JPH11145038A - 現像装置および現像方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 均一な現像処理を行なうことができる現像装
置および現像方法を提供することである。 【解決手段】 現像液吐出ノズル１１のノズル本体部１
６は平面状の底面１７を有し、比較的硬質な親水性材料
により形成される。ノズル本体部１６には、鉛直下向き
に延びかつ底面１７で開口するスリット状吐出口１５が
設けられる。ノズル本体部１６の底面１７を除く外壁面
１８は撥水性材料層２０でコーティングされる。スリッ
ト状吐出口１５は現像液吐出ノズル１１の走査方向Ａに
おいて底面１７の中心よりも前方側に設けられる。現像
処理時に基板１００を基板保持部により静止状態で保持
する。現像液吐出ノズル１１を基板１００外の一方側の
位置から基板１００上を通過して基板１００外の他方側
の位置へ直線状に移動させつつ現像液を基板１００上に
供給する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板上の感光性膜
に現像液を供給して現像処理を行う現像装置および現像
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の
基板上に形成された感光性膜に現像処理を行うために現
像装置が用いられる。

【０００３】例えば、回転式現像装置は、基板を水平に
保持して鉛直軸の周りで回転させる回転保持部と、基板
の表面に現像液を供給する現像液吐出ノズルとを備え
る。現像液吐出ノズルは、水平面内で回動自在に設けら
れたノズルアームの先端に取り付けられており、基板の
上方位置と待機位置との間を移動することができる。

【０００４】現像処理時には、現像液吐出ノズルが待機
位置から基板の上方に移動した後、基板上の感光性膜に
現像液を供給する。供給された現像液は、基板の回転に
よって基板の全面に塗り広げられ、感光性膜と接触す
る。表面張力により基板上に現像液を保持した状態（液
盛り）で一定時間基板を静止させることにより感光性膜
の現像が行われる。現像液の供給が終了すると、現像液
吐出ノズルはノズルアームの回動により基板の上方から
退いた待機位置に移動する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来の回転式現像装置では、回転する基板に吐出開始時
の現像液が当たることにより基板上の感光性膜が大きな
衝撃を受ける。その衝撃で現像液中に気泡が生じ、感光
性膜の表面に残留する微小な気泡が現像欠陥となる場合
がある。また、吐出開始時の現像液による衝撃で感光性
膜が損傷するおそれもある。

【０００６】そこで、スリット状吐出口を有する現像液
吐出ノズルから現像液を吐出しながら基板上の一端から
他端へ現像液吐出ノズルを直線状に移動させることによ
り、基板上に現像液を供給する現像方法が提案されてい
る。この現像方法によれば、基板上の感光性膜に衝撃が
加わらず、基板上に現像液が均一に供給される。

【０００７】しかしながら、スリット状吐出口を有する
現像液吐出ノズルでは、スリット状吐出口の全域にわた
って吐出の均一性を確保することが難しい。吐出の均一
性が十分でない状態で基板上に現像液を供給すると、基
板上に現像液の乗らない部分が生じる現象（液切れ現
象）が発生したり、基板上に現像液が一旦乗った後に一
時的に現像液が弾く現象（液弾き現象）が発生し易い。
それにより、基板面内で現像均一性が悪くなり、現像後
のパターン線幅の均一性が低下したり、現像不良が生じ
ることがある。

【０００８】本発明の目的は、均一な現像処理を行なう
ことができる現像装置および現像方法を提供することで
ある。

【０００９】

【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る現像装置は、基板を水平姿勢で保持する基板
保持手段と、現像液を吐出する吐出口が設けられた平面
状の底面を有する現像液吐出ノズルと、基板保持手段に
静止状態で保持された基板の表面に対して現像液吐出ノ
ズルの底面が平行な状態を保つように現像液吐出ノズル
を基板に対して相対的に移動させる移動手段とを備えた
ものである。

【００１０】第１の発明に係る現像装置においては、基
板保持手段に静止状態で保持された基板の表面に対して
現像液吐出ノズルの底面が平行な状態を保つように現像
液吐出ノズルが基板に対して相対的に移動する。

【００１１】この場合、基板の表面と現像液吐出ノズル
の底面との間に互いに平行な平面で挟まれた微小空間が
形成され、この微小空間に現像液吐出ノズルの吐出口か
ら現像液が供給される。それにより、現像液は毛細管現
象でこの微小空間に速やかに満たされる。

【００１２】そのため、現像液吐出ノズルの吐出口から
の現像液の吐出に多少のばらつきがあっても、この微小
空間に満たされた現像液により基板上への現像液の供給
が均一化され、液切れ現象や液弾き現象が抑えられる。
その結果、現像パターンの線幅均一性が向上するととも
に、現像不良の発生が防止され、均一な現像処理が行な
われる。

【００１３】第２の発明に係る現像装置は、第１の発明
に係る現像装置の構成において、吐出口がスリット状吐
出口であるものである。この場合、現像液が一定幅の領
域に同時に供給される。

【００１４】第３の発明に係る現像装置は、第２の発明
に係る現像装置の構成において、移動手段が、現像液吐
出ノズルをスリット状吐出口とほぼ垂直な方向に直線状
に移動させるものである。

【００１５】この場合、現像液吐出ノズルのスリット状
吐出口が基板上を直線状に走査されるので、現像液を基
板上の広い面積に均一に供給することができる。

【００１６】第４の発明に係る現像装置は、第１、第２
または第３の発明に係る現像装置の構成において、吐出
口が、現像液吐出ノズルの移動方向において底面の中心
よりも前方側に設けられたものである。

【００１７】この場合、現像液吐出ノズルの移動方向に
おいて吐出口よりも後方側の底面の長さが前方側の底面
の長さよりも長くなるので、現像液吐出ノズルの吐出口
から吐出された現像液が現像液吐出ノズルの底面と基板
の表面とで形成される微小空間に満たされる際に、現像
液が表面張力により吐出口の後方側により強く引き寄せ
られる。

【００１８】それにより、吐出口の前方側よりも後方側
に多くの現像液が供給されるとともに、吐出口の後方側
への現像液の流れが強くなる。その結果、現像液の先行
が防止され、かつ吐出口の出口付近での現像液の流れの
乱れが小さくなり、基板上への均一な現像液の供給が可
能となる。

【００１９】第５の発明に係る現像装置は、第１〜４の
いずれかの発明に係る現像装置の構成において、現像液
吐出ノズルの底面よりも上部の表面が撥水性を有するも
のである。

【００２０】この場合、現像液吐出ノズルの外壁面に現
像液が這い上がる現象が抑制される。それにより、現像
液吐出ノズルの外壁面での液面の振動による微小な気泡
の噛み込みが防止され、微小な気泡の噛み込みによる現
像欠陥の発生が防止される。また、現像液吐出ノズルの
外壁面に現像液が付着しないので、現像液吐出ノズルの
洗浄時に、現像液吐出ノズルの外壁面を洗浄する必要が
なくなる。したがって、現像液吐出ノズルの洗浄機構が
簡略化される。

【００２１】第６の発明に係る現像装置は、第１〜第５
のいずれかの発明に係る現像装置の構成において、現像
液吐出ノズルの底面が親水性を有するものである。

【００２２】この場合、現像液吐出ノズルの底面で保液
性が良好となり、現像液吐出ノズルの底面と基板の表面
との間に十分な液溜まりが形成される。それにより、吐
出口からの現像液の吐出の均一性が良好でない場合で
も、現像液吐出ノズルの底面と基板の表面との間で液切
れ現象が起こりにくくなる。

【００２３】第７の発明に係る現像方法は、基板保持手
段に静止状態で保持された基板上に現像液吐出ノズルか
ら現像液を吐出供給する現像方法であって、吐出口が設
けられた平面状の底面を有する現像液吐出ノズルを底面
が基板の表面に対して平行な状態を保つように基板に対
して相対的に移動させつつ吐出口から現像液を吐出さ
せ、現像液吐出ノズルの底面と基板の表面とで挟まれる
空間に現像液を満たした状態で基板上に現像液を供給す
るものである。

【００２４】第７の発明に係る現像方法においては、基
板保持手段に静止状態で保持された基板の表面に対して
現像液吐出ノズルの底面が平行な状態を保つように現像
液吐出ノズルが基板に対して相対的に移動するととも
に、吐出口から現像液が吐出される。これにより、現像
液吐出ノズルの底面と基板の表面とで挟まれる空間に現
像液が満たされた状態で基板上に現像液が供給される。

【００２５】そのため、現像液吐出ノズルの吐出口から
の現像液の吐出に多少のばらつきがあっても、現像液吐
出ノズルの底面と基板の表面とで挟まれる空間に満たさ
れた現像液により基板上への現像液の供給が均一化さ
れ、液切れ現象や液弾き現象が抑えられる。その結果、
現像パターンの線幅均一性が向上するとともに、現像不
良の発生が防止され、均一な現像処理が行なわれる。

【００２６】

【発明の実施の形態】図１は本発明の一実施例における
現像装置の平面図、図２は図１の現像装置の主要部のＸ
−Ｘ線断面図、図３は図１の現像装置の主要部のＹ−Ｙ
線断面図である。

【００２７】図２および図３に示すように、現像装置
は、基板１００を水平姿勢で吸引保持する基板保持部１
を備える。基板保持部１は、モータ２の回転軸３の先端
部に固定され、鉛直方向の軸の周りで回転可能に構成さ
れている。基板保持部１の周囲には、基板１００を取り
囲むように円形の内側カップ４が上下動自在に設けられ
ている。また、内側カップ４の周囲には、正方形の外側
カップ５が設けられている。

【００２８】図１に示すように、外側カップ５の両側に
はそれぞれ待機ポット６，７が配置され、外側カップ５
の一方の側部側にはガイドレール８が配設されている。
また、ノズルアーム９がアーム駆動部１０によりガイド
レール８に沿って走査方向Ａおよびその逆方向に移動可
能に設けられている。外側カップ５の他方の側部側に
は、純水を吐出する純水吐出ノズル１２が矢印Ｒの方向
に回動可能に設けられている。

【００２９】ノズルアーム９には、下端部にスリット状
吐出口１５を有する現像液吐出ノズル１１がガイドレー
ル８と垂直に取り付けられている。これにより、現像液
吐出ノズル１１は、待機ポット６の位置から基板１００
上を通過して待機ポット７の位置まで走査方向Ａに沿っ
て直線状に平行移動可能となっている。

【００３０】図２に示すように、現像液吐出ノズル１１
には、現像液供給系１２により現像液が供給される。制
御部１３は、モータ２の回転動作、アーム駆動部１０に
よる現像液吐出ノズル１１の走査および現像液吐出ノズ
ル１１からの現像液の吐出を制御する。

【００３１】本実施例では、基板保持部１が基板保持手
段に相当し、アーム駆動部１０が移動手段に相当する。

【００３２】図４は現像液吐出ノズル１１の断面図であ
る。また、図５は現像液吐出ノズル１１の底面図であ
る。

【００３３】現像液吐出ノズル１１のノズル本体部１６
は平面状の底面１７を有する。ノズル本体部１６は、ス
テンレス鋼、石英ガラス、パイレックスガラス、セラミ
ックス（例えばアルミナ、ＳｉＣ、αＣ）等の比較的硬
質な親水性材料により形成されている。このノズル本体
部１６には、鉛直下向きに延びかつ底面１７で開口する
スリット状吐出口１５が設けられている。

【００３４】ノズル本体部１６の底面１７を除く外壁面
１８は、ＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）、ＰＰＳ（ポリフェ
ニレンサルファイド）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロ
エチレン）等の樹脂系の撥水性材料層２０でコーティン
グされている。

【００３５】図５に示すように、スリット状吐出口１５
は現像液吐出ノズル１１の走査方向Ａと垂直に配置され
る。スリット状吐出口１５のスリット幅ｔは０．０５〜
１．０ｍｍであり、本実施例では０．１ｍｍである。ま
た、スリット状吐出口１５の吐出幅Ｌは、処理対象とな
る基板１００の直径と同じかまたはそれよりも大きく設
定され、直径８インチの基板１００を処理する場合に
は、本実施例では２１０ｍｍに設定される。

【００３６】また、スリット状吐出口１５は、現像液吐
出ノズル１１の走査方向Ａにおいて底面１７の中心より
も前方側に設けられている。スリット状吐出口１５の前
方側の底面１７（以下、前方側底面１７ａと呼ぶ）の長
さａは０．５〜２ｍｍに設定され、本実施例では１ｍｍ
に設定される。また、スリット状吐出口１５の後方側の
底面１７（以下、後方側底面１７ｂと呼ぶ）の長さｂは
１〜５ｍｍに設定され、本実施例では３ｍｍに設定され
る。

【００３７】現像液吐出ノズル１１は、底面１７が基板
１００の表面に対して平行な状態を保つように走査方向
Ａに走査される。スリット状吐出口１５と基板１００の
表面との間隔は、０．２〜５ｍｍ、より好ましくは０．
５〜２ｍｍであり、本実施例では１ｍｍである。

【００３８】次に図６および図７を参照しながら図１の
現像装置の動作を説明する。現像処理時には、基板１０
０は基板保持部１により静止状態で保持されている。

【００３９】待機時には、現像液吐出ノズル１１は、待
機ポット６内の位置Ｐ０に待機している。現像処理時に
は、現像液吐出ノズル１１が上昇した後、走査方向Ａに
移動し、外側カップ５内の走査開始位置Ｐ１で下降す
る。

【００４０】その後、現像液吐出ノズル１１は、走査開
始位置Ｐ１から所定の走査速度で走査を開始する。この
時点では、現像液吐出ノズル１１からまだ現像液の吐出
は行わない。本実施例では、走査速度は１０〜５００ｍ
ｍ／秒とする。

【００４１】現像液吐出ノズル１１の走査開始後、現像
液吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５が基板１００
上に到達する前に、吐出開始位置Ｐ２にて所定の流量で
現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を開始する。
本実施例では、現像液の流量は１．５Ｌ／分とする。

【００４２】現像液吐出ノズル１１は、現像液を吐出し
ながら吐出開始位置Ｐ２から基板１００上を走査方向Ａ
に直線状に移動する（図７参照）。これにより、基板１
００の全面に現像液が連続的に供給される。供給された
現像液は、表面張力により基板１００上に保持される。

【００４３】現像液吐出ノズル１１が基板１００上を通
過した後、基板１００上から外れた吐出停止位置Ｐ３で
現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を停止させ
る。そして、現像液吐出ノズル１１が外側カップ５内の
走査停止位置Ｐ４に到達した時点で現像液吐出ノズル１
１の走査を停止させる。

【００４４】その後、現像液吐出ノズル１１は、走査停
止位置Ｐ４で上昇した後、他方の待機ポット７の位置Ｐ
５まで移動し、待機ポット７内に下降する。

【００４５】基板１００上に現像液が供給された状態を
一定時間維持し、現像を進行させる。このとき、モータ
２により基板保持部１を回転駆動し、基板１００を回転
させてもよい。その後、純水吐出ノズル１２により純水
を基板１００上に供給しながら基板１００を高速回転さ
せることにより基板１００上の現像液を振り切り、基板
１００を乾燥させて現像処理を終了する。

【００４６】図８は現像液吐出ノズル１１からの現像液
の吐出状態を示す正面図である。現像液の吐出直後に
は、図８（ａ）に示すように、現像液がスリット状吐出
口１５から滴状に滲み出る。現像液の吐出から一定時間
が経過すると、図８（ｂ）に示すように、滴状の現像液
がつながってスリット状吐出口１５に沿って現像液が帯
状に形成される。

【００４７】上記の走査開始位置Ｐ１は、現像液吐出ノ
ズル１１が走査開始から基板１００の端縁に到達するま
でに走査速度が所定の速度に達し、かつ図８（ｂ）に示
すようにスリット状吐出口１５の現像液が帯状になるた
めの時間が確保されるように設定する。例えば、走査開
始位置Ｐ１は、基板１００の端縁から走査方向Ａと反対
方向に１０〜１００ｍｍ程度離れた位置に設定する。本
実施例では、走査開始位置Ｐ１は基板１００の端縁から
５０ｍｍ離れた位置に設定する。

【００４８】また、吐出開始位置Ｐ２は、現像液吐出ノ
ズル１１の走査速度および現像液の吐出流量に応じて、
現像液吐出ノズル１１が基板１００の端縁に到達するま
でに現像液の吐出状態が帯状になるための時間が確保さ
れるように設定する。

【００４９】走査速度が速くなれば、現像液吐出ノズル
１１が走査開始位置Ｐ１から基板１００の端縁に到達す
るまでの時間が短くなるため、吐出開始位置Ｐ２を走査
開始位置Ｐ１に近づける。例えば、走査速度が１００ｍ
ｍ／秒の場合には走査開始時点から０．３秒後に現像液
の吐出を開始し、走査速度が３０ｍｍ／秒の場合には走
査開始時点から１．３秒後に現像液の吐出を開始する。

【００５０】また、現像液の吐出流量が多い場合には、
現像液の吐出状態が短時間で帯状になるので、吐出開始
位置Ｐ２を基板１００の端縁に近づける。例えば、現像
液の吐出流量が１．５Ｌ／分であり、走査速度が７０ｍ
ｍ／秒のときには、現像液吐出ノズル１１が基板１００
の端縁に到達する０．１〜１．０秒（例えば０．２秒）
前に現像液の吐出を開始する。

【００５１】なお、現像液の無駄な消費量を低減するた
めには、現像液吐出ノズル１１が基板１００の端縁に達
するまでに現像液の吐出状態が帯状になる範囲で、吐出
開始位置Ｐ２を基板１００の端縁に近づけることが望ま
しい。

【００５２】図９は基板１００上での現像液吐出ノズル
１１の走査を示す断面図である。上記のように、現像液
吐出ノズル１１は、底面１７が基板１００の表面に対し
て平行な状態を保つように走査方向Ａに移動する。この
場合、基板１００の表面と現像液吐出ノズル１１の底面
１７との間に互いに平行な平面で挟まれた微小空間が形
成され、この微小空間にスリット状吐出口１５から現像
液が供給される。現像液は毛細管現象によりこの微小空
間に速やかに満たされる。

【００５３】そのため、スリット状吐出口１５からの現
像液の吐出に多少のばらつきがあっても、この微小空間
に満たされた現像液により基板１００上への現像液の供
給が均一化され、液切れ現象や液弾き現象が抑えられ
る。その結果、現像パターンの線幅均一性が向上すると
ともに、現像不良の発生が防止される。

【００５４】図１０（ａ）〜（ｆ）は本実施例の現像液
吐出ノズル１１を走査方向Ａに移動させた場合における
現像液の状態の時間的変化を示す図、図１１（ａ）〜
（ｆ）は比較例の現像液吐出ノズル１１ａを走査方向Ａ
に移動させた場合における現像液の状態の時間的変化を
示す図である。図１０および図１１は、数値計算による
シミュレーションにより得られたものである。なお、比
較例の現像液吐出ノズル１１ａでは、スリット状吐出口
１５が走査方向Ａにおいて現像液吐出ノズル１１ａの底
面の中心よりも後方側に設けられている。

【００５５】図１０（ａ）〜（ｆ）に示すように、本実
施例の現像液吐出ノズル１１では、走査方向Ａにおいて
スリット状吐出口１５の前方側よりも後方側に多くの現
像液が供給され、スリット状吐出口１５の後方側に良好
な液盛りが行なわれる。

【００５６】図１１（ａ）〜（ｆ）に示すように、比較
例の現像液吐出ノズル１１ａでは、走査方向Ａにおいて
スリット状吐出口１５の後方側よりも前方側に多くの現
像液が供給され、スリット状吐出口１５の後方側の現像
液の量が不足する。これにより、液切れ現象が生じ易く
なる。

【００５７】図１２は本実施例の現像液吐出ノズル１１
を走査方向Ａに移動させた場合における流体速度ベクト
ルを示す図、図１３は比較例の現像液吐出ノズル１１ａ
を走査方向Ａに移動させた場合における流体速度ベクト
ルを示す図である。図１２および図１３は、数値計算に
よるシミュレーションにより得られたものである。

【００５８】図１２に示すように、本実施例の現像液吐
出ノズル１１では、全体的にスリット状吐出口１５の後
方への流れが強くなっている。一方、図１３に示すよう
に、比較例の現像液吐出ノズル１１ａでは、スリット状
吐出口１５の前方側の底面１７の表面張力により前方へ
の流れが強くなり、後方への流れが弱くなっている。こ
れにより、スリット状吐出口１５の出口付近で流れの乱
れが大きくなっている。

【００５９】上記のように、本実施例の現像液吐出ノズ
ル１１では、後方側底面１７ｂの長さが前方側底面１７
ａの長さよりも長いので、現像液が表面張力により後方
側底面１７ｂと基板１００の表面との間の空間により強
く引き寄せられる。それにより、スリット状吐出口１５
の前方側よりも後方側に多くの現像液が供給されるとと
もに、スリット状吐出口１５の後方側への現像液の流れ
が強くなる。その結果、現像液の先行による微小な気泡
の発生が防止され、かつスリット状吐出口１５の出口付
近での現像液の流れの乱れが小さくなり、基板１００上
への均一な現像液の供給が可能となる。

【００６０】なお、現像液吐出ノズル１１の外壁面１８
に現像液が這い上がると、外壁面１８で重力との相互作
用により現像液の液面が振動する現象が発生する。現像
液の液面の振動は、現像液が基板１００の表面と接触す
る部分での微小な気泡の噛み込みを誘発し、現像欠陥の
原因となる。

【００６１】本実施例の現像液吐出ノズル１１では、ノ
ズル本体部１６の外壁面１８が撥水性材料層２０でコー
ティングされているので、現像液吐出ノズル１１の外壁
面１８に現像液が這い上がる現象が抑制される。したが
って、現像液吐出ノズル１１の外壁面１８での現像液の
液面の振動による微小な気泡の噛み込みが防止され、微
小な気泡の噛み込みによる現像欠陥の発生が防止され
る。また、現像液吐出ノズル１１の外壁面１８に現像液
が付着しないので、現像液吐出ノズル１１の洗浄時に、
現像液吐出ノズル１１の底面１７のみを洗浄すればよ
い。したがって、水洗機構の構造が簡単となる。

【００６２】さらに、現像液吐出ノズル１１の底面１７
が親水性材料により形成されているので、現像液吐出ノ
ズル１１の底面１７における保液性が良好となり、現像
液吐出ノズル１１の底面１７と基板１００の表面との間
に十分な液溜まりが形成される。それにより、スリット
状吐出口１５からの現像液の吐出の均一性が良くない場
合でも、現像液吐出ノズル１１の底面１７と基板１００
の表面との間で液切れが発生することがない。

【００６３】加えて、ノズル本体部１６が比較的硬質の
親水性材料からなるので、高い加工精度が得られ、経時
変化にも強い。したがって、良好な吐出均一性が安定し
て得られる。

【００６４】また、本実施例の現像装置では、現像液吐
出ノズル１１が静止した基板１００上に到達する前に現
像液の吐出が開始されるので、吐出開始時の現像液が基
板１００に衝撃を与えることが回避される。それによ
り、現像液中の気泡の発生が抑制され、現像欠陥の発生
が防止される。

【００６５】また、現像液吐出ノズル１１の移動中に空
気に接触するスリット状吐出口１５付近の現像液が基板
１００外に廃棄され、現像液吐出ノズル１１が基板１０
０上に到達した時点で現像液吐出ノズル１１から新しい
現像液が静止した基板１００上に供給される。それによ
り、変質した現像液により現像欠陥が発生することが防
止されるとともに、乾燥した現像液によるパーティクル
が基板１００上の感光性膜の表面に付着することが防止
される。

【００６６】さらに、現像液吐出ノズル１１が静止した
基板１００上をスリット状吐出口１５と基板１００の上
面とが近接した状態で水平方向に直線状に平行移動し、
スリット状吐出口１５に形成された帯状の現像液が基板
１００の表面に連続的に接触するので、基板１００の表
面に衝撃が加わることなく基板１００の全面に現像液が
均一に供給される。

【００６７】また、現像液吐出ノズル１１が基板１００
上を通過するまで現像液の供給が続けられるので、吐出
停止時の衝撃による液盛り中の現像液への悪影響が防止
される。その結果、現像欠陥の発生が抑制されるととも
に、現像後の感光性膜パターンの線幅均一性が向上す
る。

【００６８】また、現像液吐出ノズル１１が基板１００
上を通り過ぎた後に現像液の吐出が停止されるので、吐
出停止時の現像液の液だれにより基板１００上の感光性
膜に衝撃が加わることが防止される。したがって、現像
欠陥の発生や感光性膜パターンの線幅均一性の劣化が防
止される。

【００６９】なお、上記実施例では、現像液吐出ノズル
１１のノズル本体部１６を親水性材料により形成し、ノ
ズル本体部１６の外壁面１８に撥水性材料層２０をコー
ティングしているが、ノズル本体部１６の外壁面１８に
他の方法で撥水性処理を行なってもよい。また、ノズル
本体部１６を他の材料により形成し、ノズル本体部１６
の底面１７に親水性処理を行ない、外壁面１８に撥水性
処理を行なってもよい。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例における現像装置の平面図で
ある。

【図２】図１の現像装置の主要部のＸ−Ｘ線断面図であ
る。

【図３】図１の現像装置の主要部のＹ−Ｙ線断面図であ
る。

【図４】現像液吐出ノズルの断面図である。

【図５】現像液吐出ノズルの底面図である。

【図６】図１の現像装置の動作を説明するための図であ
る。

【図７】基板上での現像液吐出ノズルの走査を示す平面
図である。

【図８】現像液吐出ノズルからの現像液の吐出状態を示
す正面図である。

【図９】基板上での現像液吐出ノズルの走査を示す断面
図である。

【図１０】実施例の現像液吐出ノズルを走査方向に移動
させた場合における現像液の状態の時間的変化のシミュ
レーション結果を示す図である。

【図１１】比較例の現像液吐出ノズルを走査方向に移動
させた場合における現像液の状態の時間的変化のシミュ
レーション結果を示す図である。

【図１２】実施例の現像液吐出ノズルを走査方向に移動
させた場合における流体速度ベクトルのシミュレーショ
ン結果を示す図である。

【図１３】比較例の現像液吐出ノズルを走査方向に移動
させた場合における流体速度ベクトルのシミュレーショ
ン結果を示す図である。

【符号の説明】

１ 基板保持部 ４ 内側カップ ５ 外側カップ ８ ガイドレール ９ ノズルアーム １０ ノズル駆動部 １１ 現像液吐出ノズル １２ 現像液供給系 １３ 制御部 １５ スリット状吐出口 １６ ノズル本体部 １７ 底面 １７ａ 前方側底面 １７ｂ 後方側底面 １８ 外壁面 ２０ 撥水性材料層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 奥田 誠一郎 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者 吉岡 勝司 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西事業所内

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を水平姿勢で保持する基板保持手段
   と、 現像液を吐出する吐出口が設けられた平面状の底面を有
   する現像液吐出ノズルと、 前記基板保持手段に静止状態で保持された基板の表面に
   対して前記現像液吐出ノズルの前記底面が平行な状態を
   保つように前記現像液吐出ノズルを前記基板に対して相
   対的に移動させる移動手段とを備えたことを特徴とする
   現像装置。
2. 【請求項２】 前記吐出口がスリット状吐出口であるこ
   とを特徴とする請求項１記載の現像装置。
3. 【請求項３】 前記移動手段は、前記現像液吐出ノズル
   を前記スリット状吐出口とほぼ垂直な方向に直線状に移
   動させることを特徴とする請求項２記載の現像装置。
4. 【請求項４】 前記吐出口は、前記現像液吐出ノズルの
   移動方向において前記底面の中心よりも前方側に設けら
   れたことを特徴とする請求項１、２または３記載の現像
   装置。
5. 【請求項５】 前記現像液吐出ノズルの前記底面よりも
   上部の表面が撥水性を有することを特徴とする請求項１
   〜４のいずれかに記載の現像装置。
6. 【請求項６】 前記現像液吐出ノズルの前記底面が親水
   性を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに
   記載の現像装置。
7. 【請求項７】 基板保持手段に静止状態で保持された基
   板上に現像液吐出ノズルから現像液を吐出供給する現像
   方法であって、 吐出口が設けられた平面状の底面を有する現像液吐出ノ
   ズルを前記底面が前記基板の表面に対して平行な状態を
   保つように前記基板に対して相対的に移動させつつ前記
   吐出口から現像液を吐出させ、前記現像液吐出ノズルの
   前記底面と前記基板の表面とで挟まれる空間に現像液を
   満たした状態で前記基板上に現像液を供給することを特
   徴とする現像方法。