JPH11161935A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH11161935A JPH11161935A JP34584597A JP34584597A JPH11161935A JP H11161935 A JPH11161935 A JP H11161935A JP 34584597 A JP34584597 A JP 34584597A JP 34584597 A JP34584597 A JP 34584597A JP H11161935 A JPH11161935 A JP H11161935A
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- JP
- Japan
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- magnetic
- lubricant
- recording medium
- grooves
- layer
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 優れた耐久性を示し、磁気ヘッドの目詰まり
を起こさない金属薄膜型の磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 支持体と、該支持体上に形成された金属
磁性層と、該金属磁性層上に形成された潤滑層とを有す
る磁気記録媒体であって、該媒体の少なくとも一面に、
潤滑剤を保持する多数の微小な溝を特定の比率で有する
磁気記録媒体。
を起こさない金属薄膜型の磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 支持体と、該支持体上に形成された金属
磁性層と、該金属磁性層上に形成された潤滑層とを有す
る磁気記録媒体であって、該媒体の少なくとも一面に、
潤滑剤を保持する多数の微小な溝を特定の比率で有する
磁気記録媒体。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体に関
する。更に詳しくは金属薄膜層上に形成された潤滑層を
有する磁気記録媒体に関する。
する。更に詳しくは金属薄膜層上に形成された潤滑層を
有する磁気記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】支持体上に真空中で金属を蒸着等により
付着させてなる、いわゆる金属薄膜型の磁気記録媒体
は、磁性層にバインダーを全く含まないことから磁性材
料の密度を高められるため、高密度記録に有望であると
されている。しかしながら、金属薄膜型の磁気記録媒体
の磁性層は、支持体上に金属が付着しているだけなの
で、そのままでは耐食性、耐久性が悪く、これを向上さ
せる目的でパーフルオロポリエーテル等のフッ素系の潤
滑剤、炭化水素系潤滑剤或いはこれらを併用した潤滑剤
を塗布して潤滑層を形成することが行われてきた。
付着させてなる、いわゆる金属薄膜型の磁気記録媒体
は、磁性層にバインダーを全く含まないことから磁性材
料の密度を高められるため、高密度記録に有望であると
されている。しかしながら、金属薄膜型の磁気記録媒体
の磁性層は、支持体上に金属が付着しているだけなの
で、そのままでは耐食性、耐久性が悪く、これを向上さ
せる目的でパーフルオロポリエーテル等のフッ素系の潤
滑剤、炭化水素系潤滑剤或いはこれらを併用した潤滑剤
を塗布して潤滑層を形成することが行われてきた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、金属薄
膜型の磁気記録媒体は、磁性層表面が連続的な平坦面で
あり、また潤滑剤も流動性のあるものが汎用されている
ことから、潤滑剤の移動や脱離が生じ、その結果、耐久
性の低下や磁気ヘッドの目詰まりなどの発生をもたらす
ことがあった。
膜型の磁気記録媒体は、磁性層表面が連続的な平坦面で
あり、また潤滑剤も流動性のあるものが汎用されている
ことから、潤滑剤の移動や脱離が生じ、その結果、耐久
性の低下や磁気ヘッドの目詰まりなどの発生をもたらす
ことがあった。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、潤滑剤の
移動や脱離がなく、耐久性に優れ、磁気ヘッドの目詰ま
りを生じない金属薄膜型の磁気記録媒体を得るべく鋭意
研究した結果、磁気記録媒体の少なくとも一面に、潤滑
剤を保持し得る多数の微小なひび割れ状の溝を形成する
ことにより、目的とする磁気記録媒体が得られることを
見出し、本発明を完成するに至った。
移動や脱離がなく、耐久性に優れ、磁気ヘッドの目詰ま
りを生じない金属薄膜型の磁気記録媒体を得るべく鋭意
研究した結果、磁気記録媒体の少なくとも一面に、潤滑
剤を保持し得る多数の微小なひび割れ状の溝を形成する
ことにより、目的とする磁気記録媒体が得られることを
見出し、本発明を完成するに至った。
【0005】すなわち、本発明は、支持体と、該支持体
上に形成された少なくとも1層の金属磁性層と、当該磁
性層上に形成された潤滑層とを有する磁気記録媒体であ
って、該媒体の少なくとも一面に、前記潤滑層を形成す
る潤滑剤を保持し得る多数の微小なひび割れ状の溝を有
し、該溝の大きさが幅5〜50nm、長さ10〜600
nmであり、その個数が単位視野1200nm×880
nmあたり10〜80本であることを特徴とする磁気記
録媒体を提供するものである。
上に形成された少なくとも1層の金属磁性層と、当該磁
性層上に形成された潤滑層とを有する磁気記録媒体であ
って、該媒体の少なくとも一面に、前記潤滑層を形成す
る潤滑剤を保持し得る多数の微小なひび割れ状の溝を有
し、該溝の大きさが幅5〜50nm、長さ10〜600
nmであり、その個数が単位視野1200nm×880
nmあたり10〜80本であることを特徴とする磁気記
録媒体を提供するものである。
【0006】本発明の磁気記録媒体の表面に存在する、
潤滑剤を保持し得る多数の微小な溝は、走査型電子顕微
鏡(SEM)による観察により確認することができる。
図1に後述の実施例1で得られた本発明の磁気記録媒体
の磁性層側の表面のSEM写真を示す。図1から明らか
なように、この媒体表面には多数の微小な溝がひび割れ
状に存在している。本発明の磁気記録媒体では、この溝
に潤滑剤が保持され得るため、潤滑剤の移動や脱離が抑
制されるものと考えられる。
潤滑剤を保持し得る多数の微小な溝は、走査型電子顕微
鏡(SEM)による観察により確認することができる。
図1に後述の実施例1で得られた本発明の磁気記録媒体
の磁性層側の表面のSEM写真を示す。図1から明らか
なように、この媒体表面には多数の微小な溝がひび割れ
状に存在している。本発明の磁気記録媒体では、この溝
に潤滑剤が保持され得るため、潤滑剤の移動や脱離が抑
制されるものと考えられる。
【0007】耐久性と目詰まり防止に優れた効果を得る
ためには、この微小な溝のうち、幅5〜50nm、長さ
10〜600nmの溝が、SEMによる観察で、単位視
野1200nm×880nmあたり、10〜80本の比
率で存在することが必要である。図1に示されるよう
に、この溝の形状は不定形であるが、主な形状の型を抽
出し、図4に示す。図4にあるように、これらの溝の形
状は大別してI字型(図4a)、コの字型(図4b)、
S字型(図4c)、そしてこれらの型が連続的に繋がっ
た形状である。本発明における溝の長さとは、I字型で
は直線方向の長さ(図4aのL)であり、コの字型では
最も長い直線長さ(図4bのL)であり、S字型や複数
の型が連続的に繋がった形状では、直線に近似させた時
の長さ(図4cのL)である。また、溝の幅とは溝の最
大幅(図4a〜cのW)をいう。
ためには、この微小な溝のうち、幅5〜50nm、長さ
10〜600nmの溝が、SEMによる観察で、単位視
野1200nm×880nmあたり、10〜80本の比
率で存在することが必要である。図1に示されるよう
に、この溝の形状は不定形であるが、主な形状の型を抽
出し、図4に示す。図4にあるように、これらの溝の形
状は大別してI字型(図4a)、コの字型(図4b)、
S字型(図4c)、そしてこれらの型が連続的に繋がっ
た形状である。本発明における溝の長さとは、I字型で
は直線方向の長さ(図4aのL)であり、コの字型では
最も長い直線長さ(図4bのL)であり、S字型や複数
の型が連続的に繋がった形状では、直線に近似させた時
の長さ(図4cのL)である。また、溝の幅とは溝の最
大幅(図4a〜cのW)をいう。
【0008】溝の大きさが幅5〜50nm、長さ10〜
600nmよりも小さく、またその本数が単位視野12
00nm×880nmあたり、10〜80本の比率より
も少ないと、保持できる潤滑剤の量が少なく、耐久性と
目詰まり防止の効果があらわれない。また、逆に溝の大
きさが幅5〜50nm、長さ10〜600nmよりも大
きく、またその本数が単位視野1200nm×880n
mあたり、10〜80本の比率よりも多いと、膜は強度
的にもろくなり、耐久性が悪化する。このような溝の深
さは膜厚により決まるが、2〜30nm程度である。
600nmよりも小さく、またその本数が単位視野12
00nm×880nmあたり、10〜80本の比率より
も少ないと、保持できる潤滑剤の量が少なく、耐久性と
目詰まり防止の効果があらわれない。また、逆に溝の大
きさが幅5〜50nm、長さ10〜600nmよりも大
きく、またその本数が単位視野1200nm×880n
mあたり、10〜80本の比率よりも多いと、膜は強度
的にもろくなり、耐久性が悪化する。このような溝の深
さは膜厚により決まるが、2〜30nm程度である。
【0009】このように媒体表面に微小な溝を特定の比
率となるように形成するには、金属磁性層を形成する際
の条件を調節する。具体的には図3に示すような装置を
用いて真空斜方蒸着法により金属薄膜型の磁性層を形成
する際の条件を調節することで、本発明の磁気記録媒体
を得ることができる。
率となるように形成するには、金属磁性層を形成する際
の条件を調節する。具体的には図3に示すような装置を
用いて真空斜方蒸着法により金属薄膜型の磁性層を形成
する際の条件を調節することで、本発明の磁気記録媒体
を得ることができる。
【0010】図3において、1は支持体、2はキャンロ
ール、3aは巻出ロール、3bは巻取ロール、4ルツ
ボ、5は強磁性金属、6は電子銃、7は防着板、8はガ
スノズル、9はボンバード装置、10は真空チャンバで
ある。ここで、ルツボ4はアルミナや酸化マグネシウム
などの耐熱性の高いものが使用される。また、ルツボ4
に収容される強磁性金属5としては、例えばFe、C
o、Ni等の金属の他に、Co−Ni系合金、Co−P
t系合金、Co−Ni−Pt系合金、Fe−Co系合
金、Fe−Ni系合金、Fe−Co−Ni系合金、Fe
−Co−B系合金、Co−Ni−Fe−B系合金、Co
−Cr系合金、あるいはこれらにAl等の金属を含有さ
せたもの等が用いられる。またこれらの酸化物、窒化
物、炭化物なども用いられる。なお、上記金属薄膜の形
成時に酸化性ガスを供給して、上記金属薄膜の表面を酸
化してもよいが、磁性層の表面状態は最終製品の表面状
態に影響するので、留意する必要がある。また。磁性層
は、1層の金属薄膜から構成されていても又は2層以上
の金属薄膜から構成されていてもよい。上記磁性層が2
層以上の金属薄膜から構成される場合、各金属薄膜の材
質は同一でもよく、又は異なっていてもよい。また、上
記磁性層は、その全体の厚さが一般に50〜500nm
であることが好ましい。
ール、3aは巻出ロール、3bは巻取ロール、4ルツ
ボ、5は強磁性金属、6は電子銃、7は防着板、8はガ
スノズル、9はボンバード装置、10は真空チャンバで
ある。ここで、ルツボ4はアルミナや酸化マグネシウム
などの耐熱性の高いものが使用される。また、ルツボ4
に収容される強磁性金属5としては、例えばFe、C
o、Ni等の金属の他に、Co−Ni系合金、Co−P
t系合金、Co−Ni−Pt系合金、Fe−Co系合
金、Fe−Ni系合金、Fe−Co−Ni系合金、Fe
−Co−B系合金、Co−Ni−Fe−B系合金、Co
−Cr系合金、あるいはこれらにAl等の金属を含有さ
せたもの等が用いられる。またこれらの酸化物、窒化
物、炭化物なども用いられる。なお、上記金属薄膜の形
成時に酸化性ガスを供給して、上記金属薄膜の表面を酸
化してもよいが、磁性層の表面状態は最終製品の表面状
態に影響するので、留意する必要がある。また。磁性層
は、1層の金属薄膜から構成されていても又は2層以上
の金属薄膜から構成されていてもよい。上記磁性層が2
層以上の金属薄膜から構成される場合、各金属薄膜の材
質は同一でもよく、又は異なっていてもよい。また、上
記磁性層は、その全体の厚さが一般に50〜500nm
であることが好ましい。
【0011】真空チャンバ10内には、巻出ロール3a
と巻取ロール3bとが設けられ、巻出ロール3aから巻
出されて巻取ロール3bに巻取られる間で、支持体1は
キャンロール2の下側面に巻掛けられて走行するように
なっている。キャンロール2の下方にはルツボ4が置か
れ、この中に強磁性金属5が収容されている。強磁性金
属5に、電子銃6から電子ビームを湾曲させて照射し、
これにより強磁性金属5を加熱して蒸発させるようにな
っている。そして、必要に応じてガスノズル8から酸素
ガスなどを蒸着領域に導入することにより、金属薄膜の
酸化されたコラム構造を形成することができる。
と巻取ロール3bとが設けられ、巻出ロール3aから巻
出されて巻取ロール3bに巻取られる間で、支持体1は
キャンロール2の下側面に巻掛けられて走行するように
なっている。キャンロール2の下方にはルツボ4が置か
れ、この中に強磁性金属5が収容されている。強磁性金
属5に、電子銃6から電子ビームを湾曲させて照射し、
これにより強磁性金属5を加熱して蒸発させるようにな
っている。そして、必要に応じてガスノズル8から酸素
ガスなどを蒸着領域に導入することにより、金属薄膜の
酸化されたコラム構造を形成することができる。
【0012】上記において、蒸着の際に、下記の条件を
適宜組み合わることにより、本発明で規定する溝を有す
る磁気記録媒体が得られる。 ・最大入射角:80〜84° ・最小入射角:53〜57° ・排気真空度:1.2×10-5〜2.8×10-6Tor
r ・電子銃出力:100〜300kW ・酸素ガス供給量:800〜1000SCCM ・支持体走行速度:30〜50m/分 ・キャンロール直径:40〜60cm ・キャンロール表面粗さ:0.05〜0.1S ・キャンロール温度:−60〜−30℃ ・支持体テンション:1.0〜2.0kg/155mm ・キャンロールへの抱き角:260〜280° ・ボンバードガス:酸素、窒素 ・ボンバード電圧:350〜450V ・ボンバード電流:350〜450mA。
適宜組み合わることにより、本発明で規定する溝を有す
る磁気記録媒体が得られる。 ・最大入射角:80〜84° ・最小入射角:53〜57° ・排気真空度:1.2×10-5〜2.8×10-6Tor
r ・電子銃出力:100〜300kW ・酸素ガス供給量:800〜1000SCCM ・支持体走行速度:30〜50m/分 ・キャンロール直径:40〜60cm ・キャンロール表面粗さ:0.05〜0.1S ・キャンロール温度:−60〜−30℃ ・支持体テンション:1.0〜2.0kg/155mm ・キャンロールへの抱き角:260〜280° ・ボンバードガス:酸素、窒素 ・ボンバード電圧:350〜450V ・ボンバード電流:350〜450mA。
【0013】特に溝の本数を単位視野1200nm×8
80nmあたり10〜80本の間で制御するには、上記
パラメーター中、電子銃出力、それに伴うガス流量、及
びキャンロール温度(基盤温度)を適宜調節する。具体
的には上記範囲において電子銃出力を高く、ガス流量を
多く、そして基盤温度を低くすれば溝の本数は増す。上
記パラメーターが全て上記の範囲にあることが溝の本数
や大きさの制御の面では望ましい。
80nmあたり10〜80本の間で制御するには、上記
パラメーター中、電子銃出力、それに伴うガス流量、及
びキャンロール温度(基盤温度)を適宜調節する。具体
的には上記範囲において電子銃出力を高く、ガス流量を
多く、そして基盤温度を低くすれば溝の本数は増す。上
記パラメーターが全て上記の範囲にあることが溝の本数
や大きさの制御の面では望ましい。
【0014】本発明の磁気記録媒体は、上記の磁性層上
に保護層を設けることもできる。この場合、該保護層
は、一般に真空中で、カーボン若しくは炭化物、窒化物
又は酸化物、特に、ダイヤモンドライクカーボン、ダイ
ヤモンド、炭化ホウ素、炭化ケイ素、窒化ホウ素、窒化
ケイ素、酸化ケイ素、酸化クロム又は酸化アルミニウム
等を成膜することにより形成されるのが好ましい。上記
保護層としては、アモルファス状、グラファイト状若し
くはダイヤモンド状又はそれらの混合状態又は積層状態
のカーボン薄膜層を用いることが特に好ましい。上記保
護層の厚さに特に制限はないが、一般的な厚さとして3
〜30nmであることが好ましい。この範囲の厚みで
は、保護層は磁性層上の溝を反映してその凹凸に即して
成膜される。すなわち、磁性層上の溝の形状及び本数に
影響を与えない。上記保護層の形成法としては、プラズ
マ蒸着法、特にプラズマCVD法が好ましい。特にマイ
クロ波を用いたECR(Electron Cyclotron Resonanc
e)法や、高周波(RF)を用いた方法が有効である。
CVD法により上記保護層を形成する場合、原料はガス
状、液状及び固体状の何れのものを用いてもよい。
に保護層を設けることもできる。この場合、該保護層
は、一般に真空中で、カーボン若しくは炭化物、窒化物
又は酸化物、特に、ダイヤモンドライクカーボン、ダイ
ヤモンド、炭化ホウ素、炭化ケイ素、窒化ホウ素、窒化
ケイ素、酸化ケイ素、酸化クロム又は酸化アルミニウム
等を成膜することにより形成されるのが好ましい。上記
保護層としては、アモルファス状、グラファイト状若し
くはダイヤモンド状又はそれらの混合状態又は積層状態
のカーボン薄膜層を用いることが特に好ましい。上記保
護層の厚さに特に制限はないが、一般的な厚さとして3
〜30nmであることが好ましい。この範囲の厚みで
は、保護層は磁性層上の溝を反映してその凹凸に即して
成膜される。すなわち、磁性層上の溝の形状及び本数に
影響を与えない。上記保護層の形成法としては、プラズ
マ蒸着法、特にプラズマCVD法が好ましい。特にマイ
クロ波を用いたECR(Electron Cyclotron Resonanc
e)法や、高周波(RF)を用いた方法が有効である。
CVD法により上記保護層を形成する場合、原料はガス
状、液状及び固体状の何れのものを用いてもよい。
【0015】また、本発明の磁気記録媒体は、上記の金
属磁性層上に潤滑層を有する。かかる潤滑層は、磁性層
上に直接薄膜状に形成されても、或いは磁性層上に設け
られた保護層などの上に薄膜状に形成されても何れでも
よい。潤滑層を形成する潤滑剤としては、フッ素系潤滑
剤を用いるのが好ましい。フッ素系潤滑剤としては、例
えばHOOC-CF2(OC2F4)p(OCF2)q-OCF2COOH 、F-(CF2CF2CF
2O)n-CF2CF2COOH といったカルボキシル変性パーフルオ
ロポリエーテル、HOCH2-CF2(O-C2F4)p(OCF2)q-OCF2-CH2
OH といったアルコール変性パーフルオロポリエーテ
ル、又、分子の一方に、又は、一部にアルキル基などの
飽和炭化水素基、あるいは不飽和炭化水素基、若しくは
芳香族炭化水素基、その他の官能基が付いたもの等が挙
げられる。具体的には、モンテカチーニ社の商品名FO
MBLIN Z DIACや商品名FOMBLIN Z
DOL、ダイキン工業社の商品名デムナムSA等があ
る。これらのフッ素系潤滑剤は、分子量500〜500
00、特に500〜4000のものが好ましい。
属磁性層上に潤滑層を有する。かかる潤滑層は、磁性層
上に直接薄膜状に形成されても、或いは磁性層上に設け
られた保護層などの上に薄膜状に形成されても何れでも
よい。潤滑層を形成する潤滑剤としては、フッ素系潤滑
剤を用いるのが好ましい。フッ素系潤滑剤としては、例
えばHOOC-CF2(OC2F4)p(OCF2)q-OCF2COOH 、F-(CF2CF2CF
2O)n-CF2CF2COOH といったカルボキシル変性パーフルオ
ロポリエーテル、HOCH2-CF2(O-C2F4)p(OCF2)q-OCF2-CH2
OH といったアルコール変性パーフルオロポリエーテ
ル、又、分子の一方に、又は、一部にアルキル基などの
飽和炭化水素基、あるいは不飽和炭化水素基、若しくは
芳香族炭化水素基、その他の官能基が付いたもの等が挙
げられる。具体的には、モンテカチーニ社の商品名FO
MBLIN Z DIACや商品名FOMBLIN Z
DOL、ダイキン工業社の商品名デムナムSA等があ
る。これらのフッ素系潤滑剤は、分子量500〜500
00、特に500〜4000のものが好ましい。
【0016】潤滑層は常法によりフッ素系潤滑剤を溶剤
に溶かして大気中で塗布して形成しても良いし、潤滑剤
を噴霧して形成してもよい。特に真空中で噴霧する方法
が好ましい。真空中で潤滑剤を噴霧する方法ではフッ素
系潤滑剤は、超音波発振器を備えた噴霧器(以下、超音
波噴霧器という)により支持体上に形成された磁性層上
に噴霧するのが好ましい。より詳細には、超音波噴霧器
は、潤滑剤の供給手段と、該供給手段から供給された潤
滑剤に超音波を印加して霧化する手段(超音波発振器)
と、霧化された潤滑剤を噴霧するノズルとからなる。ま
た、ノズルタイプの噴霧装置を用いてもよい。ノズルタ
イプの噴霧装置は一般に一流体ノズルと呼ばれる装置が
使用できる。超音波噴霧器を使用して潤滑剤を微細な粒
子として噴霧することにより、高温(200℃以上)に
弱く蒸気圧が低いため、従来空気中での塗布による潤滑
層の形成に用いられていたパーフルオロポリエーテル等
のフッ素系潤滑剤の真空中での噴霧が可能となる。
に溶かして大気中で塗布して形成しても良いし、潤滑剤
を噴霧して形成してもよい。特に真空中で噴霧する方法
が好ましい。真空中で潤滑剤を噴霧する方法ではフッ素
系潤滑剤は、超音波発振器を備えた噴霧器(以下、超音
波噴霧器という)により支持体上に形成された磁性層上
に噴霧するのが好ましい。より詳細には、超音波噴霧器
は、潤滑剤の供給手段と、該供給手段から供給された潤
滑剤に超音波を印加して霧化する手段(超音波発振器)
と、霧化された潤滑剤を噴霧するノズルとからなる。ま
た、ノズルタイプの噴霧装置を用いてもよい。ノズルタ
イプの噴霧装置は一般に一流体ノズルと呼ばれる装置が
使用できる。超音波噴霧器を使用して潤滑剤を微細な粒
子として噴霧することにより、高温(200℃以上)に
弱く蒸気圧が低いため、従来空気中での塗布による潤滑
層の形成に用いられていたパーフルオロポリエーテル等
のフッ素系潤滑剤の真空中での噴霧が可能となる。
【0017】また、潤滑剤の噴霧にあたっては、潤滑剤
をフッ素系不活性溶媒(例えば住友スリーエム(株)製
「フロリナート」等のパーフルオロカーボン、モンテカ
チーニ(株)製「ガルデン」等のパーフルオロポリエー
テル)、アルコール系溶媒等の適当な溶媒に溶解させた
溶液として用いるのが好ましい。その場合、潤滑剤濃度
は、通常、0.01〜0.2重量%もしくは0.3〜
3.0重量%である。
をフッ素系不活性溶媒(例えば住友スリーエム(株)製
「フロリナート」等のパーフルオロカーボン、モンテカ
チーニ(株)製「ガルデン」等のパーフルオロポリエー
テル)、アルコール系溶媒等の適当な溶媒に溶解させた
溶液として用いるのが好ましい。その場合、潤滑剤濃度
は、通常、0.01〜0.2重量%もしくは0.3〜
3.0重量%である。
【0018】本発明の磁気記録媒体においては、上記保
護層の他に必要に応じて、他の層を設けることもでき
る。例えば、上記支持体と上記磁性層との間に、両者の
密着性を向上せしめるためのアンダーコート層を設けた
り、上記支持体の面のうち上記磁性層が形成される面と
は反対の面に、磁気記録媒体の走行性や耐久性等を向上
せしめるためのバックコート層を設けることができる。
この場合、該バックコート層としては、塗布型及び金属
薄膜型の何れでもよい。塗布型のバックコート層はカー
ボンブラックなどと結合剤を主成分とする公知のバック
コート層が挙げられる。また、金属薄膜型のバックコー
ト層は、一般に、Al、Cu、Si、Fe、Mo、Mn
若しくはZn等又はこれらの合金若しくは酸化物、窒化
物、炭化物等を真空成膜法により成膜することにより形
成される。バックコート層の厚さは一般に50〜100
0nmであることが好ましい。なお、本発明において、
上記の溝はバックコート層が形成されている側の表面に
存在していてもよい。この場合は、バックコート層は金
属薄膜型のバックコート層であり、該バックコート層上
に上記と同様に潤滑層が形成される。
護層の他に必要に応じて、他の層を設けることもでき
る。例えば、上記支持体と上記磁性層との間に、両者の
密着性を向上せしめるためのアンダーコート層を設けた
り、上記支持体の面のうち上記磁性層が形成される面と
は反対の面に、磁気記録媒体の走行性や耐久性等を向上
せしめるためのバックコート層を設けることができる。
この場合、該バックコート層としては、塗布型及び金属
薄膜型の何れでもよい。塗布型のバックコート層はカー
ボンブラックなどと結合剤を主成分とする公知のバック
コート層が挙げられる。また、金属薄膜型のバックコー
ト層は、一般に、Al、Cu、Si、Fe、Mo、Mn
若しくはZn等又はこれらの合金若しくは酸化物、窒化
物、炭化物等を真空成膜法により成膜することにより形
成される。バックコート層の厚さは一般に50〜100
0nmであることが好ましい。なお、本発明において、
上記の溝はバックコート層が形成されている側の表面に
存在していてもよい。この場合は、バックコート層は金
属薄膜型のバックコート層であり、該バックコート層上
に上記と同様に潤滑層が形成される。
【0019】また、本発明の磁気記録媒体の支持体とし
ては、公知の非磁性支持体を特に制限なく用いることが
できる。具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリ
アミドイミド、ポリスルフォン、アラミド、芳香族ポリ
アミド等の公知の樹脂;アルミニウムや銅等の金属;紙
等を使用することができる。形態は、フィルム、テー
プ、シート、ディスク、ドラム等の何れでもよい。上記
支持体には、磁性層を設ける前に、大気中及び/又は真
空中においてその表面に予めコロナ放電処理、プラズマ
処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、ボンバード処理
などを行うこともできる。上記支持体の好ましい厚さ
は、1〜300μmである。
ては、公知の非磁性支持体を特に制限なく用いることが
できる。具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリ
アミドイミド、ポリスルフォン、アラミド、芳香族ポリ
アミド等の公知の樹脂;アルミニウムや銅等の金属;紙
等を使用することができる。形態は、フィルム、テー
プ、シート、ディスク、ドラム等の何れでもよい。上記
支持体には、磁性層を設ける前に、大気中及び/又は真
空中においてその表面に予めコロナ放電処理、プラズマ
処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、ボンバード処理
などを行うこともできる。上記支持体の好ましい厚さ
は、1〜300μmである。
【0020】
【発明の実施の形態】以下実施例により本発明をより詳
細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定される
ものではない。
細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定される
ものではない。
【0021】実施例1 (1)磁気テープの製造 厚さ6μmのPETフィルム上に、図3の装置を用いた
真空斜方蒸着法により、Coからなる磁性層を形成した
(膜厚:0.12μm)。
真空斜方蒸着法により、Coからなる磁性層を形成した
(膜厚:0.12μm)。
【0022】・最大入射角:82° ・最小入射角:55° ・排気真空度:6.2×10-6Torr ・電子銃出力:100kW ・酸素ガス供給量:800SCCM ・支持体走行速度:30m/分 ・ルツボ:アルミナ製ルツボ ・キャンロール直径:50cm ・キャンロール表面粗さ:0.1S ・キャンロール温度:−30℃ ・支持体テンション:1.5kg/155mm ・キャンロールへの抱き角:280° ・ボンバードガス:酸素ガス ・ボンバードガス流量:40SCCM ・ボンバード電圧:400V ・ボンバード電流:200mA。
【0023】次いでこの磁性層上に、ECRプラズマC
VD法により、ベンゼンを原料として、ベンゼン流量6
0SCCM、マイクロ波出力800Wの条件で、厚さ1
0nmのDLC(ダイヤモンドライクカーボン)からな
る保護層を形成した。また、PETフィルムの磁性層形
成面とは反対の面に、カーボンブラックとバインダーか
らなるバックコート層を0.5μmの厚さで塗布により
形成した。次に上記保護層上に、フッ素系潤滑剤(モン
テカチーニ社製、商品名FOMBLIN Z DOL)
からなる厚さ2nmの潤滑層を形成した。
VD法により、ベンゼンを原料として、ベンゼン流量6
0SCCM、マイクロ波出力800Wの条件で、厚さ1
0nmのDLC(ダイヤモンドライクカーボン)からな
る保護層を形成した。また、PETフィルムの磁性層形
成面とは反対の面に、カーボンブラックとバインダーか
らなるバックコート層を0.5μmの厚さで塗布により
形成した。次に上記保護層上に、フッ素系潤滑剤(モン
テカチーニ社製、商品名FOMBLIN Z DOL)
からなる厚さ2nmの潤滑層を形成した。
【0024】上記により得られた、Co系磁性層、DL
C保護層、フッ素系潤滑層及びバックコート層が形成さ
れたフィルムを8mm巾に裁断し、カセットケースにロ
ーディングし8mmビデオテープを得た。
C保護層、フッ素系潤滑層及びバックコート層が形成さ
れたフィルムを8mm巾に裁断し、カセットケースにロ
ーディングし8mmビデオテープを得た。
【0025】(2)性能評価 上記で得られた8mmビデオテープについて、下記の方
法でスチル耐久性とヘッド目詰まりの有無を評価した。
その結果を表1に示す。
法でスチル耐久性とヘッド目詰まりの有無を評価した。
その結果を表1に示す。
【0026】<SEM観察>8mmビデオテープの磁性
層が形成されている側の表面を、SEM(倍率10万
倍)により観察し、単位視野1200nm×880nm
あたりの、幅5〜50nm、長さ10〜600nmの溝
の数を数えた。なお、その際のSEM写真を図1に示
す。
層が形成されている側の表面を、SEM(倍率10万
倍)により観察し、単位視野1200nm×880nm
あたりの、幅5〜50nm、長さ10〜600nmの溝
の数を数えた。なお、その際のSEM写真を図1に示
す。
【0027】<スチル耐久性>スチル耐久性は、市販の
8mmVTR(型式EV−S900、ソニー株式会社
製)の改造機を用い、出力が初期値から3dB低下する
までに要した時間を求めた。
8mmVTR(型式EV−S900、ソニー株式会社
製)の改造機を用い、出力が初期値から3dB低下する
までに要した時間を求めた。
【0028】<ヘッド目詰まりの有無>スチル耐久性試
験の後、湿式クリーニングテープを走行させ、出力が回
復すれば「ヘッド目詰まり有」、回復しなければ「ヘッ
ド目詰まり無」と判断する。
験の後、湿式クリーニングテープを走行させ、出力が回
復すれば「ヘッド目詰まり有」、回復しなければ「ヘッ
ド目詰まり無」と判断する。
【0029】実施例2 実施例1において、電子銃出力を200kW、酸素ガス
供給量を900SCCM、支持体走行速度を40m/
分、支持体テンションを1.7kg/155mmとした
以外は実施例1と同様にして、8mmビデオテープを作
製し、同様の評価を行った。その結果を表1に示す。
供給量を900SCCM、支持体走行速度を40m/
分、支持体テンションを1.7kg/155mmとした
以外は実施例1と同様にして、8mmビデオテープを作
製し、同様の評価を行った。その結果を表1に示す。
【0030】実施例3 実施例1において、電子銃出力を300kW、酸素ガス
供給量を1000SCCM、支持体走行速度を50m/
分、支持体テンションを2.0kg/155mm、キャ
ンロール温度を−60℃とした以外は実施例1と同様に
して、8mmビデオテープを作製し、同様の評価を行っ
た。その結果を表1に示す。
供給量を1000SCCM、支持体走行速度を50m/
分、支持体テンションを2.0kg/155mm、キャ
ンロール温度を−60℃とした以外は実施例1と同様に
して、8mmビデオテープを作製し、同様の評価を行っ
た。その結果を表1に示す。
【0031】比較例1 実施例1において、電子銃出力を30kW、酸素ガス供
給量を400SCCM、支持体走行速度を10m/分、
ルツボを銅製ルツボ(冷却循環)、支持体テンションを
2.0kg/155mm、キャンロール温度を−60℃
とした以外は実施例1と同様にして、8mmビデオテー
プを作製し、同様の評価を行った。その結果を表1に示
す。なお、この8mmビデオテープの磁性層が形成され
ている側の表面のSEM写真を図2に示すが、このテー
プでは微小なひび割れ状の溝は確認されない。
給量を400SCCM、支持体走行速度を10m/分、
ルツボを銅製ルツボ(冷却循環)、支持体テンションを
2.0kg/155mm、キャンロール温度を−60℃
とした以外は実施例1と同様にして、8mmビデオテー
プを作製し、同様の評価を行った。その結果を表1に示
す。なお、この8mmビデオテープの磁性層が形成され
ている側の表面のSEM写真を図2に示すが、このテー
プでは微小なひび割れ状の溝は確認されない。
【0032】比較例2 実施例1において、電子銃出力を80kW、酸素ガス供
給量を600SCCM、支持体走行速度を20m/分、
ルツボを銅製ルツボ(冷却循環)、支持体テンションを
2.0kg/155mm、キャンロール温度を20℃と
した以外は実施例1と同様にして、8mmビデオテープ
を作製し、同様の評価を行った。その結果を表1に示
す。
給量を600SCCM、支持体走行速度を20m/分、
ルツボを銅製ルツボ(冷却循環)、支持体テンションを
2.0kg/155mm、キャンロール温度を20℃と
した以外は実施例1と同様にして、8mmビデオテープ
を作製し、同様の評価を行った。その結果を表1に示
す。
【0033】比較例3 実施例1において、電子銃出力を500kW、酸素ガス
供給量を1200SCCM、支持体走行速度を65m/
分、支持体テンションを2.2kg/155mmとした
以外は実施例1と同様にして、8mmビデオテープを作
製し、同様の評価を行った。その結果を表1に示す。
供給量を1200SCCM、支持体走行速度を65m/
分、支持体テンションを2.2kg/155mmとした
以外は実施例1と同様にして、8mmビデオテープを作
製し、同様の評価を行った。その結果を表1に示す。
【0034】
【表1】
【0035】
【発明の効果】本発明によれば、耐久性が著しく向上
し、ヘッド目詰まりのない金属薄膜型の磁気記録媒体が
得られる。
し、ヘッド目詰まりのない金属薄膜型の磁気記録媒体が
得られる。
【図1】実施例1の磁気記録媒体の表面状態を示すSE
M写真である。
M写真である。
【図2】比較例1の磁気記録媒体の表面状態を示すSE
M写真である。
M写真である。
【図3】本発明の磁気記録媒体を製造する装置の一例を
示す概略図である。
示す概略図である。
【図4】溝の形状と大きさを示す概略図である。
1:支持体 2:冷却キャンロール 4:ルツボ 6:電子銃
フロントページの続き (72)発明者 山崎 登志夫 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会 社研究所内
Claims (3)
- 【請求項1】 支持体と、該支持体上に形成された少な
くとも1層の金属磁性層と、当該磁性層上に形成された
潤滑層とを有する磁気記録媒体であって、該媒体の少な
くとも一面に、前記潤滑層を形成する潤滑剤を保持し得
る多数の微小なひび割れ状の溝を有し、該溝の大きさが
幅5〜50nm、長さ10〜600nmであり、その個
数が単位視野1200nm×880nmあたり10〜8
0本であることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項2】 前記金属磁性層上に炭素からなる保護層
が形成されている請求項1記載の磁気記録媒体。 - 【請求項3】 前記金属磁性層が蒸着法により形成さ
れ、前記保護層がプラズマ蒸着法により形成される請求
項2記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34584597A JPH11161935A (ja) | 1997-12-01 | 1997-12-01 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34584597A JPH11161935A (ja) | 1997-12-01 | 1997-12-01 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11161935A true JPH11161935A (ja) | 1999-06-18 |
Family
ID=18379384
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34584597A Pending JPH11161935A (ja) | 1997-12-01 | 1997-12-01 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11161935A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005256047A (ja) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Ulvac Japan Ltd | Mg合金部材の表面処理方法及び表面処理装置 |
-
1997
- 1997-12-01 JP JP34584597A patent/JPH11161935A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005256047A (ja) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Ulvac Japan Ltd | Mg合金部材の表面処理方法及び表面処理装置 |
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