JPH1124218A - ハロゲン化銀カラー写真感光材料 - Google Patents

ハロゲン化銀カラー写真感光材料

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JPH1124218A
JPH1124218A JP9181488A JP18148897A JPH1124218A JP H1124218 A JPH1124218 A JP H1124218A JP 9181488 A JP9181488 A JP 9181488A JP 18148897 A JP18148897 A JP 18148897A JP H1124218 A JPH1124218 A JP H1124218A
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泰宏 嶋田
Masakazu Morigaki
政和 森垣
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 色相と色像堅牢性にともに優れたシアン色素
像を形成するハロゲン化銀感光材料を提供する。 【解決手段】 本発明のハロゲン化銀カラー写真感光材
料は、乳剤層に、下記一般式(1)で表されるシアン色
素形成カプラーの少なくとも1種と、一般式(A)で表
される化合物の少なくとも1種及び一般式(D)の化合
物の少なくとも1種を含有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【本発明の属する技術分野】本発明はハロゲン化銀感光
材料に関するものであり、特に、耐拡散性シアン色素形
成カプラーをハロゲン化銀乳剤層に内蔵し、カラー現像
主薬を含有する発色現像薬で処理後、色再現性と色像堅
牢性に優れるカラー画像を形成するハロゲン銀カラー写
真感光材料に関るものである。
【0002】
【従来の技術】ハロゲン化銀カラー写真感光材料におい
て、露光されたハロゲン化銀を酸化剤として、酸化され
た芳香族第一級アミン系カラー現像主薬とカプラーが反
応して、インドフェノール、インドアニリン、インダミ
ン、アゾメチン、フェノキサジン、フェナジン等の色素
ができ、画像が形成されることはよく知られている。こ
の写真方式においては、減色法が用いられており、イエ
ロー、マゼンタ、シアン色素によって色画像が形成され
る。
【0003】これらのうち、シアン色素画像を形成する
ためには、従来、フェノール、又はナフトール系カプラ
ーが用いられている。しかしながら、これらのカプラー
から形成される色素は、イエローからマゼンタの領域に
も吸収を有するため、色再現性上好ましくなく、改良が
望まれている。
【0004】この問題を解決する手段として、米国特許
第4,728,598号、同4,873,183号、欧
州特許第0249453A2号等に記載のヘテロ環化合
物が提案されている。しかしこれらのカプラーは、カッ
プリング活性が低かったり、色素の堅牢性が極めて悪い
等の欠点を有している。
【0005】これらの問題を克服したカプラーとして、
米国特許第5,256,526号、欧州特許第0545
300号にピロロトリアゾールカプラーが提案されてい
る。これらの特許に記載のカプラーは、色相、カップリ
ング活性と言う点で優れている。しかしながら生成色素
画像の堅牢性は必ずしも充分ではなく、特に光堅牢性が
従来のフェノール系カプラーより劣っており、強く改良
が望まれていた。また、従来のフェノール系カプラーに
比べ、カップリング活性が高い事および生成色素の吸光
係数が高い事に起因する処理混色(マゼンタ色像あるい
はイエロー色像中へのシアン混色)が極めて起こり易
く、この点においても改良が望まれていた。
【0006】
【本発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目
的は、色相と色像堅牢性にともに優れたシアン色素像を
形成するハロゲン化銀感光材料を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、鋭意検討
の結果、以下の感光材料及び画像形成法により上記目的
が達成されることを見い出した。即ち、支持体上に少な
くとも1層のハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀
写真感光材料において、該乳剤層に、下記一般式(1)
で表されるシアン色素形成カプラーの少なくとも1種
と、一般式(A)で表される化合物の少なくとも1種及
び一般式(D)の化合物の少なくとも1種を含有するこ
とを特徴とするハロゲン化銀カラー写真感光材料。 一般式(1)
【0008】
【化4】
【0009】一般式(1)中、Za 、Zb はそれぞれ−
C(R3)=または、−N=を表す。ただしZa 、Zb
いずれかは、−N=であり、他方は−C(R3)=であ
る。R1 およびR2 は、それぞれハメットの置換基定数
σp 値が0.20以上の電子吸引基を表し、且つR1
2 のσp 値の和は0.65以上である。R3 は水素原
子または置換基を表す。Xは水素原子、または芳香族第
一級アミンカラー現像主薬の酸化体とのカップリング反
応において離脱しうる基を表す。R1 、R2 、R3 また
は、Xの基が2価の基になり、2量体以上の多量体や高
分子鎖と結合して単重合体もしくは共重合体を形成して
も良い。
【0010】一般式(A)
【0011】
【化5】
【0012】一般式(A)中、Ra 、Rb は、各々独立
に、置換もしくは無置換のアリール基、または置換基の
炭素数も含めた炭素数の合計が2〜30の置換もしくは
無置換のアルキル基を表す。R4 、R5 は水素原子、置
換もしくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無
置換のアリール基を表す。R6 は置換もしくは無置換の
アリール基を表す。
【0013】一般式(D)
【0014】
【化6】
【0015】一般式(D)中、R51、R52は置換もしく
は無置換のアルキル基、アリール基、アシル基、カルバ
モイル基、またはアルコキシカルボニル基を表し、R53
はハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、ア
リール基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、
スルホニル基、またはスルファモイル基を表し、qは0
〜2の整数を表し、rは0〜4の整数を表す(但しq+
rは4以下である)。但しR51、R52およびR53の少な
くとも1つは炭素数8〜22からなる耐拡散性基である
か、もしくはこれを置換基として少なくとも一つ有す
る。
【0016】
【発明の実施の態様】以下に本発明について詳細に説明
する。ここで、本明細書中で用いられるハメットの置換
基定数σp 値について若干説明する。ハメット則はベン
ゼン誘導体の反応または平衡に及ぼす置換基の影響を定
量的に論ずるために1935年 L.P.Hammett により提
唱された経験則であるが、これは今日広く妥当性が認め
られている。ハメット則に求められた置換基定数にはσ
p 値とσm 値があり、これらの値は多くの一般的な成書
に見出すことができるが、例えば、J.A.Dean編、「Lang
e's Handbook of Chemistry 」第12版、1979年
(Mc Graw-Hill) や「化学の領域」増刊、122号、9
6〜103頁、1979年(南光堂)に詳しい。なお、
本発明において各置換基をハメットの置換基定数σp
より限定したり、説明したりするが、これは上記の成書
で見出せる、文献既知の値がある置換基にのみ限定され
るという意味ではなく、その値が文献未知であってもハ
メット則に基づいて測定した場合にその範囲内に包まれ
るであろう置換基をも含むことはいうまでもない。本発
明の一般式(1)で表される化合物はベンゼン誘導体で
はないが、置換基の電子効果を示す尺度として、置換位
置に関係なくσp 値を使用する。本発明においては今
後、σp 値をこのような意味で使用する。また、本発明
でいう「親油性」とは室温下での水に対する溶解度が1
0%以下のものである。
【0017】本明細書中、脂肪族とは、直鎖、分岐又は
環状で飽和であっても不飽和であってもよく、例えばア
ルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ま
たはシクロアルケニルを表し、これらはさらに置換基を
有していても良い。また、芳香族とはアリールを表し、
これはさらに置換基を有していても良く、複素環(ヘテ
ロ環)とは環内にヘテロ原子を持つものであり、芳香族
基であるものをも含み、さらに置換基を有してもかまわ
ない。本明細書中の置換基およびこれらの脂肪族、芳香
族及び複素環における有してもよい置換基としては、特
に規定のない限り置換可能な基であればよく、例えば脂
肪族基、芳香族基、複素環基、アシル基、アシルオキシ
基、アシルアミノ基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ
基、複素環オキシ基、脂肪族オキシカルボニル基、芳香
族オキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、脂
肪族カルバモイル基、芳香族カルバモイル基、脂肪族ス
ルホニル基、芳香族スルホニル基、脂肪族フルファモイ
ル基、芳香族スルファモイル基、脂肪族スルホンアミド
基、芳香族スルホンアミド基、脂肪族アミノ基、芳香族
アミノ基、脂肪族スルフイニル基、芳香族スルフイニル
基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、メルカプト基、ヒド
ロキシ基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシアミノ基、
ハロゲン原子等を挙げることができる。
【0018】以下に本発明の一般式(1)で表されるシ
アンカプラーについて詳しく述べる。Za 及びZb はそ
れぞれ−C(R3)=又は−N=を表す。但し、Za 及び
bの何れか一方は−N=であり、他方は−C(R3)=
である。
【0019】R3 は置換基を表し、置換基としてはハロ
ゲン原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、シア
ノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、スルホ
基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシ
ルアミノ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、ウレイド
基、スルファモイルアミノ基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンア
ミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニ
ル基、アルコキシカルボニル基、ヘテロ環オキシ基、ア
ゾ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、シリル
オキシ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、イミド
基、ヘテロ環チオ基、スルフィニル基、ホスホニル基、
アリールオキシカルボニル基、アシル基等を挙げること
ができる。これらの基はR3 で例示したような置換基で
更に置換されていてもよい。
【0020】さらに詳しくは、R3 はハロゲン原子(例
えば、塩素原子、臭素原子)、アルキル基(例えば、炭
素数1〜32の直鎖、または分岐鎖アルキル基、アラル
キル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル
基、シクロアルケニル基で、詳しくは例えばメチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、t−ブチル、トリデシ
ル、2−メタンスルホニルエチル、3−(3−ペンタデ
シルフェノキシ)プロピル、3−{4−{2−〔4−
(4−ヒドロキシフェニルスルホニル)フェノキシ〕ド
デカンアミド}フェニル}プロピル、2−エトキシトリ
デシル、トリフルオロメチル、シクロペンチル、3−
(2,4−ジ−t−アミルフェノキシ)プロピル)、ア
リール基(例えば、フェニル、4−t−ブチルフェニ
ル、2,4−ジ−t−アミルフェニル、4−テトラデカ
ンアミドフェニル)、ヘテロ環基(例えば、イミダゾリ
ル、ピラゾリル、トリアゾリル、2−フリル、2−チエ
ニル、2−ピリミジニル、2−ベンゾチアゾリル)、シ
アノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アミ
ノ基、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、2
−メトキシエトキシ、2−ドデシルエトキシ、2−メタ
ンスルホニルエトキシ)、アリールオキシ基(例えば、
フェノキシ、2−メチルフェノキシ、4−t−ブチルフ
ェノキシ、3−ニトロフェノキシ、3−t−ブチルオキ
シカルバモイルフェノキシ、3−メトキシカルバモイ
ル)、アシルアミノ基(例えば、アセトアミド、ベンズ
アミド、テトラデカンアミド、2−(2,4−ジ−t−
アミルフェノキシ)ブタンアミド、4−(3−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシフェノキシ)ブタンアミド、2−
{4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニル)フェノキ
シ}デカンアミド)、アルキルアミノ基(例えば、メチ
ルアミノ、ブチルアミノ、ドデシルアミノ、ジエチルア
ミノ、メチルブチルアミノ)、アニリノ基(例えば、フ
ェニルアミノ、2−クロロアニリノ、2−クロロ−5−
テトラデカンアミノアニリノ、2−クロロ−5−ドデシ
ルオキシカルボニルアニリノ、N−アセチルアニリノ、
2−クロロ−5−{2−(3−t−ブチル−4−ヒドロ
キシフェノキシ)ドデカンアミド}アニリノ)、ウレイ
ド基(例えば、フェニルウレイド、メチルウレイド、
N,N−ジブチルウレイド)、スルファモイルアミノ基
(例えば、N,N−ジプロピルスルファモイルアミノ、
N−メチル−N−デシルスルファモイルアミノ)、アル
キルチオ基(例えば、メチルチオ、オクチルチオ、テト
ラデシルチオ、2−フェノキシエチルチオ、3−フェノ
キシプロピルチオ、3−(4−t−ブチルフェノキシ)
プロピルチオ)、アリールチオ基(例えば、フェニルチ
オ、2−ブトキシ−5−t−オクチルフェニルチオ、3
−ペンタデシルフェニルチオ、2−カルボキシフェニル
チオ、4−テトラデカンアミドフェニルチオ)、アルコ
キシカルボニルアミノ基(例えば、メトキシカルボニル
アミノ、テトラデシルオキシカルボニルアミノ)、スル
ホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド、ヘキサ
デカンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、p−
トルエンスルホンアミド、オクタデカンスルホンアミ
ド、2−メトキシ−5−t−ブチルベンゼンスルホンア
ミド)、カルバモイル基(例えば、N−エチルカルバモ
イル、N,N−ジブチルカルバモイル、N−(2−ドデ
シルオキシエチル)カルバモイル、N−メチル−N−ド
デシルカルバモイル、N−{3−(2,4−ジ−t−ア
ミルフェノキシ)プロピル}カルバモイル)、スルファ
モイル基(例えば、N−エチルスルファモイル、N,N
−ジプロピルスルファモイル、N−(2−ドデシルオキ
シエチル)スルファモイル、N−エチル−N−ドデシル
スルファモイル、N,N−ジエチルスルファモイル)、
スルホニル基(例えば、メタンスルホニル、オクタンス
ルホニル、ベンゼンスルホニル、トルエンスルホニ
ル)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカル
ボニル、ブチルオキシカルボニル、ドデシルオキシカル
ボニル、オクタデシルオキシカルボニル)、ヘテロ環オ
キシ基(例えば、1−フェニルテトラゾール−5−オキ
シ、2−テトラヒドロピラニルオキシ)、アゾ基(例え
ば、フェニルアゾ、4−メトキシフェニルアゾ、4−ピ
バロイルアミノフェニルアゾ、2−ヒドロキシ−4−プ
ロパノイルフェニルアゾ)、アシルオキシ基(例えば、
アセトキシ)、カルバモイルオキシ基(例えば、N−メ
チルカルバモイルオキシ、N−フェニルカルバモイルオ
キシ)、シリルオキシ基(例えば、トリメチルシリルオ
キシ、ジブチルメチルシリルオキシ)、アリールオキシ
カルボニルアミノ基(例えば、フェノキシカルボニルア
ミノ)、イミド基(例えば、N−スクシンイミド、N−
フタルイミド、3−オクタデセニルスクシンイミド)、
ヘテロ環チオ基(例えば、2−ベンゾチアゾリルチオ、
2,4−ジ−フェノキシ−1,3,5−トリアゾール−
6−チオ、2−ピリジルチオ)、スルフィニル基(例え
ば、ドデカンスルフィニル、3−ペンタデシルフェニル
スルフィニル、3−フェノキシプロピルスルフィニ
ル)、ホスホニル基(例えば、フェノキシホスホニル、
オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル)、ア
リールオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカルボ
ニル)、アシル基(例えば、アセチル、3−フェニルプ
ロパノイル、ベンゾイル、4−ドデシルオキシベンゾイ
ル)を表す。
【0021】R3 として好ましくは、アルキル基、アリ
ール基、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、アシルアミ
ノ基、アニリノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカル
ボニルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル基、
スルファモイル基、スルホニル基、アルコキシカルボニ
ル基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイ
ルオキシ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、イミ
ド基、ヘテロ環チオ基、スルフィニル基、ホスホニル
基、アリールオキシカルボニル基、アシル基を挙げるこ
とができる。
【0022】更に好ましくはアルキル基、アリール基で
あり、凝集性の点からより好ましくは、少なくとも一つ
の置換基を有するアルキル基、アリール基であり、更に
好ましくは、少なくとも一つのアルキル基、アルコキシ
基、スルホニル基、スルファモイル基、カルバモイル
基、アシルアミド基又はスルホンアミド基を置換基とし
て有するアルキル基若しくはアリール基である。特に好
ましくは、少なくとも一つのアルキル基、アシルアミド
基又はスルホンアミド基を置換基として有するアルキル
基若しくはアリール基である。アリール基においてこれ
らの置換基を有する際には少なくともオルト位又はパラ
位に有することがより好ましい。
【0023】本発明のシアンカプラーは、R1 とR2
いずれも0.20以上の電子吸引性基であり、且つR1
とR2 のσp 値の和が0.65以上にすることでシアン
画像として発色するものである。R1 とR2 のσp 値の
和としては、好ましくは0.70以上であり、上限とし
ては1.8程度である。
【0024】R1 及びR2 はハメットの置換基定数σp
値が0.20以上の電子吸引性基である。好ましくは、
0.30以上の電子吸引性基である。上限としては1.
0以下の電子吸引性基である。
【0025】σp 値が0.20以上の電子吸引性基であ
るR1 及びR2 の具体例としては、アシル基、アシルオ
キシ基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、ア
リールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、ジア
ルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、ジアリール
ホスフィニル基、アルキルスルフィニル、アリールスル
フィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニ
ル基、スルホニルオキシ基、アシルチオ基、スルファモ
イル基、チオシアネート基、チオカルボニル基、ハロゲ
ン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン化
アリールオキシ基、ハロゲン化アルキルアミノ基、ハロ
ゲン化アルキルチオ基、σp 値が0.20以上の他の電
子吸引性基で置換されたアリール基、複素環基、ハロゲ
ン原子、アゾ基、又はセレノシアネート基が挙げられ
る。これらの置換基のうち更に置換基を有することが可
能な基は、R3 で挙げたような置換基を更に有してもよ
い。R1 及びR2 を更に詳しく述べると、σp 値が0.
20以上の電子吸引性基としては、アシル基(例えば、
アセチル、3−フェニルプロパノイル、ベンゾイル、4
−ドデシルオキシベンゾイル)、アシルオキシ基(例え
ば、アセトキシ)、カルバモイル基(例えば、カルバモ
イル、N−エチルカルバモイル、N−フェニルカルバモ
イル、N,N−ジブチルカルバモイル、N−(2−ドデ
シルオキシエチル)カルバモイル、N−(4−n−ペン
タデカンアミド)フェニルカルバモイル、N−メチル−
N−ドデシルカルバモイル、N−{3−(2,4−ジ−
t−アミルフェノキシ)プロピル}カルバモイル)、ア
ルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、
エトキシカルボニル、iso-プロピルオキシカルボニル、
tert−ブチルオキシカルボニル、iso-ブチルオキシカル
ボニル、ブチルオキシカルボニル、ドデシルオキシカル
ボニル、オクタデシルオキシカルボニル)、アリールオ
キシカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニル)、
シアノ基、ニトロ基、ジアルキルホスホノ基(例えば、
ジメチルホスホノ)、ジアリールホスホノ基(例えば、
ジフェニルホスホノ)、ジアリールホスフイニル基(例
えば、ジフェニルホスフイニル)、アルキルスルフイニ
ル基(例えば、3−フェノキシプロピルスルフイニ
ル)、アリールスルフイニル基(例えば、3−ペンタデ
シルフェニルスルフイニル)、アルキルスルホニル基
(例えば、メタンスルホニル、オクタンスルホニル)、
アリールスルホニル基(例えば、ベンゼンスルホニル、
トルエンスルホニル)、スルホニルオキシ基(メタンス
ルホニルオキシ、トルエンスルホニルオキシ)、アシル
チオ基(例えば、アセチルチオ、ベンゾイルチオ)、ス
ルファモイル基(例えば、N−エチルスルファモイル、
N,N−ジプロピルスルファモイル、N−(2−ドデシ
ルオキシエチル)スルファモイル、N−エチル−N−ド
デシルスルファモイル、N,N−ジエチルスルファモイ
ル)、チオシアネート基、チオカルボニル基(例えば、
メチルチオカルボニル、フェニルチオカルボニル)、ハ
ロゲン化アルキル基(例えば、トリフロロメタン、ヘプ
タフロロプロパン)、ハロゲン化アルコキシ基(例え
ば、トリフロロメチルオキシ)、ハロゲン化アリールオ
キシ基(例えば、ペンタフロロフェニルオキシ)、ハロ
ゲン化アルキルアミノ基(例えば、N,N−ジ−(トリ
フロロメチル)アミノ)、ハロゲン化アルキルチオ基
(例えば、ジフロロメチルチオ、1,1,2,2−テト
ラフロロエチルチオ)、σp 0.20以上の他の電子吸
引性基で置換されたアリール基(例えば、2,4−ジニ
トロフェニル、2,4,6−トリクロロフェニル、ペン
タクロロフェニル)、複素環基(例えば、2−ベンゾオ
キサゾリル、2−ベンゾチアゾリル、1−フェニル−2
−ベンズイミダゾリル、5−クロロ−1−テトラゾリ
ル、1−ピロリル)、ハロゲン原子(例えば、塩素原
子、臭素原子)、アゾ基(例えば、フェニルアゾ)また
はセレノシアネート基を表す。これらの置換基のうち更
に置換基を有することが可能な基は、R3 で挙げたよう
な置換基を更に有してもよい。
【0026】R1 及びR2 の好ましいものとしては、ア
シル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、アルコキシ
カルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ
基、ニトロ基、アルキルスルフイニル基、アリールスル
フイニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニ
ル基、スルファモイル基、ハロゲン化アルキル基、ハロ
ゲン化アルキルオキシ基、ハロゲン化アルキルチオ基、
ハロゲン化アリールオキシ基、2つ以上のσp 0.20
以上の他の電子吸引性基で置換されたアリール基、及び
複素環基を挙げることができる。更に好ましくは、アル
コキシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基、アリールス
ルホニル基、カルバモイル基及びハロゲン化アルキル基
である。R1 として最も好ましいものは、シアノ基であ
る。R2 として特に好ましいものは、アルコキシカルボ
ニル基であり、最も好ましいのは、分岐したアルコキシ
カルボニル基(特にシクロアルコキシカルボニル基)で
ある。
【0027】Xは水素原子または芳香族第一級アミンカ
ラー現像主薬の酸化体とのカップリング反応において離
脱しうる基を表すが、離脱しうる基を詳しく述べればハ
ロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル
オキシ基、アルキルもしくはアリールスルホニルオキシ
基、アシルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホ
ンアミド基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリール
オキシカルボニルオキシ基、アルキル、アリールもしく
はヘテロ環チオ基、カルバモイルアミノ基、カルバモイ
ルオキシ基、ヘテロ環カルボニルオキシ基、5員もしく
は6員の含窒素ヘテロ環基、イミド基、アリールアゾ基
などがあり、これらの基は更にR3 の置換基として許容
された基で置換されていてもよい。
【0028】さらに詳しくはハロゲン原子(例えば、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子)、アルコキシ基(例え
ば、エトキシ、ドデシルオキシ、メトキシエチルカルバ
モイルメトキシ、カルボキシプロピルオキシ、メタンス
ルホニルエトキシ、エトキシカルボニルメトキシ)、ア
リールオキシ基(例えば、4−メチルフェノキシ、4−
クロロフェノキシ、4−メトキシフェノキシ、4−カル
ボキシフェノキシ、3−エトキシカルボニルフェノキ
シ、3−アセチルアミノフェノキシ、2−カルボキシフ
ェノキシ)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ、テ
トラデカノイルオキシ、ベンゾイルオキシ)、アルキル
もしくはアリールスルホニルオキシ基(例えば、メタン
スルホニルオキシ、トルエンスルホニルオキシ)、アシ
ルアミノ基(例えば、ジクロルアセチルアミノ、ヘプタ
フルオロブチリルアミノ)、アルキルもしくはアリール
スルホンアミド基(例えば、メタンスルホニルアミノ、
トリフルオロメタンスルホニルアミノ、p−トルエンス
ルホニルアミノ)、アルコキシカルボニルオキシ基(例
えば、エトキシカルボニルオキシ、ベンジルオキシカル
ボニルオキシ)、アリールオキシカルボニルオキシ基
(例えば、フェノキシカルボニルオキシ)、アルキル、
アリールもしくはヘテロ環チオ基(例えば、ドデシルチ
オ、1−カルボキシドデシルチオ、フェニルチオ、2−
ブトキシ−5−t−オクチルフェニルチオ、テトラゾリ
ルチオ)、カルバモイルアミノ基(例えば、N−メチル
カルバモイルアミノ、N−フェニルカルバモイルアミ
ノ)、カルバモイル基(例えば、N,N−ジエチルカル
バモイル、N−エチルカルバモイル、N−エチル−N−
フェニルカルバモイル)、ヘテロ環カルボニルオキシ基
(例えば、モルホリノカルボニルオキシ、ピペリジノカ
ルボニルオキシ)、5員もしくは6員の含窒素ヘテロ環
基(例えば、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリ
ル、テトラゾリル、1,2−ジヒドロ−2−オキソ−1
−ピリジル)、イミド基(例えば、スクシンイミド、ヒ
ダントイニル)、アリールアゾ基(例えば、フェニルア
ゾ、4−メトキシフェニルアゾ)などである。Xはこれ
ら以外に炭素原子を介して結合した離脱基としてアルデ
ヒド類又はケトン類で4当量カプラーを縮合して得られ
るビス型カプラーの形を取る場合もある。又、Xは現像
抑制剤、現像促進剤など写真的有用基を含んでいてもよ
い。
【0029】好ましいXは、ハロゲン原子、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アルキルもしくはアリールチオ
基、アルキルオキシカルボニルオキシ基、アリールオキ
シカルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、ヘテロ
環カルボニルオキシ基、カップリング活性位に窒素原子
で結合する5員もしくは6員の含窒素ヘテロ環基であ
る。より好ましいXは、ハロゲン原子、アルキルもしく
はアリールチオ基、アルキルオキシカルボニルオキシ
基、アリールオキシカルボニルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、ヘテロ環カルボニルオキシ基であり、特に好
ましいのはカルバモイルオキシ基、ヘテロ環カルボニル
オキシ基である。
【0030】一般式(1)で表されるシアンカプラー
は、R1 、R2 、R3 又はXの基が二価の基になり、二
量体以上の多量体や高分子鎖と結合して単重合体若しく
は共重合体を形成してもよい。高分子鎖と結合して単重
合体若しくは共重合体とは一般式(1)で表されるシア
ンカプラー残基を有する付加重合体エチレン型不飽和化
合物の単独もしくは共重合体が典型例である。この場
合、一般式(1)で表されるシアンカプラー残基を有す
るシアン発色繰り返し単位は重合体中に1種類以上含有
されていてもよく、共重合成分として非発色性のエチレ
ン型モノマーの1種または2種以上を含む共重合体であ
ってもよい。一般式(1)で表されるシアンカプラー残
基を有するシアン発色繰り返し単位は好ましくは下記一
般式(P)で表される。
【0031】一般式(P)
【0032】
【化7】
【0033】式中、Rは水素原子、炭素数1〜4個のア
ルキル基または塩素原子を示し、Aは−CONH−、−COO
−または置換もしくは無置換のフェニレン基を示し、B
は置換もしくは無置換のアルキレン基、フェニレン基ま
たはアラルキレン基を示し、Lは−CONH−、−NHCONH
−、−NHCOO −、−NHCO−、−OCONH −、−NH−、−CO
O −、−OCO −、−CO−、−O−、−S−、−SO2 −、
−NHSO2 −または−SO2NH −を表す。a、b、cは0ま
たは1を示す。Qは一般式(I)で表される化合物のR
1 、R2 、R3 又はXより水素原子が離脱したシアンカ
プラー残基を示す。重合体としては一般式(1)のカプ
ラーユニットで表されるシアン発色モノマーと芳香族一
級アミン現像薬の酸化生成物とカップリングしない非発
色性エチレン様モノマーの共重合体が好ましい。
【0034】芳香族一級アミン現像薬の酸化生成物とカ
ップリングしない非発色性エチレン型単量体としては、
アクリル酸、α−クロロアクリル酸、α−アルキルアク
リル酸(例えばメタクリル酸など)これらのアクリル酸
類から誘導されるアミドもしくはエステル(例えば、ア
クリルアミド、メタクリルアミド、n−ブチルアクリル
アミド、t−ブチルアクリルアミド、ジアセトンアクリ
ルアミド、メチルアクリレート、エチルアクリレート、
n−プロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、
t−ブチルアクリレート、iso-ブチルアクリレート、2
−エチルヘキシルアクリレート、n−オクチルアクリレ
ート、ラウリルアクリレート、メチルメタクリレート、
エチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレートおよ
びβ−ヒドロキシメタクリレート)、ビニルエステル
(例えばビニルアセテート、ビニルプロピオネートおよ
びビニルラウレート)、アクリロニトリル、メタクリロ
ニトリル、芳香族ビニル化合物(例えばスチレンおよび
その誘導体、例えばビニルトルエン、ジビニルベンゼ
ン、ビニルアセトフェノンおよびスルホスチレン)、イ
タコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、ビニリデンクロ
ライド、ビニルアルキルエーテル(例えばビニルエチル
エーテル)、マレイン酸エステル、N−ビニル−2−ピ
ロリドン、N−ビニリピリジンおよび2−および−4−
ビニルピリジン等がある。
【0035】特にアクリル酸エステル、メタクリル酸エ
ステル、マレイン酸エステル類が好ましい。ここで使用
する非発色性エチレン型モノマーは2種以上を一緒に使
用することもできる。例えばメチルアクリレートとブチ
ルアクリレート、ブチルアクリレートとスチレン、ブチ
ルメタクリレートとメタクリル酸、メチルアクリレート
とジアセトンアクリルアミドなどが使用できる。
【0036】ポリマーカプラー分野で周知の如く前記一
般式(1)に相当するビニル系単量体と共重合させるた
めのエチレン系不飽和単量体は形成される共重合体の物
理的性質および/または化学的性質、例えば溶解度、写
真コロイド組成物の結合剤、例えばゼラチンとの相溶
性、その可撓性、熱安定性等が好影響を受けるように選
択することができる。
【0037】本発明のシアンカプラーをハロゲン化銀感
光材料中、好ましくは赤感光性ハロゲン化銀乳剤層に含
有させるには、いわゆる内型カプラーにすることが好ま
しく、そのためには、R1 、R2 、R3 、Xの少なくと
も1つの基が所謂バラスト基(好ましくは、総炭素数1
0以上)であることが好ましく、総炭素数10〜50で
あることがより好ましい。特にR3 においてバラスト基
を有することが好ましい。
【0038】一般式(1)で表されるシアンカプラー
は、更に好ましくは下記一般式(4)で表される構造の
化合物である。
【0039】一般式(4)
【0040】
【化8】
【0041】式中、R11、R12、R13、R14、R15は同
一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子ま
たは置換基を表す。置換基としては、置換もしくは無置
換の脂肪族基、または置換若しくは無置換のアリール基
が好ましく、更に好ましいものとしては以下に述べるも
のである。
【0042】R11、R12は、好ましくは脂肪族基を表わ
し、例えば炭素数1〜36の、直鎖、分岐鎖または環状
のアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、シクロアルケニル基で、詳しくは、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、t−ブチル、t
−アミル、t−オクチル、トリデシル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシルを表わす。脂肪族基は、より好まし
くは、炭素数1〜12である。R13、R14、R15は、水
素原子又は、脂肪族基を表わす。脂肪族基としては、先
にR11、R12で挙げた基が挙げられる。R13、R14、R
15は特に好ましくは水素原子である。
【0043】Zは、5〜8員環を形成するのに必要な、
非金属原子群を表わし、この環は置換されていてもよい
し、飽和環であっても不飽和結合を有していてもよい。
好ましい非金属原子としては、窒素原子、酸素原子、イ
オウ原子又は炭素原子が挙げられ、更に好ましくは、炭
素原子である。
【0044】Zで形成される環としては、例えばシクロ
ペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シ
クロオクタン環、シクロヘキセン環、ピペラジン環、オ
キサン環、チアン環等が挙げられ、これらの環は、後述
するR3 で表わされるような置換基で置換されていても
よい。
【0045】Zで形成される環として好ましくは置換さ
れてもよいシクロヘキサン環であり、特に好ましくは、
4位が炭素数1〜24のアルキル基(後述のR3 で表わ
されるような置換基で置換されていてもよい)で置換さ
れたシクロヘキサン環である。
【0046】式(4)のR3 は、式(1)のR3 と同義
であり、特に好ましくはアルキル基またはアリール基で
あり、より好ましくは、置換したアリール基である。炭
素数の観点からは、アルキル基の場合は、好ましくは、
1〜36個であり、アリール基の場合は、好ましくは、
6〜36個である。
【0047】アリール基の中でも、カプラー母核との結
合位のオルト位にアルコキシ基が置換しているものは、
カプラー由来の色素の光堅牢性が低いので好ましくな
い。
【0048】その点で、アリール基の置換基は、置換又
は、無置換のアルキル基が好ましく、中でも、無置換の
アルキル基が最も好ましい。特に、炭素数1〜30個の
無置換アルキル基が好ましい。
【0049】X2 は、水素原子、または、置換基を表わ
す。置換基は、酸化カップリング反応時にX2 −C(=
O)O−基の離脱を促進する基が好ましい。X2 は、そ
の中でも、ヘテロ環、置換又は無置換のアミノ基、もし
くは、アリール基が好ましい。ヘテロ環としては、窒素
原子、酸素原子、またはイオウ原子を有する5〜8員環
で炭素数1〜36のものが好ましい。更に好ましくは、
窒素原子で結合した5員または6員環で、そのうち6員
環が特に好ましい。これらの環はベンゼン環またはヘテ
ロ環と縮合環を形成していてもよい。具体例として、イ
ミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ラクタム化合
物、ピペリジン、ピロリジン、ピロール、モルホリン、
ピラゾリジン、チアゾリジン、ピラゾリンなどが挙げら
れ、好ましくは、モルホリン、ピペリジンが挙げられ、
特にモルホリンが好ましい。
【0050】置換アミノ基の置換基としては、脂肪族
基、アリール基若しくはヘテロ環基が挙げられる。脂肪
族基としては、先に挙げたR3 の置換基が挙げられ、更
にこれらは、シアノ基、アルコキシ基(例えばメトキ
シ)、アルコキシカルボニル基(例えばエトキシカルボ
ニル)、塩素原子、水酸基、カルボキシル基などで置換
されていても良い。置換アミノ基としては、1置換より
も2置換の方が好ましい。置換基としてはアルキル基が
好ましい。
【0051】アリール基としては、炭素数6〜36のも
のが好ましく、更に単環がより好ましい。具体例として
は、フェニル、4−t−ブチルフェニル、2−メチルフ
ェニル、2,4,6−トリメチルフェニル、2−メトキ
シフェニル、4−メトキシフェニル、2,6−ジクロロ
フェニル、2−クロロフェニル、2,4−ジクロロフェ
ニル等が挙げられる。
【0052】本発明に用いられる一般式(4)で表され
るシアンカプラーは、分子中に油溶化基をもち、高沸点
有機溶媒に溶けやすく、またこのカプラー自身及びこの
カプラーと発色用還元剤(現像剤)とが酸化カップリン
グして形成された色素が親水性コロイド層中で非拡散性
であることが好ましい。
【0053】一般式(4)で表わされるカプラーは、R
3 が一般式(4)で表わされるカプラー残基を含有して
いて二量体以上の多量体を形成していたり、R3 が高分
子鎖を含有していて単重合体若しくは共重合体を形成し
ていてもよい。高分子鎖を含有している単重合体若しく
は共重合体とは一般式(4)で表わされるカプラー残基
を有する付加重合体エチレン型不飽和化合物の単独もし
くは共重合体が典型例である。この場合、一般式(4)
で表わされるカプラー残基を有するシアン発色繰り返し
単位は重合体中に1種類以上含有されていてもよく、共
重合成分としてアクリル酸エステル、メタクリル酸エス
テル、マレイン酸エステル類の如き芳香族一級アミン現
像薬の酸化生成物とカップリングしない非発色性のエチ
レン型モノマーの1種または2種以上を含む共重合体で
あってもよい。
【0054】以下に本発明定義のシアンカプラーの具体
例を示すが、これらに限定されるものではない。
【0055】
【化9】
【0056】
【化10】
【0057】
【化11】
【0058】
【化12】
【0059】
【化13】
【0060】
【化14】
【0061】
【化15】
【0062】
【化16】
【0063】
【化17】
【0064】
【化18】
【0065】
【化19】
【0066】
【化20】
【0067】
【化21】
【0068】一般式(1)で表わされる化合物は、公知
の方法、例えば、特開平5−150423号、同5−2
55333号、同5−202004号、同7−4837
6号に記載の方法にて合成する事ができる。
【0069】以下に一般式(1)で表される化合物の具
体的合成例を示す。
【0070】合成例1.例示化合物(1)の合成 下記ルートにより例示化合物(1)を合成した。
【0071】
【化22】
【0072】化合物(b)の合成 2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルシクロヘキサノー
ル、17g(75mmol)のアセトニトリル200m
l溶液に、0℃にて無水トリフルオロ酢酸、10.6m
l(75mmol)を滴下し引き続き、化合物(a)、
15.6g(60.4mmol)をゆっくり添加した。
反応液を室温にて2時間攪拌した後、水300ml、酢
酸エチル300mlを加え、抽出した。有機層を重曹
水、水、食塩水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウム
で乾燥後、溶媒を減圧留去し、アセトニトリルで再結晶
する事により、(b)を19.6g得た。
【0073】化合物(c)の合成 19.6gの(b)の酢酸エチル200ml溶液に、ピ
リジン5mlを加え、ブロミンを水冷下、滴下した。1
時間攪拌した後、水300ml、酢酸エチル300ml
を加え、抽出した。抽出後、酢酸エチル層を硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒を留去し、残査にアセトニトリル
を加え、再結晶した。(c)を18.0g得た。
【0074】化合物(e)の合成 シアノ酢酸メチル2.2gのジメチルアセトアミド20
ml溶液に、0℃にて水素化ナトリウム0.8gをゆっ
くり加え、室温にて30分攪拌した。(溶液S) ジメチルアセトアミド50mlに溶解した10.0gの
(c)を、氷冷下、(溶液S)にゆっくり滴下した。1
時間攪拌した後、反応液に、水20mlに溶解した水酸
化ナトリウム4g、メタノール20mlを添加し、反応
温度を50℃に保ち、1時間攪拌した。反応後、酢酸エ
チルを200ml加え、塩酸水にて、中和した。水洗浄
した後、酢酸エチル層を硫酸マグネシウムで乾燥後、減
圧下、溶媒を留去し、粗化合物(e)を得た。
【0075】例示化合物(1)の合成 得られた粗化合物(e)8.0gをジメチルアセトアミ
ド40ml、ピリジン6mlに溶解し、0℃にて、モル
ホリノカルバモイルクロリドを4.3g添加した。室温
にて2時間攪拌した後、希塩酸水200mlに注加し、
酢酸エチル200mlで抽出した。有機相を水洗し、硫
酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下、溶媒を留去し、
残査にヘキサンを加え、晶析する事により、例示化合物
(1)を6.0g得た。融点は、256℃〜257℃。
【0076】合成例2.例示化合物(25)の合成 化合物(1)の合成において、モルホリノカルバモイル
クロリドの代わりにジアリルカルバモイルクロリドを
4.5g添加し、室温にて、2時間攪拌した。反応後、
希塩酸水200mlに注加し、酢酸エチル200mlで
抽出した。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥した後、減
圧下、溶媒を留去し、残査にヘキサンを加え、晶析する
事により目的の例示化合物を5.5g得た。融点は、2
19℃〜220℃。
【0077】他の化合物も同様に合成できる。
【0078】次に一般式(A)で表される化合物につい
て詳しく説明する。Ra 、Rb は各々独立に水素原子、
置換もしくは無置換のアリール基または置換基の炭素数
も含めた炭素数の合計が2〜30の置換もしくは無置換
のアルキル基を表す。Ra 、Rb がアリール基のときの
アリール基を置換する置換基は一般式(1)におけるR
3 の説明で述べた置換基であり、その具体例もR3 の説
明で述べたものが挙げられる。その中でも、更に好まし
くは、アルキル基、アルコキシ基、アシルアミノ基、ハ
ロゲン原子、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカ
ルボニルアミノ基である。最も好ましくは、アルキル基
(炭素数1〜10)、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原
子)、アルコキシ基(炭素数1〜10)である。Ra
b がアリール基であるとき、アリール基は無置換の方
が、置換基を有するものより好ましい。
【0079】Ra 、Rb がアルキル基であるとき、その
置換基の炭素数も含めた炭素数の合計は、2〜30であ
る。無置換のアルキル基は直鎖でも分岐であっても良
い。直鎖アルキルとしては、炭素数2〜26(例えばエ
チル、n−プロピル、n−ブチル、n−ヘキシル、n−
オクチル、n−デシル、n−オクタデシル、n−エイコ
シル)のものが好ましく、分岐アルキルとしては、炭素
数2〜26(例えばi−プロピル、t−ブチル、2−エ
チルヘキシル)が好ましい。
【0080】Ra 、Rb が置換アルキルであるときの置
換基は一般式(1)のR3 の説明で述べた置換基であ
り、置換基の炭素数も含めた炭素数の合計は、2から2
0が好ましい。その具体例もR3 の説明で述べたものを
挙げることができ、その具体例としては、エトキシメチ
ル、アセトキシメチル、ステアロイルオキシメチル、p
−フェノキシメチル、1−ニトロフェノキシメチル、1
−クロロオクチルなどが挙げられる。
【0081】R4 、R5 は水素原子、または置換もしく
は無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール
基を表す。R4 、R5 が置換アルキル基もしくは置換ア
リール基であるときの置換基は、式(I)のR3 の説明
で述べた置換基であり、その具体例もR3 の説明で述べ
たものが挙げられる。R4 またはR5 がアルキル基であ
るとき、炭素数は1〜20が好ましい。置換基を有して
いるアルキル基よりも無置換のアルキル基の方が好まし
い。R4 またはR5 がアリール基であるとき炭素数は6
〜20が好ましい。R4 とR5 の少なくとも一つが水素
原子であるものが好ましい。
【0082】R6 は置換もしくは無置換のアリール基で
あり、アリール基に置換する置換基は、一般式(1)の
3 で説明した置換基である。置換基の具体例も一般式
(1)の説明で述べたものを挙げることができる。
【0083】置換基は好ましくは、アルキル基(炭素数
1〜20、例えばメチル、エチル、i−プロピル、t−
ブチル、n−オクチル)、アルコキシ基(炭素数1〜2
0、例えばメトキシ、エトキシ、i−プロポキシ、t−
ブトキシ、n−オクチルオキシ、n−テトラデシルオキ
シ、n−ヘキサデシルオキシ、n−オクタデシルオキ
シ)、アシルアミノ基(炭素数1〜20、例えばアセチ
ルアミノ基、プロピオニルアミノ、ステアロイルアミ
ノ)、アルコキシカルボニルアミノ(炭素数2〜20、
例えばメトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニル
アミノ、オクチルオキシカルボニルアミノ)、アミノカ
ルボニルアミノ(炭素数1〜20、例えばジメチルアミ
ノカルボニルアミノ、ジオクチルアミノカルボニルアミ
ノ)、アルキルスルホニルアミノ基(炭素数1〜20、
例えばメタンスルホニルアミノ、エタンスルホニルアミ
ノ、ブタンスルホニルアミノ、オクタンスルホニルアミ
ノ)、アリールスルホニルアミノ(炭素数6〜20、例
えばベンゼンスルホニルアミノ、トルエンスルホニルア
ミノ、ドデシルベンゼンスルホニルアミノ)である。
【0084】一般式(A)の化合物は、耐拡散性の観点
でRa 、Rb 、R4 、R5 、R6 の少なくとも一つにい
わゆるバラスト基を有することが好ましい。分子量は2
00以上が好ましく、更に250以上が好ましく、30
0以上が更に好ましく、350以上が最も好ましい。
【0085】本発明の一般式(A)で表されるフェニド
ン化合物のうち、好ましいものはRa またはRb のいず
れかが水素原子であり、更に好ましくはRa が水素原子
でRb がアルキル基であり、R4 、R5 が共に水素原子
であり、R6 がアリール基である。その中でも、R6
アリール基が無置換であるか、または置換基がアルコキ
シ基、アシルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、
アリールスルホニルアミノ基であるものが更に好まし
い。本発明の一般式(A)で表される化合物の具体例を
示すが、これらに限定されるものではない。
【0086】
【化23】
【0087】
【化24】
【0088】
【化25】
【0089】
【化26】
【0090】
【化27】
【0091】
【化28】
【0092】
【化29】
【0093】一般式(A)で表される化合物の合成法を
説明する。
【0094】本発明の一般式(A)で表される化合物は
以下の合成法に従って合成することができる。
【0095】
【化30】
【0096】化合物(A)−Aとヒドラジンとを縮環さ
せて一般式(A)で表される化合物を合成する。化合物
(A)−A中、Rd はアルキル基またはアリール基であ
り、Rc 、R4 、R5 は一般式(A)のRc 、R4 、R
5 と同義である。ヒドラジンのR6 は一般式(A)のR
6 と同義である。
【0097】本反応は、適当な溶媒中一当量以上の塩基
を作用させることが好ましい。ヒドラジンの塩を用いる
ときは、ヒドラジンを遊離させるために2当量以上の塩
基を用いることが好ましい。塩基としては、アルコキシ
ドが好ましく、カリウム−t−ブトキシド、ナトリウム
メトキシドなどがその例として挙げられる。溶媒として
は、n−ブタノール、t−ブタノール、ジメチルスルホ
キシド、ジメチルアセトアミドなどが例として挙げられ
る。反応温度は一般に−20℃〜180℃で行えるが、
好ましくは0℃〜120℃であり、更に好ましくは30
℃〜90℃である。反応時間は一般に5分から24時間
が適当であるが、好ましくは30分から6時間であり、
更に好ましくは1時間から3時間である。ヒドラジンと
化合物(A)−Aとの使用比率は、モル比で2:1〜
1:2が好ましい。更に好ましくは、1.2:1〜1:
1.2である。
【0098】合成例1.例示化合物1の合成
【0099】
【化31】
【0100】工程1 m−ニトロフェノール145g、1−クロロヘキサデカ
ン300g、ジメチルアセトアミド750ml、炭酸カリ
ウム158gを115℃で2時間反応させた。50℃ま
で冷却しアセトニトリル750mlを加え、水200mlを
滴下した。析出した結晶を濾取し、メタノールで良く洗
浄し、乾燥した。
【0101】m−ヘキサデシルオキシニトロベンゼン3
58g(定量的)を得た。
【0102】工程2 還元鉄226g、塩化アンモニウム18.05g、水2
50g、イソプロピルアルコール2.5リットルを還流して
いるところに、m−ヘキサデシルオキシニトロベンゼン
250gを添加した。30分反応させた後、濾材として
セライトを用いた濾過を行い還元鉄を除いた。濾液に濃
塩酸58mlを加え冷却し晶析を行った。結晶を濾取し、
メタノールで良く洗浄し、乾燥した。
【0103】m−ヘキサデシルオキシアミノベンゼン塩
酸塩を211.8g(収率82.9%)得た。
【0104】工程3 m−ヘキサデシルオキシアミノベンゼン塩酸塩210
g、酢酸1.4リットルを攪拌し、20℃にて濃塩酸80ml
を滴下した。5分攪拌後、亜硝酸イソアミル86.3g
を滴下した。30分反応後10℃にて、塩化スズ(II)
201gの濃塩酸245ml溶液を滴下した。20℃で1
時間反応後、メタノール1.4リットルを加え10℃にて晶
析を行った。結晶を濾取し、メタノールで良く洗浄し粗
結晶を得た。粗結晶をメタノール800mlで再結晶し
た。
【0105】m−ヘキサデシルオキシフェニルヒドラジ
ン塩酸塩を130.2g(収率59.6%)得た。
【0106】工程4 m−ヘキサデシルオキシフェニルヒドラジン塩酸塩12
5g、4−t−ブチルカテコール1.5g、ジメチルス
ルホキシド625mlの混合物を攪拌しているところに、
カリウム−t−ブトキシド83.5gを添加した。10
分攪拌後、メタクリル酸エチル40.8gを滴下した。
45℃で30分反応した後、濃塩酸を添加して反応液の
pHを酸性にしたところ結晶が析出したので濾取し、メ
タノールで洗浄し、粗結晶を得た。粗結晶をメタノール
300mlで再結晶して、化合物181.2g(収率6
0.1%)を得た。化合物1の構造はNMR及びmassス
ペクトルで確認した。
【0107】合成例2.例示化合物(51) の合成
【0108】
【化32】
【0109】工程1 こはく酸メチル256g(1.94mol )とメタノール
800mlを室温下攪拌し、これにナトリウムメチラート
(28重量%)375g(1.94mol )を滴下した。
ついで、1−ブロモヘキサデカン592g(1.94mo
l )を滴下した。3時間還流後、メタノールを留去し、
反応液を1N塩酸水へ注いだ。ヘキサンで抽出し、食塩
水で洗浄し、乾燥後溶媒を留去し、中間体Aを511g
(1.43mol )を得た(収率73.7%)。
【0110】工程2 中間体Aを511g(1.43mol )とメタノール80
0mlを35℃で攪拌下に、これに水酸化カリウム(85
%)94.6g(1.43mol )をメタノール800ml
に溶解した溶液を滴下した。40℃で2時間反応後、濃
塩酸130mlを水500mlに溶解した溶液を更に滴下し
た。析出した結晶を濾取し、水およびn−ヘキサンで洗
浄し、中間体Bを得た。中間体Bは乾燥せず次工程に用
いた。
【0111】工程3 中間体B 全量(1.43mol )とメタノール1.0リ
ットルを混合し、20℃で攪拌下にジエチルアミン11
5g(1.57mol )を滴下した。その後、更に35%
ホルマリン水溶液135g(1.57mol )を滴下し、
20℃で24時間反応させた。析出した結晶を濾取し、
水およびメタノールにて洗浄後、乾燥し、中間体Cを3
96g(1.28mol )得た(収率89.5%)。
【0112】工程4 フェニルヒドラジン145g(1.34mol )とトルエ
ン1.5リットルを140℃で攪拌し、ディーンシュタ
ーク脱水器を用いて内温が100℃になるまで溶媒を留
去した。続いてナトリウムメチラート(28重量%)2
72g(1.41mol )を滴下し、メタノールを留去し
た後、中間体C396g(1.28mol)のトルエン4
00ml溶液を滴下した。
【0113】30分間還流した後、氷冷し、濃塩酸15
0mlを加え、更に酢酸エチル200mlを加えた。不溶物
を濾取して除き、溶液を冷却した。析出した結晶を濾取
した後、水およびn−ヘキサンで洗浄し、乾燥し、化合
物(51) 393g(1.02mol )を得た(収率79.
7%)。その他の化合物も上記の方法に準じて合成でき
る。
【0114】本発明に用いられる耐拡散性基を有する一
般式(D)の化合物について詳しく述べる。耐拡散性基
とは、有機素材を各層中に固定する目的で置換基として
その有機素材に付与する疎水性置換基であり、これによ
って本発明に用いられるカルボン酸またはその塩はその
水に対する溶解度が2%以下、好ましくは1%以下に下
がり、分散された高沸点有機溶媒油滴中に固定される。
耐拡散性基としては、通常ある程度の大きさをもった置
換もしくは無置換のアルキル基、またはアリール基が用
いられる。本発明の場合、カルボンアミド器が親水性で
ある為、十分な耐拡散性を付与する必要がある。従って
耐拡散性基としては、化合物中のその他の親水性成分の
有無やその程度によって異なるが、置換基を含めた総炭
素数8〜32のアルキル基、またはアリール基が好まし
く、高沸点有機溶媒に対する溶解性をも考慮すると置換
基を含めた総炭素数12〜22のアルキル基またはアリ
ール基がより好ましく、また生産性をも踏まえると炭素
数12〜20の直鎖または分岐のアルキル基が特に好ま
しい。一つの有機素材に置換する耐拡散性基の数は1〜
4が好ましく、1または2がより好ましく、特に1が好
ましい。
【0115】耐拡散性基の具体的な例としては、n−オ
クチル、n−デシル、n−ドデシル、n−n−テトラデ
シル、n−ヘキサデシル、n−オクタデシル、シクロヘ
キシル、シクロペンチル、2−エチルヘキシル、2−n
−ヘキシル−n−デシル、2−n−ノニル−n−ドデシ
ル、イソミリスチル、イソパルミチル、イソステアリル
等のアルキル基、これらアルキル基部を有するアシル
基、アシルアミノ基、アルコキシ基、アルコキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニルアミノ
基、カルバモイルアミノ基、スルフェニル基、スルフィ
ニル基、スルホニル基、スルファモイル基、スルホニル
アミノ基、スルファモイルアミノ基、2,5−ジ−t−
アミルフェニル、2,5−ジ−t−ブチルフェニル、4
−t−オクチルフェニル、3−n−ペンタデシルフェニ
ル等のアリール基、これらアリール基部を有するアシル
基、アシルアミノ基、アリールオキシ基、アリールオキ
シカルボニル基、カルバモイル基、アリールオキシカル
ボニルアミノ基、カルバモイルアミノ基、スルフェニル
基、スルフィニル基、スルホニル基、スルファモイル
基、スルホニルアミノ基、スルファモイルアミノ基が挙
げられる。
【0116】また、一般式(D)で表される化合物は非
発色性、無色の化合物であることが好ましい。非発色性
とは、発色現像過程において現像主薬の酸化体とカップ
リング反応を経て色素を生じないという意味であり、無
色とは感光材料への導入前後において、実質的に無色で
あることを意味しており、従って本発明の「耐拡散性基
を有する非発色性、無色化合物」は色素形成カプラー、
色素、染料を包含しない。
【0117】一般式(D)において、R53で表されるハ
ロゲン原子として好ましいものはフッ素原子、塩素原
子、臭素原子であり、より好ましくはフッ素原子、塩素
原子であり、特に好ましくは塩素原子である。
【0118】一般式(D)において、R51、R52、R53
で表される置換もしくは無置換のアルキル基として好ま
しいものは炭素数1〜30の直鎖、分岐、環状のアルキ
ル基であり、より好ましくは炭素数1〜22の直鎖、分
岐のアルキル基であり、特に好ましくは炭素数1〜20
の直鎖のアルキル基である。
【0119】R51、R52、R53で表される置換もしくは
無置換のアリール基として好ましいものは炭素数6〜2
0のアリール基であり、より好ましくは炭素数6〜14
のアリール基であり、特に好ましくは炭素数1〜10の
アリール基である。
【0120】R51、R52、R53で表されるアシル基は、
一般式−COR61で表され、R61は水素原子、置換もし
くは無置換のアルキル基またはアリール基を表す。
【0121】R51、R52、R53で表されるカルバモイル
基は、一般式−CONR6263で表され、R62およびR
63はそれぞれ独立に水素原子、置換もしくは無置換のア
ルキル基またはアリール基を表す。
【0122】R51、R52、R53で表されるアルコキシカ
ルボニル基は一般式−CO2 64で表され、R64は水素
原子、置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール
基を表す。
【0123】R53で表されるスルホニル基は、一般式−
SO2 65で表され、R65は水素原子、置換もしくは無
置換のアルキル基またはアリール基を表す。
【0124】R53で表されるスルファモイル基は一般式
−SO2 NR6667で表され、R66およびR67はそれぞ
れ独立に水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基ま
たはアリール基を表す。
【0125】一般式(D)において、R51、R52は置換
もしくは無置換のアルキル基、アリール基であることが
好ましく、置換もしくは無置換のアルキル基であること
がより好ましい。R53はハロゲン原子、置換もしくは無
置換のアルキル基、アシル基、カルバモイル基、アルコ
キシカルボニル基であることが好ましく、ハロゲン原子
または無置換のアルキル基であることがより好ましい。
【0126】一般式(D)において、qは好ましくは0
または1であり、また好ましくは0であり、rは好まし
くは0〜3の整数であり、より好ましくは0〜2の整数
であり、特に好ましくは0または1である。qが2以上
の整数のとき、複数個の(O−R52)はそれぞれ同一で
も異なっていてもよく、rが2以上の整数のとき、複数
個のR53はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
【0127】次に本発明に用いられる耐拡散性基を有す
る一般式(D)のカルボンアミドの具体例を示すが、本
発明はこれらに限定されるものではない。
【0128】
【化33】
【0129】
【化34】
【0130】
【化35】
【0131】
【化36】
【0132】次に、これらのカルボンアミド化合物の合
成例について具体的に説明する。
【0133】合成例1 例示化合物(D−5)の合成 サリチルアミド218.2g、1−ブロモヘキサデカン
511gおよび無水炭酸カリウム263gをN,N−ジ
メチルアセトアミド600ml中に分散し、85℃で2時
間攪拌した。反応混合物を36%塩酸、382mlを含む
2リットルの水に注ぎ、3時間攪拌した。
【0134】析出した結晶を濾過し、湯水、アセトニト
リルで充分洗浄し、目的の例示化合物(D−5)を56
0g得た。融点87〜88℃ 合成例2 例示化合物(D−10)の合成 サリチルアミド20g、イソステアリン酸クロリド46
gをN,N−ジメチルアセトアミド100ml、ピリジン
24gに溶解し、14時間反応させた。反応後、反応混
合物を水中へ注入し、酢酸エチルで抽出した。有機層を
水洗、分離し、溶媒を減圧下留去した。残査をカラムク
ロマトグラフィーにより精製し、目的の例示化合物(D
−10)を21g得た。その他の化合物も上記の合成法
に準じて合成できる。
【0135】一般式(A)で表されるフェニドン化合物
はシアンカプラーに対して一般に0.1〜300mol %
の添加量で用いられる。好ましくは5〜100mol %で
あり、更に好ましくは10〜30mol %の範囲で用いら
れる。
【0136】一般式(1)のシアンカプラーを含有する
ハロゲン化銀乳剤層中の銀量は、当該シアンカプラーに
対して任意の値をとり得るが、高発色性かつ色再現性の
観点から、好ましくは2.0以上8.0以下、更に好ま
しくは2.8以上6.0以下、最も好ましくは2.8以
上5.0以下である。ここで銀とシアンカプラーの比率
は、シアンカプラーに対する銀のモル換算比率で定義さ
れるものとする。
【0137】前記のシアンカプラーは、支持体上に、一
般的には0.01/1g/m2 、好ましくは0.05〜
0.4g/m2 、更に好ましくは0.1〜0.3g/m
2 の量で塗布される。また、このカプラーの含有量は同
一層中のハロゲン化銀1モル当たり、1×10-3〜1モ
ルが適当であり、好ましくは2×10-3〜3×10-1
ルである。
【0138】一般式(D)で表されるカルボンアミド化
合物の使用量としては、感光材料1m2当たり、0.00
02g〜20gが好ましく、0.001g〜5gがより
好ましく、一般式(1)で表されるカプラーに対して、
重量比で0.1〜8の範囲が好ましく、0.1〜4の範
囲がより好ましい。
【0139】本発明のシアンカプラー、一般式(A)お
よび一般式(D)で表される化合物をハロゲン化銀感光
材料に導入するには、高沸点有機溶媒を用いる水中油滴
分散方法、ラテックス分散方法、あるいは、Resea
rch Disc1osure,February19
95,Item37038などに記載の油溶性ポリマー
と共乳化するポリマー分散法等の公知の分散方法を用い
ることが出来る。
【0140】水中油滴分散方法において、全使用シアン
カプラー重量に対する高沸点有機溶媒の重量比は任意に
とり得るが、好ましくは0.1以上8.0以下であり、
更に好ましくは0.3以上6.0以下、最も好ましくは
0.5以上4.0以下である。また、高沸点有機溶媒を
全く使用しないで用いることも可能である。
【0141】一般式(D)で表されるカルボンアミドの
化合物は、従来公知の高沸点有機溶媒と併用しうる。こ
れら公知の高沸点有機溶媒を併用する場合、高沸点有機
溶媒の全量に対して、このカルボンアミド化合物は、重
量比で、好ましくは10%以上200%以下、さらに好
ましくは200%以上150%以下使用する。併用する
のに好ましい高沸点有機溶媒は誘電率が2.0以上7.
0以下、更に好ましくは3.0以上6.0以下のもので
ある。
【0142】カルボンアミド化合物と併用しうる高沸点
溶媒の例は、米国特許第2,322,027号等に記載
されている。常圧での沸点が175℃以上の高沸点有機
溶媒の具体例としては、フタル酸エステル類〔例えば、
ジブチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジ
−2−エチルヘキシルフタレート、デシルフタレート、
ビス(2,4−ジ−tert−アミルフェニル)フタレー
ト、ビス(2,4−ジ−tert−アミルフェニル)イソフ
タレート、ビス(1,1−ジエチルプロピル)フタレー
ト〕、リン酸又はホスホン酸のエステル類(例えば、ト
リフェニルホスフエート、トリクレジルホスフエート、
2−エチルヘキシルジフェニルホスフエート、トリキク
ロヘキシルホスフエート、トリ−2−エチルヘキシルホ
スフエート、トリドデシルホスフエート、トリブトキシ
エチルホスフエート、トリクロロプロピルホスフエー
ト、ジ−2−エチルヘキシルフェニルホスホネート)、
安息香酸エステル類(例えば、2−エチルヘキシルベン
ゾエート、ドデシルベンゾエート、2−エチルヘキシル
−p−ヒドロキシベンゾエート)、アミド類(例えば、
N,N−ジエチルドデカンアミド、N,N−ジエチルラ
ウリルアミド、N−テトラデシルピロリドン)、スルホ
ンアミド類(例えば、N−ブチルベンゼンスルホンアミ
ド)、アルコール類又はフェノール類(イソステアリル
アルコール、2,4−ジ−tert−アミルフェノール)、
脂肪族カルボン酸エステル類(例えば、ビス(2−エチ
ルヘキシル)セバケート、ジオクチルアゼレート、グリ
セロールトリブチレート、イソステアリルラクテート、
トリオクチルシトレート)、アニリン誘導体(N,N−
ジブチル−2−ブトキシ−5−tert−オクチルアニリン
等)、炭化水素類(例えば、パラフィン、ドデシルベン
ゼン、ジイソプロピルナフタレン)、塩素化パラフィン
類等が挙げられる。
【0143】特に本発明の一般式(1)で表されるカプ
ラーと併用する高沸点有機溶媒として好ましいものはリ
ン酸エステル類、およびアミド類であり、リン酸エステ
ル類およびアミド類から選択された少なくとも一種の化
合物を単独で又は他の高沸点有機溶媒と併用すると好ま
しい。より好ましくはリン酸エステル類の少なくとも一
種とアミド類の少なくとも一種を併用するか、もしくは
リン酸エステル類の少なくとも一種とアミド類の少なく
とも一種とともに他の高沸点有機溶媒も用いる。
【0144】本発明で好ましく使用されるリン酸エステ
ル類は下記一般式(SP)で表され、アミド類は下記一
般式(SA)で表される。
【0145】
【化37】
【0146】一般式(SP)において、RS1〜RS3は互
いに同一でも異なっていてもよく、それぞれアルキル基
またはフェニル基を表す。これらの各基は置換基を有し
てもよく、この置換基としては一般式(1)におけるR
6 で挙げた基が好ましい。なお、RS1、RS2およびRS3
の炭素数の総和が15〜54のものが好ましく、さらに
はRS1〜RS3のいずれもがアリール基であるものが好ま
しい。なお、フェニル基の置換基としてはアルキル基が
好ましく、より好ましくは分岐アルキル基、さらにはイ
ソプロピル基が好ましい。
【0147】一般式(SA)において、RS10 およびR
S11 は同一でも異なってもよく、それぞれアルキル基ま
たはフェニル基を表す。RS12 は水素原子またはRS10
で定義した基を表す。これらの各基は置換基を有してい
てもよく、この置換基としては一般式(1)におけるR
6 で挙げた基が好ましい。RS10 、RS11 およびRS1 2
の炭素数の総和が10〜60のものが好ましい。RS12
がアルキル基または置換基を有してよいフェニル基であ
る場合が好ましく、さらにはR10が置換基を有してよい
フェニル基である場合がより好ましい。
【0148】一般式(SA)で表される化合物のうち、
下記一般式(SA−1)で表されるものが好ましい。
【0149】一般式(SA−1)
【0150】
【化38】
【0151】一般式(SA−1)において、RS21 とR
S22 は同一でも異なっていてもよく、それぞれアルキル
基を表す。RS23 は置換基を表し、nsは1〜6の整数
を、msは0〜5の整数をそれぞれ表す。RS21 、RS22
におけるアルキル基は置換基を有していてもよく、この
置換基としては一般式(1)におけるR6 で挙げた基が
好ましい。nsは1〜3が好ましく、より好ましくは2〜
3、特に好ましくは2である。msは0〜3が好ましく、
0〜1がさらに好ましく、特に好ましくは0である。な
お、nsが2以上の場合、複数の−CONRS21(RS22)は
互いに同一でも異なっていてもよく、msにおいても2以
上の場合、複数のRS23 は同一でも異なっていてもよ
い。またnsが2である場合、ベンゼン環への置換位置は
互いにメタ位またはパラ位にあるものが好ましい。
【0152】一般式(SP)または(SA)で表される
化合物の具体例を以下に示す。
【0153】
【化39】
【0154】
【化40】
【0155】
【化41】
【0156】
【化42】
【0157】
【化43】
【0158】
【化44】
【0159】本発明において、一般式(SA)で表され
る化合物を使用すると色再現性が著しく改良され、好ま
しい。
【0160】補助溶媒としては、沸点が30℃以上、好
ましくは50℃以上約160℃以下の有機溶剤等が使用
でき、典型例としては、例えば酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、プロピオン酸エチル、メチルエチルケトン、シクロ
ヘキサノン、2−エトキシエチルアセテート、ジメチル
ホルムアミドが挙げられる。
【0161】特に一般式(1)で表されるカプラーを含
むハロゲン化銀乳剤層中には前記の化合物以外に退色防
止剤、競争化合物、発色現像処理後に膜中に残存する芳
香族アミン系現像主薬によって発生するシアンステイン
の防止剤、フェノール系のシアンカプラーのうちの少な
くとも一種を使用することが好ましい。これらは特開昭
62−215272号、特開平2−33144号、欧州
公開特許第335,660号に記載されている化合物以
外に退色防止剤としては特開平5−150426号、米
国特許第5,352,573号、同第5,330,88
8号、欧州公開特許第606,659号および特願平8
−126445号に記載の化合物;競争化合物として
は、ハイドロキノン類、カテコール類、没食子酸類、ス
ルホンアミドベンゼン類、ヒトラジッド類、ヒドロキシ
ルアミン類、流出型カプラー、具体的には米国特許第
5,330,888号、同第5,403,704号、同
第5,547,825号および特開平6−83002号
に記載の化合物;発色現像処理後に膜中に残存する芳香
族アミン系現像主薬によって発生するシアンステイン防
止剤としては欧州公開特許第544,317号に記載の
化合物;フェノール系のシアンカプラーについては米国
特許第5,378,596号および特願平8−1015
56号に記載されている化合物をも含む。
【0162】なお、上述の退色防止剤、競争化合物、シ
アンステイン防止剤、フェノール系シアンカプラーの使
用は単に退色防止、混色防止、シアンステイン防止の個
々の目的および本発明の色再現性の改良に対してそれぞ
れ個別に作用するのでなく、相乗的に効果を発現するた
めに特に好ましい。
【0163】本発明のハロゲン化銀写真感光材料には、
その他従来公知の写真用素材や添加剤を使用できる。
【0164】例えば写真用支持体としては、透過型支持
体や反射型支持体を用いることができる。透過型支持体
としては、セルロースナイトレートフィルムやポリエチ
レンテレフタレートなどの透過フィルム、更には2,6
−ナフタレンジカルボン酸(NDCA)とエチレングリ
コール(EG)とのポリエステルやNDCAとテレフタ
ル酸とEGとのポリエステル等に磁性層などの情報記録
層を設けたものが好ましく用いられる。反射型支持体と
しては特に複数のポリエチレン層やポリエステル層でラ
ミネートされ、このような耐水性樹脂層(ラミネート
層)の少なくとも一層に酸化チタン等の白色顔料を含有
する反射支持体が好ましい。
【0165】更に前記の耐水性樹脂層中には蛍光増白剤
を含有するのが好ましい。また、蛍光増白剤は感材の親
水性コロイド層中に分散してもよい。蛍光増白剤とし
て、好ましくは、ベンゾオキサゾール系、クマリン系、
ピラゾリン系が用いる事ができ、更に好ましくは、ベン
ゾオキサゾリルナフタレン系及びベンゾオキサゾリルス
チルベン系の蛍光増白剤である。使用量は、特に限定さ
れないが、好ましくは1〜100mg/m2である。耐水性
樹脂に混合する場合の混合比は、好ましくは樹脂に対し
て0.0005〜3重量%であり、更に好ましくは0.
001〜0.5重量%である。
【0166】反射型支持体としては、透過型支持体、ま
たは上記のような反射型支持体上に、白色顔料を含有す
る親水性コロイド層を塗設したものでもよい。また、反
射型支持体は、鏡面反射性または第2種拡散反射性の金
属表面をもつ支持体であってもよい。
【0167】本発明に用いるハロゲン化銀乳剤として
は、迅速処理性の観点から、塩化銀含有率が95モル%
以上の塩化銀または塩臭化銀乳剤が好ましく、更には塩
化銀含有率が98モル%以上のハロゲン化銀乳剤が好ま
しい。このようなハロゲン化銀乳剤の中でも、塩化銀粒
子の表面に臭化銀局在相を有するものが、高感度が得ら
れ、しかも写真性能の安定化が図れることから特に好ま
しい。
【0168】前記の反射型支持体はハロゲン化銀乳剤、
更にはハロゲン化銀粒子中にドープされる異種金属イオ
ン種、ハロゲン化銀乳剤の保存安定剤またはカブリ防止
剤、化学増感法(増感剤)、分光増感法(分光増感
剤)、シアン、マゼンタ、イエローカプラーおよびその
乳化分散法、色像保存性改良剤(ステイン防止剤や褪色
防止剤)、染料(着色層)、ゼラチン種、感材の層構成
や感材の被膜pHなどについては、表1〜2の特許に記
載のものが本発明に好ましく適用できる。
【0169】
【表1】
【0170】
【表2】
【0171】本発明において併用されるシアン、マゼン
タおよびイエローカプラーとしては、その他、特開昭6
2−215272号の第91頁右上欄4行目〜121頁
左上欄6行目、特開平2−33144号の第3頁右上欄
14行目〜18頁左上欄末行目と第30頁右上欄6行目
〜35頁右下欄11行目やEP0355、660A2号
の第4頁15行目〜27行目、5頁30行目〜28頁末
行目、45頁29行目〜31行目、47頁23行目〜6
3頁50行目に記載のカプラーも有用である。本発明に
用いうる防菌・防黴剤としては特開昭63−27124
7号に記載のものが有用である。感光材料を構成する写
真層に用いられる親水性コロイドとしては、ゼラチンが
好ましく、特に鉄、銅、亜鉛、マンガン等の不純物とし
て含有される重金属は、好ましくは5ppm 以下、更に好
ましくは3ppm 以下である。
【0172】本発明の感光材料は、通常のネガプリンタ
ーを用いたプリントシステムに使用される以外に、陰極
線(CRT)を用いた走査露光方式にも適している。
【0173】陰極線管露光装置は、レーザーを用いた装
置に比べて、簡便でかつコンパクトであり、低コストに
なる。また、光軸や色の調整も容易である。
【0174】画像露光に用いる陰極線管には、必要に応
じてスペクトル領域に発光を示す各種発光体が用いられ
る。例えば赤色発光体、緑色発光体、青色発光体のいず
れか1種、あるいは2種以上が混合されて用いられる。
スペクトル領域は、上記の赤、緑、青に限定されず、黄
色、橙色、紫色或いは赤外領域に発光する発光体も用い
られる。特に、これらの発光体を混合して白色に発光す
る陰極線管がしばしば用いられる。
【0175】感光材料が異なる分光感度分布を有する複
数の感光性層を持ち、陰極線管も複数のスペクトル領域
の発光を示す発光体を有する場合には、複数の色を一度
に露光、即ち陰極線管に複数の色の画像信号を入力して
管面から発光させてもよい。各色ごとの画像信号を順次
入力して各色の発光を順次行わせ、その色以外の色をカ
ットするフィルターを通して露光する方法(面順次露
光)を採っても良く、一般には、面順次露光の方が、高
解像度の陰極線管を用いることができるため、高画質化
のためには好ましい。
【0176】本発明の感光材料は、ガスレーザー、発光
ダイオード、半導体レーザー、半導体レーザーあるいは
半導体レーザーを励起光源に用いた固体レーザーと非線
形光学結晶を組合わせた第二高調波発生光源(SHG)
等の単色高密度光を用いたデジタル走査露光方式に好ま
しく使用される。システムをコンパクトで、安価なもの
にするために半導体レーザー、半導体レーザーあるいは
固体レーザーと非線形光学結晶を組合わせた第二高調波
発生光源(SHG)を使用することが好ましい。特にコ
ンパクトで、安価、更に寿命が長く安定性が高い装置を
設計するためには半導体レーザーの使用が好ましく、露
光光源の少なくとも一つは半導体レーザーを使用するこ
とが好ましい。
【0177】このような走査露光光源を使用する場合、
本発明の感光材料の分光感度極大波長は、使用する走査
露光用光源の波長により任意に設定することができる。
半導体レーザーを励起光源に用いた固体レーザーあるい
は半導体レーザーと非線形光学結晶を組合わせて得られ
るSHG光源では、レーザーの発振波長を半分にできる
ので、青色光、緑色光が得られる。従って、感光材料の
分光感度極大は通常の青、緑、赤の3つの波長領域に持
たせることが可能である。
【0178】このような走査露光における露光時間は、
画素密度を400dpi とした場合の画素サイズを露光す
る時間として定義すると、好ましい露光時間としては1
-4秒以下、更に好ましくは10-6秒以下である。
【0179】本発明に適用できる好ましい走査露光方式
については、前記の表に掲示した特許に詳しく記載され
ている。
【0180】また本発明の感光材料を処理するには、特
開平2−207250号の第26頁右下欄1行目〜34
頁右上欄9行目、及び特開平4−97355号の第5頁
左上欄17行目〜18頁右下欄20行目に記載の処理素
材や処理方法が好ましく適用できる。また、この現像液
に使用する保恒剤としては、前記の表に掲示した特許に
記載の化合物が好ましく用いられる。
【0181】本発明の感光材料を露光後、現像する方式
としては、従来のアルカリ剤と現像主薬を含む現像液で
現像する方法、現像主薬を感光材料に内蔵し現像主薬を
含まないアルカリ液などのアクチベーター液で現像する
方法などの湿式方式のほか、処理液を用いない熱現像方
式などを用いることができる。特に、アクチベーター方
法は、現像主薬を処理液に含まないため、処理液の管理
や取扱いが容易であり、また廃液処理時の負荷が少なく
環境保全上の点からも好ましい方法である。
【0182】アクチベーター方法において、感光材料中
に内蔵される現像主薬またはその前駆体としては、例え
ば、特願平7−63572号、同7−334190号、
同7−334192号、同7−334197号、同7−
344396号に記載されたヒドラジン型化合物が好ま
しい。
【0183】また、感光材料の塗布銀量を低減し、過酸
化水素を用いた画像増幅処理(補力処理)する現像方法
も好ましく用いられる。特に、この方法をアクチベータ
ー方法に用いることは好ましい。具体的には、特願平7
−63587号、同7−334202号に記載された過
酸化水素を含むアクチベーター液を用いた画像形成方法
が好ましく用いられる。
【0184】アクチベーター方法において、アクチベー
ター液で処理後、通常脱銀処理されるが、低銀量の感光
材料を用いた画像増幅処理方法では、脱銀処理を省略
し、水洗または安定化処理といった簡易な方法を行うこ
とができる。また、感光材料から画像情報をスキャナー
等で読み取る方式では、撮影用感光材料などの様に高銀
量の感光材料を用いた場合でも、脱銀処理を不要とする
処理形態を採用することができる。
【0185】本発明で用いられるアクチベーター液、脱
銀液(漂白/定着液)、水洗および安定化液の処理素材
や処理方法は公知のものを用いることができる。好まし
くは、リサーチ・ディスクロージャー Item 36544
(1994年9月)第536頁〜第541頁、特願平7
−63572号に記載されたものを用いることができ
る。
【0186】
【実施例】以下に、実施例を使って本発明を具体的に説
明するが、もちろん本発明はこれに限定されるものでは
ない。
【0187】(実施例1)ポリエチレンで両面ラミネー
トした紙支持体表面にコロナ放電処理を施した後、ドデ
シルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含むゼラチン下塗
層を設け、更に、種々の写真構成層を塗布して、以下に
示す層構成の多層カラー印画紙(101)を作製した。
【0188】塗布液は下記のようにして調製した。
【0189】第五層塗布液調製 一般式(1)のシアンカプラー(C−1)19gを、画
像安定剤(SA−1)2.5g、(So1v−9)1
6.4g、褪色防止剤(ADA−1)1.0g、色像安
定剤(ADF−1)1.2g、色像安定剤(ADF−
2)1.2g、色像安定剤(Cpd−14)6.0g、
色像安定剤(Cpd−18)7.5g、色像安定剤(C
pd−19)13.0g、ステイン防止剤(Cpd−
8)10.0gとともに、酢酸エチル50m1に溶解
し、この溶液を界面活性剤(Cpd−12)3.2gを
酢酸エチル50mlに溶解し、この溶液を界面活性剤(C
pd−13)2.9gを含む20%ゼラチン水溶液50
0gに乳化分散させ、分散後加水し、全量を1Kgと
し、平均粒子サイズが0.15μmの乳化物Cを調製し
た。
【0190】一方、塩臭化銀乳剤C(立方体、平均粒子
サイズ0.55μmの大サイズ乳剤Cと0.42μmの
小サイズ乳剤Cとの1:4混合物(銀モル比)。粒子サ
イズ分布の変動係数はそれぞれ0.09と0.11。各
サイズ乳剤とも臭化銀0.8モル%を、塩化銀を基体と
する粒子表面の一部に局在含有させた)を調製した。こ
の乳剤には、下記に示す赤感性増感色素G、Hを銀1モ
ル当たり大サイズ乳剤Cに対しては、それぞれ5.0×
10-5モル、また、小サイズ乳剤Cに対しては、それぞ
れ8.0×10-5モル添加した。更に、添加剤Xをハロ
ゲン化銀1モル当たり、2.6×10-3モル添加した。
この乳剤の化学熟成は硫黄増感剤と金増感剤を添加して
最適に行われた。
【0191】前記の乳化分散物Cとこの塩臭化銀乳剤C
とを渥合溶解し、以下に示す組成となるように第五層塗
布液を調製した。乳剤塗布量は銀量換算塗布量を示す。
【0192】第一層から第七層用の塗布液も第五層塗布
液と同様の方法で調製した。これらの塗布液は調製後1
5分で塗布した。各層のゼラチン硬膜剤としては1−オ
キシ−3,5−ジクロロ−S−トリアジンナトリウム塩
を用いた。
【0193】また、各層にAS−1、AS−2、AS−
3及びAS−4をそれぞれ全量が15.0mg/m2
6・0mg/m2、5・0mg/m2及び10.0mg/
2となるように添加した。
【0194】各感光性乳剤層の塩臭化銀乳剤には下記の
分光増感色素をそれぞれ用いた。
【0195】青感性乳剤層
【0196】
【化45】
【0197】(ハロゲン化銀1モル当たり、大サイズ乳
剤に対しては、それぞれ1.4×10-4モル、また小サ
イズ乳剤に対しては、それぞれ1.7×10-4モル添加
した。) 緑感性乳剤層
【0198】
【化46】
【0199】(増感色素Dをハロゲン化銀1モル当た
り、大サイズ乳剤に対しては、3.0×10-4モル、ま
た小サイズ乳剤に対しては3.6×10-4モル、また、
増感色素Eをハロゲン化銀1モル当たり、大サイズ乳剤
に対しては4.0×10-5モル、また、小サイズ乳剤に
対しては7.0×10-5モル、また、増感色素Fをハロ
ゲン化銀1モル当たり、大サイズ乳剤に対しては2.0
×10-4モル、また、小サイズ乳剤に対しては2.8×
10-4モル添加した。) 赤感性乳剤層
【0200】
【化47】
【0201】(ハロゲン化銀1モル当たり大サイズ乳剤
に対しては、それぞれ5.0×10-5モル、また小サイ
ズ乳剤に対してはそれぞれ8.0×10-5モル添加し
た。) 更に、下記の化合物をハロゲン化銀1モル当たり、2.
6×10-3モル添加した。
【0202】
【化48】
【0203】また、青感性乳剤層、緑感性乳剤層及び赤
感性乳剤層に対し、1−(5−メチルウレイドフェニ
ル)−5−メルカプトテトラゾールをそれぞれハロゲン
化銀1モル当たり3.3×10-4モル、1.0×10-3
モル及び5.9×10-4モル添加した。
【0204】更に、第二層、第四層、第六層及び第七層
にもそれぞれ0.2mg/m2、0.2mg/m2、0.
6mg/m2、0.1mg/m2となるよう添加した。
【0205】また、青感性乳剤層と緑感性乳剤層に対
し、4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−
テトラザインデンをそれぞれハロゲン化銀1モル当た
り、1×10-4モルと2×10-4モル添加した。
【0206】また、イラジェーション防止水溶性染料と
して、下記に示す化合物を第二、第四および第六層に分
割して添加した。
【0207】
【化49】
【0208】(層構成)以下に各層の組成を示す。数字
は塗布量(g/m2)を表す。ハロゲン化銀乳剤は銀換
算塗布量を表す。
【0209】 支持体 ポリエチレンラミネート紙 (第一層側のポリエチレンに白色顔料(TiO2 含有率15重量%)と青味染料 (群青)を含む) 第一層(青感性乳剤層) 塩臭化銀乳剤A(立方体、平均粒子サイズ、0.88μmの大サイズ乳剤Aと 0.70μmの小サイズ乳剤Aとの3:7混合物(銀モル比)。粒子サイズ分布 の変動係数をそれぞれ0.08と0.10。各サイズ乳剤とも臭化銀0.3モル %を塩化銀を基体とする粒子表面の一部に局在含有させた。)0.26 ゼラチン 1.4 イエローカプラー(ExY) 0.64 色像安定剤(Cpd−1) 0.078 色像安定剤(Cpd−2) 0.038 色像安定剤(Cpd−3) 0.085 色像安定剤(Cpd−5) 0.020 色像安定剤(Cpd−15) 0.005 溶媒(So1v−1) 0.11 溶媒(So1v−6) 0.11 第二層(混色防止層) ゼラチン 1.0 混色防止剤(Cpd−4) 0.11 溶媒(Solv−1) 0.06 溶媒(Solv−2) 0.22 溶媒(Solv−3) 0.08 溶媒(Solv−8) 0.01 紫外線吸収剤(UV−B) 0.07 第三層(緑感性乳剤層) 塩臭化銀乳剤(立方体、平均粒子サイズ0.55μmの大サイズ乳剤Bと0. 39μmの小サイズ乳剤Bとの1:3混合物(銀モル比)。粒子サイズ分布の変 動係数をそれぞれ0.10と0.08。各サイズ乳剤とも臭化銀0.7モル%を 塩化銀を基体とする粒子表面の一部に局在含有させた。) 0.11 ゼラチン 1.3 マゼンタカプラー(ExM) 0.13 紫外線吸収剤(UV−A) 0.12 色像安定剤(Cpd−2) 0.010 色像安定剤(Cpd−5) 0.020 色像安定剤(Cpd−6) 0.010 色像安定剤(Cpd−14) 0.080 色像安定剤(Cpd−8) 0.030 色像安定剤(Cpd−16) 0.002 溶媒(Solv−3) 0.15 溶媒(So1v−4) 0.22 溶媒(Solv−6) 0.11 第四層(混色防止層) ゼラチン 1.0 混色防止剤(Cpd−4) 0.20 溶媒(Solv−1) 0.03 溶媒(So1v−2) 0.11 溶媒(So1v−3) 0.04 溶媒(So1v−8) 0.01 紫外線吸収剤(UV−B) 0.04 第五層(赤感性乳剤層) 塩臭化銀乳剤(立方体、平均粒子サイズ0,55μmの大サイズ乳剤と、0, 42μmの小サイズ乳剤との1:4混含物(銀モル比)。粒子サイズ分布の変動 係数は、それぞれ0.09と0.11、各サイズ乳剤とも臭化銀0.8モル%を 塩化銀を基体とする粒子表面の一部に局在含有させた。) 0.085 ゼラチン 0.99 一般色(1)のシアンカプラー(前記の例示化合物C−1)0.15 溶媒(Solv−9) 0.13 溶媒(SA−1)(前記の例示化合物) 0.02 褪色防止剤(ADA−1) 0.08 色像安定剤(ADF−1) 0.01 色像安定剤(ADF−2) 0.01 色像安定剤(Cpd−14) 0.05 色像安定剤(Cpd−18) 0.06 色像安定剤(Cpd−19) 0.10 色像安定剤(Cpd−6) 0.01 色像安定剤(Cpd−8) 0.08 第六層(紫外線吸収層) ゼラチン 0.63 紫外線吸収剤(UV−C) 0.35 色像安定剤(Cpd−14) 0.050 溶媒(So1v−7) 0.050 第七層(保護層) 酸処理ゼラチン 1.0 ポリビニルアルコールのアクリル変性共重合体(変性度17%) 0.043 流動パラフィン 0.018 界面活性剤(Cpd−17) 0.026
【0210】
【化50】
【0211】
【化51】
【0212】
【化52】
【0213】
【化53】
【0214】
【化54】
【0215】
【化55】
【0216】
【化56】
【0217】
【化57】
【0218】
【化58】
【0219】
【化59】
【0220】以上のように作製した感光材料101に対
して、下記表Aに示すように第五層の組成を変更した以
外は全く同様にして、感光材料102〜127を作製し
た。これらの変更に際しては一般式(1)のカプラーは
等モルで変更した。また、これらの試料を作製する際に
調製したカプラー含有親油性微粒子の平均粒子サイズ
は、全て0.13〜0.15μmの範囲にあった。この
様にして得られた塗布試料は、室温で14日保存した後
に以下に述べる評価を行った。
【0221】まず、感光材料104を塗布銀量の約30
%が現像されるような像様露光後、ぺーパー処理機を用
いて、下記処理工程にてカラー現像液がタンク容量の2
倍量補充されるまで連続処理を行なった。
【0222】 処理工程 温度 時間 補充量 タンク容量 カラー現像 38.5℃ 45 秒 73 ml 500 ml 漂白定着 30〜35℃ 45 秒 60 ml 500 ml リンス(1) 30〜35℃ 20 秒 ─── 500 ml リンス(2) 30〜35℃ 20 秒 ─── 500 ml リンス(3) 30〜35℃ 20 秒 370 ml 500 ml 乾燥 70〜80℃ 60 秒 ─── ─── (補充量は感光材料1m2あたり) (リンスは(3)→(1)の3タンク向流方式とした) 各処理液の組成は以下の通りである。
【0223】 カラー現像液 タンク液 補充液 水 700m1 700m1 トリイソプロピレン(β)スルホン酸 ナトリウム 0.1g 0.1g エチレンジアミン四酢酸 3.0g 3.0g 1,2−ジヒドロキシベンゼン−4,6− ジスルホン酸2ナトリウム塩 0.5g 0.5g トリエタノールアミン 12.0g 12.0g 塩化カリウム 6.5g ─── 臭化カリウム 0.03g ─── 炭酸カリウム 27.0g 27.0g 蛍光増白剤(WHITEX 4、住友化学製) 1.0g 3.0g 亜硫酸ナトリウム 0.1g 0.1g ジエチルヒドロキシルアミン 1.0g 1.0g ジナトリウム−N,N−ビス(スルホナート エチル)ヒドロキシルアミン 10.0g 13.0g N−エチル−N−(3−メタンスルホンアミドエチル) −3−メチル−4−アミノアニリン硫酸塩 5.0g 11.5g ────────────────────────────────── 水を加えて 1000ml 1000ml pH(25℃) 10.0 10.0 漂白定着液(タンク液と補充液は同じ) 水 600ml チオ硫酸アンモニウム(700g/リットル) 100ml 亜硫酸アンモニウム 40g エチレンジアミン四酢酸鉄(III )アンモニウム 55g エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム 5g 臭化アンモニウム 40g 硝酸(67%) 30g ────────────────────────────────── 水を加えて 1000ml pH(25℃)(酢酸及びアンモニア水にて) 4・8 リンス液(タンク液と補充液は同じ) イオン交換水(カルシウム、マグネシウムは各々3pp
m以下) 次に、各試料に感光計(富士写真フイルム株式会社製、
FWH型、光源の色温度3200°K)を用いて、セン
シトメトリー用三色分解光学ウエッジで階調露光を与え
た。この時の露光は0.1秒の露光時間で250CMS
の露光量になるように行った。露光済みの試料はぺーパ
ー処理機を用いて、前記のランニング液で処理を行っ
た。
【0224】評価1 (混色) 処理済みの各試料のマゼンタ発色部(緑色露光部)のマ
ゼンタ濃度2.0の点におけるシアン濃度(D R/M )
を測定した。このD R/Mの値が低い程、マゼンタ発色部
のシアン成分が少なく、マゼンタ発色層で発生した現像
薬の酸化体がシアン発色層まで拡散してシアンカプラー
と反応する程度が少ない。即ち、マゼンタぢうのシアン
混色が少なく、色再現性に優れていることを意味する。
【0225】評価2 (光堅牢性) 処理後の試料に対し、20万ルックスの光照度のキセノ
ン問歇光照射器を用いて、8日間光照射した。照射時に
は、420nmでの光透過率が50%である紫外線カッ
トフィルター〔X〕を通して照射した場合(紫外線成分
が少ない場合)と300nmでの光透過率が50%であ
る紫外線カットフィルター〔Y〕(紫外線成分が多い場
合)を通して照射した場合について、光照射前のシアン
濃度が2.0の点の光照射後のシアン濃度残存率(%)
を評価した。評価結果を表3〜表6に示す。
【0226】
【表3】
【0227】
【表4】
【0228】
【表5】
【0229】
【表6】
【0230】一般式〔1〕のシアンカプラーに対し、一
般式〔A〕の化合物を、一般式〔D〕の化合物と併用せ
ず添加すると、確かにUV光の多い光(フィルター
〔Y〕)に対する光堅牢性改良効果があるが、その程度
は小さい。また、UV光の少ない光(フィルター
〔X〕)に対する光堅牢性は、少量添加では効果ある
が、増量するとむしろ悪化する挙動が見られた。また、
増量すると、マゼンタ成分が増加し、色相上の欠点も有
している。一方、一般式〔D〕の化合物を、一般式
〔A〕の化合物と併用せず添加すると、光堅牢性がむし
ろ悪化する。しかるに、本発明である一般式〔A〕の化
合物と一般式〔D〕の化合物の組み合わせによれば、超
加成性的な併用効果により、色相にも優れ、且つ、紫外
光から可視光にわたる広い波長の光に対し、堅牢性にも
優れるシアン色像が得られることが分かる。
【0231】
【発明の効果】一般式〔A〕の化合物と一般式〔D〕の
化合物を併用することによって、色相にも優れ、且つ、
紫外光から可視光にわたる広い波長の光に対し、堅牢性
にも優れるシアン色像が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 嶋田 泰宏 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 (72)発明者 森垣 政和 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 支持体上に少なくとも1層のハロゲン化
    銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、
    該乳剤層に、下記一般式(1)で表されるシアン色素形
    成カプラーの少なくとも1種と、一般式(A)で表され
    る化合物の少なくとも1種及び一般式(D)の化合物の
    少なくとも1種を含有することを特徴とするハロゲン化
    銀カラー写真感光材料。 一般式(1) 【化1】 一般式(1)中、Za 、Zb はそれぞれ−C(R3)=ま
    たは、−N=を表す。ただしZa 、Zb のいずれかは、
    −N=であり、他方は−C(R3)=である。R1 および
    2 は、それぞれハメットの置換基定数σp 値が0.2
    0以上の電子吸引基を表し、且つR1 とR2 のσp 値の
    和は0.65以上である。R3 は水素原子または置換基
    を表す。Xは水素原子、または芳香族第一級アミンカラ
    ー現像主薬の酸化体とのカップリング反応において離脱
    しうる基を表す。R1 、R2 、R3 または、Xの基が2
    価の基になり、2量体以上の多量体や高分子鎖と結合し
    て単重合体もしくは共重合体を形成しても良い。 一般式(A) 【化2】 一般式(A)中、Ra 、Rb は、各々独立に、置換もし
    くは無置換のアリール基、または置換基の炭素数も含め
    た炭素数の合計が2〜30の置換もしくは無置換のアル
    キル基を表す。R4 、R5 は水素原子、置換もしくは無
    置換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリー
    ル基を表す。R6 は置換もしくは無置換のアリール基を
    表す。 一般式(D) 【化3】 一般式(D)中、R51、R52は置換もしくは無置換のア
    ルキル基、アリール基、アシル基、カルバモイル基、ま
    たはアルコキシカルボニル基を表し、R53はハロゲン原
    子、置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基、カ
    ルバモイル基、アルコキシカルボニル基、スルホニル
    基、またはスルファモイル基を表し、qは0〜2の整数
    を表し、rは0〜4の整数を表す(但しq+rは4以下
    である)。但しR51、R52およびR53の少なくとも1つ
    は炭素数8〜22からなる耐拡散性基であるか、もしく
    はこれを置換基として少なくとも一つ有する。
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