JPH11233991A

JPH11233991A - 剥離除去可能な電磁波シールド性接着フィルムおよび該接着フィルムを用いた電磁波遮蔽構成体、ディスプレイ

Info

Publication number: JPH11233991A
Application number: JP10027069A
Authority: JP
Inventors: Toshishige Uehara; 寿茂上原; Hiroyuki Hagiwara; 裕之萩原; Minoru Tosaka; 実登坂; Aya Hashiba; 綾橋塲
Original assignee: Hitachi Chemical Co Ltd
Current assignee: Showa Denko Materials Co Ltd
Priority date: 1998-02-09
Filing date: 1998-02-09
Publication date: 1999-08-27

Abstract

(57)【要約】【課題】ディスプレイ前面から発生する電磁波のシー
ルド性が非常に良好で、赤外線遮蔽性、透明性、非視認
性および良好な接着特性を有し、剥離除去が可能な電磁
波シ−ルド性接着フィルム及びそれを用いた電磁波遮蔽
構成体、ディスプレイを提供する。【解決手段】有機溶剤に容易に溶解または膨潤する接
着剤層を介して、プラスチックフィルム上に導電性金属
を貼り合わせ、フォトリソグラフ法により開口率が５０
％以上の幾何学図形を得る。得られた電磁波シールド性
接着フィルムとプラスチック板から電磁波遮蔽構成体を
構成し、それらをディスプレイに用いる。電磁波シール
ド性接着フィルムは、貼り付けに失敗したとき容易に剥
がせ、接着剤層を除去できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はＣＲＴ、ＰＤＰ（プ
ラズマ）、液晶、ＥＬなどのディスプレイ前面から発生
する電磁波のシールド性および赤外線の遮蔽性を有し、
剥離除去が可能な電磁波シールド性接着フィルム及び該
フィルムを用いた電磁波遮蔽構成体、ディスプレイに関
する。

【０００２】

【従来の技術】近年各種の電気設備や電子応用設備の利
用が増加するのに伴い、電磁気的なノイズ妨害も増加の
一途をたどっている。ノイズは大きく分けて伝導ノイズ
と放射ノイズに分けられ、伝導ノイズの対策としては、
ノイズフィルタなどを用いる方法がある。一方、放射ノ
イズの対策としては、電磁気的に空間を絶縁する必要が
あるため、筐体を金属体または高導電体にするとか、回
路基板と回路基板の間に金属板を挿入するとか、ケーブ
ルを金属箔で巻き付けるなどの方法が取られている。こ
れらの方法では、回路や電源ブロックの電磁波シールド
効果を期待できるが、ＣＲＴ、ＰＤＰなどのディスプレ
イ前面より発生する電磁波シールド用途としては、不透
明であるため適用できなかった。

【０００３】電磁波シールド性と透明性を両立させる方
法として、透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着
して薄膜導電層を形成する方法（特開平１−２７８８０
０号公報、特開平５−３２３１０１号公報参照）が提案
されている。一方、良導電性繊維を透明基材に埋め込ん
だ電磁波シールド材（特開平５−３２７２７４号公報、
特開平５−２６９９１２号公報参照）や金属粉末等を含
む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シール
ド材料（特開昭６２−５７２９７号公報、特開平２−５
２４９９号公報参照）、さらには、厚さが２ｍｍ程度の
ポリカーボネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成
し、その上に無電解めっき法により銅のメッシュパター
ンを形成した電磁波シールド材料（特開平５−２８３８
８９号公報参照）が提案されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】電磁波シールド性と透
明性を両立させる方法として、特開平１−２７８８００
号公報、特開平５−３２３１０１号公報に示されている
透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着して薄膜導
電層を形成する方法は、透明性が達成できる程度の膜厚
（数１００Å〜２，０００Å）にすると導電層の表面抵
抗が大きくなりすぎるため、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚで要
求される３０ｄＢ以上、好ましくは５０ｄＢ以上のシー
ルド効果に対して２０ｄＢ以下と不十分であった。良導
電性繊維を透明基材に埋め込んだ電磁波シールド材（特
開平５−３２７２７４号公報、特開平５−２６９９１２
号公報）では、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚの電磁波シールド
効果は４０〜５０ｄＢであるが、電磁波漏れのないよう
に導電性繊維を規則配置させるために必要な繊維径が３
５μｍと太すぎるため、繊維が見えてしまい（以後視認
性という）ディスプレイ用途には適したものではなかっ
た。また、特開昭６２−５７２９７号公報、特開平２−
５２４９９号公報の金属粉末等を含む導電性樹脂を透明
基板上に直接印刷した電磁波シールド材料の場合も同様
に、印刷精度の限界からライン幅は、１００μｍ前後と
なり視認性が発現するため適したものではなかった。さ
らに特開平５−２８３８８９号公報に記載の厚さが２ｍ
ｍ程度のポリカーボネート等の透明基板上に透明樹脂層
を形成し、その上に無電解めっき法により銅のメッシュ
パターンを形成したシールド材料では、無電解めっきの
密着力を確保するために、透明基板の表面を粗化する必
要がある。この粗化手段として、一般にクロム酸や過マ
ンガン酸などの毒性の高い酸化剤を使用しなければなら
ず、この方法は、ＡＢＳ以外の樹脂では、満足できる粗
化を行うことは困難となる。この方法により、電磁波シ
ールド性と透明性は達成できたとしても、透明基板の厚
さを小さくすることは困難で、フィルム化の方法として
は適していなかった。さらに透明基板が厚いと、ディス
プレイに密着させることができないため、そこから電磁
波の漏洩が大きくなる。また製造面においては、シール
ド材料を巻物等にすることができないため嵩高くなるこ
とや自動化に適していないために製造コストがかさむと
いう欠点もあった。ディスプレイ前面から発生する電磁
波のシールド性については、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚにお
ける３０ｄＢ以上好ましくは５０ｄＢ以上の電磁波シー
ルド機能の他に、ディスプレイ前面より発生する９００
〜１，１００ｎｍの赤外線はリモートコントロールで操
作する他のＶＴＲ機器等に悪影響を及ぼすため、これを
遮蔽する必要がある。この他にも良好な可視光透過性、
さらに可視光透過率が大きいだけでなく、電磁波の漏れ
を防止するためディスプレイ面に密着して貼付けられる
接着性、シールド材の存在を肉眼で確認することができ
ない特性である非視認性も必要とされる。接着性につい
てはガラスや汎用ポリマー板に対し比較的低温で容易に
貼付き、長期間にわたって良好な密着性を有することが
必要である。しかし、電磁波シールド性、赤外線遮蔽
性、透明性・非視認性、接着性等の特性を同時に十分満
たす接着フィルムとしては、これまで満足なものは得ら
れていなかった。これらに対し本発明者らは、プラスチ
ックフィルムとその片面に接着剤層を介し導電性金属を
貼り合わせた導電性金属付きプラスチックフィルムを用
い、フォトリソグラフ法により導電性金属で描かれた幾
何学図形を有し、その開口率が５０％以上である電磁波
シールド性接着フィルムを提案した。この電磁波シール
ド性接着フィルムは、導電性金属で描かれた幾何学図形
の形成されていない空間を通り接着剤層が流動し、プラ
スチック板、プラスチックフィルム、ガラス板等に容易
に接着することができた。しかし、この電磁波シールド
性接着フィルムは、接地のための電極を設ける場合、部
分的に剥がす必要があった。また、被着体に接着した際
に気泡を巻き込んだり、シワが入ったり、位置がずれた
りした場合には、一旦剥がし、被着体表面を清浄化した
後、別の電磁波シールド性接着フィルムを貼り付ける必
要があった。接着剤層が強固に接着している場合、接着
剤層を被着体表面から剥がすことが難しく、剥離除去に
多大の時間を要したり、被着体表面を傷つけてしまい再
使用できない等の課題があった。本発明はかかる点に鑑
み、電磁波シールド性と赤外線遮蔽性、透明性・非視認
性および良好な接着特性を有し、剥離除去可能な電磁波
シールド性接着フィルムおよび該フィルムを用いた電磁
波遮蔽構成体、ディスプレイを得ることを課題とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に記載
の発明は、電磁波シールド性と透明性を有し、剥離除去
が可能な電磁波シールド性接着フィルムを提供するた
め、有機溶剤、酸性水溶液またはアルカリ性水溶液の少
なくとも１つに溶解または膨潤する接着剤層を有する導
電性金属付きプラスチックフィルムを、フォトリソグラ
フ法により導電性金属で描かれた幾何学図形を有し、そ
の開口率を５０％以上とするものである。本発明の請求
項２に記載の発明は、電磁波シールド性と透明性を有
し、簡便に剥離除去が可能な電磁波シールド性接着フィ
ルムを提供するため、有機溶剤、酸性水溶液またはアル
カリ性水溶液の少なくとも１つに溶解または膨潤する接
着剤層が、アルコール系有機溶剤に溶解または膨潤する
接着剤層とするものである。本発明の請求項３に記載の
発明は、電磁波シールド性と透明性および簡便な接着性
を有する剥離除去可能な電磁波シールド性接着フィルム
を提供するため、加熱または加圧により流動する接着剤
層の軟化温度を２００℃以下とするものである。本発明
の請求項４に記載の発明は、電磁波シールド性と透明性
および簡便な接着性を有する剥離除去可能な電磁波シー
ルド性接着フィルムを提供するため、接着剤層の屈折率
を１．４５〜１．７０の範囲とするものである。本発明
の請求項５に記載の発明は、電磁波シールド性と特に良
好な透明性を有する剥離除去可能な電磁波シールド性接
着フィルムを提供するため、接着剤層の厚さを導電性金
属の厚さ以上とするものである。本発明の請求項６に記
載の発明は、電磁波シールド性と透明性および赤外線遮
蔽性を有する剥離除去可能な電磁波シールド性接着フィ
ルムを提供するため、接着剤層中に赤外線吸収剤が含有
されていることを特徴とするものである。本発明の請求
項７に記載の発明は電磁波シールド性と非視認性に優れ
た剥離除去可能な電磁波シールド性接着フィルムを提供
するため、プラスチックフィルム上に導電性金属で描か
れた幾何学図形のライン幅を４０μｍ以下、ライン間隔
を１００μｍ以上、ライン厚さを４０μｍ以下とするも
のである。本発明の請求項８に記載の発明は、加工性や
密着性に優れ、安価な電磁波シールド性と非視認性を有
する剥離除去可能な電磁波シールド性接着フィルムを提
供するため、導電性金属の厚みが０．５〜４０μｍの
銅、アルミニウムまたはニッケルの金属箔を使用するも
のである。本発明の請求項９に記載の発明は、加工性に
優れ、安価に剥離除去可能な電磁波シールド性接着フィ
ルムを提供するため、フォトリソグラフ法をケミカルエ
ッチング法とするものである。本発明の請求項１０に記
載の発明は、透明性、安価、耐熱性良好で取り扱い性に
優れた剥離除去可能な電磁波シールド性接着フィルムを
提供するため、プラスチックフィルムをポリエチレンテ
レフタレートフィルムまたはポリカーボネートフィルム
とするものである。本発明の請求項１１に記載の発明
は、退色性が小さく、コントラストの大きい剥離除去可
能な電磁波シールド性接着フィルムを提供するため、導
電性金属を銅とし、少なくともその表面が黒化処理され
ていることを特徴とするものである。本発明の請求項１
２に記載の発明は、磁場シールド性に優れた剥離除去可
能な電磁波シールド性接着フィルムを提供するため、導
電性金属に常磁性金属を使用するものである。本発明の
請求項１３に記載の発明は、電磁波シールド性と透明性
を有する電磁波遮蔽構成体を提供するため、前記の剥離
除去可能な電磁波シールド性接着フィルムとプラスチッ
ク板から構成された電磁波遮蔽構成体とするものであ
る。本発明の請求項１４に記載の発明は、電磁波シール
ド性と透明性を有する電磁波遮蔽構成体を提供するた
め、前記の剥離除去可能な電磁波シールド性接着フィル
ムを少なくともプラスチック板の片面に貼り合わせた電
磁波遮蔽構成体とするものである。本発明の請求項１５
に記載の発明は、電磁波シールド性と透明性及び赤外線
遮蔽性を有する電磁波遮蔽構成体を提供するため、前記
の剥離除去可能な電磁波シールド性接着フィルムをプラ
スチック板の片面に貼り合わせ、他面に赤外線遮蔽性を
有する接着剤または接着フィルムを貼り合わせた電磁波
遮蔽構成体とするものである。本発明の請求項１６に記
載の発明は、電磁波シールド性と透明性を有する剥離除
去可能な電磁波シールド性接着フィルムをディスプレイ
に用いたものである。本発明の請求項１７に記載の発明
は、電磁波シールド性と透明性を有する電磁波遮蔽構成
体をディスプレイに用いたものである。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
有機溶剤で溶解あるいは膨潤する接着剤の主成分となる
ポリマーとしては、以下に示す熱可塑性樹脂が代表的な
ものとしてあげられる。たとえば天然ゴム(屈折率ｎ=1.
52)、ポリイソプレン(n=1.521)、ポリ−１，２−ブタジ
エン(n=1.50)、ポリイソブテン(n=1.505〜1.51)、ポリ
ブテン(n=1.513)、ポリ−２−ヘプチル−１，３−ブタ
ジエン(n=1.50)、ポリ−２−ｔ−ブチル−１，３−ブタ
ジエン(n=1.506)、ポリ−１，３−ブタジエン(n=1.515)
などの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン(n=1.456)、
ポリオキシプロピレン(n=1.450)、ポリビニルエチルエ
ーテル(n=1.454)、ポリビニルヘキシルエーテル(n=1.46
0)、ポリビニルブチルエーテル(n=1.456)などのポリエ
ーテル類、ポリビニルアセテート(n=1.467)、ポリビニ
ルプロピオネート(n=1.467)などのポリエステル類、ポ
リウレタン(n=1.5〜1.6)、エチルセルロース(n=1.47
9)、ポリ塩化ビニル(n=1.54〜1.55)、ポリアクリロニト
リル(n=1.52)、ポリメタクリロニトリル(n=1.52)、ポリ
スルホン(n=1.633)、ポリスルフィド(n=1.6)、ポリエチ
ルアクリレート(n=1.469)、ポリブチルアクリレート(n=
1.466)、ポリ−２−エチルヘキシルアクリレート(n=1.4
63)、ポリ−ｔ−ブチルアクリレート(n=1.464)、ポリ−
３−エトキシプロピルアクリレート(n=1.465)、ポリオ
キシカルボニルテトラメタクリレート(n=1.465)、ポリ
メチルアクリレート(n=1.472〜1.480)、ポリイソプロピ
ルメタクリレート(n=1.473)、ポリドデシルメタクリレ
ート(n=1.474)、ポリテトラデシルメタクリレート(n=1.
475)、ポリ−ｎ−プロピルメタクリレート(n=1.484)、
ポリ−３，３，５−トリメチルシクロヘキシルメタクリ
レート(n=1.484)、ポリエチルメタクリレート(n=1.48
5)、ポリ−２−ニトロ−２−メチルプロピルメタクリレ
ート(n=1.487)、ポリ−１，１−ジエチルプロピルメタ
クリレート(n=1.489)、ポリメチルメタクリレート(n=1.
489)などのポリ（メタ）アクリル酸エステルが使用可能
である。これらのアクリルポリマーは必要に応じて、２
種以上共重合してもよいし、２種類以上をブレンドして
使うことも可能である。

【０００７】さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共
重合樹脂としてはエポキシアクリレート、ウレタンアク
リレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルア
クリレートなども使うこともできる。特に接着性の点か
ら、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポ
リエーテルアクリレートが優れており、エポキシアクリ
レートとしては、１、６−ヘキサンジオールジグリシジ
ルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエー
テル、アリルアルコールジグリシジルエーテル、レゾル
シノールジグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジ
ルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、ポリエチ
レングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロール
プロパントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリ
シジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジ
ルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル等
の（メタ）アクリル酸付加物が挙げられる。エポキシア
クリレートなどのように分子内に水酸基を有するポリマ
ーは接着性向上に有効である。これらの共重合樹脂は必
要に応じて、２種以上併用することができる。本発明で
使用する樹脂組成物には必要に応じて、希釈剤、可塑
剤、酸化防止剤、充填剤や粘着付与剤などの添加剤を配
合してもよい。

【０００８】酸性水溶液あるいはアルカリ性水溶液で溶
解または膨潤する接着剤の主成分となるポリマーとして
代表的なものに、アクリルポリマーがある。それを構成
するモノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、
エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレ
ート、２-エチルヘキシル（メタ）アクリレートなどの
（メタ）アクリル酸エステルの他に、アクリル酸、イタ
コン酸、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、エト
キシエチルアクリレート、（メタ）アクリルアミド、ジ
アセトアクリルアミド、Ｎ-メチロール（メタ）アクリ
ルアミド、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレー
ト、Ｎ-ビニルピドリドンなどの親水性官能基含有モノ
マーが挙げられる。これらのモノマーを共重合して得ら
れるアクリル酸エステルポリマーの重量平均分子量は、
開始剤の濃度やメルカプト化合物などの連鎖移動剤の濃
度の調整により可能で、５００以上のものが選択され
る。これらのポリマーを硬化剤を使って硬化させる場
合、分子の末端または側鎖に活性水素を有する官能基を
導入することにより達成される。１分子中に少なくとも
２個以上のイソシアン酸エステル基を有するイソシアネ
ート化合物が効果的で、トリレンジイソシアネート、ト
リメチロールプロパントリス-（トリレンジイソシアネ
ート）などの芳香族イソシアネート、ヘキサメチレンジ
イソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシア
ネートなどの脂肪族イソシアネートを使用することがで
きる。本発明で使用する樹脂には必要に応じて粘着性付
与剤、希釈剤、可塑剤、酸化防止剤、充填剤や膨潤剤な
どの添加剤を配合してもよい。

【０００９】本発明で接着剤層を溶解または膨潤させる
目的で用いる有機溶剤としては以下のものがあげれる。
メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパ
ノール、1−ブタノール、2−ブタノール、イソブチルア
ルコール、tert−ブチルアルコール、1−ペンタノー
ル、2−ペンタノール、3−ペンタノール、2−メチル−1
−ブタノール、イソペンチルアルコール、tert−ペンチ
ルアルコール、3−メチル−2−ブタノール、ネオペンチ
ルアルコール、1−ヘキサノール、２−メチル−1−ペン
タノール、4−メチル−2−ペンタノール、2−エチル−1
−ブタノール、1−ヘプタノール、2−ヘプタノール、3
−ヘプタノール、1−オクタノール、２−オクタノー
ル、2−エチル−1−ヘキサノール、1−ノナノール、3，
5，5−トリメチル−1−ヘキサノール、1−デカノールな
どのアルコール類やヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノ
ナン、デカン、ベンゼン、エチルベンゼン、ブチルベン
ゼン、ｏ−，ｍ−、ｐ−キシレン、スチレン、トルエ
ン、シクロヘキサンなどの炭化水素、ジエチルエーテ
ル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ
ブチルエーテル、ブチルフェニルエーテル、メトキシト
ルエン、ベンジルエチルエーテル、ジフェニルエーテ
ル、ジベンジルエーテル、プロピレンオキシド、ジオキ
サン、2−メチルフラン、テトラヒドロフラン、テトラ
ヒドロピラン、1、2−ジメトキシエタン、1，2−ジエト
キシシラン、1、2−ジブトキシシラン、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチ
ルエーテル、グリセリンエーテル、クラウンエーテル、
アセタールなどのエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸プロピルなどのエステル類、アセトン、メチル
エチルケトン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、2−ヘ
キサノン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン、4
−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、アセトニトリルア
セトン、ホロン、イソホロン、シクロヘキサノン、アセ
トフェノンなどのケトン類、フェノール、ｏ−、ｍ−、
ｐ−クレゾールなどのフェノール類である。

【００１０】また、酸性水溶液またはアルカリ性水溶液
としては、塩酸、硫酸、硝酸、フッ化水素、ポリリン酸
のような酸性水溶液、あるいは水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、アンモニアなどのアルカリ性水溶液が挙げ
られる。これらの中で最も取扱い性に優れているのは有
機溶剤で、その中でもアルコール類は、接着特性と剥離
特性のバランスのとりやすさなどの点から最も適してい
る。

【００１１】接着剤層となるポリマーの軟化温度は、取
扱い性から２００℃以下が好適で、１５０℃以下がより
好ましい。電磁波シールド性接着フィルムの用途から、
使用される環境が通常８０℃以下であるので接着剤の軟
化温度は、８０〜１２０℃がさらに好ましい。一方、ポ
リマーの重量平均分子量は、５００以上１００万以下の
ものを使用するのが好ましい。分子量が５００未満では
接着剤組成物の凝集力が低すぎるため被着体への密着性
が低下し、１００万を超えると有機溶剤等での剥離や膨
潤が困難となる。本発明で使用する接着剤層の屈折率
は、１．４５〜１．７０の範囲のものを使用すると好ま
しい。これは本発明で使用するプラスチックフィルムと
接着剤層の屈折率、または導電性金属付きプラスチック
フィルムのプラスチックフィルムに導電性金属を接着す
るために使用した接着剤層とさらに別の接着剤層の屈折
率が異なると可視光透過率が低下するためであり、さら
に、屈折率が好ましくは１．４５〜１．６０であると可
視光透過率の低下が少なく良好で上述したポリマーの屈
折率はこの範囲内にある。接着剤層の塗布厚みに特に制
約はないが、接着剤層の厚みが導電性金属の導体の厚み
以上の時、導電性金属で描かれた幾何学図形の面を被着
体に合わせて接着した場合、幾何学図形の導体が接着剤
層中に埋没するため、良好な可視光透過率を得ることが
できる。

【００１２】本発明の導電性金属として使用可能な金属
は銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレ
ス、タングステン、クロム、チタンなどの金属の内の１
種または２種以上を組み合わせた合金を使用することが
できる。導電性、回路加工の容易さ、価格の点から銅、
アルミニウムまたはニッケルが適しており、厚さが０．
５〜４０μｍの金属箔を使用することが好ましい。厚さ
が４０μｍを超えると、細かいライン幅の形成が困難で
あったり、視野角が狭くなる。また厚さが０．５μｍ未
満では、表面抵抗が大きくなり、電磁波シールド効果に
劣るようになる。一方導電性金属として、常磁性金属で
ある、鉄、ニッケル、コバルトを使用すると、電界に加
えて、特に磁界の遮蔽性を格段に向上させることも可能
である。

【００１３】導電性金属が銅であり、少なくともその表
面が黒化処理されたものであると、コントラストが高く
なり好ましい。また導電性金属が経時的に酸化され退色
されることが防止できる。黒化処理は、幾何学図形の形
成前後で行えばよいが、通常形成後において、プリント
配線板分野で行われている方法を用いて行うことができ
る。例えば、亜塩素酸ナトリウム（３１ｇ／ｌ）、水酸
化ナトリウム（１５ｇ／ｌ）、燐酸三ナトリウム（１２
ｇ／ｌ）の水溶液中、９５℃で２分間処理することによ
り行うことができる。かかる導電性金属をプラスチック
フィルムに密着させ導電性金属付きプラスチックフィル
ムを得る方法として、アクリルやエポキシ系樹脂を主成
分とした上記の接着剤を介して貼り合わせるのが最も簡
便である。導電性金属の導電層の膜厚を小さくする必要
がある場合は真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプ
レート法、化学蒸着法、無電解・電気めっき法などの薄
膜形成技術のうちの１または２以上の方法を組み合わせ
ることにより達成できる。導電性金属の厚さは４０μｍ
以下のものが適用できるが、厚さが小さいほどディスプ
レイの視野角が広がり電磁波シールド材料として好まし
く、１８μｍ以下とすることがさらに好ましい。

【００１４】本発明で使用するプラスチックフィルムと
しては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ
エチレンナフタレートなどのポリエステル類、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＥＶＡなどのポ
リオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン
などのビニル系樹脂、ポリサルホン、ポリエーテルサル
ホン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ア
クリル樹脂などのプラスチックからなるフィルムで全可
視光透過率が７０％以上で厚さが１ｍｍ以下のものが好
ましい。これらは単層で使用することもできるが、２層
以上を組み合わせた多層フィルムとして使用してもよ
い。このうち透明性、耐熱性、取り扱いやすさ、価格の
点からポリエチレンテレフタレートフィルムまたはポリ
カーボネートフィルムが好ましい。プラスチックフィル
ムの厚さは、５〜５００μｍがより好ましい。５μｍ未
満だと取り扱い性が悪くなり、５００μｍを超えると可
視光の透過率が低下してくる。１０〜２００μｍがさら
に好ましい。プラスチックフィルムの少なくとも片面
に、真空蒸着法、スパッタ法、CVD法、スプレー法、プ
リント印刷法などの方法で金、銀、銅、アルミニウム、
ニッケル、鉄、コバルト、クロム、スズ、チタンなどや
これらの合金、あるいは酸化インジウム、酸化スズ、お
よびその混合物をはじめ、酸化チタン、酸化第二スズ、
酸化カドミウムやこれらの混合物を用いて、導電性の薄
膜層を形成してもよい。

【００１５】本発明の導電性金属で描かれた幾何学図形
は、正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角
形、正方形、長方形、ひし形、平行四辺形、台形などの
四角形、（正）六角形、（正）八角形、（正）十二角
形、（正）二十角形などの（正）ｎ角形、円、だ円、星
型などを組み合わせた模様であり、これらの単位の単独
の繰り返し、あるいは２種類以上を組み合わせて使用す
ることも可能である。電磁波シールド性の観点からは三
角形が最も有効であるが、可視光透過性の点からは同一
のライン幅なら（正）ｎ角形のｎ数が大きいほど開口率
が上がるが、可視光透過性の点から開口率は５０％以上
が必要で、６０％以上がさらに好ましい。開口率は、電
磁波シールド性接着フィルムの有効面積に対する有効面
積から導電性金属で描かれた幾何学図形の導電性金属の
面積を引いた面積の比の百分率である。ディスプレイ画
面の面積を電磁波シールド性接着フィルムの有効面積と
した場合、その画面が見える割合となる。

【００１６】このような幾何学図形を形成させる方法と
しては、上記導電性金属付きのプラスチックフィルムを
マイクロリソグラフ法で作製するのが回路加工の精度お
よび回路加工の効率の点から有効である。このマイクロ
リソグラフ法には、フォトリソグラフ法、Ｘ線リソグラ
フ法、電子線リソグラフ法、イオンビームリソグラフ法
などがあり、これらの他にスクリーン印刷法なども含ま
れる。これらの中でも、その簡便性、量産性の点からフ
ォトリソグラフ法が最も効率がよい。なかでも、ケミカ
ルエッチング法を使用したフォトリソグラフ法は、その
簡便性、経済性、回路加工精度などの点から最も好まし
い。フォトリソグラフ法の中ではケミカルエッチング法
の他にも無電解めっきや電気めっきによる方法、または
無電解めっきや電気めっきとケミカルエッチング法を組
み合わせて幾何学図形を形成することも可能である。

【００１７】このような幾何学図形のライン幅は４０μ
ｍ以下、ライン間隔は１００μｍ以上、ライン厚みは４
０μｍ以下の範囲とするのが好ましい。また幾何学図形
の非視認性の観点からライン幅は２５μｍ以下、可視光
透過率の点からライン間隔は１２０μｍ以上、ライン厚
み１８μｍ以下がさらに好ましい。ライン間隔は、大き
いほど開口率は向上し、可視光透過率は向上するが、電
磁波シールド性が低下するため、ライン幅は１ｍｍ以下
とするのが好ましい。なお、ライン間隔は、幾何学図形
等の組合せで複雑となる場合、繰り返し単位を基準とし
て、その面積を正方形の面積に換算してその一辺の長さ
をライン間隔とする。

【００１８】電磁波シールド性接着フィルムや電磁波遮
蔽構成体の９００〜１，１００ｎｍの領域における赤外
線吸収率が平均で５０％以上にする方法としては、赤外
線吸収剤を用いることが好ましい。赤外線吸収剤とし
て、酸化鉄、酸化セリウム、酸化スズや酸化アンチモン
などの金属酸化物、またはインジウム−スズ酸化物（以
下ＩＴＯ）、六塩化タングステン、塩化スズ、硫化第二
銅、クロム−コバルト錯塩、チオール−ニッケル錯体ま
たはアミニウム化合物、ジイモニウム化合物（日本化薬
株式会社製）またはアントラキノン系（ＳＩＲ−１１
４）、金属錯体系（ＳＩＲ−１２８、ＳＩＲ−１３０、
ＳＩＲ−１３２、ＳＩＲ−１５９、ＳＩＲ−１５２、Ｓ
ＩＲ−１６２）、フタロシアニン系（ＳＩＲ−１０３）
（以上三井東圧化学株式会社製商品名）などの有機系赤
外線吸収剤があげられ、これを上記接着剤層に含有させ
たり、バインダー樹脂中に分散させた組成物を電磁波シ
ールド性接着フィルムの接着剤層、プラスチックフィル
ム、導電性金属で描かれた幾何学図形の面またはプラス
チック板に塗布して使用することができる。また電磁波
シールド性プラスチックフィルム、電磁波遮蔽構成体を
構成するプラスチックフィルム、板等に含有させても良
い。これらの赤外線吸収剤のうち、最も効果的に赤外線
を吸収する効果があるのは、硫化第二銅、ＩＴＯ、アミ
ニウム化合物、ジイモニウム化合物や金属錯体系などの
赤外線吸収剤である。有機系赤外線吸収剤以外の赤外線
吸収剤の場合注意すべきことは、これらの化合物の一次
粒子の粒径である。粒径が赤外線の波長より大きすぎる
と遮蔽効率は向上するが、粒子表面で乱反射が起き、ヘ
イズが増大するため透明性が低下する。一方、粒径が赤
外線の波長に比べて小さすぎると遮蔽効果が低下する。
好ましい粒径は０．０１〜５μｍで０．１〜３μｍがさ
らに好ましい。赤外線吸収性の材料はビスフェノールＡ
型エポキシ樹脂やビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノ
ボラック型エポキシ樹脂などのエポキシ系樹脂、ポリイ
ソプレン、ポリ−１、２−ブタジエン、ポリイソブテ
ン、ポリブテンなどのジエン系樹脂、エチルアクリレー
ト、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレ
ート、ｔ−ブチルアクリレートなどからなるポリアクリ
ル酸エステル共重合体、ポリビニルアセテート、ポリビ
ニルプロピオネートなどのポリエステル系樹脂、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＥＶＡなどの
ポリオレフィン系樹脂などのバインダー樹脂中に均一に
分散される。その配合の最適量は、バインダー樹脂１０
０重量部に対して赤外線吸収剤が０．０１〜１０重量部
であるが、０．１〜５重量部がさらに好ましい。０．０
１重量部未満では、赤外線遮蔽効果が少なく、１０重量
部を超えると透明性が損なわれる。これらの組成物は
０．１〜１０μｍの厚さで塗布される。塗布された赤外
線吸収剤を含む組成物は熱やＵＶを使って硬化させても
よい。一方、赤外線吸収剤は、接着剤層の組成物に直接
混合して使用することも可能である。その際の配合量は
接着剤層の主成分となるポリマー１００重量部に対して
効果と透明性から、０．０１〜５重量部が好ましい。

【００１９】本発明で使用するプラスチック板は、プラ
スチックからなる板であり、具体的には、ポリスチレン
樹脂、アクリル樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化
ビニリデン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹
脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエー
テルイミド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポ
リアリレート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリブチレン
テレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂
などの熱可塑性ポリエステル樹脂、酢酸セルロース樹
脂、フッ素樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスル
ホン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリウレタン樹
脂、フタル酸ジアリル樹脂などの熱可塑性樹脂や熱硬化
性樹脂が挙げれれる。これらの中でも透明性に優れるポ
リスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリメチルメタクリレ
ート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹
脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリメチルペン
テン樹脂が好適に用いられる。本発明で使用するプラス
チック板の厚みは、０．５ｍｍ〜５ｍｍがディスプレイ
の保護や強度、取扱性から好ましい。

【００２０】本発明の剥離除去可能な電磁波シールド性
接着フィルムは、接着剤層、幾何学図形を有する導電性
金属及びプラスチックフィルムから基本的に構成され
る。導電性金属は金属箔の使用が好ましく、この場合接
着性向上のため金属箔の面を粗化形状にすることが多
く、幾何学図形を形成すると、除去された金属部分は、
接着層にその粗化形状を転写して金属と接している接着
剤層の部分に粗化形状が転写されてしまい可視光線がそ
こで散乱されてしまうので光線透過率が低下し透明性が
損なわれる。また、プラスチックフィルムにおいても、
フィルムの成形加工性向上のため微量のフィラーを添加
しフィルム表面に凹凸を付与しフィルム巻き取り時のフ
ィルム同士の滑りを良くして巻き取り性を向上させた
り、フィルム表面に接着剤との接着性向上のためマット
加工等の粗化処理をされることがある。このように、プ
ラスチックフィルム上の導電性金属が除去された部分や
プラスチックフィルムは密着性向上等のために意図的に
凹凸を有していたり、導電性金属の背面形状を転写した
りするためにその表面で光が散乱され、透明性が損なわ
れるが、本発明の接着剤層はプラスチックフィルムの凹
凸面を埋めその凹凸面にプラスチックフィルムと屈折率
が近い樹脂が平滑に塗布されると乱反射が最小限に押さ
えられ、また導電性金属の粗化形状の転写は、接着剤層
が流動することにより解消され被着体の表面形状に沿っ
て流動するので透明性が発現するようになると考えられ
る。さらにプラスチックフィルム上の導電性材料で形成
された幾何学図形は、ライン幅が非常に小さいため肉眼
で視認されない。またライン間隔も十分に大きいため見
掛け上透明性を発現すると考えられる。一方、遮蔽すべ
き電磁波の波長に比べて、幾何学図形のライン間隔は十
分に小さく、優れたシールド性を発現すると考えられ
る。本発明では、有機溶剤、酸性水溶液またはアルカリ
性水溶液の少なくとも１つに溶解または膨潤する接着剤
層を使用しているので、電磁波シールド性接着フィルム
を被着体に貼り付けてから引き剥がした場合に、被着体
に転写した接着剤も容易に有機溶剤、酸性、アルカリ性
水溶液で剥離除去が可能になる。また、電磁波シールド
性接着フィルムを部分的に剥離する場合、剥離する部分
の端面から有機溶剤、酸性、アルカリ性水溶液をしみ込
ませて溶解または膨潤させると容易に剥離することがで
きる。

【００２１】

【実施例】次に実施例に於いて本発明を具体的に述べる
が、本発明はこれに限定されるものではない。＜電磁波シールド性接着フィルム１及び電磁波遮蔽構成
体１作製例＞プラスチックフィルムとして厚さ５０μｍ
のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東
洋紡績株式会社製、商品名Ａ−４１００、屈折率ｎ=
１．５７５）を用い、その片面に後述の赤外線吸収剤を
含む接着剤層1を室温でアプリケータを用いて所定の乾
燥塗布厚になるように塗布し、９０℃、２０分間加熱乾
燥させた。その接着剤層１を介して導電性金属である厚
さ１２μｍの電解銅箔を、その粗化面が接着剤層側にな
るようにして、１８０℃、３０ｋｇｆ／ｃｍ²の条件で
加熱ラミネートして導電性金属付きプラスチックフィル
ムである銅箔付きＰＥＴフィルムを得た。得られた銅箔
付きＰＥＴフィルムにケミカルエッチング法を使用した
フォトリソグラフ工程（レジストフィルム貼付け−露光
−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）
を経て、ライン幅２０μｍ、ライン間隔２５０μｍの銅
格子パターンをＰＥＴフィルム上に形成し、電磁波シー
ルド性接着フィルム１を得た。この電磁波シールド性接
着フィルム１の可視光透過率は２０％以下であった。こ
の電磁波シールド性接着フィルムを熱プレス機を使用し
市販のアクリル板（コモグラス；株式会社クラレ製商品
名、厚み３ｍｍ）に接着剤層が塗布されている面（幾何
学図形が描かれている面）が接するようにして１１０
℃、２０Ｋｇｆ／ｃｍ²、１５分の条件で加熱圧着し電
磁波遮蔽構成体１を得た。

【００２２】＜電磁波シールド性接着フィルム２及び電
磁波遮蔽構成体２作製例＞厚さ２５μｍのＰＥＴフィル
ムの片面に後述の赤外線吸収剤を含む接着剤層２を室温
でアプリケータを用いて塗布し、９０℃、２０分間加熱
硬化させた。その接着剤層２を介して厚さ２５μｍのア
ルミ箔を加熱ラミネートして接着させアルミ箔付きＰＥ
Ｔフィルムを得た。このアルミ箔付きＰＥＴフィルムに
前記電磁波シールド性接着フィルム作製例１及び電磁波
遮蔽構成体１作製例と同様のフォトリソグラフ工程を経
て、ライン幅１５μｍ、ライン間隔１２５μｍのアルミ
格子パターンをＰＥＴフィルム上に形成した。この電磁
波シールド性接着フィルム２の可視光透過率は２０％以
下であった。この電磁波シールド性接着フィルム２を市
販のアクリル板（コモグラス；株式会社クラレ製商品
名、厚み３ｍｍ）に接着剤層が形成されている面（幾何
学図形が描かれている面）が接するようにして１２０
℃、３０ｋｇｆ／ｃｍ²、３０分の条件で熱プレス機を
使用し加熱圧着し電磁波遮蔽構成体２を得た。

【００２３】＜電磁波シールド性接着フィルム３及び電
磁波遮蔽構成体３作製例＞厚さ５０μｍのＰＥＴフィル
ムの片面に後述の赤外線吸収剤を含む接着剤層３を室温
でアプリケータを用いて塗布し、９０℃、２０分間加熱
乾燥させた。その接着剤層に、マスク層を用いて無電解
ニッケルめっきを格子状に形成することによりライン幅
１０μｍ、ライン間隔１００μｍ、厚さ１μｍのニッケ
ル格子パターンをＰＥＴフィルム上に形成した電磁波シ
ールド性接着フィルム３を作製した。この電磁波シール
ド性接着フィルム３の可視光透過率は２０％以下であっ
た。この電磁波シールド性接着フィルム３をロールラミ
ネータを使用し市販のアクリル板（コモグラス；株式会
社クラレ製商品名、厚み３ｍｍ）に接着剤層が形成され
ている面（幾何学図形が描かれている面）が接するよう
にして１１０℃、２０ｋｇｆ／ｃｍ²の条件で加熱圧着
し電磁波遮蔽構成体３を得た。

【００２４】＜接着剤層１の組成物＞５００ｃｍ³の温
度計、冷却管、窒素導入管を有した三つ口フラスコにト
ルエン２００ｃｍ³、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）５
０g、メタクリル酸エチル（ＥＭＡ）５g、アクリルアミ
ド（ＡＭ）２g、ＡＩＢＮ２５０mgを入れ、窒素でバブ
リングさせながら１００℃で３時間、還流中で攪拌を行
った。その後、メタノールで再沈殿させ、得られたポリ
マーをろ過後、減圧乾燥してポリアクリル酸エステルを
合成した。この収率は７５重量％であった。これを接着
剤層１の主成分とした。ポリアクリル酸エステル（MMA／EMA／AM=８８／９／３、Ｍｗ=７０万）１００重量部ＳＩＲ−１５９（赤外線吸収剤１：三井東圧化学株式会社製商品名）０．５重量部トルエン４５０重量部酢酸エチル１０重量部接着剤層１の組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．４８、
軟化点は１０５℃であった。

【００２５】＜接着剤層２の組成物＞ＴＢＡ−ＨＭＥ（日立化成工業株式会社製；高分子量エポキシ樹脂、Ｍｗ=３０万）１００重量部ＵＦＰ−ＨＸ（赤外線吸収剤２：住友金属鉱山株式会社製商品名；ＩＴＯ、平均粒径０．１μｍ）０．４重量部ＭＥＫ３３０重量部シクロヘキサノン１５重量部上記の接着剤層２の組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．
５７、軟化点は７９℃であった。

【００２６】＜接着剤層３の組成物＞バイロンＵＲ―１４００（東洋紡績株式会社製商品名；飽和ポリエステル樹脂、Ｍｎ＝４万）１００重量部ＩＲＧ―００２（赤外線吸収剤３：日本化薬株式会社製商品名；アミニウム化合物）１．２重量部ＭＥＫ２８５重量部シクロヘキサノン５重量部上記の接着剤層３の組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．
５５、軟化点は８３℃であった。

【００２７】（実施例１）接着剤層１の組成物を使用
し、乾燥後の接着剤層１の厚みが２０μｍになるように
して作製した電磁波シールド性接着フィルム１とプラス
チック板から得た電磁波遮蔽構成体１を実施例１とし
た。（実施例２）接着剤層２の組成物を使用し、乾燥後の接
着剤層２の厚みが４０μｍになるようにして作製した電
磁波シールド性接着フィルム２とプラスチック板から得
た電磁波遮蔽構成体２を実施例２とした。（実施例３）接着剤層３の組成物を使用し、乾燥後の接
着剤層３の厚みが５μｍになるようにして作製した電磁
波シールド性接着フィルム３とプラスチック板から得た
電磁波遮蔽構成体３を実施例３とした。（実施例４）接着剤層１の組成物の主成分であるポリア
クリル酸エステルの組成と分子量をメタクリル酸メチル
（ＭＭＡ）／メタクリル酸エチル（ＥＭＡ）／アクリル
アミド（ＡＭ）=８５／１０／５、Ｍｗ=５５万とし、そ
れ以外は同じ組成としたものを接着剤層４の組成とし電
磁波シールド性接着フィルム１及び電磁波遮蔽構成体１
と同様にして作製した電磁波遮蔽構成体４を実施例４と
した。接着剤層４の溶媒乾燥後の屈折率は１．４７、軟
化点は９９℃であった。（実施例５）接着剤層１の組成物の主成分であるポリア
クリル酸エステルをポリブタジエンエラストマー（Poly
bd R−４５ＨＴ：出光石油化学株式会社製商品名）と
したものを接着剤層５の組成物とし、それ以外の条件は
実施例１と同様にして作製した電磁波遮蔽構成体５を実
施例５とした。接着剤層５の溶媒乾燥後の屈折率は１．
５０、軟化点は６１℃であった。（実施例６）接着剤層１の組成物の主成分であるポリア
クリル酸エステルをバイロン―２００（東洋紡績株式会
社製商品名、Ｍｎ＝１５、０００）としたものを接着剤
層６の組成物とし、それ以外の条件は実施例１と同様に
して作製した電磁波遮蔽構成体６を実施例６とした。接
着剤層６の溶媒乾燥後の屈折率は１．５５、軟化点は１
６３℃であった。（実施例７）プラスチックフィルムをＰＥＴ（２５μ
ｍ）からポリカーボネートフィルム（５０μｍ）に、接
着剤層２の厚みを４０μｍから３０μｍにした以外は全
て実施例２と同様にして電磁波遮蔽構成体７を得た。（実施例８）ライン幅を１０μｍから３０μｍに、ライ
ン間隔を１００μｍから４００μｍに、接着剤層の厚み
を５μｍから１０μｍにした以外は全て実施例３と同様
にして得た電磁波遮蔽構成体８を実施例８とした。（実施例９）フォトリソグラフ工程を経てＰＥＴフィル
ム上に形成した銅格子パターンに黒化処理を施したこと
以外は実施例１と同様にして得た電磁波遮蔽構成体９を
実施例９とした。

【００２８】（比較例１）下記組成を接着剤層７の組成
物としこれで作製した電磁波遮蔽構成体を比較例１とし
た。それ以外の条件は実施例１と同様にした（ＢＡ：ブ
チルアクリレート、ＨＥＡ；ヒドロキシエチルアクリレ
ート）。ポリアクリル酸エステル（MMA／BA／HEA=８５／１０／５、Ｍｗ=５５万）１００重量部コロネートＬ（３官能イソシアネート：日本ポリウレタン工業株式会社製商品名）３．５重量部ＳＩＲ−１５９（赤外線吸収剤１：三井東圧株式会社製商品名）０．５重量部トルエン４５０重量部酢酸エチル１０重量部本組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．４８、軟化点は２
００℃以上であった。（比較例２）下記組成を接着剤層８の組成物としこれで
作製した電磁波遮蔽構成体を比較例２とした。それ以外
の条件は実施例２と同様にした。ＹＤ−８１２５（東都化成株式会社製商品名；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、Ｍｗ=３０万）１００重量部ＩＰＤＩ（日立化成工業株式会社製；マスクイソホロンジイソシアネート）１２．５重量部２−エチル−４−メチルイミダゾール０．３重量部ＵＦＰ−ＨＸ（赤外線吸収剤２：住友金属鉱山株式会社製商品名；ＩＴＯ、平均粒径０．１μｍ）０．４重量部ＭＥＫ３３０重量部シクロヘキサノン１５重量部本組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．５７、軟化点は２
００℃以上であった。

【００２９】（参考例１）実施例３の接着剤層３のバイ
ロンＵＲ―１４００の代わりに、フェノール−ホルムア
ルデヒド樹脂（Ｍｗ=５万）を使用し、接着剤層９の組
成物とした。それ以外の条件は全て実施例３と同様にし
て得た電磁波遮蔽構成体を参考例１とした。本組成物の
溶媒乾燥後の屈折率は１．７３、軟化点は８５℃であっ
た。（参考例２）接着剤層の厚みを２０μｍから５μｍにし
た以外は実施例１と同様にして電磁波遮蔽構成体を作製
し参考例２とした。（参考例３）ライン間隔を２５０μｍから５０μｍにし
た以外は実施例１と同様にして電磁波遮蔽構成体を作製
し参考例３とした。（参考例４）ライン幅を２５μｍから５０μｍにライン
間隔を２５０μｍから１５０μｍした以外は実施例１と
同様にして作製し参考例４とした。（参考例５）接着剤層２の組成物から赤外線吸収剤を除
いた以外は実施例２と同様にして電磁波遮蔽構成体を作
製し参考例５とした。（参考例６）接着剤としてポリジメチルシロキサン（Ｍ
ｗ=４．５万、ｎ=１．４３）を使用し、接着剤層１０の
組成物とした。それ以外の条件は全て実施例３と同様に
して得た電磁波遮蔽構成体を参考例６とした。

【００３０】以上のようにして得られた電磁波シールド
性接着フィルムの導電性金属で描かれた幾何学図形の開
口率、電磁波シールド性（３００ＭＨｚ）、剥離除去
性、可視光透過率、非視認性、赤外線遮蔽率、加熱処理
前後の接着特性を測定した。結果を表１、２に示す。

【００３１】なお接着剤層の組成物の屈折率は、屈折計
（株式会社アタゴ光学機械製作所製、アッベ屈折計）で
測定した。また軟化点は走査型示差熱量計（デュポン
製、９１０−ＤＳＣ）で測定した。導電性金属で描かれ
た幾何学図形の開口率は顕微鏡写真をもとに実測した。
電磁波シールド性は、同軸導波管変換器（日本高周波株
式会社製、ＴＷＣ−Ｓ−０２４）のフランジ間に試料を
挿入し、スペクトラムアナライザー（ＹＨＰ製、８５１
０Ｂベクトルネットワークアナライザー）を用い、周波
数３００ＭＨzで測定した。可視光透過率の測定は、ダ
ブルビーム分光光度計（株式会社日立製作所製、２００
−１０型）を用いて、４００〜７００ｎｍの透過率の平
均値を用いた。剥離除去性はアクリル板上に貼付けた電
磁波シールド性接着フィルムを強制剥離し、アクリル板
に転写した接着剤を２−プロパノール中に浸した綿棒で
拭き取り、その拭き取り易さで評価した。容易な順に
優、良、可、不可とした。非視認性は、アクリル板に貼
り付けた電磁波シールド性接着フィルムを０．５ｍ離れ
た場所から目視して導電性金属で形成された幾何学図形
を認識できるかどうかで評価し、認識できないものを良
好とし、認識できるものをＮＧとした。赤外線遮蔽率
は、分光光度計（株式会社日立製作所製、Ｕ−３４１
０）を用いて、９００〜１、１００ｎｍの領域の赤外線
吸収率の平均値を用いた。接着力は、引張り試験機（東
洋ボールドウィン株式会社製、テンシロンＵＴＭ−４−
１００）を使用し、幅１０ｍｍ、９０°方向、剥離速度
５０ｍｍ／分で測定した。

【００３２】

【表１】

【００３３】

【表２】

【００３４】比較例１、２は、接着剤層が架橋しており
剥離ができず、また接着剤層の軟化温度が２００℃以上
であり、接着剤層が流動しにくいため導電性金属の銅箔
やアルミニウム箔の粗化形状が転写された状態で残りそ
こで光が反射されることにより可視光透過率に劣り、ま
た、導電性金属で描かれた幾何学図形の空間を接着剤層
が充填しにくく十分に埋めることができないことからプ
ラスチック板との接着力にも劣る。参考例１は、接着剤
層９の屈折率が１．７３と高く接着剤層とプラスチック
フィルム、プラスチック板との界面での散乱が大きく可
視光透過率に劣る。参考例２は、接着剤層１の厚み５μ
ｍが導電性金属である銅箔の厚み１２μｍより薄いた
め、接着剤層１が流動してプラスチック板との密着性は
良いが、導電性金属を十分に埋めることができず可視光
透過率に劣る。参考例３は、ライン間隔が５０μｍで電
磁波シールド性が良好であり、ライン幅が２０μｍと細
いため非視認性に優れるが、ライン間隔が狭く開口率が
５０％以下の２５％であるため可視光透過率に劣る。参
考例４は、ライン幅が、５０μｍであり、非視認性に劣
る。参考例５は、赤外線吸収剤を配合しない接着剤層を
使用したものであり、赤外線遮蔽性に劣る。参考例６
は、接着剤層に屈折率が１．４３の接着剤層１０を使用
したものであるが、参考例１と同様、接着剤層とプラス
チックフィルム、プラスチック板との界面での散乱が大
きく可視光透過率に劣る。これらの比較例や参考例に対
して、本発明の実施例で示した、導電性金属で描かれた
幾何学図形を有し、その開口率が５０％以上で、接着剤
層に軟化温度が２００℃以下、屈折率が１．４５〜１．
７０の範囲にあり、接着剤層の厚みが導電性金属の厚さ
以上で、赤外線吸収剤が含有されている接着剤層が剥離
除去性、非視認性、赤外線遮蔽性、接着力に優れ好まし
い。また、導電性金属で描かれたライン幅が、４０μｍ
以下、ライン間隔が１００μｍ以上、ライン厚みが４０
μｍ以下の導電性金属が好ましい。

【００３５】

【発明の効果】本発明で得られる電磁波シールド性接着
フィルムは実施例からも明らかなように、電磁波シール
ド性と透明性を有し被着体に容易に貼付けて使用でき、
しかも密着性が優れているので電磁波漏れがなく広周波
数帯域にわたってシールド機能が特に良好である。また
可視光透過率、非視認性などの光学的特性が良好で、し
かも長時間にわたって高温での接着特性に変化が少なく
良好であり、優れた剥離除去可能な電磁波シ−ルド性接
着フィルムを提供することができる。さらに有機溶媒等
で剥離除去が可能なため、貼付けに失敗したときなど被
着体にダメージを与えずに、接着剤を拭き取り除去後、
再度貼付けが可能である。請求項２に記載のアルコール
系有機溶剤に溶解または膨潤する接着剤層とすることに
より、電磁波シールド性と透明性を有し、容易に剥離除
去が可能な電磁波シ−ルド性接着フィルムを提供するこ
とができる。請求項３に記載の接着剤層の軟化温度を２
００℃以下とすることにより、被着体に容易に貼付け、
貼付けに失敗したときなど被着体にダメージを与えずに
容易に剥がすことができ、接着剤を拭き取り除去後、再
度貼付けが可能である。請求項４に記載の接着剤層の屈
折率を１．４５〜１．７０とすることにより、透明性、
像鮮明性に優れた剥離除去可能な電磁波シールド性接着
フィルムを提供することができる。請求項５に記載の接
着剤層の厚さを導電性金属の厚さ以上にすることによ
り、透明性、接着性に優れた剥離除去可能な電磁波シー
ルド性接着フィルムを提供することができる。請求項６
に記載の加熱または加圧により流動する接着剤層中に赤
外線吸収剤を含有することにより、赤外線遮蔽性および
透明性に優れた剥離除去可能な電磁波シールド性接着フ
ィルムを提供することができる。請求項７に記載の導電
性金属で描かれた幾何学図形のライン幅が４０μｍ以
下、ライン間隔が１００μｍ以上、ライン厚みが４０μ
ｍ以下とすることにより、電磁波シールド性と透明性及
び広視野角の剥離除去可能な電磁波シールド性接着フィ
ルムを得ることができる。請求項８に記載の導電性金属
付きフィルムの金属が、厚さ０．５〜４０μｍの銅、ア
ルミニウムまたはニッケルとすることにより、電磁波シ
ールド性、加工性、及び安価な剥離除去可能な電磁波シ
ールド性接着フィルムを提供することができる。請求項
９に記載のフォトリソグラフ法をケミカルエッチング法
とすることにより、電磁波シールド性、加工性、及び安
価な剥離除去可能な電磁波シールド性接着フィルムを提
供することができる。請求項１０に記載の導電性金属付
きプラスチックフィルムのプラスチックフィルムをポリ
エチレンテレフタレートフィルムまたはポリカーボネー
トすることにより、安価で透明性、耐熱性に優れた剥離
除去可能な電磁波シールド性接着フィルムを提供するこ
とができる。請求項１１に記載の導電性金属が銅であ
り、少なくともその表面が黒化処理されていることによ
り、コントラストと電磁波シールド性に優れた剥離除去
可能な電磁波シールド性接着フィルムを提供することが
できる。請求項１２に記載の導電性金属を常磁性金属と
することにより、磁場シールド性に優れた剥離除去可能
な電磁波シールド性接着フィルムを提供することができ
る。請求項１３に記載の剥離除去可能な電磁波シールド
性接着フィルムとプラスチック板から構成された電磁波
遮蔽構成体とすることにより、透明性を有する電磁波シ
ールド性基板を提供することができる。請求項１４に記
載の剥離除去可能な電磁波シールド性接着フィルムをプ
ラスチック板の少なくとも片面に貼り合わせた電磁波遮
蔽構成体とすることにより、透明性を有する電磁波シー
ルド性基板を提供することができる。請求項１５に記載
の剥離除去可能な電磁波シールド性接着フィルムをプラ
スチック板の片面に貼り合わせ、他面に赤外線遮蔽性を
有する接着剤または接着フィルムを貼り合わせた電磁波
遮蔽構成体とすることにより、赤外線遮蔽性、透明性を
有する電磁波シールド性基板を提供することができる。
請求項１６に記載の電磁波シールド性と透明性を有する
剥離除去可能な電磁波シールド性接着フィルムをディス
プレイに用いることにより、軽量、コンパクトで透明性
に優れ電磁波漏洩が少ないディスプレイを提供すること
ができる。請求項１７に記載の電磁波遮蔽構成体をディ
スプレイに用いることにより、軽量、コンパクトで電磁
波漏洩が少なくディスプレイ保護板を兼用したディスプ
レイを提供することができる。ディスプレイに使用した
場合、可視光透過率が大きく、非視認性が良好であるの
でディスプレイの輝度を高めることなく通常の状態とほ
ぼ同様の条件下で鮮明な画像を快適に鑑賞することがで
きる。本発明の剥離除去可能な電磁波シールド性接着フ
ィルム及び電磁波遮蔽構成体は、電磁波シールド性や透
明性に優れているため、ディスプレイの他に電磁波を発
生したり、あるいは電磁波から保護する測定装置、測定
機器や製造装置の内部をのぞく窓や筐体、特に透明性を
要求される窓のような部位に設けて使用することができ
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者橋塲綾茨城県下館市大字小川1500番地日立化成工業株式会社下館研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】有機溶剤、酸性水溶液またはアルカリ性
水溶液の少なくとも１つに溶解または膨潤する接着剤層
を有する導電性金属付きプラスチックフィルムを、フォ
トリソグラフ法により導電性金属で描かれた幾何学図形
を有し、その開口率が５０％以上とした剥離除去可能な
電磁波シールド性接着フィルム。
【請求項２】有機溶剤、酸性水溶液またはアルカリ性
水溶液の少なくとも１つに溶解または膨潤する接着剤層
が、アルコール系有機溶剤に溶解または膨潤する接着剤
層である請求項１に記載の剥離除去可能な電磁波シール
ド性接着フィルム。
【請求項３】接着剤層の軟化温度が２００℃以下であ
る請求項１または請求項２に記載の剥離除去可能な電磁
波シールド性接着フィルム。
【請求項４】接着剤層の屈折率が１．４５〜１．７０
の範囲にある請求項１ないし請求項３のいずれかに記載
の剥離除去可能な電磁波シールド性接着フィルム。
【請求項５】接着剤層の厚さが導電性金属の厚さ以上
であることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいず
れかに記載の剥離除去可能な電磁波シールド性接着フィ
ルム。
【請求項６】接着剤層中に赤外線吸収剤が含有されて
いることを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれ
かに記載の剥離除去可能な電磁波シールド性接着フィル
ム。
【請求項７】導電性金属で描かれた幾何学図形のライ
ン幅が４０μｍ以下、ライン間隔が１００μｍ以上、ラ
イン厚さが４０μｍ以下である請求項１ないし請求項６
のいずれかに記載の剥離除去可能な電磁波シールド性接
着フィルム。
【請求項８】導電性金属付きプラスチックフィルムの
導電性金属が、厚さ０．５〜４０μｍの銅、アルミニウ
ムまたはニッケルである請求項１ないし請求項７のいず
れかに記載の剥離除去可能な電磁波シールド性接着フィ
ルム。
【請求項９】フォトリソグラフ法がケミカルエッチン
グ法である請求項１ないし請求項８のいずれかに記載の
剥離除去可能な電磁波シールド性接着フィルム。
【請求項１０】導電性金属付きプラスチックフィルム
のプラスチックフィルムがポリエチレンテレフタレート
フィルムまたはポリカーボネートフィルムである請求項
１ないし請求項９のいずれかに記載の剥離除去可能な電
磁波シールド性接着フィルム。
【請求項１１】導電性金属が銅であり、少なくともそ
の表面が黒化処理されていることを特徴とする請求項１
ないし請求項１０のいずれかに記載の剥離除去可能な電
磁波シールド性接着フィルム。
【請求項１２】導電性金属が常磁性金属である請求項
１ないし請求項１０のいずれかに記載の剥離除去可能な
電磁波シールド性接着フィルム。
【請求項１３】請求項１ないし請求項１２のいずれか
に記載の剥離除去可能な電磁波シールド性接着フィルム
とプラスチック板から構成された電磁波遮蔽構成体。
【請求項１４】請求項１ないし請求項１２のいずれか
に記載の剥離除去可能な電磁波シールド性接着フィルム
をプラスチック板の少なくとも片面に貼り合わせた電磁
波遮蔽構成体。
【請求項１５】請求項１ないし請求項１２のいずれか
に記載の剥離除去可能な電磁波シールド性接着フィルム
をプラスチック板の片面に貼り合わせ、他面に赤外線遮
蔽性を有する接着剤または接着フィルムを貼り合わせた
電磁波遮蔽構成体。
【請求項１６】請求項1ないし請求項１２のいずれか
に記載の剥離除去可能な電磁波シールド性接着フィルム
を用いたディスプレイ。
【請求項１７】請求項１３ないし請求項１５のいずれ
かに記載の電磁波遮蔽構成体を用いたディスプレイ。