JPH11176783A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 渦の発生を抑制することによって、気泡に起
因する処理ムラや汚染を防止することができる。 【解決手段】 処理槽１内の処理液に基板Ｗを浸漬して
処理を施し、この処理槽１から溢れた処理液を外槽３で
回収するとともに、処理槽１に連通した循環路９を介し
て再び処理槽１に供給するように構成された基板処理装
置において、循環路９の外槽３側に位置する端部に開口
部１９ａが下向きとなるように吸い込み管１９を配設し
て、外槽３内の処理液を上方に吸い上げるように構成す
る。したがって、液面付近の処理液が開口部１９ａに向
かう際の流速を小さくでき、渦の発生を抑制できる。そ
の結果、処理液中の気泡が渦に巻き込まれることを抑制
でき、気泡に起因する処理ムラや基板の汚染を抑制する
ことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、処理槽内の処理液
に基板を浸漬して所定の処理を施す基板処理装置に係
り、特に、処理槽から溢れた処理液を外槽で回収して再
び処理槽に循環させて供給する技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の基板処理装置として、例
えば、図５に示す構成のものが挙げられる。すなわち、
処理液を貯留し、浸漬された基板Ｗに対して所定の処理
を施すための処理槽１００と、この処理槽１００に隣接
して配備され、処理槽１００から溢れ出た処理液を回収
する外槽１１０と、この外槽１１０と処理槽１００とに
連通接続され、外槽１１０に溢れ出た処理液を再び処理
槽１００に戻す循環路１３０とを備えている。なお、外
槽１１０では、その底面に形成された開口部１１０ａか
ら処理液が吸い込まれて、循環路１３０に処理液が流入
するようになっている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、外槽１１０の底面に形成されている開
口部１１０ａに処理液が吸い込まれると、図中に点線で
示すように液面から開口部１１０ａに向かう渦Ｓが発生
する。外槽１１０の処理液中には、処理槽１００内で基
板Ｗとの反応によって発生したり、処理槽１００から外
槽１１０に落下する際に空気を巻き込むことによって生
じた気泡Ｂが多数存在している。これらの気泡Ｂは、開
口部１１０ａに向かう渦Ｓに巻き込まれ、処理液ととも
に開口部１１０ａから循環路１３０に吸い込まれて再び
処理槽１００に供給されることになる。

【０００４】そして、処理液とともに循環されて供給さ
れた気泡Ｂが基板Ｗ面に付着すると、その付着箇所では
処理液の反応が阻害されることになり、処理ムラを生じ
るという問題がある。また、気泡Ｂには、空気が含まれ
ているため処理液によって生じる基板Ｗ面での反応に悪
影響を与え、やはり同様に処理ムラを生じることもあ
る。さらには、気泡Ｂには基板Ｗなどから発生したパー
ティクルが含まれている場合があり、これにより基板Ｗ
が汚染されるという問題もある。

【０００５】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、外槽における渦の発生を抑制すること
によって、気泡に起因する処理ムラや汚染を防止するこ
とができる基板処理装置を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の基板処理装置は、処理槽内の処理
液に基板を浸漬して所定の処理を行う基板処理装置にお
いて、前記処理槽の外側に配置され、かつ前記処理槽か
ら溢れた処理液を回収する外槽と、前記外槽および前記
処理槽と連通し、前記処理槽から排出された処理液を再
び前記処理槽へ供給する循環路と、前記循環路のうち前
記外槽側に位置する端部に、開口部が下向きになるよう
に配設された吸い込み管と、を備えたことを特徴とする
ものである。

【０００７】また、請求項２に記載の基板処理装置は、
請求項１に記載の基板処理装置において、前記吸い込み
管の開口部が、前記外槽の底面に対して角度を有するよ
うに形成されていることを特徴とするものである。

【０００８】また、請求項３に記載の基板処理装置は、
請求項１または請求項２に記載の基板処理装置におい
て、前記吸い込み管には、その開口部付近の外周部にリ
ング状の鍔部材を配設したことを特徴とするものであ
る。

【０００９】また、請求項４に記載の基板処理装置は、
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の基板処理装
置において、前記吸い込み管の上方にあたる前記外槽内
に、上方から下方に向かう処理液の流速を低下させる板
状の減速部材を配設したことを特徴とするものである。

【００１０】

【作用】請求項１に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。すなわち、処理槽と外槽に連通接続されている循環
路のうち外槽側に位置する端部に開口部が下向きになる
ように吸い込み管を配設して、外槽内の処理液を下方か
ら上方に向かって開口部に吸い上げるようにしたので、
液面付近の処理液が開口部に向かう際の流速が小さくな
って渦の発生を抑制あるいは発生する渦の規模を抑制す
ることができる。

【００１１】また、請求項２に記載の発明によれば、吸
い込み管の開口部が外槽の底面に当接するように吸い込
み管を外槽に取り付けたとしても、その開口部は外槽の
底面に対して角度をもって形成されているので、外槽の
底面によって閉塞されることはない。

【００１２】また、請求項３に記載の発明によれば、開
口部の外周部付近に気泡が存在したとしても、開口部に
流れ込む処理液の流速がリング状の鍔部によって規制さ
れるので、処理液に気泡が巻き込まれることを抑制でき
る。

【００１３】また、請求項４に記載の発明によれば、板
状の減速部材を外槽に配設することによっても、液面か
ら開口部に向かう処理液の流速を低下させることがで
き、処理液が開口部に向かう際の抵抗を大きくすること
ができる。したがって、渦の発生を抑制あるいは発生す
る渦の規模を抑制することができる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。図１は、実施例に係る基板処理装置
の概略構成を示す縦断面図である。処理槽１は処理液を
貯留し、浸漬された基板Ｗに対して所定の処理を施すも
のである。処理槽１には外槽３が隣接して配置されてお
り、処理槽１から溢れた処理液が外槽３で回収される。
外槽３に回収された処理液は、循環路９に配設されたポ
ンプ１１によって吸い出され、処理槽１の底部に形成さ
れた導入口１ａから再び処理槽１に供給されるようにな
っている。この循環路９には、複数種類の薬液を注入す
るミキシングバルブ１３が配備されており、純水導入弁
１５から循環路９に注入された純水に所要の割合で種々
の薬液を混合させて処理液の濃度を調整するように構成
されている。また、循環路９には、処理液を排出するた
めの排出弁１７も配備されている。

【００１５】上述した外槽３の側壁には取り付け穴３ａ
が形成されており、この取り付け穴３ａに循環路９の一
端側が挿通されている。外槽３内に延伸された循環路９
は吸い込み管１９を構成し、その開口部１９ａが外槽３
の底面３ｂ側に向けられ、かつ、その開口面が底面３ｂ
に一定間隔を隔ててほぼ平行になるように構成されてい
る。したがって、外槽３に溢れ出た処理液は、図中に矢
印で示すように外槽３の底面３ｂ付近から上方に向けて
吸い上げられて循環路９内に流入するようになっている
ので、液面から吸い込み管１９の開口部１９ａに流入す
る処理液の流速を低下させることができる。さらに、吸
い込み管１９が配設されている外槽３内の上方には、多
数の貫通穴２１ａが形成されたパンチングボード２１
（減速部材）が取り付けられており、液面付近から吸い
込み管１９へ向かって流れてゆく処理液の流速をさらに
低下させるように作用する。

【００１６】上述したように液面から吸い込み管１９の
開口部１９ａに流入する処理液の流速が小さくされてい
るため、図５に示した従来例のように渦Ｓが発生するこ
とを抑制あるいは発生したとしても渦Ｓの規模を抑制す
ることができる。したがって、外槽３に溢れた処理液中
に多数存在している気泡Ｂが吸い込み管１９に吸い込ま
れて処理槽１に循環し、浸漬されている基板Ｗ表面に付
着することを抑制することができる。その結果、気泡Ｂ
に起因する処理ムラや汚染が生じることを抑制すること
ができる。

【００１７】なお、上記の実施例では、外槽３の上方に
パンチングボード２１を設けているが、このボードを配
設することなく上記のように構成された吸い込み管１９
だけであっても上記とほぼ同様の効果を得ることができ
る。また、多数の貫通穴２１ａが形成されたパンチング
ボード２１に代え、網目状の板部材を配備してもよい。

【００１８】次に、図２を参照して『第１の変形例』に
ついて説明する。この吸い込み管１９１は、外槽３の側
壁上方から底面３ｂに向けて延伸され、その開口部１９
１ａの開口面が外槽３の底面３ｂに対して角度を有する
ように構成されている。このように構成された吸い込み
管１９１も、処理液を下方から上方に向けて吸い上げ
て、液面から流入する処理液の流速を低下させることが
できるので、上述した構成の吸い込み管１９と同様の効
果を得ることができる。さらに、吸い込み管１９１の開
口部１９１ａを傾斜させたので、吸い込み管１９１を外
槽３に取り付ける際には、開口部１９１ａが底面３ｂで
閉塞されないように高さ調節を行う必要がない。したが
って、吸い込み管１９１を外槽３に取り付ける際には、
その下端部が底面３ｂに当接するように取り付けるだけ
でよく、容易に取り付けることが可能である。

【００１９】次に、図３を参照して『第２の変形例』に
ついて説明する。この吸い込み管１９２は、その開口部
１９２ａの外周部にリング状の鍔部１９２ｂを形成した
ものである。この鍔部１９２ｂは、開口部１９２ａの周
囲から開口部１９２ａに流入する処理液の流れを妨げる
効果（図中に点線で示す流路が実線のように長くされ
る）があり、開口部１９２ａに流入する処理液の流速を
規制する。したがって、図示したように吸い込み管１９
２の周囲に気泡Ｂが存在したとしても、開口部１９２ａ
への流れに気泡Ｂが巻き込まれることを抑制することが
できる。

【００２０】なお、上記第１の変形例（図２）および／
または第２の変形例（図３）を上述した実施例（図１）
に組み合わせるようにしてもよい。

【００２１】次に、図４を参照して『第３の変形例』に
ついて説明する。この吸い込み管１９３は、その開口部
１９３ａが下向きに形成され、開口部１９３ａ側の鉛直
方向の長さよりも長く形成されているその基部１９３ｂ
が外槽３の取り付け穴３ａに着脱自在に嵌め付けられて
いる。このように構成されている吸い込み管１９３は、
上述した吸い込み管１９と同様の効果を奏する。しか
も、吸い込み管１９３は、取り付け穴３ａに着脱自在に
構成されているので、図５に示した従来例の外槽１１０
の開口部１１０ａにも取り付けることができる。したが
って、従来装置にも容易に適用することが可能である。

【００２２】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、外槽内の処理液を下方から上
方に向かって開口部に吸い上げる構成とし、液面付近の
処理液が開口部に向かう際の流速を小さくしたので、渦
の発生を抑制あるいは発生する渦の規模を抑制すること
ができる。したがって、処理液中の気泡が渦に巻き込ま
れることを抑制でき、気泡に起因する処理ムラや基板の
汚染を抑制することができる。

【００２３】また、請求項２に記載の発明によれば、吸
い込み管の開口部が外槽の底面に当接するように取り付
けたとしても、吸い込み管の開口部が外槽の底面に対し
て角度を有するように形成したので、外槽の底面により
閉塞されることはない。したがって、吸い込み管を外槽
に取り付ける際に、開口部が外槽の底面から浮いた状態
になるように高さ調節を行う必要がなく、吸い込み管を
容易に取り付けることが可能である。

【００２４】また、請求項３に記載の発明によれば、リ
ング状の鍔部によって開口部に流れ込む処理液の流速が
規制されるので、処理液に気泡が巻き込まれることを抑
制でき、気泡が処理液とともに開口部に流入することを
抑制できる。

【００２５】また、請求項４に記載の発明によれば、板
状の減速部材を外槽に配設して液面から開口部に向かう
処理液の流速を低下させ、処理液が開口部に向かう際の
抵抗を大きくするようにしたので、渦の発生を抑制ある
いは発生する渦の規模を抑制することができる。したが
って、液面付近に存在している気泡が渦に巻き込まれる
ことを抑制でき、気泡に起因する処理ムラや基板の汚染
を抑制することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例に係る基板処理装置の概略構成を示す縦
断面図である。

【図２】第１の変形例を示す縦断面図である。

【図３】第２の変形例を示す縦断面図である。

【図４】第３の変形例を示す縦断面図である。

【図５】従来例に係る基板処理装置の概略構成を示す図
である。

【符号の説明】

Ｗ … 基板 １ … 処理槽 ３ … 外槽 ３ａ … 取り付け穴 ３ｂ … 底面 ９ … 循環路 １１ … ポンプ １９ … 吸い込み管 １９ａ … 開口部 ２１ … パンチングボード（減速部材） １９１ … 吸い込み管 １９１ａ … 開口部 １９２ … 吸い込み管 １９２ａ … 開口部 １９２ｂ … 鍔部 １９３ … 吸い込み管 １９３ａ … 開口部 １９３ｂ … 基部

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理槽内の処理液に基板を浸漬して所定
   の処理を行う基板処理装置において、 前記処理槽の外側に配置され、かつ前記処理槽から溢れ
   た処理液を回収する外槽と、 前記外槽および前記処理槽と連通し、前記処理槽から排
   出された処理液を再び前記処理槽へ供給する循環路と、 前記循環路のうち前記外槽側に位置する端部に、開口部
   が下向きになるように配設された吸い込み管と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板処理装置におい
   て、前記吸い込み管の開口部が、前記外槽の底面に対し
   て角度を有するように形成されていることを特徴とする
   基板処理装置。
3. 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載の基板処
   理装置において、前記吸い込み管には、その開口部付近
   の外周部にリング状の鍔部を形成したことを特徴とする
   基板処理装置。
4. 【請求項４】 請求項１ないし請求項３のいずれかに記
   載の基板処理装置において、前記吸い込み管の上方にあ
   たる前記外槽内に、上方から下方に向かう処理液の流速
   を低下させる板状の減速部材を配設したことを特徴とす
   る基板処理装置。