JPH11246515A - スルホン酸エステル化合物の製造法 - Google Patents
スルホン酸エステル化合物の製造法Info
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- JPH11246515A JPH11246515A JP5086498A JP5086498A JPH11246515A JP H11246515 A JPH11246515 A JP H11246515A JP 5086498 A JP5086498 A JP 5086498A JP 5086498 A JP5086498 A JP 5086498A JP H11246515 A JPH11246515 A JP H11246515A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 スルホン酸エステルの有利な製造法を提供す
ること。 【解決手段】 ヒドロキシル化合物と一般式（１） Ｒ−ＳＯ2Ｃｌ （１） (式中、Ｒは、炭素数２〜５の直鎖または分枝状のアル
キル基またはアリール基を示す。ここでアリール基は炭
素数１〜５のアルキル基、アルコキシル基、ニトロ基ま
たはハロゲン原子で置換されていてもよい。)で示され
る塩化スルホニル化合物とを反応させてスルホン酸エス
テル化合物を得る反応において、アルカリ金属炭酸塩と
触媒量の第三アミン、第三ジアミンまたはそれらの塩酸
塩を用いることを特徴とするスルホン酸エステル化合物
の製造法。
ること。 【解決手段】 ヒドロキシル化合物と一般式（１） Ｒ−ＳＯ2Ｃｌ （１） (式中、Ｒは、炭素数２〜５の直鎖または分枝状のアル
キル基またはアリール基を示す。ここでアリール基は炭
素数１〜５のアルキル基、アルコキシル基、ニトロ基ま
たはハロゲン原子で置換されていてもよい。)で示され
る塩化スルホニル化合物とを反応させてスルホン酸エス
テル化合物を得る反応において、アルカリ金属炭酸塩と
触媒量の第三アミン、第三ジアミンまたはそれらの塩酸
塩を用いることを特徴とするスルホン酸エステル化合物
の製造法。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、スルホン酸エステ
ル化合物の製造方法に関する。
ル化合物の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ヒドロキシル化合物と塩化スルホ
ニル化合物からスルホン酸エステル化合物を製造する場
合に用いる塩基としては一般にピリジン、トリエチルア
ミンまたは水酸化ナトリウムなどが知られている。
ニル化合物からスルホン酸エステル化合物を製造する場
合に用いる塩基としては一般にピリジン、トリエチルア
ミンまたは水酸化ナトリウムなどが知られている。
【０００３】しかしながら、ピリジン、トリエチルアミ
ン等のアミン系塩基を用いる方法では、ヒドロキシル化
合物に対してアミン系塩基が大過剰量必要であることか
ら、含窒素廃水処理の負荷が大きいという問題点を有す
る。また、水酸化ナトリウムを用いる方法では、その強
い塩基性から使用できるヒドロキシル化合物の種類が限
定され、収率的にも必ずしも満足のいくものではなかっ
た。また、上記のいずれの方法においてもヒドロキシル
化合物のヒドロキシル基が塩素原子と置換した塩化物が
副生成物として得られる場合が多く、必ずしも工業的に
有利な製法であるとはいえなかった。
ン等のアミン系塩基を用いる方法では、ヒドロキシル化
合物に対してアミン系塩基が大過剰量必要であることか
ら、含窒素廃水処理の負荷が大きいという問題点を有す
る。また、水酸化ナトリウムを用いる方法では、その強
い塩基性から使用できるヒドロキシル化合物の種類が限
定され、収率的にも必ずしも満足のいくものではなかっ
た。また、上記のいずれの方法においてもヒドロキシル
化合物のヒドロキシル基が塩素原子と置換した塩化物が
副生成物として得られる場合が多く、必ずしも工業的に
有利な製法であるとはいえなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、スルホン酸
エステル化合物を工業的有利に製造する方法を提供しよ
うとするものである。
エステル化合物を工業的有利に製造する方法を提供しよ
うとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、スルホン
酸エステル化合物の製造方法について鋭意検討した結
果、ヒドロキシル化合物と塩化スルホニル化合物をアル
カリ金属炭酸塩と触媒量の第三アミン、第三ジアミンま
たはそれらの塩酸塩の存在下で反応させることにより、
工業的有利にスルホン酸エステル化合物が得られること
を見出し、本発明に至った。すなわち本発明は、ヒドロ
キシル化合物と一般式（１） Ｒ−ＳＯ2Ｃｌ （１） (式中、Ｒは、炭素数２〜５の直鎖または分枝状のアル
キル基またはアリール基を示す。ここでアリール基は炭
素数１〜５のアルキル基、アルコキシル基、ニトロ基ま
たはハロゲン原子で置換されていてもよい。)で示され
る塩化スルホニル化合物とを反応させてスルホン酸エス
テル化合物を得る反応において、アルカリ金属炭酸塩と
触媒量の第三アミン、第三ジアミンまたはそれらの塩酸
塩を用いることを特徴とするスルホン酸エステル化合物
の製造法を提供するものである。
酸エステル化合物の製造方法について鋭意検討した結
果、ヒドロキシル化合物と塩化スルホニル化合物をアル
カリ金属炭酸塩と触媒量の第三アミン、第三ジアミンま
たはそれらの塩酸塩の存在下で反応させることにより、
工業的有利にスルホン酸エステル化合物が得られること
を見出し、本発明に至った。すなわち本発明は、ヒドロ
キシル化合物と一般式（１） Ｒ−ＳＯ2Ｃｌ （１） (式中、Ｒは、炭素数２〜５の直鎖または分枝状のアル
キル基またはアリール基を示す。ここでアリール基は炭
素数１〜５のアルキル基、アルコキシル基、ニトロ基ま
たはハロゲン原子で置換されていてもよい。)で示され
る塩化スルホニル化合物とを反応させてスルホン酸エス
テル化合物を得る反応において、アルカリ金属炭酸塩と
触媒量の第三アミン、第三ジアミンまたはそれらの塩酸
塩を用いることを特徴とするスルホン酸エステル化合物
の製造法を提供するものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明で用いられる塩化スルホニル化合物（１）
において、置換基であるＲとしては、例えばエチル基、
ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基等の直
鎖状低級アルキル基、ｉ−プロピル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｔ−ブチル基、ネオペンチル基等の分枝状低級アル
キル基、フェニル基、ナフチル基、 ｏ−トリル基、 ｍ
−トリル基、 ｐ−トリル基、ｏ−メトキシフェニル
基、 ｍ−メトキシフェニル基、 ｐ−メトキシフェニル
基、ｏ−クロロフェニル基、 ｍ−クロロフェニル基、
ｐ−クロロフェニル基、 ｏ−ブロモフェニル基、 ｍ−
ブロモフェニル基、 ｐ−ブロモフェニル基、 ｏ−ヨー
ドフェニル基、 ｍ−ヨードフェニル基、 ｐ−ヨードフ
ェニル基、 ｏ−フルオロフェニル基、 ｍ−フルオロフ
ェニル基、 ｐ−フルオロフェニル基、ｏ−ニトロフェ
ニル基、 ｍ−ニトロフェニル基、ｐ−ニトロフェニル
基、 ｏ，ｐ−ジニトロフェニル基等のアリール基等が
挙げられる。この中でも特にフェニル基、ｐ−トリル
基、ｏ−ニトロフェニル基、 ｐ−ニトロフェニル基、
ｏ，ｐ−ジニトロフェニル基が好ましく用いられる。
する。本発明で用いられる塩化スルホニル化合物（１）
において、置換基であるＲとしては、例えばエチル基、
ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基等の直
鎖状低級アルキル基、ｉ−プロピル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｔ−ブチル基、ネオペンチル基等の分枝状低級アル
キル基、フェニル基、ナフチル基、 ｏ−トリル基、 ｍ
−トリル基、 ｐ−トリル基、ｏ−メトキシフェニル
基、 ｍ−メトキシフェニル基、 ｐ−メトキシフェニル
基、ｏ−クロロフェニル基、 ｍ−クロロフェニル基、
ｐ−クロロフェニル基、 ｏ−ブロモフェニル基、 ｍ−
ブロモフェニル基、 ｐ−ブロモフェニル基、 ｏ−ヨー
ドフェニル基、 ｍ−ヨードフェニル基、 ｐ−ヨードフ
ェニル基、 ｏ−フルオロフェニル基、 ｍ−フルオロフ
ェニル基、 ｐ−フルオロフェニル基、ｏ−ニトロフェ
ニル基、 ｍ−ニトロフェニル基、ｐ−ニトロフェニル
基、 ｏ，ｐ−ジニトロフェニル基等のアリール基等が
挙げられる。この中でも特にフェニル基、ｐ−トリル
基、ｏ−ニトロフェニル基、 ｐ−ニトロフェニル基、
ｏ，ｐ−ジニトロフェニル基が好ましく用いられる。
【０００７】かかる塩化スルホニル化合物（１）として
はエタンスルホニルクロリド、１−プロパンスルホニル
クロリド、ｉ−プロピルスルホニルクロリド、１−ブタ
ンスルホニルクロリド、ｓｅｃ−ブチルスルホニルクロ
リド、 ｔ−ブチルスルホニルクロリド、ベンゼンスル
ホニルクロリド、１−ナフタレンスルホニルクロリド、
２−ナフタレンスルホニルクロリド、 ｏ―トルエンス
ルホニルクロリド、 ｍ―トルエンスルホニルクロリ
ド、ｐ―トルエンスルホニルクロリド、 ｏ−メトキシ
ベンゼンスルホニルクロリド、 ｍ−メトキシベンゼン
スルホニルクロリド、ｐ−メトキシベンゼンスルホニル
クロリド、 ｏ−クロロベンゼンスルホニルクロリド、
ｍ−クロロベンゼンスルホニルクロリド、ｐ−クロロベ
ンゼンスルホニルクロリド、 ｏ−ブロモベンゼンスル
ホニルクロリド、 ｍ−ブロモベンゼンスルホニルクロ
リド、ｐ−ブロモベンゼンスルホニルクロリド、ｏ−ヨ
ードベンゼンスルホニルクロリド、 ｍ−ヨードベンゼ
ンスルホニルクロリド、ｐ−ヨードモベンゼンスルホニ
ルクロリド、 ｏ−フルオロベンゼンスルホニルクロリ
ド、 ｍ−フルオロベンゼンスルホニルクロリド、ｐ−
フルオロベンゼンスルホニルクロリド、ｏ−ニトロベン
ゼンスルホニルクロリド、 ｍ−ニトロベンゼンスルホ
ニルクロリド、ｐ−ニトロベンゼンスルホニルクロリ
ド、ｏ，ｐ−ジニトロベンゼンスルホニルクロリド等が
挙げられる。この中でも特にベンゼンスルホニルクロリ
ド、ｐ−トルエンスルホニルクロリド、ｏ−ニトロベン
ゼンスルホニルクロリド、ｐ−ニトロベンゼンスルホニ
ルクロリド、ｏ，ｐ−ジニトロベンゼンスルホニルクロ
リド等が好ましく用いられる。
はエタンスルホニルクロリド、１−プロパンスルホニル
クロリド、ｉ−プロピルスルホニルクロリド、１−ブタ
ンスルホニルクロリド、ｓｅｃ−ブチルスルホニルクロ
リド、 ｔ−ブチルスルホニルクロリド、ベンゼンスル
ホニルクロリド、１−ナフタレンスルホニルクロリド、
２−ナフタレンスルホニルクロリド、 ｏ―トルエンス
ルホニルクロリド、 ｍ―トルエンスルホニルクロリ
ド、ｐ―トルエンスルホニルクロリド、 ｏ−メトキシ
ベンゼンスルホニルクロリド、 ｍ−メトキシベンゼン
スルホニルクロリド、ｐ−メトキシベンゼンスルホニル
クロリド、 ｏ−クロロベンゼンスルホニルクロリド、
ｍ−クロロベンゼンスルホニルクロリド、ｐ−クロロベ
ンゼンスルホニルクロリド、 ｏ−ブロモベンゼンスル
ホニルクロリド、 ｍ−ブロモベンゼンスルホニルクロ
リド、ｐ−ブロモベンゼンスルホニルクロリド、ｏ−ヨ
ードベンゼンスルホニルクロリド、 ｍ−ヨードベンゼ
ンスルホニルクロリド、ｐ−ヨードモベンゼンスルホニ
ルクロリド、 ｏ−フルオロベンゼンスルホニルクロリ
ド、 ｍ−フルオロベンゼンスルホニルクロリド、ｐ−
フルオロベンゼンスルホニルクロリド、ｏ−ニトロベン
ゼンスルホニルクロリド、 ｍ−ニトロベンゼンスルホ
ニルクロリド、ｐ−ニトロベンゼンスルホニルクロリ
ド、ｏ，ｐ−ジニトロベンゼンスルホニルクロリド等が
挙げられる。この中でも特にベンゼンスルホニルクロリ
ド、ｐ−トルエンスルホニルクロリド、ｏ−ニトロベン
ゼンスルホニルクロリド、ｐ−ニトロベンゼンスルホニ
ルクロリド、ｏ，ｐ−ジニトロベンゼンスルホニルクロ
リド等が好ましく用いられる。
【０００８】本発明の製造方法は、広範囲のヒドロキシ
ル化合物に適用でき、該化合物は特に限定されるもので
はないが、例えば、一般式（２） Ｒ’−ＯＨ （２） (式中、Ｒ’はアルキル基またはアリール基を示す。こ
こでアルキル基は炭素数１〜２０の直鎖状、分枝状また
は環状炭化水素であり、かつｎ個の２重結合、３重結
合、ハロゲン原子、アリール基、アルコキシル基、エス
テル基、またはヒドロキシル基を有している。ここで、
ｎは、それぞれ０〜５の整数である。また、アリール基
は炭素数１〜５のアルキル基、アルコキシル基、ニトロ
基またはハロゲン原子で置換されていてもよい。)で示
されるヒドロキシル化合物が挙げられる。かかるヒドロ
キシル化合物（２）において、置換基Ｒ’としては、例
えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル
基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル
基、ｎ−オクチル基、 ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、
ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル
基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘ
キサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル
基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−イコサニル等の直鎖状飽和
アルキル基、 ｉ−プロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ
−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペン
チル基、３―メチルネオペンチル基等の分枝状飽和アル
キル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シク
ロオクチル基、メンチル基等の環状飽和アルキル基、ア
リル基、クロチル基、３−ブテニル、ゲラニル基，リナ
リル基、ゲラニルゲラニル基等の鎖状不飽和アルキル
基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロ
ヘプテニル基、シクロオクテニル基等の環状不飽和アル
キル基、ベンジル基、フェネチル基、クロロエチル基、
ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、メトキシ
エチル基、ｔ−ブトキシエチル基、アセトキシエチル基
等の置換アルキル基、フェニル基、ナフチル基、 ｏ−
トリル基、 ｍ−トリル基、 ｐ−トリル基、ｏ−メトキ
シフェニル基、 ｍ−メトキシフェニル基、 ｐ−メトキ
シフェニル基、ｏ−クロロフェニル基、 ｍ−クロロフ
ェニル基、 ｐ−クロロフェニル基、 ｏ−ブロモフェニ
ル基、 ｍ−ブロモフェニル基、 ｐ−ブロモフェニル
基、 ｏ−ヨードフェニル基、 ｍ−ヨードフェニル基、
ｐ−ヨードフェニル基、ｏ−フルオロフェニル基、 ｍ
−フルオロフェニル基、ｐ−フルオロフェニル基、ｏ−
ニトロフェニル基、 ｍ−ニトロフェニル基、ｐ−ニト
ロフェニル基、 ｏ，ｐ−ジニトロフェニル基等のアリ
ール基等が挙げられる。
ル化合物に適用でき、該化合物は特に限定されるもので
はないが、例えば、一般式（２） Ｒ’−ＯＨ （２） (式中、Ｒ’はアルキル基またはアリール基を示す。こ
こでアルキル基は炭素数１〜２０の直鎖状、分枝状また
は環状炭化水素であり、かつｎ個の２重結合、３重結
合、ハロゲン原子、アリール基、アルコキシル基、エス
テル基、またはヒドロキシル基を有している。ここで、
ｎは、それぞれ０〜５の整数である。また、アリール基
は炭素数１〜５のアルキル基、アルコキシル基、ニトロ
基またはハロゲン原子で置換されていてもよい。)で示
されるヒドロキシル化合物が挙げられる。かかるヒドロ
キシル化合物（２）において、置換基Ｒ’としては、例
えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル
基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル
基、ｎ−オクチル基、 ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、
ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル
基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘ
キサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル
基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−イコサニル等の直鎖状飽和
アルキル基、 ｉ−プロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ
−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペン
チル基、３―メチルネオペンチル基等の分枝状飽和アル
キル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シク
ロオクチル基、メンチル基等の環状飽和アルキル基、ア
リル基、クロチル基、３−ブテニル、ゲラニル基，リナ
リル基、ゲラニルゲラニル基等の鎖状不飽和アルキル
基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロ
ヘプテニル基、シクロオクテニル基等の環状不飽和アル
キル基、ベンジル基、フェネチル基、クロロエチル基、
ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、メトキシ
エチル基、ｔ−ブトキシエチル基、アセトキシエチル基
等の置換アルキル基、フェニル基、ナフチル基、 ｏ−
トリル基、 ｍ−トリル基、 ｐ−トリル基、ｏ−メトキ
シフェニル基、 ｍ−メトキシフェニル基、 ｐ−メトキ
シフェニル基、ｏ−クロロフェニル基、 ｍ−クロロフ
ェニル基、 ｐ−クロロフェニル基、 ｏ−ブロモフェニ
ル基、 ｍ−ブロモフェニル基、 ｐ−ブロモフェニル
基、 ｏ−ヨードフェニル基、 ｍ−ヨードフェニル基、
ｐ−ヨードフェニル基、ｏ−フルオロフェニル基、 ｍ
−フルオロフェニル基、ｐ−フルオロフェニル基、ｏ−
ニトロフェニル基、 ｍ−ニトロフェニル基、ｐ−ニト
ロフェニル基、 ｏ，ｐ−ジニトロフェニル基等のアリ
ール基等が挙げられる。
【０００９】かかるヒドロキシル化合物（２）として
は、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロパノー
ル、ｎ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、ｎ−ヘキサノ
ール、ｎ−ヘプタノール、ｎ−オクタノール、ｎ−ノニ
ルアルコール、ｎ−デカノール、ｎ−ドデカノール、ｎ
−トリデカノール、ｎ−テトラデカノール、ｎ−ペンタ
デカノール、ｎ−ヘキサデカノール、ｎ−ヘプタデカノ
ール、ｎ−オクタデカノール、ｎ−ノナデカノール、ｎ
−イコサノール 、ｉ−プロピルアルコール、イソブチ
ルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔ−ブチル
アルコール、イソペンチルアルコール、ネオペンチルア
ルコール、３，３−ジメチル−２―ブタノール、アリル
アルコール、クロチルアルコール、３−ブテン−１−オ
ール、３−ブテン−２−オール、ゲラニオール、リナロ
ール、ゲラニルゲラニオール、シクロペンテノール、３
−シクロヘキセノール、４−シクロヘキセノール、３−
シクロヘプテノール、４−シクロヘプテノール、５−シ
クロヘプテノール、３−シクロオクテノール、４−シク
ロオクテノール、５−シクロオクテノール、６−シクロ
オクテノール、ベンジルアルコール、α−フェネチルア
ルコール、β−フェネチルアルコール、エチレンクロロ
ヒドリン、エチレングリコール、１、２−プロパンジオ
ール、１、３−プロパンジオール、２−メトキシエタノ
ール、２−ｔ−ブトキシエタノール、モノアセチルエチ
レングリコール、シクロプロパノール、シクロブタノー
ル、シクロペンタノール、シクロヘキサノール、シクロ
ヘプタノール、シクロオクタノール、メントール、フェ
ノール、ナフトール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾー
ル、ｐ−クレゾール、ｏ−メトキシフェノール、ｍ−メ
トキシフェノール、ｐ−メトキシフェノール、ｏ−クロ
ロフェノール、ｍ−クロロフェノール、ｐ−クロロフェ
ノール、ｏ−ブロモフェノール、 ｍ−ブロモフェノー
ル、ｐ−ブロモフェノール、ｏ−ヨードフェノール、
ｍ−ヨードフェノール、ｐ−ヨードフェノール、ｏ−フ
ルオロフェノール、ｍ−フルオロフェノール、ｐ−フル
オロフェノール、ｏ−ニトロフェノール、ｍ−ニトロフ
ェノール、ｐ−ニトロフェノール、ｏ，ｐ−ジニトロフ
ェノール等が好ましく用いられる。
は、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロパノー
ル、ｎ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、ｎ−ヘキサノ
ール、ｎ−ヘプタノール、ｎ−オクタノール、ｎ−ノニ
ルアルコール、ｎ−デカノール、ｎ−ドデカノール、ｎ
−トリデカノール、ｎ−テトラデカノール、ｎ−ペンタ
デカノール、ｎ−ヘキサデカノール、ｎ−ヘプタデカノ
ール、ｎ−オクタデカノール、ｎ−ノナデカノール、ｎ
−イコサノール 、ｉ−プロピルアルコール、イソブチ
ルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔ−ブチル
アルコール、イソペンチルアルコール、ネオペンチルア
ルコール、３，３−ジメチル−２―ブタノール、アリル
アルコール、クロチルアルコール、３−ブテン−１−オ
ール、３−ブテン−２−オール、ゲラニオール、リナロ
ール、ゲラニルゲラニオール、シクロペンテノール、３
−シクロヘキセノール、４−シクロヘキセノール、３−
シクロヘプテノール、４−シクロヘプテノール、５−シ
クロヘプテノール、３−シクロオクテノール、４−シク
ロオクテノール、５−シクロオクテノール、６−シクロ
オクテノール、ベンジルアルコール、α−フェネチルア
ルコール、β−フェネチルアルコール、エチレンクロロ
ヒドリン、エチレングリコール、１、２−プロパンジオ
ール、１、３−プロパンジオール、２−メトキシエタノ
ール、２−ｔ−ブトキシエタノール、モノアセチルエチ
レングリコール、シクロプロパノール、シクロブタノー
ル、シクロペンタノール、シクロヘキサノール、シクロ
ヘプタノール、シクロオクタノール、メントール、フェ
ノール、ナフトール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾー
ル、ｐ−クレゾール、ｏ−メトキシフェノール、ｍ−メ
トキシフェノール、ｐ−メトキシフェノール、ｏ−クロ
ロフェノール、ｍ−クロロフェノール、ｐ−クロロフェ
ノール、ｏ−ブロモフェノール、 ｍ−ブロモフェノー
ル、ｐ−ブロモフェノール、ｏ−ヨードフェノール、
ｍ−ヨードフェノール、ｐ−ヨードフェノール、ｏ−フ
ルオロフェノール、ｍ−フルオロフェノール、ｐ−フル
オロフェノール、ｏ−ニトロフェノール、ｍ−ニトロフ
ェノール、ｐ−ニトロフェノール、ｏ，ｐ−ジニトロフ
ェノール等が好ましく用いられる。
【００１０】本発明で用いられる第三アミン、第三ジア
ミンまたはそれらの塩酸塩としては、 Ｎ，Ｎ，Ｎ’，
Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン 、 Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラエチルエチレンジアミン 、 Ｎ，
Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，３−ジアミノプロ
パン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，３−ジ
アミノブタン、Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，４−ジ
アミノブタン、 Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルフ
ェニレンジアミン 、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｎ−ブチルアミン、 Ｎ，Ｎ−
ジメチル−３−アミノ−プロピルクロリド、トリエチル
アミンまたはそれらの塩酸塩等が挙げられる。この中で
も特にＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメ
チル−ｎ−ブチルアミン、 Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テト
ラメチル−１，３−ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ル−３−アミノ−プロピルクロリド塩酸塩またはトリメ
チルアミン塩酸塩が好ましく用いられる。
ミンまたはそれらの塩酸塩としては、 Ｎ，Ｎ，Ｎ’，
Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン 、 Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラエチルエチレンジアミン 、 Ｎ，
Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，３−ジアミノプロ
パン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，３−ジ
アミノブタン、Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，４−ジ
アミノブタン、 Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルフ
ェニレンジアミン 、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｎ−ブチルアミン、 Ｎ，Ｎ−
ジメチル−３−アミノ−プロピルクロリド、トリエチル
アミンまたはそれらの塩酸塩等が挙げられる。この中で
も特にＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメ
チル−ｎ−ブチルアミン、 Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テト
ラメチル−１，３−ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ル−３−アミノ−プロピルクロリド塩酸塩またはトリメ
チルアミン塩酸塩が好ましく用いられる。
【００１１】本発明で用いられるアルカリ金属炭酸塩と
しては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げ
られる。
しては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げ
られる。
【００１２】上記反応において、反応温度は通常、−５
０℃から使用する溶媒の沸点の範囲であり、反応時間は
通常、１〜１０時間の範囲である。
０℃から使用する溶媒の沸点の範囲であり、反応時間は
通常、１〜１０時間の範囲である。
【００１３】上記反応において、塩化スルホニル化合物
（１）の使用量は、ヒドロキシル化合物に対して、通常
１〜１０モル倍、好ましくは１〜４モル倍の範囲であ
る。
（１）の使用量は、ヒドロキシル化合物に対して、通常
１〜１０モル倍、好ましくは１〜４モル倍の範囲であ
る。
【００１４】上記反応において、アルカリ金属炭酸塩の
使用量は、ヒドロキシル化合物に対して、通常１〜１０
モル倍、好ましくは１〜４モル倍の範囲である。
使用量は、ヒドロキシル化合物に対して、通常１〜１０
モル倍、好ましくは１〜４モル倍の範囲である。
【００１５】上記反応において、第三アミン、第三ジア
ミンまたはそれらの塩酸塩の使用量はヒドロキシル化合
物１モルに対して、通常０．０１〜０．３モル倍の範囲
である。
ミンまたはそれらの塩酸塩の使用量はヒドロキシル化合
物１モルに対して、通常０．０１〜０．３モル倍の範囲
である。
【００１６】上記反応は通常は溶媒中で行われ、かかる
溶媒としてはジクロロメタン、１，２−ジクロロエタ
ン、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン等のハロゲ
ン化炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテル、１，４−ジオキサン、エチレングリコールジメ
チルエーテル等のエーテル系溶媒、ヘキサン、ヘプタン
等の脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素系溶媒などが挙げられる。これら
の溶媒は、それぞれ単独あるいは２種類以上を混合して
用いられる。かかる溶媒の使用量は特に制限はされない
が、ヒドロキシル化合物に対して、通常０．１〜５０重
量倍、好ましくは０．５〜２０重量倍の範囲である。
溶媒としてはジクロロメタン、１，２−ジクロロエタ
ン、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン等のハロゲ
ン化炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテル、１，４−ジオキサン、エチレングリコールジメ
チルエーテル等のエーテル系溶媒、ヘキサン、ヘプタン
等の脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素系溶媒などが挙げられる。これら
の溶媒は、それぞれ単独あるいは２種類以上を混合して
用いられる。かかる溶媒の使用量は特に制限はされない
が、ヒドロキシル化合物に対して、通常０．１〜５０重
量倍、好ましくは０．５〜２０重量倍の範囲である。
【００１７】反応終了後、反応混合物から通常の方法、
例えば蒸留、抽出、再結晶またはカラムクロマトグラフ
ィー処理等によって、容易に目的とするスルホン酸エス
テル化合物を得ることができる。
例えば蒸留、抽出、再結晶またはカラムクロマトグラフ
ィー処理等によって、容易に目的とするスルホン酸エス
テル化合物を得ることができる。
【００１８】
【発明の効果】本発明によればスルホン酸エステル化合
物を工業的有利に得ることができる。
物を工業的有利に得ることができる。
【００１９】
【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れらによって限定されるものではない。
れらによって限定されるものではない。
【００２０】（実施例１）１−オクタノール１３０ｍｇ
（１．０ｍｍｏｌ）と炭酸カリウム２７６ｍｇ（２．０
ｍｍｏｌ）をジクロロメタン２ｍｌに加え、３０℃で攪
拌した。ｐ−トルエンスルホニルクロリド３８１ｍｇ
（２．０ｍｍｏｌ）を加え、次いでトリメチルアミン塩
酸塩９ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）を加え、同温度で１時間
攪拌した。反応混合液に水を加え、酢酸エチルで２回抽
出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し粗生成物
を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（ヘキサン：酢酸エチル＝３０：１）で精製し、目的と
するオクタン−１−イル−ｐ−トルエンスルホナートを
収率９３％で得た。 １Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ） δ＝０．８８（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），０．９８−１．７３（１２Ｈ，
ｍ），２．４２（３Ｈ，ｓ），４．０２（２Ｈ，ｔ，Ｊ
＝７．３Ｈｚ），７．２１−７．４２（２Ｈ，ｍ），
７．７０−７．９０（２Ｈ，ｍ）
（１．０ｍｍｏｌ）と炭酸カリウム２７６ｍｇ（２．０
ｍｍｏｌ）をジクロロメタン２ｍｌに加え、３０℃で攪
拌した。ｐ−トルエンスルホニルクロリド３８１ｍｇ
（２．０ｍｍｏｌ）を加え、次いでトリメチルアミン塩
酸塩９ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）を加え、同温度で１時間
攪拌した。反応混合液に水を加え、酢酸エチルで２回抽
出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し粗生成物
を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（ヘキサン：酢酸エチル＝３０：１）で精製し、目的と
するオクタン−１−イル−ｐ−トルエンスルホナートを
収率９３％で得た。 １Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ） δ＝０．８８（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），０．９８−１．７３（１２Ｈ，
ｍ），２．４２（３Ｈ，ｓ），４．０２（２Ｈ，ｔ，Ｊ
＝７．３Ｈｚ），７．２１−７．４２（２Ｈ，ｍ），
７．７０−７．９０（２Ｈ，ｍ）
【００２１】（実施例２）トリメチルアミン塩酸塩の代
わりにＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジア
ミン（０．１ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様
の条件で反応を行ったところ、目的とするオクタン−１
−イル−ｐ−トルエンスルホナートを収率６０％で得
た。
わりにＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジア
ミン（０．１ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様
の条件で反応を行ったところ、目的とするオクタン−１
−イル−ｐ−トルエンスルホナートを収率６０％で得
た。
【００２２】（実施例３）トリメチルアミン塩酸塩の代
わりに３−ジメチルアミノプロピルクロリド塩酸塩
（０．１ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様の条
件で反応を行ったところ、目的とするオクタン−１−イ
ル−ｐ−トルエンスルホナートを収率７３％で得た。
わりに３−ジメチルアミノプロピルクロリド塩酸塩
（０．１ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様の条
件で反応を行ったところ、目的とするオクタン−１−イ
ル−ｐ−トルエンスルホナートを収率７３％で得た。
【００２３】（実施例４）トリメチルアミン塩酸塩の代
わりにＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン（０．１ｍｍｏ
ｌ）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行っ
たところ、目的とするオクタン−１−イル−ｐ−トルエ
ンスルホナートを収率６０％で得た。
わりにＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン（０．１ｍｍｏ
ｌ）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行っ
たところ、目的とするオクタン−１−イル−ｐ−トルエ
ンスルホナートを収率６０％で得た。
【００２４】（実施例５）トリメチルアミン塩酸塩の代
わりにＮ−ｎ−ブチルジメチルアミン（０．１ｍｍｏ
ｌ）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行っ
たところ、目的とするオクタン−１−イル−ｐ−トルエ
ンスルホナートを収率５７％で得た。
わりにＮ−ｎ−ブチルジメチルアミン（０．１ｍｍｏ
ｌ）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行っ
たところ、目的とするオクタン−１−イル−ｐ−トルエ
ンスルホナートを収率５７％で得た。
【００２５】（実施例６）トリメチルアミン塩酸塩の代
わりにＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルジアミノプロ
パン（０．１ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様
の条件で反応を行ったところ、目的とするオクタン−１
−イル−ｐ−トルエンスルホナートを収率５６％で得
た。
わりにＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルジアミノプロ
パン（０．１ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様
の条件で反応を行ったところ、目的とするオクタン−１
−イル−ｐ−トルエンスルホナートを収率５６％で得
た。
【００２６】（比較例１）１−オクタノール１３０ｍｇ
（１．０ｍｍｏｌ）をピリジン１ｍｌに溶解し−３０℃
で攪拌した。次いでｐ−トルエンスルホニルクロリド３
８１ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加え、同温で１時間攪拌
した後、反応溶液を水に注ぎエーテルで２回抽出した。
有機層を１Ｍ塩酸水で３回、水、飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去
し粗生成物を得た。実施例１と同様の条件で精製し、目
的とするオクタン−１−イル−ｐ−トルエンスルホナー
トを収率６０％、１−クロロオクタン（副生成物）を収
率３５％で得た。
（１．０ｍｍｏｌ）をピリジン１ｍｌに溶解し−３０℃
で攪拌した。次いでｐ−トルエンスルホニルクロリド３
８１ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加え、同温で１時間攪拌
した後、反応溶液を水に注ぎエーテルで２回抽出した。
有機層を１Ｍ塩酸水で３回、水、飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去
し粗生成物を得た。実施例１と同様の条件で精製し、目
的とするオクタン−１−イル−ｐ−トルエンスルホナー
トを収率６０％、１−クロロオクタン（副生成物）を収
率３５％で得た。
【００２７】（比較例２）アミンは用いず、他は実施例
１と同様の条件で反応を行ったところ、未反応（原料回
収）であった。
１と同様の条件で反応を行ったところ、未反応（原料回
収）であった。
Claims (7)
- 【請求項１】ヒドロキシル化合物と一般式（１） Ｒ−ＳＯ2Ｃｌ （１） (式中、Ｒは、炭素数２〜５の直鎖または分枝状のアル
キル基またはアリール基を示す。ここでアリール基は炭
素数１〜５のアルキル基、アルコキシル基、ニトロ基ま
たはハロゲン原子で置換されていてもよい。)で示され
る塩化スルホニル化合物とを反応させてスルホン酸エス
テル化合物を得る反応において、アルカリ金属炭酸塩と
触媒量の第三アミン、第三ジアミンまたはそれらの塩酸
塩を用いることを特徴とするスルホン酸エステル化合物
の製造法。 - 【請求項２】ヒドロキシル化合物が一般式（２） Ｒ’−ＯＨ （２） (式中、Ｒ’はアルキル基またはアリール基を示す。こ
こでアルキル基は炭素数１〜２０の直鎖状、分枝状また
は環状炭化水素であり、かつｎ個の２重結合、３重結
合、ハロゲン原子、アリール基、アルコキシル基、エス
テル基、またはヒドロキシル基を有している。ここで、
ｎは、それぞれ０〜５の整数である。また、アリール基
は炭素数１〜５のアルキル基、アルコキシル基、ニトロ
基またはハロゲン原子で置換されていてもよい。)で示
される化合物である請求項１に記載のスルホン酸エステ
ル化合物の製造法。 - 【請求項３】第三アミンおよび第三ジアミンが、Ｎ，
Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｎ−
ブチルアミン、 Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−
１，３−ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−ア
ミノプロピルクロリドまたはトリメチルアミンである請
求項１または２に記載のスルホン酸エステル化合物の製
造法。 - 【請求項４】第三アミン、第三ジアミンまたはそれらの
塩酸塩の使用量が、ヒドロキシル化合物に対して０．０
１〜０．３モル倍である請求項１、２または３に記載の
スルホン酸エステル化合物の製造法。 - 【請求項５】アルカリ金属炭酸塩の使用量が、ヒドロキ
シル化合物に対して１〜１０モル倍である請求項１、
２、３または４に記載のスルホン酸エステル化合物の製
造法。 - 【請求項６】塩化スルホニル化合物が、ベンゼンスルホ
ニルクロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロリド、ｏ−
ニトロベンゼンスルホニルクロリド、ｐ−ニトロベンゼ
ンスルホニルクロリドまたはｏ，ｐ−ジニトロベンゼン
スルホニルクロリドである請求項１〜６のいずれかに記
載のスルホン酸エステル化合物の製造方法。 - 【請求項７】アルカリ金属炭酸塩が、炭酸カリウムまた
は炭酸ナトリウムである請求項１〜７のいずれかに記載
のスルホン酸エステル化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5086498A JPH11246515A (ja) | 1998-03-03 | 1998-03-03 | スルホン酸エステル化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5086498A JPH11246515A (ja) | 1998-03-03 | 1998-03-03 | スルホン酸エステル化合物の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11246515A true JPH11246515A (ja) | 1999-09-14 |
Family
ID=12870602
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5086498A Withdrawn JPH11246515A (ja) | 1998-03-03 | 1998-03-03 | スルホン酸エステル化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11246515A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6746730B1 (en) | 1999-06-28 | 2004-06-08 | Chisso Corporation | Varnish composition and liquid-crystal display element |
| US6949281B1 (en) | 1999-06-25 | 2005-09-27 | Chisso Corporation | Varnish composition and liquid-crystal display element |
| JP2010168319A (ja) * | 2009-01-23 | 2010-08-05 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | モノスルホン酸エステルの製造方法 |
| JP2021024798A (ja) * | 2019-08-02 | 2021-02-22 | 株式会社デ・ウエスタン・セラピテクス研究所 | エチルアニリノトルエンスルホン酸誘導体の製造方法 |
-
1998
- 1998-03-03 JP JP5086498A patent/JPH11246515A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6949281B1 (en) | 1999-06-25 | 2005-09-27 | Chisso Corporation | Varnish composition and liquid-crystal display element |
| US6746730B1 (en) | 1999-06-28 | 2004-06-08 | Chisso Corporation | Varnish composition and liquid-crystal display element |
| JP2010168319A (ja) * | 2009-01-23 | 2010-08-05 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | モノスルホン酸エステルの製造方法 |
| JP2021024798A (ja) * | 2019-08-02 | 2021-02-22 | 株式会社デ・ウエスタン・セラピテクス研究所 | エチルアニリノトルエンスルホン酸誘導体の製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A761 | Written withdrawal of application |
Effective date: 20050517 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 |