JPH11147865A - 脂肪族不飽和ニトリルの製法 - Google Patents
脂肪族不飽和ニトリルの製法Info
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- JPH11147865A JPH11147865A JP10247073A JP24707398A JPH11147865A JP H11147865 A JPH11147865 A JP H11147865A JP 10247073 A JP10247073 A JP 10247073A JP 24707398 A JP24707398 A JP 24707398A JP H11147865 A JPH11147865 A JP H11147865A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C253/00—Preparation of carboxylic acid nitriles
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 脂肪族不飽和ニトリルの製法
【解決手段】 下記式Ｉの不飽和ニトリルを下記式ＩＩ
のオキシムの脱水により製造する方法において、気相又
は液相中、１５０〜３００℃の温度で、塩基性酸化物及
び／又は水酸化物を、又は反応条件下にこれらに移行す
る化合物をドーピングされている酸化物、炭化物又は窒
化物担体からなるか、又は塩基性酸化物から成る不均一
系触媒により脱水を実施する。 【化１】
のオキシムの脱水により製造する方法において、気相又
は液相中、１５０〜３００℃の温度で、塩基性酸化物及
び／又は水酸化物を、又は反応条件下にこれらに移行す
る化合物をドーピングされている酸化物、炭化物又は窒
化物担体からなるか、又は塩基性酸化物から成る不均一
系触媒により脱水を実施する。 【化１】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、金属酸化物塩基又
は金属水酸化物塩基をドーピングされている酸化物、炭
化物又は窒化物担体触媒を用いて、又は担持されていな
い塩基性金属酸化物を用いての気相又は液相中での触媒
脱水による不飽和アルドキシムからの脂肪族不飽和ニト
リルの製造に関する。
は金属水酸化物塩基をドーピングされている酸化物、炭
化物又は窒化物担体触媒を用いて、又は担持されていな
い塩基性金属酸化物を用いての気相又は液相中での触媒
脱水による不飽和アルドキシムからの脂肪族不飽和ニト
リルの製造に関する。
【０００２】
【従来の技術】ニトリルへのアルドキシムの脱水は専門
文献中に詳細に記載されている。種々の試薬を用いての
いくつかの方法をまとめた記載が、A.J.Fatiadi in The
Chemistry of Triple Bonded Functional Groups, Sup
plement D, Part 2, 1057-1303, S.Patai 及び Z.Rappo
port, Eds. John-Wiley New York、1083中にある。
文献中に詳細に記載されている。種々の試薬を用いての
いくつかの方法をまとめた記載が、A.J.Fatiadi in The
Chemistry of Triple Bonded Functional Groups, Sup
plement D, Part 2, 1057-1303, S.Patai 及び Z.Rappo
port, Eds. John-Wiley New York、1083中にある。
【０００３】シトラールオキシム（３，７−ジメチル−
オクタ−２，６−ジエナールオキシム(dienaloxim)）
を、水の循環排出下にトルエン中で水酸化カリウムを用
いて脱水する国際公開ＷＯ９３/０２０４６−Ａ１号明
細書に記載の新規の方法が特に重要である。この方法は
勿論、不均一系触媒を用いての方法が有利である大工業
的規模での実施にはあまり好適ではないという欠点を有
する。
オクタ−２，６−ジエナールオキシム(dienaloxim)）
を、水の循環排出下にトルエン中で水酸化カリウムを用
いて脱水する国際公開ＷＯ９３/０２０４６−Ａ１号明
細書に記載の新規の方法が特に重要である。この方法は
勿論、不均一系触媒を用いての方法が有利である大工業
的規模での実施にはあまり好適ではないという欠点を有
する。
【０００４】しかし通常、気相中の不均一系触媒を用い
ての従来記載された脱水はまだ不充分である。
ての従来記載された脱水はまだ不充分である。
【０００５】例えば、M.N.Rao et al.によりOrg. Prep.
Proced. Int. 21, 230-232(1989)中に記載された気相
−脱水では、 Ｃｓ−Ｘ−ゼオライトによる芳香族及び
脂肪族アルドキシムは、３００℃を上回る高い温度を必
要とする。
Proced. Int. 21, 230-232(1989)中に記載された気相
−脱水では、 Ｃｓ−Ｘ−ゼオライトによる芳香族及び
脂肪族アルドキシムは、３００℃を上回る高い温度を必
要とする。
【０００６】更に、Houben-Weyl, Bd. 8S. 326ff中に、
３４０℃を上回る高い温度で酸化アルミニウム又は酸化
トリウムを用いてのオキシムのニトリルへの脱水が報告
されている。
３４０℃を上回る高い温度で酸化アルミニウム又は酸化
トリウムを用いてのオキシムのニトリルへの脱水が報告
されている。
【０００７】これに対してこれらの高温を回避するため
に、H.M.Meshramにより、Synthesis(1992),943-944中
で、芳香族又は飽和脂肪族アルドキシムの気相脱水のた
めに、モンモリロナイトＫＳＦ（酸性中心を有する粘
土）を触媒として使用することが提案された。それを用
いると、反応は低温でも進行するが、不充分な空時収率
により、この方法は経済的に魅力のないものとなる。
に、H.M.Meshramにより、Synthesis(1992),943-944中
で、芳香族又は飽和脂肪族アルドキシムの気相脱水のた
めに、モンモリロナイトＫＳＦ（酸性中心を有する粘
土）を触媒として使用することが提案された。それを用
いると、反応は低温でも進行するが、不充分な空時収率
により、この方法は経済的に魅力のないものとなる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、不均一系触媒を用いて、比較的低い温度、短い滞留
時間及び良好な収率で不飽和アルドキシムの脱水を可能
にする方法を提案することである。
は、不均一系触媒を用いて、比較的低い温度、短い滞留
時間及び良好な収率で不飽和アルドキシムの脱水を可能
にする方法を提案することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この課題は、式Ｉ：
【００１０】
【化３】
【００１１】[式中、Ｒ、Ｒ1及びＲ2は相互に無関係に
１〜２０個のＣ−原子を有するアルキル基又はアルケニ
ル基又は３〜１２個のＣ−原子を有するシクロアルキル
基又はシクロアルケニル基を表し、その際、基Ｒ、Ｒ1
及びＲ2の内の２つが、飽和又は不飽和環の成分であっ
てよく、かつその際、Ｒ1及びＲ2は水素原子であっても
よく、かつｎは０又は１〜２０、殊に０又は１〜７の値
を表す]の不飽和ニトリルを式ＩＩ：
１〜２０個のＣ−原子を有するアルキル基又はアルケニ
ル基又は３〜１２個のＣ−原子を有するシクロアルキル
基又はシクロアルケニル基を表し、その際、基Ｒ、Ｒ1
及びＲ2の内の２つが、飽和又は不飽和環の成分であっ
てよく、かつその際、Ｒ1及びＲ2は水素原子であっても
よく、かつｎは０又は１〜２０、殊に０又は１〜７の値
を表す]の不飽和ニトリルを式ＩＩ：
【００１２】
【化４】
【００１３】[式中、Ｒ、Ｒ1、Ｒ2及びｎは前記の意味
を有する]のオキシムの脱水により製造する方法を用い
て解決され、その際、気相又は液相中、１５０〜３００
℃の温度で、塩基性酸化物及び／又は水酸化物で、又は
反応条件下にこれらに移行する化合物でドーピングされ
ている酸化物、炭化物又は窒化物担体からなるか、又は
塩基性酸化物から成る不均一系触媒を用いて脱水を実施
することを特徴とする。
を有する]のオキシムの脱水により製造する方法を用い
て解決され、その際、気相又は液相中、１５０〜３００
℃の温度で、塩基性酸化物及び／又は水酸化物で、又は
反応条件下にこれらに移行する化合物でドーピングされ
ている酸化物、炭化物又は窒化物担体からなるか、又は
塩基性酸化物から成る不均一系触媒を用いて脱水を実施
することを特徴とする。
【００１４】式ＩＩの出発材料としては殊に、ｎ＝０も
しくはｎ＝１からｎ＝７である化合物がこれに該当す
る。これには例えば、アンゲリカオキシム、アレプリン
オキシム、α，β−アポシトロネラールオキシム(apoci
tronellal oxime)、ベルガモテンオキシム(bergamotene
oxime)、ピロテレビンオキシム(pyroterebine oxim
e)、カムホレンオキシム(campholene oxime)、シトロネ
ラールオキシム、シトラールオキシム、クリサンテムオ
キシム(chrysantheme oxime)、シクロシトラールオキシ
ム、シクロラヴァンヂュラルオキシム(cyclolavandulal
oxime)、ファラナルオキシム(faranal oxime)、ファル
ネサルオキシム(farnesal oxime)、イソラウラナルオキ
シム(isolauranal oxime)、イケマオキシム（ikema oxi
me)、ミルテナルオキシム(myrthenal oxime)、フェラン
ドリンオキシム(phellandrine oxime)、サフラナールオ
キシム(safranal oxime)及びソルビナールオキシム(sor
binal oxime)が含まれる。
しくはｎ＝１からｎ＝７である化合物がこれに該当す
る。これには例えば、アンゲリカオキシム、アレプリン
オキシム、α，β−アポシトロネラールオキシム(apoci
tronellal oxime)、ベルガモテンオキシム(bergamotene
oxime)、ピロテレビンオキシム(pyroterebine oxim
e)、カムホレンオキシム(campholene oxime)、シトロネ
ラールオキシム、シトラールオキシム、クリサンテムオ
キシム(chrysantheme oxime)、シクロシトラールオキシ
ム、シクロラヴァンヂュラルオキシム(cyclolavandulal
oxime)、ファラナルオキシム(faranal oxime)、ファル
ネサルオキシム(farnesal oxime)、イソラウラナルオキ
シム(isolauranal oxime)、イケマオキシム（ikema oxi
me)、ミルテナルオキシム(myrthenal oxime)、フェラン
ドリンオキシム(phellandrine oxime)、サフラナールオ
キシム(safranal oxime)及びソルビナールオキシム(sor
binal oxime)が含まれる。
【００１５】式中ｎ＝０であるような式Ｉの化合物を使
用するのが有利である。
用するのが有利である。
【００１６】詳細には、アンゲリカオキシム、ベルガモ
テンオキシム、シクロシクロラヴァンヂュラルオキシ
ム、シトラールオキシム、ファルネサルオキシム、イケ
マオキシム、イソラウラナルオキシム、フェランドリン
オキシム及びソルビナールオキシムを挙げることができ
る。殊には、ゲラノニトリル(geranonitril)がそれから
生じるシトラールオキシムが該当する。
テンオキシム、シクロシクロラヴァンヂュラルオキシ
ム、シトラールオキシム、ファルネサルオキシム、イケ
マオキシム、イソラウラナルオキシム、フェランドリン
オキシム及びソルビナールオキシムを挙げることができ
る。殊には、ゲラノニトリル(geranonitril)がそれから
生じるシトラールオキシムが該当する。
【００１７】触媒としては一般に、塩基性金属酸化物又
は金属水酸化物をドーピングされた担体触媒がこれに該
当する。その場合、ドーピングとは、金属酸化物又は金
属水酸化物の施与だけではなく、イオン交換に好適な担
体材料での例えばアルカリ金属イオン又はアルカリ土類
金属イオンとのイオン交換も意味する。
は金属水酸化物をドーピングされた担体触媒がこれに該
当する。その場合、ドーピングとは、金属酸化物又は金
属水酸化物の施与だけではなく、イオン交換に好適な担
体材料での例えばアルカリ金属イオン又はアルカリ土類
金属イオンとのイオン交換も意味する。
【００１８】多くの場合慣用なように、担体は、酸化
物、炭化物又は窒化物の種類である。しかし、担体とし
て、ＩｂからＶＩＩｂ、ＶＩＩＩ及びＩＩＩａからＶａ
族、殊にＩＩＩｂからＶＩＩｂ、ＶＩＩＩ、ＩＩＩａ及
びＩＶａ族の群の金属の金属酸化物又はこれらの混合物
が有利である。
物、炭化物又は窒化物の種類である。しかし、担体とし
て、ＩｂからＶＩＩｂ、ＶＩＩＩ及びＩＩＩａからＶａ
族、殊にＩＩＩｂからＶＩＩｂ、ＶＩＩＩ、ＩＩＩａ及
びＩＶａ族の群の金属の金属酸化物又はこれらの混合物
が有利である。
【００１９】その場合、金属酸化物が、Ｘ線結晶学的に
晶質であるか、非晶質であるかどうかは厳密ではない。
晶質であるか、非晶質であるかどうかは厳密ではない。
【００２０】詳細には殊に、任意に変成された酸化アル
ミニウム、二酸化ケイ素、二酸化チタン及び二酸化ジル
コンを挙げることができる。担体は一般に、０．１〜５
００ｍ2／ｇ、有利に１〜４００ｍ2／ｇのＢＥＴ−表面
積を有する。
ミニウム、二酸化ケイ素、二酸化チタン及び二酸化ジル
コンを挙げることができる。担体は一般に、０．１〜５
００ｍ2／ｇ、有利に１〜４００ｍ2／ｇのＢＥＴ−表面
積を有する。
【００２１】３００℃未満の範囲で脱水活性を展開する
ために、触媒担体は、塩基性金属酸化物又は金属水酸化
物を、又は反応条件下にこれらを形成する金属化合物を
ドーピングされている必要がある。
ために、触媒担体は、塩基性金属酸化物又は金属水酸化
物を、又は反応条件下にこれらを形成する金属化合物を
ドーピングされている必要がある。
【００２２】酸化物材料をドーピングするためにこれら
の金属イオンを、Ｉａ、ＩＩａからＶＩＩＩ及びＩＩｂ
からＶｂ族、殊にＩＩｂ又はＩＩＩｂ族の群から、並び
にＬａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、
Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ並びにそれらの混
合物からなるランタノイドの群から選択する。Ｌｉ、Ｎ
ａ、Ｋ、Ｒｂ、ＣｓからなるＩａ族及びＢｅ、Ｍｇ、Ｃ
ａ、Ｓｒ、ＢａからなるＩＩａ族の金属イオンが有利で
ある。触媒に対して酸化物として算出して塩基性酸化物
／水酸化物の含有率は、０．１〜５０重量％、有利に
０．２〜４０重量％、特に有利に０．３〜３０重量％及
び殊に１〜１０重量％である。
の金属イオンを、Ｉａ、ＩＩａからＶＩＩＩ及びＩＩｂ
からＶｂ族、殊にＩＩｂ又はＩＩＩｂ族の群から、並び
にＬａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、
Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ並びにそれらの混
合物からなるランタノイドの群から選択する。Ｌｉ、Ｎ
ａ、Ｋ、Ｒｂ、ＣｓからなるＩａ族及びＢｅ、Ｍｇ、Ｃ
ａ、Ｓｒ、ＢａからなるＩＩａ族の金属イオンが有利で
ある。触媒に対して酸化物として算出して塩基性酸化物
／水酸化物の含有率は、０．１〜５０重量％、有利に
０．２〜４０重量％、特に有利に０．３〜３０重量％及
び殊に１〜１０重量％である。
【００２３】酸化物基礎材料のドーピングは、自体公知
の方法、例えば含浸、浸透又はイオン交換により行うこ
とができる。触媒をドーピング処理の後に通常、乾燥さ
せ、引き続きか焼する。か焼温度は通常１５０〜８００
℃、有利に１５０〜７００℃、かつ特に有利に３００〜
６５０℃である。
の方法、例えば含浸、浸透又はイオン交換により行うこ
とができる。触媒をドーピング処理の後に通常、乾燥さ
せ、引き続きか焼する。か焼温度は通常１５０〜８００
℃、有利に１５０〜７００℃、かつ特に有利に３００〜
６５０℃である。
【００２４】相応するニトリルへの不飽和アルドキシム
の脱水を通常、０．５〜５バールで、かつ１５０〜３０
０℃、有利に２００〜２５０℃の温度でバッチ法で、又
は連続的に実施し、その際、連続的な処理法が特に有利
である。連続的な反応のためには、気相又は液相中の固
体床での並びに流動床の気相中でのアルドキシムの反応
が好適である。
の脱水を通常、０．５〜５バールで、かつ１５０〜３０
０℃、有利に２００〜２５０℃の温度でバッチ法で、又
は連続的に実施し、その際、連続的な処理法が特に有利
である。連続的な反応のためには、気相又は液相中の固
体床での並びに流動床の気相中でのアルドキシムの反応
が好適である。
【００２５】本発明の反応は、溶剤の存在下又は不在下
に実施することができる。
に実施することができる。
【００２６】気相中での固定配置触媒上での脱水のため
に殊に、反応条件下に蒸気状の非極性溶剤を使用する。
好適な溶剤は例えば、１２個までのＣ−原子を有する炭
化水素、例えばヘキサン、ヘプタン又はオクタンであ
る。
に殊に、反応条件下に蒸気状の非極性溶剤を使用する。
好適な溶剤は例えば、１２個までのＣ−原子を有する炭
化水素、例えばヘキサン、ヘプタン又はオクタンであ
る。
【００２７】液相中での反応には、反応条件下に液状の
溶剤が該当する。これは殊に、より高い沸点を有する炭
化水素、例えば３００℃を上回る沸点を有するパラフィ
ンオイル及びホワイトオイルである。
溶剤が該当する。これは殊に、より高い沸点を有する炭
化水素、例えば３００℃を上回る沸点を有するパラフィ
ンオイル及びホワイトオイルである。
【００２８】蒸留により生成物から分離することができ
る極性中沸点及び高沸点溶剤、例えばＮ−メチルピロリ
ドン、Ｎ−メチルモルホリン、ジメチルプロピレン尿素
又はジメチルエチレン尿素もこれに該当する。
る極性中沸点及び高沸点溶剤、例えばＮ−メチルピロリ
ドン、Ｎ−メチルモルホリン、ジメチルプロピレン尿素
又はジメチルエチレン尿素もこれに該当する。
【００２９】式ＩＩの本発明により製造される不飽和ニ
トリルは、反応器中での短い滞留時間及び良好な変換率
での非常に良好な選択性で、優れた空時収率で得られ
る。
トリルは、反応器中での短い滞留時間及び良好な変換率
での非常に良好な選択性で、優れた空時収率で得られ
る。
【００３０】
【実施例】一般的実施 シトラールオキシムの脱水を、気相装置中で実験室規模
で、次の標準条件下に実施した：１００ｍｌ−滴下漏斗
から、純粋なシトラールオキシム（Ｅ，Ｚ−混合物）の
形の、又はメチルピロリドン又はｎ−ヘキサン中の溶液
（１：１）としての供給物１３〜２６ｍｌ／ｈを、配量
ポンプを用いて、気相反応器（全長５００ミリ、その内
予備加熱区域２００ｍｍ、反応帯域３００ｍｍ、直径３
０ｍｍ）の予備加熱領域中に供給した。反応器の加熱
を、別に電気的に加熱される石英管炉を用いて行い、そ
の際、予備加熱区域を５００Ｗで約２１０℃に、かつ反
応帯域を１０００Ｗで２５０℃に加熱した。温度調節及
び監視を、反応器の縦軸に位置する熱外装（直径６．５
ｍｍ）中のＰｔ−１００熱電対を用いて実施した。調節
可能な窒素流（５〜２０ｌ／時、ロータメーターにより
測定）下に、反応混合物を触媒（押出物）１００ｍｌを
用いて反応させた。気体反応排出物を後続のＣＯ2−コ
ンデンサーを有するエネルギーボールコンデンサーを用
いて凝縮させ、かつ受器中に集めた。ゲラノニトリルを
単離するために反応排出物の後処理を蒸留により行っ
た。
で、次の標準条件下に実施した：１００ｍｌ−滴下漏斗
から、純粋なシトラールオキシム（Ｅ，Ｚ−混合物）の
形の、又はメチルピロリドン又はｎ−ヘキサン中の溶液
（１：１）としての供給物１３〜２６ｍｌ／ｈを、配量
ポンプを用いて、気相反応器（全長５００ミリ、その内
予備加熱区域２００ｍｍ、反応帯域３００ｍｍ、直径３
０ｍｍ）の予備加熱領域中に供給した。反応器の加熱
を、別に電気的に加熱される石英管炉を用いて行い、そ
の際、予備加熱区域を５００Ｗで約２１０℃に、かつ反
応帯域を１０００Ｗで２５０℃に加熱した。温度調節及
び監視を、反応器の縦軸に位置する熱外装（直径６．５
ｍｍ）中のＰｔ−１００熱電対を用いて実施した。調節
可能な窒素流（５〜２０ｌ／時、ロータメーターにより
測定）下に、反応混合物を触媒（押出物）１００ｍｌを
用いて反応させた。気体反応排出物を後続のＣＯ2−コ
ンデンサーを有するエネルギーボールコンデンサーを用
いて凝縮させ、かつ受器中に集めた。ゲラノニトリルを
単離するために反応排出物の後処理を蒸留により行っ
た。
【００３１】触媒及び温度の変更により得られた結果を
それぞれ、第１表及び第２表にまとめた。
それぞれ、第１表及び第２表にまとめた。
【００３２】
【表１】
【００３３】
【表２】
【００３４】例９（液相中での脱水） 例１中に記載されていると同様の装置中で、パラフィン
オイル中のシトラールオキシム１０重量％からなる混合
物を、触媒（ＺｒＯ2上ＢａＯ５％）を用いて常圧で反
応させた。予備ヒーターの温度は１５０〜２２０℃で、
反応温度は２２０℃であった。供給は２３９ｍｌ／時で
あり、そうして、０．９５ｋｇ／ｌ・時の触媒負荷で変
換率＞９８％が達成された。反応器から排出された反応
混合物から、ワイピング−ブレード蒸発器で、ゲラノニ
トリルをパラフィンオイルから分離除去した。更に蒸留
により精製することができるこうして得られたニトリル
の収率は、９０％を上回った。
オイル中のシトラールオキシム１０重量％からなる混合
物を、触媒（ＺｒＯ2上ＢａＯ５％）を用いて常圧で反
応させた。予備ヒーターの温度は１５０〜２２０℃で、
反応温度は２２０℃であった。供給は２３９ｍｌ／時で
あり、そうして、０．９５ｋｇ／ｌ・時の触媒負荷で変
換率＞９８％が達成された。反応器から排出された反応
混合物から、ワイピング−ブレード蒸発器で、ゲラノニ
トリルをパラフィンオイルから分離除去した。更に蒸留
により精製することができるこうして得られたニトリル
の収率は、９０％を上回った。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ミヒャエル ヘンニングゼン ドイツ連邦共和国 フランケンタール ト ゥルペンシュトラーセ ７ (72)発明者 ゲオルク ハインリッヒ グロッシュ ドイツ連邦共和国 バート デュルクハイ ム ベルリナー シュトラーセ 16
Claims (10)
- 【請求項１】 式Ｉ： 【化１】 [式中、Ｒ、Ｒ1及びＲ2は相互に無関係に１〜２０個の
Ｃ−原子を有するアルキル基又はアルケニル基又は３〜
１２個のＣ−原子を有するシクロアルキル基又はシクロ
アルケニル基を表し、その際、基Ｒ、Ｒ1及びＲ2の内の
２つが飽和又は不飽和環の成分であってよく、かつその
際、Ｒ1及びＲ2は水素原子であってもよく、かつｎは０
又は１〜２０の値を表す]の不飽和ニトリルを式ＩＩ： 【化２】 [式中、Ｒ、Ｒ1、Ｒ2及びｎは前記の意味を有する]のオ
キシムの脱水により製造する方法において、気相又は液
相中、１５０〜３００℃の温度で、塩基性酸化物及び／
又は水酸化物を、又は反応条件下にこれらに移行する化
合物をドーピングされている酸化物、炭化物又は窒化物
担体からなるか、又は塩基性酸化物から成る不均一系触
媒を用いて脱水を実施することを特徴とする、式Ｉの不
飽和ニトリルの製法。 - 【請求項２】 担体として、元素周期系のＩｂからＶＩ
Ｉｂ及びＶＩＩＩ又はＩＩＩａからＶａ族からなる群の
元素の金属酸化物又はこれらの金属酸化物の混合物を含
有し、触媒に対して酸化物として算出して、Ｉａ、ＩＩ
ａ、ＩＩｂからＶｂ族及び／又はランタニドからなる群
の元素の塩基性酸化物又は水酸化物又は反応条件下に塩
基性酸化物又は水酸化物を形成する化合物０．１〜５０
重量％をドーピングされている触媒を使用する、請求項
１に記載の方法。 - 【請求項３】 担体として、元素周期系のＩＩｂからＶ
ＩＩｂ又はＶＩＩＩ又はＩＩＩａからＩＶａ族からなる
群の元素の金属酸化物又はこれらの金属酸化物の混合物
を含有し、触媒に対して酸化物として算出して、アルカ
リ金属酸化物又はアルカリ土類金属酸化物又はアルカリ
金属水酸化物又はアルカリ土類金属水酸化物又は反応条
件下にこれらに移行する化合物０．２〜４０重量％をド
ーピングされている触媒を使用する、請求項１に記載の
方法。 - 【請求項４】 触媒に対して酸化物として算出して、ア
ルカリ金属酸化物又はアルカリ土類金属酸化物又はアル
カリ金属水酸化物又はアルカリ土類金属水酸化物０．３
〜３０重量％を、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、二
酸化チタン及び二酸化ジルコンからなる群から選択され
る酸化物担体上に含有する触媒を使用する、請求項１に
記載の方法。 - 【請求項５】 酸化物として算出して、アルカリ金属酸
化物又はアルカリ土類金属酸化物又はアルカリ金属水酸
化物又はアルカリ土類金属水酸化物１〜１０重量％を含
有する触媒を使用する、請求項１に記載の方法。 - 【請求項６】 アルカリ性アルカリ金属化合物又はアル
カリ土類金属化合物の溶液に含浸され、かつ３００〜６
５０℃の温度でか焼されている酸化アルミニウム、二酸
化ケイ素、二酸化チタン及び二酸化ジルコンからなる群
から選択される、酸化物触媒として形成された触媒を使
用する、請求項１に記載の方法。 - 【請求項７】 反応条件下に蒸気状で存在する溶剤の存
在下に、気相中で脱水を実施する、請求項１に記載の方
法。 - 【請求項８】 反応条件下に液状の溶剤の存在下に、液
相で脱水を実施する、請求項１に記載の方法。 - 【請求項９】 温度２００〜２５０℃及び圧力０．５〜
５バールで反応を実施する、請求項１に記載の方法。 - 【請求項１０】 シトラールオキシムの脱水によりゲラ
ノニトリルを製造する、請求項１に記載の方法。
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|---|---|---|---|
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| DE19738576A DE19738576A1 (de) | 1997-09-04 | 1997-09-04 | Verfahren zur Herstellung aliphatischer, ungesättigter Nitrile |
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|---|---|
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