JPH11219882A - ステージ及び露光装置 - Google Patents
ステージ及び露光装置Info
- Publication number
- JPH11219882A JPH11219882A JP10021069A JP2106998A JPH11219882A JP H11219882 A JPH11219882 A JP H11219882A JP 10021069 A JP10021069 A JP 10021069A JP 2106998 A JP2106998 A JP 2106998A JP H11219882 A JPH11219882 A JP H11219882A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- substrate
- glass plate
- mask
- exposure apparatus
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 効率的にステージの帯電を防ぐ、あるいは除
電することが可能なステージ及び該ステージを用いた露
光装置を提供すること。 【解決手段】 ガラスプレート６を載置してエアガイド
７上を移動可能なステージ５であって、前記エアガイド
７上を非接触で移動する浮上型ステージ５であり、少な
くとも前記ステージ５から前記ガラスプレート６を取り
除く際に、前記ステージ５と機械的に接触して前記ステ
ージ５をグランドに接地する接地用接点９を設けた。こ
のため、ステージ５に静電気が発生するとされるガラス
プレート６をステージ５から持ち上げる時でも、発生す
る静電気はグランドに流れるのでステージ５に静電気が
帯電することはない。
電することが可能なステージ及び該ステージを用いた露
光装置を提供すること。 【解決手段】 ガラスプレート６を載置してエアガイド
７上を移動可能なステージ５であって、前記エアガイド
７上を非接触で移動する浮上型ステージ５であり、少な
くとも前記ステージ５から前記ガラスプレート６を取り
除く際に、前記ステージ５と機械的に接触して前記ステ
ージ５をグランドに接地する接地用接点９を設けた。こ
のため、ステージ５に静電気が発生するとされるガラス
プレート６をステージ５から持ち上げる時でも、発生す
る静電気はグランドに流れるのでステージ５に静電気が
帯電することはない。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハや液
晶表示装置のガラスプレートまたマスク等の基板を載置
してベース上を移動可能なステージ、及び、該ステージ
を用いた露光装置に関し、特に、静電気の放電によって
該基板やステージが損傷することがないようにしたステ
ージ及び露光装置に関する。
晶表示装置のガラスプレートまたマスク等の基板を載置
してベース上を移動可能なステージ、及び、該ステージ
を用いた露光装置に関し、特に、静電気の放電によって
該基板やステージが損傷することがないようにしたステ
ージ及び露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、露光装置においては、例えば、基
板としての半導体ウエハやガラスプレート等をステージ
上に載置し、光源からの光束をマスクを介して当該基板
上に照射することによりマスクに形成されている回路パ
ターンを基板上に投影露光するようになされている。し
かし、その基板の投影露光が終了して基板を次の工程に
搬送するためにステージから持ち上げる瞬間に基板及び
ステージの両方に静電気が発生することがある。もっと
も、ベアリング支持のステージならば、ステージ自身が
絶縁されていないので、ステージにはほとんど静電気は
発生せず、またわずかに発生した静電気も自然に放電す
る。しかし、エア支持のような浮上型のステージの場合
は、ステージ自体が浮上していて絶縁されているため、
ステージ側に帯電した静電気が自然放電することはな
い。この静電気が蓄積されて一気に放電すると、ステー
ジの電気部品や基板（基板がマスクである場合には形成
されている回路パターンであったり、基板が感光基板で
ある場合はレジスト層など）を破壊してしまうおそれが
ある。このため、イオン化された気体を基板及びステー
ジに吹き付けて、帯電する静電気を中和している。
板としての半導体ウエハやガラスプレート等をステージ
上に載置し、光源からの光束をマスクを介して当該基板
上に照射することによりマスクに形成されている回路パ
ターンを基板上に投影露光するようになされている。し
かし、その基板の投影露光が終了して基板を次の工程に
搬送するためにステージから持ち上げる瞬間に基板及び
ステージの両方に静電気が発生することがある。もっと
も、ベアリング支持のステージならば、ステージ自身が
絶縁されていないので、ステージにはほとんど静電気は
発生せず、またわずかに発生した静電気も自然に放電す
る。しかし、エア支持のような浮上型のステージの場合
は、ステージ自体が浮上していて絶縁されているため、
ステージ側に帯電した静電気が自然放電することはな
い。この静電気が蓄積されて一気に放電すると、ステー
ジの電気部品や基板（基板がマスクである場合には形成
されている回路パターンであったり、基板が感光基板で
ある場合はレジスト層など）を破壊してしまうおそれが
ある。このため、イオン化された気体を基板及びステー
ジに吹き付けて、帯電する静電気を中和している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
イオン化された気体を用いた静電気の防止には、以下の
問題がある。 (1).ステージ近傍はスペースがないため十分近くからス
テージにイオン化された気体を吹き付けることができな
い。 (2).基板及びステージが大きくなるにつれ、静電気の帯
電量も増加し、その値を十分に下げるために時間がかか
り、装置のスループットが低下する。 本発明は、上記問題点に鑑み、除電のための装置を設け
る空間がない場合でも、効率的にステージの帯電を防
ぐ、あるいは除電することが可能なステージ及び該ステ
ージを用いた露光装置を提供することを目的とする。
イオン化された気体を用いた静電気の防止には、以下の
問題がある。 (1).ステージ近傍はスペースがないため十分近くからス
テージにイオン化された気体を吹き付けることができな
い。 (2).基板及びステージが大きくなるにつれ、静電気の帯
電量も増加し、その値を十分に下げるために時間がかか
り、装置のスループットが低下する。 本発明は、上記問題点に鑑み、除電のための装置を設け
る空間がない場合でも、効率的にステージの帯電を防
ぐ、あるいは除電することが可能なステージ及び該ステ
ージを用いた露光装置を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、一実施例を表す図１と図２とに対応付けて説明する
と、請求項１記載のステージは、基板（６）を載置して
ベース（７）上を移動可能なものであって、前記ベース
（７）上を非接触で移動する浮上型ステージ（５）であ
り、少なくとも前記ステージ（５）から前記基板（６）
を取り除く際に、前記ステージ（５）と機械的に接触し
て前記ステージ（５）を接地する接地手段（９、１０）
を設けたものである。
に、一実施例を表す図１と図２とに対応付けて説明する
と、請求項１記載のステージは、基板（６）を載置して
ベース（７）上を移動可能なものであって、前記ベース
（７）上を非接触で移動する浮上型ステージ（５）であ
り、少なくとも前記ステージ（５）から前記基板（６）
を取り除く際に、前記ステージ（５）と機械的に接触し
て前記ステージ（５）を接地する接地手段（９、１０）
を設けたものである。
【０００５】また、請求項２記載のステージは、少なく
とも前記ステージ（５）に載置された前記基板（６）に
イオン化された気体を供給する気体供給手段（１１）を
備えたものであるため、前記基板（６）に帯電する静電
気を中和することができる。さらに、請求項３記載のス
テージは、前記浮上型ステージ（２、５）が磁気的に浮
上しているものであるため、エア支持の場合には避け難
いエアの流れによるパーティクルの散乱がなく、基板へ
のパーティクルの付着を防ぐことができる。また、請求
項４記載の露光装置は、前記基板（３、６）を載置して
移動可能なステージ（２、５）として上記のステージ
（２、５）を用いたものである。
とも前記ステージ（５）に載置された前記基板（６）に
イオン化された気体を供給する気体供給手段（１１）を
備えたものであるため、前記基板（６）に帯電する静電
気を中和することができる。さらに、請求項３記載のス
テージは、前記浮上型ステージ（２、５）が磁気的に浮
上しているものであるため、エア支持の場合には避け難
いエアの流れによるパーティクルの散乱がなく、基板へ
のパーティクルの付着を防ぐことができる。また、請求
項４記載の露光装置は、前記基板（３、６）を載置して
移動可能なステージ（２、５）として上記のステージ
（２、５）を用いたものである。
【０００６】また、請求項５記載の露光装置は、前記基
板がガラスプレート（６）であるものである。また、請
求項６記載の露光装置は、パターンを有した基板である
マスク（３）の前記パターンを感光基板（６）に露光す
るものであって、前記マスク（３）を載置して移動可能
なステージ（２）として上記のステージ（２）を用いた
ものである。
板がガラスプレート（６）であるものである。また、請
求項６記載の露光装置は、パターンを有した基板である
マスク（３）の前記パターンを感光基板（６）に露光す
るものであって、前記マスク（３）を載置して移動可能
なステージ（２）として上記のステージ（２）を用いた
ものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下添付図面を参照しながら本発
明の好適な実施の形態について詳細に説明する。図１及
び図２は液晶表示素子の露光装置を示しており、本実施
の形態において基板が液晶表示素子を形成するためのガ
ラスプレートであって、ステージが該ガラスプレートを
載置するステージの場合を示すものである。
明の好適な実施の形態について詳細に説明する。図１及
び図２は液晶表示素子の露光装置を示しており、本実施
の形態において基板が液晶表示素子を形成するためのガ
ラスプレートであって、ステージが該ガラスプレートを
載置するステージの場合を示すものである。
【０００８】露光装置において、露光照明系１から出射
されたビームはマスクステージ２上に載置されたマスク
３に照射される。なお、超高圧水銀ランプ１ａ、波長フ
ィルタ１ｂ、レンズ１ｃにより露光照明系１が構成され
ている。マスク３を透過したビームは投影光学系４を介
して、鉄等の金属材質から成る基板ステージ５上に真空
吸着や静電吸着により載置された角形基板であるガラス
プレート６に照射される。これによりマスク３上に形成
された液晶表示素子などの回路パターンがガラスプレー
ト６上に投影される。なお、ガラスプレート６は５００
ｍｍ×６００ｍｍ程度の大型の基板であり、今後も更な
る大型化が予想されている。ガラスプレート６上にはコ
ータ装置（図示せず）により予め感光剤であるレジスト
膜が塗布された後、プレート搬送アーム８により基板ス
テージ５にガラスプレートが載置される。基板ステージ
５はセラミック等から成るベースとしてのガイド７に高
圧の気体（例えば空気）を吹き出して浮上し、リニアモ
ータ等（図示せず）により移動して図１に示すように投
影光学系４の下に位置させられる。ここで、露光装置
は、不図示のアライメント装置により、マスク３及びガ
ラスプレート６上のアライメントマークの位置を読み取
り、その読み取り結果に応じてマスクステージ２及びス
テージ５を微小移動して、これによってマスク３とガラ
スプレート６との位置合わせ（アライメント）を行うよ
うになされている。
されたビームはマスクステージ２上に載置されたマスク
３に照射される。なお、超高圧水銀ランプ１ａ、波長フ
ィルタ１ｂ、レンズ１ｃにより露光照明系１が構成され
ている。マスク３を透過したビームは投影光学系４を介
して、鉄等の金属材質から成る基板ステージ５上に真空
吸着や静電吸着により載置された角形基板であるガラス
プレート６に照射される。これによりマスク３上に形成
された液晶表示素子などの回路パターンがガラスプレー
ト６上に投影される。なお、ガラスプレート６は５００
ｍｍ×６００ｍｍ程度の大型の基板であり、今後も更な
る大型化が予想されている。ガラスプレート６上にはコ
ータ装置（図示せず）により予め感光剤であるレジスト
膜が塗布された後、プレート搬送アーム８により基板ス
テージ５にガラスプレートが載置される。基板ステージ
５はセラミック等から成るベースとしてのガイド７に高
圧の気体（例えば空気）を吹き出して浮上し、リニアモ
ータ等（図示せず）により移動して図１に示すように投
影光学系４の下に位置させられる。ここで、露光装置
は、不図示のアライメント装置により、マスク３及びガ
ラスプレート６上のアライメントマークの位置を読み取
り、その読み取り結果に応じてマスクステージ２及びス
テージ５を微小移動して、これによってマスク３とガラ
スプレート６との位置合わせ（アライメント）を行うよ
うになされている。
【０００９】このアライメントの後、マスク３上に形成
された回路パターンがガラスプレート６上に投影露光さ
れ、投影露光されたガラスプレート６は、基板ステージ
５に載置されたまま矢印の方向に再度ガイド７上を移動
して、図２に示すガラスプレート受け渡し位置まで来
る。ここで、ガラスプレート６はプレート搬送アーム８
によって持ち上げられるが、その際に基板ステージ５は
バネ等（図示せず）で基板ステージ５側に押圧される接
地用接点９に機械的に接触することでＭΩオーダの高抵
抗素子１０を介して電源のグランドに接続される。この
ため、基板ステージ５に静電気が発生するとされるガラ
スプレート６を基板ステージ５から持ち上げる時でも、
発生する静電気は高抵抗素子１０を介してグランドに流
れるので基板ステージ５に静電気が帯電することはな
い。また、仮に基板ステージ５に静電気が帯電していて
も基板ステージ５と接地用接点９が接触した瞬間に静電
気を一気に放電することはなくミリ秒オーダで穏やかに
放電するので機器が損傷することはない。また、接地用
接点９を複数箇所に設けてもいい。なお、ガラスプレー
ト６にはイオナイザー１１によりイオン化された気体
（例えば空気）を吹き付けて（気体供給手段）、ガラス
プレート６に帯電する静電気を中和すれば更に効果的に
静電気を除去することができる。この後、ガラスプレー
ト６はこの露光装置の後工程にあるデベロッパ装置（図
示せず）に搬送され、デベロッパ装置により現像するこ
とにより、当該ガラスプレート６上に回路パターンが形
成される。
された回路パターンがガラスプレート６上に投影露光さ
れ、投影露光されたガラスプレート６は、基板ステージ
５に載置されたまま矢印の方向に再度ガイド７上を移動
して、図２に示すガラスプレート受け渡し位置まで来
る。ここで、ガラスプレート６はプレート搬送アーム８
によって持ち上げられるが、その際に基板ステージ５は
バネ等（図示せず）で基板ステージ５側に押圧される接
地用接点９に機械的に接触することでＭΩオーダの高抵
抗素子１０を介して電源のグランドに接続される。この
ため、基板ステージ５に静電気が発生するとされるガラ
スプレート６を基板ステージ５から持ち上げる時でも、
発生する静電気は高抵抗素子１０を介してグランドに流
れるので基板ステージ５に静電気が帯電することはな
い。また、仮に基板ステージ５に静電気が帯電していて
も基板ステージ５と接地用接点９が接触した瞬間に静電
気を一気に放電することはなくミリ秒オーダで穏やかに
放電するので機器が損傷することはない。また、接地用
接点９を複数箇所に設けてもいい。なお、ガラスプレー
ト６にはイオナイザー１１によりイオン化された気体
（例えば空気）を吹き付けて（気体供給手段）、ガラス
プレート６に帯電する静電気を中和すれば更に効果的に
静電気を除去することができる。この後、ガラスプレー
ト６はこの露光装置の後工程にあるデベロッパ装置（図
示せず）に搬送され、デベロッパ装置により現像するこ
とにより、当該ガラスプレート６上に回路パターンが形
成される。
【００１０】なお、基板ステージ５に絶縁性の材質の部
分がある場合には接地用接点９は導電性の材質の部分に
接触するようにする。また、接地用接点９は基板ステー
ジ５側に設けても良い。
分がある場合には接地用接点９は導電性の材質の部分に
接触するようにする。また、接地用接点９は基板ステー
ジ５側に設けても良い。
【００１１】さらに、本発明は上記実施の形態に限定さ
れるものではない。例えば、基板ステージ５は気体支持
浮上に代えて、磁気的浮上であっても良い。磁気浮上ス
テージは、ガイド７に永久磁石と電磁石とを設け、基板
ステージ５にガイドの永久磁石に対向させて永久磁石を
配設し、ガイド７の電磁石に対向させて鉄などの磁性部
材を配設することにより構成できる。そして、電磁石に
供給する電流を調整することにより基板ステージ５の移
動を制御することができる。磁気浮上ステージを用いる
ことにより、ガイド７に吹き出す気体に起因する発塵を
なくすことができ、露光工程での歩留りを向上すること
ができる。
れるものではない。例えば、基板ステージ５は気体支持
浮上に代えて、磁気的浮上であっても良い。磁気浮上ス
テージは、ガイド７に永久磁石と電磁石とを設け、基板
ステージ５にガイドの永久磁石に対向させて永久磁石を
配設し、ガイド７の電磁石に対向させて鉄などの磁性部
材を配設することにより構成できる。そして、電磁石に
供給する電流を調整することにより基板ステージ５の移
動を制御することができる。磁気浮上ステージを用いる
ことにより、ガイド７に吹き出す気体に起因する発塵を
なくすことができ、露光工程での歩留りを向上すること
ができる。
【００１２】なお、マスクステージ２が浮上型のステー
ジの場合に、本実施の形態の接地用接点９と高抵抗素子
１０とをマスクステージにも適用することができる。ガ
ラスプレート６の大型化に伴い、マスク３、マスクステ
ージ２も大型化され静電気の影響が大きくなるので、本
実施の形態の接地用接点９と高抵抗素子１０とを用いる
ことにより効果的に静電気を除去することができる。こ
れによりマスク３をマスクステージ２から持ち上げる際
の静電気の帯電を防止することができる。
ジの場合に、本実施の形態の接地用接点９と高抵抗素子
１０とをマスクステージにも適用することができる。ガ
ラスプレート６の大型化に伴い、マスク３、マスクステ
ージ２も大型化され静電気の影響が大きくなるので、本
実施の形態の接地用接点９と高抵抗素子１０とを用いる
ことにより効果的に静電気を除去することができる。こ
れによりマスク３をマスクステージ２から持ち上げる際
の静電気の帯電を防止することができる。
【００１３】接地手段はステージが図２に示すガラスプ
レート６受け渡し位置以外の位置にあるときにも接地す
るものであっても良いし、更に、移動中においても継続
的に接地するものであっても良い。これにより帯電がよ
り徹底して防止できる。なお、露光装置としては、マス
ク３とガラスプレート６とを静止した状態で露光し、ガ
ラスプレート６を順次ステップ移動させるステップ・ア
ンド・リピート型の露光装置にも、マスクとガラスプレ
ート６とを同期移動して露光する走査型の露光装置に
も、マスクとガラスプレート６とを密接させて露光する
プロキシミティ型の露光装置にも適用することができ
る。露光装置としては、液晶表示素子用だけでなく、半
導体素子を露光する露光装置等にも幅広く適用すること
ができる。
レート６受け渡し位置以外の位置にあるときにも接地す
るものであっても良いし、更に、移動中においても継続
的に接地するものであっても良い。これにより帯電がよ
り徹底して防止できる。なお、露光装置としては、マス
ク３とガラスプレート６とを静止した状態で露光し、ガ
ラスプレート６を順次ステップ移動させるステップ・ア
ンド・リピート型の露光装置にも、マスクとガラスプレ
ート６とを同期移動して露光する走査型の露光装置に
も、マスクとガラスプレート６とを密接させて露光する
プロキシミティ型の露光装置にも適用することができ
る。露光装置としては、液晶表示素子用だけでなく、半
導体素子を露光する露光装置等にも幅広く適用すること
ができる。
【００１４】また、露光光としてＫｒＦエキシマレーザ
（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎ
ｍ）、Ｆ2レーザ（１５７ｎｍ）のみならず、Ｘ線や電
子線などの荷電粒子線を用いることができる。例えば、
電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放射型の
ランタンヘキサボライト（ＬaＢ6）、タンタル（Ｔa）
を用いることができる。
（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎ
ｍ）、Ｆ2レーザ（１５７ｎｍ）のみならず、Ｘ線や電
子線などの荷電粒子線を用いることができる。例えば、
電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放射型の
ランタンヘキサボライト（ＬaＢ6）、タンタル（Ｔa）
を用いることができる。
【００１５】投影光学系４の倍率は縮小系、等倍及び拡
大系のいずれでも良い。また、投影光学系４としては、
エキシマレーザを用いる場合は硝材として石英や蛍石を
用い、Ｘ線を用いる場合は反射屈折系の光学系にし（マ
スクも反射型タイプのものを用いる）、また、電子線を
用いる場合には光学系として電子レンズおよび偏向器か
らなる電気光学系を用いれば良い。なお、電子線が通過
する光路は真空にする。
大系のいずれでも良い。また、投影光学系４としては、
エキシマレーザを用いる場合は硝材として石英や蛍石を
用い、Ｘ線を用いる場合は反射屈折系の光学系にし（マ
スクも反射型タイプのものを用いる）、また、電子線を
用いる場合には光学系として電子レンズおよび偏向器か
らなる電気光学系を用いれば良い。なお、電子線が通過
する光路は真空にする。
【００１６】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、浮上型
ステージを確実にグランドへ接地することができるの
で、ステージに静電気が帯電するのを防ぎ、特に、ステ
ージから基板を取り除くときに発生する静電気を効果的
に除去することができ、ステージの故障や基板の破損を
防止できる。
ステージを確実にグランドへ接地することができるの
で、ステージに静電気が帯電するのを防ぎ、特に、ステ
ージから基板を取り除くときに発生する静電気を効果的
に除去することができ、ステージの故障や基板の破損を
防止できる。
【図１】本発明の一実施例を示す図であって、露光装置
の基板ステージが露光位置にある場合を示す図である。
の基板ステージが露光位置にある場合を示す図である。
【図２】本発明の一実施例を示す図であって、露光装置
の基板ステージがガラスプレート受け渡し位置にある場
合を示す図である。
の基板ステージがガラスプレート受け渡し位置にある場
合を示す図である。
１ 露光照明系 ２ マスクステージ ３ マスク ４ 投影光学系 ５ 基板ステージ ６ ガラスプレート ７ ガイド ８ プレート搬送アーム ９ 接地用接点 １０ 高抵抗素子
Claims (6)
- 【請求項１】 基板を載置してベース上を移動可能なス
テージにおいて、 前記ステージは前記ベース上を非接触で移動する浮上型
ステージであり、 少なくとも前記ステージから前記基板を取り除く際に、
前記ステージと機械的に接触して前記ステージを接地す
る接地手段を設けたことを特徴とするステージ。 - 【請求項２】 請求項１記載のステージにおいて、少な
くとも前記ステージに載置された前記基板にイオン化さ
れた気体を供給する気体供給手段を備えたことを特徴と
するステージ。 - 【請求項３】 請求項１または請求項２記載のステージ
において、前記浮上型ステージは磁気的に浮上している
ことを特徴とするステージ。 - 【請求項４】 マスクのパターンを基板に露光する露光
装置において、前記基板を載置して移動可能なステージ
として請求項１乃至請求項３記載のいずれかに記載のス
テージを用いたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項５】 請求項４記載の露光装置において、前記
基板はガラスプレートであることを特徴とする露光装
置。 - 【請求項６】 パターンを有した基板であるマスクの前
記パターンを感光基板に露光する露光装置において、前
記マスクを載置して移動可能なステージとして請求項１
乃至請求項３記載のいずれかに記載のステージを用いた
ことを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10021069A JPH11219882A (ja) | 1998-02-02 | 1998-02-02 | ステージ及び露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10021069A JPH11219882A (ja) | 1998-02-02 | 1998-02-02 | ステージ及び露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11219882A true JPH11219882A (ja) | 1999-08-10 |
Family
ID=12044609
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10021069A Pending JPH11219882A (ja) | 1998-02-02 | 1998-02-02 | ステージ及び露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11219882A (ja) |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006059634A1 (ja) * | 2004-12-01 | 2006-06-08 | Nikon Corporation | ステージ装置及び露光装置 |
| WO2010016504A1 (ja) * | 2008-08-08 | 2010-02-11 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 検査装置 |
| EP2390906A1 (en) * | 2010-05-26 | 2011-11-30 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for electrostatic discharge (ESD) reduction |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
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