JPH11167180A - Silver halide photographic sensitive material and its processing method - Google Patents

Silver halide photographic sensitive material and its processing method

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JPH11167180A
JPH11167180A JP33568097A JP33568097A JPH11167180A JP H11167180 A JPH11167180 A JP H11167180A JP 33568097 A JP33568097 A JP 33568097A JP 33568097 A JP33568097 A JP 33568097A JP H11167180 A JPH11167180 A JP H11167180A
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silver halide
group
silver
sensitive material
photographic
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Nobuaki Tsuji
宣昭 辻
Naoko Fukuwatari
直子 福渡
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Konica Minolta Inc
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  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a silver halide photographic sensitive material enhanced in covering power and improved in silver sludge while being kept high in sensitivity and to provide its processing method. SOLUTION: This silver halide photographic sensitive material is provided with photographic constituent layers including at least one silver halide emulsion layer, on a support and the photographic constituent layers contain at least one selected from between dextrans and dextrins, and a phosphagene compound.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はハロゲン化銀写真感
光材料及びその処理方法に関し、詳しくは高感度を維持
しつつ、カバリングパワーが高く、かつ銀スラッジが改
良されたハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a silver halide photographic material and a processing method thereof, and more particularly, to a silver halide photographic material having a high covering power and an improved silver sludge while maintaining high sensitivity. It relates to the processing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、現像処理においては高速化、低補
充化が急速に普及してきた。
2. Description of the Related Art In recent years, high speed and low replenishment have been rapidly spread in development processing.

【0003】本発明者らは、このような現像処理に適し
た感材の研究を進めてきたが、銀スラッジによる処理液
汚染の問題や感度低下、カバリングパワー(以降、CP
とも略称する)の低下といった問題の解決が課題であっ
た。
The present inventors have been researching photosensitive materials suitable for such a developing process. However, the problems of processing solution contamination by silver sludge, reduction in sensitivity, and covering power (hereinafter referred to as CP) have been studied.
There is a need to solve the problem of lowering the above.

【0004】特に、現像工程での銀スラッジを抑制する
ために、公知の抑制剤を感光材料や現像液中に含有させ
ることを試みたが、効果が不十分であったり、感度低下
するなどして根本的な解決には至らなかった。
[0004] In particular, in order to suppress silver sludge in the developing step, an attempt has been made to incorporate a known inhibitor into a light-sensitive material or a developing solution. It did not lead to a fundamental solution.

【0005】また、高感度化や高カバリングパワー化の
ために、感光材料の硬膜低下やゼラチン等のバインダー
減量を試みたが、効果が不十分であったり、銀スラッジ
が更に劣化するという問題が出てきた。
Further, in order to increase the sensitivity and the covering power, an attempt has been made to lower the hardening of the photosensitive material and to reduce the amount of binder such as gelatin. However, the effect is insufficient and the silver sludge is further deteriorated. Came out.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
目的は、高感度を維持しつつ、カバリングパワーが高
く、かつ銀スラッジが改良されたハロゲン化銀写真感光
材料及びその処理方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a silver halide photographic light-sensitive material having a high covering power and improved silver sludge while maintaining high sensitivity, and a method for processing the same. It is in.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】1.支持体上に、少なく
とも1層のハロゲン化銀乳剤層を含む写真構成層を設け
てなるハロゲン化銀写真感光材料において、前記写真構
成層がデキストラン及びデキストリンから選ばれる少な
くとも1種及びホスファゼン化合物を含有することを特
徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
[Means for Solving the Problems] In a silver halide photographic light-sensitive material comprising a support and a photographic component layer including at least one silver halide emulsion layer, the photographic component layer contains at least one selected from dextran and dextrin and a phosphazene compound. A silver halide photographic material.

【0008】2.前記ホスファゼン化合物を含有する写
真構成層が、デキストラン及びデキストリンから選ばれ
る少なくとも1種を含有する層に対して、支持体からみ
て同一又は遠い側に位置することを特徴とする1に記載
のハロゲン化銀写真感光材料。
[0008] 2. 2. The halogenation according to 1, wherein the photographic constituent layer containing the phosphazene compound is located on the same side or far side as viewed from the support with respect to the layer containing at least one selected from dextran and dextrin. Silver photographic photosensitive material.

【0009】3.支持体上に、少なくとも1層のハロゲ
ン化銀乳剤層を含む写真構成層を設けてなるハロゲン化
銀写真感光材料において、該写真構成層が下記一般式
〔1〕で表される化合物及びホスファゼン化合物を含有
することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
3. In a silver halide photographic light-sensitive material comprising a support and a photographic constituent layer including at least one silver halide emulsion layer, the photographic constituent layer is a compound represented by the following general formula [1] and a phosphazene compound A silver halide photographic light-sensitive material comprising:

【0010】[0010]

【化2】 Embedded image

【0011】〔式中、Zは−SO31、−COOR1
−OH及び−NHR2から選ばれる基の少なくとも1個
を直接に又は間接に置換されている複素環基を表し、
M,M1は水素原子、アルカリ金属原子又は四級アンモ
ニウム基を表し、R1は水素原子、アルカリ金属原子又
は炭素数1〜6のアルキル基を表し、R2は水素原子又
は炭素数1〜6のアルキル基、−COR3,−COOR3
又は−SO23を表し、R3は水素原子、脂肪族基又は
芳香族基を表す。〕 4.前記一般式〔1〕で表される化合物が、非感光性層
に含有されていることを特徴とする3に記載のハロゲン
化銀写真感光材料。
[Wherein, Z is -SO 3 M 1 , -COOR 1 ,
Represents a heterocyclic group in which at least one of groups selected from -OH and -NHR 2 is directly or indirectly substituted,
M, M 1 represents a hydrogen atom, an alkali metal atom or a quaternary ammonium group, R 1 represents a hydrogen atom, an alkali metal atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, R 2 is 1 hydrogen atom or a carbon atoms 6, an alkyl group of —COR 3 , —COOR 3
Or represents -SO 2 R 3, R 3 represents a hydrogen atom, an aliphatic group or an aromatic group. ] 4. 4. The silver halide photographic material according to 3, wherein the compound represented by the general formula [1] is contained in a non-photosensitive layer.

【0012】5.前記ハロゲン化銀乳剤層が、アスペク
ト比が3以上であり、ヨウ化銀含有率が0.5モル%以
下のハロゲン化銀粒子を含有することを特徴とする1〜
4のいずれか1項に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
5. Wherein the silver halide emulsion layer contains silver halide grains having an aspect ratio of 3 or more and a silver iodide content of 0.5 mol% or less.
5. The silver halide photographic light-sensitive material according to any one of 4.

【0013】6.支持体上に、少なくとも1層のハロゲ
ン化銀乳剤層を含む写真構成層を設けてなるハロゲン化
銀写真感光材料を現像処理するハロゲン化銀写真感光材
料の処理方法において、該写真構成層がデキストラン及
びデキストリンから選ばれる少なくとも1種を含有し、
ホスファゼン化合物の存在下で現像処理することを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
6. A method for processing a silver halide photographic light-sensitive material, comprising developing a silver halide photographic light-sensitive material having at least one photographic constituent layer including a silver halide emulsion layer on a support, wherein the photographic constituent layer is dextran And at least one selected from dextrins,
A method for processing a silver halide photographic light-sensitive material, which comprises developing in the presence of a phosphazene compound.

【0014】以下、本発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0015】本発明に用いられるデキストランは、α−
1,6結合したD−グルコースの重合体であり、一般に
糖類の存在下でデキストラン生産菌を培養することによ
って得るがロコノストック、メゼンテロイテス等のデキ
ストラン生産菌、又はこれらの菌の培養液より分離した
デキストランシュクラーゼを蔗糖液に作用して得られる
ネイティブデキストランを酸、アルカリ、酵素による部
分分解重量法によって、所望の分子量まで低下させたも
のである。
The dextran used in the present invention is α-
1,6-linked D-glucose polymer, generally obtained by culturing a dextran-producing bacterium in the presence of a saccharide, but dextran-producing bacterium such as Loconostock, Mesenteroites, or dextran isolated from a culture of these bacteria It is obtained by reducing native dextran obtained by applying sucrose to sucrose solution to a desired molecular weight by a partial decomposition weight method using an acid, an alkali and an enzyme.

【0016】本発明に用いられるデキストランの重量平
均分子量は5千から30万、好ましくは1万5千から1
0万、更に好ましくは2万から7万である。
The weight average molecular weight of the dextran used in the present invention is 5,000 to 300,000, preferably 15,000 to 1
0,000, more preferably 20,000 to 70,000.

【0017】本発明に用いられるデキストリンは、α−
1,4結合したD−グルコースの重合体であり、一般に
デンプンを加水分解して麦芽糖に至るまでの種々の分解
生成物の総称を指す。学術上重要なものとして化学構造
上特徴ある物がいくつかある他は、特に構造上の特徴を
持たず、分子量も一定のものではない。デンプンをわず
かに加水分解した高分子量のものから、ヨウ素デンプン
反応を呈しない低分子量の物まであり、加水分解の方法
及び用途に従って多くの種類がある。
The dextrin used in the present invention is α-
It is a polymer of 1,4-linked D-glucose and generally refers to a general term for various degradation products from hydrolysis of starch to maltose. Except for some that are scientifically important, they have no particular structural features, and their molecular weights are not constant, except for some that have chemical structural features. There are many types depending on the method and application of hydrolysis, from high molecular weights obtained by slightly hydrolyzing starch to low molecular weights not exhibiting iodine starch reaction.

【0018】デキストリンの具体例としては、名糖産業
(株)からはLLD等の商品名で、日澱化学(株)から
は、アミコール1、デキストリン102S等の商品名、
又、東和化成工業(株)からは、ピーオー等の商品名で
市販されているものが挙げられる。
Specific examples of dextrin include trade names such as LLD from Meito Sangyo Co., Ltd., trade names such as AMICOL 1 and dextrin 102S from Niseki Chemical Co., Ltd.
Further, those marketed by Towa Kasei Kogyo Co., Ltd. under the trade name of P.O.

【0019】本発明に用いられるデキストラン、デキス
トリンは親水性コロイド層であればどの層でもよいが、
複数層の親水性コロイド層がある場合は乳剤層又は乳剤
層と支持体から最も遠い親水性コロイド層の両方に添加
するのが好ましい。
Dextran and dextrin used in the present invention may be in any layer as long as it is a hydrophilic colloid layer.
When there are a plurality of hydrophilic colloid layers, it is preferably added to the emulsion layer or both the emulsion layer and the hydrophilic colloid layer farthest from the support.

【0020】本発明に用いられるデキストラン、デキス
トリンを親水性コロイド層に添加する場合は、親水性コ
ロイド層の全バインダー量の5〜50重量%を添加する
のが好ましく、更に好ましくは10〜45重量%であ
る。
When dextran or dextrin used in the present invention is added to the hydrophilic colloid layer, it is preferably added in an amount of 5 to 50% by weight, more preferably 10 to 45% by weight of the total binder in the hydrophilic colloid layer. %.

【0021】本発明に用いられるホスファゼン化合物と
しては、下記一般式(1)又は(2)で表される化合物
が好ましい。
As the phosphazene compound used in the present invention, a compound represented by the following general formula (1) or (2) is preferable.

【0022】[0022]

【化3】 Embedded image

【0023】〔式中、R1、R2は各々アルキル基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アリール基、イソチオシ
アナート基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、アジド基、又はこれらの誘導体を表し、R1、R2
同じであっても異なっていても良い。n1は1以上の正
の整数を表し、n1が複数の場合、R1又はR2は各々同
じであっても異なっていても良い。〕
[Wherein R 1 and R 2 each represent an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an aryl group, an isothiocyanate group, an amino group, an alkylthio group, an arylthio group, an azide group, or a derivative thereof. , R 1 and R 2 may be the same or different. n 1 represents a positive integer of 1 or more, and when n 1 is plural, R 1 or R 2 may be the same or different. ]

【0024】[0024]

【化4】 Embedded image

【0025】〔式中、R1、R2は、各々上記一般式
(1)のR1、R2と同義の基を表し、R1、R2は同じで
あっても異なっていても良い。n2は3以上の正の整数
を表し、n2が複数の場合、R1又はR2は各々同じであ
っても異なっていても良い。〕 本発明の一般式(1)及び(2)で表される化合物にお
いて、R1、R2で表されるアミノ基としては、置換基を
有するものを含む。該置換基としてはアルキル基の如き
脂肪族基、フェニル基の如き芳香族基等が挙げられる。
置換基を有するアミノ基としては、例えば脂肪族基が1
〜2個置換したもの、芳香族基が1〜2個置換したも
の、脂肪族基と芳香族基がそれぞれ置換したもの、更に
は環状アミノ基等が挙げられる。
[0025] wherein, R 1, R 2 each represents R 1, R 2 group having the same meaning as in formula (1), R 1, R 2 may be different even in the same . n 2 represents a positive integer of 3 or more, and when n 2 is plural, R 1 or R 2 may be the same or different. In the compounds represented by formulas (1) and (2) of the present invention, the amino groups represented by R 1 and R 2 include those having a substituent. Examples of the substituent include an aliphatic group such as an alkyl group and an aromatic group such as a phenyl group.
Examples of the amino group having a substituent include an aliphatic group having 1
Or substituted with 1 to 2 aromatic groups, substituted with an aliphatic group and an aromatic group, and a cyclic amino group.

【0026】本発明の一般式(1)及び(2)で表され
る化合物は、基本骨格がP=N結合で構成されるホスフ
ァゼン誘導体で、置換基の一部が、イオン性の側鎖基も
しくはパイ電子系の化合物側鎖基、ポリエーテル側鎖基
などの場合である。これらの化合物群は、P=N結合が
線状の高分子量の化合物群と、環状の化合物群及び環鎖
状化合物群がある。これらの化合物群の合成法を更に詳
しく述べれば、(PNF23、(PNF24、(PNF
2)n等の側鎖基がF原子の三量体、四量体、n量体の
化合物、(PNCl23、(PNCl24、(PNCl
2)n(n<15)等の側鎖基がCl原子の三量体、四
量体、n量体の化合物、(PNBr23、(PNB
24、(PNBr2)n等の側鎖基がBr原子の三量
体、四量体、n量体の化合物、(PNI23、(PNI
24、(PNI2)n等の側鎖基がI原子の三量体、四
量体、n量体の化合物のハロゲン原子を、C65ON
a、CH364ONa、(C65O)2Ca、CF3
2ONaのような芳香族有機化合物の金属塩との反
応、C65OHのような水酸基を有する芳香族化合物も
しくはCH2=C(CH3)−COOCH2CH2OHのよ
うな脂肪族アルコール、C65NH2のような芳香族ア
ミン類などのようなP原子上のハロゲン原子と求核置換
しうる芳香族化合物と、アニリンなどのアミン類、水酸
化ナトリウム、炭酸ナトリウムなどのハロゲン受容体化
合物との混合による方法をあげることができる。
The compounds represented by the general formulas (1) and (2) of the present invention are phosphazene derivatives whose basic skeleton is composed of a P = N bond, and a part of the substituent is an ionic side chain group. Alternatively, it is a case of a pi-electron compound side chain group, a polyether side chain group, or the like. These compound groups include a high molecular weight compound group in which P = N bonds are linear, and a cyclic compound group and a cyclic compound group. The method of synthesizing these compounds is described in more detail as follows: (PNF 2 ) 3 , (PNF 2 ) 4 , (PNF
2 ) A compound in which a side chain group such as n is a trimer, tetramer, or n-mer of an F atom, (PNCl 2 ) 3 , (PNCl 2 ) 4 , (PNCl 2 )
2 ) Trimer, tetramer, n-mer compounds in which the side chain groups such as n (n <15) are Cl atoms, (PNBr 2 ) 3 , (PNB)
(Pr 2 ) 4 , (PNBr 2 ) n, etc., a compound in which the side chain group is a Br atom trimer, tetramer, n-mer, (PNI 2 ) 3 , (PNI)
2 ) 4 , (PNI 2 ) n or the like has a side chain group which is a halogen atom of a trimer, tetramer, or n-mer compound of I atom, and is represented by C 6 H 5 ON.
a, CH 3 C 6 H 4 ONa, (C 6 H 5 O) 2 Ca, CF 3 C
Fats such as H 2 reaction of the metal salt of an aromatic organic compound such as ONa, C 6 H 5 aromatic compound having a hydroxyl group such as OH or CH 2 = C (CH 3) -COOCH 2 CH 2 OH Aromatic compounds capable of nucleophilic substitution with a halogen atom on the P atom, such as aromatic alcohols, aromatic amines such as C 6 H 5 NH 2 , amines such as aniline, sodium hydroxide, sodium carbonate, etc. And a method of mixing with a halogen acceptor compound.

【0027】ホスファゼン誘導体は、一般にこのように
して合成されるが、置換反応を主体とする合成方法は、
特に限定しない。
The phosphazene derivative is generally synthesized in this manner.
There is no particular limitation.

【0028】また、芳香族側鎖基とは、一般に芳香族環
を有する化合物から誘導される基であり、
The aromatic side chain group is generally a group derived from a compound having an aromatic ring.

【0029】[0029]

【化5】 Embedded image

【0030】などの芳香族環に官能基として水酸基を有
する化合物から誘導される基が挙げられる。
Examples thereof include groups derived from a compound having a hydroxyl group as a functional group on an aromatic ring.

【0031】更に、アニリン、フェニレンジアミンなど
の芳香族環に官能基としてアミノ基を有する化合物から
誘導される例えば下記の基が挙げられる。
Further, the following groups derived from compounds having an amino group as a functional group in an aromatic ring such as aniline and phenylenediamine are exemplified.

【0032】[0032]

【化6】 Embedded image

【0033】或いは、チオフェノール、ジメルカプトベ
ンゼンなどの芳香族環に官能基としてメルカプト基を有
する化合物から誘導される例えば下記の基などである。
Alternatively, examples thereof include the following groups derived from compounds having a mercapto group as a functional group on an aromatic ring such as thiophenol and dimercaptobenzene.

【0034】[0034]

【化7】 Embedded image

【0035】また側鎖基の組み合わせとしては、必ずし
も単一の基で構成されなくてもよく、これらの中から複
数選ばれた組み合わせでもよく、水酸化ナトリウムでp
H10.00にした40℃の水溶液100g中に1g以
下の溶解度を持つように任意に選択することができる。
この他、Chem.Rev.、1972、vol72、
No.4、315〜356に示されている化合物に含ま
れる官能基であって良く、更にこれらの官能基がカルボ
キシル基、硫酸基、りん酸基等の親水性の置換基を有し
ていてもよい。
The combination of the side chain groups may not necessarily be composed of a single group, but may be a combination selected from a plurality of these groups.
It can be arbitrarily selected to have a solubility of 1 g or less in 100 g of a 40 ° C. aqueous solution adjusted to H10.00.
In addition, Chem. Rev .. , 1972, vol72,
No. And functional groups contained in the compounds shown in Nos. 4,315 to 356, and these functional groups may further have a hydrophilic substituent such as a carboxyl group, a sulfate group, and a phosphate group. .

【0036】次に一般式(1)及び(2)で表される化
合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されな
い。
Next, specific examples of the compounds represented by formulas (1) and (2) are shown, but the present invention is not limited to these.

【0037】(鎖状化合物) L−1 [NP(NCS)2n L−2 [NP(OMe)2n L−3 [NP(OEt)2n L−4 [NP(OCH2CF32n L−5 [NP(OCH2252n L−6 [NP(OCH2CF2CF2H)2n L−7 [NP(OCH2372n L−8 [NP(OCH2CF3)(OCH2
37)]n L−9 [NP(OCH2(CF26CF32n L-10 [NP(OCH225)(OCH237)]n L−11 [NP(OCH2CF2CF2H)(OCH2
612H)]n L−12 [NP(OPh)2n L−13 [NP(OC64F−p)2n L−14 [NP(OC64CF3−m)2n L−15 [NP(OC64Cl−p)2n L−16 [NP(OC63Cl2−2,4)2n L−17 [NP(OC6465−p)2n L−18 [NP(NHMe)2n L−19 [NP(NHEt)2n L−20 [NP(NHPr−n)2n L−21 [NP(NHBu−n)2n L−22 [NP(NHPh)2n L−23 [NP(NMe22n L−24 [NP(NC5102n L−25 [NP(NEt2)Cl]n L−26 [NP(NEt2)(NH2)]n L−27 [NP(NEt2)(NHMe)]n L−28 [NP(NEt2)(NHEt)]n L−29 [NP(NEt2)(NHPr−n)]n L−30 [NP(NEt2)(NHBu−n)]n L−31 (NPPh2n L−32 [NP(SEt)2
(Chain compound) L-1 [NP (NCS) 2 ] n L-2 [NP (OMe) 2 ] n L-3 [NP (OEt) 2 ] n L-4 [NP (OCH 2 CF) 3 ) 2 ] n L-5 [NP (OCH 2 C 2 F 5 ) 2 ] n L-6 [NP (OCH 2 CF 2 CF 2 H) 2 ] n L-7 [NP (OCH 2 C 3 F 7) ) 2 ] n L-8 [NP (OCH 2 CF 3 ) (OCH 2 C
3 F 7)] n L- 9 [NP (OCH 2 (CF 2) 6 CF 3) 2] n L-10 [NP (OCH 2 C 2 F 5) (OCH 2 C 3 F 7)] n L- 11 [NP (OCH 2 CF 2 CF 2 H) (OCH 2 C
6 F 12 H)] n L-12 [NP (OPh) 2 ] n L-13 [NP (OC 6 H 4 F-p) 2 ] n L-14 [NP (OC 6 H 4 CF 3 -m) 2 ] n L-15 [NP (OC 6 H 4 Cl-p) 2 ] n L-16 [NP (OC 6 H 3 Cl 2 -2, 4) 2 ] n L-17 [NP (OC 6 H 4 C 6 H 5 -p) 2] n L-18 [NP (NHMe) 2] n L-19 [NP (NHEt) 2] n L-20 [NP (NHPr-n) 2] n L-21 [NP (NHBu-n) 2 ] n L-22 [NP (NHPh) 2 ] n L-23 [NP (NMe 2 ) 2 ] n L-24 [NP (NC 5 H 10 ) 2 ] n L-25 [NP (NEt 2 ) Cl] n L-26 [NP (NEt 2 ) (NH 2 )] n L-27 [NP (NEt 2 ) (NHMe)] n L-28 [NP (NEt 2 ) (NHEt)] n L-29 [NP (NEt 2 ) (NHPr-n)] n L-30 [NP (NEt 2 ) (NHBu-n)] n L-31 (NPPh 2 ) n L-32 [NP (SEt) 2 ] N

【0038】[0038]

【化8】 Embedded image

【0039】(環状化合物) C−1 [NP(CF23 C−2 (NPPh23 C−3 (NPPh24 C−4 [NP(C64Cl−p)23 C−5 (NPEt23 C−6 (NPEt24 C−7 [NP(OCH2CF32] C−8 [NP(OMe)23 C−9 [NP(OMe)24 C−10 [NP(OEt)23 C−11 [NP(OEt)24 C-12 [NP(OPr-i)23 C−13 [NP(OPr−i)24 C−14 [NP(OBu−n)23 C−15 [NP(OBu−n)24 C−16 [NP(OCH2Ph)23 C−17 [NP(OCH2Ph)24 C−18 [NP(OPh)23 C−19 [NP(OPh)24 C−20 [NP(SEt)24 C−21 [NP(SPh)23 C−22 [NP(NHMe)23 C−23 [NP(NHMe)24 C−24 [NP(NHEt)23 C−25 [NP(NHEt)24 C−26 [NP(NHBu−n)23 C−27 [NP(NHBu−n)2n C−28 [NP(NMe223 C−29 [NP(NMe224 C−30 [NP(NEt223 C−31 [NP(NEt224 C−32 [NP(NMePh)23 C−33 N33Ph3(NHMe)3(cis) C−34 N33Ph3(NHMe)3(trans) C−35 N33Ph3(NHEt)3(cis) C−36 N33Ph3(NHEt)3(trans) C−37 N33(NHEt)4(OCH2CF32(g
em) C−38 N33(NHEt)4(OCH2CF32(n
on−gem) C−39 N33(OC654(NH22(gem) C−40 N33(OC654(NH22(non−
gem) C−41 [NP(NCS)23 C−42 [NP(N323 C−43 [NP(OPr−n)23 C−44 [NP(OCH2CF323 C−45 [NP(SEt)23 C−46 [NP(NH223 C−47 [NP(CF324 C−48 (NPPh24 C−49 [NP(OPr−n)24 C−50 [NP(NH224 C−51 [NP(OMe)25 C−52 [NP(NMe225 C−53 [NP(OMe)26 C−54 [NP(NMe226 C−55 [NP(OMe)28 C−56 [NP(NMe22
(Cyclic compound) C-1 [NP (CF 3 ) 2 ] 3 C-2 (NPPh 2 ) 3 C-3 (NPPh 2 ) 4 C-4 [NP (C 6 H 4 Cl-p) 2 ] 3 C-5 (NPet 2 ) 3 C-6 (NPet 2 ) 4 C-7 [NP (OCH 2 CF 3 ) 2 ] C-8 [NP (OMe) 2 ] 3 C-9 [NP (OMe) 2 ] 4 C-10 [NP (OEt) 2 ] 3 C-11 [NP (OEt) 2 ] 4 C-12 [NP (OPr-i) 2 ] 3 C-13 [NP (OPr-i) 2 ] 4 C-14 [NP (OBu-n) 2 ] 3 C-15 [NP (OBu-n) 2 ] 4 C-16 [NP (OCH 2 Ph) 2 ] 3 C-17 [NP (OCH 2 Ph) 2 ] 4 C-18 [NP (OPh) 2 ] 3 C-19 [NP (OPh) 2 ] 4 C-20 [NP (SEt) 2 ] 4 C-21 [NP (SPh) 2 ] 3 C-22 [ NP (NHMe) 2 ] 3 C-23 [NP (NHMe) 2 ] 4 C-24 [NP (NHEt) 2 ] 3 C-25 [NP (NHEt) 2 ] 4 C-26 [NP (NHBu-n) 2 ] 3 C-27 [NP (NHBu-n) 2 ] n C-28 [NP (NMe 2 ) 2 ] 3 C-29 [NP (NMe 2 ) 2 ] 4 C-30 [NP (NEt 2 ) 2 ] 3 C-31 [NP (NEt 2 ) 2 ] 4 C-32 [NP (NMePh) 2 ] 3 C-33 N 3 P 3 Ph 3 (NHMe) 3 (cis) C-34 N 3 P 3 Ph 3 (NHMe) 3 (trans) C-35 N 3 P 3 Ph 3 (NHEt) 3 (cis) C-36 N 3 P 3 Ph 3 (NHEt) 3 (trans) C-37 N 3 P 3 (NHEt) 4 (OCH 2 CF 3 ) 2 (g
em) C-38 N 3 P 3 (NHEt) 4 (OCH 2 CF 3 ) 2 (n
on-gem) C-39 N 3 P 3 (OC 6 H 5 ) 4 (NH 2 ) 2 (gem) C-40 N 3 P 3 (OC 6 H 5 ) 4 (NH 2 ) 2 (non-gem)
gem) C-41 [NP (NCS) 2 ] 3 C-42 [NP (N 3 ) 2 ] 3 C-43 [NP (OPr-n) 2 ] 3 C-44 [NP (OCH 2 CF 3 ) 2 ] 3 C-45 [NP (SEt) 2 ] 3 C-46 [NP (NH 2 ) 2 ] 3 C-47 [NP (CF 3 ) 2 ] 4 C-48 (NPPh 2 ) 4 C-49 [NP (OPr-n) 2 ] 4 C-50 [NP (NH 2 ) 2 ] 4 C-51 [NP (OMe) 2 ] 5 C-52 [NP (NMe 2 ) 2 ] 5 C-53 [NP (OMe) ) 2 ] 6 C-54 [NP (NMe 2 ) 2 ] 6 C-55 [NP (OMe) 2 ] 8 C-56 [NP (NMe 2 ) 2 ] 8

【0040】[0040]

【化9】 Embedded image

【0041】[0041]

【化10】 Embedded image

【0042】[0042]

【化11】 Embedded image

【0043】[0043]

【化12】 Embedded image

【0044】(環鎖状化合物)(Ring-Chain Compound)

【0045】[0045]

【化13】 Embedded image

【0046】本発明の一般式(1)及び(2)で表され
る化合物は、親水性コロイド中に分散し、フィルム状、
ビーズ状に成型したり支持体上に塗布成型してもよく、
或いは直接成型可能な高分子化合物中に共有結合を介し
てこれらの化合物を導入したものをフィルム状或いはビ
ーズ状に成型したり支持体上に塗布成型してもよく、ま
た、直接成型可能な高分子化合物を得ることのできる単
量体に共有結合を介してこれらの化合物を導入したもの
を単一重合或いは共重合させたものをフィルム状或いは
ビーズ状に成型したり支持体上に塗布成型してもよく、
或いはまた、これらの化合物そのものを単独でフィルム
状、ビーズ状に成型したり支持体上に塗布成型してもよ
い。成型する形状は問わないが、好ましくは、支持体上
に上記のいずれかの方法で塗布成型したクリーニングペ
ーパー或いはクリーニングフィルム、或いは処理槽中
に、処理を妨げることなく設置可能な、処理液の浸透が
可能な袋状のものに入れることができるビーズ状、或い
はフィルター状の形に成型されることが望ましい。
The compounds represented by the general formulas (1) and (2) of the present invention are dispersed in a hydrophilic colloid to form a film,
It may be molded into beads or coated on a support,
Alternatively, a polymer in which these compounds are introduced into a directly moldable polymer compound via a covalent bond may be molded into a film or beads, or coated and molded on a support. Monomers or copolymers obtained by introducing these compounds through a covalent bond to a monomer from which a molecular compound can be obtained are molded into a film or beads, or coated and molded on a support. May be
Alternatively, these compounds themselves may be formed into a film or a bead alone, or may be coated and formed on a support. The shape to be molded is not limited, but preferably, a permeation of a processing liquid, which can be installed without impeding the processing, in a cleaning paper or a cleaning film applied or molded on the support by any of the above methods, or in a processing tank. It is desirable to mold it into a bead shape or a filter shape that can be put in a bag-like material that can be used.

【0047】本発明の一般式(1)及び(2)で表され
る化合物は、処理液1リットルに対して単位構造当たり
2×10−6〜2molの範囲で使用されることが望ま
しく、より好ましくは単位構造当たり2×10-4〜2×
10-1molの範囲で使用されることが望ましい。ま
た、感熱材料に添加する場合は、0.5mg/m2〜5
g/m2が好ましい。
The compounds represented by the general formulas (1) and (2) of the present invention are desirably used in an amount of 2 × 10 −6 to 2 mol per unit structure per liter of the processing solution. Preferably 2 × 10 -4 to 2 × per unit structure
It is desirable to use it in the range of 10 -1 mol. When added to a heat-sensitive material, it is 0.5 mg / m 2 to 5 mg / m 2.
g / m 2 is preferred.

【0048】本発明の一般式(1)及び(2)で表され
る化合物は、処理液中の銀イオン及び銀錯体を吸着、ト
ラップして感光材料上やハロゲン化銀写真感光材料用処
理液中及び処理槽壁上に銀汚れを生じさせない働きがあ
り、また、ハロゲン化銀感光材料処理液中の銀汚れ防止
効果を持続させ、長期保存性、劣化防止性に優れた効果
を示す。従って、迅速かつ低補充な現像処理が可能とな
る。
The compounds represented by the general formulas (1) and (2) of the present invention adsorb and trap silver ions and silver complexes in the processing solution, and can be used on a photosensitive material or a processing solution for a silver halide photographic photosensitive material. It has the function of preventing silver stains from occurring in the inside and on the processing tank wall, and also keeps the effect of preventing silver stains in the processing solution of the silver halide photosensitive material, exhibiting excellent effects of long-term storage and deterioration prevention. Accordingly, rapid and low-replenishment development can be performed.

【0049】更に、本発明の一般式(1)及び(2)で
表される化合物は水洗により銀イオン及び銀錯体の吸着
能を回復することが容易であり、このため、これらの化
合物を用いる前述のクリーニングペーパー、クリーニン
グフィルム、ビーズ、フィルター等はその銀吸着性能を
全く低下させることなく、繰り返して使用することが可
能である。このため、半永久的に使用することができ、
コスト的に非常に有利である。
Further, the compounds represented by the general formulas (1) and (2) of the present invention can easily recover the adsorption ability of silver ions and silver complexes by washing with water, and therefore these compounds are used. The above-described cleaning paper, cleaning film, beads, filter, and the like can be used repeatedly without deteriorating their silver adsorption performance at all. Therefore, it can be used semi-permanently,
It is very advantageous in terms of cost.

【0050】本発明でいう接触するとは処理液と一般式
(1)及び(2)で表される化合物とが接触していれば
良いが、特に処理液が前記したクリーニングペーパーや
クリーニングフィルム又はビーズ、フィルター等に含有
されている一般式(1)又は(2)で表される化合物に
接触することを意味し、一般式(1)及び(2)で表さ
れる化合物を処理液中に直接添加した場合に接触するこ
ととは異なる。
The term "contact" as used in the present invention means that the treatment liquid and the compounds represented by the general formulas (1) and (2) are in contact with each other. , Which means contact with the compound represented by the general formula (1) or (2) contained in the filter or the like, and the compound represented by the general formula (1) or (2) It is different from contact when added.

【0051】次に、本発明で用いられる一般式〔1〕で
表される化合物について説明する。 一般式〔1〕 Z−SM 〔式中、Zは−SO31、−COOR1、−OH及び−
NHR2から選ばれる基を少なくとも1個を直接に又は
間接に置換されている複素環基を表し、M,M1は水素
原子、アルカリ金属原子又は四級アンモニウム基を表
し、R1は水素原子、アルカリ金属原子又は炭素数1〜
6のアルキル基を表し、R2は水素原子又は炭素数1〜
6のアルキル基、−COR3,−COOR3又は−SO2
3を表し、R3は水素原子、脂肪族基又は芳香族基を表
す。〕 一般式〔1〕において、Zで表される−SO31、−C
OOR1、−OH及び−NHR2から選ばれた基の少なく
とも1個を直接に又は間接に結合した複素環基として
は、例えばオキサゾール環、チアゾール環、イミダゾー
ル環、セレナゾール環、トリアゾール環、テトラゾール
環、チアジアゾール環、オキサジアゾール環、ピリミジ
ン環、チアジン環、トリアジン環、チオジアジン環又は
他の炭素環やヘテロ環と結合した環、例えばベンゾオキ
サゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾトリアゾール
環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾオキサジアゾール
環、ベンゾセレナゾール環、ナフトオキサゾール環、ト
リアザインドリジン環、ジアザインドリジン環又はテト
ラアザインドリジン環(これらの環には上記基が少なく
とも1個置換されている。)等があげられる。そして、
これらのうちで好ましいものとしてはイミダゾール環、
テトラゾール環、ベンゾオキサゾール環、トリアゾール
環を挙げることができ、特に好ましくはテトラゾール環
である。
Next, the compound represented by the general formula [1] used in the present invention will be described. Formula (1) in Z-SM [wherein, Z is -SO 3 M 1, -COOR 1, -OH and -
Represents a heterocyclic group in which at least one group selected from NHR 2 is substituted directly or indirectly, M and M 1 represent a hydrogen atom, an alkali metal atom or a quaternary ammonium group, and R 1 represents a hydrogen atom , An alkali metal atom or carbon number 1
6 represents an alkyl group, and R 2 represents a hydrogen atom or
6, an alkyl group of —COR 3 , —COOR 3 or —SO 2
Represents R 3, R 3 represents a hydrogen atom, an aliphatic group or an aromatic group. In the general formula [1], -SO 3 M 1 , -C represented by Z
Examples of the heterocyclic group in which at least one group selected from OOR 1 , —OH and —NHR 2 is directly or indirectly bonded include, for example, an oxazole ring, a thiazole ring, an imidazole ring, a selenazole ring, a triazole ring, and a tetrazole ring. A, thiadiazole ring, oxadiazole ring, pyrimidine ring, thiazine ring, triazine ring, thiodiazine ring or a ring bonded to another carbon ring or hetero ring, such as a benzoxazole ring, a benzothiazole ring, a benzotriazole ring, a benzimidazole ring, Benzoxadiazole ring, benzoselenazole ring, naphthoxazole ring, triazaindolizine ring, diazaindolizine ring or tetraazaindolizine ring (at least one of the above groups is substituted on these rings.) And the like. And
Of these, preferred are imidazole rings,
Examples thereof include a tetrazole ring, a benzoxazole ring and a triazole ring, and a tetrazole ring is particularly preferred.

【0052】一般式〔1〕において、M,M1は水素原
子、アルカリ金属原子又は四級アンモニウム基を表し、
1は水素原子、アルカリ金属原子又は炭素数1〜6の
アルキル基を表し、R2は水素原子、炭素数1〜6のア
ルキル基、−COR3、−COOR3又は−SO23を表
し、R3は水素原子、脂肪族基(例えば、炭素数1〜2
0のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、n−
プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル基、n−オク
チル基、ドデシル基、シクロヘキシル基など)又は芳香
族基(例えば、炭素数6〜20のアリール基、具体的に
はフェニル基、ナフチル基など)を表し、これらの基は
置換基を有してもよい。
In the general formula [1], M and M 1 represent a hydrogen atom, an alkali metal atom or a quaternary ammonium group,
R 1 is a hydrogen atom, an alkali metal atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, R 2 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a -COR 3, -COOR 3 or -SO 2 R 3 R 3 represents a hydrogen atom, an aliphatic group (for example, having 1 to 2 carbon atoms)
0 alkyl group, specifically, methyl group, ethyl group, n-
A propyl group, an i-propyl group, a t-butyl group, an n-octyl group, a dodecyl group, a cyclohexyl group or the like; or an aromatic group (for example, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, specifically a phenyl group, a naphthyl group) Etc.), and these groups may have a substituent.

【0053】ここで一般式〔1〕で表される化合物の親
水性基の数は1つ以上であればいくつでもよく、2つ以
上ある化合物も好ましく用いられる。また、それら親水
性基のpKaはいくつでもかまわないが少なくとも1つ
の親水性基のpKaが7以上であるものが好ましく用い
られる。特に親水性基が−SO31、−COOR1であ
るものが好ましい。
Here, the compound represented by the general formula [1] may have any number of hydrophilic groups as long as it is one or more, and a compound having two or more hydrophilic groups is also preferably used. Further, the pKa of the hydrophilic groups may be any number, but one having at least one hydrophilic group having a pKa of 7 or more is preferably used. Particularly hydrophilic group -SO 3 M 1, it shall preferably -COOR 1.

【0054】また、一般式〔1〕で表されるような化合
物を経時中及び/又は処理液中に放出するようないわゆ
るプレカーサー型化合物も好ましく用いることができ
る。
Also, a so-called precursor-type compound which releases the compound represented by the general formula [1] over time and / or into a treatment solution can be preferably used.

【0055】一般式〔1〕で表される複素環メルカプト
化合物のうち、特に好ましいものとしては一般式〔1
a〕で表されるものである。
Among the heterocyclic mercapto compounds represented by the general formula [1], particularly preferred are the compounds represented by the general formula [1]
a].

【0056】[0056]

【化14】 Embedded image

【0057】一般式〔1a〕中、X,Yは窒素原子又は
CR5(R5は水素原子又は置換可能な基である)であ
り、R4は置換、無置換の有機基であり、有機基として
は炭素数1〜20のアルキル基(例えば、メチル基、エ
チル基、n−プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル
基、n−オクチル基、ドデシル基、シクロヘキシル基な
ど)、炭素数6〜20のアリール基(例えば、フェニル
基、ナフチル基など)、ヘテロ環基(少なくとも1個以
上の窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含む5員環、6
員環又は7員環であり、更に適当な位置で縮合環を形成
するものを含む。例えばピリジン環、キノリン環、ピリ
ミジン環などである。)又はアルキル基、アリール基、
ヘテロ環基が−S−、−O−、−NR7−、−CO−、
−SO−、−SO2−などから構成される連結基を介し
て構成される基を表す。(R7は水素原子又は炭素数1
〜4の低級アルキル基を表す。
In the general formula [1a], X and Y are a nitrogen atom or CR 5 (R 5 is a hydrogen atom or a substitutable group), and R 4 is a substituted or unsubstituted organic group. Examples of the group include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, a t-butyl group, an n-octyl group, a dodecyl group, a cyclohexyl group, etc.), a carbon number 6 to 20 aryl groups (e.g., phenyl group, naphthyl group, etc.), heterocyclic group (5-membered ring containing at least one or more nitrogen, oxygen or sulfur atom, 6
A 7-membered ring or a 7-membered ring, including those forming a condensed ring at an appropriate position. For example, there are a pyridine ring, a quinoline ring, a pyrimidine ring and the like. ) Or an alkyl group, an aryl group,
Heterocyclic group -S -, - O -, - NR 7 -, - CO-,
-SO -, - SO 2 - represents a group composed via a linking group and the like. (R 7 is a hydrogen atom or carbon atom 1
Represents a lower alkyl group of 4 to 4.

【0058】これらアルキル基、アリール基及びヘテロ
環基の置換基又はR4で表される置換可能な基としては
一般式〔1〕中の複素環残基の置換基で表したものと同
義であり、置換基が2個以上あるときは異なってもよ
い。
The substituent of the alkyl group, the aryl group and the heterocyclic group or the substitutable group represented by R 4 has the same meaning as that of the substituent of the heterocyclic residue in the general formula [1]. Yes, when there are two or more substituents, they may be different.

【0059】一般式〔1a〕中の好ましい化合物は、
X,Yが窒素原子であり、R5はアニオン基又は解離し
てアニオンになり得る基から選ばれる基を2個以上有す
るアリール基で、特に好ましいアリール基としてはメル
カプトテトラゾール基に対してオルト位にヒドロキシル
基を有するアリール基である。
A preferred compound in the general formula [1a] is
X and Y are nitrogen atoms, and R 5 is an aryl group having two or more groups selected from an anion group or a group capable of dissociating into an anion. Particularly preferred aryl group is ortho-position to mercaptotetrazole group. Is an aryl group having a hydroxyl group.

【0060】M2は水素原子、アルキル金属又は四級ア
ンモニウム基を表し、R4,R5の少なくとも何れか一方
はアニオン基及び解離してアニオンになりうる基から選
ばれる基を有している。
M 2 represents a hydrogen atom, an alkyl metal or a quaternary ammonium group, and at least one of R 4 and R 5 has a group selected from an anion group and a group capable of dissociating into an anion. .

【0061】以下に、一般式〔1〕及び一般式〔1a〕
で表される化合物の具体例を示すが本発明の範囲はこの
化合物に限定されない。
Hereinafter, the general formulas [1] and [1a]
Specific examples of the compound represented by are shown below, but the scope of the present invention is not limited to this compound.

【0062】[0062]

【化15】 Embedded image

【0063】[0063]

【化16】 Embedded image

【0064】[0064]

【化17】 Embedded image

【0065】[0065]

【化18】 Embedded image

【0066】[0066]

【化19】 Embedded image

【0067】一般式〔1〕で表される化合物は公知であ
り、また以下の文献に記載の方法で容易に合成すること
ができる。米国特許2,585,388号、同2,54
1,924号、特公昭42−21842号、特開昭50
−50169号、英国特許1,275,701号、D.
A.バージェス等,“ジャーナル・オブ・ヘテロサイク
リック・ケミストリ”(D.A.Berges et.
al.,Journal of Heterocycl
ic Chemistry),第15巻,981号,
(1978号)、“ザ・ケミストリ・オブ・ヘテロサイ
クリック・コンパウンド”イミダゾール・アンド・デリ
バティブス,パート1(The Chemistry
of Heterocyclic Compound,
Imidazole and Derivatives
part1),336〜339頁、ケミカル・アブス
トラクト(Chemical Abstract),5
8,7921号,(1963年),394頁、E.ホガ
ース,“ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイエティ”
(E.Hoggarth, Journal ofCh
emical Society),1160〜1167
頁,(1949年)、及びS.Rサウドラー,W.カ
ロ,“オルガニック・ファンクショナル・グループ・プ
レパレーション”アカデミックプレス社,(S.R.S
audlerW.Kao Organic Funct
ional Group Preparation),
Academic Press社,312〜315
頁,(1968年)、M.シャムドム等(M.cham
don,et.al.,),“ブルタン・ド・ラ・ソシ
エテ・シミーク・ド・フランス”(Bulletin
de la Societe Chimique de
France),723,(1954)、D.A.シ
ャリー,D.W.アレイ,“ジャーナル・オブ・ザ・ア
メリカン・ケミカル・ソサエティ”,(D.A.Shi
rley D.W.Alley,.Journal o
f American ChemicalSociet
y),79,4922,(1954)、A.ボール,
W.マーチバルト,“ベリッヒテ”(A.Wohl,
W,Marchwaid Ber.),22巻,568
頁,(1889)、“ジャーナル・オブ・ザ・アメリカ
ン・ケミカル・ソサエティ”,(Journal of
American Chemical Societ
y),44,1502〜1510頁、米国特許3,01
7,270号、英国特許940,169号、特公昭49
−8334号、特開昭55−59463号、“アドバン
スド・イン・ヘテロサイクリック・ケミストリ”(Ad
vanced in Heterocyclic Ch
emistry)、***特許第2,716,707号、
“ザ・ケミストリ・オブ・ヘテロサイクリック・コンパ
ウンド、イミダゾール・アンド・デリバティブス”(T
he Chemistry of Heterocyc
lic Compound,Imidazole an
d Derivatives),Vol1,385頁、
“オルガニック・シンセス”(Organic Syn
thesis)IV,569(1963)、“ベリッヒ
テ”(Ber.),9,465(1976)、“ジャー
ナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミカル・ソサエティ”
(Journal ofAmerican Chemi
cal Society),45,2390,(192
3)、特開昭50−89034号、同53−28426
号、同55−21007号、特公昭40−28496
号。
The compound represented by the general formula [1] is known, and can be easily synthesized by the method described in the following literature. U.S. Pat. Nos. 2,585,388 and 2,54
No. 1,924, JP-B-42-21842, JP-A-50
-50169, British Patent 1,275,701, D.C.
A. Burgess et al., "Journal of Heterocyclic Chemistry" (DA Berges et.
al. , Journal of Heterocycll
ic Chemistry), Vol. 15, No. 981,
(1978), "The Chemistry of Heterocyclic Compounds", Imidazole and Derivatives, Part 1 (The Chemistry).
of Heterocyclic Compound,
Imidazole and Derivatives
part 1), pp. 336-339, Chemical Abstract, 5
8, 7921, (1963), p. 394; Hogarth, "Journal of Chemical Society"
(E. Hoggarth, Journal of Ch.
Chemical Society), 1160-1167
P., (1949); R. Saudler, W.C. Caro, “Organic Functional Group Preparation,” Academic Press, Inc. (SRS
audiorW. Kao Organic Funct
ionic Group Preparation),
Academic Press, 312-315
P., (1968); Shamdom et al. (M. cham
don, et. al. ,), "Bulletin de la Societe Simik de France" (Bulletin
de la Society Chimique de
France), 723, (1954); A. Shari, D. W. Aley, "Journal of the American Chemical Society", (DA Shi.
rley D. W. Alley,. Journal o
f American Chemical Society
y), 79, 4922, (1954); ball,
W. Marchch, "Berichte" (A. Wohl,
W, Marchwaid Ber. ), Volume 22, 568
, (1889), "Journal of the American Chemical Society", (Journal of
American Chemical Society
y), 44, 1502-1510, U.S. Pat.
7,270, British Patent 940,169, JP-B-49
-8334, JP-A-55-59463, "Advanced in Heterocyclic Chemistry" (Ad
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No. 55-21007, Japanese Patent Publication No. 40-28496
issue.

【0068】次に、本発明に用いられるハロゲン化銀粒
子について説明する。
Next, the silver halide grains used in the present invention will be described.

【0069】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、
平均アスペクト比が3以上の平板状ハロゲン化銀粒子が
好ましい。更に好ましくは平均アスペクト比が3.0以
上、15.0以下であり、特に3以上、8未満が好まし
い。アスペクト比が低すぎると、高感度、高カバリング
パワーを得るのが困難であり、また、高すぎるとプレッ
シャー、黒化等の耐圧性の劣化が著しくなり好ましくな
い。
The silver halide grains used in the present invention are:
Tabular silver halide grains having an average aspect ratio of 3 or more are preferred. More preferably, the average aspect ratio is 3.0 or more and 15.0 or less, and particularly preferably 3 or more and less than 8. If the aspect ratio is too low, it is difficult to obtain high sensitivity and high covering power, and if the aspect ratio is too high, the pressure resistance such as pressure and blackening is significantly deteriorated, which is not preferable.

【0070】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子はハ
ロゲン化銀として臭化銀、塩化銀、沃臭化銀、塩臭化
銀、沃塩化銀、塩沃臭化銀等を用いることができるが、
臭化銀、沃臭化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀が好ましい。
沃化銀の含有量は、ハロゲン化銀粒子全体での平均沃化
銀含有率として1.0モル%以下が好ましく、0.5モ
ル%以下がより好ましい。更には0.01〜0.5モル
%がより好ましく、0.1〜0.5モル%が更に好まし
い。
In the silver halide grains used in the present invention, silver bromide, silver chloride, silver iodobromide, silver chlorobromide, silver iodochloride, silver chloroiodobromide, etc. can be used as silver halide. ,
Silver bromide, silver iodobromide, silver chlorobromide and silver chloroiodobromide are preferred.
The content of silver iodide is preferably 1.0 mol% or less, more preferably 0.5 mol% or less, as the average silver iodide content in the whole silver halide grains. Furthermore, 0.01 to 0.5 mol% is more preferable, and 0.1 to 0.5 mol% is still more preferable.

【0071】ハロゲン変換量は銀量に対して0.2モル
%〜0.5モル%が好ましく、変換の時期は物理熟成中
でも物理熟成終了後でも良い。
The halogen conversion amount is preferably from 0.2 mol% to 0.5 mol% based on the silver amount, and the conversion may be carried out during physical ripening or after physical ripening.

【0072】ハロゲン化銀粒子は、粒子を形成する過程
及び/又は成長させる過程で、カドミウム塩、亜鉛塩、
鉛塩、タリウム塩、イリジウム塩(錯塩を含む)、ロジ
ウム塩(錯塩を含む)、ルテニウム塩(錯塩を含む)、
オスミニウム塩(錯塩を含む)、及び鉄塩(錯塩を含
む)から選ばれる少なくとも1種を用いて金属イオンを
添加し、粒子内部及び/又は粒子表面にこれらの金属元
素を含有させることが好ましい。
In the process of forming and / or growing the silver halide grains, cadmium salts, zinc salts,
Lead salts, thallium salts, iridium salts (including complex salts), rhodium salts (including complex salts), ruthenium salts (including complex salts),
It is preferable to add a metal ion using at least one selected from an osmium salt (including a complex salt) and an iron salt (including a complex salt), and to include these metal elements inside the particle and / or on the surface of the particle.

【0073】本発明において現像速度を促進するために
脱塩工程前にハロゲン化銀溶剤を添加することも好まし
い。例えば、チオシアン酸化合物(チオシアン酸カリウ
ム、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸アンモニウ
ム等)を銀1モル当たり1×10-3モル以上、3×10
-2モル以下加えることが好ましい。
In the present invention, it is preferable to add a silver halide solvent before the desalting step in order to accelerate the developing speed. For example, a thiocyanate compound (potassium thiocyanate, sodium thiocyanate, ammonium thiocyanate, etc.) is used in an amount of 1 × 10 −3 mol or more and 3 × 10 3 mol or more per mol of silver.
It is preferable to add -2 mol or less.

【0074】本発明において、ハロゲン化銀粒子の保護
コロイド用分散媒としてはゼラチンを用いることが好ま
しく、ゼラチンとしてはアルカリ処理ゼラチン、酸処理
ゼラチン、低分子量ゼラチン(分子量が2万〜10
万)、フタル化ゼラチン等の修飾ゼラチンが用いられ
る。また、これ以外の親水性コロイドも使用できる。具
体的にはリサーチ・ディスクロージャー誌(Resea
rch Disclosure.以下RDと略す)第1
76巻No.17643(1978年12月)の項に記
載されているものが挙げられる。ゼラチン量としては感
光材料片面当たりの全親水性コロイド層のゼラチン量が
1.0〜2.5g/m2である。
In the present invention, gelatin is preferably used as a dispersion medium for the protective colloid of the silver halide grains. As the gelatin, alkali-treated gelatin, acid-treated gelatin, low-molecular-weight gelatin (having a molecular weight of 20,000 to 10
And modified gelatin such as phthalated gelatin. Other hydrophilic colloids can also be used. Specifically, Research Disclosure Magazine (Resea
rc Disclosure. RD)
76 volume No. 17643 (December 1978). As for the amount of gelatin, the amount of gelatin in the entire hydrophilic colloid layer per one surface of the photosensitive material is 1.0 to 2.5 g / m 2 .

【0075】本発明において、ハロゲン化銀粒子の成長
時に不要な可溶性塩類を除去してもよいし、或いは含有
させたままでもよい。該塩類を除去する場合にはRD第
176巻No.17643のII項に記載の方法に基づい
て行うことができる。
In the present invention, unnecessary soluble salts may be removed during the growth of silver halide grains, or they may be kept contained. When removing the salts, see RD Vol. It can be carried out based on the method described in 17643, Section II.

【0076】本発明のハロゲン化銀粒子は化学増感を施
すことができる。化学熟成即ち化学増感の工程の条件、
例えばpH、pAg、温度、時間等については特に制限
がなく、当業界で一般に行われている条件で行うことが
できる。化学増感のためには銀イオンと反応しうる硫黄
を含む化合物や活性ゼラチンを用いる硫黄増感法、セレ
ン化合物を用いるセレン増感法、テルル化合物を用いる
テルル増感法、還元性物質を用いる還元増感法、金その
他、貴金属を用いる貴金属増感法等を単独又は組み合わ
せて用いることができ、なかでもセレン増感法、テルル
増感法、還元増感法等が好ましく用いられる。
The silver halide grains of the present invention can be subjected to chemical sensitization. The conditions of the process of chemical ripening or chemical sensitization,
For example, the pH, pAg, temperature, time and the like are not particularly limited, and the reaction can be performed under conditions generally performed in the art. For chemical sensitization, sulfur sensitization using a compound containing sulfur that can react with silver ions or active gelatin, selenium sensitization using a selenium compound, tellurium sensitization using a tellurium compound, using a reducing substance A reduction sensitization method, gold or a noble metal sensitization method using a noble metal or the like can be used alone or in combination. Among them, a selenium sensitization method, a tellurium sensitization method, a reduction sensitization method, etc. are preferably used.

【0077】本発明の実施に際して用いられるハロゲン
化銀乳剤は、シアニン色素類その他によって分光増感さ
れてもよい。増感色素は単独に用いてもよいが、それら
の組み合わせを用いてもよく、増感色素の組み合わせは
特に強色増感の目的でしばしば用いられる。
The silver halide emulsion used in the practice of the present invention may be spectrally sensitized with a cyanine dye or the like. The sensitizing dye may be used alone, or a combination thereof may be used. The combination of sensitizing dyes is often used particularly for supersensitization.

【0078】本発明のハロゲン化銀乳剤による感光材料
は、乳剤の物理熟成又は化学熟成前後の工程で、各種の
写真用添加剤を用いることができる。
In the light-sensitive material using the silver halide emulsion of the present invention, various photographic additives can be used before and after physical ripening or chemical ripening of the emulsion.

【0079】このような工程で使用できる化合物として
は例えば、リサーチ・ディスクロージャー(RD)17
643号、(RD)18716号(1979年11月)
及び(RD)308119号(1989年12月)に記
載されている各種の化合物が挙げられる。これら3つの
(RD)に記載されている化合物の種類と記載箇所を下
記に掲載した。
Compounds that can be used in such a step include, for example, Research Disclosure (RD) 17
No. 643, (RD) 18716 (November 1979)
And (RD) 308119 (December 1989). The types and locations of the compounds described in these three (RD) are described below.

【0080】[0080]

【表1】 [Table 1]

【0081】本発明の感光材料に用いられる支持体とし
ては、上記のRDに記載されているものが挙げられる
が、適当な支持体としてはポリエチレンテレフタレート
フィルムなどで、支持体表面は塗布層の接着性をよくす
るために下引き層を設けたり、コロナ放電や紫外線照射
などが施されてもよい。そして、このように処理された
支持体上の両面に本発明に係る構成層を塗布することが
できる。なお本発明の感光材料には必要に応じて、アン
チハレーション層、中間層、フィルター層、裏引き層な
どを設けることができる。
As the support used in the light-sensitive material of the present invention, those described in the above-mentioned RD can be mentioned. A suitable support is a polyethylene terephthalate film or the like, and the surface of the support is an adhesive of a coating layer. In order to improve the properties, an undercoat layer may be provided, or corona discharge or ultraviolet irradiation may be applied. Then, the constituent layer according to the present invention can be applied to both surfaces of the support thus treated. The light-sensitive material of the present invention may be provided with an antihalation layer, an intermediate layer, a filter layer, a backing layer, and the like, if necessary.

【0082】本発明の感光材料において、ハロゲン化銀
乳剤層その他の親水性コロイド層は種々の塗布法により
支持体上又は他の層上に塗布できる。塗布には、ディッ
プ塗布法、ローラー塗布法、カーテン塗布法、押しだし
塗布法、スライド・ホッパー法などを用いることができ
る。詳しくは、リサーチ・ディスクロージャー、第17
6巻、P.27−28の「Coating proce
dures」の項に記載されている方法を用いうる。
In the light-sensitive material of the present invention, a silver halide emulsion layer and other hydrophilic colloid layers can be coated on a support or other layers by various coating methods. For the coating, a dip coating method, a roller coating method, a curtain coating method, an extrusion coating method, a slide hopper method, or the like can be used. See Research Disclosure, Chapter 17
6, p. 27-28 "Coating process"
dures "section.

【0083】本発明の感光材料において、ホスファゼン
化合物又は本発明の一般式〔1〕で表される化合物が含
有される非感光性層は乳剤層より上層にあることが好ま
しく、更には支持体からみて最外層がより好ましい。
In the light-sensitive material of the present invention, the non-light-sensitive layer containing the phosphazene compound or the compound represented by the general formula [1] of the present invention is preferably provided above the emulsion layer, and furthermore from the support. Thus, the outermost layer is more preferable.

【0084】本発明において、写真感光材料の処理は、
例えば前出RD−17643号、RD−308119号
に記載されているような処理液による処理がなされてよ
い。
In the present invention, the processing of the photographic light-sensitive material comprises:
For example, treatment with a treatment liquid as described in RD-17643 and RD-308119 described above may be performed.

【0085】現像液としては一般に用いられる組成のも
のを用いることができる。現像液中の現像剤としては、
ジヒドロキシベンゼン類、3−ピラゾリドン類を単独、
若しくは組み合わせて用いることができる。また、本発
明で用いられる現像液には、実質的にジヒドロキシベン
ゼン類を含まなくともよい。更に、現像液中には必要に
応じて、公知の以下のような添加剤を用いることができ
る。即ち、保恒剤、アルカリ剤、pH緩衝剤、カブリ防
止剤、硬膜剤、増感剤、キレート剤、現像促進剤、界面
活性剤、消泡剤、色調剤、溶解助剤、粘性付与剤などで
ある。現像液のpHは8.5〜12.0に調整されるこ
とが好ましく、更に9.0〜10.9に調整されること
が特に好ましい。
As the developer, those having a commonly used composition can be used. As the developer in the developer,
Dihydroxybenzenes and 3-pyrazolidones alone,
Alternatively, they can be used in combination. The developer used in the present invention may not substantially contain dihydroxybenzenes. Further, the following known additives can be used in the developer, if necessary. That is, preservatives, alkaline agents, pH buffers, antifoggants, hardeners, sensitizers, chelating agents, development accelerators, surfactants, defoamers, colorants, dissolution aids, viscosity-imparting agents And so on. The pH of the developer is preferably adjusted to 8.5 to 12.0, and more preferably adjusted to 9.0 to 10.9.

【0086】定着液としては一般に用いられる組成のも
のを用いることができる。定着液は一般に定着剤とその
他の成分から成る水溶液であり、pHは通常3.8〜
5.8が好ましい。定着剤としては一般に定着剤として
知られているものを用いることができる。定着液には必
要に応じて硬膜剤、保恒剤、pH緩衝剤、pH調整剤、
キレート剤等の化合物を添加することができる。
As the fixing solution, those having a commonly used composition can be used. The fixing solution is generally an aqueous solution comprising a fixing agent and other components, and has a pH of usually 3.8 to 3.8.
5.8 is preferred. As the fixing agent, those generally known as fixing agents can be used. The fixer contains a hardener, a preservative, a pH buffer, a pH adjuster,
Compounds such as chelating agents can be added.

【0087】現像液や定着液、更にその他の処理液(安
定化液など)等の母液及び補充液としては、使用液或い
は濃縮液を直前に希釈したものを供給するのが普通であ
る。母液や補充液のストックは使用液或いは濃縮液、粘
度の高い半練り状態の粘稠液体の形でもよいし、固体成
分の単体や混合物を使用時に溶解する方法でもよい。混
合物を用いる場合、互いに反応しにくい成分を隣接させ
て層状にパッキングした上で真空包装したものを使用時
に開封して溶解する方式や、錠剤成形する方式を用いる
ことができる。
As a mother liquor and a replenisher such as a developing solution, a fixing solution, and other processing solutions (such as a stabilizing solution), it is usual to supply a use solution or a concentrated solution diluted immediately before. The stock of the mother liquor and the replenisher may be in the form of a working solution, a concentrated solution, a viscous liquid in a semi-kneaded state having a high viscosity, or a method of dissolving a simple substance or a mixture of solid components at the time of use. When a mixture is used, a method in which components that are difficult to react with each other are adjacently packed in layers and then vacuum-packaged, and then opened and dissolved at the time of use, or a method of tableting can be used.

【0088】現像処理に関しては、現像温度を20〜5
0℃の通常の温度範囲に設定することができる。本発明
の写真感光材料は自動現像機を用いて処理されることが
好ましい。その際に写真感光材料の面積に比例した一定
量の現像液及び定着液を補充しながら処理される。その
現像補充量及び定着補充量は、廃液量を少なくするため
に1m2当たり330ml以下が好ましく、より好まし
くは1m2当たり現像補充量20〜200mlであり、
定着補充量20〜200mlである。
Regarding the development processing, the development temperature is set to 20 to 5
It can be set to the normal temperature range of 0 ° C. The photographic material of the present invention is preferably processed using an automatic processor. At this time, processing is performed while replenishing a fixed amount of a developing solution and a fixing solution in proportion to the area of the photographic light-sensitive material. The development replenishment amount and the fixing replenishment amount are preferably 330 ml or less per 1 m 2 in order to reduce the waste liquid amount, and more preferably the development replenishment amount is 20 to 200 ml per 1 m 2 .
The fixing replenishment amount is 20 to 200 ml.

【0089】本発明は現像時間短縮の要望から自動現像
機を用いて処理するときにフィルム先端が自動現像機に
挿入されてから乾燥ゾーンから出てくるまでの全処理時
間(Dry to Dry)が60秒以下であることが
好ましく、10〜40秒であることがより好ましい。こ
こでいう全処理時間とは写真感光材料を処理するのに必
要な全工程時間を含み、具体的には処理に必要な、例え
ば現像、定着、漂白、水洗、安定化処理、乾燥等の工程
の時間を全て含んだ時間、つまりDry toDryの
時間である。全処理時間が10秒未満では減感、軟調化
等で満足な写真性能が得られない。更に好ましくは全処
理時間(Dry to Dry)が20〜40秒であ
る。
According to the present invention, the total processing time (Dry to Dry) from the insertion of the leading end of the film to the automatic developing machine until it comes out of the drying zone when processing using the automatic developing machine due to the demand for shortening the developing time is reduced. It is preferably 60 seconds or less, and more preferably 10 to 40 seconds. The term "total processing time" as used herein includes the total process time required for processing a photographic light-sensitive material, and specifically, for example, steps such as development, fixing, bleaching, washing, stabilizing processing, and drying required for processing. Is a time including all of the time, that is, a time of Dry to Dry. If the total processing time is less than 10 seconds, satisfactory photographic performance cannot be obtained due to desensitization and softening. More preferably, the total processing time (Dry to Dry) is 20 to 40 seconds.

【0090】[0090]

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
EXAMPLES The present invention will be described below in detail with reference to examples, but embodiments of the present invention are not limited thereto.

【0091】実施例1 〈種乳剤−1の調製〉以下の方法により種乳剤−1を調
製した。
Example 1 <Preparation of seed emulsion-1> Seed emulsion-1 was prepared by the following method.

【0092】 〔A1〕 オセインゼラチン 24.2g 蒸留水 9657ml ポリプロピレンオキシ−ポリエチレンオキシ−ジサクシネートナトリウム塩 (10%メタノール水溶液) 6.78ml 臭化カリウム 10.8g 10%硝酸 114ml 〔B1〕 2.5N AgNO3水溶液 2825ml 〔C1〕 臭化カリウム 841g 水で 2825mlに仕上げる 〔D1〕 1.75N KBr水溶液 下記銀電位制御量 42℃で特公昭58−58288号、同58−5828
9号明細書に示される混合攪拌機を用いて溶液A1に溶
液B1及び溶液C1の各々464.3mlを同時混合法に
より1.5分を要して添加し、核形成を行った。
[A 1 ] Ossein gelatin 24.2 g Distilled water 9657 ml Polypropylene oxy-polyethylene oxy-disuccinate sodium salt (10% aqueous methanol solution) 6.78 ml Potassium bromide 10.8 g 10% nitric acid 114 ml [B 1 ] 2.5N AgNO 3 aqueous solution 2825 ml [C 1 ] Potassium bromide 841 g Finished to 2825 ml with water [D 1 ] 1.75 N KBr aqueous solution The following silver potential control amount: 42 ° C, JP-B-58-58288, 58-5828
Using a mixing stirrer described in the specification of No. 9, 464.3 ml of each of the solution B 1 and the solution C 1 was added to the solution A 1 by a simultaneous mixing method over 1.5 minutes to form nuclei.

【0093】溶液B1及び溶液C1の添加を停止した後、
40分の時間を要して溶液A1の温度を50℃に上昇さ
せ、3%KOHでpHを5.0に合わせた後、再び溶液
1と溶液C1を同時混合法により、各々55.4ml/
minの流量で42分間添加した。この42℃から50
℃への昇温及び溶液B1、C1による再同時混合の間の銀
電位(飽和銀−塩化銀電極を比較電極として銀イオン選
択電極で測定)を溶液D1を用いてそれぞれ+8mV及
び+16mVになるよう制御した。
After stopping the addition of the solution B 1 and the solution C 1 ,
Over a period of 40 minutes of time to raise the temperature of the solution A 1 to 50 ° C., after adjusting the pH to 5.0 with 3% KOH, the solution again B 1 and solution C 1 simultaneous mixing method, each 55 0.4 ml /
Min was added at a flow rate of 42 minutes. From this 42 ° C to 50
The silver potential (measured with a silver ion selective electrode using a saturated silver-silver chloride electrode as a reference electrode) during the temperature rise to 0 ° C. and re-mixing with the solutions B 1 and C 1 was +8 mV and +16 mV, respectively, using the solution D 1. It controlled so that it might become.

【0094】添加終了後3%KOHによってpHを6に
合わせ直ちに脱塩、水洗を行った。この種乳剤はハロゲ
ン化銀粒子の全投影面積の90%以上が最大隣接辺比が
1.0〜2.0の六角平板状粒子よりなり、六角平板状
粒子の平均厚さは0.045μm、平均粒径(円直径換
算)は0.42μmであることを電子顕微鏡により確認
した。また、厚さの変動係数は42%、双晶面間距離の
変動係数は45%であった。
After the addition was completed, the pH was adjusted to 6 with 3% KOH, and immediately, desalting and washing were performed. In this seed emulsion, 90% or more of the total projected area of the silver halide grains is composed of hexagonal tabular grains having a maximum adjacent side ratio of 1.0 to 2.0, and the average thickness of the hexagonal tabular grains is 0.045 μm. It was confirmed by an electron microscope that the average particle size (circular diameter conversion) was 0.42 μm. The variation coefficient of the thickness was 42%, and the variation coefficient of the distance between twin planes was 45%.

【0095】〈平板状臭化銀乳剤の調製〉種乳剤−1と
以下に示す3種の溶液を用い、平板状純臭化銀乳剤を調
製した。
<Preparation of Tabular Silver Bromide Emulsion> A tabular pure silver bromide emulsion was prepared using Seed Emulsion-1 and the following three kinds of solutions.

【0096】 〔A2〕 オセインゼラチン 34.03g ポリプロピレンオキシ−ポリエチレンオキシ−ジサクシネートナトリウム塩 (10%メタノール水溶液) 2.25ml 種乳剤−1 1.218モル相当 水で 3669mlに仕上げる 〔B2〕 臭化カリウム 1747g 水で 3669mlに仕上げる 〔C2〕 硝酸銀 2493g 水で 4193mlに仕上げる 反応容器内で溶液A2を50℃に保ちながら激しく攪拌
し、そこに溶液B2と溶液C2の全量を100分かけて同
時混合法にて添加した。この間、pHはKOH液により
9.0に保ち、pAgは8.6に終始保った。ここで溶
液B2と溶液C2の添加速度は臨界成長速度に見合ったよ
うに時間に対して関数的に変化させた。則ち、成長して
いる種粒子以外は小粒子の発生がないように、また、オ
ストワルド熟成により多成分化しないように適切な添加
速度で添加した。
[A 2 ] Ossein gelatin 34.03 g Polypropylene oxy-polyethylene oxy-disuccinate sodium salt (10% aqueous methanol solution) 2.25 ml Seed emulsion-1 1.218 mol equivalent Equivalent to 3669 ml with water [B 2 1747 g of potassium bromide Finish to 3669 ml with water [C 2 ] 2493 g of silver nitrate Finish to 4193 ml with water In a reaction vessel, stir vigorously while keeping solution A 2 at 50 ° C., and add the total amount of solution B 2 and solution C 2 there. It was added by a double jet method over 100 minutes. During this time, the pH was kept at 9.0 with the KOH solution, and the pAg was kept at 8.6 throughout. Here, the addition rates of the solution B 2 and the solution C 2 were changed functionally with respect to time so as to match the critical growth rate. That is, they were added at an appropriate addition rate so that no small particles were generated except for the seed particles that were growing, and that they did not become multicomponent due to Ostwald ripening.

【0097】添加終了時後、この乳剤を40℃に冷却
し、凝集高分子剤としてフェニルカルバモイル基で変性
された(置換率90%)変性ゼラチン13.8%(重
量)の水溶液1800mlを添加し3分間攪拌した。そ
の後、酢酸56%(重量)水溶液を添加して乳剤のpH
を4.6に調整し3分間攪拌した後、20分間静置させ
デカンテーションにより上澄み液を排水し更に蒸留水1
1.25lを加え、攪拌静置後、上澄み液を排水した。
After completion of the addition, the emulsion was cooled to 40 ° C., and 1800 ml of an aqueous solution of 13.8% (by weight) of modified gelatin modified with a phenylcarbamoyl group (substitution rate: 90%) was added as an aggregating polymer. Stir for 3 minutes. Thereafter, a 56% (by weight) aqueous solution of acetic acid is added to adjust the pH of the emulsion.
Was adjusted to 4.6 and stirred for 3 minutes, allowed to stand for 20 minutes, and the supernatant was drained by decantation.
1.25 l was added, and after stirring and standing, the supernatant was drained.

【0098】続いてゼラチン水溶液と炭酸ナトリウム1
0%(重量)水溶液を加えてpHが5.80になるよう
に調整し、50℃で30分間攪拌し再分散した。再分散
後、40℃にてpHを5.80、pAgを8.06に調
整した。
Subsequently, an aqueous solution of gelatin and sodium carbonate 1
A 0% (by weight) aqueous solution was added to adjust the pH to 5.80, followed by stirring at 50 ° C. for 30 minutes to redisperse. After redispersion, the pH was adjusted to 5.80 and the pAg to 8.06 at 40 ° C.

【0099】得られたハロゲン化銀乳剤を電子顕微鏡に
て観察したところ、平均粒径0.84μm、平均厚さ
0.16μm、平均アスペクト比約5.3、粒径分布の
広さ20%の平板状ハロゲン化銀粒子であった。また物
理熟成終了時のゼラチン量はハロゲン化銀1モル当たり
15.9gであった。
When the obtained silver halide emulsion was observed with an electron microscope, it was found that the average grain size was 0.84 μm, the average thickness was 0.16 μm, the average aspect ratio was about 5.3, and the grain size distribution was 20%. Tabular silver halide grains were obtained. The amount of gelatin at the end of physical ripening was 15.9 g per mol of silver halide.

【0100】上記で調製した乳剤を55℃にした後、ハ
ロゲン化銀1モル当たり下記分光増感色素(A)450
mg、分光増感色素(B)45mgを添加し、更に4−
ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザ
インデン100mgを添加した。その後10分して、塩
化金酸を3.5mg、チオ硫酸ナトリウムを10mg、
チオシアン酸アンモニウム100mgを添加した。更に
40分後に下記記載の沃化銀微粒子を0.3モル添加
し、更に10分後にトリフェニルホスフィンセレナイド
5mgを添加し、更に40分後に4−ヒドロキシ−6−
メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン500m
gを添加し、5分後にトリメチロールプロパン13g、
ゼラチン30gを添加してから、急速冷却し、乳剤をゲ
ル化して化学増感を終了した。
After the emulsion prepared above was heated to 55 ° C., the following spectral sensitizing dye (A) 450 per mole of silver halide was used.
mg, and 45 mg of the spectral sensitizing dye (B).
100 mg of hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene were added. After 10 minutes, 3.5 mg of chloroauric acid, 10 mg of sodium thiosulfate,
100 mg of ammonium thiocyanate were added. After a further 40 minutes, 0.3 mol of the following silver iodide fine grains were added. After a further 10 minutes, 5 mg of triphenylphosphine selenide was added.
Methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene 500m
g, and after 5 minutes, 13 g of trimethylolpropane,
After adding 30 g of gelatin, the emulsion was rapidly cooled and the emulsion was gelled to complete the chemical sensitization.

【0101】 〈沃化銀微粒子の調製〉 〔A3〕 オセインゼラチン 100g KI 8.5g 蒸留水で 2000mlにする 〔B3〕 AgNO3 360g 蒸留水で 605mlにする 〔C3〕 KI 352g 蒸留水で 605mlにする 反応容器に溶液A3を加え、40℃に保ち攪拌しなが
ら、溶液B3及び溶液C3を同時混合法により30分を要
して定速で添加した。添加中のpAgは常法のpAg制
御手段で13.5に保った。生成した沃化銀は平均粒径
0.06μmのβ−AgIとγ−AgIの混合物であっ
た。この乳剤を沃化銀微粒子乳剤という。
<Preparation of Silver Iodide Fine Particles> [A 3 ] Ossein gelatin 100 g KI 8.5 g Make up to 2000 ml with distilled water [B 3 ] AgNO 3 360 g Make up to 605 ml with distilled water [C 3 ] KI 352 g distilled water The solution A 3 was added to the reaction vessel, and the solution B 3 and the solution C 3 were added at a constant speed by a simultaneous mixing method over 30 minutes while stirring at 40 ° C. The pAg during the addition was kept at 13.5 by a conventional pAg control means. The formed silver iodide was a mixture of β-AgI and γ-AgI having an average grain size of 0.06 μm. This emulsion is called a silver iodide fine grain emulsion.

【0102】(分光増感色素) 増感色素(A):5,5′−ジ−クロロ−9−エチル−
3,3′−ジ−(3−スルホプロピル)オキサカルボシ
アニンナトリウム塩の無水物 増感色素(B):5,5′−ジ−(ブトキシカルボニ
ル)−1,1′−ジエチル−3,3′−ジ−(4−スル
ホブチル)ベンゾイミダゾロカルボシアニンナトリウム
塩の無水物 〈下引済み支持体の作製〉175μmで濃度0.17に
青色着色したポリエチレンテレフタレート(PET)ベ
ースの両側に8Wmin/m2のコロナ放電処理をした
後、下記の下引下層を両側に塗布し、110℃で1分間
乾燥した。その後、同様なコロナ放電処理を再び行った
後、下記の下引上層塗布液を両側に塗布し、100℃で
1分間乾燥して下引済み支持体を得た。
(Spectral sensitizing dye) Sensitizing dye (A): 5,5'-di-chloro-9-ethyl-
Anhydride of sodium 3,3'-di- (3-sulfopropyl) oxacarbocyanine Sensitizing dye (B): 5,5'-di- (butoxycarbonyl) -1,1'-diethyl-3,3 Anhydrous sodium salt of '-di- (4-sulfobutyl) benzimidazolocarbocyanine <Preparation of subbed support> 8 Wmin / m on both sides of polyethylene terephthalate (PET) base which is 175 µm and has a blue color of 0.17 at a concentration of 0.17 After the corona discharge treatment of No. 2 , the following undercoat layer was applied to both sides and dried at 110 ° C. for 1 minute. Then, after performing the same corona discharge treatment again, the following undercoating upper layer coating solution was applied to both sides and dried at 100 ° C. for 1 minute to obtain a subbed support.

【0103】 (下引下層) ラテックス1: n−ブチルアクリレート(40wt%), スチレン(20wt%),グリシジルメタクリレート(40wt%) Tg=20℃ 200mg/m2 ラテックス2: n−ブチルアクリレート(10wt%), t−ブチルアクリレート(35wt%),スチレン(27wt%), ヒドロキシエチルメタクリレート(28wt%) Tg=60℃ 50mg/m2 化合物A 5.0mg/m2 ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 5.0mg/m2 SnO2(固形分付量)(*) 300mg/m2 *SnO2ゾル溶液を用いてシリカガラス上に薄膜を形成し、4端子法で体積 固有抵抗を測定したところ3.3×104Ωcmであった。(Undercoat lower layer) Latex 1: n-butyl acrylate (40 wt%), styrene (20 wt%), glycidyl methacrylate (40 wt%) Tg = 20 ° C. 200 mg / m 2 Latex 2: n-butyl acrylate (10 wt%) ), T-butyl acrylate (35 wt%), styrene (27 wt%), hydroxyethyl methacrylate (28 wt%) Tg = 60 ° C. 50 mg / m 2 Compound A 5.0 mg / m 2 hexamethylene-1,6-bis (ethylene Urea) 5.0 mg / m 2 SnO 2 (solid content) (*) A thin film was formed on silica glass using a 300 mg / m 2 * SnO 2 sol solution, and the volume resistivity was measured by a four-terminal method. However, it was 3.3 × 10 4 Ωcm.

【0104】 (下引上層) ラテックス2 15mg/m2 化合物L−1 30mg/m2 化合物A 5.0mg/m2 酢酸 2.0mg/m2 平均粒径3μmのシリカ 3.0mg/m2 化合物S 5.0mg/m (Lower upper layer) Latex 2 15 mg / m 2 Compound L-1 30 mg / m 2 Compound A 5.0 mg / m 2 Acetic acid 2.0 mg / m 2 Silica having an average particle diameter of 3 μm 3.0 mg / m 2 compound S 5.0 mg / m 2

【0105】[0105]

【化20】 Embedded image

【0106】〈感光材料の作成〉上記で得られた下引済
み支持体の両面に、支持体からみて、第1層目に染料
層、第2層目にハロゲン化銀乳剤層、第3層目に保護層
を同時塗布し、感光材料を作成した。以下の塗布量は片
面当たりの量である。
<Preparation of a light-sensitive material> On both sides of the undercoated support obtained above, a dye layer as a first layer, a silver halide emulsion layer as a second layer, and a third layer as viewed from the support. A protective layer was simultaneously applied to the eyes to prepare a photosensitive material. The following coating amounts are amounts per one side.

【0107】 (第1層) フィルター染料 30mg/m2 ソジウム−i−アミル−n−デシルスルホサクシネート 2.5mg/m2 ラテックス1 70mg/m2 ゼラチン 0.25g/m2 (First Layer) Filter Dye 30 mg / m 2 Sodium-i-amyl-n-decylsulfosuccinate 2.5 mg / m 2 Latex 170 mg / m 2 Gelatin 0.25 g / m 2

【0108】[0108]

【化21】 Embedded image

【0109】(第2層)乳剤に加えた添加剤は次のとお
りである。下記の添加量はハロゲン化銀1モル当たりの
量で示す。
(Second Layer) The additives added to the emulsion are as follows. The following addition amounts are shown per mole of silver halide.

【0110】 1,1−ジメチロール−1−ブロム−1−ニトロメタン 70mg ポリビニルピロリドン(分子量10,000) 1.0g スチレン−無水マレイン酸共重合体 2.5g ニトロフェニル−トリフェニルホスホニウムクロリド 50mg C49OCH2CH(OH)CH2N(CH2COOH)2 1.0g デキストラン 表2に記載の量 デキストリン 表2に記載の量 ラテックス1 32g1,1-Dimethylol-1-bromo-1-nitromethane 70 mg Polyvinylpyrrolidone (molecular weight 10,000) 1.0 g Styrene-maleic anhydride copolymer 2.5 g Nitrophenyl-triphenylphosphonium chloride 50 mg C 4 H 9 OCH 2 CH (OH) CH 2 N (CH 2 COOH) 2 1.0 g Dextran Amount shown in Table 2 Dextrin Amount shown in Table 2 Latex 1 32 g

【0111】[0111]

【化22】 Embedded image

【0112】ゼラチン量は1.2g/m2、銀量は1.
4g/m2となるように塗布した。
The amount of gelatin was 1.2 g / m 2 , and the amount of silver was 1.
Coating was performed so as to be 4 g / m 2 .

【0113】(第3層)次に保護層用塗布液として下記
を調製し、ゼラチン量0.7g/m2となるように塗布
した。添加剤は塗布液1リットル当たりの量で示す。
(Third Layer) Next, the following was prepared as a coating solution for a protective layer, and coated so that the amount of gelatin was 0.7 g / m 2 . Additives are shown in amounts per liter of coating solution.

【0114】 石灰処理イナートゼラチン 68g 酸処理ゼラチン 2.0g ソジウム−i−アミル−n−デシルスルホサクシネート 1.0g ポリメチルメタクリレート(面積平均粒径3.5μmのマット剤) 1.1g 二酸化ケイ素粒子(面積平均粒径1.2μmのマット剤) 0.5g (CH2=CHSO2CH22(硬膜剤) 500mg C49SO3K 2.0mgLime-treated inert gelatin 68 g Acid-treated gelatin 2.0 g Sodium-i-amyl-n-decylsulfosuccinate 1.0 g Polymethyl methacrylate (a matting agent having an area average particle size of 3.5 μm) 1.1 g Silicon dioxide particles (Mat agent having an area average particle size of 1.2 μm) 0.5 g (CH 2 CHCHSO 2 CH 2 ) 2 (hardener) 500 mg C 4 F 9 SO 3 K 2.0 mg

【0115】[0115]

【化23】 Embedded image

【0116】尚、本発明のホスファゼン化合物及び比較
化合物1,2は、表2に記載の添加層に、表2に記載の
添加量で添加した。
The phosphazene compound of the present invention and the comparative compounds 1 and 2 were added to the addition layers shown in Table 2 in the amounts shown in Table 2.

【0117】得られた感光材料・試料について下記特性
を評価した。
The following characteristics were evaluated for the obtained light-sensitive materials and samples.

【0118】〈感度の評価〉得られた試料を蛍光増感紙
SRO−250(コニカ〔株〕製)で挟み、管電圧90
kVp、20mAで0.05秒のX線を照射し、距離法
にてセンシトメトリーカーブを作成し、感度を求めた。
感度はカブリ+1.0の濃度を得るに必要なX線量の逆
数として求め、試料No.1の感度を100とした場合
の相対感度で示した。なお現像処理は後記の方法で行っ
た。
<Evaluation of Sensitivity> The obtained sample was sandwiched between fluorescent intensifying screens SRO-250 (manufactured by Konica Corporation), and a tube voltage of 90 was used.
X-rays were irradiated at kVp, 20 mA for 0.05 seconds, a sensitometric curve was created by the distance method, and the sensitivity was determined.
The sensitivity was determined as the reciprocal of the X-ray dose required to obtain a density of fog + 1.0. The relative sensitivity is shown assuming that the sensitivity of 1 is 100. The development was performed by the method described below.

【0119】〈カバリングパワーの評価〉試料に最高濃
度となるような露光を与えた後、後記の現像条件で現像
処理した。得られた試料を蛍光X線分析法により銀量
(mg/dm2)を測定し、下記の式によりカバリング
パワーを求めた。値が大きいほどカバリングパワーが優
れることを表す。
<Evaluation of Covering Power> After the sample was exposed so as to have the highest density, it was developed under the following developing conditions. The amount of silver (mg / dm 2 ) of the obtained sample was measured by X-ray fluorescence analysis, and the covering power was determined by the following equation. The larger the value, the better the covering power.

【0120】カバリングパワー={(Dmax−ベース
濃度)/銀量}×1000 但し、銀量:mg/dm2 〈銀スラッジ評価〉下記の現像使用液を1Lずつビーカ
ーに分け、その液を試料数と同数準備した。その現像液
の1つを撹拌しながら、明るみでフィルム試料No.1
を7.7m2相当、1枚につき10秒ずつ浸漬した(浸
漬後のフィルムは廃棄した)。処理した現像液を室温で
5日間放置した後、ビーカーの壁面や底に付いている銀
スラッジ(銀汚れ)を、目視で下記の5段階で評価し
た。また、試料No.2以降も同様の処理、評価を行っ
た。
Covering power = {(Dmax-base density) / silver amount} × 1000 where silver amount: mg / dm 2 <Evaluation of silver sludge> The following developing solution was divided into beakers by 1 L, and the solution was used as a sample. The same number was prepared. While stirring one of the developing solutions, the film sample No. 1
Was immersed for 7.7 m 2 per sheet for 10 seconds (the film after immersion was discarded). After leaving the treated developer at room temperature for 5 days, silver sludge (silver stain) on the wall and bottom of the beaker was visually evaluated according to the following five grades. In addition, the sample No. The same processing and evaluation were performed for the second and subsequent parts.

【0121】なお、一部の試料は、上記現像使用液にホ
スファゼン化合物L−18を表2記載の量添加した後処
理した。
Some of the samples were processed after adding the phosphazene compound L-18 in the amount shown in Table 2 to the above-mentioned developing solution.

【0122】評価ランク 5:銀スラッジは皆無である 4:底に銀スラッジがごく僅かにある 3:底に銀スラッジはあるが、実用上問題ない範囲であ
る 2:底や壁面に銀スラッジが発生し、実用上問題である 1:底や壁面に銀スラッジが多量に発生し、明らかに実
用不可である。
Evaluation Rank 5: No silver sludge 4: Very little silver sludge at bottom 3: Silver sludge at bottom but within practically acceptable range 2: Silver sludge at bottom and wall This is a practical problem. 1: A large amount of silver sludge is generated on the bottom and the wall surface, which is obviously impractical.

【0123】〈現像処理〉現像処理は自動現像機SRX
−502(コニカ(株)製)をラインスピード1.8倍
に改造し、下記処方の現像液、定着液を用いて処理し
た。
<Developing process> The developing process is performed by an automatic developing machine SRX.
-502 (manufactured by Konica Corporation) was remodeled to 1.8 times the line speed, and processed using a developing solution and a fixing solution having the following formulations.

【0124】 (現像液処方) Part−A(12リットル仕上げ用) 水酸化物カリウム 450g 亜硫酸カリウム(50%溶液) 2280g ジエチレンテトラアミン5酢酸 120g 炭酸水素ナトリウム 132g 5−メチルベンゾトリアゾール 1.2g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.2g 1,4−ジヒドロキシベンゼン 340g 水を加えて 5000mlに仕上げる Part−B(12リットル仕上げ用) 氷酢酸 170g トリエチレングリコール 185g 1−フェニル−3−ピラゾリドン 22g 5−ニトロインダゾール 0.4g スターター液処方(1リットル仕上げ用) 氷酢酸 120g 臭化カリウム 225g 水を加えて 1000mlに仕上げる (定着液処方) Part−A(18リットル仕上げ用) チオ硫酸アンモニウム(70wt/vol%) 6000g 亜硫酸ナトリウム 110g 酢酸ナトリウム・3水塩 450g クエン酸ナトリウム 50g グルコン酸 70g 1−(N,N−ジメチルアミノ)−エチル−5−メルカプトテトラゾール 18g Part−B 硫酸アルミニウム 800g (現像液の調製)現像液の調製は、水約5リットルにP
art−A、Part−Bを同時添加し、攪拌溶解しな
がら水を加え12リットルに仕上げ、氷酢酸でpHを1
0.40に調整し、現像液とした。
(Developer Formulation) Part-A (for finishing 12 liters) Potassium hydroxide 450 g Potassium sulfite (50% solution) 2280 g Diethylenetetraamine pentaacetic acid 120 g Sodium bicarbonate 132 g 5-methylbenzotriazole 1.2 g 1- Phenyl-5-mercaptotetrazole 0.2 g 1,4-dihydroxybenzene 340 g Add water to make 5000 ml. Part-B (for finishing 12 liters) Glacial acetic acid 170 g Triethylene glycol 185 g 1-phenyl-3-pyrazolidone 22 g 5-nitro Indazole 0.4g Starter solution formulation (for 1 liter finishing) Glacial acetic acid 120g Potassium bromide 225g Add water to make up to 1000ml (Fixing solution formulation) Part-A (for 18 liter finishing) Thio Ammonium sulfate (70 wt / vol%) 6000 g Sodium sulfite 110 g Sodium acetate trihydrate 450 g Sodium citrate 50 g Gluconic acid 70 g 1- (N, N-dimethylamino) -ethyl-5-mercaptotetrazole 18 g Part-B Aluminum sulfate 800 g ( Preparation of developer) The developer is prepared by adding P to about 5 liters of water.
Art-A and Part-B were added simultaneously, and water was added while stirring and dissolving to make up to 12 liters.
It was adjusted to 0.40 and used as a developer.

【0125】この現像液1リットル当たり20ミリリッ
トルのスターター液を添加し、pHを10.40に調整
して使用液とした。
20 ml of a starter solution was added per liter of the developing solution, and the pH was adjusted to 10.40 to obtain a working solution.

【0126】(定着液の調製)定着液の調製は水約5リ
ットルにPart−A、Part−Bを同時添加し、攪
拌溶解しながら水を加えて18リットルに仕上げ、硫酸
と水酸化ナトリウムを用いてpHを4.4に調整しこれ
を定着液の使用液及び定着液補充液とした。
(Preparation of Fixing Solution) The fixing solution was prepared by simultaneously adding Part-A and Part-B to about 5 liters of water, adding water while stirring and dissolving to make up to 18 liters, and adding sulfuric acid and sodium hydroxide. The pH was adjusted to 4.4 using this solution, which was used as a fixer solution and a fixer replenisher.

【0127】尚、処理温度はそれぞれ現像35℃、定着
33℃、水洗20℃、乾燥55℃とした。、処理時間は
Dry to Dry(即ち、感光材料の先端が現像液
に浸漬され始める時点から、処理工程を経て同先端が乾
燥ゾーンを出てくるまでの時間)で25秒である。
The processing temperatures were 35 ° C. for development, 33 ° C. for fixing, 20 ° C. for water washing and 55 ° C. for drying, respectively. The processing time is 25 seconds from Dry to Dry (that is, the time from when the tip of the photosensitive material starts to be immersed in the developing solution to when the tip comes out of the drying zone through the processing step).

【0128】以上の結果を表2に示す。Table 2 shows the above results.

【0129】[0129]

【表2】 [Table 2]

【0130】[0130]

【化24】 Embedded image

【0131】表2から明らかなように、本発明の試料
は、高感度・高カバリングパワーで、かつ銀スラッジが
改良されていることがわかる。
As is clear from Table 2, the samples of the present invention have high sensitivity and high covering power and improved silver sludge.

【0132】実施例2 実施例1の感光材料・試料No.1と全く同様にして試
料を作製して感光材料・試料No.21とした。
Example 2 The photosensitive material of Example 1 and the sample Nos. A sample was prepared in exactly the same manner as in Sample No. 1 and the photosensitive material / Sample No. 21.

【0133】試料No.21において、表2記載の様に
一般式〔1〕の化合物とホスファゼン化合物を添加する
以外はNo.21と同様にして試料No.22〜33を
作製した。
The sample No. 21 except that the compound of the general formula [1] and the phosphazene compound were added as shown in Table 2 below. 21 in the same manner as in Sample No. 21. 22 to 33 were produced.

【0134】試料No.21〜33について実施例1の
場合と全く同様にして評価を行った。
The sample No. Evaluations of 21 to 33 were performed in exactly the same manner as in Example 1.

【0135】結果を表3に示す。Table 3 shows the results.

【0136】[0136]

【表3】 [Table 3]

【0137】表3から明らかなように、本発明の試料
は、高感度・高カバリングパワーで、かつ銀スラッジが
改良されていることがわかる。
As is evident from Table 3, the sample of the present invention has high sensitivity and high covering power and improved silver sludge.

【0138】以上から、本発明の試料は高感度を維持し
つつ、カバリングパワーが高く、かつ銀スラッジが改良
されていることがわかる。
From the above, it can be seen that the sample of the present invention has high covering power and improved silver sludge while maintaining high sensitivity.

【0139】[0139]

【発明の効果】本発明により、高感度を維持しつつ、カ
バリングパワーが高く、かつ銀スラッジが改良されたハ
ロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法を提供するこ
とができた。
According to the present invention, it is possible to provide a silver halide photographic material having a high covering power and an improved silver sludge while maintaining high sensitivity, and a processing method thereof.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に、少なくとも1層のハロゲン
化銀乳剤層を含む写真構成層を設けてなるハロゲン化銀
写真感光材料において、前記写真構成層がデキストラン
及びデキストリンから選ばれる少なくとも1種、及びホ
スファゼン化合物を含有することを特徴とするハロゲン
化銀写真感光材料。
1. A silver halide photographic light-sensitive material comprising a support and a photographic component layer including at least one silver halide emulsion layer, wherein the photographic component layer is at least one selected from dextran and dextrin. And a phosphazene compound.
【請求項2】 前記ホスファゼン化合物を含有する写真
構成層が、デキストラン及びデキストリンから選ばれる
少なくとも1種を含有する層に対して、支持体からみて
同一又は遠い側に位置することを特徴とする請求項1に
記載のハロゲン化銀写真感光材料。
2. The method according to claim 1, wherein the photographic component layer containing the phosphazene compound is located on the same side or a distant side from the support with respect to the layer containing at least one selected from dextran and dextrin. Item 6. The silver halide photographic material according to Item 1.
【請求項3】 支持体上に、少なくとも1層のハロゲン
化銀乳剤層を含む写真構成層を設けてなるハロゲン化銀
写真感光材料において、該写真構成層が下記一般式
〔1〕で表される化合物及びホスファゼン化合物を含有
することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 【化1】 〔式中、Zは−SO31、−COOR1、−OH及び−
NHR2から選ばれる基の少なくとも1個を直接に又は
間接に置換されている複素環基を表し、M,M1は水素
原子、アルカリ金属原子又は四級アンモニウム基を表
し、R1は水素原子、アルカリ金属原子又は炭素数1〜
6のアルキル基を表し、R2は水素原子又は炭素数1〜
6のアルキル基、−COR3,−COOR3又は−SO2
3を表し、R3は水素原子、脂肪族基又は芳香族基を表
す。〕
3. A silver halide photographic material comprising a support having thereon a photographic component layer including at least one silver halide emulsion layer, wherein the photographic component layer is represented by the following general formula [1]. Silver halide photographic light-sensitive material, characterized by containing a phosphazene compound and a phosphazene compound. Embedded image [Wherein, Z represents -SO 3 M 1 , -COOR 1 , -OH and-
Represents a heterocyclic group in which at least one group selected from NHR 2 is substituted directly or indirectly, M and M 1 represent a hydrogen atom, an alkali metal atom or a quaternary ammonium group, and R 1 represents a hydrogen atom , An alkali metal atom or carbon number 1
6 represents an alkyl group, and R 2 represents a hydrogen atom or
6, an alkyl group of —COR 3 , —COOR 3 or —SO 2
Represents R 3, R 3 represents a hydrogen atom, an aliphatic group or an aromatic group. ]
【請求項4】 前記一般式〔1〕で表される化合物が、
非感光性層に含有されていることを特徴とする請求項3
に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
4. A compound represented by the general formula [1]:
4. The composition according to claim 3, wherein the non-photosensitive layer is contained.
3. The silver halide photographic light-sensitive material described in 1. above.
【請求項5】 前記ハロゲン化銀乳剤層が、アスペクト
比が3以上であり、ヨウ化銀含有率が0.5モル%以下
のハロゲン化銀粒子を含有することを特徴とする請求項
1〜4のいずれか1項に記載のハロゲン化銀写真感光材
料。
5. The silver halide emulsion layer according to claim 1, wherein the silver halide emulsion layer contains silver halide grains having an aspect ratio of 3 or more and a silver iodide content of 0.5 mol% or less. 5. The silver halide photographic light-sensitive material according to any one of 4.
【請求項6】 支持体上に、少なくとも1層のハロゲン
化銀乳剤層を含む写真構成層を設けてなるハロゲン化銀
写真感光材料を現像処理するハロゲン化銀写真感光材料
の処理方法において、該写真構成層がデキストラン及び
デキストリンから選ばれる少なくとも1種を含有し、か
つ、ホスファゼン化合物の存在下で現像処理することを
特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
6. A method for processing a silver halide photographic light-sensitive material, comprising developing a silver halide photographic light-sensitive material comprising a support and a photographic component layer including at least one silver halide emulsion layer, A method for processing a silver halide photographic material, wherein the photographic component layer contains at least one selected from dextran and dextrin, and is developed in the presence of a phosphazene compound.
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