JP3591245B2 - ポリエンジオールおよびその製造法 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、医薬の中間体、例えばレチノールの中間体として有用なポリエンジオールおよびその製造法に関する。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】
本発明は、新規なポリエンジオールおよびその製造法を提供しようとするものである。
【0003】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果本発明に至った。
すなわち、本発明は、式(1)
Figure 0003591245
で示されるポリエンジオールおよびその製造法を提供するものである。
【0004】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
式(1)で示されるポリエンジオールは、一般式(2)
Figure 0003591245
(式中、Arは置換基を有していてもよいアリール基、RおよびRは同一または相異なり、アシル基を示す。)
で示されるスルホン誘導体と塩基とを反応させることにより得ることができる。
【0005】
一般式(2)で示されるスルホン誘導体のR、Rは、水素原子またはアシル基を示すが、アシル基としては具体的には例えばアセチル、ピバロイル、ベンゾイル、p−ニトロベンゾイルなどが挙げられる。
【0006】
一般式(2)で示されるスルホン誘導体のArは置換基を有していてもよいアリール基を示し、その置換基としては、C1からC5のアルキル基、C1からC5のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基等が挙げられる。具体的には、例えば、フェニル、ナフチル、o−トリル,m−トリル,p−トリル、o−メトキシフェニル、m−メトキシフェニル、p−メトキシフェニル、o−クロロフェニル、m−クロロフェニル、p−クロロフェニル、o−ブロモフェニル、m−ブロモフェニル、p−ブロモフェニル、o−ヨードフェニル、m−ヨードフェニル、p−ヨードフェニル、o−フルオロフェニル、m−フルオロフェニル、p−フルオロフェニル、o−ニトロフェニル、m−ニトロフェニル、p−ニトロフェニル等が挙げられる。
【0007】
上記反応に用いられる塩基としては、例えばアルカリ金属の水酸化物、アルカリ土類金属の水酸化物、アルカリ金属の水素化物、アルカリ土類金属の水素化物、アルカリ金属のアルコキサイド、アルカリ土類金属のアルコキサイド等が挙げられ、具体的には、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムメトキサイド、カリウムメトキサイド、カリウムt−ブトキサイド等が挙げられる。
かかる塩基の使用量はスルホン誘導体(2)に対して、通常、1〜30モル倍程度、好ましくは、3〜25モル倍程度である。
【0008】
上記反応には、通常、有機溶媒が用いられ、かかる溶媒としては例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、アニソール等のエーテル系溶媒、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、モノクロロベンゼン、o−ジクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒、メタノール、エタノール、i−プロピルアルコール、t−ブチルアルコール等のアルコール系溶媒もしくはN,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミド等の非プロトン性極性溶媒が挙げられる。
【0009】
反応温度は、通常、−78℃から使用する溶媒の沸点の範囲である。なお反応初期は低温の方が好ましい。また、反応時間は、反応で用いる塩基の種類ならびに反応温度によって異なるが、通常1時間から24時間程度の範囲で目的を達することができる。
反応後、通常の後処理操作をすることによりポリエンジオール(1)を得ることができる。さらに必要に応じて、シリカゲルクロマトグラフィー等により精製することができる。
なお、本発明の原料であるスルホン誘導体(2)はEまたはZ幾何異性体のいずれであっても、またその混合物であってもよい。また、ラセミ体でも光学活性体であってもよい。
【0010】
本発明の原料化合物であるスルホン誘導体(2)は以下のスルホン類(3)とハロヒドリン誘導体(4)を反応させることにより合成することができる。
Figure 0003591245
(式中、Ar、RおよびRは、前記と同じ意味を表わす。)
また、スルホン類(3)またはハロヒドリン誘導体(4)は、ゲラニオールより合成することができる。
【0011】
【発明の効果】
本発明のポリエンジオール(1)は、医薬、例えばレチノールの中間体として有用である。
【0012】
【実施例】
以下、実施例により、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。
【0013】
(実施例1)
フラスコに1,5−ジアセトキシ−3,7−ジメチル−9−(2,6,6−トリメチルシクロヘキセン−1−イル)−9−(4−メチルフェニルスルホニル)−ノナ−2,6−ジエン(以下、化合物(c))0.20g(0.27mmol)とシクロヘキサン40mlを仕込み、攪拌下、カリウムメトキシド0.26g(3.70mmol)を添加した。40℃で6時間攪拌後、TLCにて原料が消失しているのを確認して、反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を注加し、エーテルで抽出した。有機層はあわせて飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで脱水後、溶媒を留去することにより1,5−ジヒドロキシ−3,7−ジメチル−9−(2,6,6−トリメチルシクロヘキセン1−イル)−ノナ−2,6,8−トリエン(ポリエンジオール(1))を収率95%で得た。
H−NMR δ(CDCl
1.00(6H , s) , 1.74(3H , s) , 1.86(3H , s) , 2.00(3H , s) ,4.15(2H , br) ,4.64(1H , m) , 5.40(1H , d, J=7Hz) , 5.99(2H , d, J=16Hz) , 6.11(2H , d, J=16Hz)
13C−NMR δ(CDCl
12.8, 16.4 , 19.3 , 21.6 , 28.8 , 32.9 , 34.1 , 39.5 , 47.7 , 59.0 , 66.2 ,126.9,127.1,129.0,132.1,135.8,135.9,137.0,137.5
【0014】
(参考例1)
酢酸ゲラニル40g(0.204mol)をヘキサンに溶解し、トリクロロイソシアヌル酸17.1g(0.071mol)を徐々に仕込み−10℃〜0℃で6時間保温した。反応後、過剰のトリクロロイソシアヌール酸および副生するイソシアヌル酸は濾過により系外に除去した。濾液は炭酸水素ナトリウム及び水で順次洗浄して、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、溶媒を留去することにより粗製物を得た。
得られた粗製物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、6−クロロ−3,7−ジメチル−オクタ−2,7−ジエン−1−アセテート(以下、化合物合物(f))を淡黄色オイルとして、85.5%で得た。
【0015】
(参考例2)
乾燥した4つ口フラスコに窒素下、微粉末の水酸化ナトリウム6.8g(0.17mol)、トリフェニルホスフィン2.2g(8.5mmol)、テトラn−ブチルアンモニウムクロライド1.4g(5.1mmol)、アリルパラジウムクロライドダイマー0.62g(1.7mmol),THF100mlを加えた。そこへ、攪拌下、化合物(f)40g(0.17mol)のTHF溶液150mlを室温で1時間かけて滴下した。
室温で3日間攪拌後、TLCにて原料の消失を確認して、反応混合物を水にあけ、エーテルで抽出した。有機層は飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水後、溶媒を留去することにより、粗製物を得た。得られた粗製物はシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、3,7−ジメチル−オクタ−2,5,7−トリエン−1−アセテート(以下、化合物(g))を65%の収率で得た。
H−NMR δ(CDCl
1.70(3H,s) , 1.85(3H,s) , 2.08(3H,s)
2.81(2H,d,J=7Hz) , 4.58(2H,d,J=7Hz)
4.90(2H,s) ,5.37(1H,t,J=7Hz)
5.61(1H,td,J=16、7Hz) , 6.16(1H,d,J=15Hz)
【0016】
(参考例3)
化合物(g)20.1g(0.1mol)と酢酸100mlを仕込み、室温でN−ブロモスクシンイミド18.3g(0.1mol)をゆっくりと添加する。室温で10〜15分で反応マスは均一になり、2時間後、TLCにて原料の消失を確認後、反応混合物を水にあけ、トルエンで抽出した。有機層は無水硫酸マグネシウムで脱水後、溶媒を留去することにより、8−ブロモ−3,7−ジメチル−オクタ−2,6−ジエン−1,5−ジアセテート(以下、化合物(b))と8−ブロモ−3,7−ジメチル−オクタ−2,5−ジエン−1,7−ジアセテート(以下、化合物(h))の約1:1の混合物を95%の収率で得た。得られた混合物をシリカゲルクロマトグラフィーにて分離精製し、化合物(h)を淡黄色オイルとして収率29%で、化合物(i)を淡黄色オイルとして収率30%で単離し、混合物としても収率31%で得た。
H−NMR δ (CDCl
化合物(b)
1.77(3H,s) , 1.82(3H,s),1.98((3H,s) , 2.02(3H,s),2.29(2H,ddd,J=35、8、6Hz) , 3.89(2H,s),4.55(2H,d,J=7Hz) , 5.37(1H,t,J=7Hz),5.48〜5.62(2H,m)
化合物(h)
1.65(3H,s) , 1.68(3H,s),2.05(3H,s) , 2.06(3H,s),2.78(2H,d,J=6Hz) , 3.75(2H,dd,J=26,11Hz),4.57(2H,d,J=7Hz) , 5.35(1H,t,J=7Hz),5.61〜5.77(2H,m)
【0017】
(参考例4)
β−シクロゲラニルp−トリルスルホン(以下、化合物(a))0.53g(1.8mmol)とTHF20mlを仕込み、溶解してから−60℃まで冷却した。同温度でn−ブチルリチウムのヘキサン溶液を1.13ml(1.8mmol)をゆっくりと滴下し、3時間保温した。その後、化合物(b)0.3g(0.9mmol)のTHF溶液5mlを1時間かけて滴下した。同温度で3時間攪拌後、TLCにて原料の一方が消失しているのを確認して、反応マスを飽和塩化アンモニウム水溶液にあけ、エーテルで抽出した。有機層は飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を留去することにより、粗製物を得た。得られた粗製物はシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、化合物(c)を淡黄色オイルとして収率74%で単離した。(Rf値 0.38 : n−ヘキサン/酢酸エチル=3/1)
H−NMR δ(CDCl
0.76(6H,d, J=14Hz) , 0.95(6H,d, J=14Hz) , 1.39(3H,s) , 1.70(3H,s)
2.00(3H,s) , 2.01(3H,s) , 2.03(3H,s) , 2.44(3H ,s) , 2.66−2.95(2H,m)
3.82−3.86(1H,m) , 4.53(2H,d, J=7Hz)
5.10(1H,d, J=9Hz) , 5.20(1H,d, J=9Hz)
5.34(1H,br) , 5.56(1H,br) , 7.33(2H,d, J=8Hz) , 7.76(2H,d , J=8Hz)
13C−NMR δ(CDCl
15.1, 16.0 , 16,1 , 16.6 , 18.8 , 20.8 , 20.9 , 21.4 , 28.2 , 29.0 , 35.5 , 40.5, 44.6 , 60.8 , 65.3 . 65.5 , 65.7 , 68.3, 68.5 , 68.8 , 121.9 ,127.1 , 128.3 , 129.4 , 130.5 , 130.6 , 136.2 , 137.1 , 137.6 , 137.7 , 138.4 , 144.0 , 169.8 , 170.0 , 170.7
【0018】
以下に実施例および参考例の化合物の構造式を記す。
但し、Tsは、p−トリルスルホニル基を示す。
Figure 0003591245

Claims (4)

  1. 式(1)
    Figure 0003591245
    で示されるポリエンジオール。
  2. 一般式(2)
    Figure 0003591245
    (式中、Arは置換基を有していてもよいアリール基、RおよびRは同一または相異なり、水素原子またはアシル基を示す。)
    で示されるスルホン誘導体と塩基とを反応させることを特徴とする前記一般式(1)で示されるポリエンジオールの製造法。
  3. 塩基が、アルカリ金属の水酸化物、アルカリ土類金属の水酸化物、アルカリ金属の水素化物、アルカリ土類金属の水素化物、アルカリ金属のアルコキサイドまたはアルカリ土類金属のアルコキサイドである請求項2記載の製造法。
  4. 塩基の使用量が、前記スルホン誘導体(2)に対して3〜25モル倍である請求項2記載の製造法。
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