JPH11154639A - Peripheral aligner and method therefor - Google Patents
Peripheral aligner and method thereforInfo
- Publication number
- JPH11154639A JPH11154639A JP9320157A JP32015797A JPH11154639A JP H11154639 A JPH11154639 A JP H11154639A JP 9320157 A JP9320157 A JP 9320157A JP 32015797 A JP32015797 A JP 32015797A JP H11154639 A JPH11154639 A JP H11154639A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- work
- light source
- moving
- exposing
- source device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハ、
プリント配線基板などのワークに配線パターンを露光し
て形成する際にそのワークの周辺部分の処理を行う周辺
露光装置およびその方法に関する。[0001] The present invention relates to a semiconductor wafer,
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a peripheral exposure apparatus and a method for processing a peripheral portion of a work such as a printed wiring board when a wiring pattern is formed by exposing the work to the work.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、所定波長の紫外線を照射して配線
パターンを形成するワークは、そのワークの寸法の中に
複数の基板を一度に形成する構成としており、時代の要
請と共にワークの寸法も大型化している。そして、ワー
クを露光するために用いられるレジスト材をそのワーク
露光面に設けて光処理し、余分なレジスト材を剥離する
工程を繰り返し行うことで所望の配線パターンを形成し
ている。このとき、ワークの周辺部分を適切に処理する
必要があることから、周辺露光装置が様々提案されてい
る。2. Description of the Related Art Conventionally, a work on which a wiring pattern is formed by irradiating ultraviolet rays of a predetermined wavelength has a configuration in which a plurality of substrates are formed at a time within the size of the work. It is getting larger. Then, a desired wiring pattern is formed by repeatedly performing a process of providing a resist material used for exposing the work on the exposed surface of the work, performing a light treatment, and peeling off the excess resist material. At this time, since it is necessary to appropriately process the peripheral portion of the work, various peripheral exposure apparatuses have been proposed.
【０００３】その一例として周辺露光装置は、光源装置
からの光線を光ファイバーで導きワークの周辺にミラー
などを介して照射する構成とするものが知られている。
この周辺露光装置は、光源から照射された光線を光ファ
イバーを介してワークの周辺部分に導き、周辺露光を行
うときは、ワークを回転させて処理している（特開平２
−１１４６２８号、特開平２−１２５４２０号など）。As one example, a peripheral exposure apparatus is known which has a configuration in which a light beam from a light source device is guided by an optical fiber and is radiated to a periphery of a work through a mirror or the like.
In this peripheral exposure apparatus, a light beam emitted from a light source is guided to a peripheral portion of a work through an optical fiber, and the peripheral work is performed by rotating the work when performing peripheral exposure (see Japanese Patent Application Laid-Open No. HEI 2 (1996) -214873).
-114628, JP-A-2-125420, etc.).
【０００４】また、大型ワークの周辺の露光作業にも適
しているものとして特開平７−２８３１２２号で示す周
辺露光装置などが提案されている。この周辺露光装置
は、ステージ上に載置され表面に感光層を有する角形基
板の周辺部に、紫外線を照射する紫外線照射ヘッドと、
前記紫外線が前記角型基板の周辺部を走査するように、
前記紫外線照射ヘッドを前記角形基板の基準辺とほぼ平
行に移動させる紫外線照射ヘッド走査手段とを備えてお
り、前記紫外線照射照射ヘッドの走査方向とほぼ直交す
る方向に前記紫外線照射ヘッドを移動させる紫外線照射
ヘッド移動手段と、前記紫外線照射ヘッドの走査方向に
対する前記角形基板の基準辺の傾きを検出する傾き検出
手段と、前記紫外線照射ヘッドの移動軌跡が前記角形基
板の基準辺とほぼ平行になるように、前記傾き検出手段
の検出結果に応じて、前記紫外線照射ヘッド移動手段を
制御する制御手段とを備えた構成としている。A peripheral exposure apparatus disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-283122 has been proposed as being suitable for exposure work around a large work. This peripheral exposure apparatus is an ultraviolet irradiation head that irradiates ultraviolet light to a peripheral portion of a rectangular substrate that is mounted on a stage and has a photosensitive layer on the surface,
As the ultraviolet light scans the peripheral portion of the rectangular substrate,
An ultraviolet irradiation head scanning means for moving the ultraviolet irradiation head substantially parallel to a reference side of the rectangular substrate, wherein the ultraviolet irradiation head moves the ultraviolet irradiation head in a direction substantially orthogonal to a scanning direction of the ultraviolet irradiation head. Irradiation head moving means, inclination detection means for detecting the inclination of the reference side of the rectangular substrate with respect to the scanning direction of the ultraviolet irradiation head, and the moving trajectory of the ultraviolet irradiation head is substantially parallel to the reference side of the rectangular substrate. And a control means for controlling the ultraviolet irradiation head moving means in accordance with the detection result of the inclination detecting means.
【０００５】そのため、照明光学系や遮光のためのマス
クを用いる必要も、角形基板の基準辺が紫外線の走査方
向と平行になるように角形基板をアライメントする必要
もなくなるものである。Therefore, there is no need to use an illumination optical system or a mask for shielding light, and it is not necessary to align the rectangular substrate so that the reference side of the rectangular substrate is parallel to the scanning direction of the ultraviolet light.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の周辺露
光装置の構成では、次のような問題点が存在していた。 光ファイバを使用する周辺露光装置では、ワークの
大型化に伴いワークの周辺を露光する露光面積も大きく
なってきており、その露光面積に合わせて光ファイバの
直径を大きくすることは困難であった。However, the configuration of the conventional peripheral exposure apparatus has the following problems. In a peripheral exposure apparatus using an optical fiber, the exposure area for exposing the periphery of the work has become larger with the enlargement of the work, and it has been difficult to increase the diameter of the optical fiber in accordance with the exposure area. .
【０００７】 光源部を移動させる周辺露光装置は、
光源部を走査してワークの周辺を露光した後に、ワーク
を載置支持している載置台を９０度回転させ、再びワー
クの周辺に光源部を走査して露光する構成としているた
め、ワークを回転させる動作が必ず伴い、ワークが回転
することでワークあるいは光源装置の位置決め作業を再
びする必要が生じると共に、回転毎によるワークの適正
位置の再現性を確保することが困難であった。A peripheral exposure apparatus that moves a light source unit includes:
After exposing the periphery of the work by scanning the light source unit, the mounting table supporting the work is rotated by 90 degrees, and the light source unit is scanned again around the work to expose the work. A rotation operation is always involved, and the rotation of the work necessitates re-positioning of the work or the light source device, and it is difficult to ensure reproducibility of the proper position of the work for each rotation.
【０００８】この発明は、前述の問題点を解決すべく創
案されたもので、ワークのサイズが大きくなっても適応
して周辺露光ができ、ワークを回転させることがなく周
辺露光作業を行うことができる周辺露光装置およびその
方法を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and enables peripheral exposure to be performed adaptively even when the size of a work becomes large, and to perform peripheral exposure work without rotating the work. It is an object of the present invention to provide a peripheral exposure apparatus and a method therefor.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】前記の課題を解決するた
め、この発明は、ワークを載置する載置台と、この載置
台の少なくとも一辺側に設けた案内ガイドと、この案内
ガイドに沿って移動する移動機構と、この移動機構に沿
って移動自在に設けた光源部とを有し、前記光源部は、
ワークの周辺を露光しながら周回する周辺露光装置とし
て構成した。SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a mounting table on which a work is mounted, a guide provided on at least one side of the mounting table, and A moving mechanism that moves, and a light source unit movably provided along the moving mechanism, wherein the light source unit includes:
This was configured as a peripheral exposure device that circulates while exposing the periphery of the work.
【００１０】また、前記案内ガイドは、ワークの前後ま
たは左右に設けた搬送路を備え、前記移動機構は、前記
搬送路に掛け渡して設けた移動レールと、この移動レー
ルを支持する支持脚と、この支持脚の下端側に設けた前
記搬送路に係合する係合滑動部とから構成すると都合が
良い。[0010] The guide may include a transport path provided before and after or right and left of the workpiece, and the moving mechanism may include a movable rail provided to extend over the transport path, and a support leg for supporting the movable rail. It is convenient to comprise an engaging sliding portion provided on the lower end side of the support leg and engaging with the transport path.
【００１１】さらに、前記周辺露光装置の光源部は、所
定波長の紫外線を含む光線を照射する放電灯と、この放
電灯から照射された光線を所定方向に導く光学レンズ
と、前記光学レンズからの光線の照射範囲を規制する規
制窓部と、この規制窓部の向きを変える照射方向変更機
構を有する構成とした。Further, the light source section of the peripheral exposure apparatus includes a discharge lamp for irradiating a light beam containing ultraviolet light having a predetermined wavelength, an optical lens for guiding the light beam emitted from the discharge lamp in a predetermined direction, A configuration is provided in which a regulating window for regulating the irradiation range of the light beam and an irradiation direction changing mechanism for changing the direction of the regulating window are provided.
【００１２】そして、周辺露光方法としては、ワークを
載置台に載置する第１工程と、前記ワークを光照射する
光源装置の移動により前記ワークの第一辺の一端から他
端を露光する第２工程と、前記光源装置の移動により前
記ワークの第二辺の一端から他端を露光する第３工程
と、前記光源装置の移動により前記ワークの第三辺の一
端から他端を露光する第４工程と、前記光源装置の移動
により前記ワークの第四辺の一端から他端を露光する第
５工程とから構成した。As a peripheral exposure method, a first step of mounting a work on a mounting table and a step of exposing one end to the other end of the first side of the work by moving a light source device for irradiating the work with light are performed. A second step of exposing one end to the other end of the second side of the work by moving the light source device; and a third step of exposing one end to the other end of the third side of the work by moving the light source device. The method includes four steps and a fifth step of exposing one end to the other end of the fourth side of the work by moving the light source device.
【００１３】[0013]
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の一形態を
図面に基づいて説明する。図１（ａ）（ｂ）は、周辺露
光装置の平面図、図２は、周辺露光装置の側面図、図３
は、周辺露光装置の正面図、図４は周辺露光装置の移動
機構の要部を示す原理図、図５は、光源装置の全体を示
す側面図、図６は、光源装置の要部を示す底面図、図７
は、周辺露光作業の状態を示す原理図である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1A and 1B are plan views of the peripheral exposure apparatus, FIG. 2 is a side view of the peripheral exposure apparatus, and FIG.
Is a front view of the peripheral exposure device, FIG. 4 is a principle view showing a main part of a moving mechanism of the peripheral exposure device, FIG. 5 is a side view showing the entire light source device, and FIG. 6 shows a main part of the light source device. Bottom view, FIG. 7
FIG. 3 is a principle diagram showing a state of a peripheral exposure operation.
【００１４】図１ないし図３で示すように、周辺露光装
置１は、ワークＷを載置する載置台５の前後（左右でも
可）に配置した案内ガイド２と、この案内ガイド２に沿
って移動する移動機構３と、この移動機構３に保持され
る光源装置４などから構成されている。As shown in FIGS. 1 to 3, the peripheral exposure apparatus 1 includes a guide 2 disposed before and after a mounting table 5 on which a work W is mounted (or left and right), and along the guide 2. The moving mechanism 3 includes a moving mechanism 3 and a light source device 4 held by the moving mechanism 3.
【００１５】前記案内ガイド２は、図１で示すように、
一方の搬送路２ａと、他方の搬送路２ｂとを備えてい
る。そして、前記一方の搬送路２ａ側には、図３で示す
ように、駆動部６からの駆動力を伝達する配線コード６
ａが移動自在に係合されており、その配線コード６ａの
先端側を前記移動機構３側に接続できるように構成して
いる。そして、前記移動機構３が、案内ガイド２に沿っ
て移動しても、その移動に伴って、前記配線コード６ａ
が屈曲して対応できるように構成されている。The guide 2 is, as shown in FIG.
It has one transport path 2a and the other transport path 2b. As shown in FIG. 3, a wiring cord 6 for transmitting the driving force from the driving unit 6 is provided on the one conveying path 2a side.
a is movably engaged so that the distal end side of the wiring cord 6a can be connected to the moving mechanism 3 side. Then, even if the moving mechanism 3 moves along the guide 2, the wiring cord 6a
Are configured to be able to respond by bending.
【００１６】前記移動機構３は、図１ないし図４で示す
ように、前記案内ガイド２の一方と他方の搬送路２ａ，
２ｂに掛け渡されて形成される移動本体３Ａと、この移
動本体３Ａに沿って設けられ光源装置４を移動させる移
動ガイド３ｅと、前記移動本体３Ａの左右に設けられた
支持脚３ａ，３ｂと、この支持脚３ａ，３ｂの下端側に
設けた、前記一方と他方の搬送路２ａ，２ｂに係合する
係合滑動部３ｃ，３ｄを備えている。As shown in FIGS. 1 to 4, the moving mechanism 3 includes one of the guide guides 2 and the other of the transport paths 2a,
A movable body 3A formed by being bridged over the movable body 2b, a movable guide 3e provided along the movable body 3A to move the light source device 4, and supporting legs 3a and 3b provided on the left and right sides of the movable body 3A. There are provided engaging sliding portions 3c and 3d provided at the lower ends of the support legs 3a and 3b and engaging with the one and other transport paths 2a and 2b.
【００１７】前記係合滑動部３ｃ、３ｄは、その一方
（図面では３ｄ）は、従動するように構成されており、
図面では凸状の搬送路上を滑動する構成としているが、
回動車輪の構成としても良い。One of the engaging sliding portions 3c and 3d (in the drawing, 3d) is configured to follow.
Although it is configured to slide on the convex conveyance path in the drawing,
It is good also as a structure of a rotating wheel.
【００１８】したがって、前記移動機構３は、図１
（ａ）の位置から図１（ｂ）の位置まで案内ガイド２に
沿って移動し、その移動機構３の両移動端の位置では、
前記移動ガイド３ｅに沿って光源装置４が移動すること
ができるように構成されている。そのため、ワークの四
周に沿って光照射できる構成としている。Therefore, the moving mechanism 3 is arranged as shown in FIG.
It moves along the guide 2 from the position of (a) to the position of FIG. 1B, and at the positions of both moving ends of the moving mechanism 3,
The light source device 4 is configured to be able to move along the moving guide 3e. Therefore, it is configured to be able to irradiate light along the four circumferences of the work.
【００１９】前記光源装置４は、係合部４Ａにより前記
移動ガイド３ｅに係合すると共に、その移動ガイド３ｅ
に沿って移動するように係合されている。そして、この
光源装置４は、所定波長の紫外線を含む光線を照射する
放電灯４ａと、この放電灯から光線をワークＷ側に反射
する反射鏡４ｂと、前記放電灯４ａおよび反射鏡４ｂか
らの光線を集光する光学レンズを複数有するレンズ群４
ｃと、このレンズ群４ｃから送られて来た光線の照射範
囲を規制する規制窓部４ｅと、この規制窓部４ｅの方向
を変更する照射方向変更機構４Ｂと、前記規制窓４ｅか
らの光線を外部に漏れないように覆うカバー体４ｆなど
から構成されている。The light source device 4 is engaged with the moving guide 3e by an engaging portion 4A, and the moving guide 3e
Are engaged to move along. The light source device 4 includes a discharge lamp 4a that irradiates a light beam containing ultraviolet light having a predetermined wavelength, a reflecting mirror 4b that reflects a light beam from the discharge lamp to the work W side, and a Lens group 4 having a plurality of optical lenses for condensing light rays
c, a regulating window 4e for regulating the irradiation range of the light beam transmitted from the lens group 4c, an irradiation direction changing mechanism 4B for changing the direction of the regulating window 4e, and a light beam from the regulating window 4e. Is covered with a cover body 4f or the like that does not leak outside.
【００２０】なお、前記放電灯４ａの直下には、シャッ
ター機構（図示せず）を設け、このシャッター機構によ
り放電灯４ａからの光線を制御する構成にすると、放電
灯４ａの内部の水銀などがベーパライズしてアーク放電
が安定するまでの時間がある程度かかっても問題なく露
光作業を行うことができる。It should be noted that a shutter mechanism (not shown) is provided directly below the discharge lamp 4a so that light emitted from the discharge lamp 4a is controlled by this shutter mechanism. The exposure operation can be performed without any problem even if it takes a certain amount of time until the arc discharge is stabilized by vaporization.
【００２１】また、前記照射方向変更機構４Ｂは、駆動
モータ４ｄと、この駆動モータ４ｄの駆動力をプーリな
どを介して伝達する駆動ベルト４ｇと、前記規制窓部４
ｅ側を回動自在に支持する回動支持部４ｈなどから構成
されている。The irradiation direction changing mechanism 4B includes a driving motor 4d, a driving belt 4g for transmitting the driving force of the driving motor 4d via a pulley, and the like,
It is composed of a rotation support portion 4h that rotatably supports the e side.
【００２２】そのため、図５および図６で示すように、
駆動モータ４ｄを駆動制御することで、駆動ベルト４ｇ
が駆動すると、回動支持部４ｈに支持されている規制窓
部４ｅの開口部４ｊの向きが９０度回転させることがで
きる。Therefore, as shown in FIGS. 5 and 6,
By controlling the drive of the drive motor 4d, the drive belt 4g
Is driven, the direction of the opening 4j of the regulating window 4e supported by the rotation support 4h can be rotated by 90 degrees.
【００２３】なお、前記載置台５は、ワークＷの周辺露
光を終了したら次工程に搬送するハンドラに、そのワー
クＷの受取りおよび受渡しを容易にするための駆動機構
５ｂにより上下動自在に支持されたピン５ａを所定数
（図面では四箇所）備えており、そのピン５ａは、ワー
クＷを受取位置に保持できるように真空吸着できるよう
に構成されている。また、ワークＷを載置台に保持する
機構は、その載置台のワーク載置面に真空吸着できる貫
通穴を設ける構成としても構わない。The mounting table 5 is vertically movably supported by a driving mechanism 5b for facilitating reception and delivery of the work W to a handler that conveys the work W to the next step after the peripheral exposure of the work W is completed. A predetermined number of pins 5a (four places in the drawing) are provided, and the pins 5a are configured to be able to be vacuum-sucked so that the workpiece W can be held at the receiving position. Further, the mechanism for holding the work W on the mounting table may have a configuration in which a through hole capable of vacuum suction is provided on the work mounting surface of the mounting table.
【００２４】つぎに、周辺露光装置の作用を説明する。
はじめに、図１（ａ）で示すように、ハンドラー（図示
せず）などによりワークＷが載置台５の上に搬送されて
載置されると、移動機構３を案内ガイド２に沿って移動
させると共に、光源装置４を移動機構３の移動ガイドに
沿って所定位置に移動しスタート位置（ワークＷの第一
辺の一端位置）に設定する。Next, the operation of the peripheral exposure apparatus will be described.
First, as shown in FIG. 1A, when the work W is transported and placed on the mounting table 5 by a handler (not shown) or the like, the moving mechanism 3 is moved along the guide 2. At the same time, the light source device 4 is moved to a predetermined position along the movement guide of the moving mechanism 3 and set to the start position (one end position of the first side of the work W).
【００２５】そして、光源装置４がスタート位置に設定
されると、放電灯４ａは、すでに点灯されており、シャ
ッター機構（図示せず）の開口により、光線がレンズ群
４ｃを介して規制窓部４ｅを通ってワークＷの周辺部分
のスタート位置を照射して周辺露光作業が開始される。When the light source device 4 is set to the start position, the discharge lamp 4a is already turned on, and the light beam is transmitted through the lens group 4c by the opening of the shutter mechanism (not shown). The peripheral exposure work is started by irradiating the start position of the peripheral portion of the work W through 4e.
【００２６】図７で示すように、光源装置４から照射さ
れた照射光Ｓａは、はじめにワークＷの第一辺Ｗａの一
端から他端に向かって所定速度で移動することになる。
ことのとき、図１（ａ）で示すように、移動機構３の移
動ガイド３ｅに沿って光源装置４が移動してワークの第
一辺を照射光Ｓａ（図７）により露光する。As shown in FIG. 7, the irradiation light Sa emitted from the light source device 4 first moves at a predetermined speed from one end of the first side Wa of the work W to the other end.
In this case, as shown in FIG. 1A, the light source device 4 moves along the moving guide 3e of the moving mechanism 3 to expose the first side of the work with the irradiation light Sa (FIG. 7).
【００２７】光源装置４からの照射光Ｓａは、ワークＷ
の第一辺Ｗａの他端を一旦通り越した位置で図６および
図７で示すように、照射方向変更機構４Ｂの駆動モータ
４ｄの作動により、規制窓部４ｅの開口部４ｊの向きが
９０度変更させられる。そして、再びワークＷの第一辺
Ｗａの他端（第二辺Ｗｂの一端）位置に、光源装置４を
移動機構３の移動ガイドに沿って移動させ配置する。The irradiation light Sa from the light source device 4 is
As shown in FIGS. 6 and 7, the direction of the opening 4j of the regulating window 4e is 90 degrees by the operation of the drive motor 4d of the irradiation direction changing mechanism 4B at a position once passing the other end of the first side Wa. Be changed. Then, the light source device 4 is again moved and arranged along the movement guide of the moving mechanism 3 at the other end of the first side Wa (one end of the second side Wb) of the work W.
【００２８】つぎに、第１図および図７で示すように、
ワークＷの第二辺Ｗｂの一端から他端に向かって、移動
機構３を案内ガイド２に沿って所定速度で移動させるこ
とで光源装置４を移動し、照射光ＳｂによりワークＷの
第２辺Ｗｂを露光する。このとき、光源装置４の位置
は、移動機構３の適正位置で固定させた状態とする。Next, as shown in FIGS. 1 and 7,
The light source device 4 is moved by moving the moving mechanism 3 at a predetermined speed along the guide 2 from one end to the other end of the second side Wb of the work W, and the second side of the work W is irradiated by the irradiation light Sb. Wb is exposed. At this time, the position of the light source device 4 is fixed at an appropriate position of the moving mechanism 3.
【００２９】さらに、光源装置４からの照射光Ｓｂは、
ワークＷの第二辺Ｗｂの他端を一旦通り越した位置で，
図６および図７で示すように、照射方向変更機構４Ｂの
駆動モータ４ｄの作動により、規制窓部４ｅの開口部４
ｊの向きが９０度変更させられる。そして、再びワーク
Ｗの第二辺Ｗｂの他端（第三辺Ｗｃの一端）位置に、光
源装置４を、移動機構３が案内ガイド２に沿って移動す
ることで配置する。Further, the irradiation light Sb from the light source device 4 is
At a position once passing the other end of the second side Wb of the workpiece W,
As shown in FIGS. 6 and 7, the operation of the drive motor 4d of the irradiation direction changing mechanism 4B causes the opening 4 of the regulating window 4e to be opened.
The direction of j is changed by 90 degrees. Then, the light source device 4 is disposed at the other end of the second side Wb (one end of the third side Wc) of the work W by moving the moving mechanism 3 along the guide 2.
【００３０】そして、図１および図７で示すように、ワ
ークＷの第三辺Ｗｃの一端から他端に向かって、移動機
構３の移動ガイド３ｅに沿って光源装置４を移動させる
ことで、照射光ＳｃによりワークＷの第三辺Ｗｃの露光
作業を行う。Then, as shown in FIGS. 1 and 7, the light source device 4 is moved along the movement guide 3e of the movement mechanism 3 from one end of the third side Wc of the work W to the other end. The exposure operation of the third side Wc of the work W is performed by the irradiation light Sc.
【００３１】さらに、光源装置４からの照射光Ｓｃは、
ワークＷの第二辺Ｗｃの他端を一旦通り越した位置で，
図６および図７で示すように、照射方向変更機構４Ｂの
駆動モータ４ｄを作動させ、規制窓部４ｅの開口部４ｊ
の向きを９０度変更させる。そして、再びワークＷの第
三辺Ｗｃの他端（第四辺Ｗｄの一端）位置に、移動機構
３が案内ガイド２に沿って移動することで光源装置４を
配置する。Further, the irradiation light Sc from the light source device 4 is:
At a position once passing the other end of the second side Wc of the workpiece W,
As shown in FIGS. 6 and 7, the drive motor 4d of the irradiation direction changing mechanism 4B is operated to open the opening 4j of the regulating window 4e.
Is changed by 90 degrees. Then, the light source device 4 is arranged by moving the moving mechanism 3 along the guide 2 at the other end (one end of the fourth side Wd) of the third side Wc of the work W again.
【００３２】さらに、ワークＷの第四辺Ｗｄの一端から
他端に向かって、移動機構３を案内ガイド２に沿って移
動させることで、光源装置４からの照射光Ｓｄによりワ
ークＷの第四辺Ｗｄの露光作業を行い、ワークＷの周辺
露光作業を終了する。Further, by moving the moving mechanism 3 along the guide 2 from one end of the fourth side Wd of the work W to the other end, the fourth light Wd of the work W The exposure operation of the side Wd is performed, and the peripheral exposure operation of the work W is completed.
【００３３】なお、前記規制窓部４ｅの開口部４ｊの向
きを変更する際に、光源装置４の放電灯４ａの直下に設
けるシャッター機構（図示せず）を閉塞することで、各
辺の端部を通り過ぎることなくその端部の位置で、開口
部４ｊの向きを変更する作業を行い、そして、開口部４
ｊの向きを変更したら、再びシャター機構を開口して露
光作業を再開する構成としても構わない。このように、
シャッター機構の開閉動作と、開口部４ｊの向きの変更
動作とを連動させることで、移動機構および光源装置の
移動動作が簡略化される構成としても良い。When the direction of the opening 4j of the regulating window 4e is changed, a shutter mechanism (not shown) provided immediately below the discharge lamp 4a of the light source device 4 is closed, so that the end of each side is closed. Work to change the direction of the opening 4j at the position of the end without passing through the opening 4j
After changing the direction of j, the shutter may be opened again to resume the exposure operation. in this way,
By linking the opening / closing operation of the shutter mechanism and the operation of changing the direction of the opening 4j, the moving operation of the moving mechanism and the light source device may be simplified.
【００３４】[0034]
【発明の効果】この発明は上記したように構成している
ため、以下の優れた効果を奏する。 周辺露光装置は、設置したワークを回転など移動さ
せることなく光源装置により、ワークの周辺を案内ガイ
ドおよび駆動機構により周回して露光作業を行うため、
ワークの位置決めを新たにする必要がなく、本来の配線
パターンを露光する露光作業を効率よく行うことができ
る。Since the present invention is configured as described above, it has the following excellent effects. The peripheral exposure device uses the light source device to rotate the installed work without rotating or moving it around the work around the guide guide and drive mechanism to perform the exposure work.
There is no need to re-position the work, and the exposure work for exposing the original wiring pattern can be performed efficiently.
【００３５】 周辺露光装置は、光源装置を移動自在
に支持する移動機構と、この移動機構を案内する案内ガ
イドとから構成されているため、ワークの所定位置に照
射光を設定する動作が容易で、周辺露光作業の動作スピ
ードが全体のライン作業の流れに適切に対応できる。Since the peripheral exposure device includes a moving mechanism that movably supports the light source device and a guide that guides the moving mechanism, the operation of setting the irradiation light at a predetermined position on the workpiece is easy. In addition, the operation speed of the peripheral exposure work can appropriately correspond to the flow of the entire line work.
【００３６】 周辺露光装置は、ワークの周辺を照射
する照射光の範囲を規制窓部の配置方向を移動させて行
うことから、ワークの周辺部分の適正な露光作業を行う
ことが可能となる。Since the peripheral exposure device performs the range of the irradiation light for irradiating the periphery of the work by moving the arrangement direction of the regulating window, it is possible to perform an appropriate exposure operation of the peripheral portion of the work.
【００３７】 周辺露光作業は、ワークの位置決めを
行い、ワークを載置台で保持した状態で、そのワークの
各辺を順次露光する構成としていることから、ワークを
載置台に搬入した状態で周辺露光作業が行えるため、載
置台上の新たなワークあるいは光源装置の位置決めにつ
いての構成を考慮する必要がなく都合が良い。In the peripheral exposure operation, since the work is positioned and the sides of the work are sequentially exposed while the work is held on the mounting table, the peripheral exposure is performed while the work is carried into the mounting table. Since the work can be performed, there is no need to consider a new work on the mounting table or a configuration for positioning the light source device, which is convenient.
【図１】（ａ）（ｂ）は、この発明の周辺露光装置の平
面図である。FIGS. 1A and 1B are plan views of a peripheral exposure apparatus of the present invention.
【図２】この発明の周辺露光装置の側面図である。FIG. 2 is a side view of the peripheral exposure apparatus of the present invention.
【図３】この発明の周辺露光装置の正面図である。FIG. 3 is a front view of the peripheral exposure apparatus of the present invention.
【図４】この発明の周辺露光装置の移動機構の要部を示
す原理図である。FIG. 4 is a principle view showing a main part of a moving mechanism of the peripheral exposure apparatus according to the present invention.
【図５】この発明の光源装置の全体を示す側面図であ
る。FIG. 5 is a side view showing the entire light source device of the present invention.
【図６】この発明の光源装置の要部を示す底面図であ
る。FIG. 6 is a bottom view showing a main part of the light source device of the present invention.
【図７】この発明の周辺露光作業の状態を示す原理図で
ある。FIG. 7 is a principle diagram showing a state of a peripheral exposure operation according to the present invention.
１ 周辺露光装置 ２ 案内ガイド ２ａ 一方の搬送路 ２ｂ 他方の搬送路 ３ 移動機構 ３Ａ 移動本体 ３ａ 支持脚 ３ｂ 支持脚 ３ｃ 係合滑動部 ３ｄ 係合滑動部 ３ｅ 移動ガイド ４ 光源装置 ４Ｂ 照射方向変更機構 ４ａ 放電灯 ４ｂ 反射鏡 ４ｃ レンズ群 ４ｄ 駆動モータ ４ｅ 規制窓部 ４ｆ カバー体 ４ｇ 駆動ベルト ４ｈ 回動支持部 ４ｊ 開口部 ５ 載置台 ６ 駆動部 ７ 電源装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Peripheral exposure apparatus 2 Guide 2a One conveyance path 2b The other conveyance path 3 Moving mechanism 3A Moving main body 3a Support leg 3b Support leg 3c Engagement sliding part 3d Engagement slide part 3e Movement guide 4 Light source device 4B Irradiation direction changing mechanism Reference numeral 4a Discharge lamp 4b Reflector 4c Lens group 4d Drive motor 4e Restriction window 4f Cover 4g Drive belt 4h Rotation support 4j Opening 5 Mounting table 6 Drive 7 Power supply
Claims (4)
少なくとも一辺側に設けた案内ガイドと、この案内ガイ
ドに沿って移動する移動機構と、この移動機構に沿って
移動自在に設けた光源部とを有し、前記光源部は、ワー
クの周辺を露光しながら周回することを特徴とする周辺
露光装置。1. A mounting table on which a work is mounted, a guide provided on at least one side of the mounting table, a moving mechanism moving along the guide, and movably provided along the moving mechanism. A light source section, wherein the light source section rotates while exposing the periphery of the work.
右に設けた搬送路を備え、前記移動機構は、前記搬送路
に掛け渡して設けた移動レールと、この移動レールを支
持する支持脚と、この支持脚の下端側に設けた前記搬送
路に係合する係合滑動部とからなる請求項１に記載の周
辺露光装置。2. The apparatus according to claim 1, wherein the guide includes a transfer path provided before and after or right and left of the work, and the moving mechanism includes a transfer rail provided to extend over the transfer path, and support legs for supporting the transfer rail. 2. The peripheral exposure apparatus according to claim 1, further comprising an engagement sliding portion provided on a lower end side of the support leg and engaging with the transport path.
線を照射する放電灯と、この放電灯から照射された光線
を所定方向に導く光学レンズと、前記光学レンズからの
光線の照射範囲を規制する規制窓部と、この規制窓部の
向きを変える照射方向変更機構を有する請求項１に記載
の週へ露光装置。3. A light source for irradiating a light beam containing ultraviolet light having a predetermined wavelength, an optical lens for guiding a light beam emitted from the discharge lamp in a predetermined direction, and an irradiation range of the light beam from the optical lens. 2. The weekly exposure apparatus according to claim 1, further comprising a regulating window for regulating the direction of irradiation, and an irradiation direction changing mechanism for changing the direction of the regulating window.
記ワークを光照射する光源装置の移動により前記ワーク
の第一辺の一端から他端を露光する第２工程と、前記光
源装置の移動により前記ワークの第二辺の一端から他端
を露光する第３工程と、前記光源装置の移動により前記
ワークの第三辺の一端から他端を露光する第４工程と、
前記光源装置の移動により前記ワークの第四辺の一端か
ら他端を露光する第５工程とからなるワークの周辺露光
方法。4. A first step of mounting a work on a mounting table, a second step of exposing one end to the other end of a first side of the work by moving a light source device for irradiating the work with light, A third step of exposing one end to the other end of the second side of the work by moving the device, and a fourth step of exposing the other end to the other end of the third side of the work by moving the light source device,
A fifth step of exposing one end to the other end of the fourth side of the work by moving the light source device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32015797A JP3211079B2 (en) | 1997-11-20 | 1997-11-20 | Peripheral exposure apparatus and method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32015797A JP3211079B2 (en) | 1997-11-20 | 1997-11-20 | Peripheral exposure apparatus and method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11154639A true JPH11154639A (en) | 1999-06-08 |
| JP3211079B2 JP3211079B2 (en) | 2001-09-25 |
Family
ID=18118347
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32015797A Expired - Fee Related JP3211079B2 (en) | 1997-11-20 | 1997-11-20 | Peripheral exposure apparatus and method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3211079B2 (en) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100508284B1 (en) * | 1999-12-20 | 2005-08-18 | 가부시키가이샤 오크세이사꾸쇼 | Peripheral exposure apparatus |
| JP2006278389A (en) * | 2005-03-28 | 2006-10-12 | Toray Eng Co Ltd | Peripheral exposure device |
| KR20120071347A (en) * | 2010-12-22 | 2012-07-02 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | Local exposure method and local exposure apparatus |
| WO2013078695A1 (en) * | 2011-11-29 | 2013-06-06 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Method for manufacturing shading plate |
| US8802359B2 (en) | 2011-11-29 | 2014-08-12 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | UV glass production method |
| WO2016093122A1 (en) * | 2014-12-09 | 2016-06-16 | シャープ株式会社 | Method for manufacturing display panel substrate |
-
1997
- 1997-11-20 JP JP32015797A patent/JP3211079B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100508284B1 (en) * | 1999-12-20 | 2005-08-18 | 가부시키가이샤 오크세이사꾸쇼 | Peripheral exposure apparatus |
| JP2006278389A (en) * | 2005-03-28 | 2006-10-12 | Toray Eng Co Ltd | Peripheral exposure device |
| JP4495019B2 (en) * | 2005-03-28 | 2010-06-30 | 東レエンジニアリング株式会社 | Peripheral exposure equipment |
| TWI394014B (en) * | 2005-03-28 | 2013-04-21 | Toray Eng Co Ltd | Peripheral exposure device |
| KR20120071347A (en) * | 2010-12-22 | 2012-07-02 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | Local exposure method and local exposure apparatus |
| WO2013078695A1 (en) * | 2011-11-29 | 2013-06-06 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Method for manufacturing shading plate |
| US8802359B2 (en) | 2011-11-29 | 2014-08-12 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | UV glass production method |
| WO2016093122A1 (en) * | 2014-12-09 | 2016-06-16 | シャープ株式会社 | Method for manufacturing display panel substrate |
| US9853070B2 (en) | 2014-12-09 | 2017-12-26 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing display panel substrate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3211079B2 (en) | 2001-09-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101105568B1 (en) | Peripheral exposure device, coating and developing apparatus and peripheral exposure method | |
| KR100508284B1 (en) | Peripheral exposure apparatus | |
| JP2002353096A (en) | Method for conveying substrate, apparatus and method for exposure | |
| JP3211079B2 (en) | Peripheral exposure apparatus and method | |
| JPH05259069A (en) | Method of exposing periphery of wafer | |
| JP2004014670A (en) | Substrate processing apparatus and method therefor | |
| JP2001201862A (en) | Peripheral aligner | |
| JPH05265220A (en) | Exposure device for inclined substrate | |
| JP3340720B2 (en) | Peripheral exposure equipment | |
| JP2000294500A (en) | Peripheral exposure device and the method | |
| JP3219925B2 (en) | Peripheral exposure apparatus and peripheral exposure method | |
| JP7312692B2 (en) | Edge exposure device and edge exposure method | |
| JPH09186066A (en) | Peripheral exposure method and equipment | |
| JP3598479B2 (en) | Exposure apparatus and positioning method in exposure apparatus | |
| JPH01165118A (en) | Fringing part exposure device of wafer | |
| JPH1012696A (en) | Substrate carrying device | |
| JP7418535B2 (en) | Substrate processing equipment and substrate processing method | |
| JP4472151B2 (en) | Irradiation light distribution mechanism and apparatus equipped with the same | |
| JP2003228169A (en) | Exposure method and aligner | |
| JP4098936B2 (en) | Ultraviolet illuminance measurement mechanism | |
| JP3449859B2 (en) | Substrate peripheral exposure system | |
| JP2648209B2 (en) | Exposure apparatus and exposure method | |
| JP2002319529A (en) | Peripheral aligner and substrate processing device | |
| TW202137293A (en) | Substrate processing device and substrate processing method | |
| JPH0553211A (en) | Ultraviolet-ray irradiation device |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100719 Year of fee payment: 9 |
|
| R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100719 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100719 Year of fee payment: 9 |
|
| R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100719 Year of fee payment: 9 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100719 Year of fee payment: 9 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100719 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100719 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110719 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110719 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120719 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120719 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130719 Year of fee payment: 12 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |