JPH11231192A - 光学素子支持装置及び鏡筒並びに投影露光装置 - Google Patents

光学素子支持装置及び鏡筒並びに投影露光装置

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JPH11231192A
JPH11231192A JP10031682A JP3168298A JPH11231192A JP H11231192 A JPH11231192 A JP H11231192A JP 10031682 A JP10031682 A JP 10031682A JP 3168298 A JP3168298 A JP 3168298A JP H11231192 A JPH11231192 A JP H11231192A
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JP10031682A
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Masatoshi Ikeda
正俊 池田
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70825Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports

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  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
  • Lens Barrels (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光学素子におけるたわみの発生量を低減で
き、光学素子の高い光学性能を容易に確保可能な光学素
子支持装置及び鏡筒、そして高精度の投影露光が可能な
露光装置を提供する。 【解決手段】 縦置きレンズ支持装置61を、それぞ
れ、レンズ62の重力方向下方側及び上方側の外周部に
係合する各可動支持部63a、63bと、固定支持部6
4とより構成する。各支持部63a、63b、64を、
レンズ62の円周方向に等角度間隔をおいて配置する。
前記両可動支持部63a、63bで前記レンズ62の荷
重を支持すると共に、前記固定支持部64で前記両可動
支持部63a、63bを傾動中心とするレンズ62の傾
動を規制する。また、各支持部63a、63b、64の
協働により、レンズ62のZ軸回りの回転を規制する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、レンズ、反射鏡
等の光学素子を支持するための光学素子支持装置、及
び、光学素子を有する鏡筒、さらには半導体素子等を製
造するための露光装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】各種光学機器の光学系を構成するレン
ズ、反射鏡等の光学素子は、支持装置を介して鏡筒内に
支持された状態で使用されることが多い。
【0003】この種の光学素子支持装置としては、例え
ば次のような枠体を使用するものが従来より知られてい
た。すなわち、図19及び図20に示すように、枠体1
51は、円環状の受け枠152と、その受け枠152に
螺合可能な円環状の止め輪153とよりなっている。前
記受け枠152の開口部154には、大径部154a及
び小径部154bが設けられている。それら大径部15
4aと小径部154bとの境界部分には、レンズ155
の周縁に形成されたつば部156の形状に対応する段部
157が形成されている。前記大径部154aの内周面
はネジ孔158となっており、前記止め輪153の外周
面に形成されたネジ部159と螺合可能になっている。
そして、受け枠152の段部157にレンズ155のつ
ば部156の一側面を当接させた状態で、止め輪153
を前記つば部156の他側面に当接するまで締め込むこ
とにより、レンズ155を枠体151内に挟持するよう
になっている。これにより、レンズ155のつば部15
6の一側面と受け枠152の段部157の底面157a
とが、また前記つば部156の他側面と止め輪153の
先端面153aとが、それぞれ同つば部156のほぼ全
周にわたって面接触するようになっている。そして、枠
体151で支持されたレンズ155は、図示しない取付
金具を介して各種光学機器の鏡筒内に取り付けられるよ
うになっている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、前記従来構
成では、レンズ155のつば部156の両側面、受け枠
152における段部157の底面157a、及び止め輪
153の先端面153aを、それぞれ表面うねり等のな
い完全に均一な平面に加工することは、いかに精密に加
工しようともほとんど不可能である。このため、レンズ
155が枠体151に挟持された状態では、レンズ15
5、受け枠152及び止め輪153の表面うねり等に基
づく加工公差のかなりの部分がレンズ155に集中する
おそれがある。このような、レンズ155における公差
集中は、レンズ155のロット毎に異なる予測不能なた
わみを生じせしめ、レンズ155の光学性能の低下を招
くおそれがあるという問題があった。
【0005】特に、光軸が重力方向と交差するように配
置された縦置きレンズでは、前記の公差集中によるたわ
みだけでなく、レンズの自重による非対称なたわみも加
わって、光学性能がさらに低下するおそれがあるという
問題があった。
【0006】また、前記光学機器の内で、例えば半導体
素子、液晶表示素子、撮像素子(CCD等)、または薄
膜磁気ヘッド等をフォトリソグラフィー法により製造す
るステッパ等の露光装置においては、光学素子の面精度
としてミクロンオーダーの精度あるいはさらに高い精度
が要求される。そのため、光学素子に前記のような予測
不能なたわみが生じていると、露光時のフォーカス制御
が非常に難しくなるとともに、各装置毎に面倒な微調整
が必要となって煩わしいという問題があった。
【0007】この発明は、このような従来の技術に存在
する問題点に着目してなされたものであり、その目的
は、光学素子におけるたわみの発生量を低減でき、光学
素子の高い光学性能を容易に確保できる光学素子支持装
置を提供することにある。また、この発明の別の目的
は、光学素子をその光学性能の低下を招くことなく保持
可能な鏡筒を提供することにある。加えて、この発明の
さらに別の目的は、光学素子の光学性能の低下を抑制で
き、高精度の投影露光が可能な露光装置を提供すること
にある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1の発明では、光軸(AX2)が重力方向と
交差する方向に延びる光学素子(62)を支持する光学
素子支持装置(61,91,106,111)におい
て、少なくとも3ヶ所で前記光学素子(62)の外周部
(62a)に係合する支持機構(63a,63b,6
4,92a,92b,93,107a,107b,11
2a,112b)を有し、前記支持機構(63a,63
b,64,92a,92b,93,107a,107
b,112a,112b)は、光学素子(62)の荷重
を支持する荷重支持機能と、前記光学素子(62)の荷
重の支持位置を傾動支点とする光学素子(62)の傾動
を規制する傾動規制機能と、前記光軸(AX2)と直交
する軸線(Z軸)を中心とする光学素子(62)の回転
を規制する回転規制機能とを有することを要旨としてい
る。
【0009】従って、請求項1の発明によれば、光学素
子の外周部が少なくとも3ヶ所の支持機構により支持さ
れて、光学素子の側面と支持装置の支持部との間に、前
記光学素子の側面の全周にわたる面接触を生じない。こ
のため、光学素子自身及び支持装置の支持部の加工公差
が、それら支持部を介して光学素子に集中するおそれが
低減される。
【0010】請求項2の発明では、請求項1に記載の光
学素子支持装置(61,91,106,111)におい
て、前記支持機構(63a,63b,64,92a,9
2b,93,107a,107b,112a,112
b)は、光学素子(62)の外周部(62a)の重力方
向下方部に係合する下方支持部(63a,63b,92
a,92b,107a,107b)と、光学素子の外周
部の重力方向上方部に係合する上方支持部(64,9
3,112a,112b)とに分かれ、上方支持部(6
4,93,112a,112b)と下方支持部(63
a,63b,92a,92b,107a,107b)と
の少なくとも一方には前記傾動規制機能を有する傾動規
制手段(80,84,95)を設けると共に、上方支持
部(64,93,112a,112b)と下方支持部
(63a,63b,92a,92b,107a,107
b)との少なくとも他方には前記荷重支持機能を有する
荷重支持手段(63a,63b,92a,92b,10
7a,107b)を設けたことを要旨としている。
【0011】従って、請求項2の発明によれば、請求項
1の発明の作用に加えて、光学素子の重量を確実に支持
しつつ、その光学素子の荷重支持手段を傾動支点とした
傾動が確実に抑制される。
【0012】請求項3の発明では、請求項2に記載の光
学素子支持装置(61,91,106,111)におい
て、前記上方支持部(64,93,112a,112
b)または下方支持部(63a,63b,92a,92
b,107a,107b)の少なくとも一方は、第1支
持部(63a,92a,107a,112a)と、前記
第1支持部(63a,92a,107a,112a)に
対して光学素子(62)の外周方向に所定間隔をおいて
配置される第2支持部(63b,92b,107b,1
12b)とを有し、前記第1支持部(63a,92a,
107a,112a)と第2支持部(63b,92b,
107b,112b)とは重力方向に沿って延びる軸線
(Z軸)に対して対称になるように配置されたことを要
旨としている。
【0013】従って、請求項3の発明によれば、請求項
2の発明の作用に加えて、光学素子が重力方向に沿う軸
線に対してバランスよく支持される。また、請求項4の
発明では、請求項2または3に記載の光学素子支持装置
(61,91)において、前記各支持部(63a,63
b,64,92a,92b,93)は、光学素子(6
2)の中心(LP)と各支持部(63a,63b,6
4,92a,92b,93)とを結ぶ線分(L1〜L
3)を仮想したときに、隣接する2つの線分のなす中心
角(θ)の角度がほぼ等間隔をなすように配置されたこ
とを要旨としている。
【0014】従って、請求項4の発明によれば、請求項
2または3の発明の作用に加えて、光学素子が一層バラ
ンスよく支持される。請求項5の発明では、請求項3ま
たは4に記載の光学素子支持装置(106、111)に
おいて、前記下方支持部(107a,107b)に荷重
支持手段(107a,107b)を設けた時、前記第
1、第2支持部(107a,107b)は、前記光学素
子(62)を重力方向の上下に2分する水平面内におい
て光軸(AX2)と直交する軸線(X軸)と、光学素子
(62)の中心(LP)と第1、第2支持部(107
a,107b)の光学素子(62)の荷重に対する光学
素子(62)の中心(LP)方向への反力(Fa,F
b)の作用点(SPa,SPb)とを結ぶ各線分とのな
す角度をΘとしたとき、前記各作用点における前記反力
(Fa,Fb)の比がsinΘをなすように配置された
ことを要旨としている。
【0015】従って、請求項5の発明によれば、請求項
3または4の発明の作用に加えて、第1、第2支持部に
おける支持荷重の分布がさらにバランスよくほぼ最適な
状態で配分されるため、光学素子がより安定した状態で
支持される。
【0016】請求項6の発明では、請求項5に記載の光
学素子支持装置(61,91,106,111)におい
て、前記中心角(θs)は5°〜60°の範囲内である
ことを要旨としている。
【0017】ここで、前記中心角が5°未満では、前記
光軸に直交し重力方向に延びる軸線を中心とした光学素
子の回転に対して、両支持部での係合による規制効果が
小さくなると共に、隣接する支持部が干渉するおそれが
ある。一方、前記中心角が60°を超えると、各支持部
に複数の支持点(前記作用点に対応する)で光学素子の
外周部に当接する受け部材を使用する場合において、同
受け部材の支持点が前記水平面を挟んで存在することに
なる。このため、その支持点における光学素子の重量の
支持効果が小さくなり、一部の支持点に荷重が集中しや
すくなる。
【0018】これに対して、前記請求項6の発明によれ
ば、請求項5の発明の作用に加えて、光学素子の回転規
制が確保される共に、受け部材の各支持点における荷重
の分担効果が効率よく発揮される。
【0019】請求項7の発明では、請求項3〜6のいず
れか一項に記載の光学素子支持装置(61,91,10
6,111)において、前記第1、第2支持部(63
a,63b,92a,92b,107a,107b)に
は、光学素子(62)の外周部(62a)との間に軸受
構造(73,74,75,109)が介在されているこ
とを要旨としている。
【0020】従って、請求項7の発明によれば、請求項
3〜6のいずれかの発明の作用に加えて、軸受構造の介
在により、光学素子と各支持部との間に相対配置の自由
度が生まれ、光学素子自身及び支持部等の各部材の加工
公差を吸収可能となる。
【0021】請求項8の発明では、請求項3〜7のいず
れか一項に記載の光学素子支持装置(106,111)
において、前記第1、第2支持部(107a,107
b,112a,112b)の内、少なくとも1つの支持
部(107a)には、光学素子(62)の円周方向にお
ける移動調節可能な調節手段(109)が形成されたこ
とを要旨としている。
【0022】従って、請求項8の発明によれば、請求項
3〜7のいずれかの発明の作用に加えて、一部の支持部
が、光学素子の円周方向への移動調節されることによ
り、同方向における光学素子自身及び支持部等の各部材
の加工公差が吸収可能となる。また、この発明によれ
ば、光学素子への露光光照射時においては光学素子に熱
が蓄積されることがあるが、このような蓄積熱による光
学素子の熱膨張を吸収可能となる。
【0023】請求項9の発明では、請求項2〜8のいず
れか一項に記載の光学素子支持装置(61,91,10
6,111)において、前記傾動規制機能は、重力の上
下方向に自由度を有する弾性部材(84,95)の弾性
力で達成されたことを要旨としている。
【0024】従って、請求項9の発明によれば、請求項
2〜8のいずれかの発明の作用に加えて、光学素子の傾
動を確実に抑制しつつ、各部材の加工公差及び環境温度
の変化に基づいて生じる光学素子と支持装置との寸法ず
れを吸収することができる。
【0025】請求項10の発明では、請求項9に記載の
光学素子支持装置(91)において、前記傾動規制機能
は、光学素子(62)の光軸(AX2)に直交すると共
に、重力に直交する方向に自由度を有する弾性部材(9
5)の弾性力で達成されたことを要旨としている。
【0026】従って、請求項10の発明によれば、請求
項9の発明の作用に加えて、前記加工公差及び寸法ずれ
をさらに確実に吸収することができる。請求項11の発
明では、請求項2〜10のいずれか一項に記載の光学素
子支持装置(111)において、前記上方支持部(6
4,112a,112b)には、光学素子(62)を牽
引する牽引手段(116)が設けられたことを要旨とし
ている。
【0027】従って、請求項11の発明によれば、請求
項2〜10のいずれかの発明の作用に加えて、上方支持
部においても、光学素子の重量の一部または全部を支持
することができる。特に、下方支持部にも荷重支持手段
が設けられたような構成では、光学素子が下方で受承さ
れると共に上方から牽引されて、各支持部における分担
荷重がさらに低減され、光学素子のたわみ量が一層低減
される。
【0028】請求項12の発明では、請求項11に記載
の光学素子支持装置(111)において、前記上方支持
部(112a,112b)は、前記下方支持部の第1、
第2支持部(107a,107b)と、光学素子(6
2)の中心(LP)に対してほぼ対称となる位置に配置
された第3支持部(112a)及び第4支持部(112
b)を有することを要旨としている。
【0029】従って、請求項12の発明によれば、請求
項11の発明の作用に加えて、光学素子の重量をさらに
バランスよく支持することができる。請求項13の発明
では、光軸(AX2)が重力方向と交差する方向に延び
る光学素子(62)を、光学素子支持装置(61,9
1,106,111)を介して内周面に保持する鏡筒
(51)において、前記光学素子支持装置(61,9
1,106,111)は、前記請求項1〜12のいずれ
か一項に記載の光学素子支持装置より構成されたことを
要旨としている。
【0030】従って、請求項13の発明によれば、請求
項1〜12のいずれかの発明の作用を有する光学素子支
持装置により、鏡筒の本体内に光学性能の低下を招くこ
となく光学素子を保持することができる。
【0031】請求項14の発明では、鏡筒(51)内に
光軸(AX2)が重力方向と交差する方向に延びる光学
素子(62)を有する露光装置において、前記光学素子
(62)は、前記請求項1〜12のいずれか一項に記載
の光学素子支持装置を介して鏡筒内に支持されたことを
要旨としている。
【0032】従って、請求項14の発明によれば、請求
項1〜12のいずれかの発明の作用を有する光学素子支
持装置により、光学素子の光学性能の低下が抑制され
て、高精度の投影露光が可能となる。
【0033】
【発明の実施の形態】(第1実施形態)以下に、本発明
の第1実施形態について図1〜図6に基づいて説明す
る。
【0034】この第1実施形態は、いわゆるステップ・
アンド・スキャン方式の走査型露光装置において、本発
明の光学素子支持装置を縦置きレンズ支持装置に具体化
すると共に、本発明の鏡筒を投影光学系の一部に具体化
したものである。
【0035】まず、走査型露光装置(以下、単に「露光
装置」とする)について、図1及び図2に基づいて説明
する。図1に示すように、露光装置31は、レチクル、
フォトマスク等のマスクを照明するための露光光源32
と、露光光を調整する照明光学系33と、前記マスクを
載置するマスクステージ34と、露光光により照明され
たマスク上の回路パターンをウェハ、ガラスプレート等
の基板上に投影する投影光学系35と、前記基板を載置
する基板ステージ36とから構成されている。これらの
構成部分の内、露光光源32を除く部分は、温度、湿度
等が高精度に制御されたチャンバ37内に収納されてい
る。以下、この実施形態では、前記マスクとしてレチク
ルRを採用し、前記基板としてウェハWを採用し、レチ
クルR上の回路パターンをウェハW上に所定の縮小倍率
にて縮小投影して転写する例について説明する。
【0036】前記露光光源32としては、例えば波長1
93nmのレーザ光を発するArFエキシマレーザが使
用される。露光光源32からのレーザ光は、導光光学系
33aを介して、前記チャンバ37内の照明光学系33
に導かれる。
【0037】前記照明光学系33は、リレーレンズ、フ
ライアイレンズ、コンデンサーレンズ等の各種レンズ系
を備えている。また、同照明光学系33には、開口絞り
及び前記マスクステージ34上に載置されたレチクルR
のパターン面と共役な位置に配置されたブラインド等を
含んで構成されている。
【0038】前記マスクステージ34は、前記照明光学
系33の下方において、そのマスク載置面41が前記投
影光学系35の光軸と直交するように配置されている。
このマスクステージ34は、レチクルRを載置保持する
ためのマスクホルダ42を備えている。このマスクホル
ダ42は、図示しない駆動機構により、水平面内をY軸
方向(図1において紙面の左右方向)に移動可能となっ
ている。また、このマスクホルダ42は、X軸方向(図
1において紙面と直交する方向)の微動およびZ軸(前
記露光光ELの光軸と平行で重力方向に沿って延びる軸
線)周りの微小回転が可能なように構成されている。
【0039】投影光学系35は、例えば反射光学素子4
3及びレンズ群44をそれぞれ3つ備えた3回反射の反
射屈折光学系により構成されている。そして、これらの
レンズ群により、露光光がこの投影光学系35を通過す
る際に、その断面形状が所定の縮小倍率1/n(nは正
の整数)に縮小されるようになっている。なお、この投
影光学系35の構成については、後に詳述する。
【0040】前記基板ステージ36は、定盤45と、前
記X軸方向に移動可能に配置されたXステージ46と、
Y軸方向に移動可能に配置されたYステージ47とを備
えている。このYステージ47には、ウェハWを載置す
るとともに真空吸着して支持する基板ホルダ48が設け
られている。このYステージ47は、走査露光時に、前
記マスクステージ34のマスクホルダ42に対して、前
記投影光学系35の縮小倍率に応じて定まる速度比をも
って反対方向に移動されるようになっている。
【0041】次に、前記投影光学系35について詳細に
説明する。図2に示すように、投影光学系35は、πの
字状をなす鏡筒としてのレンズ鏡筒51と、全体として
縮小光学系を構成する第1〜第3レンズ群44a〜44
cと複数の反射光学素子(凹面鏡または平面鏡)43a
〜44cとを備えている。
【0042】前記レンズ鏡筒51の前記マスクステージ
34上のレチクルRと対向するレチクル対向面部52に
は、第1開口部53が形成されている。また、前記レン
ズ鏡筒51の前記基板ステージ36上のウェハWと対向
するウェハ対向面部54には、第2開口部55が形成さ
れている。
【0043】第1レンズ群44aは、レンズ鏡筒51の
第1脚部51a内に収容され、レチクルRの下方にZ軸
方向に沿って延びる共通の光軸AX1を有する複数の凹
レンズ、凸レンズ等によって構成されている。第2レン
ズ群44bは、レンズ鏡筒51の横行部51c内に収容
され、前記Z軸と直交する方向に沿って延びる共通の光
軸AX2を有する複数のレンズより構成されている。第
3レンズ群44cは、レンズ鏡筒51の第2脚部51b
内に収容され、ウエハWの上方にZ軸方向に沿って延び
る共通の光軸AX3を有する複数の凹レンズ、凸レンズ
によって構成されている。
【0044】前記第1レンズ群44aの下方において、
反射光学素子をなす凹面鏡43aは、その光軸が前記第
1レンズ群44aの光軸AX1と一致するように配置さ
れている。また、第1レンズ群44aの上方で、投影光
学系35の瞳面の位置には、同じく反射光学素子をなす
第1平面鏡43bが斜設されている。また、第3のレン
ズ群44cの上方には、同じく反射光学素子をなす比較
的大型の第2平面鏡43cが斜設されている。この第2
平面鏡43cは、露光光をほぼ100パーセント反射す
る一般的な反射ミラーとなっている。そして、それらの
第1平面鏡43bと第2平面鏡43cとの間には、前記
第2レンズ群44bが配置されている。
【0045】前記レチクル対向面部52の横行部51c
側部分には、第1レンズ群44aの光軸AX1の近傍ま
で延びる第1遮光板56が設けられている。この第1遮
光板56によって、第1レンズ群44aの図2における
右半分に対する上方からの光の入射が制限される。ま
た、レンズ鏡筒51の第1脚部51aと横行部51cと
の接合部の底側部分には、第2レンズ群44bの光軸A
X2の近傍まで延びる第2遮光板57が設けられてい
る。この第2遮光板57は、第1レンズ群44aと第2
レンズ群44bとの境界部分に対応するように配置され
ている。そして、この第2遮光板57によって、第1レ
ンズ44a側からの余計な反射光や乱反射光の第2レン
ズ群44bへの入射が抑制される。
【0046】なお、この投影光学系35は、瞳面に配置
された前記第1平面鏡43bと第2レンズ群44bとの
間の露光光ELの光軸AXL上に、露光光に関するウエ
ハW表面の共役点Kが存在するものとなっている。この
ように構成された反射屈折タイプ投影光学系35は、全
屈折タイプの投影光学系と比べて、高開口数(N.
A.)化、光学素子の数の減少、レーザ狭帯化の程度が
緩い等のメリットがある。
【0047】次に、光学素子支持装置を構成し、前記第
2レンズ群44bをレンズ鏡筒51の横行部51c内に
支持するための縦置きレンズ支持装置について、詳細に
説明する。
【0048】図3及び図4に示すように、縦置きレンズ
支持装置61は、レンズ62の重力方向下方側の外周部
に係合する下方支持部としての複数(ここでは、2つ)
の第1可動支持部63a及び第2可動支持部63bと、
レンズ62の重力方向上方側の外周部に係合する上方支
持部としての固定支持部64とよりなっている。これら
の各支持部63a、63b、64は、レンズ62の円周
方向に等角度間隔をおいて配置されている。すなわち、
各支持部63a、63b、64とレンズ63の中心LP
とを結ぶ線分L1〜L3を仮想したとき、隣接する線分
L1〜L3のなす複数の中心角θが、いずれも等しいも
のとなっている。また、前記第1可動支持部63aと第
2可動支持部63bとは、レンズ62の光軸AX2に直
交するとともに重力方向に沿って延びる軸線としてのZ
軸に対してθ/2間隔で配置されている。すなわち、前
記第1可動支持部63a及び第2可動支持部63bは、
それぞれ、前記Z軸に対して対称となるように配置され
た第1支持部及び第2支持部を構成している。
【0049】図3、図4、図5(c)、図5(d)及び
図6に示すように、前記両可動支持部63a、63b
は、前記レンズ62の外周部に係合する受け部材67
と、装置本体としてのレンズ鏡筒51に接合保持される
基台部68と、それらの間に介在された軸受構造とより
構成されている。これら各可動支持部63a、63b
は、主にレンズ62の重量に基づく荷重を支持する機能
を有する荷重支持手段を構成している。
【0050】前記受け部材67のレンズ62側の対向面
の中央には、レンズ62の円周方向に沿って延びる溝7
0が形成されており、その溝70内の両端にはその溝7
0と交差するように延びる円弧状突部71が形成されて
いる。前記溝70にはレンズ62の外周部に形成された
つば部62aが係合し、前記円弧状突部71がレンズ6
2のつば部62aの外周面に当接するようになってい
る。つまり、2つの円弧状突部71の稜線は、所定の間
隔をおいて存在する複数の支持点SPをなしている。
【0051】また、前記溝70の内側面とレンズ62の
つば部62aの側面との間には、ゴム等の弾性体により
なるパッキン72が介装されている。また、受け部材6
7の前記レンズ62側の対向面と反対側の面の中央に
は、前記軸受構造の一部を構成する円錐状凹部73が形
成されている。
【0052】一方、前記基台部68のレンズ62側の面
の中央には、前記受け部材67の円錐状凹部73に対向
するように、軸受構造の一部を構成する円錐状凹部74
が形成されている。そして、前記両円錐状凹部73、7
4の間に、軸受構造の一部を構成するボール75が介装
されている。また、この基台部68は、前記レンズ62
側の面と反対側の面において、レンズ鏡筒51の内周面
に形成された支持座76に対してボルト77により接合
固定される。
【0053】ここで、前記ボール75は、前記受け部材
67の両円弧状突部71のほぼ中間に対応する位置に配
置されている。そして、このことと、前述のように両可
動支持部63a、63bが前記Z軸に対して対称に配置
されていることとから、各可動支持部63a、63bの
各支持点SPも前記Z軸に対して対称に配置されている
ことになる。
【0054】図3、図4、図5(a)及び図5(b)に
示すように、前記固定支持部64は、前記レンズ62の
外周部に係合する係合部80と、弾性部材としての板状
弾性体84とを備えている。そして、この実施形態で
は、これら係合部80と板状弾性体84とにより、傾動
規制の機能を有する傾動規制手段が構成されている。
【0055】前記係合部80のレンズ62側の対向面に
は、前記第1支持部63の受け部材67の対向面と同様
の溝81及び円弧状突部82が形成されている。また、
この溝81には、レンズ62の外周部に形成されたつば
部62aが係合するようになっている。そして、レンズ
62のつば部62aの一方の側面と、溝81の内壁面と
の間には、ゴム、バネ等の弾性体よりなるパッキン83
が介装されている。また、つば部62aの他方の側面と
溝81の内壁面とは直接接触する。従って、他方の側面
が基準面となって構成されている。
【0056】前記板状弾性体84は平板状をなし、その
長手方向がレンズ62の光軸AX2と同方向に、前記係
合部80とレンズ鏡筒51の内周面に形成された支持座
85との間に介装されている。この板状弾性体84は、
その中央において前記係合部80の前記一側面と反対の
側面にボルト86により固定されていると共に、その両
端において前記支持座85の座面に一対のボルト87に
より固定されている。また、支持座85の座面には、両
ボルト87の螺合位置の間において、前記板状弾性体8
4の弾性変形を許容する逃がし部88が凹設されてい
る。このように、板状弾性体84は、前記Z軸方向のみ
に自由度を有するもの、つまり弾性変形可能なものとな
っているとともに、光軸AX2方向への移動が規制され
ている。これにより、レンズ62の前記両可動支持部6
3a、63bを傾動支点とする傾動が規制されるように
なっている。
【0057】また、前述したように、この縦置きレンズ
支持装置61では、前記3ヶ所の第1可動支持部63
a、第2可動支持部63b、固定支持部64が、等角度
間隔をおいて配置されている。その両可動支持部63
a、63bにおいてレンズ62の重量が上向きに支持さ
れ、その固定支持部64においてレンズ62の傾動が規
制されている。そして、これらの支持部63a、63
b、64は、レンズ鏡筒51の支持座76、85に接合
固定されている。このため、レンズ62の前記Z軸を中
心とする回転も規制されることになる。つまり、前記各
支持部63a、63b、64は、レンズ62の回転規制
機能を有する回転規制手段をも構成している。
【0058】次に、上記のように構成された露光装置3
1の動作について説明する。図1に示すように、ウエハ
WとレチクルRのアライメントが行われた状態で、露光
光源32から露光光ELが照射されると、この露光光E
Lは照明光学系33を通過する際に、照明光学系33内
のブラインドによって、例えばスリット状に断面形状が
制限される。そして、このスリット状とされた露光光E
Lは、フライアイレンズ、コンデンサーレンズ等を介し
て回路パターンが描画されたレチクルR上のスリット状
の照明領域を均一な照度で照明する。
【0059】次に、図2に示すように、このレチクルR
を透過した露光光ELは、投影光学系35に入射され、
第1レンズ群44aの主として左半部を透過して凹面鏡
43aに至る。ここで、露光光ELは、その凹面鏡43
aの光軸AX1に関して入射方向と対称な方向に反射さ
れ、第1レンズ群44aの右半部を透過して第1平面鏡
43bに至る。
【0060】次に、この露光光ELは、第1平面鏡43
bで反射されて、第2レンズ群44bの光軸AX2に平
行な方向に向けて方向変換され、第2レンズ群44bの
主として上半部を透過して第2平面鏡43cに至る。す
ると、この露光光ELは、第2平面鏡43cで反射され
て、第3レンズ群44cの光軸AX3に平行な方向に方
向変換される。
【0061】そして、この露光光ELは、第3レンズ群
44cの主として左半部を透過し、第2開口部55を介
して、基板ステージ36上のウエハWに至る。このよう
に、レチクルR上の回路パターンの投影空間像は第1〜
第3レンズ群44a〜44cを透過する際に1/n倍に
縮小され、前記ウエハW上には縮小されたレチクルR上
の回路パターンが投影露光される。
【0062】この露光の際には、レチクルRを載置支持
するマスクホルダ42と、ウエハWを載置支持する基板
ホルダ48とが前記Y軸方向に沿って互いに逆向きに所
定の速度比で同期走査される。これにより、レチクルR
のパターン全体が、ウエハW上の1ショット領域に転写
される。このような走査露光は、基板ステージ36のX
ステージ46及びYステージ47の移動により、ウエハ
Wを順次ステップ移動しながら行われる。そして、レチ
クルRのパターンが、ウエハW上の全ショット領域に転
写される。
【0063】以上のように構成されたこの第1実施形態
によれば、以下の作用効果を奏する。 (イ) この縦置きレンズ支持装置61では、前記3ヶ
所の第1可動支持部63a、第2可動支持部63b、固
定支持部64が、等角度間隔をおいて配置されている。
そして、その両可動支持部63a、63bにおいてレン
ズ62の重量が上向きに支持され、その固定支持部64
においてレンズ62の両可動支持部63a、63bを傾
動支点とする傾動が規制されている。さらに、これらの
支持部63a、63b、64の協働により、レンズ62
の重力方向に沿うZ軸回りの回転も規制されている。つ
まり、レンズ62は、3ヶ所の支持部のみで確実に保持
されている。このため、従来構成のように、レンズ62
とそれを支持する支持装置との間に、レンズ62のほぼ
全円周にわたる面接触を生じることがない。
【0064】このため、レンズ62自身及び支持装置の
支持部における平面うねり等の加工公差が、レンズ62
の支持状態において、レンズ62に集中するおそれを低
減できる。従って、レンズ62に予測不能なたわみが発
生するおそれを抑制できると共に、レンズ62の面精度
を良好に確保することができ、レンズ62の光学性能の
低下を抑制することができる。
【0065】(ロ) この縦置きレンズ支持装置61に
おいては、レンズ62が下方の2つの可動支持部63
a、63bにおいてその重量が支持され、上方の1つの
固定支持部64においてその傾動が規制されている。こ
の場合、下方の両可動支持部63a、63bの近傍にお
いて、レンズ62の自重に基づく上下方向に非対称なた
わみを生じることがある。
【0066】しかしながら、前述のような反射屈折型の
投影光学系35では、縦置き状態となる第2レンズ群4
4bにおいて、露光光ELは前記両可動支持部63a、
63bの近傍を含む下端部を通過することなく、例えば
図3及び図4に二点鎖線で示す範囲内のように主として
上半部を透過する。このため、前記のようなたわみがレ
ンズ62の下方部分に生じてもその影響は小さい。従っ
て、この縦置きレンズ支持装置61は、反射屈折型の投
影光学系35のレンズ支持装置として特に好適である。
【0067】(ハ) この縦置きレンズ支持装置61に
おいては、レンズ62の重量を支持する両可動支持部6
3a、63bが、レンズ62の中心LPを通り重力方向
に沿うZ軸に対して対称になるように配置されている。
また、その両可動支持部63a、63bの各支持点SP
も、前記Z軸に対して対称になるように配置されてい
る。従って、レンズ62の重量がバランスよく支持され
て、レンズ62の水平方向に非対称なたわみの発生量を
低減することができる。
【0068】(ニ) この縦置きレンズ支持装置61で
は、各可動支持部63a、63bに2つの支持点SP
(本実施形態では円弧状突部71)を有する受け部材6
7が用いられている。このため、レンズ62の重量は、
各可動支持部63a、63b内においても2つの支持点
SPに分散されている。従って、各可動支持部63a、
63b内において、レンズ62の荷重が一点に集中する
ことが抑制され、各支持点SPの近傍におけるレンズ6
2のたわみ量を低減することができる。
【0069】(ホ) この縦置きレンズ支持装置61の
各可動支持部63a、63bには、軸受構造(本実施例
では、一対の円錐状凹部73、74とボール75とより
なる)が介在されている。このため、ボール75の中心
BPを揺動中心とした受け部材67の揺動が許容され
る。つまり、レンズ62の装着状態において、レンズ6
2と基台部68との間に相対配置の自由度が生じている
ことになる。これにより、受け部材67とレンズ62と
の相対的位置が、レンズ62のつば部62aの外周面に
沿うように自動的に微調整される。従って、この微調整
により、レンズ62自身及び両可動支持部63a、63
bの各部材の加工公差を吸収することができる。
【0070】また、レンズ62を各可動支持部63a、
63bに装着した際に、レンズ62が自重によりたわん
で、そのつば部62aの外周面がわずかに変形したとし
ても、その変形に応じて、前記受け部材67が揺動され
る。従って、レンズ62に前記変形が生じたとしても、
レンズ62の外周面と受け部材67の支持点SPとの係
合を確保することができる。
【0071】(ヘ) この縦置きレンズ支持装置61に
おいては、固定支持部64が板状弾性体84を介してレ
ンズ鏡筒51に接合固定されている。ここで、板状弾性
体84はレンズ62の光軸AX2の方向(即ち、重力方
向と直交する方向)には弾性変形が困難なものとなって
いるため、前記両可動支持部63a、63bを傾動支点
とするレンズ62の傾動を確実に抑制することができ
る。
【0072】ところで、レンズ62の重量はその下方に
おいて両可動支持部63a、63bにより支持されてい
るため、レンズ62をはじめとする各部材の重力に沿う
方向における加工公差はレンズ62の上方側に集中する
ことになる。この加工公差の集中に基づいて、レンズ6
2と固定支持部64との間に位置ずれを生じることがあ
る。また、レンズ62と固定支持部64の各部材とは線
膨張係数がそれぞれ異なるため、環境温度の変化に伴っ
て、同様の位置ずれを生じることもある。
【0073】ここで、前記板状弾性体84は、重力方向
である上下方向には弾性変形可能なものとなっているた
め、レンズ62の半径方向における、前記位置ずれを容
易に吸収することができる。従って、レンズ62の重力
方向におけるたわみの発生量を低減することができる。
【0074】(ト) このレンズ鏡筒51においては、
レンズ62が前記構成の縦置きレンズ支持装置61を介
して保持されている。従って、レンズ62におけるたわ
みの発生量が低減されて、レンズ鏡筒51内に光学性能
の低下を生じることなくレンズ62を保持することがで
きる。 (チ) この露光装置31において、その第2レンズ群
44bを構成する複数のレンズ62は、前記構成の縦置
きレンズ支持装置61を介してレンズ鏡筒51の横行部
51c内に保持されている。このため、各レンズ62に
おける光学性能の低下が抑制されて、高精度の投影露光
が可能となる。
【0075】(第2実施形態)次に、この発明の第2実
施形態について、前記第1実施形態と異なる部分を中心
に、図7〜図10に基づいて説明する。この第2実施形
態の縦置きレンズ支持装置91においては、可動支持部
92a、92b及び第2支持部93の構成が前記第1実
施形態と異なっている。
【0076】図7〜図10に示すように、この第2実施
形態の第1可動支持部92a及び第2可動支持部92b
は、前記第1実施形態の受け部材67に相当する部材が
省略されている。そして、レンズ62のつば部62aの
外周面上には、両可動支持部92の基台部68の円錐状
凹部74と対応するように、円錐状凹部94が形成され
ている。それらの円錐状凹部74、94の間にはボール
75が介装され、そのボール75により各可動支持部9
2の支持点SPが構成されている。つまり、本実施形態
の縦置きレンズ支持装置91は、各可動支持部92毎に
1つの支持点SPを有している。
【0077】また、固定支持部93の係合部80は、断
面L字状の板状弾性体95を介して、レンズ62の光軸
AX2に沿って延びるようにレンズ鏡筒51の支持座8
5に形成された取付溝96の内側面に取着されている。
この板状弾性体95の折り曲げ部の中央には、スリット
97が形成されている。このスリット97の存在によ
り、板状弾性体95の重力方向である上下方向(Z軸方
向)及びレンズ62の光軸AX2と交差する水平軸に沿
う方向(X軸方向)への自由度、つまり弾性変形機能が
確保されている。そして、板状弾性体95は、水平面部
98の中央においてボルト86により前記係合部80に
接合固定されている。また、板状弾性体95は、垂直面
部99の中央においてボルト100により前記取付溝9
6の内側面に形成された支持突部101に接合固定され
ている。この支持突部101の両側は、板状弾性体95
の前記X軸方向への弾性変形を許容する逃がし部102
となっている。
【0078】以上のように構成されたこの第2実施形態
によれば、前記第1実施形態の(イ)〜(ハ)及び
(へ)とほぼ同様の効果に加えて、さらに以下の作用効
果を奏する。
【0079】(リ) この縦置きレンズ支持装置91で
は、前記両可動支持部92a、93bにおいて、ボール
75が直接レンズ62の外周面上に形成された円錐状凹
部94に係合している。このため、部品点数を少なくで
きて、構成の簡素化を図ることができる。
【0080】(ヌ) この縦置きレンズ支持装置91の
固定支持部93に介装された板状弾性体95は、前記Z
軸方向及びX軸方向への弾性変形が可能なものとなって
いる。このため、レンズ62の半径方向のみならず、レ
ンズ62のX軸方向における、レンズ62と固定支持部
93との位置ずれを容易に吸収することができる。従っ
て、レンズ62のたわみの発生量をさらに低減すること
ができる。
【0081】(第3実施形態)次に、この発明の第3実
施形態について、前記第1実施形態と異なる部分を中心
に図11〜図15に基づいて説明する。この第3実施形
態の縦置きレンズ支持装置106においては、両可動支
持部107a、107bの構成が前記第1実施形態と異
なっている。
【0082】図11及び図12に示すように、この第3
実施形態の第1可動支持部107a及び第2可動支持部
107bは、そのレンズ62の外周部に係合する受け部
材108がレンズ62の円周方向に沿って延長されたも
のとなっている。また、一方の第1可動支持部107a
の基台部68のレンズ62側の対向面には、前記第1実
施形態の円錐状凹部74に代えてレンズ62の円周方向
に沿って延びるV溝109が形成されている。そして、
第1可動支持部107aにおいては、受け部材108の
背面上の円錐状凹部73と基台部68上のV溝109と
の間にボール75が介装されている。このV溝109に
より、第1可動支持部107aがレンズ62の円周方向
への移動調節が可能となり、このV溝109は軸受構造
の一部を構成するとともに調節手段を構成している。
【0083】また、前記両可動支持部107a,107
bは、荷重支持機能を有しており、その各支持点SP
a、SPbは、レンズ62の荷重に対するそのレンズ6
2の中心LP方向への反力の作用点をなしている。ここ
で、その各支持点SPにおける支持力、つまり前記レン
ズ62の中心LPに向かう反力が、レンズ62を上下に
2分する水平面上では0であり、支持点SPが下方に移
動するに従って徐々に増していき、レンズ62の最下部
で最大になるように、前記各支持点SPa、SPbが配
置されている。すなわち、前記水平面内においてレンズ
62の光軸AX2と直交する軸線、つまりX軸と、レン
ズ62の中心LPと各支持点SPa、SPbとを結ぶ各
線分とのなす角度をθa、θbとしたときに、その各支
持点SPにおける前記反力の比がsinθa、sinθ
bをなすように、各支持点SPa、SPbが配置されて
いる。なお、図11に示すように、各可動支持部107
a、107bにおいて、支持点SPaはZ軸側の支持点
であり、支持点SPbはX軸側の支持点である。
【0084】次に、各支持点SPa、SPbが等角度
(θs)間隔でかつこのように配置された場合におい
て、各支持点SPa、SPbにおける支持荷重の分布に
ついて説明する。
【0085】前記θa及びθbは、θsによりそれぞれ
次式のように表される。
【0086】
【数1】
【0087】
【数2】 ここで、各支持点SPa、SPbにおける各反力Fa、
Fbの比がsinΘをなすようになっているため、
【0088】
【数3】 となる。
【0089】次に、各可動支持部107a,107bの
レンズ鏡筒51に対する基台部68の接合位置について
考える。ここでは、受け部材108における両支持点S
Pa,SPbの振り分け比、つまりボール75の中心B
Pとレンズ62の中心LPとを結んだ線分と、各支持点
SPa,SPbとレンズ62の中心LPとを結んだ線分
とのなす角度α、βの比について考えればよいことにな
る。各可動支持部107a,107b内における各支持
点SPa,SPbにおいても同様の反力Fa、Fbの比
となっているので、前記角度α、βの比は、
【0090】
【数4】 となる。
【0091】また、レンズ62全体の重量Mを、それぞ
れ2ヶ所づつの支持点SPa及び支持点SPbで支持す
ることから、次式が成り立つ。
【0092】
【数5】 よって、式(3)及び式(5)から、Fa及びFbにつ
いて解くと、
【0093】
【数6】
【0094】
【数7】 となる。次に、この第3実施形態の縦置きレンズ支持装
置106における最適な各支持点の位置を求めるため
に、平行平板状のレンズを用いてたわみ量の測定を行っ
た結果について説明する。
【0095】図13にはレンズの重力方向のたわみ量
(同図において上側の線Sz1)、図14にはレンズの
光軸方向のたわみ量(同図において上側の線Sy1)が
示されている。ここで、レンズの光軸方向へのたわみ量
は、その重力方向へのたわみ量に比べてほぼ1/20程
度と小さく、ほとんど無視しうるものであった。
【0096】ここで、中心角θsが5°に満たない範囲
では、両可動支持部107a,107bが非常に近接し
たものとなって、両可動支持部107a,107bの支
持に基づくレンズの重力方向に沿うZ軸回りの回転の規
制効果が低下する。また、この中心角θsの範囲では、
両可動支持部107a、107bが干渉して、所望の中
心角θsを確保できなくなるおそれもあった。
【0097】一方、前記中心角θsが60°を超える範
囲では、各可動支持部107a、107bの2つの支持
点SPa,SPbがX軸を挟んで存在することになる。
このため、一方の支持点SPbによるレンズの荷重の支
持効果が期待できなくなる。
【0098】これに対して、図に示す中心角θsが5°
〜60°の範囲では、そのほぼ全域にわたって、レンズ
のたわみ量は十分に満足しうる範囲であった。また、前
記中心角θsが15°〜35°の範囲では、レンズのた
わみ量の変化が非常に小さいものとなった。さらに、中
心角θsが20°〜30°の範囲では、図13及び図1
4から明らかなように、レンズのたわみ量の変化はほと
んど見られなかった。
【0099】この結果に基づいて、この縦置きレンズ支
持装置106における各支持点SPa、SPbの最適配
置の一例を示すとすれば、図15のように、各支持点S
Pa、SPbが中心角θs=25°程度で等間隔に配置
されたものとなる。この場合、各可動支持部107a,
107bにおける前記各支持点SPa,SPbの振り分
けは、前記式(1)〜(7)により、ボール75に対し
てX軸側の支持点SPbが中心角で13.8°の位置、
Z軸側の支持点SPaが中心角で11.2°の位置と求
まる。
【0100】以上のように構成されたこの第3実施形態
によれば、前記第1実施形態の(イ)〜(ヘ)とほぼ同
様の効果に加えて、さらに以下の効果を奏する。 (ル) この縦置きレンズ支持装置106では、第1可
動支持部107aがレンズ62の円周方向に沿って移動
調節可能なものとなっている。このため、加工公差及び
環境温度の変化に基づいて、レンズ62と両可動支持部
107a、107bとの位置ずれが生じても、第1可動
支持部107aが前記円周方向に移動することで容易に
吸収される。また、レンズ62は、露光光が通過した際
の蓄積熱により熱膨張を生じる場合がある。このとき、
レンズ62の円周方向の膨張は受け部材108の円周方
向の移動で吸収され、レンズ62の光軸方向の膨張はパ
ッキン83の変形で吸収される。従って、前記位置ずれ
に基づくたわみの発生が抑制されて、レンズ62の光学
性能の低下を抑制することができる。
【0101】しかも、この第1可動支持部107aのレ
ンズ62の円周方向への調節手段は、ボール75とV溝
109とを含んでいる。このため、レンズ62にその円
周方向への力が生じたりすると、ボール75がV溝10
9に沿って転動される。従って、第1可動支持部107
aのレンズ62の円周方向における移動調節を容易かつ
確実に行うことができる。
【0102】(ヲ) この縦置きレンズ支持装置106
では、両可動支持部107a、107bの各支持点SP
a,SPbにおけるレンズ62の荷重に対応する反力F
a,Fbの比がsinΘとなるように、各支持点SP
a、SPbが配置されている。このため、各支持点SP
a,SPbにおける支持荷重の分布をほぼ最適な状態と
することができる。従って、レンズ62をさらに安定し
た状態で支持することができると共に、レンズ62のた
わみの発生量において一層の低減を図ることができる。
【0103】(第4実施形態)次に、この発明の第4実
施形態について、前記第各実施形態と異なる部分を中心
に図16〜図18に基づいて説明する。この第4実施形
態の縦置きレンズ支持装置111においては、前記第3
実施形態において、上方支持部として、前記固定支持部
64に加えて牽引手段が設けられた第3支持部として第
1牽引支持部112a及び第4支持部としての第2牽引
支持部112bを設けたものとなっている。
【0104】図16〜図18に示すように、この第1牽
引支持部112a及び第2牽引支持部112bは、レン
ズ62を重力方向の上下に2分する水平面より上方にお
いて、その最上方に配置された固定支持部64を挟んで
対をなすように設けられている。つまり、第1牽引支持
部112a及び第2牽引支持部112bは、前記Z軸に
対して対称をなすように配置され、それぞれ、第1支持
部及び第2支持部をも構成している。また、第1牽引支
持部112aは第1可動支持部107aと、第2牽引支
持部112bは第2可動支持部107bと、それぞれレ
ンズ62の中心LPに対して対称となるように配置され
ている。
【0105】各牽引支持部112a、112bは、レン
ズ62の外周面に接着層113を介して接合する接合部
114と、レンズ鏡筒51に形成された取付孔115内
に収容された牽引手段としての牽引バネ116と、それ
ら接合部114と牽引バネ116とを連結する連結部材
117とより構成されている。
【0106】前記接合部114は、その長手方向がレン
ズ62の円周方向に沿って延びており、その長手方向の
レンズ62側の側面には一対の支持点SPa、SPbを
なす接合爪120が立設されている。この接合爪120
において、接合部114とレンズ62とが接着層113
を介して接合固定されている。前記牽引バネ116は、
その一端が前記取付孔115の底部115aに当接して
いる。
【0107】前記連結部材117は、断面πの字状の橋
架片121とその橋架面121aから垂直に立設された
連結ロッド122とからなっている。前記橋架片121
は、その脚部121bが前記接合部114の図16にお
いて上面を跨ぐように配置され、その脚部121bにお
いてピン123により前記接合部114に固定されてい
る。前記連結ロッド122は、前記牽引バネ116の内
部、及び、前記取付孔115の底部115aに穿設され
た連通孔115bに挿通されている。その連結ロッド1
22の先端にはヘッド部122aが設けられており、こ
のヘッド部122aが所定の付勢力を持つように押し縮
められた前記牽引バネ116の他端に係合されている。
この係合により、牽引バネ116の付勢力が連結ロッド
122、橋架片121、ピン123、接合部114及び
接着層113を介してレンズ62に作用する。そして、
レンズ62が上方に牽引された状態となって、両牽引支
持部112a、112bによりレンズ62の重量の一部
が分担支持されるようになっている。このように両牽引
支持部112a、112bも荷重支持手段を構成してい
る。
【0108】次に、この第4実施形態の縦置きレンズ支
持装置111において、前記第3実施形態の縦置きレン
ズ支持装置106と同様に、平行平板状のレンズを用い
てたわみ量の測定を行った結果について説明する。
【0109】図13にはレンズの重力方向のたわみ量
(同図において下側の線Sz2)、図14にはレンズの
光軸方向のたわみ量(同図において下側の線Sy2)が
示されている。この第4実施形態の縦置きレンズ支持装
置111では、前記第3実施形態の同装置106と比べ
ると、図13及び図14から明らかなように、全体的に
たわみ量が重力方向で1/3程度、光軸方向で1/2程
度の値となった。
【0110】ここで、たわみ量の比較的大きな重力方向
のたわみについて注目すると、前記中心角θsが10°
〜40°の範囲でそのたわみ量の変化が小さいものであ
った。さらに、中心角θsが15°〜25°の範囲で
は、そのたわみ量の変化はほとんど見られなかった。
【0111】この結果に基づいて、この縦置きレンズ支
持装置111における各支持点SPa,SPbの最適配
置の一例を示すとすれば、図16のように、各支持点S
Pa,SPbが中心角θs=25°程度で等間隔に配置
されたものとなる。この場合、各可動支持部107a,
107b及び牽引支持部112a、112bにおける前
記各支持点SPa,SPbの振り分けは、前記式(1)
〜(7)により、ボール75の中心BPあるいは連結ロ
ッド122に対してX軸側の支持点SPaが中心角で1
3.8°の位置、Z軸側の支持点SPbが中心角で1
1.2°の位置と求まる。
【0112】以上のように構成されたこの第4実施形態
によれば、前記各実施形態の(イ)〜(ヘ)、(ル)及
び(ヲ)とほぼ同様の効果に加えて、さらに以下の効果
を奏する。
【0113】(ワ) この縦置きレンズ支持装置111
においては、両牽引支持部112a、112bにレンズ
62の重量の一部を牽引支持する牽引バネ116が設け
られている。このため、レンズ62の重量が下方の両可
動支持部107a、107bで受承されるだけでなく、
上方の両牽引支持部112a、112bによっても牽引
支持される。このため、各支持点SPa、SPbにおけ
る分担荷重がさらに低減されて、レンズ62のたわみ量
を一層低減することができる。
【0114】(カ) この縦置きレンズ支持装置111
においては、レンズ62の重量の一部を分担支持する各
牽引支持部112a、112bが、同じくレンズ62の
重量の一部を分担支持する各可動支持部107a、10
7bと、レンズ62の中心LPに対して対称となるよう
に配置されている。このため、レンズ62の重量をさら
にバランスよく支持することができる。
【0115】なお、本発明に係る前記各実施形態は、以
下のように変更して具体化することもできる。 ・ 前記各実施形態において、可動支持部63、92、
107を3つ以上設けてもよい。また、前記第4実施形
態において、牽引支持部112を3つ以上設けてもよ
い。これらのように構成した場合、レンズ62の重量が
各支持部63、92、107、112においてさらに分
散されて、各支持部63、92、107、112におけ
る分担荷重がさらに低減される。そして、レンズ62の
たわみ量がさらに低減される。
【0116】・ 前記各実施形態の受け部材67、10
8に、3つ以上の円弧状突部71を設けて、レンズ62
の外周部を係合させてもよい。また、前記第4実施形態
において、各牽引支持部112a、112bの接合部1
14の接合爪120の数を3つ以上としてもよい。これ
らのように構成した場合、レンズ62の重量が各受け部
材67、108の円弧状突部71あるいは接合部114
の接合爪120にさらに分散された状態で作用するた
め、各支持点SPにおける分担荷重がさらに低減され
る。そして、各支持点の近傍におけるレンズ62のたわ
み量がさらに低減される。
【0117】・ 前記第4実施形態において、各牽引支
持部112a、112bの接合部114の接合爪120
の数を1つとしてもよい。このように構成した場合、各
牽引支持部112a、112bの構成の簡素化を図るこ
とができる。
【0118】・ 前記第1実施形態において、各可動支
持部63a、63bの受け部材67を、ボール75を中
心としてレンズ62の円周方向に沿って両側に延長して
もよい。
【0119】・ 前記第1実施形態において、可動支持
部63をレンズ62の最下位に対応する部分に1ヶ所の
みに設けると共に、レンズ62のX軸に対応する位置ま
たはそのX軸に対して反対側となる位置に複数の固定支
持部64とほぼ同様の構成の傾動規制手段を設けてもよ
い。
【0120】・ 前記第4実施形態において、レンズ6
2の下方に位置する各可動支持部107a、107bを
省略して両牽引支持部112a、112bのみによりレ
ンズ62の重量を支持すると共に、例えば固定支持部6
4をレンズ62の下方に設けてレンズ62の傾動を規制
し、これら固定支持部64と両牽引支持部112a、1
12bとの協働によりレンズ62のZ軸回りの回転を規
制するようにしてもよい。
【0121】・ 前記各実施形態の固定支持部64、9
3において、板状弾性体84、95を介することなく係
合部80をレンズ鏡筒51の支持座85に直接固定して
もよい。このように構成すれば、傾動規制手段が係合部
80だけとなるので、固定支持部64、93の構成の簡
素化を図ることができる。
【0122】・ 前記第4実施形態において、固定支持
部64を省略し、両可動支持部107a,107b及び
両牽引支持部112a、112bを、そのレンズ62の
中心LPとボール75の中心BPとを結ぶ線分及び連結
ロッド122の軸線(延長線がレンズ62の中心を通る
ものとする)の全ての隣接する線分及び軸線が、等角度
間隔、つまり90°間隔をなすように配置してもよい。
このように構成した場合、レンズ62の重量に基づく荷
重がX軸及びZ軸に対してバランスよく支持されて、レ
ンズ62のX軸とZ軸とにより区画される各領域におい
て非対称なたわみの発生を抑制することができる。
【0123】ところで、この明細書において、光学素子
は、レンズに限定されるものではなく、また図に示すよ
うな凸レンズに限定されるものでもない。すなわち、こ
の光学素子は、凹レンズ、平面レンズ、凸面鏡、凹面
鏡、平面鏡、フィルタ等をも含むものである。また、こ
の光学素子は、その光軸が重力方向と直交する方向のも
のだけではなく、交差する方向のものにも適用できる。
【0124】また、この明細書において、露光装置は、
半導体素子製造用の露光装置に限定されるものではな
く、また、ステップ・アンド・スキャン方式の走査型露
光装置あるいは縮小投影型の露光装置に限定されるもの
でもない。すなわち、この露光装置は、ステップ・アン
ド・リピート方式の露光装置、等倍投影型の露光装置、
液晶表示素子、撮像素子、薄膜磁気ヘッド等の製造用の
露光装置をも含むものである。
【0125】さらに、この明細書において、露光光源
は、ArFエキシマレーザに限定されるものではなく、
例えば電子線源、X線源、KrFエキシマレーザ光源、
2エキシマレーザ光源、YAGレーザ及び金属蒸気レ
ーザ等の高調波、i線等の紫外線ランプ、h線、g線等
の可視光ランプ等をも含むものである。
【0126】本実施形態の光学素子支持装置は、前述し
た機能を達成するために、装置を構成する各要素が機械
的に結合されて組み上げられる。同様に、上記光学素子
支持装置を備える露光装置は、前述した機能を達成する
ために、装置を構成する各要素が機械的、電気的、光学
的に結合されて組み上げられる。
【0127】また、前記各実施形態からは、以下に記載
の技術的思想をも抽出することができる。 (1) 前記中心角は15°〜35°の範囲内である請
求項6に記載の光学素子支持装置。
【0128】このように構成すれば、光学素子の重力方
向のたわみ量の変化を同範囲において非常に小さくする
ことができる。 (2) 前記中心角は20°〜30°の範囲内である前
記(1)に記載の光学素子支持装置。
【0129】このように構成すれば、同範囲における光
学素子の重力方向のたわみ量の変化が、ほとんど存在し
ない状態とすることができる。 (3) 前記軸受構造は、互いに対向するように設けら
れた一対の円錐状凹部と、それらの円錐状凹部の間に介
在された球状の軸受部材とによりなる請求項7、8、前
記(1)及び(2)のいずれかに記載の光学素子支持装
置。
【0130】このように構成すれば、光学素子が球状の
軸受部材に沿って揺動可能となり、光学素子自身及び支
持部等の各部材の加工公差を吸収できて、それに基づく
光学素子におけるたわみの発生量を低減できる。
【0131】(4) 前記調節手段は、前記軸受構造の
一方の対向面に円錐状凹部を設け、他方の対向面に光学
素子の外周方向に沿って延びるV溝を設け、その円錐状
凹部とV溝との間に球状の軸受部材を介在させた請求項
8または前記(3)に記載の光学素子支持装置。
【0132】このように構成すれば、球状の軸受部材が
V溝に沿って転動し、前記支持部の光学素子の円周方向
における移動調節を容易かつ確実に行うことができる。 (5) 前記軸受構造は、光学素子の外周部上に形成さ
れた一方の凹部と、前記光学素子を装置本体に対して保
持する基台部上に形成された他方の凹部と、それら両凹
部の間に介在された軸受部材とから構成された請求項7
に記載の光学素子支持装置。
【0133】このように構成すれば、部品点数の削減を
図ることができて、荷重支持手段を構成する支持部の簡
素化を図ることができる。
【0134】
【発明の効果】請求項1の発明によれば、光学素子への
加工公差の集中が抑制されるので、光学素子におけるた
わみの発生量を低減でき、光学素子の高い光学性能を容
易に確保できる。
【0135】請求項2の発明によれば、請求項1の発明
の効果に加えて、光学素子におけるその荷重支持手段を
傾動支点とした傾動を確実に抑制することができる。ま
た、光学素子の荷重支持手段側が主にたわむため、露光
光を主としてたわみの少ない側の透過させることによ
り、光学素子のたわみの影響を小さくすることができ
る。
【0136】請求項3の発明によれば、請求項2の発明
の効果に加えて、光学素子が重力方向に沿う軸線に対し
てバランスよく支持されるので、光学素子の前記軸線の
両側における非対称なたわみの発生をより抑制できる。
【0137】請求項4の発明によれば、請求項2または
3の発明の効果に加えて、光学素子が一層バランスよく
支持されて、光学素子における非対称なたわみの発生を
一層抑制できる。
【0138】請求項5の発明によれば、請求項3または
4の発明の効果に加えて、各支持部における支持荷重の
配置をほぼ最適な状態とすることができ、光学素子のた
わみの発生をさらに抑制することができる。
【0139】請求項6の発明によれば、請求項5または
6の発明の効果に加えて、光学素子の回転規制を確保で
きる共に、受け部材の各支持点における荷重の分担効果
が効率よく発揮される。
【0140】請求項7の発明によれば、請求項3〜6の
いずれかの発明の効果に加えて、光学素子と各支持部と
の間に相対配置の自由度が生まれ、光学素子自身及び支
持部等の各部材の加工公差を吸収することができる。
【0141】請求項8の発明によれば、請求項3〜7の
いずれかの発明の効果に加えて、光学素子の円周方向に
おける光学素子自身及び支持部の各部材の加工公差及び
熱膨張を吸収することができる。
【0142】請求項9及び10の発明によれば、請求項
2〜8のいずれかの発明の効果に加えて、光学素子の傾
動を確実に抑制しつつ、各部材の加工公差及び環境温度
の変化に基づく光学素子と支持装置との寸法ずれを吸収
することができる。
【0143】請求項11の発明によれば、請求項2〜1
0のいずれかの発明の効果に加えて、上方支持部におい
ても、光学素子の重量の一部または全部を支持すること
ができる。特に、下方支持部にも荷重支持手段が設けら
れたような構成では、各支持点における分担荷重がさら
に低減され、光学素子のたわみ量を一層低減することが
できる。
【0144】請求項12の発明によれば、請求項11の
発明の効果に加えて、光学素子の重量をさらにバランス
よく支持することができる。請求項13の発明によれ
ば、鏡筒の本体内に光学性能の低下を招くことなく光学
素子を保持することができる。
【0145】請求項14の発明によれば、光学素子の光
学性能の低下が抑制されて、高精度の投影露光を行うこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 走査型露光装置の概略を示す説明図。
【図2】 図1の投影光学系とその近傍を詳細に示す説
明図。
【図3】 第1実施形態の縦置きレンズ支持装置を示す
正面図。
【図4】 図3の4−4線断面図。
【図5】 (a)は図4の固定支持部を示す部分拡大断
面図、(b)は図3の5b−5b線での部分拡大断面
図、(c)は図4の可動支持部を示す部分拡大断面図、
(d)は図3の5d−5d線での部分拡大断面図。
【図6】 図3の可動支持部を示す部分拡大正断面図。
【図7】 第2実施形態の縦置きレンズ支持装置を示す
正面図。
【図8】 図7の8−8線断面図。
【図9】 図8の、(a)は固定支持部を、(b)は可
動支持部をそれぞれ示す部分拡大断面図。
【図10】 図7の可動支持部を示す部分拡大正断面
図。
【図11】 第3実施形態の縦置きレンズ支持装置を示
す正面図。
【図12】 図11の、(b)は第1可動支持部を、
(a)は第2可動支持部をそれぞれ示す部分拡大断面
図。
【図13】 平行平板レンズにおける重力方向のたわみ
量に関するグラフ。
【図14】 平行平板レンズにおける光軸方向のたわみ
量に関するグラフ。
【図15】 図11の縦置きレンズ支持装置の最適状態
の一例を示す正面図。
【図16】 第4実施形態の縦置きレンズ支持装置を示
す正面図。
【図17】 図16の17−17線断面図。
【図18】 図17の牽引支持部を示す部分拡大断面
図。
【図19】 従来の縦置きレンズ支持装置を示す正面
図。
【図20】 図19の20−20線断面図。
【符号の説明】
31…走査型露光装置、51…鏡筒としてのレンズ鏡
筒、61、91、106、111…光学素子支持装置と
しての縦置きレンズ支持装置、62…光学素子としての
レンズ、62a…外周部としてのつば部、63a、92
a、107a…下方支持部、第1支持部及び荷重支持手
段の一部を構成し、回転規制機能を有する第1可動支持
部、63b、92b、107b…下方支持部、第2支持
部及び荷重支持手段の一部を構成し、回転規制機能を有
する第2可動支持部、64、93…上方支持部及び回転
規制手段の一部を構成する固定支持部、73、74…軸
受構造の一部を構成する円錐状凹部、75…軸受構造の
一部を構成するボール、80…傾動規制手段の一部を構
成する係合部、84、95…傾動規制手段の一部を構成
するとともに弾性部材としての板状弾性体、109…軸
受構造の一部及び調節手段を構成するV溝、112a…
上方支持部の一部、第3支持部及び荷重支持手段の一部
を構成し、回転規制機能を有する第1牽引支持部、11
2b…上方支持部の一部、第4支持部及び荷重支持手段
の一部を構成し、回転規制機能を有する第2牽引支持
部、116…牽引手段としての牽引バネ、AX2…光学
素子の光軸としての第2レンズ群の光軸、Fa、Fb…
反力、LP…光学素子の中心、L1〜L3…光学素子の
中心と各支持部とを結ぶ線分、SPa、SPb…作用点
を構成する支持点、X…水平面内において光軸と直交す
る軸線、Z…光軸と直交するとともに重力方向に沿って
延びる軸線、θ、θs…中心角。

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光軸が重力方向と交差する方向に延びる
    光学素子を支持する光学素子支持装置において、 少なくとも3ヶ所で前記光学素子の外周部に係合する支
    持機構を有し、前記支持機構は、光学素子の荷重を支持
    する荷重支持機能と、前記光学素子の荷重の支持位置を
    傾動支点とする光学素子の傾動を規制する傾動規制機能
    と、前記光軸と直交する軸線を中心とする光学素子の回
    転を規制する回転規制機能とを有する光学素子支持装
    置。
  2. 【請求項2】 前記支持機構は、光学素子の外周部の重
    力方向下方部に係合する下方支持部と、光学素子の外周
    部の重力方向上方部に係合する上方支持部とに分かれ、
    上方支持部と下方支持部との少なくとも一方には前記傾
    動規制機能を有する傾動規制手段を設けると共に、上方
    支持部と下方支持部との少なくとも他方には前記荷重支
    持機能を有する荷重支持手段を設けた請求項1に記載の
    光学素子支持装置。
  3. 【請求項3】 前記上方支持部または下方支持部の少な
    くとも一方は、第1支持部と、前記第1支持部に対して
    光学素子の外周方向に所定間隔をおいて配置される第2
    支持部とを有し、前記第1支持部と第2支持部とは重力
    方向に沿って延びる軸線に対して対称になるように配置
    された請求項2に記載の光学素子支持装置。
  4. 【請求項4】 前記各支持部は、光学素子の中心と前記
    各支持部とを結ぶ線分を仮想したときに、隣接する2つ
    の線分のなす中心角の角度がほぼ等間隔をなすように配
    置された請求項2または3に記載の光学素子支持装置。
  5. 【請求項5】 前記下方支持部に前記荷重支持手段を設
    けた時、前記第1、第2支持部は、前記光学素子を重力
    方向の上下に2分する水平面内において光軸と直交する
    軸線と、光学素子の中心と第1、第2支持部の光学素子
    の荷重に対する光学素子の中心方向への反力の作用点と
    を結ぶ各線分とのなす角度をΘとしたとき、前記各作用
    点における前記反力の比がsinΘをなすように配置さ
    れた請求項3または4に記載の光学素子支持装置。
  6. 【請求項6】 前記中心角は5°〜60°の範囲内であ
    る請求項5に記載の光学素子支持装置。
  7. 【請求項7】 前記第1、第2支持部には、光学素子の
    外周部との間に軸受構造が介在されている請求項3〜6
    のいずれか一項に記載の光学素子支持装置。
  8. 【請求項8】 前記第1、第2支持部の内、少なくとも
    1つの支持部には、光学素子の外周方向における移動調
    節可能な調節手段が形成された請求項3〜7のいずれか
    一項に記載の光学素子支持装置。
  9. 【請求項9】 前記傾動規制機能は、重力の上下方向に
    自由度を有する弾性部材の弾性力で達成された請求項2
    〜8のいずれか一項に記載の光学素子支持装置。
  10. 【請求項10】 前記傾動規制機能は、光学素子の光軸
    に直交すると共に、重力に直交する方向に自由度を有す
    る弾性部材の弾性力で達成された請求項9に記載の光学
    素子支持装置。
  11. 【請求項11】 前記上方支持部には、光学素子を牽引
    する牽引手段が設けられた請求項2〜10のいずれか一
    項に記載の光学素子支持装置。
  12. 【請求項12】 前記上方支持部は、前記下方支持部の
    第1支持部及び第2支持部と、光学素子の中心に対して
    ほぼ対称となる位置に配置された第3支持部及び第4支
    持部を有する請求項11に記載の光学素子支持装置。
  13. 【請求項13】 光軸が重力方向と交差する方向に延び
    る光学素子を、光学素子支持装置を介して内周面に保持
    する鏡筒において、 前記光学素子支持装置は、前記請求項1〜12のいずれ
    か一項に記載の光学素子支持装置より構成された鏡筒。
  14. 【請求項14】 鏡筒内に光軸が重力方向と交差する方
    向に延びる光学素子を有する露光装置において、 前記光学素子は、前記請求項1〜12のいずれか一項に
    記載の光学素子支持装置を介して鏡筒内に支持された露
    光装置。
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001343576A (ja) * 2000-03-30 2001-12-14 Canon Inc 光学要素の支持構造、それを用いた露光装置及び半導体デバイスの製造方法
JP2002131605A (ja) * 2000-08-18 2002-05-09 Nikon Corp 保持装置、光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法
US7301605B2 (en) 2000-03-03 2007-11-27 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method, catadioptric optical system and manufacturing method of devices
JP2011145688A (ja) * 2000-03-30 2011-07-28 Canon Inc 光学要素の支持構造、それを用いた露光装置及び半導体デバイスの製造方法
WO2014203800A1 (ja) * 2013-06-19 2014-12-24 コニカミノルタ株式会社 レンズモジュールおよびカメラモジュールならびにカメラモジュールの製造方法
WO2016114187A1 (ja) * 2015-01-14 2016-07-21 コニカミノルタ株式会社 レンズユニット
JP2018041097A (ja) * 2017-11-01 2018-03-15 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 寄生負荷最小化光学素子モジュール
US10215948B2 (en) 2007-08-23 2019-02-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical element module with minimized parasitic loads
WO2020261585A1 (ja) * 2019-06-24 2020-12-30 株式会社レクザム レンズ保持装置及びレンズ光学特性測定装置

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7301605B2 (en) 2000-03-03 2007-11-27 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method, catadioptric optical system and manufacturing method of devices
US7319508B2 (en) 2000-03-03 2008-01-15 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method, catadioptric optical system and manufacturing method of devices
JP2011145688A (ja) * 2000-03-30 2011-07-28 Canon Inc 光学要素の支持構造、それを用いた露光装置及び半導体デバイスの製造方法
US7113263B2 (en) 2000-03-30 2006-09-26 Canon Kabushiki Kaisha Supporting structure of optical element, exposure apparatus having the same, and manufacturing method of semiconductor device
US6867848B2 (en) 2000-03-30 2005-03-15 Canon Kabushiki Kaisha Supporting structure of optical element, exposure apparatus having the same, and manufacturing method of semiconductor device
JP2001343576A (ja) * 2000-03-30 2001-12-14 Canon Inc 光学要素の支持構造、それを用いた露光装置及び半導体デバイスの製造方法
JP2002131605A (ja) * 2000-08-18 2002-05-09 Nikon Corp 保持装置、光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法
US10215948B2 (en) 2007-08-23 2019-02-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical element module with minimized parasitic loads
WO2014203800A1 (ja) * 2013-06-19 2014-12-24 コニカミノルタ株式会社 レンズモジュールおよびカメラモジュールならびにカメラモジュールの製造方法
WO2016114187A1 (ja) * 2015-01-14 2016-07-21 コニカミノルタ株式会社 レンズユニット
JPWO2016114187A1 (ja) * 2015-01-14 2017-10-19 コニカミノルタ株式会社 レンズユニット
JP2018041097A (ja) * 2017-11-01 2018-03-15 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 寄生負荷最小化光学素子モジュール
WO2020261585A1 (ja) * 2019-06-24 2020-12-30 株式会社レクザム レンズ保持装置及びレンズ光学特性測定装置

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