JPH11184095A - マスクローダを有する露光装置 - Google Patents
マスクローダを有する露光装置Info
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- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
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- G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 露光装置を大型化させることなく、重量のあ
る大型のマスクをマスクステージの下面に容易に取り付
けることができるようにすること。 【解決手段】 マスクＭをマスクステージＭＳの下面に
保持させ、光照射部１から露光光を含む光を照射してワ
ークステージＷＳ上のワークを露光する露光装置におい
て、ワークステージＷＳが通過できる大きさの開口を持
つ進退可能なマスクローダＭＬを設ける。マスクＭをマ
スクステージＭＳに取り付けるには、マスクローダＭＬ
を引き出し、マスクローダＭＬの開口部分にマスクＭを
載置する。ついで、マスクローダＭＬをマスクステージ
ＭＳとワークステージＷＳの間に押し込みワークステー
ジＷＳを上昇させる。ワークステージＷＳはマスクロー
ダＭＬからマスクＭを持ち上げ、マスクＭはマスクステ
ージＭＳの下面に当接し、マスク保持手段により保持さ
れる。ついで、ワークステージＷＳを下降させる。
る大型のマスクをマスクステージの下面に容易に取り付
けることができるようにすること。 【解決手段】 マスクＭをマスクステージＭＳの下面に
保持させ、光照射部１から露光光を含む光を照射してワ
ークステージＷＳ上のワークを露光する露光装置におい
て、ワークステージＷＳが通過できる大きさの開口を持
つ進退可能なマスクローダＭＬを設ける。マスクＭをマ
スクステージＭＳに取り付けるには、マスクローダＭＬ
を引き出し、マスクローダＭＬの開口部分にマスクＭを
載置する。ついで、マスクローダＭＬをマスクステージ
ＭＳとワークステージＷＳの間に押し込みワークステー
ジＷＳを上昇させる。ワークステージＷＳはマスクロー
ダＭＬからマスクＭを持ち上げ、マスクＭはマスクステ
ージＭＳの下面に当接し、マスク保持手段により保持さ
れる。ついで、ワークステージＷＳを下降させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置、液晶
基板製造装置、マルチチップモジュール等のミクロサイ
ズの加工が必要である様々の電気部品等の製造に使用さ
れる露光装置に関し、特に本発明はマスクローダを備え
たコンタクト／プロキシミティ露光装置に関するもので
ある。
基板製造装置、マルチチップモジュール等のミクロサイ
ズの加工が必要である様々の電気部品等の製造に使用さ
れる露光装置に関し、特に本発明はマスクローダを備え
たコンタクト／プロキシミティ露光装置に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】ＩＣ，ＬＳＩ等の半導体装置等の製造に
際しては、ワークの表面にフォトレジストを塗布し、フ
ォトマスク（以下マスクという）の上面から露光光を含
む光を照射してマスクパターンをワーク上に転写する露
光工程が行われる。上記露光工程においては、投影レン
ズを使用しマスクパターンをワーク上に投影する投影露
光装置、マスクとワークを接近させてマスクパターンを
ワーク上に転写するプロキシミティ露光装置、あるい
は、マスクとワークを密着させてマスクパターンをワー
ク上に転写するコンタクト露光装置が用いられる。
際しては、ワークの表面にフォトレジストを塗布し、フ
ォトマスク（以下マスクという）の上面から露光光を含
む光を照射してマスクパターンをワーク上に転写する露
光工程が行われる。上記露光工程においては、投影レン
ズを使用しマスクパターンをワーク上に投影する投影露
光装置、マスクとワークを接近させてマスクパターンを
ワーク上に転写するプロキシミティ露光装置、あるい
は、マスクとワークを密着させてマスクパターンをワー
ク上に転写するコンタクト露光装置が用いられる。
【０００３】図４は上記コンタクトあるいはプロキシミ
ティ露光装置におけるマスクの取り付けを示す図であ
る。通常、プロキシミティ露光装置あるいはコンタクト
露光装置においては、マスクＭとワークＷを接近もしく
は密着させて露光を行うが、露光の前にマスクＭとワー
クＷを接近させてマスクＭとワークＷのアライメントが
行われる。このアライメントの際、マスクＭがマスクス
テージＭＳの上面に取り付けられていると、ワークステ
ージＷＳの移動範囲がマスクステージＭＳの開口部の大
きさに制限される。そこで、プロキシミティ露光装置あ
るいはコンタクト露光装置においては、ワークステージ
ＷＳの移動可能範囲を大きくするため、通常、マスクＭ
をマスクステージＭＳの下面に取り付ける。
ティ露光装置におけるマスクの取り付けを示す図であ
る。通常、プロキシミティ露光装置あるいはコンタクト
露光装置においては、マスクＭとワークＷを接近もしく
は密着させて露光を行うが、露光の前にマスクＭとワー
クＷを接近させてマスクＭとワークＷのアライメントが
行われる。このアライメントの際、マスクＭがマスクス
テージＭＳの上面に取り付けられていると、ワークステ
ージＷＳの移動範囲がマスクステージＭＳの開口部の大
きさに制限される。そこで、プロキシミティ露光装置あ
るいはコンタクト露光装置においては、ワークステージ
ＷＳの移動可能範囲を大きくするため、通常、マスクＭ
をマスクステージＭＳの下面に取り付ける。
【０００４】マスクＭを図４に示すようにマスクステー
ジＭＳの下面に取り付けるには、従来、マスクＭを人が
手で支持して行ったり、あるいは、図５に示す方法が採
用されていた。図５において、ＭＳはマスクステージで
あり、マスクステージＭＳは回転軸２１を軸として同図
の矢印方向に回転可能に支持されており、マスクステー
ジＭＳにはマスクＭを真空吸着するためのマスク真空吸
着用溝２２が設けられている。なお、マスクＭをマスク
ステージＭＳに保持する手段としては、真空吸着の外、
マスク保持具を使用する場合もある。マスクステージＭ
ＳにマスクＭを取り付けるには、同図（ｂ）に示すよう
にマスクステージＭＳを回転させてマスクステージＭＳ
の下面側を上にしてマスクＭをマスクステージＭＳ上に
載置する。そして、例えば、真空吸着用溝２２に真空を
供給し、マスクＭをマスクステージＭＳに真空吸着す
る。ついで、マスクステージＭＳを同図（ｃ）に示すよ
うに回転させる。これによりマスクステージＭＳの下面
側にマスクＭが取り付けられる。
ジＭＳの下面に取り付けるには、従来、マスクＭを人が
手で支持して行ったり、あるいは、図５に示す方法が採
用されていた。図５において、ＭＳはマスクステージで
あり、マスクステージＭＳは回転軸２１を軸として同図
の矢印方向に回転可能に支持されており、マスクステー
ジＭＳにはマスクＭを真空吸着するためのマスク真空吸
着用溝２２が設けられている。なお、マスクＭをマスク
ステージＭＳに保持する手段としては、真空吸着の外、
マスク保持具を使用する場合もある。マスクステージＭ
ＳにマスクＭを取り付けるには、同図（ｂ）に示すよう
にマスクステージＭＳを回転させてマスクステージＭＳ
の下面側を上にしてマスクＭをマスクステージＭＳ上に
載置する。そして、例えば、真空吸着用溝２２に真空を
供給し、マスクＭをマスクステージＭＳに真空吸着す
る。ついで、マスクステージＭＳを同図（ｃ）に示すよ
うに回転させる。これによりマスクステージＭＳの下面
側にマスクＭが取り付けられる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、液晶
基板の露光等においては、大型のマスク（例えば４００
ｍｍ×４００ｍｍ）が用いられるようになってきた。マ
スクＭが大型化すると、次のような問題が生じた。 （１）マスクＭを人手によりマスクステージＭＳの下面
に取り付けるのが困難となる。また、図５に示したマス
クステージＭＳを回転させてマスクＭを取り付ける方法
では、マスクステージＭＳの回転半径が大きくなり露光
装置全体が大型化する。また、マスクＭとマスクステー
ジＭＳの大型化により、重量も重くなり作業性が悪くな
る。
基板の露光等においては、大型のマスク（例えば４００
ｍｍ×４００ｍｍ）が用いられるようになってきた。マ
スクＭが大型化すると、次のような問題が生じた。 （１）マスクＭを人手によりマスクステージＭＳの下面
に取り付けるのが困難となる。また、図５に示したマス
クステージＭＳを回転させてマスクＭを取り付ける方法
では、マスクステージＭＳの回転半径が大きくなり露光
装置全体が大型化する。また、マスクＭとマスクステー
ジＭＳの大型化により、重量も重くなり作業性が悪くな
る。
【０００６】（２）一般に、露光装置におけるマスクＭ
には高価な材料が使用され、また高精度の表面加工が行
われる。これらの理由により、マスクの面積が大きくな
るにつれコストが非常にアップする。したがって、マス
クＭはなるべく小さくしたいという要請が強く、通常、
マスクＭはワークＷに対して両側で１／２インチ（≒１
３ｍｍ）程度しか大きくない。このため、マスクＭをマ
スクステージＭＳに固定する際には、このマスクＭの周
辺部の約１３ｍｍの部分を使って保持することになる。
このため、マスクステージＭＳへ大型のマスクＭを取り
付ける際、自重によりマスクＭがたわもうとするのを、
上記約１３ｍｍという狭い部分に働く真空吸着力により
マスクＭを保持しようとしても、真空リークが生じマス
クＭを確実に保持できない場合がある。このため、マス
クの取り付け時、マスクＭが落下してマスクを破損する
等の危険性があった。 本発明は上記事情に鑑みなされたものであって、その目
的とするところは、露光装置を大型化させることなく、
重量のある大型のマスクをマスクステージの下面に容易
に取り付けることができるマスクローダを有する露光装
置を提供することである。
には高価な材料が使用され、また高精度の表面加工が行
われる。これらの理由により、マスクの面積が大きくな
るにつれコストが非常にアップする。したがって、マス
クＭはなるべく小さくしたいという要請が強く、通常、
マスクＭはワークＷに対して両側で１／２インチ（≒１
３ｍｍ）程度しか大きくない。このため、マスクＭをマ
スクステージＭＳに固定する際には、このマスクＭの周
辺部の約１３ｍｍの部分を使って保持することになる。
このため、マスクステージＭＳへ大型のマスクＭを取り
付ける際、自重によりマスクＭがたわもうとするのを、
上記約１３ｍｍという狭い部分に働く真空吸着力により
マスクＭを保持しようとしても、真空リークが生じマス
クＭを確実に保持できない場合がある。このため、マス
クの取り付け時、マスクＭが落下してマスクを破損する
等の危険性があった。 本発明は上記事情に鑑みなされたものであって、その目
的とするところは、露光装置を大型化させることなく、
重量のある大型のマスクをマスクステージの下面に容易
に取り付けることができるマスクローダを有する露光装
置を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明においては、フォトマスクをマスクステージ
の下面に保持し、マスクステージの上面側から露光光を
含む光を照射して、マスクパターンをワークステージ上
のワークに転写する露光装置において、マスクステージ
とワークステージとの中間位置に、ワークステージが通
過できる大きさの開口を持つ進退可能なマスクローダを
設ける。マスクをマスクステージの下面に取り付けるに
は、まず、マスクローダを引き出し、マスクローダの開
口部分にマスクを載置する。ついで、マスクローダをマ
スクステージとワークステージの間に挿入し、ワークス
テージを上昇させる。
め、本発明においては、フォトマスクをマスクステージ
の下面に保持し、マスクステージの上面側から露光光を
含む光を照射して、マスクパターンをワークステージ上
のワークに転写する露光装置において、マスクステージ
とワークステージとの中間位置に、ワークステージが通
過できる大きさの開口を持つ進退可能なマスクローダを
設ける。マスクをマスクステージの下面に取り付けるに
は、まず、マスクローダを引き出し、マスクローダの開
口部分にマスクを載置する。ついで、マスクローダをマ
スクステージとワークステージの間に挿入し、ワークス
テージを上昇させる。
【０００８】ワークステージはマスクローダの開口部を
通過して、マスクローダからマスクを持ち上げる。ワー
クステージがさらに上昇するとマスクはマスクステージ
の下面に当接する。この状態でマスクステージに設けら
れた真空吸着手段等によりマスクを保持し、ワークステ
ージを下降させる。以上のようにしてマスクステージに
マスクを取り付けることにより、マスクが大型化して
も、容易にマスクを取り付けることができ、また装置が
大型化することもない。また、マスクはワークステージ
上に載置された状態で上昇するので、マスクがたわむこ
とがない。このため、マスク保持手段として真空吸着機
構を用いた場合であっても取り付け時に真空リークが生
ずることがなく、マスクステージによりマスクを確実に
保持することができる。
通過して、マスクローダからマスクを持ち上げる。ワー
クステージがさらに上昇するとマスクはマスクステージ
の下面に当接する。この状態でマスクステージに設けら
れた真空吸着手段等によりマスクを保持し、ワークステ
ージを下降させる。以上のようにしてマスクステージに
マスクを取り付けることにより、マスクが大型化して
も、容易にマスクを取り付けることができ、また装置が
大型化することもない。また、マスクはワークステージ
上に載置された状態で上昇するので、マスクがたわむこ
とがない。このため、マスク保持手段として真空吸着機
構を用いた場合であっても取り付け時に真空リークが生
ずることがなく、マスクステージによりマスクを確実に
保持することができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】図１、図２は本発明の実施例のマ
スクの取り付け動作を説明する図、図３は本実施例にお
けるマスクローダの構成を示す図である。図１〜図３に
おいて、１は光照射部であり、光照射部１はランプ、集
光鏡、インテグレータレンズ等から構成され、上記ラン
プが放出する紫外線を含む光は上記集光鏡で集光され、
インテグレータレンズ等を介して、マスクステージＭＳ
に取り付けられるマスクＭ上に照射される。マスクステ
ージＭＳの中央部は図３に示すように開口しており、開
口部１１の下側の面にマスクＭが取り付けられ、マスク
Ｍは図示しない真空吸着手段、保持具等のマスク保持手
段により保持される。
スクの取り付け動作を説明する図、図３は本実施例にお
けるマスクローダの構成を示す図である。図１〜図３に
おいて、１は光照射部であり、光照射部１はランプ、集
光鏡、インテグレータレンズ等から構成され、上記ラン
プが放出する紫外線を含む光は上記集光鏡で集光され、
インテグレータレンズ等を介して、マスクステージＭＳ
に取り付けられるマスクＭ上に照射される。マスクステ
ージＭＳの中央部は図３に示すように開口しており、開
口部１１の下側の面にマスクＭが取り付けられ、マスク
Ｍは図示しない真空吸着手段、保持具等のマスク保持手
段により保持される。
【００１０】ＷＳはワークステージであり、ワークステ
ージＷＳ上にはアライメント時および露光時に図示しな
いワークが載置される。２はワークステージ駆動機構で
あり、ワークステージ駆動機構２はワークステージＷＳ
を図１、図２における上下方向（Ｚ方向）、左右方向
（Ｘ方向）、紙面に垂直な方向（Ｙ方向）に移動させる
とともに、Ｚ軸を中心として回転させる（θ方向）。ま
た、ワークステージＷＳとワークステージ駆動機構２の
間には、マスクＭとワークの平行出しを行うための間隙
設定機構３が設けられている。
ージＷＳ上にはアライメント時および露光時に図示しな
いワークが載置される。２はワークステージ駆動機構で
あり、ワークステージ駆動機構２はワークステージＷＳ
を図１、図２における上下方向（Ｚ方向）、左右方向
（Ｘ方向）、紙面に垂直な方向（Ｙ方向）に移動させる
とともに、Ｚ軸を中心として回転させる（θ方向）。ま
た、ワークステージＷＳとワークステージ駆動機構２の
間には、マスクＭとワークの平行出しを行うための間隙
設定機構３が設けられている。
【００１１】ＭＬはマスクローダ、４はレールであり、
マスクローダＭＬはレール４上に移動可能に取り付けら
れており、図３のＡ位置とＢ位置との間をマスクステー
ジＭＳの表面に平行に進退させることができる。マスク
ローダＭＬを進退させる手段としては、手動でもよい
し、エアシリンダやモータを使用してもよい。マスクロ
ーダＭＬの中央には、ワークステージＷＳが通過できる
大きさの開口部１２が設けられ、開口部６の四隅にはマ
スクＭの大まかな位置決めするための位置決め部材１３
が設けられている。
マスクローダＭＬはレール４上に移動可能に取り付けら
れており、図３のＡ位置とＢ位置との間をマスクステー
ジＭＳの表面に平行に進退させることができる。マスク
ローダＭＬを進退させる手段としては、手動でもよい
し、エアシリンダやモータを使用してもよい。マスクロ
ーダＭＬの中央には、ワークステージＷＳが通過できる
大きさの開口部１２が設けられ、開口部６の四隅にはマ
スクＭの大まかな位置決めするための位置決め部材１３
が設けられている。
【００１２】次に、図１、図２により本実施例における
マスクの取り付け／取り外し動作について説明する。 （１）マスクＭの取り付け (a) 図１（ａ）に示すように空のマスクローダＭＬをレ
ール４上を移動させて、Ａ位置まで引き出し、マスクＭ
をマスクローダＭＬ上に位置決め部材１３に合わせて載
置する。 (b) マスクＭを載置したマスクローダＭＬをレール４上
を移動させ、マスクステージＭＳとワークステージＷＳ
の間に押し込み、図１（ｂ）に示すように、ストッパ５
に当てて、Ｂ位置で止める。
マスクの取り付け／取り外し動作について説明する。 （１）マスクＭの取り付け (a) 図１（ａ）に示すように空のマスクローダＭＬをレ
ール４上を移動させて、Ａ位置まで引き出し、マスクＭ
をマスクローダＭＬ上に位置決め部材１３に合わせて載
置する。 (b) マスクＭを載置したマスクローダＭＬをレール４上
を移動させ、マスクステージＭＳとワークステージＷＳ
の間に押し込み、図１（ｂ）に示すように、ストッパ５
に当てて、Ｂ位置で止める。
【００１３】(c) ワークステージＷＳをワークステージ
駆動機構２により上昇させる。ワークステージＷＳはマ
スクローダＭＬに設けられた開口部１２を通過し、マス
クＭの下面に当接しマスクローダＭＬからマスクＭを持
ち上げる。なお、ここで、マスクＭの表面に形成された
マスクパターンを保護する必要があるときは、マスクＭ
の表面とワークステージＷＳとが直接接触しないよう
に、ワークステージＷＳ上に粘着性の少ないフッ素樹脂
等からなるシート状の薄いスペーサを取り付けてもよ
い。
駆動機構２により上昇させる。ワークステージＷＳはマ
スクローダＭＬに設けられた開口部１２を通過し、マス
クＭの下面に当接しマスクローダＭＬからマスクＭを持
ち上げる。なお、ここで、マスクＭの表面に形成された
マスクパターンを保護する必要があるときは、マスクＭ
の表面とワークステージＷＳとが直接接触しないよう
に、ワークステージＷＳ上に粘着性の少ないフッ素樹脂
等からなるシート状の薄いスペーサを取り付けてもよ
い。
【００１４】(d) ワークステージＷＳを更に上昇させる
ことにより、図２（ｃ）に示すように持ち上げられたマ
スクＭは、マスクステージＭＳの下面に接触する。ここ
でマスクＭはワークステージＷＳによって全体が支持さ
れているので、マスクＭの自重によるたわみを生じるこ
とがない。 (e) マスクステージＭＳに設けられた図示しないマスク
保持手段を動作させ、マスクＭを保持する。マスク保持
手段は真空吸着機構でもよいし、保持具を使用してもよ
い。 (f) 図２（ｄ）に示すようにワークステージＷＳを下降
させる。ついで、マスクローダＭＬをＡ位置に退避させ
る。なお、マスクローダＭＬを退避させずに次の工程を
進んでもよい。
ことにより、図２（ｃ）に示すように持ち上げられたマ
スクＭは、マスクステージＭＳの下面に接触する。ここ
でマスクＭはワークステージＷＳによって全体が支持さ
れているので、マスクＭの自重によるたわみを生じるこ
とがない。 (e) マスクステージＭＳに設けられた図示しないマスク
保持手段を動作させ、マスクＭを保持する。マスク保持
手段は真空吸着機構でもよいし、保持具を使用してもよ
い。 (f) 図２（ｄ）に示すようにワークステージＷＳを下降
させる。ついで、マスクローダＭＬをＡ位置に退避させ
る。なお、マスクローダＭＬを退避させずに次の工程を
進んでもよい。
【００１５】以上のようにしてマスクＭの取り付けが終
わると、ワークステージＷＳ上に図示しないワークを載
置し、ワークステージ駆動機構２によりワークステージ
ＷＳを上昇させてワークとマスクＭを接触させ、間隙設
定機構３によりマスクＭとワーク平行出しを行う。そし
て、マスクＭとワークの間隙をアライメント間隙に設定
し、図示しないアライメント顕微鏡によりマスクＭとワ
ークに記されたアライメントマークを観察し、両者が一
致するようにワークステージＷＳをＸＹθ方向に移動さ
せてマスクＭとワークの位置合わせを行う。ついで、ワ
ークとマスクＭを接近もしくは密着させ、光照射部１か
ら放出される光を、マスクステージＭＳに取り付けられ
たマスクＭを介してワークに照射し、マスク上に記され
たマスクパターンをワーク上に転写する。
わると、ワークステージＷＳ上に図示しないワークを載
置し、ワークステージ駆動機構２によりワークステージ
ＷＳを上昇させてワークとマスクＭを接触させ、間隙設
定機構３によりマスクＭとワーク平行出しを行う。そし
て、マスクＭとワークの間隙をアライメント間隙に設定
し、図示しないアライメント顕微鏡によりマスクＭとワ
ークに記されたアライメントマークを観察し、両者が一
致するようにワークステージＷＳをＸＹθ方向に移動さ
せてマスクＭとワークの位置合わせを行う。ついで、ワ
ークとマスクＭを接近もしくは密着させ、光照射部１か
ら放出される光を、マスクステージＭＳに取り付けられ
たマスクＭを介してワークに照射し、マスク上に記され
たマスクパターンをワーク上に転写する。
【００１６】（２）マスクＭの取り外し (a) マスクローダＭＬを、マスクステージＭＳとワーク
ステージＷＳとの間のＢ位置に移動させる（マスクロー
ダＭＬを退避させてある場合）。 (b) ワークステージＷＳをワークステージ駆動機構２に
より上昇させる。ワークステージＷＳはマスクローダＭ
Ｌに設けられた開口部を通過し、マスクＭの下面を支持
する。 (c) マスクステージＭＳに設けられたマスク保持手段に
よるマスクの保持を解除する。
ステージＷＳとの間のＢ位置に移動させる（マスクロー
ダＭＬを退避させてある場合）。 (b) ワークステージＷＳをワークステージ駆動機構２に
より上昇させる。ワークステージＷＳはマスクローダＭ
Ｌに設けられた開口部を通過し、マスクＭの下面を支持
する。 (c) マスクステージＭＳに設けられたマスク保持手段に
よるマスクの保持を解除する。
【００１７】(d) マスクＭが乗ったワークステージＷＳ
を下降させる。ワークステージＷＳが下降していく途中
で、マスクＭはＢ位置に待機しているマスクローダＭＬ
によりすくい取られる。 (e) マスクＭが乗ったマスクローダＭＬをＡ位置まで引
き出し、マスクＭをマスクローダＭＬから取り外す。
を下降させる。ワークステージＷＳが下降していく途中
で、マスクＭはＢ位置に待機しているマスクローダＭＬ
によりすくい取られる。 (e) マスクＭが乗ったマスクローダＭＬをＡ位置まで引
き出し、マスクＭをマスクローダＭＬから取り外す。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明においては
以下の効果を得ることができる。 （１）ワークステージによりマスクを支持した状態で、
ワークステージを上昇させマスクステージの下面側にマ
スクを取り付けるようにしたので、大型のマスクを容易
に取り付けることができる。また、マスクステージを回
転させる機構を用いる等の必要がなく、装置全体の大型
化を防ぐことができる。 （２）ワークステージがマスク全体を支持した状態でマ
スクをマスクステージの下面に取り付けているので、マ
スク取り付け時、マスクには自重によるたわみが生じな
い。このため、マスクを真空吸着により保持しても、取
り付け時に真空リークが生じず、マスクをマスクステー
ジに確実に保持することができる。
以下の効果を得ることができる。 （１）ワークステージによりマスクを支持した状態で、
ワークステージを上昇させマスクステージの下面側にマ
スクを取り付けるようにしたので、大型のマスクを容易
に取り付けることができる。また、マスクステージを回
転させる機構を用いる等の必要がなく、装置全体の大型
化を防ぐことができる。 （２）ワークステージがマスク全体を支持した状態でマ
スクをマスクステージの下面に取り付けているので、マ
スク取り付け時、マスクには自重によるたわみが生じな
い。このため、マスクを真空吸着により保持しても、取
り付け時に真空リークが生じず、マスクをマスクステー
ジに確実に保持することができる。
【００１９】（３）ワークステージ上にマスクを載置
し、ワークステージを上昇させてマスクをマスクステー
ジに取り付ける場合には、ワークステージを外側に引き
出して、ワークステージ上にマスクを載置する必要があ
るが、本発明においては、マスクローダによってマスク
をマスク取り付け位置まで搬送しているので、ワークス
テージを外側に引き出す必要がない。一般に、ワークス
テージは、露光装置組み立て時に、マスクステージとの
平行度やＺ方向の位置が精度良く調整されている。この
ため、仮に上記のようにワークステージを移動させる場
合には、重量の大きなワークステージ駆動機構等ととも
にワークステージを高精度の位置再現性を有する移動手
段により移動させる必要があり、コストがアップし現実
的でない。
し、ワークステージを上昇させてマスクをマスクステー
ジに取り付ける場合には、ワークステージを外側に引き
出して、ワークステージ上にマスクを載置する必要があ
るが、本発明においては、マスクローダによってマスク
をマスク取り付け位置まで搬送しているので、ワークス
テージを外側に引き出す必要がない。一般に、ワークス
テージは、露光装置組み立て時に、マスクステージとの
平行度やＺ方向の位置が精度良く調整されている。この
ため、仮に上記のようにワークステージを移動させる場
合には、重量の大きなワークステージ駆動機構等ととも
にワークステージを高精度の位置再現性を有する移動手
段により移動させる必要があり、コストがアップし現実
的でない。
【００２０】（４）露光装置のワークステージ駆動機構
は、マスクとワークの間隙設定、平行出し等のためにワ
ークステージを上昇下降させる機能を備えている。本発
明においては、上記した既に設けられている上昇下降機
能を利用してマスクの上下搬送を行っているので、マス
クを上昇下降させるための新たな機構を設ける必要がな
く、装置の大型化、コストアップ化を防ぐことができ
る。
は、マスクとワークの間隙設定、平行出し等のためにワ
ークステージを上昇下降させる機能を備えている。本発
明においては、上記した既に設けられている上昇下降機
能を利用してマスクの上下搬送を行っているので、マス
クを上昇下降させるための新たな機構を設ける必要がな
く、装置の大型化、コストアップ化を防ぐことができ
る。
【図１】本発明の実施例のマスク取り付け動作を説明す
る図（１）である。
る図（１）である。
【図２】本発明の実施例のマスク取り付け動作を説明す
る図（２）である。
る図（２）である。
【図３】本発明の実施例のマスクローダの構成を示す図
である。
である。
【図４】コンタクト／プロキシミティ露光装置における
マスクの取り付け位置を示す図である。
マスクの取り付け位置を示す図である。
【図５】従来例を示す図である。
１ 光照射部 ２ ワークステージ駆動機構 ３ 間隙設定機構 ４ レール ５ ストッパ １１，１２ 開口部 １３ 位置決め部材 Ｍ マスク ＭＳ マスクステージ ＭＬ マスクローダ ＷＳ ワークステージ
Claims (1)
- 【請求項１】 フォトマスクをマスクステージの下面に
保持し、マスクステージの上面側から露光光を含む光を
照射して、マスクパターンをワークステージ上のワーク
に転写する露光装置において、 マスクステージとワークステージとの中間位置に、ワー
クステージが通過できる大きさの開口を持つ進退可能な
マスクローダを設けたことを特徴とする露光装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9354661A JPH11184095A (ja) | 1997-12-24 | 1997-12-24 | マスクローダを有する露光装置 |
| KR1019980058393A KR100539404B1 (ko) | 1997-12-24 | 1998-12-24 | 마스크 로더를 가진 노광장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9354661A JPH11184095A (ja) | 1997-12-24 | 1997-12-24 | マスクローダを有する露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11184095A true JPH11184095A (ja) | 1999-07-09 |
Family
ID=18439060
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9354661A Pending JPH11184095A (ja) | 1997-12-24 | 1997-12-24 | マスクローダを有する露光装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11184095A (ja) |
| KR (1) | KR100539404B1 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005505147A (ja) * | 2001-10-09 | 2005-02-17 | ウルトラテック インク | ワークピースを機械的にマスクするための方法および装置 |
| JP2006066585A (ja) * | 2004-08-26 | 2006-03-09 | Ushio Inc | 光照射装置 |
| JP2007140187A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Nsk Ltd | 露光装置のマスク搬送、取付方法 |
| US7423733B2 (en) | 2003-07-22 | 2008-09-09 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby with docking system for positioning a patterning device |
| JP2015087687A (ja) * | 2013-11-01 | 2015-05-07 | ビアメカニクス株式会社 | 直接描画露光装置 |
-
1997
- 1997-12-24 JP JP9354661A patent/JPH11184095A/ja active Pending
-
1998
- 1998-12-24 KR KR1019980058393A patent/KR100539404B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005505147A (ja) * | 2001-10-09 | 2005-02-17 | ウルトラテック インク | ワークピースを機械的にマスクするための方法および装置 |
| US7423733B2 (en) | 2003-07-22 | 2008-09-09 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby with docking system for positioning a patterning device |
| JP2006066585A (ja) * | 2004-08-26 | 2006-03-09 | Ushio Inc | 光照射装置 |
| KR100859404B1 (ko) * | 2004-08-26 | 2008-09-22 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 광조사 장치 |
| JP4572626B2 (ja) * | 2004-08-26 | 2010-11-04 | ウシオ電機株式会社 | 光照射装置 |
| JP2007140187A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Nsk Ltd | 露光装置のマスク搬送、取付方法 |
| JP2015087687A (ja) * | 2013-11-01 | 2015-05-07 | ビアメカニクス株式会社 | 直接描画露光装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100539404B1 (ko) | 2006-03-28 |
| KR19990063451A (ko) | 1999-07-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040428 |
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| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050916 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050927 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051118 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20051213 |