JPH112400A - 混合ガス供給装置 - Google Patents
混合ガス供給装置Info
- Publication number
- JPH112400A JPH112400A JP15333697A JP15333697A JPH112400A JP H112400 A JPH112400 A JP H112400A JP 15333697 A JP15333697 A JP 15333697A JP 15333697 A JP15333697 A JP 15333697A JP H112400 A JPH112400 A JP H112400A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- gas supply
- flow rate
- flow
- supply line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Control Of Non-Electrical Variables (AREA)
- Valve Housings (AREA)
- Pipeline Systems (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Flow Control (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体製造装置に適用される混合ガス供給装
置に於て、大流量のガスが小流量のガスの方へ逆流する
のを適確に防止する。 【解決手段】 ガス供給ライン、マニホルド、流速調整
器とで構成し、とりわけ、ガス供給ラインの通路断面積
と流通するガス流量との比を略等しくする流速調整器を
各ガス供給ラインに設ける。
置に於て、大流量のガスが小流量のガスの方へ逆流する
のを適確に防止する。 【解決手段】 ガス供給ライン、マニホルド、流速調整
器とで構成し、とりわけ、ガス供給ラインの通路断面積
と流通するガス流量との比を略等しくする流速調整器を
各ガス供給ラインに設ける。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体製造
装置に適用される混合ガス供給装置の改良に関する。
装置に適用される混合ガス供給装置の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の混合ガス供給装置として
は、例えば図7に示したものが知られている。当該混合
ガス供給装置50は、流量が異なる複数種類のガスG
(G1 〜Gn )が供給される複数のガス供給ライン51
(511 〜51n )と、各ガス供給ライン51からのガ
スを混合させてガス使用対象(図示せず)に供給するマ
ニホルド52とから構成されている。各ガス供給ライン
51は、圧力調整器53(531 〜53n )と、フィル
タ54(541 〜54n )と、上流側バルブ55(55
1 〜55n )と、マスフローコントローラ56(561
〜56n )と、下流側バルブ57(571 〜57n )と
を備えている。マニホルド52は、各ガス供給ライン5
1に接続される分岐路58(581 〜58n )と、ガス
アウト部(合流部)59と、ガス使用対象に接続される
幹路60とを備え、幹路60には、主バルブ61が設け
られている。
は、例えば図7に示したものが知られている。当該混合
ガス供給装置50は、流量が異なる複数種類のガスG
(G1 〜Gn )が供給される複数のガス供給ライン51
(511 〜51n )と、各ガス供給ライン51からのガ
スを混合させてガス使用対象(図示せず)に供給するマ
ニホルド52とから構成されている。各ガス供給ライン
51は、圧力調整器53(531 〜53n )と、フィル
タ54(541 〜54n )と、上流側バルブ55(55
1 〜55n )と、マスフローコントローラ56(561
〜56n )と、下流側バルブ57(571 〜57n )と
を備えている。マニホルド52は、各ガス供給ライン5
1に接続される分岐路58(581 〜58n )と、ガス
アウト部(合流部)59と、ガス使用対象に接続される
幹路60とを備え、幹路60には、主バルブ61が設け
られている。
【0003】而して、この様なものは、複数種類のガス
を流量の大きさに関係なく適宜各ガス供給ラインから供
給すると、大流量のガスが小流量のガスの方へ逆流して
種々の問題を引き起こす事が知られている。例えば逆流
ガスに依って小流量のガス供給ライン内に反応生成物が
起生し、これが原因で小流量のガス供給ラインのバルブ
に漏洩が生じたり、或は小流量のガス供給ラインのマス
フローコントローラに詰まりが生じるという問題があっ
た。とりわけ、供給されるガスの一種が微小流量の場合
には、この事が顕著であった。
を流量の大きさに関係なく適宜各ガス供給ラインから供
給すると、大流量のガスが小流量のガスの方へ逆流して
種々の問題を引き起こす事が知られている。例えば逆流
ガスに依って小流量のガス供給ライン内に反応生成物が
起生し、これが原因で小流量のガス供給ラインのバルブ
に漏洩が生じたり、或は小流量のガス供給ラインのマス
フローコントローラに詰まりが生じるという問題があっ
た。とりわけ、供給されるガスの一種が微小流量の場合
には、この事が顕著であった。
【0004】この為、大流量のガスをマニホルドの合流
部に近いガス供給ラインから供給すると共に、小流量の
ガスほど大流量のガスから遠いガス供給ラインから供給
する様にして大流量のガスが小流量のガスの方へ逆流す
るのを防止する事が提案されている。つまり、複数種類
のガスG1 〜Gn の流量の大きさがG1 <G2 <G3<
Gn の場合には、この順序に従ってガスG1 〜Gn を各
ガス供給ライン511〜51n から供給するのである。
部に近いガス供給ラインから供給すると共に、小流量の
ガスほど大流量のガスから遠いガス供給ラインから供給
する様にして大流量のガスが小流量のガスの方へ逆流す
るのを防止する事が提案されている。つまり、複数種類
のガスG1 〜Gn の流量の大きさがG1 <G2 <G3<
Gn の場合には、この順序に従ってガスG1 〜Gn を各
ガス供給ライン511〜51n から供給するのである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、この様にし
ても、各ガス供給ラインに供給されるガスの流量に対し
てマニホルドの混合部から各ガス供給ラインまでの距離
が呼応していない場合が殆どであったので、適確に逆流
を防止する事が叶わなかった。
ても、各ガス供給ラインに供給されるガスの流量に対し
てマニホルドの混合部から各ガス供給ラインまでの距離
が呼応していない場合が殆どであったので、適確に逆流
を防止する事が叶わなかった。
【0006】ところで、近年にあっては、例えば特開平
5−172265号や特開平6−241400号に記載
されている如く、各ガス供給ラインに設けられているマ
スフローコントローラやバルブ等を一体的に直結して集
積化する傾向にある。そこで、混合ガス供給装置に於て
も、各ガス供給ラインに設けられているマスフローコン
トローラやバルブ等を集積化した場合には、小流量のガ
スを供給するガス供給ラインが大流量のガスを供給する
ガス供給ラインに近づくので、益々大流量のガスが小流
量のガスの方へ逆流するのを防止できなくなる。
5−172265号や特開平6−241400号に記載
されている如く、各ガス供給ラインに設けられているマ
スフローコントローラやバルブ等を一体的に直結して集
積化する傾向にある。そこで、混合ガス供給装置に於て
も、各ガス供給ラインに設けられているマスフローコン
トローラやバルブ等を集積化した場合には、小流量のガ
スを供給するガス供給ラインが大流量のガスを供給する
ガス供給ラインに近づくので、益々大流量のガスが小流
量のガスの方へ逆流するのを防止できなくなる。
【0007】本発明は、叙上の問題点に鑑み、これを解
消する為に創案されたもので、その主たる目的は、大流
量のガスが小流量のガスの方へ逆流するのを適確に防止
できる混合ガス供給装置を提供するにある。本発明の他
の目的は、各ガス供給ラインに設けられているマスフロ
ーコントローラやバルブ等を集積化した場合でも、大流
量のガスが小流量のガスの方へ逆流するのを適確に防止
できる混合ガス供給装置を提供するにある。
消する為に創案されたもので、その主たる目的は、大流
量のガスが小流量のガスの方へ逆流するのを適確に防止
できる混合ガス供給装置を提供するにある。本発明の他
の目的は、各ガス供給ラインに設けられているマスフロ
ーコントローラやバルブ等を集積化した場合でも、大流
量のガスが小流量のガスの方へ逆流するのを適確に防止
できる混合ガス供給装置を提供するにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の混合ガス供給装
置は、基本的には、異なるガスが供給される複数のガス
供給ラインと、各ガス供給ラインからのガスを混合させ
てガス使用対象に供給するマニホルドと、各ガス供給ラ
インに設けられてガス供給ラインの通路断面積と流通す
るガス流量との比を略等しくする流速調整器と、から構
成した事に特徴が存する。
置は、基本的には、異なるガスが供給される複数のガス
供給ラインと、各ガス供給ラインからのガスを混合させ
てガス使用対象に供給するマニホルドと、各ガス供給ラ
インに設けられてガス供給ラインの通路断面積と流通す
るガス流量との比を略等しくする流速調整器と、から構
成した事に特徴が存する。
【0009】各ガス供給ラインの通路断面積と流通する
ガス流量との比を略等しくする流速調整器を各ガス供給
ラインに設けたので、各ガス供給ラインを流通するガス
の流速を略等しくできる。従って、大流量のガスが小流
量のガスの方へ逆流するのを適確に防止する事ができ
る。勿論、各ガス供給ラインに供給するガスは、流量の
大小に関係なく、任意のガス供給ラインに供給する事が
できる。
ガス流量との比を略等しくする流速調整器を各ガス供給
ラインに設けたので、各ガス供給ラインを流通するガス
の流速を略等しくできる。従って、大流量のガスが小流
量のガスの方へ逆流するのを適確に防止する事ができ
る。勿論、各ガス供給ラインに供給するガスは、流量の
大小に関係なく、任意のガス供給ラインに供給する事が
できる。
【0010】各ガス供給ラインは、少なくとも上流側バ
ルブとマスフローコントローラと下流側バルブとを備え
てこれらが一体的に直結されていても良い。この場合に
は、小流量のガスを供給するガス供給ラインが大流量の
ガスを供給するガス供給ラインに近づくが、各ガス供給
ラインに設けた流速調整器に依り各ガス供給ラインを通
流するガスの流速を略等しくできるので、大流量のガス
が小流量のガスの方へ逆流するのを適確に防止する事が
できる。
ルブとマスフローコントローラと下流側バルブとを備え
てこれらが一体的に直結されていても良い。この場合に
は、小流量のガスを供給するガス供給ラインが大流量の
ガスを供給するガス供給ラインに近づくが、各ガス供給
ラインに設けた流速調整器に依り各ガス供給ラインを通
流するガスの流速を略等しくできるので、大流量のガス
が小流量のガスの方へ逆流するのを適確に防止する事が
できる。
【0011】流速調整器は、下流側バルブの流出路に設
けられたオリフィスガスケットや、下流側バルブの流出
路の一部を細径にした細径部や、下流側バルブの流出路
に先端が挿入されて弁体に固着されたニードル体であっ
ても良い。この様に流速調整器を下流側バルブに設けて
置くと、回路の組立等が容易になり、集積化に大いに貢
献する事ができる。
けられたオリフィスガスケットや、下流側バルブの流出
路の一部を細径にした細径部や、下流側バルブの流出路
に先端が挿入されて弁体に固着されたニードル体であっ
ても良い。この様に流速調整器を下流側バルブに設けて
置くと、回路の組立等が容易になり、集積化に大いに貢
献する事ができる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
面に基づいて説明する。図1は、本発明の混合ガス供給
装置を示す概要回路図である。
面に基づいて説明する。図1は、本発明の混合ガス供給
装置を示す概要回路図である。
【0013】混合ガス供給装置1は、ガス供給ライン
2、マニホルド3、流速調整器4とからその主要部が構
成されている。
2、マニホルド3、流速調整器4とからその主要部が構
成されている。
【0014】ガス供給ライン2は、流量が異なる複数種
類のガスGが供給される複数のもので、この例では、4
種類のガスG1 〜Gn が供給される4つのガス供給ライ
ン2 1 〜2n にしてあり、流路内径つまり通路断面積を
同一にしている。
類のガスGが供給される複数のもので、この例では、4
種類のガスG1 〜Gn が供給される4つのガス供給ライ
ン2 1 〜2n にしてあり、流路内径つまり通路断面積を
同一にしている。
【0015】各ガス供給ライン2(21 〜2n )には、
圧力調整器5(51 〜5n )と、フィルタ6(61 〜6
n )と、上流側バルブ7(71 〜7n )と、マスフロー
コントローラ8(81 〜8n )と、下流側バルブ9(9
1 〜9n )とが上流側から順に設けられている。
圧力調整器5(51 〜5n )と、フィルタ6(61 〜6
n )と、上流側バルブ7(71 〜7n )と、マスフロー
コントローラ8(81 〜8n )と、下流側バルブ9(9
1 〜9n )とが上流側から順に設けられている。
【0016】マニホルド3は、各ガス供給ライン2から
のガスGを混合させてガス使用対象に供給するもので、
この例では、各ガス供給ライン2に接続される分岐路1
0(101 〜10n )と、これらのガスアウト部(合流
部)11と、これから延びてガス使用対象(図示せず)
に接続される幹路12とを備え、ガス供給ライン2nと
合流部11と幹路12とが一直線状に並ぶ様にされ、ガ
ス供給ライン2n からのガスが最短距離でガス使用対象
に供給される様に為されている。マニホルド3の幹路1
2には、主バルブ13が設けられている。
のガスGを混合させてガス使用対象に供給するもので、
この例では、各ガス供給ライン2に接続される分岐路1
0(101 〜10n )と、これらのガスアウト部(合流
部)11と、これから延びてガス使用対象(図示せず)
に接続される幹路12とを備え、ガス供給ライン2nと
合流部11と幹路12とが一直線状に並ぶ様にされ、ガ
ス供給ライン2n からのガスが最短距離でガス使用対象
に供給される様に為されている。マニホルド3の幹路1
2には、主バルブ13が設けられている。
【0017】流速調整器4は、各ガス供給ライン2に設
けられて各ガス供給ライン2の通路断面積と流通するガ
ス流量との比を略等しくするもので、この例では、下流
側バルブ9の下流側に設けている。
けられて各ガス供給ライン2の通路断面積と流通するガ
ス流量との比を略等しくするもので、この例では、下流
側バルブ9の下流側に設けている。
【0018】ガスG(G1 〜Gn )としては、He ,A
r ,H2 ,O2 ,N2 ,HCl,Cl2 ,H2 S,SF
6 ,Si H4 等の各種所謂半導体製造用ガスがある。
r ,H2 ,O2 ,N2 ,HCl,Cl2 ,H2 S,SF
6 ,Si H4 等の各種所謂半導体製造用ガスがある。
【0019】マニホルド3のガスアウト部11から最も
遠いガス供給ライン21 には最小流量のガスG1 が、ガ
ス供給ライン21 に隣接するガス供給ライン22 にはガ
スG 1 より流量の大きなガスG2 が、ガス供給ライン2
2 に隣接するガス供給ライン23 にはガスG2 より流量
の大きなガスG3 が、マニホルド3のガスアウト部11
に最も近いガス供給ライン2n には最大流量のガスGn
が夫々供給される。つまり、各ガス供給ライン21 〜2
n に供給するガスG1 〜Gn は、その流量の大きさがG
1 <G2 <G3 <Gn になる様にしてある。
遠いガス供給ライン21 には最小流量のガスG1 が、ガ
ス供給ライン21 に隣接するガス供給ライン22 にはガ
スG 1 より流量の大きなガスG2 が、ガス供給ライン2
2 に隣接するガス供給ライン23 にはガスG2 より流量
の大きなガスG3 が、マニホルド3のガスアウト部11
に最も近いガス供給ライン2n には最大流量のガスGn
が夫々供給される。つまり、各ガス供給ライン21 〜2
n に供給するガスG1 〜Gn は、その流量の大きさがG
1 <G2 <G3 <Gn になる様にしてある。
【0020】各ガス供給ライン21 〜2n に供給される
ガスG1 〜Gn の流量が異なると共に、各ガス供給ライ
ン21 〜2n の流路内径が同一にしてあるので、各ガス
供給ライン21 〜2n 内を流通するガスの流速は夫々異
なっている。そこで、各ガス供給ライン21 〜2n に設
けた流速調整器41 〜4n を、各ガス供給ライン2の通
路断面積と流通するガス流量との比が略等しくなる様に
する。そうすると、各ガス供給ライン21 〜2n のガス
G1 〜Gn の流速が略等しくなり、例えば最大流量のガ
スGn が最小流量のガスG1 の方へ逆流するのが適確に
防止される。
ガスG1 〜Gn の流量が異なると共に、各ガス供給ライ
ン21 〜2n の流路内径が同一にしてあるので、各ガス
供給ライン21 〜2n 内を流通するガスの流速は夫々異
なっている。そこで、各ガス供給ライン21 〜2n に設
けた流速調整器41 〜4n を、各ガス供給ライン2の通
路断面積と流通するガス流量との比が略等しくなる様に
する。そうすると、各ガス供給ライン21 〜2n のガス
G1 〜Gn の流速が略等しくなり、例えば最大流量のガ
スGn が最小流量のガスG1 の方へ逆流するのが適確に
防止される。
【0021】図2は、図1の回路を集積化した平面図。
図3は、図2の3−3矢視図である。
図3は、図2の3−3矢視図である。
【0022】図2及び図3に於て、混合ガス供給装置1
を構成する圧力調整器5とフィルタ6と上流側バルブ7
とマスフローコントローラ8と下流側バルブ9とマニホ
ルド3と主バルブ13は、一体的に直結されて集積化さ
れている。
を構成する圧力調整器5とフィルタ6と上流側バルブ7
とマスフローコントローラ8と下流側バルブ9とマニホ
ルド3と主バルブ13は、一体的に直結されて集積化さ
れている。
【0023】圧力調整器5とフィルタ6と上流側バルブ
7とマスフローコントローラ8と下流側バルブ9と主バ
ルブ13は、夫々下方が開口した流入路14及び流出路
15を備えている。
7とマスフローコントローラ8と下流側バルブ9と主バ
ルブ13は、夫々下方が開口した流入路14及び流出路
15を備えている。
【0024】圧力調整器5の上流側(図3に於て左側)
の下方には、圧力調整器5の流入路14に連通する上方
と上流側が開口した略L型の流入路16を有する流入路
形成部材17がシール材(図示せず)を介して上下方向
に分離可能に取付けられている。
の下方には、圧力調整器5の流入路14に連通する上方
と上流側が開口した略L型の流入路16を有する流入路
形成部材17がシール材(図示せず)を介して上下方向
に分離可能に取付けられている。
【0025】圧力調整器5の下流側とフィルタ6の上流
側との下方、フィルタ6の下流側と上流側バルブ7の上
流側との下方、上流側バルブ7の下流側とマスフローコ
ントローラ8の上流側との下方、マスフローコントロー
ラ8の下流側と下流側バルブ9の上流側との下方には、
夫々隣接する流出路15と流入路14に連通する上方が
開口した略V型の連通路18を有する連通路形成部材1
9がシール材(図示せず)を介して上下方向に分離可能
に取付けられている。
側との下方、フィルタ6の下流側と上流側バルブ7の上
流側との下方、上流側バルブ7の下流側とマスフローコ
ントローラ8の上流側との下方、マスフローコントロー
ラ8の下流側と下流側バルブ9の上流側との下方には、
夫々隣接する流出路15と流入路14に連通する上方が
開口した略V型の連通路18を有する連通路形成部材1
9がシール材(図示せず)を介して上下方向に分離可能
に取付けられている。
【0026】各下流側バルブ9の下流側と主バルブ13
の上流側との下方には、各下流側バルブ9の流出路15
と主バルブ13の流入路14に連通する上方が開口した
略V型の分岐路10とガスアウト部11と幹路12を有
するマニホルド3がシール材(図示せず)を介して上下
方向に分離可能に取付けられている。
の上流側との下方には、各下流側バルブ9の流出路15
と主バルブ13の流入路14に連通する上方が開口した
略V型の分岐路10とガスアウト部11と幹路12を有
するマニホルド3がシール材(図示せず)を介して上下
方向に分離可能に取付けられている。
【0027】主バルブ13の下流側の下方には、主バル
ブ13の流出路15に連通する上方と下流側が開口した
略L型の流出路20を有する流出路形成部材21がシー
ル材(図示せず)を介して上下方向に分離可能に取付け
られている。
ブ13の流出路15に連通する上方と下流側が開口した
略L型の流出路20を有する流出路形成部材21がシー
ル材(図示せず)を介して上下方向に分離可能に取付け
られている。
【0028】圧力調整器5、フィルタ6、上流側バルブ
7、マスフローコントローラ8、下流側バルブ9及び主
バルブ13の各下面は、面一にしてあると共に、流入路
形成部材17、連通路形成部材19、マニホルド3及び
流出路形成部材21の各上面は、面一にしてある。
7、マスフローコントローラ8、下流側バルブ9及び主
バルブ13の各下面は、面一にしてあると共に、流入路
形成部材17、連通路形成部材19、マニホルド3及び
流出路形成部材21の各上面は、面一にしてある。
【0029】図4は、流速調整器を備えた下流側バルブ
を示す縦断側面図である。下流側バルブ9は、バルブ本
体22、弁体23、シャフト24、弁駆動装置25を備
えている。
を示す縦断側面図である。下流側バルブ9は、バルブ本
体22、弁体23、シャフト24、弁駆動装置25を備
えている。
【0030】バルブ本体22は、ステンレス鋼等の耐食
鋼に依り作製されて居り、内部に形成された弁室26
と、これの底部に形成された弁座27と、下方に開口し
て弁室26に連通する流入路14と、下方に開口して弁
座27を介して弁室26に連通する流出路15とを備え
ている。流入路14及び流出路15等の容積は、可能な
限り小さくしてガスの置換性等を高める様にして置く。
鋼に依り作製されて居り、内部に形成された弁室26
と、これの底部に形成された弁座27と、下方に開口し
て弁室26に連通する流入路14と、下方に開口して弁
座27を介して弁室26に連通する流出路15とを備え
ている。流入路14及び流出路15等の容積は、可能な
限り小さくしてガスの置換性等を高める様にして置く。
【0031】弁体(ダイヤフラム)23は、ステンレス
鋼等の薄板であり、スプリング28に依り弁体押え29
を介して押圧されて弾性変形をし、弁座27へ当座する
と共に、シャフト24が上方へ引っ張られて押圧力が喪
失すると、その弾性力によって弁座27から離座する。
弁体23の外周縁部は、ボンネット30及び袋ナット3
1を介してバルブ本体22側へ気密状に押圧固定されて
いる。
鋼等の薄板であり、スプリング28に依り弁体押え29
を介して押圧されて弾性変形をし、弁座27へ当座する
と共に、シャフト24が上方へ引っ張られて押圧力が喪
失すると、その弾性力によって弁座27から離座する。
弁体23の外周縁部は、ボンネット30及び袋ナット3
1を介してバルブ本体22側へ気密状に押圧固定されて
いる。
【0032】弁駆動装置25は、シャフト24を上昇さ
せる公知のエアーシリンダ型であるが、電動型や油圧シ
リンダ型であっても良い。
せる公知のエアーシリンダ型であるが、電動型や油圧シ
リンダ型であっても良い。
【0033】バルブ本体22の流出路15の途中には、
流速調整器4となるオリフィスガスケット32が着脱可
能に設けられて居り、これに穿設されたオリフィス小孔
33にガスGを流通させる事に依り流速を上昇させる様
にしている。つまり、オリフィス小孔33の大きさが異
なるオリフィスガスケット32に交換する事に依りガス
Gの流速を変える事ができる。従って、各ガス供給ライ
ン2に供給されるガスGの流量に夫々呼応した流速を得
る事ができ、大流量のガスが小流量のガス内へ逆流する
のを適確に防止する事ができる。
流速調整器4となるオリフィスガスケット32が着脱可
能に設けられて居り、これに穿設されたオリフィス小孔
33にガスGを流通させる事に依り流速を上昇させる様
にしている。つまり、オリフィス小孔33の大きさが異
なるオリフィスガスケット32に交換する事に依りガス
Gの流速を変える事ができる。従って、各ガス供給ライ
ン2に供給されるガスGの流量に夫々呼応した流速を得
る事ができ、大流量のガスが小流量のガス内へ逆流する
のを適確に防止する事ができる。
【0034】図5は、流速調整器を備えた下流側バルブ
の第二例を示す縦断側面図である。第二例にあっては、
流出路15の弁室26側の端部を、内径が0.2〜2m
m程度で長さが1mm程度の細径部34にして流速調整
器4にされている。この細径部34の内径を変える事に
依り供給されるガスGの流量に応じた流速に調整する事
ができる。
の第二例を示す縦断側面図である。第二例にあっては、
流出路15の弁室26側の端部を、内径が0.2〜2m
m程度で長さが1mm程度の細径部34にして流速調整
器4にされている。この細径部34の内径を変える事に
依り供給されるガスGの流量に応じた流速に調整する事
ができる。
【0035】図6は、流速調整器を備えた下流側バルブ
の第三例を示す縦断側面図である。第三例にあっては、
弁体24の流出路30側の中央部に流速調整器4である
ニードル体35が溶接されてその先端が流出路15内へ
挿入されている。そして、弁駆動装置25のケース体3
6には、ストローク調整ねじ37が螺動可能に設けられ
て居り、このストローク調整ねじ37の締込み量を調整
する事に依りシャフト24の作動ストロークLが規制さ
れている。その結果、開弁時のニードル体35の移動
量、即ち流出路15の間隙Sの調整が可能となり、供給
されるガスGの流量に応じた流速に調整する事ができ
る。
の第三例を示す縦断側面図である。第三例にあっては、
弁体24の流出路30側の中央部に流速調整器4である
ニードル体35が溶接されてその先端が流出路15内へ
挿入されている。そして、弁駆動装置25のケース体3
6には、ストローク調整ねじ37が螺動可能に設けられ
て居り、このストローク調整ねじ37の締込み量を調整
する事に依りシャフト24の作動ストロークLが規制さ
れている。その結果、開弁時のニードル体35の移動
量、即ち流出路15の間隙Sの調整が可能となり、供給
されるガスGの流量に応じた流速に調整する事ができ
る。
【0036】
【発明の効果】以上、既述した如く、本発明に依れば、
次の様な優れた効果を奏する事ができる。 (1) ガス供給ライン、マニホルド、流速調整器とで
構成し、とりわけ、ガス供給ラインの通路断面積と流通
するガス流量との比を略等しくする流速調整器を各ガス
供給ラインに設けたので、大流量のガスが小流量のガス
の方へ逆流するのを適確に防止できる。 (2) 各ガス供給ラインに設けられる少なくとも上流
側バルブとマスフローコントローラと下流側バルブとを
一体的に直結した場合でも、ガス供給ラインの通路断面
積と流通するガス流量との比を略等しくする流速調整器
を各ガス供給ラインに設けたので、大流量のガスが小流
量のガスの方へ逆流するのを適確に防止できる。 (3) 流速調整器を、下流側バルブの流出路に設けら
れたオリフィスガスケットや、下流側バルブの流出路の
一部を細径にした細径部や、下流側バルブの流出路に先
端が挿入されて弁体に固着されたニードル体にした場合
には、回路の組立等が至便になり、集積化に大いに貢献
する事ができる。
次の様な優れた効果を奏する事ができる。 (1) ガス供給ライン、マニホルド、流速調整器とで
構成し、とりわけ、ガス供給ラインの通路断面積と流通
するガス流量との比を略等しくする流速調整器を各ガス
供給ラインに設けたので、大流量のガスが小流量のガス
の方へ逆流するのを適確に防止できる。 (2) 各ガス供給ラインに設けられる少なくとも上流
側バルブとマスフローコントローラと下流側バルブとを
一体的に直結した場合でも、ガス供給ラインの通路断面
積と流通するガス流量との比を略等しくする流速調整器
を各ガス供給ラインに設けたので、大流量のガスが小流
量のガスの方へ逆流するのを適確に防止できる。 (3) 流速調整器を、下流側バルブの流出路に設けら
れたオリフィスガスケットや、下流側バルブの流出路の
一部を細径にした細径部や、下流側バルブの流出路に先
端が挿入されて弁体に固着されたニードル体にした場合
には、回路の組立等が至便になり、集積化に大いに貢献
する事ができる。
【図1】本発明の混合ガス供給装置を示す概要回路図。
【図2】図1の回路を集積化した平面図。
【図3】図2の3−3矢視図。
【図4】流速調整器を備えた下流側バルブを示す縦断側
面図。
面図。
【図5】流速調整器を備えた下流側バルブの第二例を示
す縦断側面図。
す縦断側面図。
【図6】流速調整器を備えた下流側バルブの第三例を示
す縦断側面図。
す縦断側面図。
【図7】従来の混合ガス供給装置を示す概要回路図。
1,50…混合ガス供給装置、2,51…ガス供給ライ
ン、3,52…マニホルド、4…流速調整器、5,53
…圧力調整器、6,54…フィルタ、7,55…上流側
バルブ、8,56…マスフローコントローラ、9,57
…下流側バルブ、10,58…分岐路、11,59…ガ
スアウト部、12,60…幹路、13,61…主バル
ブ、14,16…流入路、15,20…流出路、17…
流入路形成部材、18…連絡路、19…連絡路形成部
材、21…流出路形成部材、22…バルブ本体、23…
弁体、24…シャフト、25…弁駆動装置、26…弁
室、27…弁座、28…スプリング、29…弁体押え、
30…ボンネット、31…袋ナット、32…オリフィス
ガスケット、33…オリフィス小孔、34…細径部、3
5…ニードル体、36…ケース体、37…ストローク調
整ねじ、G…ガス、L…作動ストローク、S…間隙。
ン、3,52…マニホルド、4…流速調整器、5,53
…圧力調整器、6,54…フィルタ、7,55…上流側
バルブ、8,56…マスフローコントローラ、9,57
…下流側バルブ、10,58…分岐路、11,59…ガ
スアウト部、12,60…幹路、13,61…主バル
ブ、14,16…流入路、15,20…流出路、17…
流入路形成部材、18…連絡路、19…連絡路形成部
材、21…流出路形成部材、22…バルブ本体、23…
弁体、24…シャフト、25…弁駆動装置、26…弁
室、27…弁座、28…スプリング、29…弁体押え、
30…ボンネット、31…袋ナット、32…オリフィス
ガスケット、33…オリフィス小孔、34…細径部、3
5…ニードル体、36…ケース体、37…ストローク調
整ねじ、G…ガス、L…作動ストローク、S…間隙。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01L 21/205 H01L 21/205 // H01L 21/3065 21/302 B (72)発明者 マノハル、L、シュレスタ 大阪府大阪市西区立売堀2丁目3番2号 株式会社フジキン内 (72)発明者 加賀爪 哲 山梨県韮崎市藤井町北下条2381番地の1 東京エレクトロン山梨株式会社内
Claims (5)
- 【請求項1】 流量が異なる複数種類のガスが供給され
る複数のガス供給ラインと、各ガス供給ラインからのガ
スを混合させてガス使用対象に供給するマニホルドと、
各ガス供給ラインに設けられて各ガス供給ラインの通路
断面積と流通するガス流量との比を略等しくする流速調
整器と、から構成した事を特徴とする混合ガス供給装
置。 - 【請求項2】 各ガス供給ラインは、少なくとも上流側
バルブとマスフローコントローラと下流側バルブとを備
えてこれらが一体的に直結されている請求項1に記載の
混合ガス供給装置。 - 【請求項3】 流速調整器は、下流側バルブの流出路に
設けられたオリフィスガスケットである請求項2に記載
の混合ガス供給装置。 - 【請求項4】 流速調整器は、下流側バルブの流出路の
一部を細径にした細径部である請求項2に記載の混合ガ
ス供給装置。 - 【請求項5】 流速調整器は、下流側バルブの流出路に
先端が挿入されて弁体に固着されたニードル体である請
求項2に記載の混合ガス供給装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15333697A JP3387777B2 (ja) | 1997-06-11 | 1997-06-11 | 混合ガス供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15333697A JP3387777B2 (ja) | 1997-06-11 | 1997-06-11 | 混合ガス供給装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH112400A true JPH112400A (ja) | 1999-01-06 |
JP3387777B2 JP3387777B2 (ja) | 2003-03-17 |
Family
ID=15560255
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15333697A Expired - Lifetime JP3387777B2 (ja) | 1997-06-11 | 1997-06-11 | 混合ガス供給装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3387777B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11345027A (ja) * | 1998-05-29 | 1999-12-14 | Tadahiro Omi | 圧力式流量制御装置を備えたガス供給設備 |
US20020031417A1 (en) * | 2000-06-30 | 2002-03-14 | George Hoshi | Fluid control device |
WO2004070801A1 (ja) * | 2003-02-07 | 2004-08-19 | Tokyo Electron Limited | 流体制御装置および熱処理装置 |
JP2009091666A (ja) * | 2009-01-16 | 2009-04-30 | Canon Anelva Corp | Cvd装置 |
WO2011101934A1 (ja) * | 2010-02-22 | 2011-08-25 | 株式会社フジキン | 混合ガス供給装置 |
US8794267B2 (en) | 2007-12-27 | 2014-08-05 | Lam Research Corporation | Gas transport delay resolution for short etch recipes |
JP2021159900A (ja) * | 2020-04-03 | 2021-10-11 | 大陽日酸株式会社 | 混合ガス供給装置及び方法 |
-
1997
- 1997-06-11 JP JP15333697A patent/JP3387777B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11345027A (ja) * | 1998-05-29 | 1999-12-14 | Tadahiro Omi | 圧力式流量制御装置を備えたガス供給設備 |
US20020031417A1 (en) * | 2000-06-30 | 2002-03-14 | George Hoshi | Fluid control device |
US8973615B2 (en) * | 2000-06-30 | 2015-03-10 | Tokyo Electron Limited | Fluid control device |
WO2004070801A1 (ja) * | 2003-02-07 | 2004-08-19 | Tokyo Electron Limited | 流体制御装置および熱処理装置 |
CN100407373C (zh) * | 2003-02-07 | 2008-07-30 | 东京毅力科创株式会社 | 流体控制装置和热处理装置 |
KR100929713B1 (ko) | 2003-02-07 | 2009-12-03 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 유체 제어 장치 및 열처리 장치 |
US8794267B2 (en) | 2007-12-27 | 2014-08-05 | Lam Research Corporation | Gas transport delay resolution for short etch recipes |
JP2009091666A (ja) * | 2009-01-16 | 2009-04-30 | Canon Anelva Corp | Cvd装置 |
KR101366019B1 (ko) * | 2010-02-22 | 2014-02-21 | 가부시키가이샤 후지킨 | 혼합 가스 공급 장치 |
JP5456879B2 (ja) * | 2010-02-22 | 2014-04-02 | 株式会社フジキン | 混合ガス供給装置 |
WO2011101934A1 (ja) * | 2010-02-22 | 2011-08-25 | 株式会社フジキン | 混合ガス供給装置 |
US9233347B2 (en) | 2010-02-22 | 2016-01-12 | Fujikin Incorporated | Mixed gas supply device |
JP2021159900A (ja) * | 2020-04-03 | 2021-10-11 | 大陽日酸株式会社 | 混合ガス供給装置及び方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3387777B2 (ja) | 2003-03-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4730635A (en) | Valve and method | |
US9068329B2 (en) | Jet regulator | |
EP0434598B1 (en) | Diaphragm control valve | |
US20060060253A1 (en) | Integrated gas valve | |
KR970075396A (ko) | 유체 제어 장치 | |
US8540120B2 (en) | Fluid mixing and delivery system | |
MXPA05004513A (es) | Regulador de presion y valvula de cierre. | |
JPS6314237B2 (ja) | ||
JP2004305925A (ja) | 流体混合装置 | |
JPH112400A (ja) | 混合ガス供給装置 | |
US20030116196A1 (en) | Constant flow valve and constant flow mixing method | |
JP2000213667A (ja) | オリフィス内蔵弁 | |
AU4252501A (en) | Improved hydraulic membrane valve for regulating fluid flow rate | |
JP3590572B2 (ja) | 逆止弁構造 | |
US456546A (en) | Albert blankerts | |
US4404984A (en) | Gas-liquid mixing metering system | |
US3103232A (en) | Pressure reducing valves | |
WO2021202150A8 (en) | Self flushing flow restrictor for a fluid dispensing system | |
EP0784254A3 (de) | Vorrichtung zur Regelung des Durchflusses einer Flüssigkeit | |
CN103392158A (zh) | 具有多条气体流道的气体流量调节器 | |
JPH09165805A (ja) | 流量調節用の節水弁 | |
FR2456967A1 (fr) | Dispositif de reglage de debit destine notamment a un appareil de commande hydraulique et l'appareil ainsi obtenu | |
JPH0599354A (ja) | 定流量弁 | |
SE0200129D0 (sv) | Ventilarrangemang | |
JPH06123371A (ja) | 定流量弁 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090110 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120110 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150110 Year of fee payment: 12 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |