JPH11216337A - 処理液供給装置用フィルタ装置 - Google Patents

処理液供給装置用フィルタ装置

Info

Publication number
JPH11216337A
JPH11216337A JP3383298A JP3383298A JPH11216337A JP H11216337 A JPH11216337 A JP H11216337A JP 3383298 A JP3383298 A JP 3383298A JP 3383298 A JP3383298 A JP 3383298A JP H11216337 A JPH11216337 A JP H11216337A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing liquid
gas
particle removing
removing member
closed container
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3383298A
Other languages
English (en)
Inventor
Masami Otani
正美 大谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP3383298A priority Critical patent/JPH11216337A/ja
Publication of JPH11216337A publication Critical patent/JPH11216337A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 既設の処理液供給配管にも、脱気機能や気体
溶存機能を有する部材を容易に取り付けることができ、
配管の取回しが最小限で済んで装置間の互換性を保つこ
とができ、処理液供給装置の小型化および低コスト化を
図ることができるフィルタ装置を提供する。 【解決手段】 処理液流入口52、処理液流出口64お
よび通気口66を有する密閉容器30の内部に、気体の
みを透過させる気体透過膜材によって形成された多数の
細管状エレメントで構成されたパーティクル除去部材3
2を配設し、多数の細管状エレメントの一端を流路的に
閉塞し他端を密閉容器の通気口に連通させた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハ、
液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基
板、光ディスク用基板などの各種基板の表面に現像液、
フォトレジスト液、ポリイミド樹脂、SOG(シリカ系
被膜形成材)液等の塗布液、純水等の洗浄液などの処理
液を供給して現像、塗布、洗浄などの所定の処理を施す
基板処理装置に使用され、その基板処理装置へ処理液を
供給する処理液供給装置の処理液供給配管に介在して配
設されるフィルタ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】基板処理装置、例えば基板回転式現像装
置では、半導体ウエハ等の基板を水平姿勢に保持して鉛
直軸回りに回転させながら、その基板表面に被着形成さ
れた露光済みのフォトレジスト膜を現像処理する場合
に、現像液を貯留している現像液タンクから現像液供給
配管を通して吐出ノズルへ現像液を圧送し、吐出ノズル
の吐出口から基板の表面へ現像液を供給するようにして
いる。そして、この際、基板の表面へ供給される現像液
にパーティクルが含まれていると、現像むら等の不都合
を生じるので、現像液供給配管には、通常、現像液に含
まれているパーティクルを除去して現像液を清浄にする
ために、パーティクル除去部材を内蔵したフィルタ装置
が介在して配設されている。
【0003】ところが、現像液中には、現像液タンクか
ら現像液供給配管を通して現像液を圧送する際のエアー
噛みに起因する気泡や、最初から溶け込んでいる極く微
細な気泡が存在している場合がある。このように気体が
溶存している現像液をそのまま吐出ノズルから基板の表
面へ供給すると、現像液中の気体が基板上のフォトレジ
スト膜面に気泡として付着することになる。この結果、
気泡の付着部位における現像処理が阻害され、現像不良
を起こすことになる。これと同様の問題は、基板現像装
置に限らず各種の基板処理装置においても起こる。例え
ば、基板塗布装置では、基板の表面へ供給されたフォト
レジスト液に気泡が含まれていると、その塗布部位の膜
厚が極端に薄くなり、あるいは全くフォトレジスト液の
無い部位(いわゆるピンホール)を生じて、塗布不良を
起こすことになる。特に、近年における半導体プロセス
では益々微細化が進んでいるため、現像液やフォトレジ
スト液などの処理液に気体が溶存していると、それによ
る悪影響は非常に大きなものとなる。
【0004】そこで、処理液に気体が溶存することによ
って引き起こされる処理不良を無くすために、フィルタ
装置の他に、気体のみを透過させる気体透過作用を有す
る気体透過膜材(気体交換膜材、気体浸透膜材あるいは
脱気膜材とも呼ばれる)によって通気路が形成された気
体透過部材(脱気モジュール)を内蔵した脱気装置を、
処理液タンクから基板処理装置の吐出ノズルへ至る処理
液供給配管に介在させて配設するようにしている。そし
て、気体透過部材の通気路を真空ポンプなどに流路接続
して通気路内を減圧し、脱気装置内を処理液が通過する
際に、気体透過膜材を通して処理液中の気体を通気路内
へ移行させて、処理液中から気体を除去するようにして
いる。
【0005】また、基板洗浄装置のように純水を使用す
る装置では、純水は比抵抗値が極めて大きく帯電し易い
ため、例えば、純水を洗浄液として基板の表面へ供給し
た際に、静電破壊により、基板上に形成された回路パタ
ーンなどにダメージを与えることがある。そこで、この
ような不具合が生じないように、純水の比抵抗値を下げ
て帯電が起こりにくくした上で、純水を基板表面へ供給
する、といったことが行われている。すなわち、純水中
に誘電率の高い気体、例えば二酸化炭素を溶存させるこ
とにより、純水の比抵抗値を下げるようにしている。そ
して、二酸化炭素を純水中に溶存させるために、上記し
たような気体透過部材を内蔵した気体溶存装置を使用
し、気体透過部材の通気路を炭酸ガスボンベなどに流路
接続して通気路内へ二酸化炭素を供給し、気体溶存装置
内を純水が通過する際に、気体透過膜材を通して二酸化
炭素を純水中へ移行させるようにしている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、既設の基板
処理システムに、上記したような脱気装置や気体溶存装
置を追加して取り付けるためには、その取付けのための
スペースを必要とする。しかしながら、通常は、システ
ム内に余分なスペースはほとんど無く、このため、追加
の装置の取付け作業が非常に困難となり、あるいはその
取付けを全く行うことができない、といった問題点があ
る。また、脱気装置や気体溶存装置の取付けを行うこと
ができたとしても、配管の取回しが複雑になったり、ま
た、同一機種の装置であっても他の装置とは配管経路が
違ったものになって互換性が無くなる、といった問題点
がある。
【0007】また、脱気装置や気体溶存装置を含めた基
板処理システムを新規に設計する場合にも、フィルタ装
置の他に脱気装置や気体溶存装置の取付けのためのスペ
ースを確保する必要があって、システム全体のスペース
が大きくなり、また、装置の製造コストも高くなる、と
いった問題点がある。
【0008】この発明は、以上のような事情に鑑みてな
されたものであり、既設の基板処理システムの処理液供
給装置の処理液供給配管にも、脱気機能や気体溶存機能
を有する部材を容易に取り付けることができるととも
に、装置間の互換性を保つことができ、また、パーティ
クル除去機能の他に脱気機能や気体溶存機能を有する処
理液供給装置を新規に設置する場合には、装置の小型化
および低コスト化を図ることができる処理液供給装置用
フィルタ装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】この発明では、基板処理
装置へ処理液を供給する処理液供給装置の処理液供給配
管に介在して配設された処理液供給装置用フィルタ装置
において、処理液に含まれているパーティクルを除去す
るパーティクル除去作用と、処理液中に溶存している気
体を除去する脱気作用あるいは処理液中に気体を溶存さ
せる気体溶存作用との両方の作用を有する部材を用いる
ことにより、上記目的を達成した。すなわち、請求項1
に係る発明は、処理液流入口および処理液流出口ならび
に通気口を有する密閉容器の内部に、その内部を流路的
に処理液流入側と処理液流出側とに仕切るように、気体
のみを透過させる気体透過膜材によって形成された多数
の細管状エレメントで構成されたパーティクル除去部材
を配設し、そのパーティクル除去部材を構成する多数の
細管状エレメントの少なくともその一方の端部を前記密
閉容器の通気口に連通させたことを特徴とする。
【0010】請求項2に係る発明は、請求項1に記載の
フィルタ装置において、密閉容器の通気口を減圧手段に
流路接続したことを特徴とする。
【0011】請求項3に係る発明は、請求項1に記載の
フィルタ装置において、密閉容器の通気口を気体供給手
段に流路接続したことを特徴とする。
【0012】請求項4に係る発明は、請求項1ないし請
求項3のいずれかに記載のフィルタ装置において、パー
ティクル除去部材を円筒状に形成し、その円筒状のパー
ティクル除去部材の一端側を閉塞部材によって液密に閉
塞するとともに、円筒状のパーティクル除去部材を、そ
の中空部と密閉容器の処理液流入口または処理液流出口
とが連通するように密閉容器の内部に配設し、パーティ
クル除去部材を構成する多数の細管状エレメントのそれ
ぞれを、パーティクル除去部材の一端側から他端側へ向
くように配置して、多数の細管状エレメントのそれぞれ
の一端側を気体閉塞部材によって気密に閉塞するととも
にそれぞれの他端側を前記密閉容器の通気口に連通させ
たことを特徴とする。
【0013】請求項1に係る発明のフィルタ装置におい
ては、処理液供給配管内から処理液流入口を通って密閉
容器内へ流入した処理液は、密閉容器の内部に配設され
たパーティクル除去部材を透過して、その際にパーティ
クルが除去され、パーティクルが除去された処理液は、
密閉容器内から処理液流出口を通って流出し、処理液供
給配管を通って基板処理装置へ供給される。そして、こ
の装置では、パーティクル除去部材が、気体のみを透過
させる気体透過膜材によって形成された多数の細管状エ
レメントで構成されているため、処理液は、パーティク
ル除去部材を透過する際に、細管状エレメントを形成し
ている気体透過膜材を通して処理液中の気体が、密閉容
器の通気口に連通した細管状エレメント内部へ移行し
て、処理液中から気体が除去され、あるいは、細管状エ
レメント内部から気体透過膜材を通して気体が処理液中
へ移行して、処理液中に気体が溶存させられる。
【0014】請求項2に係る発明のフィルタ装置では、
密閉容器の通気口に連通した多数の細管状エレメントの
内部が減圧手段によって減圧されることにより、多数の
細管状エレメントで構成されたパーティクル除去部材を
処理液が透過する際に、処理液中に溶存している気体が
気体透過膜材を通して細管状エレメント内部へ移行し
て、処理液中から気体が除去されることになる。
【0015】請求項3に係る発明のフィルタ装置では、
気体供給手段から気体、例えば二酸化炭素が、密閉容器
の通気口に連通した多数の細管状エレメントの内部へ供
給されることにより、多数の細管状エレメントで構成さ
れたパーティクル除去部材を処理液が透過する際に、細
管状エレメント内部の二酸化炭素が気体透過膜材を通し
て処理液、例えば純水中へ移行して、純水中に二酸化炭
素が溶存させられることになる。
【0016】請求項4に係る発明のフィルタ装置では、
処理液は、処理液供給配管内から処理液流入口を通っ
て、密閉容器の内部に配設され一端側が閉塞部材によっ
て閉塞された円筒状のパーティクル除去部材の中空部内
へ流入し、その中空部内から、多数の細管状エレメント
で構成されたパーティクル除去部材を透過して、密閉容
器の内面とパーティクル除去部材の外周面とで形成され
た液流路内へ流入し、その液流路内から密閉容器の処理
液流出口を通って処理液供給配管内へ流出する。あるい
は、処理液は、処理液供給配管内から処理液流入口を通
って、密閉容器の内面と密閉容器の内部に配設され一端
側が閉塞部材によって閉塞された円筒状のパーティクル
除去部材の外周面とで形成された液流路内へ流入し、そ
の液流路内から、多数の細管状エレメントで構成された
パーティクル除去部材を透過して、パーティクル除去部
材の中空部内へ流入し、その中空部内から密閉容器の処
理液流出口を通って処理液供給配管内へ流出する。ま
た、パーティクル除去部材を構成する多数の細管状エレ
メントはそれぞれ、パーティクル除去部材の一端側から
他端側へ向くように配置され、一端側が気体閉塞部材に
よって気密に閉塞されており、他端側が密閉容器の通気
口に連通していることにより、細管状エレメント内部が
減圧され、あるいは細管状エレメント内部へ気体が供給
される。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施形態
について図面を参照しながら説明する。
【0018】図1は、基板処理装置の1例である基板回
転式現像装置へ現像液を供給する現像液供給系の概略構
成の1例を示す図である。基板回転式現像装置10は、
スピンチャック12上に基板Wを水平姿勢で吸着保持し
た状態で、基板Wを鉛直軸回りに回転させながら、吐出
ノズル14の吐出口から基板Wの表面へ現像液を供給し
て、基板W表面に形成された露光済みのフォトレジスト
膜を現像処理するようになっている。
【0019】現像装置10の吐出ノズル14へ現像液を
供給する現像液供給系は、密閉容器からなり現像液16
を貯留する現像液タンク18、この現像液タンク18の
上部からそのタンク18内の上部空間へ窒素ガスを供給
するための窒素ガス供給配管20、および、一端側が現
像液タンク18内の現像液16中へ差し入れられ、他端
側が現像装置10の吐出ノズル14に接続された現像液
供給配管22を備えて構成されている。そして、窒素ガ
スボンベ等の窒素ガス供給源から窒素ガス供給配管20
を通って現像液タンク18内の上部空間へ窒素ガスを供
給することにより、タンク18内の現像液16の液面を
押圧して現像液供給配管22内へ現像液16を送り出
し、現像液供給配管22を通って吐出ノズル14へ現像
液を圧送するようになっている。なお、窒素ガスの圧力
によって現像液を圧送する構成に代えて、ポンプなどに
より現像液を圧送するような構成としてもよい。
【0020】現像液タンク18から吐出ノズル14へ至
る現像液供給配管22には、後述するような構成を備え
現像液に含まれるパーティクルを除去するパーティクル
除去作用および現像液中に溶存している気体を除去する
脱気作用を有するフィルタ装置24、配管22内を流通
する現像液の流量を確認するための流量計26、ならび
に、吐出ノズル14への現像液の供給および供給停止を
切り替える開閉制御弁28がそれぞれ介在して配設され
ている。
【0021】フィルタ装置24は、図2に縦断面図を、
図3に図2のIII−III矢視横断面図をそれぞれ示すよう
に、円筒状の密閉容器30の内部に、パーティクル除去
作用と共に脱気作用を有するパーティクル除去部材32
を内蔵している。パーティクル除去部材32は、円筒状
に形成されており、パーティクル除去部材32の軸線方
向長さより長い管体34の外側に、その管体34と横断
面同心円状に嵌挿されている。管体34の管壁には、多
数の貫通小孔36が形成されている。パーティクル除去
部材32の一端面(図2では下端面)は、管体34の一
端と共に閉塞部材38によって閉塞されている。また、
パーティクル除去部材32の他端面側(図2では上端面
側)は、管体34の他端部(図2では上端部)に密嵌さ
れた環状部材40が液密に連接されている。そして、図
4に外観斜視図を示すように、パーティクル除去部材3
2、管体34、閉塞部材38および環状部材40は、一
体的に構成されている。
【0022】パーティクル除去部材32は、図4のA部
分の拡大図を図5に示すように、例えばポリエチレン系
樹脂からなる気体透過膜材によって形成された多数の細
管状エレメント42を織成して構成されている。そし
て、パーティクル除去部材32の内部は、一部をさらに
拡大した断面図を図6に示すように、それぞれの細管状
エレメント42の内部が通気路44となり、細管状エレ
メント42と細管状エレメント42との間が液通路46
となる。それぞれの細管状エレメント42は、気体のみ
を透過させ液体を透過させない微細孔48を多数有して
おり、細管状エレメント42の外側の液通路46を通っ
て現像液が流れると、現像液中に溶存している気体のみ
が気体透過膜材を透過して細管状エレメント42内部の
通気路44内へ移行するようになっている。また、パー
ティクル除去部材32を構成する多数の細管状エレメン
ト42はそれぞれ、パーティクル除去部材32の一端側
から他端側へ向くように(図2では上下方向に)配置さ
れている。なお、図示例では、細管状エレメント42を
織物のように織り込んでそれを幾層にも積層したものを
円筒状に成形して、円筒状のパーティクル除去部材32
を構成するようにしているが、多数の細管状エレメント
からパーティクル除去部材を構成するには、それ以外の
方法によってもよく、例えば、多数の細管状エレメント
を絡み合わせながら単にブロック状に密集させて枠など
で円筒状に成形保持するようにして、パーティクル除去
部材を構成するようにしてもよい。
【0023】パーティクル除去部材32を構成している
多数の細管状エレメント42の内部のそれぞれの通気路
44の一端(図2では下端)は、閉塞部材38によって
気密に閉塞されている。また、パーティクル除去部材3
2の上端面側が連接されてパーティクル除去部材32と
一体的に構成された環状部材40に、パーティクル除去
部材32との連接面側に開口した環状凹部からなる通気
室50が形成されていて、この通気室50に、円筒状の
パーティクル除去部材32を構成している多数の細管状
エレメント42の内部の通気路44の他端(図2では上
端)がそれぞれ連通している。なお、図示例では、パー
ティクル除去部材32の一端面および管体34の一端を
それぞれ閉塞する閉塞部材38によって、パーティクル
除去部材32の多数の細管状エレメント42内部の通気
路44の一端を気密に閉塞するようにしているが、多数
の細管状エレメント42の一端を個別の気体閉塞部材に
よって閉塞するようにしてもよい。
【0024】円筒状の密閉容器30の一端側(図2では
下端側)には、現像液流入口52が設けられている。ま
た、密閉容器30の他端面(図2では上端面)の中央部
には、内周部の一部に雌ねじ56が螺刻された開口部5
4が形成されており、その開口部54に、雌ねじ56に
螺合する雄ねじ58が外周部の一部に螺刻され管体34
の上端部の外周面に密嵌されて固着される取付け部材5
8が螺着されるようになっている。取付け部材58の下
端面と環状部材40の上端面との間には、液密状態を保
つためのO−リング62が配設されている。そして、管
体34の端部が密閉容器30の端面から突出するよう
に、密閉容器30の内部にパーティクル除去部材32、
管体34、閉塞部材38および環状部材40の一体構成
物が収納され、密閉容器30の端面から突出した管体3
4の端部が現像液流出口64となる。なお、密閉容器3
0は、その内部にパーティクル除去部材32等からなる
一体構成物を収納することができるように、上・下に分
割可能な構造とされているが、その図示を省略してい
る。パーティクル除去部材32等からなる一体構成物が
密閉容器30の内部に収納された状態で、密閉容器30
の一端側(図2では下端側)の内面と閉塞部材38との
間、および、密閉容器30の内周面とパーティクル除去
部材32の外周面との間にそれぞれ液流路が形成される
ように、パーティクル除去部材32の軸線方向長さおよ
び外径のそれぞれの寸法が設定される。さらに、密閉容
器30の開口部54の周辺部に、密閉容器30の端面に
通気口66が開口した通気路68が形設されていて、そ
の通気路68と環状部材40に形成された通気室50と
が連通している。密閉容器30の通気口66には、図1
に示すように真空ポンプ70が流路接続されている。な
お、真空ポンプ70を用いる代わりに、クリーンルーム
などに配備されている真空ユーティリティに密閉容器3
0の通気口66を流路接続するようにしてもよい。
【0025】以上のような構成を有するフィルタ装置2
4は、現像液流入口52が上流側すなわち現像液タンク
18側となり現像液流出口64が下流側すなわち現像装
置10の吐出ノズル14側となるように、現像液供給配
管22に、それぞれ図示しない管継手を介して接続され
る。また、密閉容器30の通気口66が、真空ポンプ7
0に接続された配管72に図示しない管継手を介して接
続され、パーティクル除去部材32の多数の細管状エレ
メント42の内部の通気路44内が所定の圧力に減圧さ
れるようになっている。そして、現像液供給配管22内
に現像液を流すと、現像液は、図2に流れの方向を矢印
で示すように、現像液供給配管22内から現像液流入口
52を通って密閉容器30内へ流入し、密閉容器30の
内面とパーティクル除去部材32の外周面および閉塞部
材38との間に形成された液流路を通り、その液流路か
らパーティクル除去部材32を透過して、貫通小孔36
を通り管体34内へ流入する。この際に、現像液に含ま
れているパーティクルがパーティクル除去部材32によ
って除去されるとともに、現像液中に溶存している気体
が、パーティクル除去部材32を構成する細管状エレメ
ント42を形成している気体透過膜材を通して減圧状態
の細管状エレメント42内部の通気路44内へ移行し
て、現像液中から気体が除去される。そして、パーティ
クルが除去されて清浄化されるとともに脱気された現像
液は、管体34内を通り、現像液流出口64を通ってフ
ィルタ装置24から流出し、現像液供給配管22を通っ
て現像装置10の吐出ノズル14へ送られる。
【0026】このフィルタ装置24は、密閉容器30の
内部にパーティクル除去機能と共に脱気機能を有するパ
ーティクル除去部材32を内蔵しているので、パーティ
クル除去機能のみを有するフィルタ装置が現像液供給配
管に介設された既設の現像液供給系に、現像液中に溶存
する気体を除去する脱気機能を付加しようとする場合に
は、このフィルタ装置24を、パーティクル除去機能の
みを有するフィルタ装置と交換して配設すればよい。し
たがって、従来のように、フィルタ装置とは別に脱気装
置を現像液供給配管に追加して設置する、といったこと
を行わなくてもよいので、脱気装置の取付けのための余
分なスペースを必要とすることがない。また、パーティ
クル除去機能と共に脱気機能を有する現像液供給系を新
規に設計しようとする場合には、従来のように、フィル
タ装置の他に脱気装置の取付けのためのスペースを確保
する、といった必要が無いので、現像液供給系の設置ス
ペースが少なくて済み、また、コスト的にも有利とな
る。
【0027】なお、上記した実施形態では、フィルタ装
置24において、現像液を、密閉容器30の一端側(図
2では下端側)から密閉容器30の内面とパーティクル
除去部材32の外周面および閉塞部材38との間に形成
された液流路へ流入させ、その液流路からパーティクル
除去部材32を透過させて管体34内へ流入させ、管体
34内からその端部(図2では上端部)を通って流出さ
せるようにしているが、図2に示したフィルタ装置24
の現像液流入口52を現像液流出口とし現像液流出口6
4を現像液流入口として、現像液を矢印で示した方向と
は逆向きに流すようにしてもよい。この場合には、現像
液は、管体34の端部(図2では上端部)の現像液流入
口を通って流入し、管体34内を通り、その管体34内
から貫通小孔36を通ってパーティクル除去部材32を
透過して、密閉容器30の内面とパーティクル除去部材
32の外周面および閉塞部材38との間に形成された液
流路へ流入し、その液流路から密閉容器の一端部(図2
では下端部)の現像液流出口を通って流出することにな
る。
【0028】また、上記した実施の形態では、通気路4
4の一端を閉塞部材38によって気密に閉塞し、通気路
44の他端側を真空ポンプ70に連通させるように構成
しているが、それに限られるものではなく、例えば、通
気路44の一端側と真空ポンプ70とを連通させるため
の連通路を密閉容器30内に形成し、通気路44の両端
を真空ポンプ70と連通させるようにしてもよい。
【0029】また、上記した実施形態では、基板回転式
現像装置へ現像液を供給する現像液供給系にこの発明を
適用して、フィルタ装置24の密閉容器30に設けられ
パーティクル除去部材32を構成している細管状エレメ
ント42の内部の通気路44に連通した通気口66に真
空ポンプ70を流路接続した例について説明したが、こ
の発明を、例えば、洗浄液として純水を基板の表面へ吐
出する基板洗浄装置へ洗浄液(純水)を供給する洗浄液
供給系に適用する場合には、図1中に便宜的に示したよ
うに、フィルタ装置24の密閉容器30に設けられた通
気口66に、例えば、液化した二酸化炭素が充填された
ガスボンベ74と液化二酸化炭素を気化させるガス発生
器76とから構成された気体供給手段を、ガス供給配管
78を介して流路接続する。このような構成とした場合
には、パーティクル除去部材32を構成している細管状
エレメント42の内部の通気路44内へ二酸化炭素を供
給することができ、通気路44内の二酸化炭素を、パー
ティクル除去部材32を透過する純水中へ気体透過膜材
を通して移行させ、純水中に二酸化炭素を溶存させるこ
とができる。これにより、純水の比抵抗値を下げて帯電
が起こりにくくした上で、純水を基板表面へ供給するこ
とができるようになる。なお、純水中に溶存させる気体
としては、二酸化炭素に限らず、誘電率の高い気体であ
ればよい。
【0030】さらに、上記した説明では、パーティクル
除去部材32の形状を円筒状としたが、パーティクル除
去部材は、各種形状に成形することができ、例えば、多
数の細管状エレメントから平板状のパーティクル除去部
材を構成して、その平板状のパーティクル除去部材によ
り密閉容器の内部を2つの区画に仕切るようにしてもよ
い。
【0031】
【発明の効果】請求項1に係る発明の処理液供給装置用
フィルタ装置を使用すると、既設の基板処理システムの
処理液供給装置の処理液供給配管にも、パーティクル除
去機能のみを有するフィルタ装置と交換するだけで、脱
気機能や気体溶存機能を容易に付加することができると
ともに、配管の取回しが最小限で済むので、同一機種の
装置間での互換性を保つことができ、また、処理液供給
装置を新規に設置する場合には、装置の小型化および低
コスト化を図ることができる。
【0032】請求項2に係る発明のフィルタ装置を使用
すると、処理液中から気体を除去することが可能にな
る。
【0033】請求項3に係る発明のフィルタ装置を使用
すると、処理液中に気体、例えば純水中に二酸化炭素を
溶存させることが可能になる。
【0034】請求項4に係る発明のフィルタ装置では、
密閉容器の内部に配設されるパーティクル除去部材が円
筒状をなしているので、装置がコンパクトになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】基板処理装置の1例である基板回転式現像装置
へ現像液を供給する現像液供給系の概略構成の1例を示
す図である。
【図2】この発明の1実施形態を示すフィルタ装置の縦
断面図である。
【図3】図2のIII−III矢視横断面図である。
【図4】図2に示したフィルタ装置の構成要素であるパ
ーティクル除去部材、管体、閉塞部材および環状部材の
一体構成物の外観斜視図である。
【図5】図4のA部分の拡大図であって、パーティクル
除去部材の表面を拡大して示す図である。
【図6】パーティクル除去部材の一部をさらに拡大して
示す断面図である。
【符号の説明】
W 基板 10 基板回転式現像装置 12 スピンチャック 14 吐出ノズル 16 現像液 18 現像液タンク 20 窒素ガス供給配管 22 現像液供給配管 24 フィルタ装置 30 密閉容器 32 パーテイクル除去部材 34 管体 36 管体の貫通小孔 38 閉塞部材 40 環状部材 42 気体透過膜材によって形成された細管状エレメン
ト 44 細管状エレメントの内部の通気路 46 液通路 48 微細孔 50 通気室 52 現像液流入口 54 開口部 58 取付け部材 64 現像液流入口 66 通気口 68 通気路 70 真空ポンプ 72 配管 74 液化した二酸化炭素が充填されたガスボンベ 76 ガス発生器 78 ガス供給配管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01L 21/31 H01L 21/30 564Z

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板処理装置へ処理液を供給する処理液
    供給装置の処理液供給配管に介在して配設された処理液
    供給装置用フィルタ装置において、 処理液流入口および処理液流出口ならびに通気口を有す
    る密閉容器の内部に、その内部を流路的に処理液流入側
    と処理液流出側とに仕切るように、気体のみを透過させ
    る気体透過膜材によって形成された多数の細管状エレメ
    ントで構成されたパーティクル除去部材を配設し、その
    パーティクル除去部材を構成する多数の細管状エレメン
    トの少なくともその一方の端部を前記密閉容器の通気口
    に連通させたことを特徴とする処理液供給装置用フィル
    タ装置。
  2. 【請求項2】 密閉容器の通気口が減圧手段に流路接続
    された請求項1記載の処理液供給装置用フィルタ装置。
  3. 【請求項3】 密閉容器の通気口が気体供給手段に流路
    接続された請求項1記載の処理液供給装置用フィルタ装
    置。
  4. 【請求項4】 パーティクル除去部材が円筒状をなし、
    その円筒状のパーティクル除去部材の一端側が閉塞部材
    によって液密に閉塞されるとともに、円筒状のパーティ
    クル除去部材が、その中空部と密閉容器の処理液流入口
    または処理液流出口とが連通するように密閉容器の内部
    に配設され、パーティクル除去部材を構成する多数の細
    管状エレメントのそれぞれが、パーティクル除去部材の
    一端側から他端側へ向くように配置されて、多数の細管
    状エレメントのそれぞれの一端側が気体閉塞部材によっ
    て気密に閉塞されるとともにそれぞれの他端側が前記密
    閉容器の通気口に連通した請求項1ないし請求項3のい
    ずれかに記載の処理液供給装置用フィルタ装置。
JP3383298A 1998-01-29 1998-01-29 処理液供給装置用フィルタ装置 Pending JPH11216337A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3383298A JPH11216337A (ja) 1998-01-29 1998-01-29 処理液供給装置用フィルタ装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3383298A JPH11216337A (ja) 1998-01-29 1998-01-29 処理液供給装置用フィルタ装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11216337A true JPH11216337A (ja) 1999-08-10

Family

ID=12397474

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3383298A Pending JPH11216337A (ja) 1998-01-29 1998-01-29 処理液供給装置用フィルタ装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11216337A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015106656A (ja) * 2013-11-29 2015-06-08 東京エレクトロン株式会社 フィルター装置
KR20220033917A (ko) * 2020-09-10 2022-03-17 세메스 주식회사 탈기 장치, 기판 처리 장치 및 처리액 탈기 방법

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015106656A (ja) * 2013-11-29 2015-06-08 東京エレクトロン株式会社 フィルター装置
KR20220033917A (ko) * 2020-09-10 2022-03-17 세메스 주식회사 탈기 장치, 기판 처리 장치 및 처리액 탈기 방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101907351B1 (ko) 액 처리 방법 및 필터 내의 기체의 제거 장치
US6158721A (en) Apparatus and method for adding carbon dioxide gas to ultra pure water
KR100196047B1 (ko) 레지스트 처리장치 및 레지스트 처리방법
JP4646234B2 (ja) 薬液供給装置および半導体装置の製造方法
US6293849B1 (en) Polishing solution supply system
JP2008085263A (ja) 膜塗布装置および膜塗布方法
JPH11216337A (ja) 処理液供給装置用フィルタ装置
JPH11244607A (ja) 薬液の脱気方法及び脱気装置
JPH11216338A (ja) 処理液供給装置用フィルタ装置
KR101964074B1 (ko) 액체용 탈기 장치
JPH11283913A (ja) フィルタ装置
JP3562910B2 (ja) 基板処理装置のフィルタ
JP2008159977A (ja) 基板処理装置
JPH07328314A (ja) 流体循環脱気装置
JPH11216339A (ja) フィルタ装置
KR100904462B1 (ko) 기판 처리 설비 및 기판 처리 방법
KR20200101845A (ko) 필터 웨팅 방법 및 처리액 공급 장치
GB2303564A (en) Degassing liquids for semiconductor manufacture
KR20030021691A (ko) 화학용액 내에 포함된 기포를 제거하기 위한 기포제거장치및 이를 이용한 기포제거방법
KR200223004Y1 (ko) 액체 유로 중공관과 유도막을 구비한 다공질 중공사막을이용한 액체 화학제 탈기장치 및 그 제조방법
TWI724641B (zh) 基板處理裝置
JP2005043244A (ja) パーティクル測定方法およびパーティクル測定装置
JPH11333229A (ja) 基板処理装置のフィルタ
KR200269976Y1 (ko) 반도체 제조 공정에서의 포토레지스트 공급장치
JP2000068197A (ja) 気泡発生防止兼用気泡除去装置