JPH11216367A - 光触媒材料の製造方法 - Google Patents

光触媒材料の製造方法

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JPH11216367A
JPH11216367A JP10019604A JP1960498A JPH11216367A JP H11216367 A JPH11216367 A JP H11216367A JP 10019604 A JP10019604 A JP 10019604A JP 1960498 A JP1960498 A JP 1960498A JP H11216367 A JPH11216367 A JP H11216367A
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JP
Japan
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titanium oxide
heat treatment
titanium tetrachloride
tile
silica gel
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JP10019604A
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Yasuhiro Hatano
泰弘 波多野
Daiki Miyamoto
大樹 宮本
Takashi Miyamoto
敬 宮本
Atsushi Kakitsuji
篤 垣辻
Toshinori Nosaka
俊紀 野坂
Hiroshi Aoki
啓 青木
Tadashi Takatsuka
正 高塚
Takeshi Ohara
武 大原
Toshiaki Oura
敏明 大浦
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Osaka Prefecture
Original Assignee
Osaka Prefecture
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】より優れた光触媒作用を発揮できる光触媒材料
を提供することを主な目的とする。 【解決手段】基材上にシリカゲルを含む下地層を形成さ
せる第一工程、当該下地層を四塩化チタンに接触させる
第二工程、及び熱処理する第三工程を有することを特徴
とする光触媒材料の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な光触媒材料
の製造方法に関する。
【０００２】
【従来技術】酸化チタン、酸化亜鉛等の金属酸化物微粒
子は、光触媒作用を有することが知られており、抗菌
材、脱臭材、消臭材、防黴材等として開発され、各種の
分野で実用化も進められている。
【０００３】最近では、特に酸化チタン微粒子を用いた
各種の光触媒材料の開発が行われている。例えば、有害
物質除去剤として、酸化チタン微粒子、焼石膏及び水の
混練物を硬化させるもの（特開平６−３２７９６５
号）、あるいは酸化チタンゾルを基材に塗布し、焼成す
るもの（特開平６−２７８２４１号）、酸化チタン微粉
末及び珪素化合物を含む組成物を基材表面に塗布し、こ
れを乾燥又は焼成することによって基材上に酸化チタン
微粉末を固定化するもの（特開平８−１６４３３４号）
等が知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、酸化チ
タン微粒子を焼石膏等と混練したものでは、紫外線を強
制的に照射するものの、多くの酸化チタン微粒子が硬化
体内部に深く埋め込まれてしまい、硬化体表面に露出す
る酸化チタン微粒子量が少ないため、その光触媒作用を
十分得ることができない。また、たとえ酸化チタン微粒
子が基材表面上に露出していても、酸化チタン微粒子が
脱落してしまうおそれがある。酸化チタンゾルを塗布・
焼成する方法においても、酸化チタンが基材から脱落す
るおそれがある。
【０００５】他方、酸化チタン微粒子及び珪素化合物を
含む組成物を塗布する方法においても、酸化チタン微粒
子の少なくとも一部が塗膜中に埋没してしまう結果、露
出密度が小さくなるため、酸化チタン微粒子の光触媒作
用を十分得ることができない。このように、酸化チタン
微粒子を基材に直接担持させる従来技術では、十分な光
触媒作用を得ることは困難であった。
【０００６】これに対し、タイル素地（陶器）に釉薬を
塗布した後、酸化チタン微粒子を含んだ液体原料を吹付
け、これを熱処理することによって、素地表面に酸化チ
タン層を形成させる方法が知られている。この方法によ
れば、酸化チタン層を強固に焼き付けることができるの
で脱落・剥離のおそれはないものの、高温で熱処理する
必要がある。すなわち、酸化チタンの結晶構造がアナタ
ーゼ型から光触媒作用に劣るルチル型に変化するおそれ
がある。
【０００７】従って、本発明は、より優れた光触媒作用
を発揮できる光触媒材料を提供することを主な目的とす
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者は、特定の工程
を有する製造方法を採用することによって上記目的を達
成できることを見出し、ついに本発明を完成した。
【０００９】すなわち、本発明は、基材上にシリカゲル
を含む下地層を形成させる第一工程、当該下地層を四塩
化チタンに接触させる第二工程、及び熱処理する第三工
程を有することを特徴とする光触媒材料の製造方法に係
るものである。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の製造方法では、まず第一
工程として基材上にシリカゲルを含む下地層を形成させ
る。基材の材質・形状は、特に制限されず、金属、セメ
ント、粘土類、砂・砂利、セラミックス、プラスチック
ス、木材、石材、ガラス等のあらゆるものを使用するこ
とができる。但し、シリカゲルを含む下地層を形成させ
るにあたり、基材の表面を公知の有機溶剤、界面活性剤
等を用いて予め清浄しておくことが好ましい。
【００１１】シリカゲルを含む下地層（単に「下地層」
ともいう）は、シラノール基（Ｓｉ−ＯＨ基）を有する
ものである。これは、例えばシリカゲル及び水を含む混
合物を基材上に塗布した後、必要に応じて熱処理等を施
すことにより形成させることができる。
【００１２】この場合、使用できるシリカゲルは特に制
限されず、公知のもの又は市販品を使用できる。その平
均粒径は、通常２０〜５０μｍ程度、好ましくは３８〜
４４μｍのものを用いる。シリカゲルと水との配合割合
は、用いる基材の材質等に応じて適宜設定すれば良く、
通常は重量比で１：１００〜２０００程度、好ましくは
１：３００〜１０００とすれば良い。上記混合物におい
ては、シリカゲルの一部又は全部が溶解しても良いが、
本発明では特にシリカゲルが全て溶解していることが望
ましい。シリカゲルを溶解させるためには、粒径の小さ
いシリカゲル、シラノール基を多く含むシリカゲル等を
水に配合すれば良い。
【００１３】なお、上記混合物中には、本発明の効果を
妨げない範囲内で他の成分が含まれていても良い。但
し、下地層等を変質させるナトリウム成分は含まれない
方が好ましい。
【００１４】混合物を塗布する方法としては、基材上に
下地層が形成できる限り特に制限されず、例えばスプレ
ー、刷毛塗り、ディップコーティング、スピンコーティ
ング等の公知の塗装方法をいずれも採用することができ
る。塗膜の厚さは、基材の材質、最終製品の用途等に応
じて決定すれば良いが、通常０．０５〜２μｍ程度、好
ましくは０．１〜０．７μｍとすれば良い。
【００１５】得られた塗膜について、必要に応じて、乾
燥し、さらには熱処理を行っても良い。乾燥は、自然乾
燥又は加熱乾燥のいずれであっても良い。また、上記熱
処理により下地層を基材にいっそう強固に固定化するこ
とができる。熱処理の条件は、混合物の組成、基材の種
類等に応じて適宜定めることができ、通常は酸素を含む
雰囲気中（例えば、酸素気流中、空気中（大気中）等）
で１００〜９００℃程度（好ましくは４００〜５００
℃）で３〜３０分間程度とすれば良い。
【００１６】なお、第一工程では、水蒸気を雰囲気中に
積極的に供給しても良い。これによって、特に下地層の
表面にシラノール基を十分に生成させることができ、後
の工程で有利である。
【００１７】第二工程として、下地層を四塩化チタン
（ＴｉＣｌ4）に接触させる。接触させる方法は、特に
制限されず、例えば液体四塩化チタンを酸素又は乾燥空
気を用いてバブリングし、これにより発生した四塩化チ
タンの蒸気を噴霧又は吹付ければ良い。四塩化チタン蒸
気を供給した後あるいはその供給中に、過剰の四塩化チ
タン蒸気を水溶液化して回収するために、必要に応じて
水蒸気の噴霧等を行っても良い。これにより、反応に関
与しない四塩化チタン蒸気を有効に取り除くことが可能
となる。
【００１８】四塩化チタンの蒸気を蒸着させるに先立っ
て、下地層を有する基材を予熱しておくことが好まし
い。予熱条件は、第一工程の上記熱処理と同様の条件と
すれば良い。従って、例えば第一工程で上記熱処理を行
う場合には、その熱処理を継続したままで四塩化チタン
に接触させても良い。
【００１９】四塩化チタンを下地層に接触させることに
よって、下地層に四塩化チタンが蒸着する。主として下
地層の表面部では下記の反応が生じる。
【００２０】
【化１】
【００２１】蒸着した四塩化チタンは、下地層（特にそ
の表面部）に存在するシラノール基と縮合反応によって
ＨＣｌを放出し、四塩化チタンのチタン原子がシラノー
ル基の酸素原子と結合する。さらに、反応雰囲気中のＨ
2Ｏがチタン原子に結合する塩素（−Ｃｌ）と反応すれ
ば加水分解を起こし、さらにＨＣｌを放出する場合もあ
る。上記の加水分解は、空気中の水分だけでも十分進行
するが、水蒸気を反応雰囲気中に積極的に供給しても良
い。なお、第二工程が完了した時点で一部の塩素が残っ
ていても良い。
【００２２】四塩化チタンの供給量は、最終製品の用途
等に応じて適宜設定すれば良く、下地層中におけるシラ
ノール基の一部ないしは全部が四塩化チタンと反応する
ようにすれば良い。また、四塩化チタンの蒸気圧は、例
えば大気圧をわずかに超える程度（１．０５〜１．１０
ｋｇｆ／ｃｍ2 ａｂｓ）の圧力であっても、四塩化チタ
ンを下地層に蒸着させることができる。場合によって
は、これより低い蒸気圧でも実施できる。
【００２３】第三工程における熱処理の条件は、特に制
限されないが、通常は酸素を含む雰囲気中（例えば、酸
素気流中、空気中（大気中）等）で１５０〜５００℃程
度（好ましくは４００〜５００℃）で１〜１０分間程度
とすれば良い。第三工程の熱処理によって、反応雰囲気
中のＨ2Ｏと加水分解反応を起こしてＨＣｌを放出し、
さらにチタン原子に結合する水酸基がＨ2Ｏを放出して
酸化チタンとなる。生成した酸化チタンは、主としてア
ナターゼ型結晶構造から構成される。また、残存する未
反応の塩素は、通常は強制的に酸素と置き換えられる。
【００２４】なお、上記の加水分解は、空気中の水分だ
けでも十分進行するが、水蒸気を反応雰囲気中に積極的
に供給しても良い。また、本発明の効果を妨げない範囲
内で第三工程が完了した後に酸化チタン層中に塩素が存
在していても良い。
【００２５】本発明の製造方法では、必要に応じて各工
程を個々に２回以上繰り返して実施しても良い。例え
ば、第一工程を１回した後、第二工程を２回繰り返し、
次いで第三工程を３回繰り返すことによっても製造する
ことができる。また例えば、第三工程が終了後、さらに
第二工程及び第三工程からなる一連の工程を１回以上繰
り返して行うこともできる。これにより、酸化チタン層
を２層、３層と順次積層していくことができ、所望の用
途等に応じて酸化チタンの担持量を適宜増加させること
ができる。
【００２６】本発明の製造方法においては、例えば図１
に示す加熱炉を用いて実施することができる。メッシュ
コンベアー（ａ）上に下地層が形成されたタイルを載
せ、１又は２以上連続して設けられた加熱炉（ｂ）にタ
イルを導入し、熱処理した後に四塩化チタンの接触・蒸
着を行う。四塩化チタンの蒸気を噴霧するための噴霧蒸
着器（ｃ）は、加熱炉周辺に設置すれば良い。また、図
１に示すように、加熱炉、噴霧蒸着器等の近傍に水蒸気
（下向きの矢印）を噴霧する装置を取り付けても良く、
あるいは加熱炉等の内部に設置しても良い。各工程での
処理時間は、メッシュコンベアーの速度等によって適宜
調節することができる。
【００２７】
【作用】タイル等の基材にシリカゲルを含む下地層を形
成した後、導入された四塩化チタンとシラノール基との
反応により下地層表面を中心としてＴｉイオンが固定化
され、最終的に触媒層としての酸化チタン層が形成され
る。この技術では、従来の含浸法とは異なり、きわめて
高分散・均質に酸化チタンを担持することができる。
【００２８】上記触媒層は、蛍光灯等の光源からの紫外
線によって励起されて電子とホールを形成し、それぞれ
の還元力と酸化力により基材表面に付着した空気中の腐
敗菌、病原菌等を殺菌・除去したり、あるいは基材に接
触した各種ガスの分解等を進行させる。
【００２９】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、光触媒作用
を示す酸化チタン層について大きな露出密度を有する材
料を得ることができる。しかも、本発明では、比較的低
温の熱処理で酸化チタン層を形成できるので、ルチル型
結晶構造よりも優れた光触媒作用を示すアナターゼ型結
晶構造を確保することができる。
【００３０】さらに、基材と酸化チタン層の間には主と
してシリカゲルを含む下地層が介在しているので、例え
ば基材としてタイル（陶器）を用いる場合であってもタ
イル内部からのＮａ+イオン等の金属イオンの溶出を阻
止できることから、これら金属イオンによる下地層ある
いは酸化チタン層の変質を防止することもできる。
【００３１】しかも、従来技術のような酸化チタン微粒
子を物理的に担持させた材料とは異なり、本発明の製造
方法では酸化チタン層を化学的に固定化できるので脱落
又は剥離するおそれがない。
【００３２】このように、本発明の製造方法により得ら
れる光触媒材料は、優れた光触媒作用を示し、特に各種
ガス（窒素酸化物、硫黄酸化物、炭素酸化物等）の転化
作用、抗菌作用（大腸菌、ブドウ球菌、肺炎桿菌等）等
において優れた効果を発揮することができる。
【００３３】本発明の製造方法では、原料として酸化チ
タン微粒子よりも安価な四塩化チタンを用いることがで
き、しかも容易に基材上に蒸着させることができるの
で、従来技術に比してコスト的にも非常に有利である。
さらに、本発明の製造方法において、例えば第二工程及
び第三工程を繰り返して酸化チタン層を積層させること
によって、より強力な光触媒作用を示す材料も自由に製
造することができる。
【００３４】他方、本発明の製造方法による光触媒材料
は、基材の選択により光干渉性の被膜として酸化チタン
層を形成させることができ、外観においても優れてい
る。また、上記被膜は、製造条件により有色、無色等に
適宜変化させることもできる。
【００３５】加えて、本発明による光触媒材料は、酸化
チタン層を積層することによって、表面硬度が高く、傷
つきにくい表面を形成することができる。しかも、この
表面は、親水性・耐水性にも優れている。従って、厳し
い条件での使用が要求される用途（外壁用建材等）にも
有効に使用することができる。
【００３６】このような本発明の製造方法による光触媒
材料は、各種の基材との組み合わせにより抗菌材、抗黴
材、脱臭材、消臭材、防汚材等として各種の用途に幅広
く用いることができる。具体的には、壁材（キッチン、
トイレ又はバス用タイル、各種パネル、外壁等）、成形
材料・容器類に使用できる。また、砂・砂利等にコーテ
ィングすれば、ペット用、砂場用等の用途にも使用でき
る。
【００３７】
【実施例】以下、実施例を示し、本発明の光触媒材料の
特徴とするところをより一層明確にする。なお、本実施
例中において、四塩化チタン蒸気を蒸着させる条件は、
いずれも蒸気圧約１．０５ｋｇｆ／ｃｍ2 ａｂｓ、蒸着
時間約２秒、雰囲気温度約５００℃とした。
【００３８】実施例１ ３７５メッシュのシリカゲル微粉末（平均粒径約４０μ
ｍ）約２．７ｇを１リットルの蒸留水に混合し、この液
体を含浸したガーゼを用いて白地タイル（既成品：９７
mm×９７mm×厚さ５mm）表面に塗布した。なお、上記タ
イルは、塗布に先立って、予め洗浄してタイル表面の油
分等を除去しておいた。続いて、このタイルを加熱炉内
に設置し、５００℃で３分間加熱して下地層を形成した
（第一工程）。
【００３９】さらに、このタイルを加熱炉中において空
気気流中５００℃で予熱し、次いで液体四塩化チタンを
酸素でバブリングして四塩化チタンの蒸気をタイルの下
地層に蒸着させた（第二工程）。蒸着後には水蒸気をタ
イル等に噴霧した。なお、この蒸着工程は、予熱過程も
含めて８０秒間行った。
【００４０】最後に、加熱炉を用いて、酸素気流中５０
０℃で７分間の熱処理をした後、さらに同じ条件で熱処
理を行って光干渉性の酸化チタン層を有するタイルを得
た（第三工程）。
【００４１】得られたタイルについて、Ｘ線回折分析を
行ったところ、上記酸化チタン層は図２に示すようにア
ナターゼ型結晶構造を有することが判明した（図２中の
○印部分）。
【００４２】実施例２ 実施例１で得られたタイルについて、さらに実施例１と
同様の第二工程及び第三工程を１回繰り返して光干渉性
の酸化チタン層を有するタイルを作製した。
【００４３】実施例３ 実施例２で得られたタイルについて、さらに実施例１と
同様の第二工程及び第三工程を１回繰り返して光干渉性
の酸化チタン層を有するタイルを作製した。
【００４４】実施例４ 実施例３で得られたタイルについて、さらに実施例１と
同様の第二工程及び第三工程を１回繰り返して光干渉性
の酸化チタン層を有するタイルを作製した。
【００４５】実施例５ 実施例４で得られたタイルについて、さらに実施例１と
同様の第二工程及び第三工程を１回繰り返して光干渉性
の酸化チタン層を有するタイルを作製した。
【００４６】試験例１ 実施例１〜５で得られたタイルについて、一酸化窒素
（ＮＯ）の低減効果について調べた。
【００４７】試験方法は、図３に示すような流通式ＮＯ
吸着測定装置を用いて行った。この装置は、標準ガス
（１７８ppm NO/N2）が充填されたボンベ（１）と、空
気を導入するフィルター（１２）（乾燥剤なし）とを気
体供給源とし、流量調整用の空シャーレ（６）及び光触
媒入りシャーレ（７）、さらには定電位電解式ＮＯセン
サー（８）及び定電位電解式ＮＯ2センサー（９）を介
して気体が排出される構成をとる。上記の光触媒入りシ
ャーレには、パイレックスガラス製（内径１５２mm、内
部高さ４０mm、ガラス厚さ２mm）のシャーレに所定量の
試料を入れた。次いで、このシャーレを光源であるブラ
ックライト（２０Ｗ）管球中央部からシャーレ上までの
距離を１０mm隔てて設置した。試験においては、上記シ
ャーレにライト照射３０秒後に表１に示す濃度・流量で
気体（室温）を流通させ（試験中は空シャーレには流通
させない。）、シャーレ通過後の気体中のＮＯ濃度を上
記定電位電解式ＮＯセンサー及び定電位電解式ＮＯ2セ
ンサーによって測定した。その結果も表１に併せて示
す。
【００４８】
【表１】
【００４９】表１に示すように、本発明の光触媒材料に
よってＮＯ濃度を低減できることがわかる。特に、光触
媒層を積層すればより優れた効果が得られることがわか
る。
【００５０】試験例２ 実施例５で得られたタイルの硬度を調べた。試験方法
は、JIS K 5400(1990)8.4.1 に従って行い、９Ｈ鉛筆で
タイル塗膜を引っかき、塗膜のすり傷を８０倍に拡大し
て観察した。その結果、塗膜にはすり傷は認められなか
った。
【００５１】実施例６ ３７５メッシュのシリカゲル微粉末（平均粒径約４０μ
ｍ）１０ｇを１リットルの蒸留水に混合し、これを含浸
したガーゼを用いて白地タイル（既成品：９７mm×９７
mm×厚さ５mm）表面に塗布した。なお、上記タイルは、
塗布に先立って予め洗浄してタイル表面の油分等を除去
しておいた。
【００５２】次いで、このタイルを加熱炉中において空
気気流中５００℃で予熱し、次いで液体四塩化チタンを
酸素でバブリングして四塩化チタンの蒸気をタイル上に
蒸着させた後、さらに同じ蒸着処理を１回行った（蒸着
工程）。なお、この蒸着工程は、１回につき予熱過程も
含めて８０秒間行った。また、蒸着させた後には水蒸気
をタイル等に噴霧した。
【００５３】最後に、加熱炉を用いて、酸素気流中５０
０℃で７分間の熱処理をした後、さらに同じ条件で熱処
理を２回繰り返し、光干渉性の酸化チタン層を有するタ
イルを得た（熱処理工程）。このタイルは、ピンク色、
赤紫色等が混ざった虹色を呈しており、光沢も良好であ
った。
【００５４】実施例７ 蒸着工程に先立って、下地層を形成するために５００℃
で３分間の加熱をしたほかは、実施例６と同様にして光
干渉性の酸化チタン層を有するタイルを作製した。
【００５５】実施例８ 蒸着工程に先立って、下地層を形成するために６００℃
で３分間の加熱をしたほかは、実施例６と同様にして光
干渉性の酸化チタン層を有するタイルを作製した。
【００５６】実施例９ 蒸着工程に先立って、下地層を形成するために７００℃
で３分間の加熱をしたほかは、実施例６と同様にして光
干渉性の酸化チタン層を有するタイルを作製した。
【００５７】実施例１０ 蒸着工程に先立って、下地層を形成するために８００℃
で３分間の加熱をしたほかは、実施例６と同様にして光
干渉性の酸化チタン層を有するタイルを作製した。
【００５８】実施例１１ 実施例７で得られたタイルについて、さらに蒸着工程及
び熱処理工程を１回繰り返したほかは、実施例７と同様
にして光干渉性の酸化チタン層を有するタイルを作製し
た。
【００５９】実施例１２ 実施例９で得られたタイルについて、さらに蒸着工程及
び熱処理工程を１回繰り返したほかは、実施例９と同様
にして光干渉性の酸化チタン層を有するタイルを作製し
た。
【００６０】試験例３ 実施例６〜１２で得られたタイルについて、菌液滴下法
により抗菌性試験を行った。試験方法は、菌液０．５ml
が滴下されたタイルを、石英ガラスで蓋をしたシャーレ
中で培養した。培養条件は、無菌ボックス中で１２００
ルクス蛍光灯下２５℃で３時間とした。その結果を表２
に示す。なお、比較のため、酸化チタン層を設けていな
いタイルにおける試験結果も表２に併記する。
【００６１】
【表２】
【００６２】表２の結果、本発明のタイルは、黄色ブド
ウ球菌及び肺炎桿菌のいずれに対しても、優れた抗菌性
を発揮できることがわかる。
【００６３】実施例１３ ３７５メッシュのシリカゲル微粉末（平均粒径約４０μ
ｍ）１０ｇを１リットルの蒸留水に混合し、これを含浸
したガーゼを用いて白地タイル（既成品：９７mm×９７
mm×厚さ５mm）表面に塗布した。なお、上記タイルは、
塗布に先立って予め洗浄して脱脂した。
【００６４】次いで、このタイルを加熱炉中において空
気気流中４２０℃で予熱し、次いで液体四塩化チタンを
酸素でバブリングして四塩化チタンの蒸気をタイル上に
蒸着させた後、さらに同じ蒸着処理を行った（蒸着工
程）。なお、この蒸着工程は、予熱過程も含めて８０秒
間行った。また、蒸着させた後にはタイル等に水蒸気を
噴霧した。
【００６５】次いで、上記蒸着工程を１回実施した後、
加熱炉を用いて酸素気流中５００℃で３分間の熱処理を
し、光干渉性の酸化チタン層を有するタイルを得た（熱
処理工程）。
【００６６】得られたタイルを用いて、大腸菌に対する
抗菌性を試験例３と同様にして調べた。但し、照射時間
は１時間とし、初発菌数１８６００個／mlとした。
【００６７】その結果、無加工タイルでは大腸菌数１０
１００個／mlであったのに対し、酸化チタン層を形成し
た上記タイルでは３８５０個／mlまでに低減できた。
【００６８】実施例１４ 川砂に酸化チタン層を形成させた。
【００６９】粒径１〜４mm程度の川砂を水洗し、実施例
１と同様のシリカ含有液体に浸漬した後、実施例１と同
様にして５００℃で７分間加熱して下地層を形成した。
次いで、５００℃で予熱した以外は実施例１と同様の第
二工程を２回実施した後、実施例１と同様にして熱処理
を行い、表面に酸化チタン層を有する砂を得た。
【００７０】この砂について、試験例１と同様の方法で
ＮＯ低減効果を調べた（但し、シャーレ厚さ３mm）。光
触媒材料を通過させるＮＯ初濃度を１．１０ppm NO/air
とし、ＮＯ流量２３７ml／分としたところ、通過後のＮ
Ｏ濃度は０．３５８ppmまで低下し、そのＮＯ転換率は
６７．５％であった。
【００７１】さらに、照射光を窓ガラス（厚さ１．５m
m）を介した太陽光線とした以外は、試験例１と同様の
試験を行った。光触媒材料を通過させるＮＯ初濃度を
１．１０ppm NO/airとし、ＮＯ流量２３７ml／分とした
ところ、通過後のＮＯ濃度は０．８６３ppmまで低下
し、そのＮＯ転換率は２１．７％であった。
【００７２】実施例１５ ガラス玉に酸化チタン層を形成させた。
【００７３】直径５．０mmのガラス玉を用い、実施例１
と同様の第二工程を５回実施したほかは実施例１４と同
様にして酸化チタン層を有するガラス玉を製造した。
【００７４】このガラス玉について、試験例１と同様の
方法でＮＯ低減効果を調べた（但し、シャーレ厚さ３m
m）。光触媒材料を通過させるＮＯ初濃度を１．１０ppm
NO/airとし、ＮＯ流量２３７ml／分としたところ、通
過後のＮＯ濃度は０．１５１ppmまで低下し、そのＮＯ
転換率は６６．２％であった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の製造方法で用いる加熱炉の一例を示す
概略図である。
【図２】実施例１で得られた酸化チタン層のＸ線回折分
析の結果を示すチャート図である。
【図３】試験例１における流通式ＮＯ吸着測定装置の概
要を示す図である。
【符号の説明】
１ ガスボンベ ２ 圧力調整器 ３ 圧力計 ４ マスフローセンサー ５ フローコントロールバルブ ６ 空シャーレ ７ 光触媒材料入りシャーレ ８ 定電位電解式ＮＯセンサー ９ 定電位電解式ＮＯ2センサー １０ 体積フローメーター １１ ダイヤフラムポンプ １２ フィルター
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｂ０１Ｊ 37/08 Ｂ０１Ｊ 37/08 37/10 37/10 (72)発明者 垣辻 篤 大阪府八尾市大窪396 (72)発明者 野坂 俊紀 大阪府和泉市いぶき野３丁目５−12−301 (72)発明者 青木 啓 大阪府堺市百舌鳥西之町１−98−２陵南住 宅２−212 (72)発明者 高塚 正 大阪府大阪市阿倍野区共立通２−３−５ (72)発明者 大原 武 大阪府大阪市港区弁天４丁目12−８ (72)発明者 大浦 敏明 大阪府松原市天美南６丁目４の２

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】基材上にシリカゲルを含む下地層を形成さ
    せる第一工程、当該下地層を四塩化チタンに接触させる
    第二工程、及び熱処理する第三工程を有することを特徴
    とする光触媒材料の製造方法。
  2. 【請求項２】第一工程が、基材表面にシリカゲル及び水
    を含む混合物を塗布し、次いで熱処理することにより、
    シリカゲルを含む下地層を形成させる請求項１に記載の
    製造方法。
  3. 【請求項３】第三工程の熱処理を、酸素を含む気流中１
    ５０〜５００℃で行う請求項１記載の製造方法。
  4. 【請求項４】第一工程、第二工程及び第三工程の少なく
    とも１つの工程を、水蒸気を供給しながら行う請求項１
    記載の製造方法。
  5. 【請求項５】第二工程及び第三工程の少なくとも１つの
    工程を１回以上繰り返す請求項１に記載の製造方法。
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