JPH11231547A - Laser beam exposure marking device - Google Patents
Laser beam exposure marking deviceInfo
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- JPH11231547A JPH11231547A JP10069198A JP6919898A JPH11231547A JP H11231547 A JPH11231547 A JP H11231547A JP 10069198 A JP10069198 A JP 10069198A JP 6919898 A JP6919898 A JP 6919898A JP H11231547 A JPH11231547 A JP H11231547A
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はレーザビームを用い
て露光レジストを付した基板上に管理用コード等を書き
込むレーザビーム露光マーキング装置に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser beam exposure marking apparatus for writing a management code and the like on a substrate provided with an exposure resist using a laser beam.
【０００２】[0002]
【従来の技術】露光用の光源として紫外線レーザビーム
を用い、基板上の感光レジストに文字、記号や露光パタ
ーンなどを焼付けるレーザビーム露光マーキング装置に
おいて、レーザビームをＸ軸及びＹ軸の両方向に走査さ
せるために、ガルバノ式スキャナーのムービングミラー
が使用されているが、ガルバノ式スキャナーのムービン
グミラーをただ単純に使用して露光した場合、露光中の
温度変化などによる露光位置のドリフトがあるため基板
上の正確な露光位置に繰り返し、精密な細かい露光がで
きないという問題があった。と同時にレーザの光量が変
動して露光エネルギーが一定に保持されないという問題
があった。2. Description of the Related Art In a laser beam exposure marking device that uses an ultraviolet laser beam as a light source for exposure and prints characters, symbols, exposure patterns, and the like on a photosensitive resist on a substrate, a laser beam is irradiated in both directions of an X axis and a Y axis. For scanning, the moving mirror of a galvano scanner is used. There has been a problem that precise fine exposure cannot be performed repeatedly at the above accurate exposure position. At the same time, there is a problem in that the light energy of the laser fluctuates and the exposure energy is not kept constant.
【０００３】また、広い範囲で精密な位置に露光しなけ
ればならない、例えばＬＣＤ用ガラス基板へのＩＤコー
ドのマーキング等では、レーザビームのスキャン幅を小
さくして、被露光体である基板をＸ、Ｙステージに乗せ
て、露光位置まで移動する方式が取られているが、複雑
な構造で、装置が高価なものとなった。In the case of exposing a precise position over a wide range, for example, for marking an ID code on an LCD glass substrate, the scan width of a laser beam is reduced and the substrate to be exposed is exposed to X-rays. , And the stage is moved to the exposure position, but the apparatus is expensive due to its complicated structure.
【０００４】また、従来、装置高さの問題で、レーザビ
ーム発射装置の保守、点検及び運搬時にレーザビーム発
射装置を取り外していたが、レーザビーム発射装置は重
いので、現地での取付は面倒であるばかりでなく危険な
作業であり、しかも再取付時の精度を出す作業に時間を
要した。[0004] Conventionally, the laser beam emitting device was removed during maintenance, inspection and transportation of the laser beam emitting device due to the problem of the height of the device. However, since the laser beam emitting device is heavy, mounting on the site is troublesome. Not only was it a dangerous operation, but it also took time to improve the accuracy of re-installation.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、前記
の問題点である基板上の正確な露光位置に、精密な露光
を繰り返しできない点を解決すると共に、使い勝手のよ
いレーザビーム露光マーキング装置を安価に提供するこ
とを課題とするものである。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention solves the above-mentioned problem that precise exposure cannot be repeated at an accurate exposure position on a substrate, and provides a laser beam exposure marking apparatus which is easy to use. It is an object to provide it at low cost.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は前記の課題を解
決するためになされたもので、レーザ光源、露光シャッ
タ装置及びレーザビームのスキャナーを備えたレーザビ
ーム発射装置を設け、且つ設定された文字、記号や露光
パターン等を実現するため、前記露光シャッタ装置及び
スキャナーを制御するコントローラを設けると共に、前
記レーザビーム発射装置のレーザビーム発射口と対向し
て描画用レーザビームを受ける基板の搬送コンベア又は
載置部を設け、且つ２個以上のレーザスポット位置検出
器を設け、露光開始前に前記レーザスポット位置検出器
の検出値に基づいてコントローラの描画制御信号を補正
することを特徴とするものであり、好ましくは、レーザ
ビーム発射口にｆ・θレンズを設け、また、描画用レー
ザビームを受ける基板の下方又は外れた位置にレーザ光
量検出器を設け、その検出光量に応じて光量が所定量に
なるよう露光シャッタ装置を制御するようにする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and comprises a laser beam emitting device provided with a laser light source, an exposure shutter device, and a laser beam scanner. In order to realize characters, symbols, exposure patterns, etc., a controller for controlling the exposure shutter device and the scanner is provided, and a substrate conveyor for receiving a drawing laser beam facing the laser beam emission port of the laser beam emission device. Alternatively, a mounting portion is provided, and two or more laser spot position detectors are provided, and a drawing control signal of a controller is corrected based on a detection value of the laser spot position detector before starting exposure. Preferably, an f · θ lens is provided at the laser beam emission port, and the drawing laser beam is received. The laser light amount detector arranged below or off position of the plate, the light amount so as to control the exposure shutter device so that a predetermined amount in response to the detected light.
【０００７】また、レーザビーム発射装置を昇降自在に
設けるようにし、また基板の機械的位置決め装置又は光
学的位置決め装置を装備し、更にレーザビーム発射装置
を複数装備して成る。The laser beam emitting device is provided so as to be able to move up and down freely, a mechanical positioning device or an optical positioning device for the substrate is provided, and a plurality of laser beam emitting devices are further provided.
【０００８】[0008]
【作用】本発明にかゝるレーザビーム露光マーキング装
置は、基板上の正確な露光位置に、精密な細かい露光を
繰り返し露光する手段として、基準位置測定用のレーザ
スポット位置検出器を露光基板の下方又は外れた位置に
２個以上設置し、露光前に、そのレーザスポット位置検
出器にレーザビームを照射し、温度変化などによる露光
位置のドリフトが起きていないかどうかを測定し、レー
ザスポット位置検出器に所定のエネルギー量のレーザビ
ームが照射されていない場合は、レーザスポット位置検
出器に所定のエネルギー量のレーザビームが照射される
位置をレーザビーム走査を行って求め、最初に照射した
位置と、所定エネルギー量のレーザビームが照射される
正確な位置との差分量が、基板上の正確な露光位置に露
光するための補正値であるので、その補正値に基づい
て、露光することにより、基板上の正確な露光位置に精
密な細かい露光を行うようにしたものである。ただし、
この補正は、一方向のみの補正では、正しい補正ではな
いので、それぞれ基板に対し位置をずらした２個以上の
フォトセンサーにより、２回以上の補正を行うことによ
り、Ｘ，Ｙの方向が正しい補正値を得るようにするもの
である。The laser beam exposure marking apparatus according to the present invention uses a laser spot position detector for measuring a reference position as a means for repeatedly exposing a precise exposure to a precise exposure position on a substrate. Before or after exposure, two or more lasers are illuminated on the laser spot position detector to determine whether the exposure position has drifted due to temperature changes. When the laser beam of the predetermined energy amount is not irradiated on the detector, a position where the laser beam of the predetermined energy amount is irradiated on the laser spot position detector is obtained by performing laser beam scanning, and the first irradiation position is obtained. And the difference between the exact position where the laser beam of the predetermined energy amount is irradiated is the correction amount for exposing to the correct exposure position on the substrate. Since it is, based on the correction value, by exposing, in which to perform a precise fine exposure to correct exposure position on the substrate. However,
This correction is not correct in one direction only, so that the X and Y directions are correct by performing two or more corrections with two or more photosensors whose positions are shifted from the substrate. This is to obtain a correction value.
【０００９】レーザスポット位置検出器としては、フォ
トセンサと適数のピンホールを設けた受光面を具備した
もの、又はＰＳＤ（ポジション・センシング・デバイ
ス）が用いることができる。As the laser spot position detector, one having a photosensor and a light receiving surface provided with an appropriate number of pinholes, or a PSD (position sensing device) can be used.
【００１０】レーザ光量はレーザ光量検出器によって常
に検出され、レーザ光量が一定に維持されるので、均一
なコーデイングが行なわれる。また、レーザビーム発射
装置は昇降可能の構造となっているので保守・点検時や
運搬時に便利である。The laser light amount is always detected by the laser light amount detector, and the laser light amount is kept constant, so that uniform coding is performed. Further, the laser beam emitting device has a structure capable of ascending and descending, which is convenient for maintenance / inspection and transportation.
【００１１】機械的又は光学的位置決め装置により基板
は所定位置に設置され、またレーザビーム発射装置を複
数装備することにより、装置の高さを低くすることがで
きる。The substrate is set at a predetermined position by a mechanical or optical positioning device, and the height of the device can be reduced by providing a plurality of laser beam emitting devices.
【００１２】[0012]
【発明の実施の形態】図１は本発明の一実施例の主要部
構成を示すブロック図で、１はベース盤１８上に設けた
レーザビーム発射装置、２２は露光レジスト２１を表面
に設けたガラス基板である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a block diagram showing a main part of an embodiment of the present invention. 1 is a laser beam emitting device provided on a base board 18, and 22 is an exposure resist 21 provided on the surface. It is a glass substrate.
【００１３】実施例のレーザビーム発射装置１は、Ａ，
Ｂ２本のレーザを出射するように構成されたもので、紫
外線レーザ光源５、全反射ミラー２，３、音響光学変調
素子（ＡＯＭ）を用いた露光シャッタ装置６，７、ハー
フミラー４、レンズ９〜１１、Ｘ軸及びＹ軸用ガルバノ
式スキャナー１２〜１５が内蔵されており、露光シャッ
タ装置６，７及びスキャナ１２〜１５はＣＰＵを内蔵し
たコントローラ１６，１７により制御される。The laser beam emitting device 1 of the embodiment has A,
B, which emits two lasers, an ultraviolet laser light source 5, total reflection mirrors 2, 3, exposure shutter devices 6, 7 using an acousto-optic modulator (AOM), a half mirror 4, and a lens 9. 11 and X-axis and Y-axis galvano scanners 12 to 15 are built in, and the exposure shutter devices 6 and 7 and the scanners 12 to 15 are controlled by controllers 16 and 17 having a built-in CPU.
【００１４】即ち、スキャナ１２，１３及び１４，１５
の各ムービングミラーは、コントローラ１６，１７に設
定された文字や露光パターンに応じて揺動して、レーザ
ビームＡ，Ｂを露光レジスト２１上を走査させ、露光シ
ャッタ装置６，７はレーザビーム走査に際してレーザビ
ームが、次の移動点に飛越する時閉じるように各コント
ローラによって制御される。That is, the scanners 12, 13 and 14, 15
Are moved in accordance with the characters and the exposure pattern set in the controllers 16 and 17 so that the laser beams A and B are scanned over the exposure resist 21, and the exposure shutter devices 6 and 7 scan the laser beam. At this time, each laser controller controls the laser beam to close when the laser beam jumps to the next moving point.
【００１５】ムービングミラーによって走査方向を制御
されるレーザビームＡ，Ｂは、台盤１８に設けたｆ・θ
レンズ１９又は２０を通して基板２２の感光レジスト２
１上に投射され、感光レジスト２１上にコントローラ１
６，１７に設定された文字、記号、露光パターン等を歪
みなく描画する。The laser beams A and B whose scanning directions are controlled by the moving mirror are applied to f · θ provided on the base plate 18.
The photosensitive resist 2 on the substrate 22 through the lens 19 or 20
1 is projected onto the photosensitive resist 21 and the controller 1
Characters, symbols, exposure patterns, etc. set in 6, 17 are drawn without distortion.
【００１６】そして、本装置では、温度変化などの原因
による露光位置のドリフトを補償するため、基板２２の
下方にレーザスポット位置検出器２３〜２５を配置し、
露光開始前に、レーザスポット位置検出器２３〜２５に
向ってレーザビームを照射させ、コントローラ１６、１
７において、レーザスポット位置検出器２３〜２５が受
光したエネルギー量を計算すると共に、その計算値から
温度変化などによる露光位置のドリフトの補正値を求
め、その補正値を加味した制御信号によって、スキャナ
ー１２〜１５及び露光シャッタ装置６，７を制御するよ
うに構成されている。In this apparatus, laser spot position detectors 23 to 25 are arranged below the substrate 22 in order to compensate for the drift of the exposure position due to a temperature change or the like.
Before the start of the exposure, the laser beam is irradiated to the laser spot position detectors 23 to 25,
In 7, the amount of energy received by the laser spot position detectors 23 to 25 is calculated, and a correction value of the drift of the exposure position due to a temperature change or the like is obtained from the calculated value. 12 to 15 and the exposure shutter devices 6 and 7 are controlled.
【００１７】従って、温度変化などによる位置ズレのな
い焼付けを露光レジスト２１に施すことができるので、
精密な細かいパターンやマークなどを繰り返えし焼付け
することができる。Therefore, the exposure resist 21 can be baked without displacement due to a temperature change or the like.
It is possible to repeat and print precise fine patterns and marks.
【００１８】図１において、２７，２８はガラス基板２
２を支持するための支持ピンで、このようにガラス基板
２２を支持ピンで支持するようにしたのは、ガラス基板
２２が支持面から剥離し易くするためである。なお、２
９，３０は吸着パットである。In FIG. 1, reference numerals 27 and 28 denote glass substrates 2
The reason why the glass substrate 22 is supported by the support pins for supporting the glass substrate 22 with the support pins is to make the glass substrate 22 easily peel off from the support surface. In addition, 2
Reference numerals 9 and 30 denote suction pads.
【００１９】従来、基板を加工する場合、支持平面上に
真空吸着ノズルにより吸着する手法が採られているが、
基板は帯電し易いため、密着して剥離しない場合が生じ
たか、支持ピンにより支持する構造とすることにより、
その問題を解決した。Conventionally, when processing a substrate, a method of sucking a substrate on a support plane by a vacuum suction nozzle has been adopted.
Because the substrate is easily charged, there are cases where it does not peel off due to close contact, or by adopting a structure that is supported by support pins,
Solved the problem.
【００２０】図１に示す実施例において、２本のレーザ
を発生させるように構成したのは、１本のレーザを発生
させて、大版の基板にレーザビーム露光マーキングする
装置を製作しようとすると、装置の高さが高くなること
と、レーザの強さを高めなければならないが、複数のレ
ーザを用いる方法を採ることにより、その問題を解消で
きることになるからである。In the embodiment shown in FIG. 1, two lasers are generated so that one laser is generated and an apparatus for performing laser beam exposure marking on a large-size substrate is manufactured. This is because the height of the apparatus must be increased and the intensity of the laser must be increased. However, adopting a method using a plurality of lasers can solve the problem.
【００２１】図２は図１に示す各装置を主フレーム３１
と着脱自在の上部フレーム３２から成る機枠Ｘに装備し
た状態を示す正面図、図３はその側面図を示すもので、
実施例装置では、ベース盤１８に取付けたレーザビーム
発射装置１をモータ３３によって駆動される４本のボー
ルネジ３４，３４，３４によって使用時は上部フレーム
３２内に、また保守・点検時や運搬時には主フレーム３
１内に位置させ得るように昇降出来るように構成されて
いる。なお運搬時は、レーザビーム発射装置１を主フレ
ーム３１内に降下させた後上部フレーム３２を外して装
置の高さを低くして運搬をする。FIG. 2 is a block diagram showing the components shown in FIG.
FIG. 3 is a front view showing a state where the apparatus is mounted on a machine frame X including a detachable upper frame 32 and FIG. 3 is a side view thereof.
In the embodiment device, the laser beam emitting device 1 mounted on the base board 18 is placed in the upper frame 32 when used by the four ball screws 34, 34, 34 driven by the motor 33, and also during maintenance / inspection or transportation. Main frame 3
1 so that it can be moved up and down. During transportation, the laser beam emitting device 1 is lowered into the main frame 31, and then the upper frame 32 is removed to reduce the height of the device for transportation.
【００２２】３５は、中段ベース盤３６上に発生したゴ
ミが、中段ベース盤３６下方の基板搬送 ３７に落下す
るのを防止する防塵カバーで、３８は搬送コンベア３９
は帯電防止用のイオナイザーである。Reference numeral 35 denotes a dust-proof cover for preventing dust generated on the middle base board 36 from dropping on the board transfer 37 below the middle base board 36. Reference numeral 38 denotes a transfer conveyor 39.
Is an ionizer for antistatic.
【００２３】図４は、基板２２の機械的位置決め装置の
流れ方向幅寄せユニット２８，２８と幅方向幅寄せユニ
ット２９，２９，２９，２９の配置を示すもので、各ユ
ニットは基板２２が所定位置迄搬送されてから、動作し
て基板２２を所定位置に正確に保持する。FIG. 4 shows the arrangement of the flow direction width shifting units 28, 28 and the width direction width shifting units 29, 29, 29, 29 of the mechanical positioning device for the substrate 22, wherein each unit has a predetermined position. After being transported to the position, it operates to accurately hold the substrate 22 at a predetermined position.
【００２４】なお３０はレーザ光量検出器で、温度変化
によりレーザ光量にドリフトを生じた時、その変動を検
出して発射されるレーザ光量を常に一定にするための検
出器として用いられる。Reference numeral 30 denotes a laser light amount detector which is used as a detector for detecting a change in the laser light amount when the laser light amount drifts due to a change in temperature and always keeping the emitted laser light amount constant.
【００２５】図５は、基板２２の光学的位置決め装置を
用いる場合の実施例を示すもので、基板２２のＸ方向の
辺とＹ方向の辺を所定位置に配置した３台野本板位置カ
メラ３１，３１，３１で検出することにより、レーザの
制御を補正制御することにより、所定の位置にコーデイ
ングさせるようにしたものである。FIG. 5 shows an embodiment in which an optical positioning device for the substrate 22 is used. The three main board position cameras 31 in which the X-direction side and the Y-direction side of the substrate 22 are arranged at predetermined positions. , 31, and 31, the laser control is corrected and controlled to code at a predetermined position.
【００２６】[0026]
【発明の効果】以上のように、本発明によれば温度変化
等の原因による露光位置のドリフトを補正した状態で露
光を行うので、指定された位置に正確に精密な焼付けを
行うことができるレーザビーム露光マーキング装置を提
供することができる。また請求項２記載の構成によれば
温度変化によるドリフトを生じた場合もレーザ光量を一
定に保持することができる。また請求項３記載の構成に
よれば、使い勝手のよいレーザビーム露光マーキング装
置を提供することができる。また請求項４記載の構成に
よれば、書き込み精度が高いレーザビーム露光マーキン
グ装置を提供することができる。さらに請求項５記載の
構成によれば大版用のものであっても装置の高さを低く
することができる。As described above, according to the present invention, since the exposure is performed in a state where the drift of the exposure position due to a temperature change or the like is corrected, accurate and precise printing can be performed at the designated position. A laser beam exposure marking device can be provided. Further, according to the configuration of the second aspect, the laser light amount can be kept constant even when drift occurs due to a temperature change. According to the configuration of the third aspect, a laser beam exposure marking device that is easy to use can be provided. Further, according to the configuration of the fourth aspect, it is possible to provide a laser beam exposure marking device with high writing accuracy. Further, according to the configuration of the fifth aspect, the height of the apparatus can be reduced even for a large plate.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図１】本発明の一実施例の主要部構成を示すブロック
図である。FIG. 1 is a block diagram showing a main part configuration of an embodiment of the present invention.
【図２】本発明の実施例における各装置の機枠に装備し
た状態を示す正面図である。FIG. 2 is a front view showing a state where each device is mounted on a machine frame according to the embodiment of the present invention.
【図３】本発明の実施例における各装置の機枠に装備し
た状態を示す側面図である。FIG. 3 is a side view showing a state where each device is mounted on a machine frame according to the embodiment of the present invention.
【図４】基板の機械的位置決め装置を示す平面図であ
る。FIG. 4 is a plan view showing a mechanical positioning device for a substrate.
【図５】基板の光学的位置決め装置を示す平面図であ
る。FIG. 5 is a plan view showing an optical positioning device for a substrate.
１ レーザビーム発射装置 ２，３ 全反射ミラー ４ ハーフミラー ５ レーザ光源 ６，７ 露光シャッタ装置 ８，９，１０，１１ レンズ １２，１３，１４，１５ スキャナ １６，１７ コントローラ １８ ベース盤 １９，２０ ｆ・θレンズ ２１ 露光レジスト ２２ ガラス基板 ２３，２４，２５ レーザスポット位置検出器 ２６ 光量検出器 ２７，２８ 支持ピン Reference Signs List 1 laser beam emitting device 2, 3 total reflection mirror 4 half mirror 5 laser light source 6, 7 exposure shutter device 8, 9, 10, 11 lens 12, 13, 14, 15 scanner 16, 17 controller 18 base board 19, 20f • θ lens 21 Exposure resist 22 Glass substrate 23, 24, 25 Laser spot position detector 26 Light intensity detector 27, 28 Support pin
フロントページの続き (72)発明者 酒井 伸久 埼玉県入間市大字新光182番地 株式会社 ワイ・イー・データ内Continuation of the front page (72) Inventor Nobuhisa Sakai 182 Shinko, Oaza, Iruma City, Saitama Prefecture Within YE Data Inc.
Claims (6)
ザビームのスキャナーを備えたレーザビーム発射装置を
設け、且つ設定された文字、記号や露光パターン等を実
現するため、前記露光シャッタ装置及びスキャナーを制
御するコントローラを設けると共に、前記レーザビーム
発射装置のレーザビーム発射口と対向して描画用レーザ
ビームを受ける基板の搬送コンベア又は載置部を設け、
且つ２個以上のレーザスポット位置検出器を設け、露光
開始前に前記レーザスポット位置検出器の検出値に基づ
いてコントローラの描画制御信号を補正することを特徴
とするレーザビーム露光マーキング装置1. A laser beam emitting device including a laser light source, an exposure shutter device, and a laser beam scanner, and controls the exposure shutter device and the scanner to realize set characters, symbols, exposure patterns, and the like. A controller is provided, and a transport conveyor or a mounting portion of a substrate that receives a drawing laser beam is provided in opposition to a laser beam emitting port of the laser beam emitting device,
And a laser beam exposure marking apparatus comprising two or more laser spot position detectors, and correcting a drawing control signal of a controller based on a detection value of the laser spot position detector before exposure starts.
射口にｆ・θレンズを設けて成る請求項１記載のレーザ
ビーム露光マーキング装置。2. The laser beam exposure marking device according to claim 1, wherein an f · θ lens is provided at a laser beam emitting port of the laser beam emitting device.
又は外れた位置にレーザ光量検出器を設け、その検出光
量に応じてレーザ光量が所定量になるよう露光シャッタ
装置を制御することを特徴とする請求項１または２記載
のレーザビーム露光マーキング装置3. A laser light amount detector is provided below or off a substrate receiving a drawing laser beam, and an exposure shutter device is controlled so that the laser light amount becomes a predetermined amount according to the detected light amount. 3. The laser beam exposure marking apparatus according to claim 1, wherein
たことを特徴とする請求項１，２または３記載のレーザ
ビームマーキング装置4. The laser beam marking device according to claim 1, wherein the laser beam emitting device is provided so as to be movable up and down.
的位置決め装置又は光学的位置決め装置を装備したこと
を特徴とする請求項１，２，３または４記載のレーザビ
ーム露光マーキング装置5. The laser beam exposure marking device according to claim 1, further comprising a mechanical positioning device or an optical positioning device for the substrate receiving the drawing laser beam.
とを特徴とする請求項１，２，３，４または５記載のレ
ーザビーム露光マーキング装置6. The laser beam exposure marking device according to claim 1, wherein a plurality of laser beam emitting devices are provided.
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
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|---|---|
| JPH11231547A true JPH11231547A (en) | 1999-08-27 |
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ID=13395599
Family Applications (2)
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|---|---|---|---|
| JP6919198A Pending JPH11226269A (en) | 1998-02-13 | 1998-02-13 | Disk rotating machine with magnet |
| JP10069198A Pending JPH11231547A (en) | 1998-02-13 | 1998-02-13 | Laser beam exposure marking device |
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|---|---|---|---|
| JP6919198A Pending JPH11226269A (en) | 1998-02-13 | 1998-02-13 | Disk rotating machine with magnet |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (2) | JPH11226269A (en) |
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| KR100754443B1 (en) | 2005-02-28 | 2007-09-03 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | Identification code, formation method of identification code, liquid droplet ejection apparatus, and electro-optic apparatus |
Families Citing this family (1)
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| CN106057041B (en) * | 2016-06-15 | 2019-06-14 | 威海泰华智能科技有限公司 | A kind of laboratory apparatus and operating method solving electromagnetic induction problems |
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1998
- 1998-02-13 JP JP6919198A patent/JPH11226269A/en active Pending
- 1998-02-13 JP JP10069198A patent/JPH11231547A/en active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US7527368B2 (en) | 2005-02-28 | 2009-05-05 | Seiko Epson Corporation | Identification code, formation method of identification code, liquid droplet ejection apparatus, and electro-optic apparatus |
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| JPH11226269A (en) | 1999-08-24 |
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