JPH11218924A - 感放射線性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 保存安定性が優れ、化学増幅型レジストとし
て、放射線に対する透明性が高く、しかもドライエッチ
ング耐性、感度、解像度、パターン形状等に優れた感放
射線性樹脂組成物を提供する。 【解決手段】 感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）酸解離
性基として下記一般式（１）で表される基を有するアル
カリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂であって、該酸
解離性基自体および／または該酸解離性基中の基Ｒ⁴ が
解離したときアルカリ可溶性となる樹脂、および（Ｂ）
感放射線性酸発生剤を含有する。 【化１】 〔一般式（１）において、Ｒ¹ 、Ｒ² およびＲ³ は相互
に独立に水素原子または炭素数１〜６の直鎖状、分岐状
もしくは環状のアルキル基を示すか、あるいはＲ¹ とＲ
² とが相互に結合して３〜６員環の環状アルキル基を示
し、Ｒ⁴ は炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状
のアルキル基を示す。〕

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感放射線性樹脂組
成物に関わり、さらに詳しくは、ＫｒＦエキシマレーザ
ーあるいはＡｒＦエキシマレーザー等の遠紫外線、シン
クロトロン放射線等のＸ線、電子線等の荷電粒子線の如
き各種の放射線を使用する微細加工に有用な化学増幅型
レジストとして好適に使用することができる感放射線性
樹脂組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】集積回路素子の製造に代表される微細加
工の分野においては、より高い集積度を得るために、最
近では０．２０μｍ以下のレベルでの微細加工技術が必
要になるとされている。従来のリソグラフィープロセス
においては、一般に放射線としてｉ線等の近紫外線が用
いられているが、近紫外線ではサブクオーターミクロン
レベルの微細加工が極めて困難であると言われている。
そこで、０．２０μｍ以下のレベルでの微細加工を可能
とするために、より波長の短い放射線の利用が検討され
ている。このような短波長の放射線としては、例えば、
水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表され
る遠紫外線、Ｘ線、電子線等を挙げることができるが、
これらのうち、特にＫｒＦエキシマレーザー（波長２４
８ｎｍ）あるいはＡｒＦエキシマレーザー（波長１９３
ｎｍ）が注目されている。このようなエキシマレーザー
による照射に適した感放射線性樹脂組成物として、酸解
離性官能基を有する成分と放射線の照射（以下、「露
光」という。）により酸を発生する成分（以下、「酸発
生剤」という。）とによる化学増幅効果を利用した組成
物（以下、「化学増幅型感放射線性組成物」という。）
が数多く提案されている。このような化学増幅型感放射
線性組成物としては、例えば、特公平２−２７６６０号
公報には、カルボン酸のｔ−ブチルエステル基またはフ
ェノールのｔ−ブチルカーボナート基を有する重合体と
酸発生剤とを含有する組成物が提案されている。この組
成物は、露光により発生した酸の作用により、重合体中
に存在するｔ−ブチルエステル基あるいはｔ−ブチルカ
ーボナート基が解離して、該重合体がカルボキシル基あ
るいはフェノール性水酸基からなる酸性基を有するよう
になり、その結果、レジスト被膜の露光領域がアルカリ
現像液に易溶性となる現象を利用したものである。とこ
ろで、従来の化学増幅型感放射線性組成物の多くは、フ
ェノール系樹脂をベースにするものであるが、このよう
な樹脂の場合、放射線として遠紫外線を使用する場合、
樹脂中の芳香族環に起因して遠紫外線が吸収されるた
め、露光された遠紫外線がレジスト被膜の下層部まで十
分に到達できないという欠点があり、そのため露光量が
レジスト被膜の上層部では多く、下層部では少なくな
り、現像後のレジストパターンが上部が細く下部にいく
ほど太い台形状になってしまい、十分な解像度が得られ
ないなどの問題があった。その上、現像後のレジストパ
ターンが台形状となった場合、次の工程、即ちエッチン
グやイオンの打ち込みなどを行う際に、所望の寸法精度
が達成できず、問題となっていた。しかも、レジストパ
ターン上部の形状が矩形でないと、ドライエッチングに
よるレジストの消失速度が速くなってしまい、エッチン
グ条件の制御が困難になる問題もあった。レジストパタ
ーンの形状は、レジスト被膜の放射線透過率を高めるこ
とにより改善することができる。例えば、ポリメチルメ
タクリレートに代表される（メタ）アクリレート系樹脂
は、遠紫外線に対しても透明性が高く、放射線透過率の
観点から非常に好ましい樹脂であり、例えば特開平４−
２２６４６１号公報には、メタクリレート系樹脂を使用
した化学増幅型感放射線性樹脂組成物が提案されてい
る。しかしながら、この組成物は、微細加工性能の点で
は優れているものの、芳香族環をもたないため、ドライ
エッチング耐性が低いという欠点があり、この場合も高
精度のエッチング加工を行うことが困難であり、放射線
に対する透明性とドライエッチング耐性とを兼ね備えた
もとのは言えない。一方、化学増幅型感放射線性組成物
からなるレジストについて、放射線に対する透明性を損
なわないで、ドライエッチング耐性を改善する方策の一
つとして、組成物中の樹脂成分に、芳香族環に代えて脂
環族環を導入する方法が知られており、例えば特開平７
−２３４５１１号公報には、脂環族環を有する（メタ）
アクリレート系樹脂を使用した化学増幅型感放射線性樹
脂組成物が提案されている。しかしながら、従来の化学
増幅型感放射線性樹脂組成物では、酸解離性官能基とし
て、酸により比較的解離し易い基（例えば、テトラヒド
ロピラニル基等のアセタール系官能基）あるいは酸によ
り比較的解離し難い基（例えば、ｔ−ブチルエステル基
やｔ−ブチルカーボネート基等のｔ−ブチル系官能基）
が一般に用いられており、前者の酸解離性官能基を有す
る樹脂成分を用いる場合、レジストの基本物性、特に感
度やパターン形状は良好であるが、組成物としての保存
安定性に難点があり、また後者の酸解離性官能基を有す
る樹脂成分を用いる場合は、逆に保存安定性は良好であ
るが、レジストの基本物性、特に感度やパターン形状が
損なわれるという欠点がある。特に近年、特開平８−３
０５０２３号公報に、一般式-COOC(R¹)(R²)-CH(R³)-C0R
⁴(但し、R¹、R²、R³およびR⁴は、直鎖状または分岐状の
（置換）アルキル基、脂環式炭化水素基およびそれらか
ら誘導された基である。）で表される基からなる酸解離
性官能基を有する主剤重合体を含有する化学増幅型感放
射線性樹脂組成物が提案されているが、この組成物は、
レジストパターンの基板からの剥離や割れの防止を主眼
点とするものであり、特に組成物としての保存安定性に
ついては全く検討されていない。そこで、放射線に対す
る透明性が高く、かつドライエッチング耐性、感度、解
像度、パターン形状等に優れるのみならず、組成物とし
ての保存安定性にも優れた化学増幅型感放射線性樹脂組
成物の開発が求められている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、活性
放射線、例えばＫｒＦエキシマレーザーあるいはＡｒＦ
エキシマレーザーに代表される遠紫外線、に感応する化
学増幅型レジストとして、組成物としての保存安定性が
優れ、かつ放射線に対する透明性が高く、しかもドライ
エッチング耐性、感度、解像度、パターン形状等のレジ
ストとしての基本物性に優れた感放射線性樹脂組成物を
提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明によると、前記課
題は、（Ａ）酸解離性基として下記一般式（１）で表さ
れる基を有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の
樹脂であって、該酸解離性基自体および／または該酸解
離性基中の基Ｒ⁴ が解離したときアルカリ可溶性となる
樹脂、および（Ｂ）感放射線性酸発生剤を含有する感放
射線性樹脂組成物、

【０００５】

【化１】

【０００６】〔一般式（１）において、Ｒ¹ およびＲ²
は相互に独立に水素原子または炭素数１〜６の直鎖状、
分岐状もしくは環状のアルキル基を示すか、あるいはＲ
¹ とＲ² とが相互に結合して３〜６員環の環状アルキル
基を示し、Ｒ³ は水素原子または炭素数１〜６の直鎖
状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示し、Ｒ⁴ は炭
素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基
を示す。〕、によって達成される。

【０００７】以下、本発明を詳細に説明する。樹脂（Ａ） 本発明における（Ａ）成分は、酸解離性基として前記一
般式（１）で表される基（以下、「酸解離性基（１）」
という。）を有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶
性の樹脂であって、酸解離性基（１）自体および／また
は酸解離性基（１）中の基Ｒ⁴ が解離したときアルカリ
可溶性となる樹脂（以下、「樹脂（Ａ）」という。）か
らなる。ここで、樹脂（Ａ）における酸解離性基（１）
自体および／または酸解離性基（１）中の基Ｒ⁴ が解離
する態様をより具体的に示すと、下記（ｉ）〜（iii)の
場合がある。 （ｉ）酸解離性基（１）中に存在するエステル結合（−
ＣＯＯＲ⁴)中の酸素原子と基Ｒ⁴ との結合が酸の作用に
より解離して、下記一般式（２）で表される基を生成す
る場合。

【０００８】

【化２】

【０００９】（ii) 酸解離性基（１）自体と酸解離性基
（１）に隣接する原子との結合が酸の作用により解離し
て、フェノール性水酸基（ナフトール性水酸基を含む。
以下同様。）あるいはカルボキシル基を生成する場合。 （iii)前記（ｉ）と（ii) の反応が同時に生じる場合。

【００１０】樹脂（Ａ）としては、例えば、下記する樹
脂（Ａ−Ｉ）あるいは樹脂（Ａ−II) を挙げることがで
きる。樹脂（Ａ−Ｉ）は、フェノール性水酸基、カルボ
キシル基等の酸性官能基を１種以上含有するアルカリ可
溶性樹脂中の該酸性官能基の水素原子を、１種以上の酸
解離性基（１）で置換した構造を有し、それ自体として
はアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂である。
また、樹脂（Ａ−II) は、主鎖に脂環式骨格を有し、か
つ側鎖に基−ＣＯＯＺ( 但し、Ｚは酸解離性基（１）を
示す。）を有する、それ自体としてはアルカリ不溶性ま
たはアルカリ難溶性の樹脂である。ここで、「アルカリ
不溶性またはアルカリ難溶性」とは、樹脂（Ａ）を含有
する感放射線性樹脂組成物を用いて形成されるレジスト
皮膜からレジストパターンを形成する際に採用されるア
ルカリ現像条件下で、当該レジスト被膜の代わりに、樹
脂（Ａ）のみを用いた被膜を現像したときに、当該被膜
の初期膜厚の５０％以上が現像後に残存する性質を意味
する。

【００１１】酸解離性基（１）の具体例としては、（メ
トキシカルボニルメチル）メチル基、（エトキシカルボ
ニルメチル）メチル基、（ｎ−プロポキシカルボニルメ
チル）メチル基、（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）
メチル基、（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）メチル
基、（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）メチル基、（ｓ
ｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）メチル基、（ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル）メチル基、（ｎ−ペンチルオ
キシカルボニルメチル）メチル基、（ｎ−ヘキシルオキ
シカルボニルメチル）メチル基、（シクロペンチルオキ
シカルボニルメチル）メチル基、（シクロヘキシルオキ
シカルボニルメチル）メチル基等の｛（シクロ）アルコ
キシカルボニルメチル｝メチル基；１−（メトキシカル
ボニルメチル）エチル基、１−（エトキシカルボニルメ
チル）エチル基、１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチ
ル）エチル基、１−（ｉ−プロポキシカルボニルメチ
ル）エチル基、１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）
エチル基、１−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）エチ
ル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）エチ
ル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）エチル
基、１−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）エチ
ル基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）エ
チル基、１−（シクロペンチルオキシカルボニルメチ
ル）エチル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニル
メチル）エチル基等の１−｛（シクロ）アルコキシカル
ボニルメチル｝エチル基；

【００１２】１−（メトキシカルボニルメチル）プロピ
ル基、１−（エトキシカルボニルメチル）プロピル基、
１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）プロピル基、
１−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）プロピル基、
１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）プロピル基、１
−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）プロピル基、１−
（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）プロピル基、１
−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）プロピル基、１−
（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）プロピル基、
１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）プロピル
基、１−（シクロペンチルオキシカルボニルメチル）プ
ロピル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチ
ル）プロピル基等の１−｛（シクロ）アルコキシカルボ
ニルメチル｝プロピル基；１−（メトキシカルボニルメ
チル）−１−メチルエチル基、１−（エトキシカルボニ
ルメチル）−１−メチルエチル基、１−（ｎ−プロポキ
シカルボニルメチル）−１−メチルエチル基、１−（ｉ
−プロポキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル
基、１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチ
ルエチル基、１−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）−
１−メチルエチル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシカルボニ
ルメチル）−１−メチルエチル基、１−（ｔ−ブトキシ
カルボニルメチル）−１−メチルエチル基、１−（ｎ−
ペンチルオキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル
基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）−１
−メチルエチル基、１−（シクロペンチルオキシカルボ
ニルメチル）−１−メチルエチル基、１−（シクロヘキ
シルオキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル基等
の１−｛（シクロ）アルコキシカルボニルメチル｝−１
−メチルエチル基；

【００１３】１−（メトキシカルボニルメチル）ブチル
基、１−（エトキシカルボニルメチル）ブチル基、１−
（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）ブチル基、１−
（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）ブチル基、１−
（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）ブチル基、１−（ｉ
−ブトキシカルボニルメチル）ブチル基、１−（ｓｅｃ
−ブトキシカルボニルメチル）ブチル基、１−（ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル）ブチル基、１−（ｎ−ペンチ
ルオキシカルボニルメチル）ブチル基、１−（ｎ−ヘキ
シルオキシカルボニルメチル）ブチル基、１−（シクロ
ペンチルオキシカルボニルメチル）ブチル基、１−（シ
クロヘキシルオキシカルボニルメチル）ブチル基等の１
−｛（シクロ）アルコキシカルボニルメチル｝ブチル
基；１−（メトキシカルボニルメチル）−１−メチルプ
ロピル基、１−（エトキシカルボニルメチル）−１−メ
チルプロピル基、１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチ
ル）−１−メチルプロピル基、１−（ｉ−プロポキシカ
ルボニルメチル）−１−メチルプロピル基、１−（ｎ−
ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルプロピル基、
１−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルプ
ロピル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）
−１−メチルプロピル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニ
ルメチル）−１−メチルプロピル基、１−（ｎ−ペンチ
ルオキシカルボニルメチル）−１−メチルプロピル基、
１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）−１−メ
チルプロピル基、１−（シクロペンチルオキシカルボニ
ルメチル）−１−メチルプロピル基、１−（シクロヘキ
シルオキシカルボニルメチル）−１−メチルプロピル基
等の１−｛（シクロ）アルコキシカルボニルメチル｝−
１−メチルプロピル基；

【００１４】１−（メトキシカルボニルメチル）ペンチ
ル基、１−（エトキシカルボニルメチル）ペンチル基、
１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）ペンチル基、
１−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）ペンチル基、
１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）ペンチル基、１
−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）ペンチル基、１−
（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）ペンチル基、１
−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）ペンチル基、１−
（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）ペンチル基、
１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）ペンチル
基、１−（シクロペンチルオキシカルボニルメチル）ペ
ンチル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチ
ル）ペンチル基等の１−｛（シクロ）アルコキシカルボ
ニルメチル｝ペンチル基；１−（メトキシカルボニルメ
チル）−１−メチルブチル基、１−（エトキシカルボニ
ルメチル）−１−メチルブチル基、１−（ｎ−プロポキ
シカルボニルメチル）−１−メチルブチル基、１−（ｉ
−プロポキシカルボニルメチル）−１−メチルブチル
基、１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチ
ルブチル基、１−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）−
１−メチルブチル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシカルボニ
ルメチル）−１−メチルブチル基、１−（ｔ−ブトキシ
カルボニルメチル）−１−メチルブチル基、１−（ｎ−
ペンチルオキシカルボニルメチル）−１−メチルブチル
基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）−１
−メチルブチル基、１−（シクロペンチルオキシカルボ
ニルメチル）−１−メチルブチル基、１−（シクロヘキ
シルオキシカルボニルメチル）−１−メチルブチル基等
の１−｛（シクロ）アルコキシカルボニルメチル｝−１
−メチルブチル基；１−（メトキシカルボニルメチル）
−１−エチルプロピル基、１−（エトキシカルボニルメ
チル）−１−エチルプロピル基、１−（ｎ−プロポキシ
カルボニルメチル）−１−エチルプロピル基、１−（ｉ
−プロポキシカルボニルメチル）−１−エチルプロピル
基、１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）−１−エチ
ルプロピル基、１−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）
−１−エチルプロピル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシカル
ボニルメチル）−１−エチルプロピル基、１−（ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル）−１−エチルプロピル基、１
−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）−１−エチ
ルプロピル基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメ
チル）−１−エチルプロピル基、１−（シクロペンチル
オキシカルボニルメチル）−１−エチルプロピル基、１
−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）−１−エ
チルプロピル基等の１−｛（シクロ）アルコキシカルボ
ニルメチル｝−１−エチルプロピル基；

【００１５】１−（メトキシカルボニルメチル）ヘキシ
ル基、１−（エトキシカルボニルメチル）ヘキシル基、
１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）ヘキシル基、
１−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）ヘキシル基、
１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）ヘキシル基、１
−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）ヘキシル基、１−
（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）ヘキシル基、１
−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）ヘキシル基、１−
（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）ヘキシル基、
１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）ヘキシル
基、１−（シクロペンチルオキシカルボニルメチル）ヘ
キシル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチ
ル）ヘキシル基等の１−｛（シクロ）アルコキシカルボ
ニルメチル｝ヘキシル基；１−（メトキシカルボニルメ
チル）−１−メチルペンチル基、１−（エトキシカルボ
ニルメチル）−１−メチルペンチル基、１−（ｎ−プロ
ポキシカルボニルメチル）−１−メチルペンチル基、１
−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）−１−メチルペ
ンチル基、１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）−１
−メチルペンチル基、１−（ｉ−ブトキシカルボニルメ
チル）−１−メチルペンチル基、１−（ｓｅｃ−ブトキ
シカルボニルメチル）−１−メチルペンチル基、１−
（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルペンチ
ル基、１−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）−
１−メチルペンチル基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカル
ボニルメチル）−１−メチルペンチル基、１−（シクロ
ペンチルオキシカルボニルメチル）−１−メチルペンチ
ル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）
−１−メチルペンチル基等の１−｛（シクロ）アルコキ
シカルボニルメチル｝−１−メチルペンチル基；１−
（メトキシカルボニルメチル）−１−エチルブチル基、
１−（エトキシカルボニルメチル）−１−エチルブチル
基、１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）−１−エ
チルブチル基、１−（ｉ−プロポキシカルボニルメチ
ル）−１−エチルブチル基、１−（ｎ−ブトキシカルボ
ニルメチル）−１−エチルブチル基、１−（ｉ−ブトキ
シカルボニルメチル）−１−エチルブチル基、１−（ｓ
ｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）−１−エチルブチル
基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−エチ
ルブチル基、１−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチ
ル）−１−エチルブチル基、１−（ｎ−ヘキシルオキシ
カルボニルメチル）−１−エチルブチル基、１−（シク
ロペンチルオキシカルボニルメチル）−１−エチルブチ
ル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）
−１−エチルブチル基等の１−｛（シクロ）アルコキシ
カルボニルメチル｝−１−エチルブチル基；

【００１６】１−（メトキシカルボニルメチル）ヘプチ
ル基、１−（エトキシカルボニルメチル）ヘプチル基、
１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）ヘプチル基、
１−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）ヘプチル基、
１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）ヘプチル基、１
−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）ヘプチル基、１−
（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）ヘプチル基、１
−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）ヘプチル基、１−
（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）ヘプチル基、
１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）ヘプチル
基、１−（シクロペンチルオキシカルボニルメチル）ヘ
プチル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチ
ル）ヘプチル基等の１−｛（シクロ）アルコキシカルボ
ニルメチル｝ヘプチル基；１−（メトキシカルボニルメ
チル）−１−メチルヘキシル基、１−（エトキシカルボ
ニルメチル）−１−メチルヘキシル基、１−（ｎ−プロ
ポキシカルボニルメチル）−１−メチルヘキシル基、１
−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）−１−メチルヘ
キシル基、１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）−１
−メチルヘキシル基、１−（ｉ−ブトキシカルボニルメ
チル）−１−メチルヘキシル基、１−（ｓｅｃ−ブトキ
シカルボニルメチル）−１−メチルヘキシル基、１−
（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルヘキシ
ル基、１−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）−
１−メチルヘキシル基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカル
ボニルメチル）−１−メチルヘキシル基、１−（シクロ
ペンチルオキシカルボニルメチル）−１−メチルヘキシ
ル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）
−１−メチルヘキシル基等の１−｛（シクロ）アルコキ
シカルボニルメチル｝−１−メチルヘキシル基；１−
（メトキシカルボニルメチル）−１−エチルペンチル
基、１−（エトキシカルボニルメチル）−１−エチルペ
ンチル基、１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）−
１−エチルペンチル基、１−（ｉ−プロポキシカルボニ
ルメチル）−１−エチルペンチル基、１−（ｎ−ブトキ
シカルボニルメチル）−１−エチルペンチル基、１−
（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）−１−エチルペンチ
ル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）−１
−エチルペンチル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメ
チル）−１−エチルペンチル基、１−（ｎ−ペンチルオ
キシカルボニルメチル）−１−エチルペンチル基、１−
（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）−１−エチル
ペンチル基、１−（シクロペンチルオキシカルボニルメ
チル）−１−エチルペンチル基、１−（シクロヘキシル
オキシカルボニルメチル）−１−エチルペンチル基等の
１−｛（シクロ）アルコキシカルボニルメチル｝−１−
エチルペンチル基；１−（メトキシカルボニルメチル）
−１−プロピルブチル基、１−（エトキシカルボニルメ
チル）−１−プロピルブチル基、１−（ｎ−プロポキシ
カルボニルメチル）−１−プロピルブチル基、１−（ｉ
−プロポキシカルボニルメチル）−１−プロピルブチル
基、１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）−１−プロ
ピルブチル基、１−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）
−１−プロピルブチル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシカル
ボニルメチル）−１−プロピルブチル基、１−（ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル）−１−プロピルブチル基、１
−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）−１−プロ
ピルブチル基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメ
チル）−１−プロピルブチル基、１−（シクロペンチル
オキシカルボニルメチル）−１−プロピルブチル基、１
−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）−１−プ
ロピルブチル基等の１−｛（シクロ）アルコキシカルボ
ニルメチル｝−１−プロピルブチル基；

【００１７】１−（メトキシカルボニルメチル）シクロ
ペンチル基、１−（エトキシカルボニルメチル）シクロ
ペンチル基、１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）
シクロペンチル基、１−（ｉ−プロポキシカルボニルメ
チル）シクロペンチル基、１−（ｎ−ブトキシカルボニ
ルメチル）シクロペンチル基、１−（ｉ−ブトキシカル
ボニルメチル）シクロペンチル基、１−（ｓｅｃ−ブト
キシカルボニルメチル）シクロペンチル基、１−（ｔ−
ブトキシカルボニルメチル）シクロペンチル基、１−
（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）シクロペンチ
ル基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）シ
クロペンチル基、１−（シクロペンチルオキシカルボニ
ルメチル）シクロペンチル基、１−（シクロヘキシルオ
キシカルボニルメチル）シクロペンチル基等の１−
｛（シクロ）アルコキシカルボニルメチル｝シクロペン
チル基；１−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキ
シル基、１−（エトキシカルボニルメチル）シクロヘキ
シル基、１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）シク
ロヘキシル基、１−（ｉ−プロポキシカルボニルメチ
ル）シクロヘキシル基、１−（ｎ−ブトキシカルボニル
メチル）シクロヘキシル基、１−（ｉ−ブトキシカルボ
ニルメチル）シクロヘキシル基、１−（ｓｅｃ−ブトキ
シカルボニルメチル）シクロヘキシル基、１−（ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル）シクロヘキシル基、１−（ｎ
−ペンチルオキシカルボニルメチル）シクロヘキシル
基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）シク
ロヘキシル基、１−（シクロペンチルオキシカルボニル
メチル）シクロヘキシル基、１−（シクロヘキシルオキ
シカルボニルメチル）シクロヘキシル基等の１−｛（シ
クロ）アルコキシカルボニルメチル｝シクロヘキシル
基；

【００１８】｛１−（メトキシカルボニル）エチル｝メ
チル基、｛１−（エトキシカルボニル）エチル｝メチル
基、｛１−（ｎ−プロポキシカルボニル）エチル｝メチ
ル基、｛１−（ｉ−プロポキシカルボニル）エチル｝メ
チル基、｛１−（ｎ−ブトキシカルボニル）エチル｝メ
チル基、｛１−（ｔ−ブトキシカルボニル）エチル｝メ
チル基、｛１−（シクロペンチルオキシカルボニル）エ
チル｝メチル基、｛１−（シクロヘキシルオキシカルボ
ニル）エチル｝メチル基等の〔１−｛（シクロ）アルコ
キシカルボニル｝エチル〕メチル基；１−｛１’−（メ
トキシカルボニル）エチル｝エチル基、１−｛１’−
（エトキシカルボニル）エチル｝エチル基、１−｛１’
−（ｎ−プロポキシカルボニル）エチル｝エチル基、１
−｛１’−（ｉ−プロポキシカルボニル）エチル｝エチ
ル基、１−｛１’−（ｎ−ブトキシカルボニル）エチ
ル｝エチル基、１−｛１’−（シクロペンチルオキシカ
ルボニル）エチル｝エチル基、１−｛１’−（シクロヘ
キシルオキシカルボニル）エチル｝エチル基等の１−
〔１’−｛（シクロ）アルコキシカルボニル｝エチル〕
エチル基；

【００１９】１−｛１’−（メトキシカルボニル）エチ
ル｝プロピル基、１−｛１’−（エトキシカルボニル）
エチル｝プロピル基、１−｛１’−（ｎ−プロポキシカ
ルボニル）エチル｝プロピル基、１−｛１’−（ｉ−プ
ロポキシカルボニル）エチル｝プロピル基、１−｛１’
−（ｎ−ブトキシカルボニル）エチル｝プロピル基、１
−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニル）エチル｝プロピ
ル基、１−｛１’−（シクロペンチルオキシカルボニ
ル）エチル｝プロピル基、１−｛１’−（シクロヘキシ
ルオキシカルボニル）エチル｝プロピル基等の１−
〔１’−｛（シクロ）アルコキシカルボニル｝エチル〕
プロピル基；１−｛１’−（メトキシカルボニル）エチ
ル｝−１−メチルエチル基、１−｛１’−（エトキシカ
ルボニル）エチル｝−１−メチルエチル基、１−｛１’
−（ｎ−プロポキシカルボニル）エチル｝−１−メチル
エチル基、１−｛１’−（ｉ−プロポキシカルボニル）
エチル｝−１−メチルエチル基、１−｛１’−（ｎ−ブ
トキシカルボニル）エチル｝−１−メチルエチル基、１
−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニル）エチル｝−１−
メチルエチル基、１−｛１’−（シクロペンチルオキシ
カルボニル）エチル｝−１−メチルエチル基、１−
｛１’−（シクロヘキシルオキシカルボニル）エチル｝
−１−メチルエチル基等の１−〔１’−｛（シクロ）ア
ルコキシカルボニル｝エチル〕−１−メチルエチル基；
１−｛１’−（メトキシカルボニル）エチル｝ブチル
基、１−｛１’−（エトキシカルボニル）エチル｝ブチ
ル基、１−｛１’−（ｎ−プロポキシカルボニル）エチ
ル｝ブチル基、１−｛１’−（ｉ−プロポキシカルボニ
ル）エチル｝ブチル基、１−｛１’−（ｎ−ブトキシカ
ルボニル）エチル｝ブチル基、１−｛１’−（ｔ−ブト
キシカルボニル）エチル｝ブチル基、１−｛１’−（シ
クロペンチルオキシカルボニル）エチル｝ブチル基、１
−｛１’−（シクロヘキシルオキシカルボニル）エチ
ル｝ブチル基等の１−〔１’−｛（シクロ）アルコキシ
カルボニル｝エチル〕ブチル基；１−｛１’−（メトキ
シカルボニル）エチル｝−１−メチルプロピル基、１−
｛１’−（エトキシカルボニル）エチル｝−１−メチル
プロピル基、１−｛１’−（ｎ−プロポキシカルボニ
ル）エチル｝−１−メチルプロピル基、１−｛１’−
（ｉ−プロポキシカルボニル）エチル｝−１−メチルプ
ロピル基、１−｛１’−（ｎ−ブトキシカルボニル）エ
チル｝−１−メチルプロピル基、１−｛１’−ｔ−ブト
キシカルボニル）エチル｝−１−メチルプロピル基、１
−｛１’−（シクロペンチルオキシカルボニル）エチ
ル｝−１−メチルプロピル基、１−｛１’−（シクロヘ
キシルオキシカルボニル）エチル｝−１−メチルプロピ
ル基等の１−〔１’−｛（シクロ）アルコキシカルボニ
ル｝エチル〕−１−メチルプロピル基；

【００２０】１−｛１’−（メトキシカルボニル）エチ
ル｝シクロペンチル基、１−｛１’−（エトキシカルボ
ニル）エチル｝シクロペンチル基、１−｛１’−（ｎ−
プロポキシカルボニル）エチル｝シクロペンチル基、１
−｛１’−（ｉ−プロポキシカルボニル）エチル｝シク
ロペンチル基、１−｛１’−（ｎ−ブトキシカルボニ
ル）エチル｝シクロペンチル基、１−｛１’−（ｔ−ブ
トキシカルボニル）エチル｝シクロペンチル基、１−
｛１’−（シクロペンチルオキシカルボニル）エチル｝
シクロペンチル基、１−｛１’−（シクロヘキシルオキ
シカルボニル）エチル｝シクロペンチル基等の１−
〔１’−｛（シクロ）アルコキシカルボニル｝エチル〕
シクロペンチル基；１−｛１’−（メトキシカルボニ
ル）エチル｝シクロヘキシル基、１−｛１’−（エトキ
シカルボニル）エチル｝シクロヘキシル基、１−｛１’
−（ｎ−プロポキシカルボニル）エチル｝シクロヘキシ
ル基、１−｛１’−（ｉ−プロポキシカルボニル）エチ
ル｝シクロヘキシル基、１−｛１’−（ｎ−ブトキシカ
ルボニル）エチル｝シクロヘキシル基、１−｛１’−
（ｔ−ブトキシカルボニル）エチル｝シクロヘキシル
基、１−｛１’−（シクロペンチルオキシカルボニル）
エチル｝シクロヘキシル基、１−｛１’−（シクロヘキ
シルオキシカルボニル）エチル｝シクロヘキシル基等の
１−〔１’−｛（シクロ）アルコキシカルボニル｝エチ
ル〕シクロヘキシル基；

【００２１】｛１−（メトキシカルボニル）プロピル｝
メチル基、｛１−（エトキシカルボニル）プロピル｝メ
チル基、｛１−（ｎ−プロポキシカルボニル）プロピ
ル｝メチル基、｛１−（ｉ−プロポキシカルボニル）プ
ロピル｝メチル基、｛１−（ｎ−ブトキシカルボニル）
プロピル｝メチル基、｛１−（ｔ−ブトキシカルボニ
ル）プロピル｝メチル基、｛１−（シクロペンチルオキ
シカルボニル）プロピル｝メチル基、｛１−（シクロヘ
キシルオキシカルボニル）プロピル｝メチル基等の〔１
−｛（シクロ）アルコキシカルボニル｝プロピル〕メチ
ル基；１−｛１’−（メトキシカルボニル）プロピル｝
エチル基、１−｛１’−（エトキシカルボニル）プロピ
ル｝エチル基、１−｛１’−（ｎ−プロポキシカルボニ
ル）プロピル｝エチル基、１−｛１’−（ｉ−プロポキ
シカルボニル）プロピル｝エチル基、１−｛１’−（ｎ
−ブトキシカルボニル）プロピル｝エチル基、１−
｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニル）プロピル｝エチル
基、１−｛１’−（シクロペンチルオキシカルボニル）
プロピル｝エチル基、１−｛１’−（シクロヘキシルオ
キシカルボニル）プロピル｝エチル基等の１−〔１’−
｛（シクロ）アルコキシカルボニル｝プロピル〕エチル
基；

【００２２】１−｛１’−（メトキシカルボニル）プロ
ピル｝プロピル基、１−｛１’−（エトキシカルボニ
ル）プロピル｝プロピル基、１−｛１’−（ｎ−プロポ
キシカルボニル）プロピル｝プロピル基、１−｛１’−
（ｉ−プロポキシカルボニル）プロピル｝プロピル基、
１−｛１’−（ｎ−ブトキシカルボニル）プロピル｝プ
ロピル基、１−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニル）プ
ロピル｝プロピル基、１−｛１’−（シクロペンチルオ
キシカルボニル）プロピル｝プロピル基、１−｛１’−
（シクロヘキシルオキシカルボニル）プロピル｝プロピ
ル基等の１−〔１’−｛（シクロ）アルコキシカルボニ
ル｝プロピル〕プロピル基；１−｛１’−（メトキシカ
ルボニル）プロピル｝−１−メチルエチル基、１−
｛１’−（エトキシカルボニル）プロピル｝−１−メチ
ルエチル基、１−｛１’−（ｎ−プロポキシカルボニ
ル）プロピル｝−１−メチルエチル基、１−｛１’−
（ｉ−プロポキシカルボニル）プロピル｝−１−メチル
エチル基、１−｛１’−（ｎ−ブトキシカルボニル）プ
ロピル｝−１−メチルエチル基、１−｛１’−（ｔ−ブ
トキシカルボニル）プロピル｝−１−メチルエチル基、
１−｛１’−（シクロペンチルオキシカルボニル）プロ
ピル｝−１−メチルエチル基、１−｛１’−（シクロヘ
キシルオキシカルボニル）プロピル｝−１−メチルエチ
ル基等の１−〔１’−｛（シクロ）アルコキシカルボニ
ル｝プロピル〕−１−メチルエチル基；１−｛１’−
（メトキシカルボニル）プロピル｝ブチル基、１−
｛１’−（エトキシカルボニル）プロピル｝ブチル基、
１−｛１’−（ｎ−プロポキシカルボニル）プロピル｝
ブチル基、１−｛１’−（ｉ−プロポキシカルボニル）
プロピル｝ブチル基、１−｛１’−（ｎ−ブトキシカル
ボニル）プロピル｝ブチル基、１−｛１’−（ｔ−ブト
キシカルボニル）プロピル｝ブチル基、１−｛１’−
（シクロペンチルオキシカルボニル）プロピル｝ブチル
基、１−｛１’−（シクロヘキシルオキシカルボニル）
プロピル｝ブチル基等の１−〔１’−｛（シクロ）アル
コキシカルボニル｝プロピル〕ブチル基；１−｛１’−
（メトキシカルボニル）プロピル｝−１−メチルプロピ
ル基、１−｛１’−（エトキシカルボニル）プロピル｝
−１−メチルプロピル基、１−｛１’−（ｎ−プロポキ
シカルボニル）プロピル｝−１−メチルプロピル基、１
−｛１’−（ｉ−プロポキシカルボニル）プロピル｝−
１−メチルプロピル基、１−｛１’−（ｎ−ブトキシカ
ルボニル）プロピル｝−１−メチルプロピル基、１−
｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニル）プロピル｝−１−
メチルプロピル基、１−｛１’−（シクロペンチルオキ
シカルボニル）プロピル｝−１−メチルプロピル基、１
−｛１’−（シクロヘキシルオキシカルボニル）プロピ
ル｝−１−メチルプロピル基等の１−〔１’−｛（シク
ロ）アルコキシカルボニル｝プロピル〕−１−メチルプ
ロピル基；

【００２３】１−｛１’−（メトキシカルボニル）プロ
ピル｝シクロペンチル基、１−｛１’−（エトキシカル
ボニル）プロピル｝シクロペンチル基、１−｛１’−
（ｎ−プロポキシカルボニル）プロピル｝シクロペンチ
ル基、１−｛１’−（ｉ−プロポキシカルボニル）プロ
ピル｝シクロペンチル基、１−｛１’−（ｎ−ブトキシ
カルボニル）プロピル｝シクロペンチル基、１−｛１’
−（ｔ−ブトキシカルボニル）プロピル｝シクロペンチ
ル基、１−｛１’−（シクロペンチルオキシカルボニ
ル）プロピル｝シクロペンチル基、１−｛１’−（シク
ロヘキシルオキシカルボニル）プロピル｝シクロペンチ
ル基等の１−〔１’−｛（シクロ）アルコキシカルボニ
ル｝プロピル〕シクロペンチル基；１−｛１’−（メト
キシカルボニル）プロピル｝シクロヘキシル基、１−
｛１’−（エトキシカルボニル）プロピル｝シクロヘキ
シル基、１−｛１’−（ｎ−プロポキシカルボニル）プ
ロピル｝シクロヘキシル基、１−｛１’−（ｉ−プロポ
キシカルボニル）プロピル｝シクロヘキシル基、１−
｛１’−（ｎ−ブトキシカルボニル）プロピル｝シクロ
ヘキシル基、１−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニル）
プロピル｝シクロヘキシル基、１−｛１’−（シクロペ
ンチルオキシカルボニル）プロピル｝シクロヘキシル
基、１−｛１’−（シクロヘキシルオキシカルボニル）
プロピル｝シクロヘキシル基等の１−〔１’−｛（シク
ロ）アルコキシカルボニル｝プロピル〕シクロヘキシル
基等を挙げることができる。

【００２４】これらの酸解離性基（１）のうち、１−
（メトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル基、
１−（エトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル
基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチ
ルエチル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメ
チル）−１−メチルエチル基、１−（メトキシカルボニ
ルメチル）−１−メチルプロピル基、１−（エトキシカ
ルボニルメチル）−１−メチルプロピル基、１−（ｔ−
ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルプロピル基、
１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）−１−
メチルプロピル基、１−（メトキシカルボニルメチル）
シクロペンチル基、１−（エトキシカルボニルメチル）
シクロペンチル基、１−（ｉ−プロポキシカルボニルメ
チル）シクロペンチル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニ
ルメチル）シクロペンチル基、１−（シクロヘキシルオ
キシカルボニルメチル）シクロペンチル基、１−（メト
キシカルボニルメチル）シクロヘキシル基、１−（エト
キシカルボニルメチル）シクロヘキシル基、１−（ｔ−
ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル基、１−
（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）シクロヘキ
シル基等が好ましい。

【００２５】また、樹脂（Ａ）は、酸解離性基（１）以
外の酸解離性基（以下、「他の酸解離性基」という。を
さらに含有することができる。他の酸解離性基として
は、例えば、ｔ−ブチル基、ｔ−ブトキシカルボニル
基、アセチル基、１−メトキシエチル基、１−エトキシ
エチル基、１−ｎ−ブトキシエチル基、１−ｎ−ペンチ
ルオキシエチル基、テトラヒドロピラニル基、メチルテ
トラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、メチ
ルテトラヒドロフラニル基、３−オキソ−１−メチルブ
チル基、３−オキソ−１，１−ジメチルブチル基、３−
オキソ−１−ｉ−プロピルブチル基、下記一般式（３）
で表されるラクトン基（以下、「ラクトン基（３）」と
いう。）、下記一般式（４）で表されるラクトン基（以
下、「ラクトン基（４）」という。）等を挙げることが
できる。

【００２６】

【化３】

【００２７】〔一般式（３）において、Ｒ⁵ は水素原
子、メチル基またはエチル基を示す。〕

【００２８】

【化４】

【００２９】〔一般式（４）において、Ｒ⁶ は水素原
子、メチル基またはエチル基を示す。〕 これらの他の酸解離性基のうち、ｔ−ブチル基、ｔ−ブ
トキシカルボニル基、１−エトキシエチル基、テトラヒ
ドロピラニル基、メチルテトラヒドロピラニル基、テト
ラヒドロフラニル基、メチルテトラヒドロフラニル基、
３−オキソ−１−メチルブチル基、３−オキソ−１，１
−ジメチルブチル基、３−オキソ−１−ｉ−プロピルブ
チル基、ラクトン基（３）、ラクトン基（４）等が好ま
しい。

【００３０】以下、樹脂（Ａ−Ｉ）および樹脂（Ａ−I
I) について、順次説明する。樹脂（Ａ−Ｉ）は、例え
ば、（イ）予め製造したアルカリ可溶性樹脂に１種以上
の酸解離性基（１）を導入する方法、（ロ）酸解離性基
（１）を有する１種以上の重合性不飽和化合物を（共）
重合する方法、（ハ）酸解離性基（１）を有する１種以
上の重縮合性成分を（共）重縮合する方法等により製造
することができる。

【００３１】前記（イ）の方法に使用されるアルカリ可
溶性樹脂としては、例えば、酸性官能基を有する繰返し
単位を１種以上有する付加重合系樹脂あるいは重縮合系
樹脂を挙げることができる。前記付加重合系のアルカリ
可溶性樹脂における酸性官能基を有する繰返し単位とし
ては、例えば、下記する酸性官能基を有する重合性不飽
和化合物中の重合性不飽和結合が開裂した単位を挙げる
ことができる。ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキ
シスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−ヒドロキシ
−α−メチルスチレン、ｍ−ヒドロキシ−α−メチルス
チレン、ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、ｐ−カ
ルボキシスチレン、ｐ−カルボキシメチルスチレン、ｐ
−（２−カルボキシエチル）スチレン、ｐ−カルボキシ
メトキシスチレン、ｐ−（２−カルボキシエトキシ）ス
チレン、ｐ−カルボキシメチルカルボニルオキシスチレ
ン、ｐ−（２−カルボキシエチル）カルボニルオキシス
チレン等の（α−メチル）スチレン誘導体；２−ヒドロ
キシ−１−ビニルナフタレン、３−ヒドロキシ−１−ビ
ニルナフタレン、４−ヒドロキシ−１−ビニルナフタレ
ン、５−ヒドロキシ−１−ビニルナフタレン、６−ヒド
ロキシ−１−ビニルナフタレン、７−ヒドロキシ−１−
ビニルナフタレン、８−ヒドロキシ−１−ビニルナフタ
レン、２−ヒドロキシ−１−イソプロペニルナフタレ
ン、３−ヒドロキシ−１−イソプロペニルナフタレン、
４−ヒドロキシ−１−イソプロペニルナフタレン、５−
ヒドロキシ−１−イソプロペニルナフタレン、６−ヒド
ロキシ−１−イソプロペニルナフタレン、７−ヒドロキ
シ−１−イソプロペニルナフタレン、８−ヒドロキシ−
１−イソプロペニルナフタレン、２−カルボキシ−１−
ビニルナフタレン、３−カルボキシ−１−ビニルナフタ
レン、４−カルボキシ−１−ビニルナフタレン、５−カ
ルボキシ−１−ビニルナフタレン、６−カルボキシ−１
−ビニルナフタレン、７−カルボキシ−１−ビニルナフ
タレン、８−カルボキシ−１−ビニルナフタレン等のビ
ニルナフタレン誘導体あるいはイソプロペニルナフタレ
ン誘導体；

【００３２】（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイ
ン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン
酸、けい皮酸等の不飽和カルボン酸類；（メタ）アクリ
ル酸２−カルボキシエチル、（メタ）アクリル酸２−カ
ルボキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−カルボキシ
プロピル、（メタ）アクリル酸４−カルボキシブチル、
下記一般式（５）で表される化合物（以下、「（メタ）
アクリル酸エステル（５）」という。）等の不飽和カル
ボン酸のカルボキシル基含有エステル類等。

【００３３】

【化５】

【００３４】〔一般式（５）において、Ｒ⁷ は水素原子
またはメチル基を示す。〕 これらの重合性不飽和化合物のうち、ｐ−ヒドロキシス
チレン、ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、ｐ−カ
ルボキシスチレン、（メタ）アクリル酸、（メタ）アク
リル酸エステル（５）等が好ましい。

【００３５】付加重合系のアルカリ可溶性樹脂は、酸性
官能基を有する繰返し単位のみから構成されていてもよ
いが、得られる樹脂がアルカリ可溶性である限り、他の
重合性不飽和化合物の重合性不飽和結合が開裂した繰返
し単位を１種以上含有することができる。前記他の重合
性不飽和化合物としては、例えば、スチレン、α−メチ
ルスチレン、４−ｔ−ブチルスチレン、４−ｔ−ブチル
−α−メチルスチレン、４−クロロスチレン、４−クロ
ロ−α−メチルスチレン、４−メトキシスチレン、４−
メトキシ−α−メチルスチレン、１−ビニルナフタレ
ン、４−メチル−１−ビニルナフタレン、５−メチル−
１−ビニルナフタレン、１−イソプロペニルナフタレ
ン、４−クロロ−１−ビニルナフタレン、５−クロロ−
１−ビニルナフタレン、４−メトキシ−１−ビニルナフ
タレン、５−メトキシ−１−ビニルナフタレン等のビニ
ル芳香族化合物；（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）
アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、
（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸２
−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキ
シプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピ
ルのほか、（メタ）アクリル酸ノルボルニル、（メタ）
アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸トリシク
ロデカニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、
（メタ）アクリル酸アダマンチル、（メタ）アクリル酸
１−メチルアダマンチル、（メタ）アクリル酸アダマン
チルメチル等のエステル基中に脂環式骨格を有する（メ
タ）アクリル酸エステル等の（メタ）アクリル酸エステ
ル類類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル
等のビニスエステル類；（メタ）アクリロニトリル、α
−クロロアクリロニトリル、クロトンニトリル、マレイ
ンニトリル、フマロニトリル、メサコンニトリル、シト
ラコンニトリル、イタコンニトリル等の不飽和ニトリル
化合物；（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
（メタ）アクリルアミド、クロトンアミド、マレインア
ミド、フマルアミド、メサコンアミド、シトラコンアミ
ド、イタコンアミド等の不飽和アミド化合物；Ｎ−ビニ
ル−ε−カプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニ
ルピリジン、ビニルイミダゾール等の他の含窒素ビニル
化合物等を挙げることができる。

【００３６】これらの他の重合性不飽和化合物のうち、
スチレン、α−メチルスチレン、（メタ）アクリル酸メ
チル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メ
タ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アク
リル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸トリシクロデ
カニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メ
タ）アクリル酸アダマンチル、（メタ）アクリル酸１−
メチルアダマンチル、（メタ）アクリル酸アダマンチル
メチル等が好ましい。

【００３７】また、前記重縮合系のアルカリ可溶性樹脂
は、１種以上のフェノール類と１種以上のアルデヒド類
とを、場合により他の繰返し単位を形成しうる重縮合成
分とともに、酸性触媒の存在下、水媒質中または水と親
水性溶媒との混合媒質中で重縮合することによって製造
することができる。前記フェノール類としては、例え
ば、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ
−クレゾール、２，３−キシレノール、２，４−キシレ
ノール、２，５−キシレノール、３，４−キシレノー
ル、３，５−キシレノール、２，３，５−トリメチルフ
ェノール、３，４，５−トリメチルフェノール、レゾル
シノール、カテコール、ピロガロール、１−ナフトー
ル、２−ナフトール等を挙げることができ、また前記ア
ルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、トリ
オキサン、パラホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、
アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、フェニルアセ
トアルデヒド等を挙げることができる。付加重合系およ
び重縮合系のアルカリ可溶性樹脂における酸性官能基を
有する繰返し単位の含有率は、該繰返し単位および他の
繰返し単位の種類により一概に規定できないが、通常、
１０〜１００モル％、好ましくは１５〜１００モル％で
ある。

【００３８】（イ）の方法における酸解離性基（１）の
導入は、前記アルカリ可溶性樹脂中の酸性官能基を、例
えば、下記一般式（６）で表される反応を経て合成され
る三級アルコールを用い、常法によりエステル化または
エーテル化することより実施することができる。

【００３９】

【化６】

【００４０】〔一般式（６）において、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ
³ およびＲ⁴ は、それぞれ一般式（１）におけるＲ¹ 、
Ｒ² 、Ｒ³ およびＲ⁴ と同義である。〕 また、（ロ）の方法に使用される酸解離性基（１）を有
する重合性不飽和化合物としては、例えば、前記（イ）
の方法で例示した酸性官能基を有する重合性不飽和化合
物中の該酸性官能基の水素原子を、酸解離性基（１）で
置換した化合物を挙げることができ、（ハ）の方法に使
用される酸解離性基（１）を有する重縮合性成分として
は、例えば、前記（イ）の方法で例示したフェノール類
のフェノール性水酸基の水素原子を酸解離性基（１）で
置換した化合物とアルデヒド類とを挙げることができ
る。（ロ）あるいは（ハ）の方法に使用される酸解離性
基（１）を有する重合性不飽和化合物あるいは酸解離性
基（１）を有する重縮合性成分は、例えば、それらの酸
解離性基を水素原子に置換した化合物を、前記式（６）
で表される反応を経て合成される三級アルコールを用
い、常法によりエステル化またはエーテル化することよ
り合成することができる。（ロ）の方法において、全重
合性不飽和化合物に対する酸解離性基（１）を有する重
合性不飽和化合物の使用割合は、酸解離性基（１）を有
する重合性不飽和化合物および他の重合性不飽和化合物
の種類により一概に規定できないが、通常、１０〜１０
０モル％、好ましくは１５〜１００モル％であり、また
（ハ）の方法において、全重縮合性成分に対する酸解離
性基（１）を有する重縮合性成分の使用割合は、酸解離
性基（１）を有する重縮合性成分および他の重縮合性成
分の種類により、一概に規定できないが、通常、１０〜
１００モル％、好ましくは１５〜１００モル％である。
（イ）の方法における付加重合系のアルカリ可溶性樹脂
を製造する際の重合および（ロ）の方法における重合
は、例えば、ラジカル重合開始剤、アニオン重合触媒、
配位アニオン重合触媒、カチオン重合触媒等を適宜に選
定し、塊状重合、溶液重合、沈澱重合、乳化重合、懸濁
重合、塊状−懸濁重合等の適宜の重合方法により実施す
ることができる。

【００４１】本発明における好ましい樹脂（Ａ−Ｉ）の
具体例としては、下記のものを挙げることができる。４
−｛１’−（メトキシカルボニルメチル）−１’−メチ
ルエトキシ｝スチレン／ｐ−ヒドロキシスチレン共重合
体、４−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−
１’−メチルエトキシ｝スチレン／ｐ−ヒドロキシスチ
レン共重合体、４−｛１’−（メトキシカルボニルメチ
ル）シクロヘキシルオキシ｝スチレン／ｐ−ヒドロキシ
スチレン共重合体、４−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボ
ニルメチル）シクロヘキシルオキシ｝スチレン／ｐ−ヒ
ドロキシスチレン共重合体等のスチレン系樹脂；４−
｛１’−（メトキシカルボニルメチル）−１’−メチル
エトキシ｝−１−ビニルナフタレン／４−ヒドロキシ−
１−ビニルナフタレン共重合体、４−｛１’−（ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝−
１−ビニルナフタレン／４−ヒドロキシ−１−ビニルナ
フタレン共重合体、４−｛１’−（メトキシカルボニル
メチル）シクロヘキシルオキシ｝−１−ビニルナフタレ
ン／４−ヒドロキシ−１−ビニルナフタレン共重合体、
４−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロ
ヘキシルオキシ｝−１−ビニルナフタレン／４−ヒドロ
キシ−１−ビニルナフタレン共重合体等のビニルナフタ
レン系樹脂；

【００４２】（メタ）アクリル酸｛１−（メトキシカル
ボニルメチル）−１−メチルエチル｝／（メタ）アクリ
ル酸トリシクロデカニル／（メタ）アクリル酸共重合
体、（メタ）アクリル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニ
ルメチル）−１−メチルエチル｝／（メタ）アクリル酸
トリシクロデカニル／（メタ）アクリル酸共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（メトキシカルボニルメチ
ル）シクロヘキシル｝／（メタ）アクリル酸トリシクロ
デカニル／（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）アク
リル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロ
ヘキシル｝／（メタ）アクリル酸トリシクロデカニル／
（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）アクリル酸｛１
−（メトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル｝
／（メタ）アクリル酸アダマンチル／（メタ）アクリル
酸共重合体、（メタ）アクリル酸｛１−（ｔ−ブトキシ
カルボニルメチル）−１−メチルエチル｝／（メタ）ア
クリル酸アダマンチル／（メタ）アクリル酸共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（メトキシカルボニルメチ
ル）シクロヘキシル｝／（メタ）アクリル酸アダマンチ
ル／（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）アクリル酸
｛１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシ
ル｝／（メタ）アクリル酸アダマンチル／（メタ）アク
リル酸共重合体、（メタ）アクリル酸｛１−（メトキシ
カルボニルメチル）−１−メチルエチル｝／（メタ）ア
クリル酸１−メチルアダマンチル／（メタ）アクリル酸
共重合体、（メタ）アクリル酸｛１−（ｔ−ブトキシカ
ルボニルメチル）−１−メチルエチル｝／（メタ）アク
リル酸１−メチルアダマンチル／（メタ）アクリル酸共
重合体、（メタ）アクリル酸｛１−（メトキシカルボニ
ルメチル）シクロヘキシル｝／（メタ）アクリル酸１−
メチルアダマンチル／（メタ）アクリル酸共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニルメ
チル）シクロヘキシル｝／（メタ）アクリル酸１−メチ
ルアダマンチル／（メタ）アクリル酸共重合体、（メ
タ）アクリル酸｛１−（メトキシカルボニルメチル）−
１−メチルエチル｝／（メタ）アクリル酸アダマンチル
メチル／（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）アクリ
ル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メ
チルエチル｝／（メタ）アクリル酸アダマンチルメチル
／（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）アクリル酸
｛１−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル｝
／（メタ）アクリル酸アダマンチルメチル／（メタ）ア
クリル酸共重合体、（メタ）アクリル酸｛１−（ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル）シクロヘキシル｝／（メタ）
アクリル酸アダマンチルメチル／（メタ）アクリル酸共
重合体、

【００４３】（メタ）アクリル酸｛１−（メトキシカル
ボニルメチル）−１−メチルエチル｝／（メタ）アクリ
ル酸トリシクロデカニル／（メタ）アクリル酸２−ヒド
ロキシプロピル共重合体、（メタ）アクリル酸｛１−
（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチ
ル｝／（メタ）アクリル酸トリシクロデカニル／（メ
タ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、（メ
タ）アクリル酸｛１−（メトキシカルボニルメチル）シ
クロヘキシル｝／（メタ）アクリル酸トリシクロデカニ
ル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合
体、（メタ）アクリル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニ
ルメチル）シクロヘキシル｝／（メタ）アクリル酸トリ
シクロデカニル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプ
ロピル共重合体、（メタ）アクリル酸｛１−（メトキシ
カルボニルメチル）−１−メチルエチル｝／（メタ）ア
クリル酸アダマンチル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロ
キシプロピル共重合体、（メタ）アクリル酸｛１−（ｔ
−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル｝／
（メタ）アクリル酸アダマンチル／（メタ）アクリル酸
２−ヒドロキシプロピル共重合体、（メタ）アクリル酸
｛１−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル｝
／（メタ）アクリル酸アダマンチル／（メタ）アクリル
酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、（メタ）アクリル
酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキ
シル｝／（メタ）アクリル酸アダマンチル／（メタ）ア
クリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、（メタ）ア
クリル酸｛１−（メトキシカルボニルメチル）−１−メ
チルエチル｝／（メタ）アクリル酸１−メチルアダマン
チル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重
合体、（メタ）アクリル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボ
ニルメチル）−１−メチルエチル｝／（メタ）アクリル
酸１−メチルアダマンチル／（メタ）アクリル酸２−ヒ
ドロキシプロピル共重合体、（メタ）アクリル酸｛１−
（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル｝／（メ
タ）アクリル酸１−メチルアダマンチル／（メタ）アク
リル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、（メタ）アク
リル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロ
ヘキシル｝／（メタ）アクリル酸１−メチルアダマンチ
ル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合
体、（メタ）アクリル酸｛１−（メトキシカルボニルメ
チル）−１−メチルエチル｝／（メタ）アクリル酸アダ
マンチルメチル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプ
ロピル共重合体、（メタ）アクリル酸｛１−（ｔ−ブト
キシカルボニルメチル）−１−メチルエチル｝／（メ
タ）アクリル酸アダマンチルメチル／（メタ）アクリル
酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、（メタ）アクリル
酸｛１−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシ
ル｝／（メタ）アクリル酸アダマンチルメチル／（メ
タ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、（メ
タ）アクリル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチ
ル）シクロヘキシル｝／（メタ）アクリル酸アダマンチ
ルメチル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル
共重合体、

【００４４】下記一般式（７）で表される重合性不飽和
化合物（以下、「重合性不飽和化合物（７）」とい
う。）／（メタ）アクリル酸トリシクロデカニル／（メ
タ）アクリル酸共重合体、

【００４５】

【化７】

【００４６】〔一般式（７）において、Ｒ⁸ は水素原子
またはメチル基を示し、Ｗは１−（メトキシカルボニル
メチル）−１−メチルエチル基、１−（ｔ−ブトキシカ
ルボニルメチル）−１−メチルエチル基、１−（メトキ
シカルボニルメチル）シクロヘキシル基または１−（ｔ
−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル基を示
す。〕 重合性不飽和化合物（７）／（メタ）アクリル酸アダマ
ンチル／（メタ）アクリル酸共重合体、重合性不飽和化
合物（７）／（メタ）アクリル酸１−メチルアダマンチ
ル／（メタ）アクリル酸共重合体、重合性不飽和化合物
（７）／（メタ）アクリル酸アダマンチルメチル／（メ
タ）アクリル酸共重合体、重合性不飽和化合物（７）／
（メタ）アクリル酸トリシクロデカニル／（メタ）アク
リル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、重合性不飽和
化合物（７）／（メタ）アクリル酸アダマンチル／（メ
タ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、重合
性不飽和化合物（７）／（メタ）アクリル酸１−メチル
アダマンチル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロ
ピル共重合体、重合性不飽和化合物（７）／（メタ）ア
クリル酸アダマンチルメチル／（メタ）アクリル酸２−
ヒドロキシプロピル共重合体等の（メタ）アクリル系樹
脂。

【００４７】次に、樹脂（Ａ−II) としては、例えば、
下記一般式（８）で表される繰返し単位（以下、「繰返
し単位（８）」という。）を有するノルボルネン系樹脂
（以下、「ノルボルネン系樹脂（８）」という。）を挙
げることができる。

【００４８】

【化８】

【００４９】〔一般式（８）において、αおよびβは相
互に独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０の
１価の炭化水素基または炭素数１〜１０の１価のハロゲ
ン化炭化水素基を示し、ＸおよびＹは相互に独立に水素
原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０の１価の炭化水素
基、炭素数１〜１０の１価のハロゲン化炭化水素基また
は基−ＣＯＯＺ( 但し、Ｚは酸解離性基（１）を示
す。）を示し、かつＸおよびＹの少なくとも一方は基−
ＣＯＯＺであり、ｎは０または１である。〕 ノルボルネン系樹脂（８）は、例えば、（ニ）予め製造
したノルボルネン系アルカリ可溶性樹脂に１種以上の酸
解離性基（１）を導入する方法、（ホ）繰返し単位
（８）に対応する１種以上のノルボルネン系化合物（以
下、「ノルボルネン系化合物（８）」という。）を
（共）重合する方法等により製造することができる。

【００５０】（ニ）の方法に使用されるノルボルネン系
アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、下記する酸性官
能基を有するノルボルネン系化合物の不飽和結合が開裂
した繰返し単位を含有する樹脂を挙げることができる。
５−カルボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エ
ン、５−メチル−５−カルボキシビシクロ[ ２．２．
１] ヘプト−２−エン、５−エチル−５−カルボキシビ
シクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、５−ｎ−プロ
ピル−５−カルボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−
２−エン、６−メチル−５−カルボキシビシクロ[ ２．
２．１] ヘプト−２−エン、６−エチル−５−カルボキ
シビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、６−ｎ−
プロピル−５−カルボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプ
ト−２−エン、８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．
０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、８−メチル−
８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１
^7,10 ]ドデカ−３−エン、８−エチル−８−カルボキシ
テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−
３−エン、８−ｎ−プロピル−８−カルボキシテトラシ
クロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10]ドデカ−３−エ
ン、９−メチル−８−カルボキシテトラシクロ[ ４．
４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、９−エチ
ル−８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１
^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、９−ｎ−プロピル−
８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１
^7,10]ドデカ−３−エン等。

【００５１】これらのノルボルネン系化合物のうち、５
−カルボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エ
ン、５−メチル−５−カルボキシビシクロ[ ２．２．
１] ヘプト−２−エン、８−カルボキシテトラシクロ[
４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、８−
メチル−８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１
^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン等が好ましい。

【００５２】（ニ）の方法に使用されるノルボルネン系
アルカリ可溶性樹脂は、酸性官能基を有する前記ノルボ
ルネン系化合物の不飽和結合が開裂した繰返し単位のみ
から構成されていてもよいが、得られる樹脂がアルカリ
可溶性である限り、他の繰返し単位を１種以上含有する
ことができる。このような他の繰返し単位としては、例
えば、下記する他の重合性不飽和化合物の重合性不飽和
結合が開裂した繰返し単位を挙げることができる。ノル
ボルネン（ビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エ
ン）、５−メトキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１]
ヘプト−２−エン、５−エトキシカルボニルビシクロ[
２．２．１] ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシビシク
ロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメ
チルビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、５−メ
チルビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、５−エ
チルビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、５−ヒ
ドロキシ−５−メチルビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−
２−エン、

【００５３】テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１
^7,10 ]ドデカ−３−エン、８−メトキシテトラシクロ[
４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、８−
エトキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]
ドデカ−３−エン、８−ヒドロキシテトラシクロ[ ４．
４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、８−ヒド
ロキシメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１
^7,10 ]ドデカ−３−エン、８−メチルテトラシクロ[
４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、８−
エチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ド
デカ−３−エン、８−ヒドロキシ−８−メチルテトラシ
クロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エ
ン、８−ｔ−ブトキシカルボニルテトラシクロ[ ４．
４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、８−ｔ−
ブトキシカルボニル−８−メチルテトラシクロ[ ４．
４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、

【００５４】８−フルオロテトラシクロ[ ４．４．０．
１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、８−フルオロメチ
ルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ
−３−エン、８−ジフルオロメチルテトラシクロ[ ４．
４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、８−トリ
フルオロメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１
^7,10 ]ドデカ−３−エン、８−ペンタフルオロエチルテ
トラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３
−エン、８，８−ジフルオロテトラシクロ[ ４．４．
０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、８，９−ジフ
ルオロテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ド
デカ−３−エン、８，８−ビス（トリフルオロメチル）
テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−
３−エン、８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラ
シクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エ
ン、８−メチル−８−トリフルオロメチルテトラシクロ
[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８，９−トリフルオロテトラシクロ[ ４．４．０．
１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、８，８，９−トリ
ス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．
１^2,5．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、８，８，９，９−
テトラフルオロテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１
^7,10 ]ドデカ−３−エン、８，８，９，９−テトラキス
（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１
^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、

【００５５】８，８−ジフルオロ−９，９−ビス（トリ
フルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．
１^7,10 ]ドデカ−３−エン、８，９−ジフルオロ−８，
９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．
４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、８，８，
９−トリフルオロ−９−トリフルオロメチルテトラシク
ロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８，９−トリフルオロ−９−トリフルオロメトキシ
テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−
３−エン、８，８，９−トリフルオロ−９−ペンタフル
オロプロポキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１
^7,10 ]ドデカ−３−エン、８−フルオロ−８−ペンタフ
ルオロエチル−９，９−ビス（トリフルオロメチル）テ
トラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３
−エン、８，９−ジフルオロ−８−ヘプタフルオロイソ
プロピル−９−トリフルオロメチルテトラシクロ[ ４．
４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、８−クロ
ロ−８，９，９−トリフルオロテトラシクロ[ ４．４．
０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、８，９−ジク
ロロ−８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシク
ロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（２’，２’，２’−トリフルオロカルボキシエチ
ル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデ
カ−３−エン、８−メチル−８−（２’，２’，２’−
トリフルオロカルボキシエチル）テトラシクロ[ ４．
４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン等のノルボ
ルネン系化合物；

【００５６】ジシクロペンタジエン、トリシクロ[ ５．
２．１．０^2,6 ] デカ−８−エン、トリシクロ[ ５．
２．１．０^2,6 ] デカ−３−エン、トリシクロ[ ４．
４．０．１^2,5 ] ウンデカ−３−エン、トリシクロ[
６．２．１．０^1,8 ] ウンデカ−９−エン、トリシクロ
[ ６．２．１．０^1,8 ] ウンデカ−４−エン、テトラシ
クロ[４．４．０．１^2,5 ．１^7,10．０^1,6 ] ドデカ−
３−エン、８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１
^2,5 ．１^7,10．０^1,6 ] ドデカ−３−エン、８−エチリ
デンテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,12 ]ドデ
カ−３−エン、８−エチリデンテトラシクロ[ ４．４．
０．１^2,5 ．１^7,10．０^1,6 ] ドデカ−３−エン、ペン
タシクロ[ ６．５．１．１^3,6 ．０^2,7 ．０^9,13 ]ペン
タデカ−４−エン、ペンタシクロ[ ７．４．０．１
^2,5 ．１^9,12．０^8,13 ]ペンタデカ−３−エン等の他の
重合性脂環式化合物；

【００５７】（メタ）アクリル酸ノルボルニル、（メ
タ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸トリ
シクロデカニル、（メタ）アクリル酸テトラシクロデカ
ニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メ
タ）アクリル酸アダマンチル、（メタ）アクリル酸１−
メチルアダマンチル、（メタ）アクリル酸アダマンチル
メチル、（メタ）アクリル酸カルボキシトリシクロデカ
ニル、（メタ）アクリル酸カルボキシテトラシクロデカ
ニル、（メタ）アクリル酸シクロプロピル、（メタ）ア
クリル酸シクロペンチル、（メタ）アクリル酸シクロヘ
キシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキセニル、（メ
タ）アクリル酸４−メトキシシクロヘキシル、（メタ）
アクリル酸２−（シクロプロピルオキシカルボニル）エ
チル、（メタ）アクリル酸２−（シクロペンチルオキシ
カルボニル）エチル、（メタ）アクリル酸２−（シクロ
ヘキシルオキシカルボニル）エチル、（メタ）アクリル
酸２−（シクロヘキセニルオキシカルボニル）エチル、
（メタ）アクリル酸２−｛（４’−メトキシシクロヘキ
シル）オキシカルボニル｝エチル、（メタ）アクリル酸
メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル
酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メ
タ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリ
ル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−
ヒドロキシプロピル等の（メタ）アクリル酸エステル
類；α−ヒドロキシメチルアクリル酸メチル、α−ヒド
ロキシメチルアクリル酸エチル、α−ヒドロキシメチル
アクリル酸ｎ−プロピル、α−ヒドロキシメチルアクリ
ル酸ｎ−ブチル等のα−ヒドロキシメチルアクリル酸エ
ステル類；無水マレイン酸、酢酸ビニル、プロピオン酸
ビニル、酪酸ビニル、（メタ）アクリロニトリル、α−
クロロアクリロニトリル、クロトンニトリル、マレイン
ニトリル、フマロニトリル、メサコンニトリル、シトラ
コンニトリル、イタコンニトリル、（メタ）アクリルア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、クロ
トンアミド、マレインアミド、フマルアミド、メサコン
アミド、シトラコンアミド、イタコンアミド、Ｎ−ビニ
ル−ε−カプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニ
ルピリジン、ビニルイミダゾール等。

【００５８】これらの他の重合性不飽和化合物のうち、
ノルボルネン（ビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エ
ン）、５−メトキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１]
ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシビシクロ[ ２．２．
１] ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−メチルビ
シクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、５−ヒドロキ
シメチルビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、８
−メトキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10
]ドデカ−３−エン、８−ヒドロキシテトラシクロ[
４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、８−
ヒドロキシ−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１
^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、８−ヒドロキシメチ
ルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ
−３−エン、８−ｔ−ブトキシカルボニルテトラシクロ
[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、８
−ｔ−ブトキシカルボニル−８−メチルテトラシクロ[
４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、（メ
タ）アクリル酸ノルボルニル、（メタ）アクリル酸イソ
ボルニル、（メタ）アクリル酸トリシクロデカニル、
（メタ）アクリル酸テトラシクロデカニル、（メタ）ア
クリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸アダ
マンチル、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリ
ル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メ
タ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸２−ヒ
ドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプ
ロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、
無水マレイン酸、マレインニトリル、フマロニトリル、
（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）ア
クリルアミド、クロトンアミド、マレインアミド、フマ
ルアミド、メサコンアミド、シトラコンアミド、イタコ
ンアミド、Ｎ−ビニル−ε−カプロラクタム、Ｎ−ビニ
ルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール等
が好ましい。

【００５９】（ニ）の方法における酸解離性基（１）の
導入は、例えば、前記ノルボルネン系アルカリ可溶性樹
脂中の酸性官能基を、前記式（６）で表される反応を経
て合成される三級アルコールを用い、常法によりエステ
ル化することより実施することができる。（ニ）の方法
に使用されるノルボルネン系アルカリ可溶性樹脂中の酸
性官能基を有するノルボルネン系化合物に由来する繰返
し単位の含有率は、該繰返し単位および他の繰返し単位
の種類により一概に規定できないが、通常、１０〜１０
０モル％、好ましくは１５〜１００モル％である。ま
た、（ホ）の方法に使用されるノルボルネン系化合物
（８）は、例えば、（ニ）の方法に使用されるノルボル
ネン系アルカリ可溶性樹脂について例示した酸性官能基
を有するノルボルネン系化合物中の該酸性官能基を、前
記式（６）で表される反応を経て合成される三級アルコ
ールを用い、常法によりエステル化することより合成す
ることができる。（ホ）の方法においては、ノルボルネ
ン系化合物（８）のみを（共）重合させてもよいが、場
合により他の重合性不飽和化合物を共重合させることも
できる。このような他の重合性不飽和化合物としては、
例えば、（ニ）の方法に使用されるノルボルネン系アル
カリ可溶性樹脂について例示した酸性官能基を有するノ
ルボルネン系化合物や他の重合性不飽和化合物と同様の
化合物を挙げることができる。（ホ）の方法において、
全重合性不飽和化合物に対するノルボルネン系化合物
（８）の使用割合は、ノルボルネン系化合物（８）およ
び他の重合性不飽和化合物の種類により一概に規定でき
ないが、通常、１０〜１００モル％、好ましくは１５〜
１００モル％である。また、樹脂（Ａ−II) において
は、繰返し単位（８）と他のノルボルネン系化合物に由
来する繰返し単位との合計含有率が、通常、２０モル％
以上、好ましくは３０モル％以上、さらに好ましくは４
０モル％以上であることが望ましく、それにより、ドラ
イエッチング耐性が特に優れた感放射線性樹脂組成物を
得ることができる。

【００６０】（ニ）の方法におけるノルボルネン系アル
カリ可溶性樹脂を製造する重合および（ホ）の方法にお
ける重合は、例えば、ヒドロパーオキシド類、ジアルキ
ルパーオキシド類、ジアシルパーオキシド類、アゾ化合
物等のラジカル重合開始剤を使用し、適当な溶媒中で実
施することができる。重合に使用される溶媒としては、
例えば、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、
ｎ−オクタン、ｎ−ノナン、ｎ−デカン等のアルカン
類；シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタ
ン、デカリン、ノルボルナン等のシクロアルカン類；ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメン
等の芳香族炭化水素類；クロロブタン類、ブロモヘキサ
ン類、ジクロロエタン類、ヘキサメチレンジブロミド、
クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；酢酸エチ
ル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、プロピオン酸メ
チル等の飽和カルボン酸エステル類；テトラヒドロフラ
ン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエ
タン等のエーエル類等を挙げることができる。これらの
溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用すること
ができる。

【００６１】本発明における好ましい樹脂（Ａ−II) の
具体例としては、下記のものを挙げることができる。８
−〔｛１’−（メトキシカルボニルメチル）−１’−メ
チルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．
０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／５−カルボキ
シビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン共重合体、
８−〔｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−
１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[
４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／５−
カルボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン共
重合体、８−｛１’−（メトキシカルボニルメチル）シ
クロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．
４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／５−カル
ボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン共重合
体、８−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シ
クロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．
４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／５−カル
ボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン共重合
体、８−〔｛１’−（メトキシカルボニルメチル）−
１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[
４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／５−
メチル−５−カルボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト
−２−エン共重合体、８−〔｛１’−（ｔ−ブトキシカ
ルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニ
ル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデ
カ−３−エン／５−メチル−５−カルボキシビシクロ[
２．２．１] ヘプト−２−エン共重合体、８−｛１’−
（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカ
ルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10
]ドデカ−３−エン／５−メチル−５−カルボキシビシ
クロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン共重合体、８−
｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキ
シルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１
^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／５−メチル−５−カ
ルボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン共重
合体、

【００６２】８−〔｛１’−（メトキシカルボニルメチ
ル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシク
ロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／
８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１
^7,10 ]ドデカ−３−エン共重合体、８−〔｛１’−（ｔ
−ブトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキ
シ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．
１^7,10 ]ドデカ−３−エン／８−カルボキシテトラシク
ロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン共
重合体、８−｛１’−（メトキシカルボニルメチル）シ
クロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．
４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／８−カル
ボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ド
デカ−３−エン共重合体、８−｛１’−（ｔ−ブトキシ
カルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝
テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−
３−エン／８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．
１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン共重合体、８−
〔｛１’−（メトキシカルボニルメチル）−１−メチル
エトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１
^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／８−メチル−８−カ
ルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]
ドデカ−３−エン共重合体、８−〔｛１’−（ｔ−ブト
キシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カル
ボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]
ドデカ−３−エン／８−メチル−８−カルボキシテトラ
シクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エ
ン共重合体、８−｛１’−（メトキシカルボニルメチ
ル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[
４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／８−
メチル−８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１
^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン共重合体、８−｛１’
−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオ
キシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．
１^7,10 ]ドデカ−３−エン／８−メチル−８−カルボキ
シテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ
−３−エン共重合体、

【００６３】８−〔｛１’−（メトキシカルボニルメチ
ル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシク
ロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／
無水マレイン酸共重合体、８−〔｛１’−（ｔ−ブトキ
シカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボ
ニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ド
デカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、８−｛１’
−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシ
カルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１
^7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、８
−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘ
キシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．
１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共
重合体、８−〔｛１’−（メトキシカルボニルメチル）
−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[
４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／無水
マレイン酸／（メタ）アクリル酸テトラシクロデカニル
共重合体、８−〔｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメ
チル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシ
クロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン
／無水マレイン酸／（メタ）アクリル酸テトラシクロデ
カニル共重合体、８−｛１’−（メトキシカルボニルメ
チル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ
[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／無
水マレイン酸／（メタ）アクリル酸テトラシクロデカニ
ル共重合体、８−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメ
チル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ
[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／無
水マレイン酸／（メタ）アクリル酸テトラシクロデカニ
ル共重合体、

【００６４】８−〔｛１’−（メトキシカルボニルメチ
ル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシク
ロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／
無水マレイン酸／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプ
ロピル共重合体、８−〔｛１’−（ｔ−ブトキシカルボ
ニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テ
トラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３
−エン／無水マレイン酸／（メタ）アクリル酸２−ヒド
ロキシプロピル共重合体、８−｛１’−（メトキシカル
ボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テト
ラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−
エン／無水マレイン酸／（メタ）アクリル酸２−ヒドロ
キシプロピル共重合体、８−｛１’−（ｔ−ブトキシカ
ルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テ
トラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３
−エン／無水マレイン酸／（メタ）アクリル酸２−ヒド
ロキシプロピル共重合体、８−〔｛１’−（メトキシカ
ルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニ
ル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデ
カ−３−エン／８−ｔ−ブトキシカルボニルテトラシク
ロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／
無水マレイン酸共重合体、８−〔｛１’−（メトキシカ
ルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニ
ル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデ
カ−３−エン／８−ヒドロキシテトラシクロ[ ４．４．
０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン
酸共重合体、８−〔｛１’−（メトキシカルボニルメチ
ル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシク
ロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／
５−ヒドロキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エ
ン／無水マレイン酸共重合体、８−〔｛１’−（メトキ
シカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボ
ニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ド
デカ−３−エン／８−ｔ−ブトキシカルボニル−８−メ
チルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10]ドデ
カ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、８−〔｛１’
−（メトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキ
シ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．
１^7,10 ]ドデカ−３−エン／８−ヒドロキシ−８−メチ
ルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ
−３−エン／無水マレイン酸共重合体、８−〔｛１’−
（メトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキ
シ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．
１^7,10 ]ドデカ−３−エン／５−ヒドロキシ−５−メチ
ルビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン／無水マレ
イン酸共重合体、

【００６５】８−〔｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニル
メチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラ
シクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エ
ン／８−ｔ−ブトキシカルボニルテトラシクロ[ ４．
４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレ
イン酸共重合体、８−〔｛１’−（ｔ−ブトキシカルボ
ニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テ
トラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３
−エン／８−ヒドロキシテトラシクロ[ ４．４．０．１
^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重
合体、８−〔｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチ
ル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシク
ロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／
５−ヒドロキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エ
ン／無水マレイン酸共重合体、８−〔｛１’−（ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カ
ルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10
]ドデカ−３−エン／８−ｔ−ブトキシカルボニル−８
−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]
ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、８−
〔｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１’−
メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．
０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／８−ヒドロキ
シ−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１
^7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、８
−〔｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１’
−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．
４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／５−ヒド
ロキシ−５−メチルビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２
−エン／無水マレイン酸共重合体、

【００６６】８−｛１’−（メトキシカルボニルメチ
ル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[
４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／８−
ｔ−ブトキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１
^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重
合体、８−｛１’−（メトキシカルボニルメチル）シク
ロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．
０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／８−ヒドロキ
シテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ
−３−エン／無水マレイン酸共重合体、８−｛１’−
（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカ
ルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10
]ドデカ−３−エン／５−ヒドロキシビシクロ[ ２．
２．１] ヘプト−２−エン／無水マレイン酸共重合体、
８−｛１’−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキ
シルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１
^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／８−ｔ−ブトキシカ
ルボニル−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１
^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重
合体、８−｛１’−（メトキシカルボニルメチル）シク
ロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．
０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／８−ヒドロキ
シ−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１
^7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、８
−｛１’−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシ
ルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１
^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／５−ヒドロキシ−５
−メチルビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン／無
水マレイン酸共重合体、

【００６７】８−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメ
チル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ
[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／８
−ｔ−ブトキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．
１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共
重合体、８−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチ
ル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[
４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／８−
ヒドロキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10
]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、８−
｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキ
シルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１
^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／５−ヒドロキシビシ
クロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン／無水マレイン酸
共重合体、８−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチ
ル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[
４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／８−
ｔ−ブトキシカルボニル−８−メチルテトラシクロ[
４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／無水
マレイン酸共重合体、８−｛１’−（ｔ−ブトキシカル
ボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テト
ラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−
エン／８−ヒドロキシ−８−メチルテトラシクロ[ ４．
４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレ
イン酸共重合体、８−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニ
ルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシ
クロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン
／５−ヒドロキシ−５−メチルビシクロ[ ２．２．１]
ヘプト−２−エン／無水マレイン酸共重合体等。

【００６８】樹脂（Ａ）中の酸解離性基（１）の導入率
（酸解離性基（１）と遊離の酸性官能基との合計数に対
する酸解離性基（１）の数の割合）は、酸解離性基
（１）および繰返し単位の種類により一概には規定でき
ないが、通常、１５〜１００モル％、好ましくは２０〜
１００モル％である。また、樹脂（Ａ）のゲルパーミエ
ーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチ
レン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）
は、感放射線性樹脂組成物の所望の特性に応じて変わる
が、好ましくは２，０００〜１００，０００、さらに好
ましくは３，０００〜６０，０００である。この場合、
樹脂（Ａ）のＭｗが２，０００未満では、製膜性が低下
する傾向があり、一方１００，０００を超えると、レジ
ストとしての現像性、解像度等が低下する傾向がある。
また、樹脂（Ａ）の分散度（Ｍｗ／Ｍｎ；但し、Ｍｎは
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）に
よるポリスチレン換算数平均分子量である。）は、好ま
しくは１〜５、さらに好ましくは１〜３である。本発明
において、樹脂（Ａ）は、単独でまたは２種以上を混合
して使用することができる。

【００６９】酸発生剤（Ｂ） 本発明における（Ｂ）成分は、露光により酸を発生する
感放射線性酸発生剤（以下、「酸発生剤（Ｂ）」とい
う。）からなる。酸発生剤（Ｂ）は、露光により発生し
た酸の作用によって、樹脂（Ａ）中に存在する酸解離性
基を解離させ、その結果レジスト被膜の露光部がアルカ
リ現像液に易溶性となり、ポジ型のレジストパターンを
形成する作用を有するものである。このような酸発生剤
（Ｂ）としては、オニウム塩、ハロゲン含有化合物、ジ
アゾケトン化合物、スルホン化合物、スルホン酸化合物
等を挙げることができる。これらの酸発生剤（Ｂ）の例
としては、下記のものを挙げることができる。 オニウム塩：オニウム塩としては、例えば、ヨードニウ
ム塩、スルホニウム塩（テトラヒドロチオフェニウム塩
を含む。）、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、ピリジ
ニウム塩等を挙げることができる。好ましいオニウム塩
の具体例としては、ジフェニルヨードニウムトリフルオ
ロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムノナフ
ルオロｎ−ブタンスルホネート、ジフェニルヨードニウ
ムピレンスルホネート、ジフェニルヨードニウムドデシ
ルベンゼンスルホネート、ジフェニルヨードニウムヘキ
サフルオロアンチモネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェ
ニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、
ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムノナフル
オロｎ−ブタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフ
ェニル）ヨードニウムドデシルベンゼンスルホネート、
ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムナフタレ
ンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨー
ドニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニル
スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフ
ェニルスルホニウムノナフルオロｎ−ブタンスルホネー
ト、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモ
ネート、トリフェニルスルホニウムナフタレンスルホネ
ート、トリフェニルスルホニウムカンファースルホネー
ト、（４−ヒドロキシフェニル）ベンゼンメチルスルホ
ニウムトルエンスルホネート、シクロヘキシルメチル
（２−オキソシクロヘキシル）スルホニウムトリフルオ
ロメタンスルホネート、ジシクロヘキシル（２−オキソ
シクロヘキシル）スルホニウムトリフルオロメタンスル
ホネート、ジメチル（２−オキソシクロヘキシル）スル
ホニウムトリフルオロメタンスルホネート、（４−ヒド
ロキシフェニル）ベンジルメチルスルホニウムトルエン
スルホネート、１−ナフチルジメチルスルホニウムトリ
フルオロメタンスルホネート、１−ナフチルジエチルス
ルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−シア
ノ−１−ナフチルジメチルスルホニウムトリフルオロメ
タンスルホネート、４−ニトロ−１−ナフチルジメチル
スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−メ
チル−１−ナフチルジメチルスルホニウムトリフルオロ
メタンスルホネート、４−シアノ−１−ナフチルジエチ
ルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−
ニトロ−１−ナフチルジエチルスルホニウムトリフルオ
ロメタンスルホネート、４−メチル−１−ナフチルジエ
チルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４
−ヒドロキシ−１−ナフチルジメチルスルホニウムトリ
フルオロメタンスルホネート、

【００７０】４−ヒドロキシ−１−ナフチルテトラヒド
ロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４
−メトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウム
トリフルオロメタンスルホネート、４−エトキシ−１−
ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタ
ンスルホネート、４−メトキシメトキシ−１−ナフチル
テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホ
ネート、４−エトキシメトキシ−１−ナフチルテトラヒ
ドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、
４−（１’−メトキシエトキシ）−１−ナフチルテトラ
ヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネー
ト、４−（２’−メトキシエトキシ）−１−ナフチルテ
トラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネ
ート、４−メトキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテ
トラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネ
ート、４−エトキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテ
トラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネ
ート、４−ｎ−プロポキシカルボニルオキシ−１−ナフ
チルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンス
ルホネート、４−ｉ−プロポキシカルボニルオキシ−１
−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメ
タンスルホネート、４−ｎ−ブトキシカルボニルオキシ
−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオ
ロメタンスルホネート、４−ｔ−ブトキシカルボニルオ
キシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフ
ルオロメタンスルホネート、４−（２’−テトラヒドロ
フラニルオキシ）−１−ナフチルテトラヒドロチオフェ
ニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−（２’−
テトラヒドロピラニルオキシ）−１−ナフチルテトラヒ
ドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、
４−ベンジルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフ
ェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（１’
−ナフチルアセトメチル）テトラヒドロチオフェニウム
トリフルオロメタンスルホネート等を挙げることができ
る。

【００７１】ハロゲン含有化合物：ハロゲン含有化合物
としては、例えば、ハロアルキル基含有炭化水素化合
物、ハロアルキル基含有複素環式化合物等を挙げること
ができる。好ましいハロゲン含有化合物の具体例として
は、フェニル−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、メトキシフェニル−ビス（トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン、ナフチル−ビス（トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン等の（トリクロロメチル）−ｓ−トリ
アジン誘導体や、１，１−ビス（４’−クロロフェニ
ル）−２，２，２−トリクロロエタン等を挙げることが
できる。 ジアゾケトン化合物：ジアゾケトン化合物としては、例
えば、１，３−ジケト−２−ジアゾ化合物、ジアゾベン
ゾキノン化合物、ジアゾナフトキノン化合物等を挙げる
ことができる。好ましいジアゾケトンの具体例として
は、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホニルク
ロリド、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニ
ルクロリド、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベン
ゾフェノンの１，２−ナフトキノンジアジド−４−スル
ホン酸エステルまたは１，２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸エステル、１，１，１−トリス（４’−
ヒドロキシフェニル）エタンの１，２−ナフトキノンジ
アジド−４−スルホン酸エステルまたは１，２−ナフト
キノンジアジド−５−スルホン酸エステル等を挙げるこ
とができる。 スルホン化合物：スルホン化合物としては、例えば、β
−ケトスルホン、β−スルホニルスルホンや、これらの
化合物のα−ジアゾ化合物等を挙げることができる。好
ましいスルホン化合物の具体例としては、４−トリスフ
ェナシルスルホン、メシチルフェナシルスルホン、ビス
（フェニルスルホニル）メタン等を挙げることができ
る。 スルホン酸化合物：スルホン酸化合物としては、例え
ば、アルキルスルホン酸エステル、アルキルスルホン酸
イミド、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールス
ルホン酸エステル、イミノスルホネート等を挙げること
ができる。好ましいスルホン酸化合物の具体例として
は、ベンゾイントシレート、ピロガロールのトリストリ
フルオロメタンスルホネート、ニトロベンジル−９，１
０−ジエトキシアントラセン−２−スルホネート、トリ
フルオロメタンスルホニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプ
ト−５−エン−２，３−ジカルボジイミド、Ｎ−ヒドロ
キシスクシイミドトリフルオロメタンスルホネート、
１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドトリフルオロメ
タンスルホネート等を挙げることができる。

【００７２】これらの酸発生剤（Ｂ）のうち、特に、ジ
フェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネー
ト、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリ
フルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウ
ムトリフルオロメタンスルホネート、シクロヘキシルメ
チル（２−オキソシクロヘキシル）スルホニウムトリフ
ルオロメタンスルホネート、ジシクロヘキシル（２−オ
キソシクロヘキシル）スルホニウムトリフルオロメタン
スルホネート、ジメチル（２−オキソシクロヘキシル）
スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ヒ
ドロキシ−１−ナフチルジメチルスルホニウムトリフル
オロメタンスルホネート、４−ヒドロキシ−１−ナフチ
ルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスル
ホネート、１−（１’−ナフチルアセトメチル）テトラ
ヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネー
ト、トリフルオロメタンスルホニルビシクロ[ ２．２．
１ ]ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボジイミド、Ｎ
−ヒドロキシスクシイミドトリフルオロメタンスルホネ
ート、１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドトリフル
オロメタンスルホネート等が好ましい。本発明におい
て、酸発生剤（Ｂ）は、単独でまたは２種以上を混合し
て使用することができる。酸発生剤（Ｂ）の使用量は、
レジストとしての感度および現像性を確保する観点か
ら、樹脂（Ａ）１００重量部に対して、通常、０．１〜
１０重量部、好ましくは０．５〜７重量部である。この
場合、酸発生剤（Ｂ）の使用量が０．１重量部未満で
は、感度および現像性が低下する傾向があり、一方１０
重量部を超えると、放射線に対する透明性が低下して、
矩形のレジストパターンを得られ難くなる傾向がある。

【００７３】各種添加剤 本発明においては、さらに、露光により酸発生剤から生
じた酸のレジスト被膜中における拡散現象を制御し、非
露光領域での好ましくない化学反応を抑制する作用を有
する酸拡散制御剤を配合することができる。このような
酸拡散制御剤を使用することにより、組成物の貯蔵安定
性がより向上し、またレジストとして解像度がさらに向
上するとともに、露光から現像までの引き置き時間（Ｐ
ＥＤ）の変動によるレジストパターンの線幅変化を抑え
ることができ、プロセス安定性がさらに改善される。酸
拡散制御剤としては、レジストパターンの形成工程中の
露光や加熱処理により塩基性が変化しない含窒素有機化
合物が好ましい。このような含窒素有機化合物として
は、例えば、下記一般式（９）

【００７４】

【化９】

【００７５】〔一般式（９）において、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰およ
びＲ¹¹は相互に独立に、水素原子、アルキル基、アリー
ル基またはアルキル基を示す。〕で表される化合物（以
下、「含窒素化合物（Ｉ）」という。）、同一分子内に
窒素原子を２個有するジアミノ化合物（以下、「含窒素
化合物（II）」という。）、窒素原子を３個以上有する
ジアミノ重合体（以下、「含窒素化合物（III)」とい
う。）、アミド基含有化合物、ウレア化合物、含窒素複
素環化合物等を挙げることができる。含窒素化合物
（Ｉ）としては、例えば、ｎ−ヘキシルアミン、ｎ−ヘ
プチルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−ノニルアミ
ン、ｎ−デシルアミン等のモノアルキルアミン類；ジ−
ｎ−ブチルアミン、ジ−ｎ−ペンチルアミン、ジ−ｎ−
ヘキシルアミン、ジ−ｎ−ヘプチルアミン、ジ−ｎ−オ
クチルアミン、ジ−ｎ−ノニルアミン、ジ−ｎ−デシル
アミン等のジアルキルアミン類；トリエチルアミン、ト
リ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ト
リ−ｎ−ペンチルアミン、トリ−ｎ−ヘキシルアミン、
トリ−ｎ−ヘプチルアミン、トリ−ｎ−オクチルアミ
ン、トリ−ｎ−ノニルアミン、トリ−ｎ−デシルアミン
等のトリアルキルアミン類；アニリン、Ｎ−メチルアニ
リン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、２−メチルアニリ
ン、３−メチルアニリン、４−メチルアニリン、４−ニ
トロアニリン、ジフェニルアミン、トリフェニルアミ
ン、１−ナフチルアミン等の芳香族アミン類等を挙げる
ことができる。

【００７６】含窒素化合物（II）としては、例えば、エ
チレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエ
チレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチ
レンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、
４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジ
アミノベンゾフェノン、４，４’−ジアミノジフェニル
アミン、２，２−ビス（４’−アミノフェニル）プロパ
ン、２−（３’−アミノフェニル）−２−（４’−アミ
ノフェニル）プロパン、２−（４’−アミノフェニル）
−２−（３’−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−
（４’−アミノフェニル）−２−（４’−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン、１，４−ビス［１’−（４^''−アミ
ノフェニル）−１^' −メチルエチル］ベンゼン、１，３
−ビス［１^' −（４^''−アミノフェニル）−１^' −メチ
ルエチル］ベンゼン等を挙げることができる。

【００７７】含窒素化合物（III)としては、例えば、ポ
リエチレンイミン、ポリアリルアミン、ジメチルアミノ
エチルアクリルアミドの重合体等を挙げることができ
る。前記アミド基含有化合物としては、例えば、ホルム
アミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、プロピオンアミド、ベ
ンズアミド、ピロリドン、Ｎ−メチルピロリドン等を挙
げることができる。前記ウレア化合物としては、例え
ば、尿素、メチルウレア、１，１−ジメチルウレア、
１，３−ジメチルウレア、１，１，３，３−テトラメチ
ルウレア、１，３−ジフェニルウレア、トリブチルチオ
ウレア等を挙げることができる。前記含窒素複素環化合
物としては、例えば、イミダゾール、ベンズイミダゾー
ル、４−メチルイミダゾール、４−メチル−２−フェニ
ルイミダゾール等のイミダゾール類；ピリジン、２−メ
チルピリジン、４−メチルピリジン、２−エチルピリジ
ン、４−エチルピリジン、２−フェニルピリジン、４−
フェニルピリジン、Ｎ−メチル−４−フェニルピリジ
ン、ニコチン、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、キノリ
ン、８−オキシキノリン、アクリジン等のピリジン類の
ほか、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、キノザリ
ン、プリン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、４
−メチルモルホリン、ピペラジン、１，４−ジメチルピ
ペラジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オク
タン等を挙げることができる。

【００７８】これらの含窒素有機化合物のうち、含窒素
化合物（Ｉ）、含窒素複素環化合物等が好ましい。ま
た、含窒素化合物（Ｉ）の中では、トリアルキルアミン
類が特に好ましく、含窒素複素環化合物の中では、ピリ
ジン類が特に好ましい。前記酸拡散制御剤は、単独でま
たは２種以上を混合して使用することができる。酸拡散
制御剤の配合量は、樹脂（Ａ）１００重量部当り、１５
重量部以下、好ましくは１０重量部以下、さらに好まし
くは５重量部以下である。この場合、酸拡散制御剤の配
合量が１５重量部を超えると、レジストとしての感度や
露光部の現像性が低下する傾向がある。なお、酸拡散制
御剤の配合量が０．００１重量部未満では、プロセス条
件によっては、レジストとしてのパターン形状や寸法忠
実度が低下するおそれがある。

【００７９】また、酸拡散制御剤以外の添加剤として
は、塗布性、現像性等を改良する作用を示す界面活性剤
を挙げることができる。前記界面活性剤としては、例え
ば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシ
エチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレ
イルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエ
ーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、
ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレング
リコールジステアレート等のノニオン系界面活性剤のほ
か、以下商品名で、ＫＰ３４１（信越化学工業製）、ポ
リフローＮｏ．７５，同Ｎｏ．９５（共栄社油脂化学工
業製）、エフトップＥＦ３０１，同ＥＦ３０３，同ＥＦ
３５２（トーケムプロダクツ製）、メガファックスＦ１
７１，同Ｆ１７３（大日本インキ化学工業製）、フロラ
ードＦＣ４３０，同ＦＣ４３１（住友スリーエム製）、
アサヒガードＡＧ７１０，サーフロンＳー３８２，同Ｓ
Ｃー１０１，同ＳＣー１０２，同ＳＣー１０３，同ＳＣ
ー１０４，同ＳＣー１０５，同ＳＣー１０６（旭硝子
製）等を挙げることができる。これらの界面活性剤は、
単独でまたは２種以上を混合して使用することができ
る。界面活性剤の配合量は、樹脂（Ａ）と酸発生剤
（Ｂ）との合計１００重量部に対して、通常、２重量部
以下である。また、前記以外の添加剤としては、ハレー
ション防止剤、接着助剤、保存安定化剤、消泡剤等を挙
げることができる。

【００８０】組成物溶液の調製 本発明の感放射線性樹脂組成物は、通常、その使用に際
して、全固形分濃度が、例えば５〜５０重量％、好まし
くは１０〜２５重量％となるように、溶剤に溶解したの
ち、例えば孔径０．２μｍ程度のフィルターでろ過する
ことによって、組成物溶液として調製される。前記組成
物溶液の調製に使用される溶剤としては、例えば、２−
ブタノン、２−ペンタノン、３−メチル−２−ブタノ
ン、２−ヘキサノン、４−メチル−２−ペンタノン、３
−メチル−２−ペンタノン、３，３−ジメチル−２−ブ
タノン、２−ヘプタノン、２−オクタノン等の直鎖状ケ
トン類；シクロペンタノン、３−メチル−２−シクロペ
ンタノン、シクロヘキサノン、２−メチルシクロヘキサ
ノン、２，６−ジメチルシクロヘキサノン、イソホロン
等の環状ケトン類；プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｎ−プ
ロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ
−ｉ−プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコ
ールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、プロピレン
グリコールモノ−ｉ−ブチルエーテルアセテート、プロ
ピレングリコールモノ−ｓｅｃ−ブチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル
アセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエー
テルアセテート類；２−ヒドロキシプロピオン酸メチ
ル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキ
シプロピオン酸ｎ−プロピル、２−ヒドロキシプロピオ
ン酸ｉ−プロピル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｎ−ブ
チル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｉ−ブチル、２−ヒ
ドロキシプロピオン酸ｓｅｃ−ブチル、２−ヒドロキシ
プロピオン酸ｔ−ブチル等の２−ヒドロキシプロピオン
酸アルキル類のほか、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プ
ロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｔ−ブチル
アルコール、シクロヘキサノール、エチレングリコール
モノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエ
ーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテ
ル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリ
コールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ
−プロピルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−ブ
チルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエー
テルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエー
テル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、トルエ
ン、キシレン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン
酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチ
ル、２−ヒドロキシ−３−メチル酪酸メチル、３−メト
キシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチ
ルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピ
オネート、３−メチル−３−メトキシブチルブチレー
ト、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、
アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、３−メトキシプ
ロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、
ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、Ｎ−メチルピロ
リドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアセトアミド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、カプロ
ン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノー
ル、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチ
ル、しゅう酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチ
ロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン等を挙げる
ことができる。

【００８１】これらの溶剤は、単独でまたは２種以上を
混合して使用することができるが、就中、環式ケトン
類、直鎖状ケトン類、プロピレングリコールモノアルキ
ルエーテルアセテート類および２−ヒドロキシプロピオ
ン酸アルキル類が好ましく、特に環式ケトン類と、直鎖
状ケトン類、プロピレングリコールモノアルキルエーテ
ルアセテート類および２−ヒドロキシプロピオン酸アル
キル類の群から選ばれる少なくとも１種との混合溶剤が
好ましい。

【００８２】レジストパターンの形成方法 本発明の感放射線性樹脂組成物は、特に化学増幅型ポジ
型レジストとして有用である。前記化学増幅型ポジ型レ
ジストにおいては、露光により酸発生剤（Ｂ）から発生
した酸の作用によって、樹脂（Ａ）中の酸解離性基
（１）自体および／または酸解離性基（１）中の基Ｒ⁴
が解離してフェノール性水酸基あるいはカルボキシル基
に変換される反応を生じ、その結果レジストの露光部の
アルカリ現像液に対する溶解性が高くなり、該露光部が
アルカリ現像液によって溶解、除去され、ポジ型のレジ
ストパターンが得られる。本発明の感放射線性樹脂組成
物からレジストパターンを形成する際には、感放射線性
樹脂組成物を、回転塗布、流延塗布、ロール塗布等の適
宜の塗布手段によって、例えば、シリコンウエハー、ア
ルミニウムで被覆されたウエハー等の基板上に塗布する
ことにより、レジスト被膜を形成し、場合により予めプ
レベークを行ったのち、所定のレジストパターンを形成
するように該レジスト被膜に露光する。その際に使用さ
れる放射線としては、ＡｒＦエキシマレーザー（波長１
９３ｎｍ）あるいはＫｒＦエキシマレーザー（波長２４
８ｎｍ）が好ましい。本発明においては、露光後に加熱
処理（以下、「露光後ベーク」という。）を行うことが
好ましい。この露光後ベークにより、前記酸解離性基の
変換反応が円滑に進行する。露光後ベークの加熱条件
は、感放射線性樹脂組成物の配合組成によって変わる
が、通常、３０〜２００℃、好ましくは５０〜１７０℃
である。本発明においては、感放射線性樹脂組成物の潜
在能力を最大限に引き出すため、例えば特公平６−１２
４５２号公報等に開示されているように、使用される基
板上に有機系あるいは無機系の反射防止膜を形成してお
くこともでき、また環境雰囲気中に含まれる塩基性不純
物等の影響を防止するため、例えば特開平５−１８８５
９８号公報等に開示されているように、レジスト被膜上
に保護膜を設けることもでき、あるいはこれらの技術を
併用することもできる。

【００８３】次いで、露光されたレジスト被膜を現像す
ることにより、所定のレジストパターンを形成する。現
像に使用される現像液としては、例えば、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、けい酸ナトリ
ウム、メタけい酸ナトリウム、アンモニア水、エチルア
ミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−
プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルア
ミン、ジメチルエチルアミン、トリエタノールアミン、
テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピ
ペリジン、コリン、１，８−ジアザビシクロ−［５．
４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ−
［４．３．０］−５−ノネン等のアルカリ性化合物の少
なくとも１種を溶解したアルカリ性水溶液が好ましい。
前記アルカリ性水溶液の濃度は、通常、１０重量％以下
である。この場合、アルカリ性水溶液の濃度が１０重量
％を超えると、未露光部も現像液に溶解し、好ましくな
い。また、前記アルカリ性水溶液からなる現像液には、
例えば有機溶剤を添加することもできる。前記有機溶剤
の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキ
サノン、３−メチル−２−シクロペンタノン、２，６−
ジメチルシクロヘキサノン等のケトン類；メチルアルコ
ール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ
−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｔ−ブ
チルアルコール、シクロペンタノール、シクロヘキサノ
ール、１，４−ヘキサンジオール、１，４−ヘキサンジ
メチロール等のアルコール類；テトラヒドロフラン、ジ
オキサン等のエーテル類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢
酸ｉ−アミル等のエステル類；トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素類や、フェノール、アセトニルアセト
ン、ジメチルホルムアミド等を挙げることができる。こ
れらの有機溶剤は、単独でまたは２種以上を混合して使
用することができる。有機溶剤の使用量は、アルカリ性
水溶液に対して、１００容量％以下が好ましい。この場
合、有機溶剤の使用量が１００容量％を超えると、現像
性が低下し、露光部の現像残りが著しくなり、好ましく
ない。また、アルカリ性水溶液からなる現像液には、界
面活性剤等を適量添加することもできる。なお、アルカ
リ性水溶液からなる現像液で現像したのちは、一般に、
水で洗浄して乾燥する。

【００８４】

【発明の実施の形態】以下、実施例を挙げて、本発明の
実施の形態をさらに具体的に説明する。但し、本発明
は、これらの実施例に何ら制約されるものではない。こ
こで、部および％は、特記しない限り重量基準である。
実施例および比較例における各測定・評価は、下記の要
領で行った。 Ｍｗ：東ソー（株）製ＧＰＣカラム（Ｇ２０００HXL ２
本、Ｇ３０００HXL １本、Ｇ４０００HXL １本）を用
い、流量１．０ミリリットル／分、溶出溶媒テトラヒド
ロフラン、カラム温度４０℃の分析条件で、単分散ポリ
スチレンを標準とするゲルパーミエーションクロマトグ
ラフィー（ＧＰＣ）により測定した。保存安定性： 組成物溶液をシリコンウエハー上にスピン
コートにより塗布し、１４０℃に保持したホットプレー
ト上で９０秒間プレベークして作製した膜厚１μｍのレ
ジスト被膜を、２．３８％テトラメチルアンモニウムヒ
ドロキシド水溶液により、２５℃で１分間現像し、水洗
し、乾燥したのち、膜厚を測定した。これを、初期残膜
厚とする。また、組成物溶液を５０℃の恒温槽に保持
し、保持後の組成物溶液から毎日、前記と同様にしてレ
ジスト皮膜の作製、現像、水洗および乾燥を行ったの
ち、保持後の残膜厚を測定した。このとき、初期残膜厚
に対する保持後の残膜厚の変化率が５０％を超えるのに
要する日数を求めて、保存安定性の尺度とした。この日
数が大きいほど、保存安定性が良好であることを示す。 放射線透過率：組成物溶液を石英ガラス上にスピンコー
トにより塗布し、９０℃に保持したホットプレート上で
６０秒間プレベークして得た膜厚１μｍのレジスト被膜
について、波長１９３ｎｍにおける吸光度から、透過率
を算出して、遠紫外線領域における透明性の尺度とし
た。 相対エッチング速度：組成物溶液をシリコンウエハ上に
スピンコートした乾燥膜厚０．５μｍの被膜に対して、
ＰＭＴ社製ドライエッチング装置（Pinnacle8000）を用
い、エッチングガスをＣＦ₄ とし、ガス流量７５ｓｃｃ
ｍ、圧力２．５ｍＴｏｏｒ、出力２５００Ｗの条件でド
ライエッチングを行い、エッチング速度を測定して、ク
レゾールノボラック樹脂からなる被膜のエッチング速度
に対する相対値により、相対エッチング速度を評価し
た。エッチング速度の小さいほど、ドライエッチング耐
性に優れることを意味する。 感度：組成物溶液をシリコーンウエハー上にスピンコー
トしたのち、１４０℃に保持したホットプレート上で９
０秒間プレベークを行って、膜厚０．５μｍのレジスト
被膜を形成した。このレジスト被膜に、（株）ニコン製
ＡｒＦエキシマレーザー露光装置（レンズ開口数０．５
５、露光波長１９３ｎｍ）により、マスクパターンを介
して露光した。次いで、９０℃に保持したホットプレー
ト上で９０秒間露光後ベークを行ったのち、２．３８％
テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液により、
２５℃で１分間現像し、水洗し、乾燥して、ポジ型レジ
ストパターンを形成した。その際、線幅０．１８μｍの
ライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）を１対
１の線幅に形成する露光量を最適露光量とし、この最適
露光量を感度とした。 解像度：最適露光量で露光したときに解像される最小の
レジストパターンの寸法を解像度とした。 現像性：スカムや現像残りの程度を、走査型電子顕微鏡
を用いて調べた。 パターン形状：線幅０．２０μｍのライン・アンド・ス
ペースパターン（１Ｌ１Ｓ）の方形状断面の下辺寸法Ｌ
₁ と上下辺寸法Ｌ₂ とを走査型電子顕微鏡により測定
し、０．８５≦Ｌ₂ ／Ｌ₁ ≦１を満足し、かつパターン
形状が裾を引いていない場合を、パターン形状が“良
好”であるとした。

【００８５】

【実施例】〔酸解離性基（１）を有する三級アルコール
の合成〕 合成例１３−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチルの合成 亜鉛９．５ｇ、ヨウ素１．１ｇをフラスコに入れ、内部
を窒素置換したのち、７０℃に加温して攪拌した。続い
て、アセトン／ブロモ酢酸メチル＝５．０ｇ／１９．６
ｇ混合溶液を１時間かけて添加したのち、７０℃で５時
間攪拌して反応させた。反応終了後、水５０ｍｌを添加
し、さらに酢酸エチル２００ｍｌを添加したのち、分液
ロートを用いて水層を分離した。続いて、有機層に水５
０ｍｌを加えて水層を分離する操作を３回行って、有機
層を十分洗浄した。続いて、有機層に無水硫酸マグネシ
ウムを添加して乾燥したのち、酢酸エチルを減圧留去し
て、３−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル８．６
ｇを得た。

【００８６】合成例２１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキサノ
ールの合成 亜鉛９．５ｇ、ヨウ素１．１ｇをフラスコに入れ、内部
を窒素置換したのち、７０℃に加温して攪拌した。続い
て。シクロヘキサノン／ブロモ酢酸ｔ−ブチル＝８．４
ｇ／２５ｇ混合溶液を１時間かけて添加したのち、７０
℃で５時間攪拌して反応させた。反応終了後、水５０ｍ
ｌを添加し、さらに酢酸エチル２００ｍｌを添加したの
ち、分液ロートを用いて水層を分離した。続いて、有機
層に水５０ｍｌを加えて水層を分離する操作を３回行っ
て、有機層を十分洗浄した。続いて、有機層に無水硫酸
マグネシウムを添加して乾燥したのち、酢酸エチルを減
圧留去して、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シ
クロヘキサノール１４ｇを得た。

【００８７】 〔酸解離性基（１）を有する重合性不飽和化合物の合成〕 合成例３ ３−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル ５６．８ｇ 下記式（１０）で表される化合物 １１９ｇ トリフルオロ酢酸無水物 ９０．４ｇ をフラスコに入れ、無水テトラハイドロフラン３００ｍ
ｌを加えて溶解させたのち、フラスコ内を乾燥空気で置
換して、１０℃で８０分間撹拌し、さらに室温で８時間
撹拌して反応させた。反応終了後、飽和ＮａＨＣＯ₃ 水
溶液を反応液が中性になるまで添加し、さらに酢酸エチ
ル５００ｍｌを添加したのち、分液ロートを用いて水層
を分離した。続いて、有機層に水５０ｍｌを加えて水層
を分離する操作を３回行って、有機層を十分洗浄した。
続いて、有機層に無水硫酸マグネシウムを添加して乾燥
したのち、酢酸エチルを減圧留去して、下記式（１１）
で表される化合物１４５ｇを得た。この化合物を、エス
テル化合物（ａ）とする。

【００８８】

【化１０】

【００８９】

【化１１】

【００９０】 合成例４ ３−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル ５６．８ｇ ８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカン−３−エ ン ８７．９ｇ トリフルオロ酢酸無水物 ９０．４ｇ をフラスコに入れ、無水テトラハイドロフラン５０ｍｌ
を加えて溶解させたのち、フラスコ内を乾燥空気で置換
して、１０℃で８０分間撹拌し、さらに室温で８時間撹
拌して反応させた。反応終了後、飽和ＮａＨＣＯ₃ 水溶
液を反応液が中性になるまで添加し、さらに酢酸エチル
２００ｍｌを添加したのち、分液ロートを用いて水層を
分離した。続いて、有機層に水５０ｍｌを加えて水層を
分離する操作を３回行って、有機層を十分洗浄した。続
いて、有機層に無水硫酸マグネシウムを添加して乾燥し
たのち、酢酸エチルを減圧留去して、下記式（１２）で
表される８−〔｛１’−（メトキシカルボニルメチル）
−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[
４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカン−３−エン１２
３．７ｇを得た。この化合物を、エステル化合物（ｂ）
とする。

【００９１】

【化１２】

【００９２】 合成例５ ３−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル ６８．２ｇ トリエチルアミン ６８ｇ をフラスコに入れ、無水ジクロロメタン２００ｍｌを加
えて溶解させたのち、０℃で１０分間撹拌した。続い
て、アクリル酸クロリド５６ｇを２時間かけて添加した
のち、反応液を室温に戻し、３時間撹拌して反応させ
た。反応終了後、トリエチルアミンの塩酸塩をろ別した
のち、ろ液に水５０ｍｌを添加し、分液ロートを用いて
水層を分離した。続いて、有機層に水５０ｍｌを加えて
水層を分離する操作を３回行って、有機層を十分洗浄し
た。続いて、有機層に無水硫酸マグネシウムを添加して
乾燥したのち、ジクロロメタンを減圧留去して、下記式
（１３）で表されるアクリル酸｛１−（メトキシカルボ
ニルメチル）−１−メチルエチル｝６０ｇを得た。この
化合物を、エステル化合物（ｃ）とする。

【００９３】

【化１３】

【００９４】 合成例６ １−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキサノール ９２．１ｇ 前記式（１０）で表される化合物 １１９ｇ トリフルオロ酢酸無水物 ９０．４ｇ をフラスコに入れ、無水テトラハイドロフラン３００ｍ
ｌを加えて溶解させたのち、フラスコ内を乾燥空気で置
換して、１０℃で８０分間撹拌し、さらに室温で８時間
撹拌して反応させた。反応終了後、飽和ＮａＨＣＯ₃ 水
溶液を反応液が中性になるまで添加し、さらに酢酸エチ
ル５００ｍｌを添加したのち、分液ロートを用いて水層
を分離した。続いて、有機層に水５０ｍｌを加えて水層
を分離する操作を３回行って、有機層を十分洗浄した。
続いて、有機層に無水硫酸マグネシウムを添加して乾燥
したのち、酢酸エチルを減圧留去して、下記式（１４）
で表される化合物を得た。この化合物を、エステル化合
物（ｄ）とする。

【００９５】

【化１４】

【００９６】 合成例７ １−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキサノール ９２．１ｇ ８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカン−３−エ ン ８７．９ｇ トリフルオロ酢酸無水物 ９０．４ｇ をフラスコに入れ、無水テトラハイドロフラン５０ｍｌ
を加えて溶解させたのち、フラスコ内を乾燥空気で置換
して、１０℃で８０分間撹拌し、さらに室温で８時間撹
拌して反応させた。反応終了後、飽和ＮａＨＣＯ₃ 水溶
液を反応液が中性になるまで添加し、さらに酢酸エチル
２００ｍｌを添加したのち、分液ロートを用いて水層を
分離した。続いて、有機層に水５０ｍｌを加えて水層を
分離する操作を３回行って、有機層を十分洗浄した。続
いて、有機層に無水硫酸マグネシウムを添加して乾燥し
たのち、酢酸エチルを減圧留去して、下記式（１５）で
表される８−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチ
ル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[
４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカン−３−エン１７
０ｇ１５０ｇを得た。この化合物を、エステル化合物
（ｅ）とする。

【００９７】 合成例８ １−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキサノール １１０．５ｇ トリエチルアミン ６８ｇ をフラスコに入れ、無水ジクロロメタン２００ｍｌを加
えて溶解させたのち、０℃で１０分間撹拌した。続い
て、アクリル酸クロリド５６ｇを２時間かけて添加した
のち、反応液を室温に戻し、３時間撹拌して反応させ
た。反応終了後、トリエチルアミンの塩酸塩をろ別した
のち、ろ液に水５０ｍｌを添加し、分液ロートを用いて
水層を分離した。続いて、有機層に水５０ｍｌを加えて
水層を分離する操作を３回行って、有機層を十分洗浄し
た。続いて、有機層に無水硫酸マグネシウムを添加して
乾燥したのち、ジクロロメタンを減圧留去して、アクリ
ル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘ
キシル｝８０ｇを得た。この化合物を、エステル化合物
（ｆ）とする。

【００９８】〔樹脂（Ａ）の製造〕 重合例１ エステル化合物（ａ） ２６．１ｇ アクリル酸トリシクロデカニル １５ｇ アゾイソブチロニトリル ０．２ｇ ｔ−ドデシルメルカプタン ０．１ｇ を１，２−ジエトキシエタン１００ｍｌに溶解し、反応
温度６５℃で５時間撹拌して反応させた。反応終了後、
反応液を大量のメタノール中に投与して、ポリマーを再
沈殿させたのち、減圧乾燥して、Ｍｗが１８，０００の
白色の樹脂３５ｇを得た。この樹脂は、エステル化合物
（ａ）に由来する繰返し単位およびアクリル酸トリシク
ロデカニルに由来する繰返し単位の含有率が、それぞれ
５０モル％および５０モル％であった。この樹脂を、樹
脂（Ａ-1）とする。

【００９９】重合例２ エステル化合物（ｂ） ３２．２ｇ 無水マレイン酸 ９．４ｇ アゾイソブチロニトリル ３．３ｇ を１，２−ジエトキシエタン４０ｍｌに溶解し、反応温
度６５℃で５時間撹拌して反応させた。反応終了後、反
応液を大量のメタノール中に投与して、ポリマーを再沈
殿させたのち、減圧乾燥して、Ｍｗが６，０００の白色
の樹脂２０ｇを得た。この樹脂は、エステル化合物
（ｂ）に由来する繰返し単位および無水マレイン酸に由
来する繰返し単位の含有率が、それぞれ４５モル％およ
び５５モル％であった。この樹脂を、樹脂（Ａ-2）とす
る。

【０１００】重合例３ エステル化合物（ｃ） １９．８ｇ アクリル酸トリシクロデカニル ２１．９ｇ アゾイソブチロニトリル ０．２ｇ ｔ−ドデシルメルカプタン ０．１ｇ を１，２−ジエトキシエタン１００ｍｌに溶解し、反応
温度６５℃で５時間撹拌して反応させた。反応終了後、
反応液を大量のメタノール中に投与して、ポリマーを再
沈殿させたのち、減圧乾燥して、Ｍｗが１５，０００の
白色の樹脂１５ｇを得た。この樹脂は、エステル化合物
（ｃ）に由来する繰返し単位およびアクリル酸トリシク
ロデカニルに由来する繰返し単位の含有率が、それぞれ
５５モル％および４５モル％であった。この樹脂を、樹
脂（Ａ-3）とする。

【０１０１】重合例４ エステル化合物（ｄ） ３１．５ｇ アクリル酸トリシクロデカニル １５ｇ アゾイソブチロニトリル ０．２ｇ ｔ−ドデシルメルカプタン ０．１ｇ を１，２−ジエトキシエタン１００ｍｌに溶解し、反応
温度６５℃で５時間撹拌して反応させた。反応終了後、
反応液を大量のメタノール中に投与して、ポリマーを再
沈殿させたのち、減圧乾燥して、Ｍｗが１５，０００の
白色の樹脂３７ｇを得た。この樹脂は、エステル化合物
（ｄ）に由来する繰返し単位およびアクリル酸トリシク
ロデカニルに由来する繰返し単位の含有率が、それぞれ
４５モル％および５５モル％であった。この樹脂を、樹
脂（Ａ-4）とする。

【０１０２】重合例５ エステル化合物（ｅ） ４０．５ｇ 無水マレイン酸 ９．４ｇ アゾイソブチロニトリル ３．３ｇ を１，２−ジエトキシエタン４０ｍｌに溶解し、反応温
度６５℃で５時間撹拌して反応させた。反応終了後、反
応液を大量のメタノール中に投与して、ポリマーを再沈
殿させたのち、減圧乾燥して、Ｍｗが３，０００の白色
の樹脂２２ｇを得た。この樹脂は、エステル化合物
（ｅ）に由来する繰返し単位および無水マレイン酸に由
来する繰返し単位の含有率が、それぞれ５０モル％およ
び５０モル％であった。この樹脂を、樹脂（Ａ-5）とす
る。

【０１０３】重合例６ エステル化合物（ｆ） ２８．５ｇ アクリル酸トリシクロデカニル ２１．９ アゾイソブチロニトリル ０．２ｇ ｔ−ドデシルメルカプタン ０．１ｇ を１，２−ジエトキシエタン１００ｍｌに溶解し、反応
温度６５℃で５時間撹拌して反応させた。反応終了後、
反応液を大量のメタノール中に投与して、ポリマーを再
沈殿させたのち、減圧乾燥して、Ｍｗが１２，０００の
白色の樹脂１７ｇを得た。この樹脂は、エステル化合物
（ｆ）に由来する繰返し単位およびアクリル酸トリシク
ロデカニルに由来する繰返し単位の含有率が、それぞれ
５０モル％および５０モル％であった。この樹脂を、樹
脂（Ａ-6）とする。

【０１０４】比較重合例１ アクリル酸テトラヒドロピラニル １８．２８ｇ アクリル酸トリシクロデカニル ２５ｇ アゾイソブチロニトリル ０．２ｇ ｔ−ドデシルメルカプタン ０．１ｇ を１，２−ジエトキシエタン１００ｍｌに溶解し、反応
温度６５℃で５時間撹拌して反応させた。反応終了後、
反応液を大量のメタノール中に投与して、ポリマーを再
沈殿させたのち、減圧乾燥して、Ｍｗが２０，０００の
白色の樹脂１５ｇを得た。この樹脂を、樹脂（ａ-1）と
する。

【０１０５】実施例１〜７、比較例１〜２ 前記各重合例で製造した樹脂、酸発生剤（Ｂ）および溶
剤を混合して、均一溶液としたのち、孔径０．２μｍの
メンブランフィルターでろ過して、表１に示す組成（但
し、部は重量に基づく。）の組成物溶液を調製して、各
種評価を行った。評価結果を、表１および表２に示す。
各実施例および比較例中の酸発生剤（Ｂ）および溶剤の
種類は、下記のとおりである。酸発生剤（Ｂ） Ｂ-1：シクロヘキシルメチル（２−オキソシクロヘキシ
ル）スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート Ｂ-2：トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンス
ルホネート Ｂ-3：４−ヒドロキシ−１−ナフチルジメチルスルホニ
ウムトリフルオロメタンスルホネート Ｂ-4：４−ヒドロキシ−１−ナフチルテトラメチレンチ
オフェニウムトリフルオロメタンスルフォネート Ｂ-5：４−ｎ−ブトキシ−１−ナフチルテトラメチレン
チオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート溶剤 Ｃ-1：２−ヘプタノン Ｃ-2：２−ヒドロキシプロピオン酸エチル

【０１０６】

【表１】

【０１０７】

【表２】

【０１０８】

【発明の効果】本発明の感放射線性樹脂組成物は、保存
安定性が優れ、化学増幅型レジストとして、放射線に対
する透明性が高く、かつ解像度に優れるとともに、ドラ
イエッチング耐性、感度、パターン形状等にも優れてお
り、今後さらに微細化が進行すると予想される半導体デ
バイスの製造に極めて好適に使用することができる。

【化１５】

フロントページの続き (72)発明者 岩沢 晴生 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）酸解離性基として下記一般式
   （１）で表される基を有するアルカリ不溶性またはアル
   カリ難溶性の樹脂であって、該酸解離性基自体および／
   または該酸解離性基中の基Ｒ⁴ が解離したときアルカリ
   可溶性となる樹脂、および（Ｂ）感放射線性酸発生剤を
   含有する感放射線性樹脂組成物。 【化１】 〔一般式（１）において、Ｒ¹ およびＲ² は相互に独立
   に水素原子または炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしく
   は環状のアルキル基を示すか、あるいはＲ¹ とＲ² とが
   相互に結合して３〜６員環の環状アルキル基を示し、Ｒ
   ³ は水素原子または炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もし
   くは環状のアルキル基を示し、Ｒ⁴ は炭素数１〜６の直
   鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示す。〕