し、本実
施形態の磁気ディスクは、第一下地層４の膜厚約１．０
ｎｍで２０．４ｄＢ、膜厚約３．０ｎｍで約１９．６ｄ
Ｂの値を示している。特に、第一下地層４の膜厚約１．
０ｎｍでは、＋１ｄＢ近くも改善している。従って、第
一下地層４の膜厚ｔが０＜ｔ＜３．０ｎｍの範囲で、従
来技術に対して良好なＳＮ比を有する磁気ディスクが得
られることが判明した。Referring to FIG. 4, the SN ratio of the prior art magnetic disk is about 19.6 dB, whereas the magnetic disk of the present embodiment has the first underlayer 4 having a thickness of about 1.0.
20.4 dB in nm and about 19.6 dB in thickness of about 3.0 nm
The value of B is shown. In particular, the thickness of the first underlayer 4 is about 1.
At 0 nm, the improvement is close to +1 dB. Therefore, it has been found that a magnetic disk having a better SN ratio than the conventional technique can be obtained when the thickness t of the first underlayer 4 is in the range of 0 <t <3.0 nm.
【００４３】また、本実施形態に係る磁気ディスクを使
用した場合の磁気ディスクの磁性層の膜厚ｔと残留磁化
Ｂｒの積Ｂｒ・ｔは、表１に示すとおりである。The product Br · t of the thickness t of the magnetic layer of the magnetic disk and the residual magnetization Br when the magnetic disk according to the present embodiment is used is as shown in Table 1.
【００４４】[0044]
【表１】 [Table 1]
【００４５】ここで、本実施形態に係る磁気ディスクの
磁性層の膜厚ｔと残留磁化Ｂｒは、磁性層５を変更して
いないため、従来技術のそれらと何等変わらない。従っ
て、本実施形態に係る磁気ディスクも、従来技術に係る
それと同様に、Ｂｒ・ｔ≦１２０Ｇμｍの要求仕様を満
足している。 ［磁気ディスク駆動装置］図１に示すような構成を有
し、図２に示すような製造工程で製造された磁気ディス
クを用いたＨＤＤ（磁気ディスク駆動装置）を簡単に説
明する。Here, the thickness t and the residual magnetization Br of the magnetic layer of the magnetic disk according to this embodiment are not different from those of the prior art because the magnetic layer 5 is not changed. Accordingly, the magnetic disk according to the present embodiment also satisfies the required specifications of Br · t ≦ 120 G μm, similarly to the magnetic disk according to the related art. [Magnetic Disk Drive] A magnetic disk drive (HDD) using the magnetic disk manufactured as shown in FIG. 2 and having the configuration shown in FIG. 1 will be briefly described.
【００４６】図５は、ＨＤＤの要部を示す図である。磁
気記録媒体として、上述した磁気ディスク８が搭載さ
れ、回転駆動される。この磁気ディスク８の表面に対向
し、約２０ｎｍ程度の浮上量でＭＲヘッド又はGMR ヘッ
ド９が配置され、記録再生動作が行われる。ヘッドの位
置決めは、通常のアクチュエータと電磁式微動アクチュ
エータを組み合わせた２段式アクチュエータ１０を採用
している。更に、吸着フリー・スライダ１１を採用して
スライダと磁気ディスクの吸着を防いでいる。FIG. 5 is a diagram showing a main part of the HDD. The above-described magnetic disk 8 is mounted as a magnetic recording medium, and is driven to rotate. An MR head or GMR head 9 is arranged facing the surface of the magnetic disk 8 with a flying height of about 20 nm, and a recording / reproducing operation is performed. For positioning of the head, a two-stage actuator 10 in which a normal actuator and an electromagnetic fine actuator are combined is employed. Further, the suction free slider 11 is employed to prevent the slider and the magnetic disk from being sucked.
【００４７】[0047]
【発明の効果】本発明によれば、高いＳＮ比を有し、高
密度記録に適した磁気記録媒体を提供することができ
る。更に本発明によれば、高いＳＮ比を有し、磁性層の
膜厚と残留磁化の積Ｂｒ・ｔが、１２０Ｇμｍ以下であ
り、高密度記録に適した磁気記録媒体を提供することが
できる。According to the present invention, a magnetic recording medium having a high SN ratio and suitable for high-density recording can be provided. Further, according to the present invention, it is possible to provide a magnetic recording medium suitable for high-density recording, having a high SN ratio, a product Br · t of the thickness of the magnetic layer and the residual magnetization of 120 Gm or less.
【００４８】更に本発明によれば、高いＳＮ比を有し、
高密度記録に適した磁気記録媒体の製造方法を提供する
ことができる。更に本発明によれば、高いＳＮ比を有
し、高密度記録に適した磁気記録装置を提供することが
できる。Further, according to the present invention, a high SN ratio is provided,
A method for manufacturing a magnetic recording medium suitable for high-density recording can be provided. Further, according to the present invention, it is possible to provide a magnetic recording device having a high SN ratio and suitable for high-density recording.
【図１】図１は、磁気ディスク断面構造を示す図であ
る。FIG. 1 is a diagram showing a cross-sectional structure of a magnetic disk.
【図２】図２は、図１の磁気ディスクの製造工程のフロ
ーを示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a flow of a manufacturing process of the magnetic disk of FIG. 1;
【図３】図１の、磁気ディスクの第１及び第２下地層の
格子面間隔の関係を説明する図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a relationship between lattice spacings of first and second underlayers of the magnetic disk in FIG. 1;
【図４】図４は、図１の磁気ディスクのノイズ特性の測
定結果のグラフである。FIG. 4 is a graph showing a measurement result of noise characteristics of the magnetic disk of FIG. 1;
【図５】図４は、図１の磁気ディスクを使用した磁気デ
ィスク装置を示す図である。FIG. 5 is a diagram illustrating a magnetic disk drive using the magnetic disk of FIG. 1;
【図６】図６（Ａ）は、従来の磁気ディスクをの断面構
造を示す図であり、図６（Ｂ）はこの磁気ディスクの製
造工程のフローを示す図である。FIG. 6A is a diagram showing a cross-sectional structure of a conventional magnetic disk, and FIG. 6B is a diagram showing a flow of a manufacturing process of the magnetic disk.
１，１００：Ａｌ合金基板、 ２，２００：ＮｉＰメッ
キ層、 ３：第一下地層、 ４：第二下地層、 ５，５
００：磁性層、 ６，６００：カーボン保護層、 ７，
７００：潤滑層、 ４００：下地層1,100: Al alloy substrate, 2,200: NiP plating layer, 3: first underlayer, 4: second underlayer, 5,5
00: magnetic layer, 6,600: carbon protective layer, 7,
700: lubrication layer, 400: underlayer
フロントページの続き (72)発明者 岡本 巌 神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番 １号 富士通株式会社内 (72)発明者 篠原 正喜 神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番 １号 富士通株式会社内Continuation of the front page (72) Inventor Iwao Okamoto 4-1-1, Uedanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Inside Fujitsu Limited (72) Inventor Masaki Shinohara 4-1-1, Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Fujitsu Limited
Claims (20)
た磁気記録媒体に於いて、該下地層は、 酸化ニッケル膜から成る第一下地層と、 前記第一下地層の上に形成されたＣｒ系金属膜から成る
第二下地層とを有する、磁気記録媒体。1. A magnetic recording medium having an underlayer at least below a magnetic layer, wherein the underlayer is formed on a first underlayer made of a nickel oxide film and on the first underlayer. A magnetic recording medium having a second underlayer made of a Cr-based metal film.
て、 前記磁性層は、Ｃｏ系の磁性材料から成る、磁気記録媒
体。2. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the magnetic layer is made of a Co-based magnetic material.
て、 前記磁性層は、Ｃｏ，Ｃｒ，Ｐｔ，Ｔａ，Ｎｂを含んで
いる、磁気記録媒体。3. The magnetic recording medium according to claim 2, wherein the magnetic layer contains Co, Cr, Pt, Ta, and Nb.
て、 前記第一下地層を形成する酸化ニッケル膜は、膜厚が３
ｎｍ以下である、磁気記録媒体。4. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the nickel oxide film forming the first underlayer has a thickness of 3 nm.
a magnetic recording medium having a diameter of at most nm.
て、 前記第一下地層を形成する酸化ニッケル膜は、膜厚が約
２ｎｍである、磁気記録媒体。5. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the nickel oxide film forming the first underlayer has a thickness of about 2 nm.
て、 前記第一下地層を形成する前記酸化ニッケル膜は、Ｎｉ
Ｏ，ＮｉＯ2 ，Ｎｉ3Ｏ4 及びＮｉ2 Ｏ3 のいずれかの
単一組成膜又はこれらの混合物からなる、磁気記録媒
体。6. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the nickel oxide film forming the first underlayer is made of Ni
A magnetic recording medium comprising a single composition film of any of O, NiO 2 , Ni 3 O 4 and Ni 2 O 3 or a mixture thereof.
て、 前記第二下地層を形成する前記Ｃｒ系金属膜は、膜厚が
約２５ｎｍである、磁気記録媒体。7. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the Cr-based metal film forming the second underlayer has a thickness of about 25 nm.
て、 前記第二下地層を形成する前記Ｃｒ系金属膜は、Ｃｒと
Ｍｏを含んでいる、磁気記録媒体。8. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the Cr-based metal film forming the second underlayer contains Cr and Mo.
て、 前記磁気記録媒体は磁気ディスクである、磁気記録媒
体。9. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the magnetic recording medium is a magnetic disk.
て、前記磁気ディスクは、 ＮｉＰメッキされたアルミ・サブストレートと、 前記アルミ・サブストレートの上に形成された前記第一
下地層と、 該第一下地層の上の形成された前記第二下地層と、 前記第二下地層の上に形成された前記磁性層と、 前記磁性層の上に形成されたカーボン保護膜と、 前記カーボン保護膜の上に形成された潤滑層とを有して
いる、磁気記録媒体。10. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the magnetic disk comprises a NiP-plated aluminum substrate, and the first underlayer formed on the aluminum substrate. A second underlayer formed on the first underlayer, the magnetic layer formed on the second underlayer, a carbon protective film formed on the magnetic layer, A magnetic recording medium, comprising: a lubrication layer formed on a carbon protective film.
体に於いて、 前記磁性膜の膜厚ｔと残留磁束Ｂｒの積Ｂｒ・ｔが、１
２０Ｇμｍ以下である、磁気記録媒体。11. The magnetic recording medium according to claim 9, wherein the product Br · t of the thickness t of the magnetic film and the residual magnetic flux Br is 1
A magnetic recording medium having a thickness of 20 Gm or less.
第一下地層を成膜し、 前記第一下地層の上にＣｒ系金属膜から成る第二下地層
を成膜し、 前記第二下地層の上に磁性層を成膜する諸工程を有す
る、磁気記録媒体の製造方法。12. At least a first underlayer made of a nickel oxide film is formed, and a second underlayer made of a Cr-based metal film is formed on the first underlayer. A method for manufacturing a magnetic recording medium, comprising a step of forming a magnetic layer thereon.
造方法において、 前記第一下地層の成膜工程，前記第二下地層の成膜工程
及び前記磁性層の成膜工程は、何れもスパッタリング法
による、製造方法。13. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 12, wherein the step of forming the first underlayer, the step of forming the second underlayer, and the step of forming the magnetic layer are all performed. Manufacturing method by sputtering method.
造方法において、 前記第一下地層の成膜工程はＲＦマグネトロン・スパッ
タリング法による、製造方法。14. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 12, wherein the step of forming the first underlayer is performed by an RF magnetron sputtering method.
造方法において、 前記第二下地層の成膜工程はＤＣマグネトロン・スパッ
タリング法による、製造方法。15. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 12, wherein the step of forming the second underlayer is performed by a DC magnetron sputtering method.
造方法において、 前記磁性層はＣｏ系の磁性材料から成る、製造方法。16. The method according to claim 12, wherein the magnetic layer is made of a Co-based magnetic material.
造方法において、 前記第一下地層を形成する酸化ニッケル膜は、膜厚が３
ｎｍ以下に成膜される、製造方法。17. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 12, wherein the nickel oxide film forming the first underlayer has a thickness of 3 nm.
A manufacturing method in which a film is formed to a thickness of nm or less.
造方法において、 前記第一下地層を形成する酸化ニッケル膜は、ＮｉＯ，
ＮｉＯ2 ，Ｎｉ3 Ｏ4及びＮｉ2 Ｏ3 のいずれかの単一
組成膜又はこれらの混合物から成膜される、製造方法。18. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 12, wherein the nickel oxide film forming the first underlayer is made of NiO,
A manufacturing method comprising forming a single composition film of any of NiO 2 , Ni 3 O 4 and Ni 2 O 3 or a mixture thereof.
造方法において、 前記第二下地層を形成する前記Ｃｒ系金属膜は、Ｃｒと
Ｍｏを含んでいる、製造方法。。19. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 12, wherein the Cr-based metal film forming the second underlayer contains Cr and Mo. .
録媒体と、該磁気記録媒体に対向して配されたＭＲヘッ
ド又はGMR ヘッドから成る磁気ヘッドとを備えた磁気記
録装置。20. A magnetic recording apparatus comprising at least the magnetic recording medium according to claim 1, and a magnetic head comprising an MR head or a GMR head disposed to face the magnetic recording medium.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5475398A JPH11250438A (en) | 1998-03-06 | 1998-03-06 | Magnetic recording medium, production of magnetic recording medium and magnetic recorder |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5475398A JPH11250438A (en) | 1998-03-06 | 1998-03-06 | Magnetic recording medium, production of magnetic recording medium and magnetic recorder |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11250438A true JPH11250438A (en) | 1999-09-17 |
Family
ID=12979542
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5475398A Withdrawn JPH11250438A (en) | 1998-03-06 | 1998-03-06 | Magnetic recording medium, production of magnetic recording medium and magnetic recorder |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11250438A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7670694B2 (en) | 2006-12-22 | 2010-03-02 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Media for recording devices |
| JP2012230732A (en) * | 2011-04-26 | 2012-11-22 | Toshiba Corp | Perpendicular magnetic recording medium, manufacturing method thereof, and magnetic recording and reproducing device |
| JP2012230733A (en) * | 2011-04-26 | 2012-11-22 | Toshiba Corp | Magnetic recording medium, manufacturing method thereof and magnetic recording, and reproducing device |
-
1998
- 1998-03-06 JP JP5475398A patent/JPH11250438A/en not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7670694B2 (en) | 2006-12-22 | 2010-03-02 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Media for recording devices |
| JP2012230732A (en) * | 2011-04-26 | 2012-11-22 | Toshiba Corp | Perpendicular magnetic recording medium, manufacturing method thereof, and magnetic recording and reproducing device |
| JP2012230733A (en) * | 2011-04-26 | 2012-11-22 | Toshiba Corp | Magnetic recording medium, manufacturing method thereof and magnetic recording, and reproducing device |
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