JPH11184095A - マスクローダを有する露光装置 - Google Patents
マスクローダを有する露光装置Info
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Abstract
る大型のマスクをマスクステージの下面に容易に取り付
けることができるようにすること。 【解決手段】 マスクMをマスクステージMSの下面に
保持させ、光照射部1から露光光を含む光を照射してワ
ークステージWS上のワークを露光する露光装置におい
て、ワークステージWSが通過できる大きさの開口を持
つ進退可能なマスクローダMLを設ける。マスクMをマ
スクステージMSに取り付けるには、マスクローダML
を引き出し、マスクローダMLの開口部分にマスクMを
載置する。ついで、マスクローダMLをマスクステージ
MSとワークステージWSの間に押し込みワークステー
ジWSを上昇させる。ワークステージWSはマスクロー
ダMLからマスクMを持ち上げ、マスクMはマスクステ
ージMSの下面に当接し、マスク保持手段により保持さ
れる。ついで、ワークステージWSを下降させる。
Description
基板製造装置、マルチチップモジュール等のミクロサイ
ズの加工が必要である様々の電気部品等の製造に使用さ
れる露光装置に関し、特に本発明はマスクローダを備え
たコンタクト/プロキシミティ露光装置に関するもので
ある。
際しては、ワークの表面にフォトレジストを塗布し、フ
ォトマスク(以下マスクという)の上面から露光光を含
む光を照射してマスクパターンをワーク上に転写する露
光工程が行われる。上記露光工程においては、投影レン
ズを使用しマスクパターンをワーク上に投影する投影露
光装置、マスクとワークを接近させてマスクパターンを
ワーク上に転写するプロキシミティ露光装置、あるい
は、マスクとワークを密着させてマスクパターンをワー
ク上に転写するコンタクト露光装置が用いられる。
ティ露光装置におけるマスクの取り付けを示す図であ
る。通常、プロキシミティ露光装置あるいはコンタクト
露光装置においては、マスクMとワークWを接近もしく
は密着させて露光を行うが、露光の前にマスクMとワー
クWを接近させてマスクMとワークWのアライメントが
行われる。このアライメントの際、マスクMがマスクス
テージMSの上面に取り付けられていると、ワークステ
ージWSの移動範囲がマスクステージMSの開口部の大
きさに制限される。そこで、プロキシミティ露光装置あ
るいはコンタクト露光装置においては、ワークステージ
WSの移動可能範囲を大きくするため、通常、マスクM
をマスクステージMSの下面に取り付ける。
ジMSの下面に取り付けるには、従来、マスクMを人が
手で支持して行ったり、あるいは、図5に示す方法が採
用されていた。図5において、MSはマスクステージで
あり、マスクステージMSは回転軸21を軸として同図
の矢印方向に回転可能に支持されており、マスクステー
ジMSにはマスクMを真空吸着するためのマスク真空吸
着用溝22が設けられている。なお、マスクMをマスク
ステージMSに保持する手段としては、真空吸着の外、
マスク保持具を使用する場合もある。マスクステージM
SにマスクMを取り付けるには、同図(b)に示すよう
にマスクステージMSを回転させてマスクステージMS
の下面側を上にしてマスクMをマスクステージMS上に
載置する。そして、例えば、真空吸着用溝22に真空を
供給し、マスクMをマスクステージMSに真空吸着す
る。ついで、マスクステージMSを同図(c)に示すよ
うに回転させる。これによりマスクステージMSの下面
側にマスクMが取り付けられる。
基板の露光等においては、大型のマスク(例えば400
mm×400mm)が用いられるようになってきた。マ
スクMが大型化すると、次のような問題が生じた。 (1)マスクMを人手によりマスクステージMSの下面
に取り付けるのが困難となる。また、図5に示したマス
クステージMSを回転させてマスクMを取り付ける方法
では、マスクステージMSの回転半径が大きくなり露光
装置全体が大型化する。また、マスクMとマスクステー
ジMSの大型化により、重量も重くなり作業性が悪くな
る。
には高価な材料が使用され、また高精度の表面加工が行
われる。これらの理由により、マスクの面積が大きくな
るにつれコストが非常にアップする。したがって、マス
クMはなるべく小さくしたいという要請が強く、通常、
マスクMはワークWに対して両側で1/2インチ(≒1
3mm)程度しか大きくない。このため、マスクMをマ
スクステージMSに固定する際には、このマスクMの周
辺部の約13mmの部分を使って保持することになる。
このため、マスクステージMSへ大型のマスクMを取り
付ける際、自重によりマスクMがたわもうとするのを、
上記約13mmという狭い部分に働く真空吸着力により
マスクMを保持しようとしても、真空リークが生じマス
クMを確実に保持できない場合がある。このため、マス
クの取り付け時、マスクMが落下してマスクを破損する
等の危険性があった。 本発明は上記事情に鑑みなされたものであって、その目
的とするところは、露光装置を大型化させることなく、
重量のある大型のマスクをマスクステージの下面に容易
に取り付けることができるマスクローダを有する露光装
置を提供することである。
め、本発明においては、フォトマスクをマスクステージ
の下面に保持し、マスクステージの上面側から露光光を
含む光を照射して、マスクパターンをワークステージ上
のワークに転写する露光装置において、マスクステージ
とワークステージとの中間位置に、ワークステージが通
過できる大きさの開口を持つ進退可能なマスクローダを
設ける。マスクをマスクステージの下面に取り付けるに
は、まず、マスクローダを引き出し、マスクローダの開
口部分にマスクを載置する。ついで、マスクローダをマ
スクステージとワークステージの間に挿入し、ワークス
テージを上昇させる。
通過して、マスクローダからマスクを持ち上げる。ワー
クステージがさらに上昇するとマスクはマスクステージ
の下面に当接する。この状態でマスクステージに設けら
れた真空吸着手段等によりマスクを保持し、ワークステ
ージを下降させる。以上のようにしてマスクステージに
マスクを取り付けることにより、マスクが大型化して
も、容易にマスクを取り付けることができ、また装置が
大型化することもない。また、マスクはワークステージ
上に載置された状態で上昇するので、マスクがたわむこ
とがない。このため、マスク保持手段として真空吸着機
構を用いた場合であっても取り付け時に真空リークが生
ずることがなく、マスクステージによりマスクを確実に
保持することができる。
スクの取り付け動作を説明する図、図3は本実施例にお
けるマスクローダの構成を示す図である。図1〜図3に
おいて、1は光照射部であり、光照射部1はランプ、集
光鏡、インテグレータレンズ等から構成され、上記ラン
プが放出する紫外線を含む光は上記集光鏡で集光され、
インテグレータレンズ等を介して、マスクステージMS
に取り付けられるマスクM上に照射される。マスクステ
ージMSの中央部は図3に示すように開口しており、開
口部11の下側の面にマスクMが取り付けられ、マスク
Mは図示しない真空吸着手段、保持具等のマスク保持手
段により保持される。
ージWS上にはアライメント時および露光時に図示しな
いワークが載置される。2はワークステージ駆動機構で
あり、ワークステージ駆動機構2はワークステージWS
を図1、図2における上下方向(Z方向)、左右方向
(X方向)、紙面に垂直な方向(Y方向)に移動させる
とともに、Z軸を中心として回転させる(θ方向)。ま
た、ワークステージWSとワークステージ駆動機構2の
間には、マスクMとワークの平行出しを行うための間隙
設定機構3が設けられている。
マスクローダMLはレール4上に移動可能に取り付けら
れており、図3のA位置とB位置との間をマスクステー
ジMSの表面に平行に進退させることができる。マスク
ローダMLを進退させる手段としては、手動でもよい
し、エアシリンダやモータを使用してもよい。マスクロ
ーダMLの中央には、ワークステージWSが通過できる
大きさの開口部12が設けられ、開口部6の四隅にはマ
スクMの大まかな位置決めするための位置決め部材13
が設けられている。
マスクの取り付け/取り外し動作について説明する。 (1)マスクMの取り付け (a) 図1(a)に示すように空のマスクローダMLをレ
ール4上を移動させて、A位置まで引き出し、マスクM
をマスクローダML上に位置決め部材13に合わせて載
置する。 (b) マスクMを載置したマスクローダMLをレール4上
を移動させ、マスクステージMSとワークステージWS
の間に押し込み、図1(b)に示すように、ストッパ5
に当てて、B位置で止める。
駆動機構2により上昇させる。ワークステージWSはマ
スクローダMLに設けられた開口部12を通過し、マス
クMの下面に当接しマスクローダMLからマスクMを持
ち上げる。なお、ここで、マスクMの表面に形成された
マスクパターンを保護する必要があるときは、マスクM
の表面とワークステージWSとが直接接触しないよう
に、ワークステージWS上に粘着性の少ないフッ素樹脂
等からなるシート状の薄いスペーサを取り付けてもよ
い。
ことにより、図2(c)に示すように持ち上げられたマ
スクMは、マスクステージMSの下面に接触する。ここ
でマスクMはワークステージWSによって全体が支持さ
れているので、マスクMの自重によるたわみを生じるこ
とがない。 (e) マスクステージMSに設けられた図示しないマスク
保持手段を動作させ、マスクMを保持する。マスク保持
手段は真空吸着機構でもよいし、保持具を使用してもよ
い。 (f) 図2(d)に示すようにワークステージWSを下降
させる。ついで、マスクローダMLをA位置に退避させ
る。なお、マスクローダMLを退避させずに次の工程を
進んでもよい。
わると、ワークステージWS上に図示しないワークを載
置し、ワークステージ駆動機構2によりワークステージ
WSを上昇させてワークとマスクMを接触させ、間隙設
定機構3によりマスクMとワーク平行出しを行う。そし
て、マスクMとワークの間隙をアライメント間隙に設定
し、図示しないアライメント顕微鏡によりマスクMとワ
ークに記されたアライメントマークを観察し、両者が一
致するようにワークステージWSをXYθ方向に移動さ
せてマスクMとワークの位置合わせを行う。ついで、ワ
ークとマスクMを接近もしくは密着させ、光照射部1か
ら放出される光を、マスクステージMSに取り付けられ
たマスクMを介してワークに照射し、マスク上に記され
たマスクパターンをワーク上に転写する。
ステージWSとの間のB位置に移動させる(マスクロー
ダMLを退避させてある場合)。 (b) ワークステージWSをワークステージ駆動機構2に
より上昇させる。ワークステージWSはマスクローダM
Lに設けられた開口部を通過し、マスクMの下面を支持
する。 (c) マスクステージMSに設けられたマスク保持手段に
よるマスクの保持を解除する。
を下降させる。ワークステージWSが下降していく途中
で、マスクMはB位置に待機しているマスクローダML
によりすくい取られる。 (e) マスクMが乗ったマスクローダMLをA位置まで引
き出し、マスクMをマスクローダMLから取り外す。
以下の効果を得ることができる。 (1)ワークステージによりマスクを支持した状態で、
ワークステージを上昇させマスクステージの下面側にマ
スクを取り付けるようにしたので、大型のマスクを容易
に取り付けることができる。また、マスクステージを回
転させる機構を用いる等の必要がなく、装置全体の大型
化を防ぐことができる。 (2)ワークステージがマスク全体を支持した状態でマ
スクをマスクステージの下面に取り付けているので、マ
スク取り付け時、マスクには自重によるたわみが生じな
い。このため、マスクを真空吸着により保持しても、取
り付け時に真空リークが生じず、マスクをマスクステー
ジに確実に保持することができる。
し、ワークステージを上昇させてマスクをマスクステー
ジに取り付ける場合には、ワークステージを外側に引き
出して、ワークステージ上にマスクを載置する必要があ
るが、本発明においては、マスクローダによってマスク
をマスク取り付け位置まで搬送しているので、ワークス
テージを外側に引き出す必要がない。一般に、ワークス
テージは、露光装置組み立て時に、マスクステージとの
平行度やZ方向の位置が精度良く調整されている。この
ため、仮に上記のようにワークステージを移動させる場
合には、重量の大きなワークステージ駆動機構等ととも
にワークステージを高精度の位置再現性を有する移動手
段により移動させる必要があり、コストがアップし現実
的でない。
は、マスクとワークの間隙設定、平行出し等のためにワ
ークステージを上昇下降させる機能を備えている。本発
明においては、上記した既に設けられている上昇下降機
能を利用してマスクの上下搬送を行っているので、マス
クを上昇下降させるための新たな機構を設ける必要がな
く、装置の大型化、コストアップ化を防ぐことができ
る。
る図(1)である。
る図(2)である。
である。
マスクの取り付け位置を示す図である。
Claims (1)
- 【請求項1】 フォトマスクをマスクステージの下面に
保持し、マスクステージの上面側から露光光を含む光を
照射して、マスクパターンをワークステージ上のワーク
に転写する露光装置において、 マスクステージとワークステージとの中間位置に、ワー
クステージが通過できる大きさの開口を持つ進退可能な
マスクローダを設けたことを特徴とする露光装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9354661A JPH11184095A (ja) | 1997-12-24 | 1997-12-24 | マスクローダを有する露光装置 |
KR1019980058393A KR100539404B1 (ko) | 1997-12-24 | 1998-12-24 | 마스크 로더를 가진 노광장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9354661A JPH11184095A (ja) | 1997-12-24 | 1997-12-24 | マスクローダを有する露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11184095A true JPH11184095A (ja) | 1999-07-09 |
Family
ID=18439060
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9354661A Pending JPH11184095A (ja) | 1997-12-24 | 1997-12-24 | マスクローダを有する露光装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11184095A (ja) |
KR (1) | KR100539404B1 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005505147A (ja) * | 2001-10-09 | 2005-02-17 | ウルトラテック インク | ワークピースを機械的にマスクするための方法および装置 |
JP2006066585A (ja) * | 2004-08-26 | 2006-03-09 | Ushio Inc | 光照射装置 |
JP2007140187A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Nsk Ltd | 露光装置のマスク搬送、取付方法 |
US7423733B2 (en) | 2003-07-22 | 2008-09-09 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby with docking system for positioning a patterning device |
JP2015087687A (ja) * | 2013-11-01 | 2015-05-07 | ビアメカニクス株式会社 | 直接描画露光装置 |
-
1997
- 1997-12-24 JP JP9354661A patent/JPH11184095A/ja active Pending
-
1998
- 1998-12-24 KR KR1019980058393A patent/KR100539404B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100859404B1 (ko) * | 2004-08-26 | 2008-09-22 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 광조사 장치 |
JP4572626B2 (ja) * | 2004-08-26 | 2010-11-04 | ウシオ電機株式会社 | 光照射装置 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100539404B1 (ko) | 2006-03-28 |
KR19990063451A (ko) | 1999-07-26 |
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A521 | Written amendment |
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