JPH11246574A - フルオロアルキル基含有ホスホネートオリゴマー類及びその製造方法並びにこれを含有する界面活性剤及び樹脂組成物 - Google Patents
フルオロアルキル基含有ホスホネートオリゴマー類及びその製造方法並びにこれを含有する界面活性剤及び樹脂組成物Info
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- JPH11246574A JPH11246574A JP5895298A JP5895298A JPH11246574A JP H11246574 A JPH11246574 A JP H11246574A JP 5895298 A JP5895298 A JP 5895298A JP 5895298 A JP5895298 A JP 5895298A JP H11246574 A JPH11246574 A JP H11246574A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 撥水撥油性と高い界面活性性能を有する新規
なフルオロアルキル基含有ホスホネートオリゴマー類及
びその製造方法、これを用いた、撥水撥油性と親水性と
を種々の環境下で交互に発現させる界面活性剤及び優れ
た撥水撥油性と防汚性を有する樹脂組成物の提供。 【解決手段】 一般式（１）： ｛Ｒ1 及びＲ2 は（ＣＦ2)n Ｙ又はＣＦ（ＣＦ3)- 〔Ｏ
ＣＦ2 ＣＦ（ＣＦ3)〕p - ＯＣ3 Ｆ7 （ＹはＨ、Ｆ、又
はＣｌ、ｎは１〜１０の整数、ｐは０〜１０の整数。）
Ｒ3 及びＲ4 はＨ又はＣＨ３、Ｒ5 及びＲ6 は炭素数１
〜８のアルキル基、ＡはＣＯＯＨ、次式： 又はＣＯＮ（Ｒ7 ) Ｒ8 （Ｒ7 及びＲ8 は水素原子又は
炭素数１〜６のアルキル基。）ｍは１〜１００、ａ：ｂ
は１：９９〜９９：１。｝で表されるフルオロアルキル
基含有ホスホネートオリゴマー類及びその製造法並びに
これを有効成分とする界面活性剤及びこれを含有する樹
脂組成物。
なフルオロアルキル基含有ホスホネートオリゴマー類及
びその製造方法、これを用いた、撥水撥油性と親水性と
を種々の環境下で交互に発現させる界面活性剤及び優れ
た撥水撥油性と防汚性を有する樹脂組成物の提供。 【解決手段】 一般式（１）： ｛Ｒ1 及びＲ2 は（ＣＦ2)n Ｙ又はＣＦ（ＣＦ3)- 〔Ｏ
ＣＦ2 ＣＦ（ＣＦ3)〕p - ＯＣ3 Ｆ7 （ＹはＨ、Ｆ、又
はＣｌ、ｎは１〜１０の整数、ｐは０〜１０の整数。）
Ｒ3 及びＲ4 はＨ又はＣＨ３、Ｒ5 及びＲ6 は炭素数１
〜８のアルキル基、ＡはＣＯＯＨ、次式： 又はＣＯＮ（Ｒ7 ) Ｒ8 （Ｒ7 及びＲ8 は水素原子又は
炭素数１〜６のアルキル基。）ｍは１〜１００、ａ：ｂ
は１：９９〜９９：１。｝で表されるフルオロアルキル
基含有ホスホネートオリゴマー類及びその製造法並びに
これを有効成分とする界面活性剤及びこれを含有する樹
脂組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なフルオロア
ルキル基含有ホスホネートオリゴマー類及びその製造方
法並びに撥水撥油性及び親水性とを種々の環境下におい
て交互に発現させることができる界面活性剤及び優れた
撥水撥油性と防汚性を有する樹脂組成物に関するもので
ある。
ルキル基含有ホスホネートオリゴマー類及びその製造方
法並びに撥水撥油性及び親水性とを種々の環境下におい
て交互に発現させることができる界面活性剤及び優れた
撥水撥油性と防汚性を有する樹脂組成物に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】フルオロアルキル基を含有する化合物
は、耐光性、撥水撥油性、更には生理活性等の有用な性
質を示す化合物として注目を集めている。従来よりペル
フルオロオクタン酸等のフルオロアルキル基含有カルボ
ン酸が、水溶液中において高い界面特性を示すことは広
く知られており、フッ素系界面活性剤として利用されて
いる。しかしながら、公知のフッ素系界面活性剤は、親
水性基及び撥水性基のみにより構成された化合物である
ため、撥水撥油性等のフッ素原子に起因する優れた特性
と、親水性とを種々の環境下において交互に発現させる
ことが困難であった。界面活性剤の分野において、フッ
素、特に長鎖のフルオロアルキル基が導入された界面活
性剤は、従来の炭化水素系界面活性剤に比べて、フッ素
に起因した優れた性能を有することがことが注目され、
低分子量界面活性剤についてその報告は非常に多い。し
かしながら、フルオロアルキル基を導入した高分子量界
面活性剤の知見はほとんどない。
は、耐光性、撥水撥油性、更には生理活性等の有用な性
質を示す化合物として注目を集めている。従来よりペル
フルオロオクタン酸等のフルオロアルキル基含有カルボ
ン酸が、水溶液中において高い界面特性を示すことは広
く知られており、フッ素系界面活性剤として利用されて
いる。しかしながら、公知のフッ素系界面活性剤は、親
水性基及び撥水性基のみにより構成された化合物である
ため、撥水撥油性等のフッ素原子に起因する優れた特性
と、親水性とを種々の環境下において交互に発現させる
ことが困難であった。界面活性剤の分野において、フッ
素、特に長鎖のフルオロアルキル基が導入された界面活
性剤は、従来の炭化水素系界面活性剤に比べて、フッ素
に起因した優れた性能を有することがことが注目され、
低分子量界面活性剤についてその報告は非常に多い。し
かしながら、フルオロアルキル基を導入した高分子量界
面活性剤の知見はほとんどない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
解決しようとする課題は、撥水撥油性と高い界面活性性
能を有する新規なフルオロアルキル基含有ホスホネート
オリゴマー類及びその製造方法、並びにこれを有効成分
とする撥水撥油性と親水性とを種々の環境下において交
互に発現させることができる界面活性剤及び優れた撥水
撥油性と防汚性を有する樹脂組成物を提供することにあ
る。
解決しようとする課題は、撥水撥油性と高い界面活性性
能を有する新規なフルオロアルキル基含有ホスホネート
オリゴマー類及びその製造方法、並びにこれを有効成分
とする撥水撥油性と親水性とを種々の環境下において交
互に発現させることができる界面活性剤及び優れた撥水
撥油性と防汚性を有する樹脂組成物を提供することにあ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者らは鋭意検討を行った結果、特定の過酸化フルオ
ロアルカノイル類と、ビニル基を有するホスホネート化
合物と、ビニル基を有する特定の化合物とを反応させる
ことにより、新規なフルオロアルキル基含有ホスホネー
トオリゴマー類が得られ、これを含有する界面活性剤及
び樹脂組成物が前記課題を解決できることを見出し、本
発明を完成するに至った。
発明者らは鋭意検討を行った結果、特定の過酸化フルオ
ロアルカノイル類と、ビニル基を有するホスホネート化
合物と、ビニル基を有する特定の化合物とを反応させる
ことにより、新規なフルオロアルキル基含有ホスホネー
トオリゴマー類が得られ、これを含有する界面活性剤及
び樹脂組成物が前記課題を解決できることを見出し、本
発明を完成するに至った。
【０００５】すなわち、本発明は、下記一般式（１）：
【０００６】
【化８】
【０００７】｛式中、Ｒ1 及びＲ2 は同一又は異なっ
て、（ＣＦ2)n Ｙ又はＣＦ（ＣＦ3)- 〔ＯＣＦ2 ＣＦ
（ＣＦ3)〕p - ＯＣ3 Ｆ7 （式中、Ｙは水素原子、フッ
素原子又は塩素原子を示し、ｎは１〜１０の整数、ｐは
０〜１０の整数を示す。）を示し、Ｒ3 及びＲ4 は同一
又は異なって、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ5 及び
Ｒ6は同一又は異なって、炭素数１〜８の直鎖状又は分
岐状のアルキル基を示し、ＡはＣＯＯＨ、次式：
て、（ＣＦ2)n Ｙ又はＣＦ（ＣＦ3)- 〔ＯＣＦ2 ＣＦ
（ＣＦ3)〕p - ＯＣ3 Ｆ7 （式中、Ｙは水素原子、フッ
素原子又は塩素原子を示し、ｎは１〜１０の整数、ｐは
０〜１０の整数を示す。）を示し、Ｒ3 及びＲ4 は同一
又は異なって、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ5 及び
Ｒ6は同一又は異なって、炭素数１〜８の直鎖状又は分
岐状のアルキル基を示し、ＡはＣＯＯＨ、次式：
【０００８】
【化９】
【０００９】又はＣＯＮ（Ｒ7 ) Ｒ8 （式中、Ｒ7 及び
Ｒ8 は同一又は異なって、水素原子又は炭素数１〜６の
直鎖状又は分岐状のアルキル基を示す。）を示し、ｍは
１〜１００を示し、ａ：ｂのモル比は１：９９〜９９：
１である。｝で表されるフルオロアルキル基含有ホスホ
ネートオリゴマー類を提供するものである。
Ｒ8 は同一又は異なって、水素原子又は炭素数１〜６の
直鎖状又は分岐状のアルキル基を示す。）を示し、ｍは
１〜１００を示し、ａ：ｂのモル比は１：９９〜９９：
１である。｝で表されるフルオロアルキル基含有ホスホ
ネートオリゴマー類を提供するものである。
【００１０】また、本発明は、下記一般式（２）：
【００１１】
【化１０】
【００１２】（式中、Ｒ1 及びＲ2 は前記と同義であ
る。）で表される過酸化フルオロアルカノイル類と、下
記一般式（３）：
る。）で表される過酸化フルオロアルカノイル類と、下
記一般式（３）：
【００１３】
【化１１】
【００１４】（式中、Ｒ3 、Ｒ5 及びＲ6 は前記と同義
である。）で表されるビニル基を有するホスホネート化
合物と、下記一般式（４）：
である。）で表されるビニル基を有するホスホネート化
合物と、下記一般式（４）：
【００１５】
【化１２】 （式中、Ｒ4 及びＡは前記と同義である。）で表される
ビニル基を有する化合物と、を反応させて下記一般式
（１）：
ビニル基を有する化合物と、を反応させて下記一般式
（１）：
【００１６】
【化１３】
【００１７】｛式中、Ｒ1 及びＲ2 は同一又は異なっ
て、（ＣＦ2)n Ｙ又はＣＦ（ＣＦ3)- 〔ＯＣＦ2 ＣＦ
（ＣＦ3)〕p - ＯＣ3 Ｆ7 （式中、Ｙは水素原子、フッ
素原子又は塩素原子を示し、ｎは１〜１０の整数、ｐは
０〜１０の整数を示す。）を示し、Ｒ3 及びＲ4 は同一
又は異なって、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ5 及び
Ｒ6は同一又は異なって、炭素数１〜８の直鎖状又は分
岐状のアルキル基を示し、ＡはＣＯＯＨ、次式：
て、（ＣＦ2)n Ｙ又はＣＦ（ＣＦ3)- 〔ＯＣＦ2 ＣＦ
（ＣＦ3)〕p - ＯＣ3 Ｆ7 （式中、Ｙは水素原子、フッ
素原子又は塩素原子を示し、ｎは１〜１０の整数、ｐは
０〜１０の整数を示す。）を示し、Ｒ3 及びＲ4 は同一
又は異なって、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ5 及び
Ｒ6は同一又は異なって、炭素数１〜８の直鎖状又は分
岐状のアルキル基を示し、ＡはＣＯＯＨ、次式：
【００１８】
【化１４】
【００１９】又はＣＯＮ（Ｒ7 ) Ｒ8 （式中、Ｒ7 及び
Ｒ8 は同一又は異なって、水素原子又は炭素数１〜６の
直鎖状又は分岐状のアルキル基を示す。）を示し、ｍは
１〜１００を示し、ａ：ｂのモル比は１：９９〜９９：
１である。｝で表されるフルオロアルキル基含有ホスホ
ネートオリゴマー類を製造する方法を提供するものであ
る。
Ｒ8 は同一又は異なって、水素原子又は炭素数１〜６の
直鎖状又は分岐状のアルキル基を示す。）を示し、ｍは
１〜１００を示し、ａ：ｂのモル比は１：９９〜９９：
１である。｝で表されるフルオロアルキル基含有ホスホ
ネートオリゴマー類を製造する方法を提供するものであ
る。
【００２０】また、本発明は、前記一般式（１）で表さ
れるフルオロアルキル基含有ホスホネートオリゴマー類
を有効成分とする界面活性剤又は前記一般式（１）で表
されるフルオロアルキル基含有ホスホネートオリゴマー
類を含有する樹脂組成物を提供するものである。
れるフルオロアルキル基含有ホスホネートオリゴマー類
を有効成分とする界面活性剤又は前記一般式（１）で表
されるフルオロアルキル基含有ホスホネートオリゴマー
類を含有する樹脂組成物を提供するものである。
【００２１】
【発明の実施の形態】本発明に係るフルオロアルキル基
含有ホスホネートオリゴマー類は、前記一般式（１）で
表されるものである。式中、Ｒ1 及びＲ2 の好ましいも
のとしては、式；（ＣＦ2)n Ｙの中、ｎが１〜８、特
に、１〜５であり、Ｙがフッ素原子である。また、式：
ＣＦ（ＣＦ3)- 〔ＯＣＦ2 ＣＦ（ＣＦ3)〕p - ＯＣ3 Ｆ
7 の中、ｐが０〜８、特に０〜６である。また、Ｒ3 及
びＲ4 の好ましいものは水素原子である。Ｒ5 及びＲ6
の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ
−ペンチル基、イソペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソ
ヘキシル基、ｎ−ヘプチル、イソヘプチル、ｎ−オクチ
ル、イソオクチル基等が挙げられる。このうち、特にメ
チル基が好ましい。また、Ａにおいて、式：ＣＯＮ（Ｒ
7 ）Ｒ8 中、Ｒ7 及びＲ8 のアルキル基の具体例として
は、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓ
ｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ
−ヘキシル基、ｉｓｏ−ヘキシル基等が挙げられ、この
うち、Ｒ7 及びＲ8 は同一の基であって、且つメチル基
が好ましい。ｍの範囲は１〜１００、好ましくは１〜５
０、特に好ましくは１〜１０である。また、本発明の前
記一般式（１）で表されるオリゴマー類において、Ｒ1
及びＲ2 で示されるフルオロアルキル基がオリゴマー類
の片末端のみに導入されたオリゴマー類を任意の割合で
含んでいてもよい。
含有ホスホネートオリゴマー類は、前記一般式（１）で
表されるものである。式中、Ｒ1 及びＲ2 の好ましいも
のとしては、式；（ＣＦ2)n Ｙの中、ｎが１〜８、特
に、１〜５であり、Ｙがフッ素原子である。また、式：
ＣＦ（ＣＦ3)- 〔ＯＣＦ2 ＣＦ（ＣＦ3)〕p - ＯＣ3 Ｆ
7 の中、ｐが０〜８、特に０〜６である。また、Ｒ3 及
びＲ4 の好ましいものは水素原子である。Ｒ5 及びＲ6
の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ
−ペンチル基、イソペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソ
ヘキシル基、ｎ−ヘプチル、イソヘプチル、ｎ−オクチ
ル、イソオクチル基等が挙げられる。このうち、特にメ
チル基が好ましい。また、Ａにおいて、式：ＣＯＮ（Ｒ
7 ）Ｒ8 中、Ｒ7 及びＲ8 のアルキル基の具体例として
は、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓ
ｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ
−ヘキシル基、ｉｓｏ−ヘキシル基等が挙げられ、この
うち、Ｒ7 及びＲ8 は同一の基であって、且つメチル基
が好ましい。ｍの範囲は１〜１００、好ましくは１〜５
０、特に好ましくは１〜１０である。また、本発明の前
記一般式（１）で表されるオリゴマー類において、Ｒ1
及びＲ2 で示されるフルオロアルキル基がオリゴマー類
の片末端のみに導入されたオリゴマー類を任意の割合で
含んでいてもよい。
【００２２】次いで、本発明に係る一般式（１）で表さ
れるフルオロアルキル基含有ホスホネートオリゴマー類
の製造方法について説明する。反応原料となる上記一般
式（２）で表される過酸化フルオロアルカノイル類の具
体的な化合物としては、過酸化ジペルフルオロ−２−メ
チル−３−オキサヘキサノイル、過酸化ジペルフルオロ
−２，５−ジメチル−３，６−ジオキサノナノイル、過
酸化ジペルフルオロ−２，５，８−トリメチル−３，
６，９−トリオキサドデカノイル、過酸化ジペルフルオ
ロブチリル、過酸化ジペルフルオロヘプタノイル、過酸
化ジペルフルオロオクタノイル等が挙げられる。かかる
過酸化フルオロアルカノイル類の製造方法としては、公
知の方法を用いることができ、例えば、フルオロアルキ
ル基含有ハロゲン化アシルに、含フッ素芳香族溶媒又は
代替フロンのような含フッ素脂肪族溶媒中で、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナ
トリウム又は炭酸カリウムなどのアルカリの存在下で過
酸化水素を反応させる方法等により容易に得ることがで
きる。
れるフルオロアルキル基含有ホスホネートオリゴマー類
の製造方法について説明する。反応原料となる上記一般
式（２）で表される過酸化フルオロアルカノイル類の具
体的な化合物としては、過酸化ジペルフルオロ−２−メ
チル−３−オキサヘキサノイル、過酸化ジペルフルオロ
−２，５−ジメチル−３，６−ジオキサノナノイル、過
酸化ジペルフルオロ−２，５，８−トリメチル−３，
６，９−トリオキサドデカノイル、過酸化ジペルフルオ
ロブチリル、過酸化ジペルフルオロヘプタノイル、過酸
化ジペルフルオロオクタノイル等が挙げられる。かかる
過酸化フルオロアルカノイル類の製造方法としては、公
知の方法を用いることができ、例えば、フルオロアルキ
ル基含有ハロゲン化アシルに、含フッ素芳香族溶媒又は
代替フロンのような含フッ素脂肪族溶媒中で、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナ
トリウム又は炭酸カリウムなどのアルカリの存在下で過
酸化水素を反応させる方法等により容易に得ることがで
きる。
【００２３】第２の原料である一般式（３）で表される
ビニル基を有するホスホネート化合物の具体例として
は、ジメチルビニルホスホネート、ジエチルビニルホス
ホネート、ジ−ｎ−プロピルビニルホスホネート、ジ−
イソプロピルビニルホスホネート、ジ−ｎ−ブチルビニ
ルホスホネート、ジ−イソブチルビニルホスホネート、
ジ−ｎ−ペンチルビニルホスホネート、ジ−イソペンチ
ルビニルホスホネート、ジ−ｎ−ヘキシルビニルホスホ
ネート、ジ−イソヘキシルビニルホスホネート、ジ−ｎ
−ヘプチルビニルホスホネート、ジ−イソヘプチルビニ
ルホスホネート、ジ−ｎ−オクチルビニルホスホネー
ト、ジ−イソオクチルビニルホスホネート、メチルエチ
ルビニルホスホネート、メチル−ｎ−プロピルビニルホ
スホネート、メチルイソプロピルビニルホスホネート、
メチル−ｎ−ブチルビニルホスホネート、エチル−ｎ−
プロピルビニルホスホネート、エチル−ｎ−ブチルビニ
ルホスホネート等が挙げられる。
ビニル基を有するホスホネート化合物の具体例として
は、ジメチルビニルホスホネート、ジエチルビニルホス
ホネート、ジ−ｎ−プロピルビニルホスホネート、ジ−
イソプロピルビニルホスホネート、ジ−ｎ−ブチルビニ
ルホスホネート、ジ−イソブチルビニルホスホネート、
ジ−ｎ−ペンチルビニルホスホネート、ジ−イソペンチ
ルビニルホスホネート、ジ−ｎ−ヘキシルビニルホスホ
ネート、ジ−イソヘキシルビニルホスホネート、ジ−ｎ
−ヘプチルビニルホスホネート、ジ−イソヘプチルビニ
ルホスホネート、ジ−ｎ−オクチルビニルホスホネー
ト、ジ−イソオクチルビニルホスホネート、メチルエチ
ルビニルホスホネート、メチル−ｎ−プロピルビニルホ
スホネート、メチルイソプロピルビニルホスホネート、
メチル−ｎ−ブチルビニルホスホネート、エチル−ｎ−
プロピルビニルホスホネート、エチル−ｎ−ブチルビニ
ルホスホネート等が挙げられる。
【００２４】第３の反応原料である一般式（４）で表さ
れるビニル基を有する化合物の具体例としては、アクリ
ル酸、メタクリル酸、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミ
ド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）ア
クリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−イソプ
ロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアク
リルアミド、Ｎ−ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミ
ド、Ｎ−ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−イソブチル
（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）
アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，
Ｎ−ジイソプロピルアクリルアミド、２−ヒドロキシエ
チルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、４−ヒドロキシブチルアクリレート、Ｎ−アクリロ
イルモルフォリン等が挙げられる。
れるビニル基を有する化合物の具体例としては、アクリ
ル酸、メタクリル酸、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミ
ド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）ア
クリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−イソプ
ロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアク
リルアミド、Ｎ−ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミ
ド、Ｎ−ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−イソブチル
（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）
アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，
Ｎ−ジイソプロピルアクリルアミド、２−ヒドロキシエ
チルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、４−ヒドロキシブチルアクリレート、Ｎ−アクリロ
イルモルフォリン等が挙げられる。
【００２５】次いで、前記過酸化フルオロアルカノイル
類と、前記ビニル基を有するホスホネートと、前記ビニ
ル基を有する化合物とを反応させる条件について説明す
る。前記過酸化フルオロアルカノイル類と前記ビニル基
を有するホスホネート化合物と、前記ビニル基を有する
化合物とのモル比は、通常１：１〜１０：１〜２０の範
囲であり、好ましくは１：１〜５：１〜１０の範囲であ
る。反応は常圧で行うことが可能であり、反応温度は、
通常−２０〜１５０℃、好ましくは０〜１００℃であ
る。反応温度が−２０℃未満では、反応に長時間要する
傾向があり、一方、１５０℃を越えると反応系内の圧力
が高くなって、反応操作が困難になる傾向があるので好
ましくない。反応時間は、通常、３０分〜２０時間、好
ましくは３〜１０時間である。この反応は、無溶媒化で
行うこともできるが、過酸化フルオロアルカノイル類と
の反応をより円滑に行うため、溶媒下で反応を行うこと
が望ましい。反応溶媒としては、ハロゲン化脂肪族系の
溶媒が特に好ましく用いられ、例えば、塩化メチレン、
クロロホルム、２−クロロ−１，２−ジブロモ−１，
１，２−トリフルオロエタン、１，２−ジブロモヘキサ
フルオロプロパン、１，２−ジブロモテトラフルオロエ
タン、フルオロトリクロロメタン、ヘプタフルオロ−
２，３，３−トリクロロブタン、１，１，１，３−テト
ラクロロテトラフルオロプロパン、１，１，２−トリク
ロロトリフルオロプロパン、１，１，２−トリクロロト
リフルオロエタン、１，１−ジクロロ−２，２，３，
３，３−ペンタフルオロプロパン、１，３−ジクロロ−
１，２，２，３，３−ペンタフルオロプロパン等が挙げ
られ、これらの１種又は２種以上を組み合わせて用いる
ことができる。この中、特に１，１−ジクロロ−２，
２，３，３，３−ペンタフルオロプロパンと１，３−ジ
クロロ−１，２，２，３，３−ペンタフルオロプロパン
との混合溶媒が好ましい。過酸化フルオロアルカノイル
類のこれら溶媒中の濃度は、０．５〜３０重量％の範囲
とすることが好ましい。
類と、前記ビニル基を有するホスホネートと、前記ビニ
ル基を有する化合物とを反応させる条件について説明す
る。前記過酸化フルオロアルカノイル類と前記ビニル基
を有するホスホネート化合物と、前記ビニル基を有する
化合物とのモル比は、通常１：１〜１０：１〜２０の範
囲であり、好ましくは１：１〜５：１〜１０の範囲であ
る。反応は常圧で行うことが可能であり、反応温度は、
通常−２０〜１５０℃、好ましくは０〜１００℃であ
る。反応温度が−２０℃未満では、反応に長時間要する
傾向があり、一方、１５０℃を越えると反応系内の圧力
が高くなって、反応操作が困難になる傾向があるので好
ましくない。反応時間は、通常、３０分〜２０時間、好
ましくは３〜１０時間である。この反応は、無溶媒化で
行うこともできるが、過酸化フルオロアルカノイル類と
の反応をより円滑に行うため、溶媒下で反応を行うこと
が望ましい。反応溶媒としては、ハロゲン化脂肪族系の
溶媒が特に好ましく用いられ、例えば、塩化メチレン、
クロロホルム、２−クロロ−１，２−ジブロモ−１，
１，２−トリフルオロエタン、１，２−ジブロモヘキサ
フルオロプロパン、１，２−ジブロモテトラフルオロエ
タン、フルオロトリクロロメタン、ヘプタフルオロ−
２，３，３−トリクロロブタン、１，１，１，３−テト
ラクロロテトラフルオロプロパン、１，１，２−トリク
ロロトリフルオロプロパン、１，１，２−トリクロロト
リフルオロエタン、１，１−ジクロロ−２，２，３，
３，３−ペンタフルオロプロパン、１，３−ジクロロ−
１，２，２，３，３−ペンタフルオロプロパン等が挙げ
られ、これらの１種又は２種以上を組み合わせて用いる
ことができる。この中、特に１，１−ジクロロ−２，
２，３，３，３−ペンタフルオロプロパンと１，３−ジ
クロロ−１，２，２，３，３−ペンタフルオロプロパン
との混合溶媒が好ましい。過酸化フルオロアルカノイル
類のこれら溶媒中の濃度は、０．５〜３０重量％の範囲
とすることが好ましい。
【００２６】かくして、得られたフルオロアルキル基含
有ホスホネートオリゴマー類は、所望により、透析、再
沈澱法、再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィー等の
常法の精製手段により精製することができる。
有ホスホネートオリゴマー類は、所望により、透析、再
沈澱法、再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィー等の
常法の精製手段により精製することができる。
【００２７】次いで、本発明の界面活性剤について説明
する。本発明の界面活性剤において、有効成分であるフ
ルオロアルキル基含有ホスホネートオリゴマー類の好ま
しいものとしては、前記一般式（１）中、Ｒ1 及びＲ2
は、式；（ＣＦ2)n Ｙの中、ｎが１〜８、特に、４〜８
であり、Ｙがフッ素原子である。また、式：ＣＦ（ＣＦ
3)- 〔ＯＣＦ2 ＣＦ（ＣＦ3)〕p - ＯＣ3 Ｆ7の中、ｐ
が０〜１０、特に２〜１０である。界面活性の効果は、
Ｒ1 及びＲ2 のフルオロアルキル基の長さに影響を受
け、例えば、前述の式中のｐが大きくなるに従って、界
面活性の効果が高くなる傾向がある。また、Ｒ1 及びＲ
2 は同一の基であることが好ましい。Ｒ3 及びＲ4 の好
ましいものは水素原子又はメチル基である。Ｒ5 及びＲ
6 は好ましくは炭素数１〜５、特に好ましくは炭素数１
〜３のメチル基、エチル基、プロピル基の低級アルキル
基である。また、Ｒ5 及びＲ6 は、同一又は異なる基で
もよい。また、Ａにおいて、式：ＣＯＮ（Ｒ7 ）Ｒ
8中、Ｒ7 及びＲ8 は水素原子、炭素数１〜３のメチル
基、エチル基、プロピル基等が好ましい。ｍは、好まし
くは１〜５０、特に好ましくは１〜１０である。
する。本発明の界面活性剤において、有効成分であるフ
ルオロアルキル基含有ホスホネートオリゴマー類の好ま
しいものとしては、前記一般式（１）中、Ｒ1 及びＲ2
は、式；（ＣＦ2)n Ｙの中、ｎが１〜８、特に、４〜８
であり、Ｙがフッ素原子である。また、式：ＣＦ（ＣＦ
3)- 〔ＯＣＦ2 ＣＦ（ＣＦ3)〕p - ＯＣ3 Ｆ7の中、ｐ
が０〜１０、特に２〜１０である。界面活性の効果は、
Ｒ1 及びＲ2 のフルオロアルキル基の長さに影響を受
け、例えば、前述の式中のｐが大きくなるに従って、界
面活性の効果が高くなる傾向がある。また、Ｒ1 及びＲ
2 は同一の基であることが好ましい。Ｒ3 及びＲ4 の好
ましいものは水素原子又はメチル基である。Ｒ5 及びＲ
6 は好ましくは炭素数１〜５、特に好ましくは炭素数１
〜３のメチル基、エチル基、プロピル基の低級アルキル
基である。また、Ｒ5 及びＲ6 は、同一又は異なる基で
もよい。また、Ａにおいて、式：ＣＯＮ（Ｒ7 ）Ｒ
8中、Ｒ7 及びＲ8 は水素原子、炭素数１〜３のメチル
基、エチル基、プロピル基等が好ましい。ｍは、好まし
くは１〜５０、特に好ましくは１〜１０である。
【００２８】本発明の界面活性剤においては、有効成分
の量が、通常０．０１g/L 以上、好ましくは１g/L 以上
で、優れた界面活性効果を発揮する。本発明の界面活性
剤を使用するには、通常の方法で行うことができ、他の
公知の界面活性剤と併用することもできる。他の界面活
性剤としては、特に制限されないが、例えば、陰イオン
系界面活性剤、非イオン系界面活性剤及び陽イオン系界
面活性剤などが挙げられる。
の量が、通常０．０１g/L 以上、好ましくは１g/L 以上
で、優れた界面活性効果を発揮する。本発明の界面活性
剤を使用するには、通常の方法で行うことができ、他の
公知の界面活性剤と併用することもできる。他の界面活
性剤としては、特に制限されないが、例えば、陰イオン
系界面活性剤、非イオン系界面活性剤及び陽イオン系界
面活性剤などが挙げられる。
【００２９】陰イオン系界面活性剤としては、例えばス
ルホネート系、スルフェート系、カルボキシレート系等
ものが挙げられる。スルホネート系界面活性剤として
は、炭素数が９〜１５のアルキルベンゼンスルホネート
類、炭素数１２〜１６のアルキルスルホネート類、アル
ケン及びヒドロキシアルカンスルホネート、ジスルホネ
ート、α−オレフィンスルホネート等が挙げられる。ス
ルフェート系界面活性剤としては、獣脂脂肪アルコー
ル、オレイルアルコール、ラウリルアルコール、ミリス
チルアルコール、セチルアルコール、ステアリルアルコ
ール等の第一アルコール又は炭素数１０〜２０のオキソ
アルコール等の第二アルコールの硫酸モノエステル、ヒ
ドロキシカルボン酸、アミノカルボン酸、ヒドロキシス
ルホン酸、アミノスルホン酸、アルキルスルホコハク
酸、スルホコハク酸エステル、スルホコハク酸アルコー
ル等が挙げられる。また、ラウリル酸、ミリスチン酸、
パルミチン酸、ステアリン酸、ヤシ油、パーム核油、獣
脂脂肪酸等の石鹸も挙げることができる。
ルホネート系、スルフェート系、カルボキシレート系等
ものが挙げられる。スルホネート系界面活性剤として
は、炭素数が９〜１５のアルキルベンゼンスルホネート
類、炭素数１２〜１６のアルキルスルホネート類、アル
ケン及びヒドロキシアルカンスルホネート、ジスルホネ
ート、α−オレフィンスルホネート等が挙げられる。ス
ルフェート系界面活性剤としては、獣脂脂肪アルコー
ル、オレイルアルコール、ラウリルアルコール、ミリス
チルアルコール、セチルアルコール、ステアリルアルコ
ール等の第一アルコール又は炭素数１０〜２０のオキソ
アルコール等の第二アルコールの硫酸モノエステル、ヒ
ドロキシカルボン酸、アミノカルボン酸、ヒドロキシス
ルホン酸、アミノスルホン酸、アルキルスルホコハク
酸、スルホコハク酸エステル、スルホコハク酸アルコー
ル等が挙げられる。また、ラウリル酸、ミリスチン酸、
パルミチン酸、ステアリン酸、ヤシ油、パーム核油、獣
脂脂肪酸等の石鹸も挙げることができる。
【００３０】非イオン系界面活性剤としては、脂肪アル
コール、アルキルフェノール、脂肪酸、脂肪アミン、脂
肪酸アミド、エチレンオキシド−プロピレンオキシドブ
ロック共重合体、ポリエチレン化カルボン酸アミド、ア
ミノキシド、スルホキシド系などが挙げられる。
コール、アルキルフェノール、脂肪酸、脂肪アミン、脂
肪酸アミド、エチレンオキシド−プロピレンオキシドブ
ロック共重合体、ポリエチレン化カルボン酸アミド、ア
ミノキシド、スルホキシド系などが挙げられる。
【００３１】陽イオン界面活性剤としては、少なくとも
１つが炭素数１２〜１８のアルキル基である脂肪族アミ
ンの有機酸塩又は無機酸塩及びその４級アンモニウム
塩、ベンジル基などのアリール基を持つ芳香族４級アン
モニウム塩、ピリジウム塩、イミダゾリウム塩などの複
素環４級アンモニウム塩や、スルホニル塩、ホスホニウ
ム塩などのオニウム塩が挙げられる。これら他の公知の
界面活性剤はナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム
塩、モノ−、ジ−又はトリエタノールアミン等の有機酸
塩として存在してもよい。また、これらの化合物はその
１種又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
１つが炭素数１２〜１８のアルキル基である脂肪族アミ
ンの有機酸塩又は無機酸塩及びその４級アンモニウム
塩、ベンジル基などのアリール基を持つ芳香族４級アン
モニウム塩、ピリジウム塩、イミダゾリウム塩などの複
素環４級アンモニウム塩や、スルホニル塩、ホスホニウ
ム塩などのオニウム塩が挙げられる。これら他の公知の
界面活性剤はナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム
塩、モノ−、ジ−又はトリエタノールアミン等の有機酸
塩として存在してもよい。また、これらの化合物はその
１種又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３２】また、その他の任意成分として、通常の洗
浄剤の成分、例えば泡安定剤、泡抑制剤、カルシウムの
錯化剤もしくは沈澱剤、柔軟付与剤、アルカリ剤又は電
解質、漂白剤、漂白剤活性剤、再沈着防止剤、腐蝕防止
剤、殺菌性物質、酵素、酵素安定剤、増白剤、着色剤、
蛍光剤等と併用することができる。本発明の界面活性剤
は、撥水撥油性等のフッ素原子に起因した優れた特性を
有するので、安定性の高いペシクル剤、医薬農薬の助
剤、医療材料、酸素富化膜、各種潤滑剤の添加剤、塗
料、インキのレベリング剤、ペイントムーバー、レジス
ト剥離剤、洗浄用起泡剤、繊維処理剤及びフッ素系樹脂
表面改質剤等として利用することができる。
浄剤の成分、例えば泡安定剤、泡抑制剤、カルシウムの
錯化剤もしくは沈澱剤、柔軟付与剤、アルカリ剤又は電
解質、漂白剤、漂白剤活性剤、再沈着防止剤、腐蝕防止
剤、殺菌性物質、酵素、酵素安定剤、増白剤、着色剤、
蛍光剤等と併用することができる。本発明の界面活性剤
は、撥水撥油性等のフッ素原子に起因した優れた特性を
有するので、安定性の高いペシクル剤、医薬農薬の助
剤、医療材料、酸素富化膜、各種潤滑剤の添加剤、塗
料、インキのレベリング剤、ペイントムーバー、レジス
ト剥離剤、洗浄用起泡剤、繊維処理剤及びフッ素系樹脂
表面改質剤等として利用することができる。
【００３３】次いで、本発明の樹脂組成物について説明
する。本発明の樹脂組成物に含有されるフルオロアルキ
ル基含有ホスホネートオリゴマー類の好ましいものとし
ては、前記一般式（１）中、Ｒ1 及びＲ2 は、式；（Ｃ
Ｆ2)n Ｙの中、ｎが１〜８、特に、１〜５であり、Ｙが
フッ素原子である。また、式：ＣＦ（ＣＦ3)- 〔ＯＣＦ
2 ＣＦ（ＣＦ3)〕p - ＯＣ3 Ｆ7 の中、ｐが０〜１０、
特に０〜２である。また、Ｒ1 及びＲ2 は同一の基であ
ることが好ましい。Ｒ3 及びＲ4 の好ましいものは水素
原子又はメチル基である。Ｒ5 及びＲ6は好ましくは炭
素数１〜５、特に好ましくは炭素数１〜３のメチル基、
エチル基、プロピル基の低級アルキル基である。また、
Ｒ5 及びＲ6 は、同一又は異なる基でもよい。また、Ａ
において、式：ＣＯＮ（Ｒ7 ）Ｒ8 中、Ｒ7 及びＲ8 は
水素原子、炭素数１〜３のメチル基、エチル基、プロピ
ル基等が好ましい。ｍは、好ましくは１〜５０、特に好
ましくは１〜１０である。
する。本発明の樹脂組成物に含有されるフルオロアルキ
ル基含有ホスホネートオリゴマー類の好ましいものとし
ては、前記一般式（１）中、Ｒ1 及びＲ2 は、式；（Ｃ
Ｆ2)n Ｙの中、ｎが１〜８、特に、１〜５であり、Ｙが
フッ素原子である。また、式：ＣＦ（ＣＦ3)- 〔ＯＣＦ
2 ＣＦ（ＣＦ3)〕p - ＯＣ3 Ｆ7 の中、ｐが０〜１０、
特に０〜２である。また、Ｒ1 及びＲ2 は同一の基であ
ることが好ましい。Ｒ3 及びＲ4 の好ましいものは水素
原子又はメチル基である。Ｒ5 及びＲ6は好ましくは炭
素数１〜５、特に好ましくは炭素数１〜３のメチル基、
エチル基、プロピル基の低級アルキル基である。また、
Ｒ5 及びＲ6 は、同一又は異なる基でもよい。また、Ａ
において、式：ＣＯＮ（Ｒ7 ）Ｒ8 中、Ｒ7 及びＲ8 は
水素原子、炭素数１〜３のメチル基、エチル基、プロピ
ル基等が好ましい。ｍは、好ましくは１〜５０、特に好
ましくは１〜１０である。
【００３４】本発明において適用できる樹脂としては、
特に限定はなく、ゴムの組成物として用いる場合には、
例えば天然ゴム、スチレン−ブタジエン系ゴム（ＳＢ
Ｒ）、アクロニトリル−ブタジエン系ゴム（ＮＢＲ）、
ブチルゴム（ＩＩＲ）、ポリブタジエンゴム（ＢＲ）、
エチレン−プロピレン系ゴム（ＥＰＰＭ）、クロロブチ
レンゴム（ＣＲ）、ポリイソブチレンゴム、アクリルゴ
ム、水素化アクロニトリル−ブタジエンゴム、多硫化ゴ
ム、ウレタンゴム、クリリスルホン化ゴム、シリコーン
ゴム及びこれらの変性物等が挙げられ、これらは、２種
以上のブレンドゴムであってもよい。また、その他シー
ト、フィルム、容器、繊維等の樹脂成型品を得る場合に
マトリックスとなる樹脂類としては、例えばポリ塩化ビ
ニル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポ
リアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリスチレン樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、熱可塑
性アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂、エポキシ樹脂、不飽
和ポリエステル樹脂、ジアリールフタレート樹脂、フェ
ノール樹脂、尿素樹脂等の熱硬化性樹脂、アルキド樹
脂、メラニン樹脂、グアナジン樹脂、ビニル系樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリアミン樹脂、アクリル樹脂、ポリブタ
ジエン樹脂、ウレタン樹脂、ケイ素樹脂、含フッ素樹脂
及びそれらの変性物等が挙げられる。
特に限定はなく、ゴムの組成物として用いる場合には、
例えば天然ゴム、スチレン−ブタジエン系ゴム（ＳＢ
Ｒ）、アクロニトリル−ブタジエン系ゴム（ＮＢＲ）、
ブチルゴム（ＩＩＲ）、ポリブタジエンゴム（ＢＲ）、
エチレン−プロピレン系ゴム（ＥＰＰＭ）、クロロブチ
レンゴム（ＣＲ）、ポリイソブチレンゴム、アクリルゴ
ム、水素化アクロニトリル−ブタジエンゴム、多硫化ゴ
ム、ウレタンゴム、クリリスルホン化ゴム、シリコーン
ゴム及びこれらの変性物等が挙げられ、これらは、２種
以上のブレンドゴムであってもよい。また、その他シー
ト、フィルム、容器、繊維等の樹脂成型品を得る場合に
マトリックスとなる樹脂類としては、例えばポリ塩化ビ
ニル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポ
リアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリスチレン樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、熱可塑
性アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂、エポキシ樹脂、不飽
和ポリエステル樹脂、ジアリールフタレート樹脂、フェ
ノール樹脂、尿素樹脂等の熱硬化性樹脂、アルキド樹
脂、メラニン樹脂、グアナジン樹脂、ビニル系樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリアミン樹脂、アクリル樹脂、ポリブタ
ジエン樹脂、ウレタン樹脂、ケイ素樹脂、含フッ素樹脂
及びそれらの変性物等が挙げられる。
【００３５】該フルオロアルキル基含有ホスホネートオ
リゴマー類の樹脂に対する添加量は、通常０．０１〜１
０重量％、好ましくは０．５〜５重量％である。また、
他の成分としては、ホワイトカーボン、カーボンブラッ
ク、ゼオライト、炭酸カルシウム、クレー、硫酸バリウ
ム、炭酸マグネシウム等の無機質充填剤、ハイスチレン
樹脂、リグニン、フェノール樹脂等の有機質充填剤、抗
菌剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、体質顔料、分散助
剤、加硫剤、加硫促進剤、加硫助剤、軟化剤、老化防止
剤、可塑剤等が挙げられる。本発明に係る樹脂組成物
は、優れた撥水撥油性及び防汚性を有する。
リゴマー類の樹脂に対する添加量は、通常０．０１〜１
０重量％、好ましくは０．５〜５重量％である。また、
他の成分としては、ホワイトカーボン、カーボンブラッ
ク、ゼオライト、炭酸カルシウム、クレー、硫酸バリウ
ム、炭酸マグネシウム等の無機質充填剤、ハイスチレン
樹脂、リグニン、フェノール樹脂等の有機質充填剤、抗
菌剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、体質顔料、分散助
剤、加硫剤、加硫促進剤、加硫助剤、軟化剤、老化防止
剤、可塑剤等が挙げられる。本発明に係る樹脂組成物
は、優れた撥水撥油性及び防汚性を有する。
【００３６】
【実施例】次に、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説
明するが、これは単に例示であって、本発明を制限する
ものではない。 実施例１ コンデンサー、温度計、撹拌機、滴下ロートを備えた２
００mL四つ口フラスコ中、ジエチルビニルホスホネート
１．４４ｇ（８．８mmol）、アクリル酸２．０９ｇ（２
９mmol）を、1,1-ジクロロ-2,2,3,3,3- ペンタフルオロ
プロパン及び1,3-ジクロロ-1,2,2,3,3- ペンタフルオロ
プロパンの１：１混合溶媒（AK-225) ５５ｇに溶解さ
せ、過酸化ペルフルオロブチリル１．２４ｇ（２．９ｍ
モル）を該AK-225溶液に室温下、窒素気流中で、すばや
く滴下した。その後、４０℃に加熱し、５時間撹拌させ
た。反応後、減圧下にて溶媒を留去させ、得られた粗生
成物をＡＫ−２２５を溶媒として透析精製を行った。そ
の後、残留物を真空乾燥させることにより、コオリゴマ
ー１．９８ｇ（収率 ４４％）を得た。ＧＰＣにより求
めた平均分子量は、８００であった。ＦＴ−ＩＲ、1 Ｈ
−ＮＭＲ、19Ｆ−ＮＭＲにより、生成物の確認を行っ
た。分析結果より、得られた生成物は表１中の試料Ａの
構造を有するフルオロアルキル基含有ホスホネートオリ
ゴマー類であることを確認した。
明するが、これは単に例示であって、本発明を制限する
ものではない。 実施例１ コンデンサー、温度計、撹拌機、滴下ロートを備えた２
００mL四つ口フラスコ中、ジエチルビニルホスホネート
１．４４ｇ（８．８mmol）、アクリル酸２．０９ｇ（２
９mmol）を、1,1-ジクロロ-2,2,3,3,3- ペンタフルオロ
プロパン及び1,3-ジクロロ-1,2,2,3,3- ペンタフルオロ
プロパンの１：１混合溶媒（AK-225) ５５ｇに溶解さ
せ、過酸化ペルフルオロブチリル１．２４ｇ（２．９ｍ
モル）を該AK-225溶液に室温下、窒素気流中で、すばや
く滴下した。その後、４０℃に加熱し、５時間撹拌させ
た。反応後、減圧下にて溶媒を留去させ、得られた粗生
成物をＡＫ−２２５を溶媒として透析精製を行った。そ
の後、残留物を真空乾燥させることにより、コオリゴマ
ー１．９８ｇ（収率 ４４％）を得た。ＧＰＣにより求
めた平均分子量は、８００であった。ＦＴ−ＩＲ、1 Ｈ
−ＮＭＲ、19Ｆ−ＮＭＲにより、生成物の確認を行っ
た。分析結果より、得られた生成物は表１中の試料Ａの
構造を有するフルオロアルキル基含有ホスホネートオリ
ゴマー類であることを確認した。
【００３７】実施例２ 反応原料として、ジエチルビニルホスホネート１．６４
ｇ（１０mmol）、アクリル酸２．４５ｇ（３４mmol）、
過酸化ジペルフルオロ−２−メチル−３−オキサヘキサ
ノイル２．２４ｇ（３．４mmol）を用いる以外は、実施
例１と同様に合成することにより、コオリゴマー２．８
３ｇ（収率 ４７％）を得た。ＧＰＣにより求めた平均
分子量は、1,500 であった。ＦＴ−ＩＲ、1 Ｈ−ＮＭ
Ｒ、19Ｆ−ＮＭＲにより、生成物の確認を行った。ま
た、1 Ｈ−ＮＭＲから求めたモル重合比（ホスホネー
ト：アクリル酸）は、７：９３であった。
ｇ（１０mmol）、アクリル酸２．４５ｇ（３４mmol）、
過酸化ジペルフルオロ−２−メチル−３−オキサヘキサ
ノイル２．２４ｇ（３．４mmol）を用いる以外は、実施
例１と同様に合成することにより、コオリゴマー２．８
３ｇ（収率 ４７％）を得た。ＧＰＣにより求めた平均
分子量は、1,500 であった。ＦＴ−ＩＲ、1 Ｈ−ＮＭ
Ｒ、19Ｆ−ＮＭＲにより、生成物の確認を行った。ま
た、1 Ｈ−ＮＭＲから求めたモル重合比（ホスホネー
ト：アクリル酸）は、７：９３であった。
【００３８】ＦＴ−ＩＲ（KBr 、cm-1）；3210（Ｏ
Ｈ）、1730（Ｃ＝Ｏ）、1270（ＣＦ2 ）、1210（Ｐ＝
Ｏ）、1030（Ｐ−Ｏ）1 Ｈ−ＮＭＲ（δ、D20 ）；1.00〜1.86（ＣＨ2 ）、2.
10〜2.80（ＣＨ）、3.84〜4.08（ＣＨ3 ）、4.10〜4.40
（ＣＨ2 ）19 Ｆ−ＮＭＲ（δ、D20 、ext.CF3COOH ）；-6.96 、-5
3.95 分析結果より、得られた生成物は表１中の試料Ｂの構造
を有するフルオロアルキル基含有ホスホネートオリゴマ
ー類であることを確認した。
Ｈ）、1730（Ｃ＝Ｏ）、1270（ＣＦ2 ）、1210（Ｐ＝
Ｏ）、1030（Ｐ−Ｏ）1 Ｈ−ＮＭＲ（δ、D20 ）；1.00〜1.86（ＣＨ2 ）、2.
10〜2.80（ＣＨ）、3.84〜4.08（ＣＨ3 ）、4.10〜4.40
（ＣＨ2 ）19 Ｆ−ＮＭＲ（δ、D20 、ext.CF3COOH ）；-6.96 、-5
3.95 分析結果より、得られた生成物は表１中の試料Ｂの構造
を有するフルオロアルキル基含有ホスホネートオリゴマ
ー類であることを確認した。
【００３９】実施例３ 反応原料として、ジエチルビニルホスホネート１．２５
ｇ（７．７mmol）、アクリル酸１．８０ｇ（２５mmo
l）、過酸化ジペルフルオロ−２, ５−ジメチル−３,
６−ジオキサノナノイル２．４８ｇ（２．５mmol）を用
いる以外は、実施例１と同様に合成することにより、コ
オリゴマー２．１７ｇ（収率 ２２％）を得た。ＧＰＣ
により求めた平均分子量は、1,600 であった。ＦＴ−Ｉ
Ｒ、1 Ｈ−ＮＭＲ、19Ｆ−ＮＭＲにより、生成物の確認
を行った。
ｇ（７．７mmol）、アクリル酸１．８０ｇ（２５mmo
l）、過酸化ジペルフルオロ−２, ５−ジメチル−３,
６−ジオキサノナノイル２．４８ｇ（２．５mmol）を用
いる以外は、実施例１と同様に合成することにより、コ
オリゴマー２．１７ｇ（収率 ２２％）を得た。ＧＰＣ
により求めた平均分子量は、1,600 であった。ＦＴ−Ｉ
Ｒ、1 Ｈ−ＮＭＲ、19Ｆ−ＮＭＲにより、生成物の確認
を行った。
【００４０】ＦＴ−ＩＲ（KBr 、cm-1）；3200（Ｏ
Ｈ）、1720（Ｃ＝Ｏ）、1270（ＣＦ2 ）、1210（Ｐ＝
Ｏ）、1030（Ｐ−Ｏ）1 Ｈ−ＮＭＲ（δ、D20 ）；1.00〜1.86（ＣＨ2 ）、2.
10〜2.80（ＣＨ）、3.84〜4.08（ＣＨ3 ）、4.10〜4.40
（ＣＨ2 ）19 Ｆ−ＮＭＲ（δ、D20 、ext.CF3COOH ）；-6.96 、-5
3.95 分析結果より、得られた生成物は表１中の試料Ｃの構造
を有するフルオロアルキル基含有ホスホネートオリゴマ
ー類であることを確認した。
Ｈ）、1720（Ｃ＝Ｏ）、1270（ＣＦ2 ）、1210（Ｐ＝
Ｏ）、1030（Ｐ−Ｏ）1 Ｈ−ＮＭＲ（δ、D20 ）；1.00〜1.86（ＣＨ2 ）、2.
10〜2.80（ＣＨ）、3.84〜4.08（ＣＨ3 ）、4.10〜4.40
（ＣＨ2 ）19 Ｆ−ＮＭＲ（δ、D20 、ext.CF3COOH ）；-6.96 、-5
3.95 分析結果より、得られた生成物は表１中の試料Ｃの構造
を有するフルオロアルキル基含有ホスホネートオリゴマ
ー類であることを確認した。
【００４１】実施例４ 反応原料として、ジエチルビニルホスホネート０．８９
ｇ（５．４mmol）、アクリル酸１．３０ｇ（１８mmo
l）、過酸化ジペルフルオロ−２, ５, ８−トリメチル
−３, ６, ９−トリオキサドデカノイル２．３８ｇ
（１．８mmol）を用いる以外は、実施例１と同様に合成
することにより、コオリゴマー１．４１ｇ（収率３２
％）を得た。ＧＰＣにより求めた平均分子量は、2,200
であった。ＦＴ−ＩＲ、1 Ｈ−ＮＭＲ、19Ｆ−ＮＭＲに
より、生成物の確認を行った。分析結果より、得られた
生成物は表１中の試料Ｄの構造を有するフルオロアルキ
ル基含有ホスホネートオリゴマー類であることを確認し
た。
ｇ（５．４mmol）、アクリル酸１．３０ｇ（１８mmo
l）、過酸化ジペルフルオロ−２, ５, ８−トリメチル
−３, ６, ９−トリオキサドデカノイル２．３８ｇ
（１．８mmol）を用いる以外は、実施例１と同様に合成
することにより、コオリゴマー１．４１ｇ（収率３２
％）を得た。ＧＰＣにより求めた平均分子量は、2,200
であった。ＦＴ−ＩＲ、1 Ｈ−ＮＭＲ、19Ｆ−ＮＭＲに
より、生成物の確認を行った。分析結果より、得られた
生成物は表１中の試料Ｄの構造を有するフルオロアルキ
ル基含有ホスホネートオリゴマー類であることを確認し
た。
【００４２】実施例５ 反応原料として、ジエチルビニルホスホネート１．９７
ｇ（１２mmol）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド１．
０５ｇ（１２mmol）、過酸化ペルフルオロブチリル１．
６６ｇ（３．９mmol）を用いる以外は、実施例１と同様
に合成することにより、コオリゴマー２．３０ｇ（収率
５３％）を得た。ＦＴ−ＩＲ、1 Ｈ−ＮＭＲ、19Ｆ−
ＮＭＲにより、生成物の確認を行った。分析結果より、
得られた生成物は表１中の試料Ｅの構造を有するフルオ
ロアルキル基含有ホスホネートオリゴマー類であること
を確認した。
ｇ（１２mmol）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド１．
０５ｇ（１２mmol）、過酸化ペルフルオロブチリル１．
６６ｇ（３．９mmol）を用いる以外は、実施例１と同様
に合成することにより、コオリゴマー２．３０ｇ（収率
５３％）を得た。ＦＴ−ＩＲ、1 Ｈ−ＮＭＲ、19Ｆ−
ＮＭＲにより、生成物の確認を行った。分析結果より、
得られた生成物は表１中の試料Ｅの構造を有するフルオ
ロアルキル基含有ホスホネートオリゴマー類であること
を確認した。
【００４３】実施例６反応原料として、ジエチルビニル
ホスホネート１．６４ｇ（１０mmol）、Ｎ， Ｎ−ジメチルアクリルアミド０．８７ｇ（１０mmol）、
過酸化ジペルフルオロ−２−メチル−３−オキサヘキサ
ノイル２．１７ｇ（３．３mmol）を用いる以外は、実施
例１と同様に合成することにより、コオリゴマー１．９
８ｇ（収率 ４５％）を得た。ＦＴ−ＩＲ、1 Ｈ−ＮＭ
Ｒ、19Ｆ−ＮＭＲにより、生成物の確認を行った。分析
結果より、得られた生成物は表１中の試料Ｆの構造を有
するフルオロアルキル基含有ホスホネートオリゴマー類
であることを確認した。
ホスホネート１．６４ｇ（１０mmol）、Ｎ， Ｎ−ジメチルアクリルアミド０．８７ｇ（１０mmol）、
過酸化ジペルフルオロ−２−メチル−３−オキサヘキサ
ノイル２．１７ｇ（３．３mmol）を用いる以外は、実施
例１と同様に合成することにより、コオリゴマー１．９
８ｇ（収率 ４５％）を得た。ＦＴ−ＩＲ、1 Ｈ−ＮＭ
Ｒ、19Ｆ−ＮＭＲにより、生成物の確認を行った。分析
結果より、得られた生成物は表１中の試料Ｆの構造を有
するフルオロアルキル基含有ホスホネートオリゴマー類
であることを確認した。
【００４４】実施例７ 反応原料として、ジエチルビニルホスホネート１．３９
ｇ（８．５mmol）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド
０．７４ｇ（８．５mmol）、過酸化ジペルフルオロ−
２, ５−ジメチル−３, ６−ジオキサノナノイル２．７
７ｇ（２．８mmol）を用いる以外は、実施例１と同様に
合成することにより、コオリゴマー３．６８ｇ（収率
７９％）を得た。ＦＴ−ＩＲ、1 Ｈ−ＮＭＲ、19Ｆ−Ｎ
ＭＲにより、生成物の確認を行った。分析結果より、得
られた生成物は表１中の試料Ｇの構造を有するフルオロ
アルキル基含有ホスホネートオリゴマー類であることを
確認した。
ｇ（８．５mmol）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド
０．７４ｇ（８．５mmol）、過酸化ジペルフルオロ−
２, ５−ジメチル−３, ６−ジオキサノナノイル２．７
７ｇ（２．８mmol）を用いる以外は、実施例１と同様に
合成することにより、コオリゴマー３．６８ｇ（収率
７９％）を得た。ＦＴ−ＩＲ、1 Ｈ−ＮＭＲ、19Ｆ−Ｎ
ＭＲにより、生成物の確認を行った。分析結果より、得
られた生成物は表１中の試料Ｇの構造を有するフルオロ
アルキル基含有ホスホネートオリゴマー類であることを
確認した。
【００４５】実施例８ 反応原料として、ジエチルビニルホスホネート０．９８
ｇ（６．０mmol）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド
０．５２ｇ（６．０mmol）、過酸化ジペルフルオロ−
２, ５, ８−トリメチル−３, ６, ９−トリオキサドデ
カノイル２．７８ｇ（２．１mmol）を用いる以外は、実
施例１と同様に合成することにより、コオリゴマー３．
４０ｇ（収率 ８３％）を得た。ＦＴ−ＩＲ、1 Ｈ−Ｎ
ＭＲ、19Ｆ−ＮＭＲにより、生成物の確認を行った。分
析結果より、得られた生成物は表１中の試料Ｈの構造を
有するフルオロアルキル基含有ホスホネートオリゴマー
類であることを確認した。
ｇ（６．０mmol）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド
０．５２ｇ（６．０mmol）、過酸化ジペルフルオロ−
２, ５, ８−トリメチル−３, ６, ９−トリオキサドデ
カノイル２．７８ｇ（２．１mmol）を用いる以外は、実
施例１と同様に合成することにより、コオリゴマー３．
４０ｇ（収率 ８３％）を得た。ＦＴ−ＩＲ、1 Ｈ−Ｎ
ＭＲ、19Ｆ−ＮＭＲにより、生成物の確認を行った。分
析結果より、得られた生成物は表１中の試料Ｈの構造を
有するフルオロアルキル基含有ホスホネートオリゴマー
類であることを確認した。
【００４６】実施例９ 反応原料として、ジエチルビニルホスホネート１．９７
ｇ（１２mmol）、Ｎ−アクリロイルモルフォリン２．８
２ｇ（２０mmol）、過酸化ペルフルオロブチリル１．７
５ｇ（４．１mmol）を用いる以外は、実施例１と同様に
合成することにより、コオリゴマー５．４３ｇ（収率
８８％）を得た。ＦＴ−ＩＲ、1 Ｈ−ＮＭＲ、19Ｆ−Ｎ
ＭＲにより、生成物の確認を行った。分析結果より、得
られた生成物は表１中の試料Ｉの構造を有するフルオロ
アルキル基含有ホスホネートオリゴマー類であることを
確認した。
ｇ（１２mmol）、Ｎ−アクリロイルモルフォリン２．８
２ｇ（２０mmol）、過酸化ペルフルオロブチリル１．７
５ｇ（４．１mmol）を用いる以外は、実施例１と同様に
合成することにより、コオリゴマー５．４３ｇ（収率
８８％）を得た。ＦＴ−ＩＲ、1 Ｈ−ＮＭＲ、19Ｆ−Ｎ
ＭＲにより、生成物の確認を行った。分析結果より、得
られた生成物は表１中の試料Ｉの構造を有するフルオロ
アルキル基含有ホスホネートオリゴマー類であることを
確認した。
【００４７】実施例１０ 反応原料として、ジエチルビニルホスホネート１．０７
ｇ（６．５mmol）、Ｎ−アクリロイルモルフォリン１．
５５ｇ（１１mmol）、過酸化ジペルフルオロ−２−メチ
ル−３−オキサヘキサノイル１．５１ｇ（２．３mmol）
を用いる以外は、実施例１と同様に合成することによ
り、コオリゴマー３．７３ｇ（収率 ９５％）を得た。
ＦＴ−ＩＲ、1 Ｈ−ＮＭＲ、19Ｆ−ＮＭＲにより、生成
物の確認を行った。分析結果より、得られた生成物は表
１中の試料Ｇの構造を有するフルオロアルキル基含有ホ
スホネートオリゴマー類であることを確認した。
ｇ（６．５mmol）、Ｎ−アクリロイルモルフォリン１．
５５ｇ（１１mmol）、過酸化ジペルフルオロ−２−メチ
ル−３−オキサヘキサノイル１．５１ｇ（２．３mmol）
を用いる以外は、実施例１と同様に合成することによ
り、コオリゴマー３．７３ｇ（収率 ９５％）を得た。
ＦＴ−ＩＲ、1 Ｈ−ＮＭＲ、19Ｆ−ＮＭＲにより、生成
物の確認を行った。分析結果より、得られた生成物は表
１中の試料Ｇの構造を有するフルオロアルキル基含有ホ
スホネートオリゴマー類であることを確認した。
【００４８】実施例１１ 反応原料として、ジエチルビニルホスホネート１．３８
ｇ（８．４mmol）、Ｎ−アクリロイルモルフォリン１．
９７ｇ（１４mmol）、過酸化ジペルフルオロ−２, ５−
ジメチル−３, ６−ジオキサノナノイル２．７７ｇ
（２．８mmol）を用いる以外は、実施例１と同様に合成
することにより、コオリゴマー１．９４ｇ（収率 ３３
％）を得た。ＦＴ−ＩＲ、1 Ｈ−ＮＭＲ、19Ｆ−ＮＭＲ
により、生成物の確認を行った。分析結果より、得られ
た生成物は表１中の試料Ｋの構造を有するフルオロアル
キル基含有ホスホネートオリゴマー類であることを確認
した。
ｇ（８．４mmol）、Ｎ−アクリロイルモルフォリン１．
９７ｇ（１４mmol）、過酸化ジペルフルオロ−２, ５−
ジメチル−３, ６−ジオキサノナノイル２．７７ｇ
（２．８mmol）を用いる以外は、実施例１と同様に合成
することにより、コオリゴマー１．９４ｇ（収率 ３３
％）を得た。ＦＴ−ＩＲ、1 Ｈ−ＮＭＲ、19Ｆ−ＮＭＲ
により、生成物の確認を行った。分析結果より、得られ
た生成物は表１中の試料Ｋの構造を有するフルオロアル
キル基含有ホスホネートオリゴマー類であることを確認
した。
【００４９】実施例１２ ジエチルビニルホスホネート０．９８ｇ（６．０mmo
l）、Ｎ−アクリロイルモルフォリン１．４１ｇ（１０m
mol）、過酸化ジペルフルオロ−２, ５, ８−トリメチ
ル−３, ６, ９−トリオキサドデカノイル２．６４ｇ
（２．０mmol）を用いる以外は、実施例１と同様に合成
することにより、コオリゴマー１．３１ｇ（収率 ２７
％）を得た。ＦＴ−ＩＲ、1 Ｈ−ＮＭＲ、19Ｆ−ＮＭＲ
により、生成物の確認を行った。分析結果より、得られ
た生成物は表１中の試料Ｌの構造を有するフルオロアル
キル基含有ホスホネートオリゴマー類であることを確認
した。
l）、Ｎ−アクリロイルモルフォリン１．４１ｇ（１０m
mol）、過酸化ジペルフルオロ−２, ５, ８−トリメチ
ル−３, ６, ９−トリオキサドデカノイル２．６４ｇ
（２．０mmol）を用いる以外は、実施例１と同様に合成
することにより、コオリゴマー１．３１ｇ（収率 ２７
％）を得た。ＦＴ−ＩＲ、1 Ｈ−ＮＭＲ、19Ｆ−ＮＭＲ
により、生成物の確認を行った。分析結果より、得られ
た生成物は表１中の試料Ｌの構造を有するフルオロアル
キル基含有ホスホネートオリゴマー類であることを確認
した。
【００５０】
【表１】
【００５１】（界面活性剤としての評価）実施例１〜１
２で得られた試料Ａ〜Ｌのフルオロアルキル基含有ホス
ホネートオリゴマー類について、各種溶剤に対する溶解
性を試験した。その結果を表２に示した。表中、○は
「非常によく溶ける」、△は「あまりよく溶けない」、
×は「全く溶けない」を示す。また、実施例５〜８で得
られた試料Ｅ〜Ｈのフルオロアルキル基含有ホスホネー
トオリゴマー類を２５℃にて一晩放置し、次いで、ｍ−
キシレンに溶かし、種々の濃度の試料を調製した。各試
料につき、表面張力計を用いて、３０℃恒温下にて表面
張力を測定した。その結果を図１に示した。
２で得られた試料Ａ〜Ｌのフルオロアルキル基含有ホス
ホネートオリゴマー類について、各種溶剤に対する溶解
性を試験した。その結果を表２に示した。表中、○は
「非常によく溶ける」、△は「あまりよく溶けない」、
×は「全く溶けない」を示す。また、実施例５〜８で得
られた試料Ｅ〜Ｈのフルオロアルキル基含有ホスホネー
トオリゴマー類を２５℃にて一晩放置し、次いで、ｍ−
キシレンに溶かし、種々の濃度の試料を調製した。各試
料につき、表面張力計を用いて、３０℃恒温下にて表面
張力を測定した。その結果を図１に示した。
【００５２】
【表２】
【００５３】（撥水撥油性試験）実施例１〜４（試料Ａ
〜Ｄ）で得られたフルオロアルキル基含有ホスホネート
オリゴマー類をポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）
０．９８ｇに対して１重量％を混合したものをテトラヒ
ドロフラン（ＴＨＦ）３０mlに溶解させ、直径５cmのシ
ャーレに入れた。ＴＨＦを自然乾燥により除去した後、
２４時間、真空乾燥させドデカン及び水について接触角
を測定した。結果を表３に示した。接触角の測定はＥＲ
ＭＡ製ゴニオメーター G-1型を使用した。なお、ＰＭＭ
Ａに本発明のフルオロアルキル基含有ホスホニウムオリ
ゴマー類を添加してないものをブランクとした。
〜Ｄ）で得られたフルオロアルキル基含有ホスホネート
オリゴマー類をポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）
０．９８ｇに対して１重量％を混合したものをテトラヒ
ドロフラン（ＴＨＦ）３０mlに溶解させ、直径５cmのシ
ャーレに入れた。ＴＨＦを自然乾燥により除去した後、
２４時間、真空乾燥させドデカン及び水について接触角
を測定した。結果を表３に示した。接触角の測定はＥＲ
ＭＡ製ゴニオメーター G-1型を使用した。なお、ＰＭＭ
Ａに本発明のフルオロアルキル基含有ホスホニウムオリ
ゴマー類を添加してないものをブランクとした。
【００５４】
【表３】
【００５５】
【発明の効果】本発明のフルオロアルキル基含有ホスホ
ネートオリゴマー類を有効成分とする界面活性剤は、撥
水撥油性等のフッ素原子に起因する優れた特性と、親水
性とを種々の環境下において交互に発現させることが可
能であり、安定性の高いペシクル剤、医薬農薬の助剤、
医療材料、酸素富化膜、各種潤滑剤の添加剤、塗料、イ
ンキのレベリング剤、ペイントムーバー、レジスト剥離
剤、洗浄用起泡剤及びフッ素系樹脂表面改質剤等として
利用することができる。また、本発明の樹脂組成物は、
優れた撥水撥油性及び防汚性を有する。
ネートオリゴマー類を有効成分とする界面活性剤は、撥
水撥油性等のフッ素原子に起因する優れた特性と、親水
性とを種々の環境下において交互に発現させることが可
能であり、安定性の高いペシクル剤、医薬農薬の助剤、
医療材料、酸素富化膜、各種潤滑剤の添加剤、塗料、イ
ンキのレベリング剤、ペイントムーバー、レジスト剥離
剤、洗浄用起泡剤及びフッ素系樹脂表面改質剤等として
利用することができる。また、本発明の樹脂組成物は、
優れた撥水撥油性及び防汚性を有する。
【図１】本発明のオリゴマーの濃度と表面張力の関係図
を示す。
を示す。
【化１５】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｌ 33/02 Ｃ０８Ｌ 33/02 33/26 33/26 43/02 43/02 101/00 101/00 Ｃ１１Ｄ 1/34 Ｃ１１Ｄ 1/34 (72)発明者 渡辺 努 東京都江東区亀戸９丁目11番１号 日本化 学工業株式会社研究開発本部内
Claims (4)
- 【請求項１】 下記一般式（１）： 【化１】 ｛式中、Ｒ1 及びＲ2 は同一又は異なって、（ＣＦ2)n
Ｙ又はＣＦ（ＣＦ3)- 〔ＯＣＦ2 ＣＦ（ＣＦ3)〕p - Ｏ
Ｃ3 Ｆ7 （式中、Ｙは水素原子、フッ素原子又は塩素原
子を示し、ｎは１〜１０の整数、ｐは０〜１０の整数を
示す。）を示し、Ｒ3 及びＲ4 は同一又は異なって、水
素原子又はメチル基を示し、Ｒ5 及びＲ6は同一又は異
なって、炭素数１〜８の直鎖状又は分岐状のアルキル基
を示し、ＡはＣＯＯＨ、次式： 【化２】 又はＣＯＮ（Ｒ7 ) Ｒ8 （式中、Ｒ7 及びＲ8 は同一又
は異なって、水素原子又は炭素数１〜６の直鎖状又は分
岐状のアルキル基を示す。）を示し、ｍは１〜１００を
示し、ａ：ｂのモル比は１：９９〜９９：１である。｝
で表されることを特徴とするフルオロアルキル基含有ホ
スホネートオリゴマー類。 - 【請求項２】 下記一般式（２）： 【化３】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は前記と同義である。）で表され
る過酸化フルオロアルカノイル類と、下記一般式
（３）： 【化４】 （式中、Ｒ3 、Ｒ5 及びＲ6 は前記と同義である。）で
表されるビニル基を有するホスホネート化合物と、下記
一般式（４）： 【化５】 （式中、Ｒ4 及びＡは前記と同義である。）で表される
ビニル基を有する化合物と、を反応させて下記一般式
（１）： 【化６】 ｛式中、Ｒ1 及びＲ2 は同一又は異なって、（ＣＦ2)n
Ｙ又はＣＦ（ＣＦ3)- 〔ＯＣＦ2 ＣＦ（ＣＦ3)〕p - Ｏ
Ｃ3 Ｆ7 （式中、Ｙは水素原子、フッ素原子又は塩素原
子を示し、ｎは１〜１０の整数、ｐは０〜１０の整数を
示す。）を示し、Ｒ3 及びＲ4 は同一又は異なって、水
素原子又はメチル基を示し、Ｒ5 及びＲ6は同一又は異
なって、炭素数１〜８の直鎖状又は分岐状のアルキル基
を示し、ＡはＣＯＯＨ、次式： 【化７】 又はＣＯＮ（Ｒ7 ) Ｒ8 （式中、Ｒ7 及びＲ8 は同一又
は異なって、水素原子又は炭素数１〜６の直鎖状又は分
岐状のアルキル基を示す。）を示し、ｍは１〜１００を
示し、ａ：ｂのモル比は１：９９〜９９：１である。｝
で表されるフルオロアルキル基含有ホスホネートオリゴ
マー類を製造する方法。 - 【請求項３】 前記一般式（１）で表されるフルオロア
ルキル基含有ホスホネートオリゴマー類を有効成分とす
ることを特徴とする界面活性剤。 - 【請求項４】 前記一般式（１）で表されるフルオロア
ルキル基含有ホスホネートオリゴマー類を含有すること
を特徴とする樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5895298A JPH11246574A (ja) | 1998-02-24 | 1998-02-24 | フルオロアルキル基含有ホスホネートオリゴマー類及びその製造方法並びにこれを含有する界面活性剤及び樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5895298A JPH11246574A (ja) | 1998-02-24 | 1998-02-24 | フルオロアルキル基含有ホスホネートオリゴマー類及びその製造方法並びにこれを含有する界面活性剤及び樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11246574A true JPH11246574A (ja) | 1999-09-14 |
Family
ID=13099179
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5895298A Pending JPH11246574A (ja) | 1998-02-24 | 1998-02-24 | フルオロアルキル基含有ホスホネートオリゴマー類及びその製造方法並びにこれを含有する界面活性剤及び樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11246574A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009102553A (ja) * | 2007-10-24 | 2009-05-14 | Nippon Polyethylene Kk | ポリオレフィン系樹脂組成物及びその成形品並びに電線・ケーブル |
| JP2021088724A (ja) * | 2015-06-22 | 2021-06-10 | アームストロング ワールド インダストリーズ インコーポレーテッド | 土汚れ付着防止粉末コーティング |
-
1998
- 1998-02-24 JP JP5895298A patent/JPH11246574A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009102553A (ja) * | 2007-10-24 | 2009-05-14 | Nippon Polyethylene Kk | ポリオレフィン系樹脂組成物及びその成形品並びに電線・ケーブル |
| JP2021088724A (ja) * | 2015-06-22 | 2021-06-10 | アームストロング ワールド インダストリーズ インコーポレーテッド | 土汚れ付着防止粉末コーティング |
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