JPH11186126A - Charged particle beam device - Google Patents
Charged particle beam deviceInfo
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- JPH11186126A JPH11186126A JP9347588A JP34758897A JPH11186126A JP H11186126 A JPH11186126 A JP H11186126A JP 9347588 A JP9347588 A JP 9347588A JP 34758897 A JP34758897 A JP 34758897A JP H11186126 A JPH11186126 A JP H11186126A
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する分野】本発明は、カセットの温度を測定
する手段を備えた荷電粒子ビーム装置に関する。The present invention relates to a charged particle beam apparatus provided with means for measuring the temperature of a cassette.
【0002】[0002]
【従来の技術】荷電粒子ビーム描画装置においては、例
えば、ガラス板の上にレジストが塗布された材料上に荷
電粒子ビームを照射することによりＩＣパターンを描画
している。又、荷電粒子ビーム観察，検査，分析，測定
装置等においては、ＩＣパターンが描かれた材料に荷電
粒子ビームを照射することにより検出された荷電粒子に
基づいて、それぞれパターンの観察，パターン欠陥等の
検査，材料上に付着しているごみ等の分析，パターンの
測長等を行っている。2. Description of the Related Art In a charged particle beam drawing apparatus, for example, an IC pattern is drawn by irradiating a charged particle beam onto a material having a resist coated on a glass plate. In charged particle beam observation, inspection, analysis, and measurement devices, etc., based on charged particles detected by irradiating a charged particle beam to a material on which an IC pattern is drawn, pattern observation, pattern defects, etc. are performed, respectively. Inspection of waste, analysis of refuse adhering to materials, pattern length measurement, etc. are performed.
【0003】通常、前記描画，観察，検査，分析，測定等の
処理を行う処理室の隣に、ゲートバルブを介して交換室
が設けられており、該交換室を介して外部から処理室に
材料を入れたり、処理室から外部へ出したりしている。[0003] Usually, an exchange chamber is provided via a gate valve next to the processing chamber for performing the processing such as drawing, observation, inspection, analysis, and measurement, and the processing chamber is externally connected to the processing chamber via the exchange chamber. Materials are put in and out of the processing room.
【0004】図１は、電子ビーム描画装置の描画室と交換室
の一例を示したものである。図中１は描画室で、特に図
示しないが、上部に電子銃と、該電子銃からの電子ビー
ムを材料上に集束するための集束レンズ、同電子ビーム
を材料上の所定に位置にショットさせるための偏向レン
ズ等を備えた電子光学系が設けられている。２は材料を
保持したカセット３（図では３Ａ）を載置するためのス
テージである。４は排気ポンプ、５は排気バルブ、６は
ゲートバルブである。７は交換室で、中央部にエレベー
タ８が設けられている。該エレベータは交換室７の外部
に設けられたエレベータ駆動機構９により、交換室内に
於いて上下移動する。該エレベータの上にはマガジン１
０が載置されいる。該マガジンは、材料を保持したカセ
ットを一時的に載置するもので、この例では、二段構成
になっており、カセット３が上下に１台ずつ載置出来る
ように成っている。１１は排気ポンプ、１２は排気バル
ブ、１３はゲートバルブである。１４は交換室７に開け
られた孔に、気密を保って嵌入されたカセット搬送機構
（図示せず）のアームで、交換室７や、交換室７を介し
て描画室１まで移動可能に構成されている。前記ゲート
バルブ６，１３、排気バルブ５，１２、エレベータ駆動
機構９及びカセット搬送機構（図示せず）は制御装置
（図示せず）の指令に基づいて作動する。FIG. 1 shows an example of a drawing room and an exchange room of an electron beam drawing apparatus. In the drawing, reference numeral 1 denotes a drawing chamber, which is not shown in the drawing. An electron gun, a focusing lens for focusing an electron beam from the electron gun on a material, and a shot of the electron beam at a predetermined position on the material are provided. Optical system including a deflecting lens and the like is provided. Reference numeral 2 denotes a stage on which a cassette 3 (3A in the figure) holding materials is placed. 4 is an exhaust pump, 5 is an exhaust valve, and 6 is a gate valve. An exchange room 7 is provided with an elevator 8 in the center. The elevator moves up and down in the exchange room by an elevator driving mechanism 9 provided outside the exchange room 7. Magazine 1 on the elevator
0 is placed. The magazine is for temporarily placing a cassette holding the material. In this example, the magazine has a two-stage configuration, and the cassettes 3 can be placed one by one up and down. 11 is an exhaust pump, 12 is an exhaust valve, and 13 is a gate valve. Reference numeral 14 denotes an arm of a cassette transport mechanism (not shown) which is fitted in a hole opened in the exchange chamber 7 while maintaining airtightness, and is configured to be movable to the exchange chamber 7 and the drawing chamber 1 via the exchange chamber 7. Have been. The gate valves 6 and 13, the exhaust valves 5 and 12, the elevator drive mechanism 9 and the cassette transport mechanism (not shown) operate based on a command from a control device (not shown).
【0005】この様な構成の装置において、描画室１内でカ
セット３Ａに保持された材料にパターン描画等の処理を
する場合には、ゲートバルブ６を閉じ、排気バルブ５を
開き、描画室１内を排気ポンプ４により排気し、高真空
状態に保つ。この様な処理の際には、次に描画処理すべ
き材料を保持したカセット３（図では３Ｂ）が交換室７
のマガジン１０の上段載置台上に置かれている。即ち、
前記ゲートバルブ６が閉じており、しかも、交換室７を
リークして大気圧に近い状態にしておいて、ゲートバル
ブ１３を開き、マガジン１０の上段載置台が該ゲートバ
ルブと同一水平位置に来るようにエレベータ駆動機構９
によりエレベータ８を上方に移動させる。この状態にお
いて、カセット出し入れ機構（図示せず）のアーム（図
示せず）に保持された次に処理すべきカセットをマガジ
ン１０の上段載置台にセットする。該アームを交換室７
の外に移動させた後、ゲートバルブ１３を閉じ、排気バ
ルブ１２を開き、排気ポンプ１１により交換室７内を排
気する。前記描画室１内の材料を新しいものと交換する
場合には、ゲードバルブ６を開け、マガジン１０の下段
載置台がステージ２の上面と同一水平位置に来るように
エレベータ駆動機構９によりエレベータ８を下方に移動
させる。この状態において、前記カセット搬送機構（図
示せず）のアーム１４を交換室１０とゲートバルブ６を
介してステージ２近傍まで移動させ、該ステージ上に載
置されているカセットに接続させる。該接続は、例え
ば、図２に示す様に、アーム１４先端のＴ字形凸部１５
をカセット３のＴ字形凹１６にはめあわせることにより
行われる。即ち、図２（ａ）の状態からアーム１４を９
０度回転させてアーム１４の凸部１５をカセットの凹部
１６に挿入し、該挿入後アームを９０度回転させること
によりアーム１４先端のＴ字形凸部１５をカセット３の
Ｔ字形凹１６にはめあわせることが出来る。この様にし
てカセットを接続したアーム１４を逆方向に移動させ、
途中、交換室７のマガジン１０の下段載置台上にそのカ
セットを置いてから、図１に示す如く最初の位置に戻さ
れる。尚、アーム１４からカセットを外す場合は、アー
ム１４を９０度回転させてアーム１４を移動させること
により、アーム１４の凸部１５をカセットの凹部１６か
ら外すことが出来る。次に、マガジン１０の上段載置台
がステージ２の上面と同一水平位置に来るようにエレベ
ータ駆動機構９によりエレベータ８を上方に移動させ
る。そして、前記アーム１４をステージ方向に移動さ
せ、途中、該マガジン１０の上段載置台上にセットされ
ているカセットを接続し、そのカセットをステージ２上
にセットし、その後、再び最初の位置に戻す。この状態
で、ゲートバルブ６を閉じ、描画室１内が所定の真空度
に達した後に材料の処理が始まる。この描画処理の間
に、上記した様に、次に描画処理すべき材料を保持した
カセットが交換室７のマガジン１０の上段載置台上にセ
ットされる。In the apparatus having such a configuration, when processing such as pattern drawing is performed on the material held in the cassette 3A in the drawing chamber 1, the gate valve 6 is closed, the exhaust valve 5 is opened, and the drawing chamber 1 is opened. The inside is evacuated by the exhaust pump 4 and kept in a high vacuum state. In such a process, the cassette 3 (3B in the figure) holding the material to be subjected to the next drawing process is placed in the exchange chamber 7.
The magazine 10 is placed on an upper mounting table. That is,
With the gate valve 6 closed and the exchange chamber 7 leaked to a state close to atmospheric pressure, the gate valve 13 is opened, and the upper stage of the magazine 10 comes to the same horizontal position as the gate valve. Elevator drive mechanism 9
Moves the elevator 8 upward. In this state, the cassette to be processed next, which is held by the arm (not shown) of the cassette loading / unloading mechanism (not shown), is set on the upper mounting table of the magazine 10. Replace the arm with the exchange room 7
After that, the gate valve 13 is closed, the exhaust valve 12 is opened, and the inside of the exchange chamber 7 is exhausted by the exhaust pump 11. When replacing the material in the drawing chamber 1 with a new material, the gate valve 6 is opened, and the elevator 8 is moved downward by the elevator driving mechanism 9 so that the lower stage of the magazine 10 is at the same horizontal position as the upper surface of the stage 2. Move to In this state, the arm 14 of the cassette transfer mechanism (not shown) is moved to the vicinity of the stage 2 via the exchange chamber 10 and the gate valve 6, and is connected to the cassette mounted on the stage. The connection is made by, for example, as shown in FIG.
In the T-shaped recess 16 of the cassette 3. That is, the arm 14 is moved from the state shown in FIG.
The T-shaped protrusion 15 at the tip of the arm 14 is fitted into the T-shaped recess 16 of the cassette 3 by rotating the arm by 90 degrees after the insertion by rotating the arm by 90 degrees. Can be matched. In this way, the arm 14 connected to the cassette is moved in the opposite direction,
On the way, the cassette is placed on the lower mounting table of the magazine 10 in the exchange chamber 7, and then returned to the initial position as shown in FIG. When removing the cassette from the arm 14, the protrusion 15 of the arm 14 can be removed from the recess 16 of the cassette by rotating the arm 14 by 90 degrees and moving the arm 14. Next, the elevator 8 is moved upward by the elevator drive mechanism 9 so that the upper stage of the magazine 10 is at the same horizontal position as the upper surface of the stage 2. Then, the arm 14 is moved in the direction of the stage, a cassette set on the upper mounting table of the magazine 10 is connected on the way, the cassette is set on the stage 2, and then returned to the initial position. . In this state, the gate valve 6 is closed, and after the inside of the drawing chamber 1 reaches a predetermined degree of vacuum, material processing starts. During this drawing process, as described above, the cassette holding the material to be subjected to the next drawing process is set on the upper mounting table of the magazine 10 in the exchange chamber 7.
【0006】さて、通常、電子ビーム描画装置においては、
温度の変動が描画精度に影響する。即ち、電子光学系に
温度変動があると、電子ビームのドリフトが発生する。
又、ステージに温度変動が発生したり、前記マガジン中
のカセット自身に温度変動があると、カセットをステー
ジに載せた時に、カセットの温度変動に基いてカセット
に保持されている材料が所定の位置からドリフトしてし
まう。この様なドリフトにより、電子ビームによるパタ
ーン描画精度が悪化するのである。そこで、電子光学鏡
筒、ステージ、マガジン等には冷却水を循環させること
が出来る機構が施されており、これらの部分が常に一定
の温度に保持されるように成している。[0006] Usually, in an electron beam writing apparatus,
Variations in temperature affect writing accuracy. That is, if there is a temperature fluctuation in the electron optical system, a drift of the electron beam occurs.
Further, if a temperature fluctuation occurs in the stage or the cassette itself in the magazine has a temperature fluctuation, when the cassette is placed on the stage, the material held in the cassette is moved to a predetermined position based on the temperature fluctuation of the cassette. Drift from. Due to such drift, the pattern writing accuracy by the electron beam is deteriorated. Therefore, a mechanism capable of circulating cooling water is provided in the electron optical column, stage, magazine, and the like, so that these parts are always maintained at a constant temperature.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】所で、カセットの温度
変動に注目した場合、上記した様に、カセットの温度変
動は、カセットをステージに載せた時に該カセツトに保
持されている材料がドリフトするという形で表れていた
ので、図３に示す様に、ステージ２上にカセット３をセ
ットした時に、該ステージ上でカセットを固定するため
のカセット固定体１７中にサーミスタの如き温度測定素
子１８を設け、カセットの温度を該温度測定素子１８に
より測定し、該測定温度に基づいて、該カセットが所定
の温度になるように、ステージ２の温度をコントロール
している。即ち、カセツトの温度が所定の温度になるよ
うに、ステージ２を冷却している水の温度を変化させた
り、冷却水の単時間当たりの流量を変化させていた。When attention is paid to the temperature fluctuation of the cassette, as described above, the temperature fluctuation of the cassette causes the material held in the cassette to drift when the cassette is placed on the stage. As shown in FIG. 3, when the cassette 3 is set on the stage 2, a temperature measuring element 18 such as a thermistor is provided in a cassette fixing body 17 for fixing the cassette on the stage, as shown in FIG. The temperature of the cassette 2 is measured by the temperature measuring element 18 and the temperature of the stage 2 is controlled based on the measured temperature so that the cassette has a predetermined temperature. That is, the temperature of the water for cooling the stage 2 is changed or the flow rate of the cooling water per unit time is changed so that the temperature of the cassette becomes a predetermined temperature.
【0008】しかし、この様な温度コントロールには極めて
多くの時間が掛かっていた。本発明は、この様な問題を
解決するもので、新規な荷電粒子ビーム装置を提供する
ものである。[0008] However, such temperature control has taken an extremely long time. The present invention solves such a problem and provides a novel charged particle beam device.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】 本発明の荷電粒子ビー
ム装置は、荷電粒子ビームが照射されるＩＣ用材料を保
持したカセットが置かれる処理室、及び、ＩＣ用材料を
保持したカセットが一時的に置かれるマガジンを配置さ
せる交換室を備えた荷電粒子ビーム装置において、前記
マガジンのカセット接触部分に温度測定素子を設けたこ
とを特徴とするるようにしたことを特徴としている。Means for Solving the Problems A charged particle beam apparatus according to the present invention includes a processing chamber in which a cassette holding an IC material to be irradiated with a charged particle beam is placed, and a cassette holding the IC material is temporarily used. In the charged particle beam apparatus provided with an exchange chamber for disposing a magazine placed in a magazine, a temperature measuring element is provided at a cassette contact portion of the magazine.
【0010】又、本発明の荷電粒子ビーム装置は、荷電粒子
ビームが照射されるＩＣ用材料を保持したカセットが置
かれる処理室、及び、ＩＣ用材料を保持したカセットが
一時的に置かれるマガジンを配置させる交換室を備えた
荷電粒子ビーム装置において、前記マガジンのカセット
接触部分に温度測定素子を設け、該温度測定素子で測定
したマガジンの温度に基づいてマガジンの温度をコント
ロールするように成したに成したことを特徴としてい
る。[0010] The charged particle beam apparatus of the present invention comprises a processing chamber in which a cassette holding an IC material to be irradiated with a charged particle beam is placed, and a magazine in which a cassette holding the IC material is temporarily placed. In the charged particle beam apparatus provided with an exchange chamber for disposing a temperature measuring element, a temperature measuring element is provided at a cassette contact portion of the magazine, and the temperature of the magazine is controlled based on the temperature of the magazine measured by the temperature measuring element. It is characterized by having done.
【0011】又、本発明の荷電粒子ビーム装置は、マガジン
の一部を成しており、カセットがセットされた時には該
カセットを固定し、該カセットを処理室側に移動させる
時には該カセットの固定を解除するように構成された固
定体に温度測定素子を設けたことを特徴としている。The charged particle beam apparatus according to the present invention forms a part of a magazine. When a cassette is set, the cassette is fixed, and when the cassette is moved to the processing chamber, the cassette is fixed. Wherein a temperature measuring element is provided on a fixed body configured to cancel the temperature.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
【0013】図４及び図５は本発明の荷電粒子ビーム装置の
主要部の一例を示している。尚、図５は図４のＡ−Ａ断
面図である。FIGS. 4 and 5 show an example of a main part of the charged particle beam apparatus according to the present invention. FIG. 5 is a sectional view taken along line AA of FIG.
【0014】図４は交換室に配置されているマガジン１００
の内部を上（反エレベータ側）から見た図で、１０１は
上段載置台１０２の上に載置されたカセットを示してい
る。該カセットの、カセット搬送機構（図示せず）のカ
セット側には、アームのＴ字形凸部に対応させて図２で
説明した如きＴ字形凹部１０３が取り付けられている。
１０４，１０５はマガジン内にセットされたカセットを
固定するためのＬ字形アームで、上段載置台１０２に固
定されたベース体１０６に取り付けられた腕１０７，１
０８にそれぞれ軸１０９，１１０で回転可能に接続され
ている。１１１は前記各アームの他方の先端部（カセッ
トに接触しない方の先端部）に軸１１２，１１３で接続
されていると共に、そのマガジン内壁対向面がマガジン
１００の内壁に取り付けられたバネの如き弾性体１１
４，１１５の他端に接続されている棒体である。１１６
は前記棒体を押すための棒体押圧体で、マガジン側面に
開けられた孔１１７を通じて前記棒体１１１を押すこと
が出きるように成してある。特に図示しないが、前記孔
１１７に対向した交換室の壁にはこの棒体押圧体１１６
を気密を保つて前記棒体方向に移動させることが出来る
孔が開けられており、交換室外部に設けられ、前記制御
装置（図しせず）により作動する棒体押圧体駆動機構
（図示せず）により該棒体押圧体１１６を移動させるよ
うに成している。FIG. 4 shows a magazine 100 arranged in the exchange room.
Is a view of the inside of the device as viewed from above (the side opposite to the elevator), and 101 indicates a cassette mounted on the upper mounting table 102. A T-shaped recess 103 as described with reference to FIG. 2 is attached to the cassette on the cassette side of a cassette transport mechanism (not shown) so as to correspond to the T-shaped protrusion of the arm.
Reference numerals 104 and 105 denote L-shaped arms for fixing a cassette set in the magazine, and arms 107 and 1 attached to a base body 106 fixed to the upper mounting table 102.
08 are rotatably connected to shafts 109 and 110, respectively. 111 is connected to the other end (the end not in contact with the cassette) of each of the arms by shafts 112 and 113, and its magazine inner wall facing surface is an elastic member such as a spring attached to the inner wall of the magazine 100. Body 11
4, 115 are rods connected to the other ends. 116
Is a rod pressing body for pressing the rod, and is configured so that the rod 111 can be pushed through a hole 117 formed in the side surface of the magazine. Although not particularly shown, the rod pressing body 116 is provided on the wall of the exchange chamber facing the hole 117.
A hole is provided which is capable of being moved in the direction of the rod body while maintaining airtightness, and is provided outside the exchange chamber and operated by the control device (not shown). ), The rod pressing body 116 is moved.
【0015】１１８は前記アームの一方の先端部（カセット
に接触する方の先端部）中に設けられたサーミスタの如
き温度測定素子で、そのリード線１１９は、例えば、ア
ーム中に形成された溝に埋め込まれ、外部の温度コント
ロール装置（図示せず）に繋がっている。該温度コント
ロール装置は、温度検出装置が測定した温度に基づい
て、カセツトが所定の温度になるように、カセットを冷
却している水の温度を変化させたり、冷却水の単時間当
たりの流量を変化させるものである。温度測定素子を除
く前記機構はマガジン１００の下段載置台１２０の上に
も設けられている。Reference numeral 118 denotes a temperature measuring element such as a thermistor provided at one end of the arm (the end that contacts the cassette), and its lead wire 119 has, for example, a groove formed in the arm. And is connected to an external temperature control device (not shown). The temperature control device changes the temperature of water for cooling the cassette based on the temperature measured by the temperature detection device so that the cassette has a predetermined temperature, or controls the flow rate of cooling water per unit time. To change it. The mechanism excluding the temperature measuring element is also provided on the lower mounting table 120 of the magazine 100.
【0016】さて、この様な構成のマガジンを図１に示す如
き装置に使用した場合についての動作を説明する。Now, the operation when the magazine having such a configuration is used in the apparatus shown in FIG. 1 will be described.
【0017】描画室１内でカセットに保持された材料にパタ
ーン描画等の処理をする場合には、ゲートバルブ６を閉
じ、排気バルブ５を開き、描画室１内は排気ポンプ４に
より排気され高真空状態に保たれている。この様な処理
の際中に、交換室７をリークして大気圧に近い状態に
し、ゲートバルブ１３を開き、マガジン１００の上段載
置台が該ゲートバルブと同一水平位置に来るようにエレ
ベータ駆動機構９によりエレベータを上方に移動させ
る。同時に、棒体押圧体駆動機構（図示せず）により該
棒体押圧体１１６は移動させ、該押圧体により棒体１１
１を押圧する。すると、弾性体１１４，１１５の収縮力
によりマガジン１００の内壁側に引きつけられていた棒
体１１１はカセツト側に押され、アーム１０４，１０５
は軸１０９，１１０を支点として外側に大きく（少なく
ともカセツト挿入が可能な程度）開く。この状態におい
て、カセット出し入れ機構（図示せず）のアーム（図示
せず）により次に処理すべきカセットをマガジン１００
の上段載置台１０２上にセットする。該アームを交換室
の外に移動させた後、ゲートバルブ１３を閉じ、排気バ
ルブ１２を開き、排気ポンプ１１により交換室７内を排
気する。この時、同時に、前記棒体押圧体駆動機構（図
示せず）により該棒体押圧体１１６を前記移動方向と逆
方向に移動させ、該押圧体による棒体１１１の押圧を解
除する。すると、棒体１１１は弾性体１１４，１１５の
収縮力によりマガジンの内壁側に引きつけられ、アーム
１０４，１０５は軸１０９，１１０を支点として内側閉
じ、前記セットされたカセット１０１をしっかりと保持
することになる。この保持により、アームの先端に設け
られた温度測定素子１１８がカセット１０１に接触する
ことになり、該カセットの温度を測定する。そして、温
度コントロール装置は、この温度検出装置が測定した温
度に基づいて、カセツトが所定の温度になるように、カ
セットを冷却している水の温度を変化させたり、冷却水
の単時間当たりの流量を変化させる。この様にして、次
に描画すべき材料を保持したカセット１０１はマガジン
１００に一時的にセットされている間、常に所定の温度
に保たれる。When a process such as pattern drawing is performed on a material held in a cassette in the drawing chamber 1, the gate valve 6 is closed and the exhaust valve 5 is opened. It is kept in a vacuum. During such processing, the exchange chamber 7 leaks to a state close to the atmospheric pressure, the gate valve 13 is opened, and the elevator driving mechanism is moved so that the upper stage of the magazine 100 is at the same horizontal position as the gate valve. 9 moves the elevator upward. At the same time, the rod pressing body 116 is moved by a rod pressing body driving mechanism (not shown), and the rod 11 is moved by the pressing body.
Press 1. Then, the rod body 111 which has been attracted to the inner wall side of the magazine 100 by the contraction force of the elastic bodies 114 and 115 is pushed toward the cassette side, and the arms 104 and 105.
Is open outward (at least to the extent that cassette insertion is possible) with the shafts 109 and 110 as fulcrums. In this state, the next cassette to be processed is set in the magazine 100 by the arm (not shown) of the cassette loading / unloading mechanism (not shown).
Is set on the upper mounting table 102. After the arm is moved out of the exchange chamber, the gate valve 13 is closed, the exhaust valve 12 is opened, and the interior of the exchange chamber 7 is exhausted by the exhaust pump 11. At this time, at the same time, the rod pressing body 116 is moved in a direction opposite to the moving direction by the rod pressing body driving mechanism (not shown), and the pressing of the rod 111 by the pressing body is released. Then, the rod body 111 is attracted to the inner wall side of the magazine by the contraction force of the elastic bodies 114 and 115, and the arms 104 and 105 are closed inside around the shafts 109 and 110 to hold the set cassette 101 firmly. become. By this holding, the temperature measuring element 118 provided at the tip of the arm comes into contact with the cassette 101, and the temperature of the cassette is measured. Then, based on the temperature measured by the temperature detecting device, the temperature control device changes the temperature of the water for cooling the cassette so that the cassette reaches a predetermined temperature, or changes the temperature of the cooling water per unit time. Change the flow rate. In this way, the cassette 101 holding the material to be drawn next is always kept at a predetermined temperature while temporarily set in the magazine 100.
【0018】次に、前記描画室１内の材料を新しいものと交
換する場合には、前記した様に、ステージ上のカセット
をマガジンの下段載置台１２０に載せた後、棒体押圧体
駆動機構（図示せず）により該棒体押圧体１１６を移動
させ、該押圧体により棒体１１１を押圧し、アーム１０
４，１０５の保持を解除した後、前記した様に、前記所
定の温度に保たれたカセット１０１をステージ２上に載
置する。この時、前記図３に示す様に、ステージ固定体
１７に温度測定素子１８が設けられており、カセットの
温度が所定の温度になるようにステージの温度がコント
ロールされているが、既に温度コントロールにより所定
の温度に保持されたカセットがステージ上にセットされ
るので、このカセットの温度変動が極めて少なく、その
為に、前記ステージ温度コントロールに要する時間が極
めて単時間で済む。Next, when replacing the material in the drawing chamber 1 with a new one, the cassette on the stage is placed on the lower mounting table 120 of the magazine as described above, and then the rod pressing mechanism driving mechanism is driven. (Not shown), the rod pressing body 116 is moved, and the rod 111 is pressed by the pressing body.
After releasing the holding of the cassettes 4 and 105, the cassette 101 maintained at the predetermined temperature is placed on the stage 2 as described above. At this time, as shown in FIG. 3, a temperature measuring element 18 is provided on the stage fixed body 17, and the temperature of the stage is controlled so that the temperature of the cassette becomes a predetermined temperature. As a result, the cassette maintained at a predetermined temperature is set on the stage. Therefore, the temperature fluctuation of the cassette is extremely small, and therefore, the time required for controlling the stage temperature is extremely short.
【0019】尚、前記実施例においては、電子ビーム描画装
置を例に上げたが、イオンビームによる描画装置や電子
ビームによる測長装置等、他の荷電粒子ビーム装置にも
応用可能である。In the above-described embodiment, an electron beam drawing apparatus has been described as an example. However, the present invention can be applied to other charged particle beam apparatuses such as an ion beam drawing apparatus and an electron beam length measuring apparatus.
【0020】又、前記実施例では、温度測定素子をアーム中
に設けた。これは、簡単で、しかも、カセット保持中、
温度測定素子が測温すべきカセットに常に接触している
ことから、効率的且つ次の処理待機中に絶えず（素早
く）温度コントロールが出来るからであるが、マガジン
中で、次に処理されるカセットが接触する部分なら、他
の部分に温度測定素子を設けるようにしても良い。In the above embodiment, the temperature measuring element is provided in the arm. This is easy and while holding the cassette,
This is because the temperature measuring element is constantly in contact with the cassette to be measured, so that the temperature can be efficiently and constantly (quickly) controlled during the next processing, but the cassette to be processed next in the magazine If it is a part that contacts, a temperature measuring element may be provided in another part.
【図1】 電子ビーム描画装置の描画室と交換室の一例
を示したものである。FIG. 1 shows an example of a drawing room and an exchange room of an electron beam drawing apparatus.
【図2】 カセットとカセット搬送機構のアームの一例
を示してる。FIG. 2 illustrates an example of a cassette and an arm of a cassette transport mechanism.
【図3】 一例を示してる。FIG. 3 shows an example.
【図4】 本発明の荷電粒子ビーム装置の主要部の一例
を示している。FIG. 4 shows an example of a main part of the charged particle beam device of the present invention.
【図5】 図５は図４のＡ−Ａ断面図であるFIG. 5 is a sectional view taken along line AA of FIG.
１…描画室、２…ステージ、３，３Ａ，１０１…カセッ
ト、４，１１…排気ポンプ、５，１２…排気バルブ、
６，１３…ゲートバルブ、７…交換室、８…エレベー
タ、９…エレベータ駆動装置、１０…マガジン、１４…
アーム、１５…Ｔ字形凸部、１６，１０３…Ｔ字形凹部
排気口、１７…カセット固定体、１８，１１８…温度測
定素子、１００…マガジン、１０１…カセット、１０２
…上段載置台、１０４，１０５…Ｌ字形アーム、１０６
…ベース体、１０７，１０８…腕、１０９，１１０，１
１２，１１３…軸、１１１…棒体、１１４，１１５…弾
性体、１１６…棒体押圧体、１１７…孔、１１９…リー
ド線、１２０…下段載置台DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Drawing room, 2 ... Stage, 3, 3A, 101 ... Cassette, 4, 11 ... Exhaust pump, 5, 12 ... Exhaust valve,
6, 13 gate valve, 7 exchange room, 8 elevator, 9 elevator drive, 10 magazine, 14
Arm, 15: T-shaped convex part, 16, 103: T-shaped concave part exhaust port, 17: cassette fixed body, 18, 118: temperature measuring element, 100: magazine, 101: cassette, 102
... Upper mounting table, 104, 105 ... L-shaped arm, 106
... Base body, 107,108 ... Arm, 109,110,1
12, 113: shaft, 111: rod, 114, 115: elastic, 116: rod pressing body, 117: hole, 119: lead wire, 120: lower mounting table
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｔ // Ｈ０１Ｔ 23/00 Ｈ０１Ｔ 23/00 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H01L 21/68 H01L 21/68 T // H01T 23/00 H01T 23/00
Claims (3)
を保持したカセットが置かれる処理室、及び、ＩＣ用材
料を保持したカセットが一時的に置かれるマガジンを配
置させる交換室を備えた荷電粒子ビーム装置において、
前記マガジンのカセット接触部分に温度測定素子を設け
たことを特徴とする荷電粒子ビーム装置。Claims: 1. A charging chamber including a processing chamber in which a cassette holding an IC material to be irradiated with a charged particle beam is placed, and an exchange chamber in which a magazine in which a cassette holding the IC material is temporarily placed is placed. In a particle beam device,
A charged particle beam device, wherein a temperature measuring element is provided at a cassette contact portion of the magazine.
を保持したカセットが置かれる処理室、及び、ＩＣ用材
料を保持したカセットが一時的に置かれるマガジンを配
置させる交換室を備えた荷電粒子ビーム装置において、
前記マガジンのカセット接触部分に温度測定素子を設
け、該温度測定素子で測定したマガジンの温度に基づい
てマガジンの温度をコントロールするように成したこと
を特徴とする荷電粒子ビーム装置2. A charging apparatus comprising: a processing chamber in which a cassette holding an IC material to be irradiated with a charged particle beam is placed; and an exchange chamber in which a magazine in which a cassette holding the IC material is temporarily placed is placed. In a particle beam device,
A charged particle beam apparatus, wherein a temperature measuring element is provided at a cassette contact portion of the magazine, and the temperature of the magazine is controlled based on the temperature of the magazine measured by the temperature measuring element.
がセットされた時には該カセットを固定し、該カセット
を処理室側に移動させる時には該カセットの固定を解除
するように構成された固定体に温度測定素子を設けたこ
とを特徴とする請求項１又は２の荷電粒子ビーム装置。3. A fixing device, which forms a part of a magazine, and is configured to fix the cassette when the cassette is set, and to release the fixing of the cassette when the cassette is moved to the processing chamber side. 3. The charged particle beam device according to claim 1, wherein a temperature measuring element is provided on the body.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9347588A JPH11186126A (en) | 1997-12-17 | 1997-12-17 | Charged particle beam device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9347588A JPH11186126A (en) | 1997-12-17 | 1997-12-17 | Charged particle beam device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11186126A true JPH11186126A (en) | 1999-07-09 |
Family
ID=18391239
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9347588A Withdrawn JPH11186126A (en) | 1997-12-17 | 1997-12-17 | Charged particle beam device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11186126A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014022162A (en) * | 2012-07-18 | 2014-02-03 | Hitachi High-Technologies Corp | Mass spectroscope |
| JP2015088237A (en) * | 2013-10-28 | 2015-05-07 | 日本電子株式会社 | Charged particle beam device and sample container |
-
1997
- 1997-12-17 JP JP9347588A patent/JPH11186126A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014022162A (en) * | 2012-07-18 | 2014-02-03 | Hitachi High-Technologies Corp | Mass spectroscope |
| JP2015088237A (en) * | 2013-10-28 | 2015-05-07 | 日本電子株式会社 | Charged particle beam device and sample container |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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