JPH11244795A - 基板洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板の表面を均一に洗浄することができかつ
高い洗浄効果を有する基板洗浄装置を提供することであ
る。 【解決手段】 アーム駆動部７により回動可能に設けら
れたブラシアーム８の先端部の下面側にブラシ保持部９
が取り付けられ、ブラシ保持部９の下面にホーン１０が
取り付けられ、ホーン１０の先端部の下面に洗浄ブラシ
１１が設けられている。ブラシ保持部９の側面に超音波
振動子１２が取り付けられている。アーム駆動部１３に
より回動可能に設けられたノズルアーム１４の先端部の
下面側に純水吐出ノズル１５が取り付けられ、純水吐出
ノズル１５に超音波振動子１６が取り付けられている。
超音波振動子１２，１６は高周波発振器１７により駆動
される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、洗浄ブラシおよび
洗浄液により基板の表面を洗浄する基板洗浄装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用基板等の基板の表面を洗浄するため
に基板洗浄装置が用いられている。基板洗浄装置では、
基板の処理過程で基板の表面に付着する微粒子を純水等
の洗浄液や洗浄ブラシで除去す。

【０００３】近年、ＬＳＩ（大規模集積回路）の高集積
化に伴い、基板の表面に許容される微粒子の径が小さく
なっている。基板の表面に付着する微粒子の径が小さく
なると、ファンデルウァールス力による付着力が強くな
り、基板の表面から微粒子を除去するために強い剥離力
が必要となる。

【０００４】通常、ブラシ洗浄方式の基板洗浄装置で
は、基板を回転させつつ純水等の洗浄液を基板の表面に
供給し、洗浄ブラシを自転させるかあるいは洗浄ブラシ
の回転を行わずに洗浄ブラシを基板に押しつけて洗浄ブ
ラシを基板の中心部から外周部まで走査させる。これに
より、基板の表面の全体が洗浄ブラシおよび洗浄液で洗
浄される。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】図６は洗浄中の洗浄ブ
ラシと基板との位置関係を示す模式図である。図６を参
照しながら洗浄液および洗浄ブラシを用いたブラシ洗浄
のメカニズムを説明する。ここでは、半導体ウエハ、液
晶表示装置用ガラス基板等の洗浄に多く使用されている
平面状ブラシを例にとって説明する。

【０００６】通常、洗浄ブラシ４０の材質としては親水
性の素材が用いられる。また、ブラシ洗浄はできるだけ
親水性の表面を有する基板１００を対象に実施されてい
る。そのため、回転している基板１００と洗浄ブラシ４
０との間には表面張力やハイドロプレーン現象のために
非常に薄い水膜２００が存在している。この水膜２００
の厚みよりも小さい径の微粒子３００には洗浄ブラシ４
０で直接衝撃を与えることができない。したがって、こ
の水膜２００の厚みが小さいほど高い洗浄効果が得られ
ることになる。

【０００７】そこで、洗浄ブラシ４０と基板１００との
間に一定の水膜２００が形成される条件において一定の
押し荷重を洗浄ブラシ４０に与えることにより水膜２０
０の厚みを小さくして安定した洗浄能力を持たせてい
る。その場合、洗浄ブラシ４０の押し荷重が大きいほど
高い洗浄効果が得られる。

【０００８】したがって、許容範囲内で洗浄ブラシ４０
の押し荷重を大きくすれば洗浄効果を高めることができ
るが、基板の大口径化に伴って押し荷重の増加は基板の
反り量を増加させることになる。それにより、洗浄ブラ
シ４０と基板１００のなす角度が変化して洗浄にむらが
生じたり、基板１００の割れ等の破損が発生するおそれ
がある。そのため、洗浄ブラシ４０に十分に大きい押し
荷重を加えることはできない。

【０００９】なお、疎水性の洗浄ブラシで疎水性の表面
を有する基板を洗浄する場合には、水膜が存在しなくな
り、直接洗浄ブラシと基板の表面とが接触するので、ブ
ラシ洗浄の機能が発揮されなくなるだけでなく、逆に微
粒子を基板の表面に塗布することになる。

【００１０】また、上記のように、ブラシ洗浄方式の基
板洗浄装置では、基板を回転させつつ洗浄ブラシを基板
の中心部から外周部まで往復移動させているので、基板
の中心部に近いほど洗浄ブラシと基板との相対速度が小
さくなる。洗浄ブラシの中心が基板の中心と一致する地
点では洗浄ブラシと基板との相対速度がほぼ０となるの
で、基板から微粒子を剥離させる衝撃力が最も低くな
り、洗浄能力が低下する。一方、基板の外周部では洗浄
ブラシと基板との相対速度が大きくなるため、基板から
微粒子を剥離させる衝撃力が最大となり、洗浄能力は高
くなる。このように、従来のブラシ洗浄方式の基板洗浄
装置では、基板の中心部と外周部とで洗浄能力に差が生
じる。

【００１１】一方、超音波振動を洗浄液に付与させて基
板の洗浄効果を高める超音波洗浄方式の基板洗浄装置が
提案されている。この超音波洗浄方式の基板洗浄装置で
は、微粒子を基板から剥離させる能力は高くなるが、剥
離された微粒子を基板に再付着させずに基板外に排出す
る能力に劣る。総合的な洗浄能力としては、ブラシ洗浄
方式の方が超音波洗浄方式に比べて高いとされている。

【００１２】そこで、ブラシ洗浄方式および超音波洗浄
方式の両者の利点を生かすために、図７に示すように、
洗浄ブラシおよび超音波ノズルを有する基板洗浄装置が
提案されている。この基板洗浄装置では、洗浄ブラシ６
１を保持するブラシアーム６０および超音波ノズル７１
を保持するノズルアーム７０を設け、洗浄ブラシ６１お
よび超音波ノズル７１を基板１００上で往復移動させ
る。超音波ノズル７１からは超音波振動が付与された純
水が吐出される。

【００１３】しかしながら、この基板洗浄装置では、超
音波ノズル７１により基板１００の表面から微粒子を剥
離させる衝撃力を加える時点と剥離された微粒子を洗浄
ブラシ６１により基板１００外に排出する時点とが僅か
に異なるために、特に基板１００の中心部においては剥
離された微粒子が再び基板１００に付着することがあ
る。そのため、ブラシ洗浄方式と超音波洗浄方式との利
点を十分に生かすことができない。

【００１４】本発明の目的は、基板の表面を均一に洗浄
することができかつ高い洗浄効果を有する基板洗浄装置
を提供することである。

【００１５】

【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る基板洗浄装置は、基板を洗浄する基板洗浄装
置であって、基板を保持する基板保持手段と、基板保持
手段を回転駆動する駆動手段と、基板保持手段に保持さ
れた基板の表面に接触可能に設けられた洗浄ブラシと、
洗浄ブラシに超音波振動を付与する第１の超音波振動付
与手段とを備えたものである。

【００１６】本発明に係る基板洗浄装置においては、基
板を保持する基板保持手段が駆動手段により回転駆動さ
れる。第１の超音波振動付与手段により超音波振動が付
与された洗浄ブラシが回転する基板の表面に接触し、基
板の表面に付着した微粒子が基板から剥離されるととも
に基板外に排出される。

【００１７】この場合、洗浄ブラシの静止荷重に超音波
振動による音圧荷重が重畳されるので、洗浄ブラシに瞬
間的に高い荷重が加わる。それにより、洗浄ブラシに大
きな押し荷重を加えることなく基板の表面に付着した微
粒子を剥離させる衝撃力が高くなる。

【００１８】基板の表面の外周部では基板の表面の中心
部に比べて洗浄ブラシと基板との相対速度が大きくなる
ので、基板の外周部に近いほど洗浄ブラシの接触により
基板から微粒子を剥離させる効果が高くなる。一方、基
板の表面の中心部では基板の表面の外周部に比べて基板
の単位長さ当たりで洗浄ブラシが振動する回数が多くな
るため、洗浄ブラシの超音波振動により基板から微粒子
を剥離させる効果が高くなる。これらの結果、基板の中
心部から外周部にわたって微粒子を剥離させる効果が均
一になる。

【００１９】したがって、基板の表面を均一に洗浄する
ことができかつ高い洗浄効果が得られる。

【００２０】第２の発明に係る基板洗浄装置は、第１の
発明に係る基板洗浄装置の構成において、基板保持手段
に保持された基板上に洗浄液を供給する洗浄液供給手段
と、洗浄液供給手段により基板上に供給される洗浄液に
超音波振動を付与する第２の超音波振動付与手段とをさ
らに備えたものである。

【００２１】この場合、第２の超音波振動付与手段によ
り洗浄液に超音波振動が付与され、超音波振動が付与さ
れた洗浄液が洗浄液供給手段により基板上に供給され
る。それにより、微粒子を基板から剥離させる効果がさ
らに高まる。

【００２２】第３の発明に係る基板洗浄装置は、第２の
発明に係る基板洗浄装置の構成において、洗浄液供給手
段は、洗浄液を吐出する洗浄液吐出ノズルを備え、第２
の超音波振動付与手段は、洗浄液吐出ノズルに設けられ
た超音波振動子を備えたものである。

【００２３】この場合、洗浄液吐出ノズルに設けられた
超音波振動子が超音波振動することにより洗浄液吐出ノ
ズルから吐出される洗浄液に超音波振動が付与される。

【００２４】第４の発明に係る基板洗浄装置は、第１、
第２または第３の発明に係る基板洗浄装置の構成におい
て、第１の超音波振動付与手段は、超音波振動子と、超
音波振動子により発生される超音波振動を増幅して洗浄
ブラシに伝達するホーンとを備えたものである。

【００２５】この場合、超音波振動子により発生される
超音波振動がホーンにより増幅されて洗浄ブラシに伝達
されるので、洗浄ブラシに十分な大きさの音圧荷重が加
えられる。それにより、十分に高い洗浄効果が得られ
る。

【００２６】第５の発明に係る基板洗浄装置は、第１、
第２または第３の発明に係る基板洗浄装置の構成におい
て、第１の超音波振動付与手段は、超音波振動子と、超
音波振動子を冷却する冷却手段とを備えたものである。

【００２７】この場合、超音波振動子により発生される
超音波振動が洗浄ブラシに付与される。特に、超音波振
動子が冷却手段により冷却されるので、電気エネルギー
が熱エネルギーとして消費されずに効率的に超音波振動
のエネルギーに変換されるとともに、超音波振動子の寿
命が長くなる。

【００２８】第６の発明に係る基板洗浄装置は、第２の
発明に係る基板洗浄装置の構成において、洗浄液供給手
段は、開口部を有しかつ洗浄液を貯留する洗浄液貯留部
を備え、洗浄ブラシは、洗浄液貯留部内の洗浄液が漏出
可能に開口部に嵌挿され、第１および第２の超音波振動
付与手段は、洗浄液貯留部内の洗浄液を介して洗浄ブラ
シに超音波振動を付与する共通の超音波振動子を備えた
ものである。

【００２９】洗浄液貯留部に貯留された洗浄液が洗浄ブ
ラシと開口部の縁部との間の隙間を通して基板上に供給
されるとともに、洗浄液貯留部の開口部に嵌挿された洗
浄ブラシが基板の表面に接触する。

【００３０】この場合、共通の超音波振動子により洗浄
液貯留部内の洗浄液および洗浄ブラシに超音波振動が付
与される。したがって、コンパクトな構成で超音波振動
が付与された洗浄ブラシで基板の表面を押圧するととも
に、洗浄ブラシとほぼ同一位置の基板の表面に超音波振
動が付与された洗浄液を供給することができる。

【００３１】これにより、基板の表面に付着した微粒子
を基板から確実に剥離させかつ基板外に排出することが
できる。その結果、十分に高い洗浄効果が得られる。

【００３２】第７の発明に係る基板洗浄装置は、第６の
発明に係る基板洗浄装置の構成において、洗浄液貯留部
に洗浄液を供給するとともに洗浄液貯留部の洗浄液を帰
還させる洗浄液循環系をさらに備えたものである。

【００３３】この場合、洗浄液循環系により洗浄液貯留
部を通して洗浄液を循環させることができるので、洗浄
液が冷却手段としても機能する。

【００３４】

【発明の実施の形態】図１は本発明の第１の実施例にお
ける基板洗浄装置の模式的断面図であり、図２は図１の
基板洗浄装置の模式的平面図である。

【００３５】図１に示すように、ハウジング１内に基板
１００を水平姿勢で吸引保持する基板保持部２が配設さ
れている。基板保持部２は、モータ３の回転軸４の先端
に固定され、鉛直方向の軸の周りで回転可能に構成され
ている。基板保持部２の周囲には、基板１００を取り囲
むように洗浄液飛散防止用のカップ５が上下動自在に設
けられている。カップ５の下面には洗浄液としての純水
を排出するための排出口６が設けられている。

【００３６】カップ５の一方の側部側には、ブラシアー
ム８がアーム駆動部７により鉛直方向の軸の周りで回動
可能に設けられている。ブラシアーム８の先端部の下面
側にはブラシ保持部９が取り付けられている。このブラ
シ保持部９は、ブラシアーム８に内蔵されるモータによ
り鉛直方向の軸の周りで自転可能に構成されている。ブ
ラシ保持部９の下面には漸次径小となるホーン１０が取
り付けられ、ホーン１０の先端部の下面には洗浄ブラシ
１１が設けられている。また、ブラシ保持部９の側面に
は超音波振動子１２が取り付けられている。

【００３７】カップ５の他方の側部側には、ノズルーア
ーム１４がアーム駆動部１３により鉛直方向の軸の周り
で回動可能に設けられている。ノズルアーム１４の先端
部の下面側には洗浄液として純水を吐出する純水吐出ノ
ズル１５が取り付けられている。この純水吐出ノズル１
５には超音波振動子１６が取り付けられている。純水吐
出ノズル１５には純水供給源（図示せず）から純水が供
給される。

【００３８】ブラシ保持部９に取り付けられた超音波振
動子１２および純水吐出ノズル１５に取り付けられた超
音波振動子１６は、高周波発振器１７により駆動され、
例えば１００ｋＨｚで振動する。制御部１８は、モータ
３の回転、アーム駆動部７によるブラシアーム８の回動
および上下動、アーム駆動部１３によるノズルアーム１
４の回動および上下動、ブラシ保持部９の回転、高周波
発振器１７による超音波振動子１２，１６の駆動、およ
び純水吐出ノズル１５からの純水の吐出を制御する。

【００３９】図２に示すように、基板１００は回転軸Ｐ
１の周りで回転し、ブラシアーム８はアーム駆動部７に
より回動軸Ｐ２の周りで矢印Ｒ１の方向に回動し、ノズ
ルアーム１４はアーム駆動部１３により回動軸Ｐ３の周
りで矢印Ｒ２の方向に回動する。

【００４０】洗浄時には、ブラシ保持部９が自転しつつ
ブラシアーム８が回動軸Ｐ２の周りで回動し、洗浄ブラ
シ１１が基板１００の表面に接触した状態で基板１００
の中心部から一方側の外周部からまで往復移動する。ま
た、ノズルアーム１４が回動軸Ｐ３の周りで回動し、純
水吐出ノズル１５が基板１００上まで移動し、純水を吐
出する。この場合、洗浄ブラシ１１には一定の静止荷重
が加えられる。また、図１の超音波振動子１２，１６が
高周波発振器１７により駆動される。超音波振動子１２
による超音波振動はホーン１０により増幅されて洗浄ブ
ラシ１１に伝達される。また、超音波振動子１６による
超音波振動は純水吐出ノズル１５から吐出される純水に
付与される。

【００４１】本実施例では、基板保持部２が基板保持手
段に相当し、モータ３が駆動手段に相当し、超音波振動
子１２が第１の超音波振動付与手段に相当する。また、
純水吐出ノズル１５が洗浄液供給手段および洗浄液吐出
ノズルに相当し、超音波振動子１６が第２の超音波振動
付与手段に相当する。

【００４２】図３は図１の基板洗浄装置における洗浄ブ
ラシ１１のトータルブラシ圧の時間特性を示す図であ
る。

【００４３】図３において、Ｗ１は洗浄ブラシ１１に加
わる静止荷重であり。Ｗ２は超音波振動子１２からの超
音波振動による音圧荷重である。超音波振動の周波数を
ｆとすると、音圧荷重の周期は１／ｆとなる。

【００４４】図３に示すように、一定の静止荷重Ｗ１に
超音波振動による音圧荷重Ｗ２が重畳されている。それ
により、洗浄ブラシ１１に一定の静止荷重のみを加える
場合に比べてはるかに高い荷重を瞬時に加えることが可
能となる。また、同時に超音波振動子１６により超音波
振動が付与された純水が基板１００上に供給される。し
たがって、洗浄ブラシ１１に大きな押し荷重を加えるこ
となく、基板１００の表面に付着した微粒子を剥離させ
る衝撃力を高めることができる。

【００４５】基板１００の表面の外周部では基板１００
の表面の中心部に比べて洗浄ブラシ１１と基板１００と
の相対速度が大きくなるので、基板１００の表面の外周
部に近いほど洗浄ブラシ１１の接触により基板１００か
ら微粒子を剥離させる効果が高くなる。

【００４６】一方、基板１００の表面の中心部では、基
板１００の表面の外周部に比べて基板１００の単位長さ
当たりで洗浄ブラシ１１が振動する回数が多くなる。た
とえば、直径３００ｍｍの基板１００が２０００ｒｐｍ
で回転している場合に、基板１００の外周部が１ｃｍ回
転移動する間に洗浄ブラシ１１は３２．２回振動するこ
とになり、基板１００の表面の中心部に近づくにしたが
って洗浄ブラシ１１が基板１００の単位長さ当たりで振
動する回数が増加する。それにより、洗浄ブラシ１１の
超音波振動により基板１００から微粒子を剥離させる効
果が高くなる。

【００４７】したがって、基板１００の中心部から外周
部に向かって微粒子を剥離させる効果がほぼ均一とな
る。これらの結果、基板１００の表面を均一に洗浄する
ことができかつ高い洗浄効果が得られる。

【００４８】なお、本実施例では、ブラシ保持部９が自
転可能に構成されているが、ブラシ保持部９が自転しな
いように構成してもよい。

【００４９】図４は本発明の第２の実施例における基板
洗浄装置の主要部の構成を示す模式的断面図である。

【００５０】図４の基板洗浄装置においては、冷却水入
口２１および冷却水出口２２を有する冷却水貯留部２０
が設けられている。この冷却水貯留部２０の冷却水入口
２１には冷却水供給配管２３が取り付けられ、冷却水出
口２２には冷却水排出配管２４が取り付けられている。
冷却水供給配管２３を通して冷却水貯留部２０内に冷却
水が供給され、冷却水貯留部２０内の冷却水が冷却水排
出配管２４を通して排出される。

【００５１】冷却水貯留部２０の下面には開口部２５が
設けられ、この開口部２５内に洗浄ブラシ２６が取り付
けられている。洗浄ブラシ２６はブラシ部２６ａおよび
ブラシ保持部２６ｂからなり、ブラシ部２６ａが冷却水
貯留部２０の開口部２５から下方に突出するようにブラ
シ保持部２６ｂが冷却水貯留部２０の底面縁部に支持さ
れている。この冷却水貯留部２０は、図１のブラシアー
ム８の先端部の下面側に取り付けられる。

【００５２】洗浄ブラシ２６のブラシ保持部２６ｂ上に
は超音波振動子２７が取り付けられている。この超音波
振動子２７は、高周波発振器１７により駆動される。本
実施例の基板洗浄装置においては、超音波振動子２７に
よる超音波振動がブラシ保持部２６ｂを介してブラシ部
２６ａに直接付与される。特に、超音波振動子２７が冷
却水により冷却されるので、電気エネルギーが熱エネル
ギーとして消費されずに効率的に超音波振動のエネルギ
ーに変換されるとともに、超音波振動子２７の寿命が長
くなる。

【００５３】図１の基板洗浄装置と同様に、ノズルアー
ム１１の先端部の下面側には純水吐出ノズル１５が取り
付けられ、純水取付けノズル１５に超音波振動子１６が
取り付けられている。超音波振動子１６も高周波発振器
１７により駆動される。本実施例の基板洗浄装置の他の
部分の構成は、図１の基板洗浄装置の構成と同様であ
る。

【００５４】本実施例では、超音波振動子２７が第１の
超音波振動付与手段に相当し、冷却水貯留部２０、冷却
水供給配管２３および冷却水排出配管２４が冷却手段に
相当する。

【００５５】本実施例の基板洗浄装置においては、洗浄
ブラシ２６の静止荷重に超音波振動子２７の超音波振動
による音圧荷重が重畳されるので、洗浄ブラシ２６に瞬
間的に高い荷重が加わる。また、超音波振動子１６によ
り超音波振動が付与された純水が純水吐出ノズル１５に
より基板１００上に供給される。それにより、洗浄ブラ
シ２６に大きな押し荷重を加えることなく、基板１００
の表面に付着した微粒子を剥離させる衝撃力を高めるこ
とができる。したがって、基板１００の表面を均一に洗
浄することができかつ高い洗浄効果が得られる。

【００５６】図５は本発明の第３の実施例における基板
洗浄装置の主要部の構成を示す模式的断面図である。

【００５７】図５の基板洗浄装置においては、純水入口
３１および純水出口３２を有する純水貯留部３０が設け
られている。純水貯留部３０の純水入口３１には純水供
給源から純水を導くための純水供給配管３３が取り付け
られ、純水出口３２には純水貯留部３０の純水を純水供
給源に帰還させるための純水帰還配管３４が取り付けら
れている。この純水貯留部３０は、図１のブラシアーム
８の先端部の下面側に取り付けられる。

【００５８】純水貯留部３０の下面には開口部３５が設
けられ、この開口部３５内に洗浄ブラシ３６が取り付け
られている。洗浄ブラシ３６はブラシ部３６ａおよびブ
ラシ保持部３６ｂからなり、ブラシ部３６ａが純水貯留
部３０の開口部３５から下方に突出するようにブラシ保
持部３６ｂが純水貯留部３０の底面縁部に支持されてい
る。ブラシ部３６ａの径は開口部３５の径よりも小さく
形成されている。これにより、ブラシ部３６ａと開口部
３５の縁部との間の隙間から純水が漏出可能となってい
る。

【００５９】洗浄ブラシ３６のブラシ保持部３６ｂの上
方には、超音波振動子３７が取り付けられている。この
超音波振動子３７は、高周波発振器１７により駆動され
る。超音波振動子３７により発生される超音波振動は純
水貯留部３０内の純水を通して洗浄ブラシ３６に付与さ
れる。本実施例の基板洗浄装置の他の部分の構成は、図
１の基板洗浄装置の構成と同様である。

【００６０】本実施例では、超音波振動子３７が共通の
超音波振動子に相当し、純水貯留部３０が洗浄液供給手
段および洗浄液貯留部に相当する。また、純水供給配管
３３および純水帰還配管３４が洗浄液循環系に相当す
る。

【００６１】本実施例の基板洗浄装置においては、洗浄
ブラシ３６が回転する基板１００の表面に一定の静止荷
重で押しつけられるとともに、超音波振動子３７により
超音波振動が純水を介して洗浄ブラシ３６に付与され
る。また、超音波振動子３７により超音波振動が付与さ
れた純水が洗浄ブラシ１６のブラシ部３６ａと開口部３
５の縁部との間の隙間から基板１００上に供給される。

【００６２】このように、超音波振動が付与された洗浄
ブラシ３６で基板１００の表面を押圧するとともに、洗
浄ブラシ３６とほぼ同一位置の基板１００の表面に超音
波振動が付与された純水を供給することができる。これ
により、基板１００の表面に付着した微粒子を基板１０
０から確実に剥離させかつ基板１００外に排出すること
ができる。

【００６３】また、純水を純水供給配管３３、純水貯留
部３０および純水帰還配管３４を介して循環させること
ができるので、純水が冷却手段として機能する。それに
より、電気エネルギーが熱エネルギーとして消費されず
に効率的に超音波振動のエネルギーに変換されるととも
に、超音波振動子３７の寿命が長くなる。

【００６４】これらの結果、コンパクトな構成で基板１
００の表面を均一に洗浄することができかつ高い洗浄効
果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例における基板洗浄装置の
模式的断面図である。

【図２】図１の基板洗浄装置の模式的平面図である。

【図３】図１の基板洗浄装置における洗浄ブラシのトー
タルブラシ圧の時間特性を示す図である。

【図４】本発明の第２の実施例における基板洗浄装置の
主要部の構成を示す模式的断面図である。

【図５】本発明の第３の実施例における基板洗浄装置の
主要部の構成を示す模式的断面図である。

【図６】洗浄中の洗浄ブラシと基板との位置関係を示す
模式図である。

【図７】洗浄ブラシおよび超音波ノズルを有する基板洗
浄装置の模式的平面図である。

【符号の説明】

２ 基板保持部 ３ モータ ７，１３ アーム駆動部 ８ ブラシアーム ９ ブラシ保持部 １０ ホーン １１，２６，３６ 洗浄ブラシ １２，１６，２７，３７ 超音波振動子 １４ ノズルアーム １５ 純水吐出ノズル １７ 高周波発振器 １８ 制御部 ２０ 冷却水貯留部 ２６ａ，３６ａ ブラシ部 ２６ｂ，３６ｂ ブラシ保持部 ３０ 純水貯留部 ３３ 純水供給配管 ３４ 純水帰還配管 ２５，３５ 開口部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４４ Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４４Ｂ

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を洗浄する基板洗浄装置であって、 基板を保持する基板保持手段と、 前記基板保持手段を回転駆動する駆動手段と、 前記基板保持手段に保持された基板の表面に接触可能に
   設けられた洗浄ブラシと、 前記洗浄ブラシに超音波振動を付与する第１の超音波振
   動付与手段とを備えたことを特徴とする基板洗浄装置。
2. 【請求項２】 前記基板保持手段に保持された基板上に
   洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、 前記洗浄液供給手段により基板上に供給される洗浄液に
   超音波振動を付与する第２の超音波振動付与手段とをさ
   らに備えたことを特徴とする請求項１記載の基板洗浄装
   置。
3. 【請求項３】 前記洗浄液供給手段は、洗浄液を吐出す
   る洗浄液吐出ノズルを備え、 前記第２の超音波振動付与手段は、前記洗浄液吐出ノズ
   ルに設けられた超音波振動子を備えたことを特徴とする
   請求項２記載の基板洗浄装置。
4. 【請求項４】 前記第１の超音波振動付与手段は、超音
   波振動子と、前記超音波振動子により発生される超音波
   振動を増幅して前記洗浄ブラシに伝達するホーンとを備
   えたことを特徴とする請求項１、２または３記載の基板
   洗浄装置。
5. 【請求項５】 前記第１の超音波振動付与手段は、超音
   波振動子と、前記超音波振動子を冷却する冷却手段とを
   備えたことを特徴とする請求項１、２または３記載の基
   板洗浄装置。
6. 【請求項６】 前記洗浄液供給手段は、開口部を有しか
   つ洗浄液を貯留する洗浄液貯留部を備え、 前記洗浄ブラシは、前記洗浄液貯留部内の洗浄液が漏出
   可能に前記開口部に嵌挿され、 前記第１および第２の超音波振動付与手段は、前記洗浄
   液貯留部内の洗浄液を介して前記洗浄ブラシに超音波振
   動を付与する共通の超音波振動子を備えたことを特徴と
   する請求項２記載の基板洗浄装置。
7. 【請求項７】 前記洗浄液貯留部に洗浄液を供給すると
   ともに前記洗浄液貯留部の洗浄液を帰還させる洗浄液循
   環系をさらに備えたことを特徴とする請求項６記載の基
   板洗浄装置。