JPH1114357A - 測量機の自動追尾装置 - Google Patents
測量機の自動追尾装置Info
- Publication number
- JPH1114357A JPH1114357A JP9164468A JP16446897A JPH1114357A JP H1114357 A JPH1114357 A JP H1114357A JP 9164468 A JP9164468 A JP 9164468A JP 16446897 A JP16446897 A JP 16446897A JP H1114357 A JPH1114357 A JP H1114357A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- surveying
- surveying instrument
- image
- light receiving
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 33
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 28
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 25
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 12
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Measurement Of Optical Distance (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】測量対象２が対物レンズ４の光軸Ｌ上に位置す
るように測量機本体部１５を回転させるようにした自動
追尾装置において、測量対象までの距離が変化しても追
尾精度が変動しないようにし、かつ高速の追尾を行える
ようにする。 【解決手段】対物レンズにより測量対象の像２ａが結像
される受光手段５に、それぞれ上下左右に延びるよう２
つのＣＣＤラインセンサ５２，５３を配設する。測量対
象に対し十文字状に拡がるようにパルス光を投射する投
光手段３を設ける。測量対象に配設した反射プリズム２
１で反射された反射光を受光し、測量対象の像の中心点
の上下方向及び水平方向の位置を２つのＣＣＤラインセ
ンサにより検出する。像の中心点位置と対物レンズの光
軸位置との偏差が零になるよう、駆動用モータ６１，６
２の制御を行って測量機本体部を回転させる。
るように測量機本体部１５を回転させるようにした自動
追尾装置において、測量対象までの距離が変化しても追
尾精度が変動しないようにし、かつ高速の追尾を行える
ようにする。 【解決手段】対物レンズにより測量対象の像２ａが結像
される受光手段５に、それぞれ上下左右に延びるよう２
つのＣＣＤラインセンサ５２，５３を配設する。測量対
象に対し十文字状に拡がるようにパルス光を投射する投
光手段３を設ける。測量対象に配設した反射プリズム２
１で反射された反射光を受光し、測量対象の像の中心点
の上下方向及び水平方向の位置を２つのＣＣＤラインセ
ンサにより検出する。像の中心点位置と対物レンズの光
軸位置との偏差が零になるよう、駆動用モータ６１，６
２の制御を行って測量機本体部を回転させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、移動あるいは静止
している測量対象に望遠鏡の光軸を一致させるようにし
た測量機の自動追尾装置に関し、特に上記測量対象から
放射される位置検出用の特徴光を受光して、その受光位
置に基づいて上記測量対象の位置を正確に検出するよう
にした光学式位置検出の技術分野に属する。
している測量対象に望遠鏡の光軸を一致させるようにし
た測量機の自動追尾装置に関し、特に上記測量対象から
放射される位置検出用の特徴光を受光して、その受光位
置に基づいて上記測量対象の位置を正確に検出するよう
にした光学式位置検出の技術分野に属する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、この種の測量機の自動追尾装
置では、測量対象に対し位置検出用の特徴光を投射して
該測量対象に配設された反射プリズムにより反射させ、
この反射光を光電変換パネル等からなる受光手段により
受光して、受光像の中心点と望遠鏡の光軸とが一致する
ように該望遠鏡を含む測量機本体の姿勢を変化させるよ
うにしている。また、測量対象に投光手段を取付けて該
投光手段から投射される特徴光を受光するようにしたも
のもある。
置では、測量対象に対し位置検出用の特徴光を投射して
該測量対象に配設された反射プリズムにより反射させ、
この反射光を光電変換パネル等からなる受光手段により
受光して、受光像の中心点と望遠鏡の光軸とが一致する
ように該望遠鏡を含む測量機本体の姿勢を変化させるよ
うにしている。また、測量対象に投光手段を取付けて該
投光手段から投射される特徴光を受光するようにしたも
のもある。
【０００３】そして、受光像の中心点を望遠鏡の光軸と
一致させるためには、例えば特開平６−３４７２７０号
公報に開示されるように、上下左右に４分割された受光
面を有する受光素子を用いたものや、特開平７−１９８
３８３号公報に開示されるようにＣＣＤエリアセンサ等
を用いたものが知られている。すなわち、４分割受光素
子を用いたものでは、受光面を望遠鏡の光軸位置に対応
する中央位置の周りに上下左右に４分割しておいて、そ
れらの各分割面における受光量差に基づいて受光像の中
心点を検出し、該中心点が上記受光面の中央位置に位置
付けられるように測量機本体の姿勢を変化させる。ま
た、ＣＣＤエリアセンサを用いたものでは、測量対象の
像を画像データとして取込んで、該像の中心点のアドレ
スと望遠鏡の光軸位置に対応するＣＣＤエリアセンサの
中心位置のアドレスとの偏差を演算し、そしてその偏差
に応じて測量機本体の姿勢を変化させるようにしてい
る。
一致させるためには、例えば特開平６−３４７２７０号
公報に開示されるように、上下左右に４分割された受光
面を有する受光素子を用いたものや、特開平７−１９８
３８３号公報に開示されるようにＣＣＤエリアセンサ等
を用いたものが知られている。すなわち、４分割受光素
子を用いたものでは、受光面を望遠鏡の光軸位置に対応
する中央位置の周りに上下左右に４分割しておいて、そ
れらの各分割面における受光量差に基づいて受光像の中
心点を検出し、該中心点が上記受光面の中央位置に位置
付けられるように測量機本体の姿勢を変化させる。ま
た、ＣＣＤエリアセンサを用いたものでは、測量対象の
像を画像データとして取込んで、該像の中心点のアドレ
スと望遠鏡の光軸位置に対応するＣＣＤエリアセンサの
中心位置のアドレスとの偏差を演算し、そしてその偏差
に応じて測量機本体の姿勢を変化させるようにしてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、前者の従来
技術の如く４分割受光素子を用いた場合には、測量機と
測量対象との間の距離が変化して受光像の大きさが変化
したときに、上記４分割受光素子の中央位置と受光像の
中心点との偏差量が等しくても各分割面における受光量
差が変化してしまい、この結果、測量機と測量対象との
間の距離の変化に起因して測量対象の追尾精度に変動が
生じるという不具合がある。
技術の如く４分割受光素子を用いた場合には、測量機と
測量対象との間の距離が変化して受光像の大きさが変化
したときに、上記４分割受光素子の中央位置と受光像の
中心点との偏差量が等しくても各分割面における受光量
差が変化してしまい、この結果、測量機と測量対象との
間の距離の変化に起因して測量対象の追尾精度に変動が
生じるという不具合がある。
【０００５】一方、後者のＣＣＤエリアセンサを用いた
場合には、一般にＣＣＤエリアセンサの画像取込み周期
が約１／６０秒であることから、これよりも短い時間間
隔で位置検出を行い得ず、その上、ＣＣＤエリアセンサ
のエリア全体にわたる画像処理量が膨大なものであるの
で、画像処理演算に時間がかかってしまい、このため、
高速の自動追尾が困難になるという不具合がある。尚、
専用の高速画像処理装置を用いることも考えられるが、
この場合には装置の大型化やコスト増大化の弊害が著し
い。
場合には、一般にＣＣＤエリアセンサの画像取込み周期
が約１／６０秒であることから、これよりも短い時間間
隔で位置検出を行い得ず、その上、ＣＣＤエリアセンサ
のエリア全体にわたる画像処理量が膨大なものであるの
で、画像処理演算に時間がかかってしまい、このため、
高速の自動追尾が困難になるという不具合がある。尚、
専用の高速画像処理装置を用いることも考えられるが、
この場合には装置の大型化やコスト増大化の弊害が著し
い。
【０００６】加えて、上記従来の測量機の自動追尾装置
においては、測量対象が遠く離れるに従い投光手段から
投射される光が拡がって単位面積あたりの光量が小さく
なることから、位置検出に必要な十分な光量を確保する
ために、遠距離の測量対象を追尾する場合には投光手段
から投射する光の拡がり角を比較的狭くするようにして
いる。しかしこの場合には、測量対象からの反射光量は
十分に大きくできるものの光の投射範囲が比較的狭くな
るので、測量対象を見失い易くなるという不具合があ
る。
においては、測量対象が遠く離れるに従い投光手段から
投射される光が拡がって単位面積あたりの光量が小さく
なることから、位置検出に必要な十分な光量を確保する
ために、遠距離の測量対象を追尾する場合には投光手段
から投射する光の拡がり角を比較的狭くするようにして
いる。しかしこの場合には、測量対象からの反射光量は
十分に大きくできるものの光の投射範囲が比較的狭くな
るので、測量対象を見失い易くなるという不具合があ
る。
【０００７】本発明は斯かる諸点に鑑みてなされたもの
であり、その目的とするところは、受光手段の構成に工
夫を凝らすことで、測量対象までの距離が変化しても追
尾精度が変動しないようにするとともに、高速の追尾を
行い得るようにすることにある。
であり、その目的とするところは、受光手段の構成に工
夫を凝らすことで、測量対象までの距離が変化しても追
尾精度が変動しないようにするとともに、高速の追尾を
行い得るようにすることにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の解決手段では、受光手段において、長手方
向に並設された多数の受光部を有する２つの光電変換手
段を互いに交差する２方向に延びるように配設し、それ
ぞれの光電変換手段における受光位置に基づいて上記２
方向について受光像の中心点を検出するようにした。
に、本発明の解決手段では、受光手段において、長手方
向に並設された多数の受光部を有する２つの光電変換手
段を互いに交差する２方向に延びるように配設し、それ
ぞれの光電変換手段における受光位置に基づいて上記２
方向について受光像の中心点を検出するようにした。
【０００９】具体的には、請求項１記載の発明は、測量
対象から放射される位置検出用特徴光の像が対物レンズ
により結像される受光手段と、測量機本体の姿勢を変化
させる駆動手段とを備え、上記受光手段に結像される測
量対象の像の中心点が上記対物レンズの光軸上に位置す
るように、上記受光手段からの出力信号に基づいて駆動
手段を作動制御するようにした測量機の自動追尾装置を
対象とする。そして、上記受光手段は、上記対物レンズ
の光軸方向に直交する第１の設定方向に延びるように並
設された多数の受光部を有する第１の光電変換手段と、
上記対物レンズの光軸方向に直交しかつ上記第１の設定
方向と交差する第２の設定方向に延びるように並設され
た多数の受光部を有する第２の光電変換手段とを備える
構成とした。
対象から放射される位置検出用特徴光の像が対物レンズ
により結像される受光手段と、測量機本体の姿勢を変化
させる駆動手段とを備え、上記受光手段に結像される測
量対象の像の中心点が上記対物レンズの光軸上に位置す
るように、上記受光手段からの出力信号に基づいて駆動
手段を作動制御するようにした測量機の自動追尾装置を
対象とする。そして、上記受光手段は、上記対物レンズ
の光軸方向に直交する第１の設定方向に延びるように並
設された多数の受光部を有する第１の光電変換手段と、
上記対物レンズの光軸方向に直交しかつ上記第１の設定
方向と交差する第２の設定方向に延びるように並設され
た多数の受光部を有する第２の光電変換手段とを備える
構成とした。
【００１０】この構成によれば、測量対象からの特徴光
が第１及び第２の光電変換手段に受光され、その受光位
置に基づいて第１及び第２の設定方向に関する上記測量
対象の像の中心点位置が検出される。すなわち、上記第
１の光電変換手段において特徴光を受光している受光部
の範囲の中央位置が、上記測量対象の像の中心点の第１
の設定方向に関する位置として検出される。同様に上記
第２の光電変換手段において、上記測量対象の像の中心
点の第２の設定方向に関する位置が検出される。そし
て、互いに交差する第１及び第２の設定方向のそれぞれ
に関する像の中心点位置が検出されれば、該像の中心点
を特定して光軸位置との偏差を正確に求めることがで
き、この偏差に基づいて駆動手段により測量機本体の姿
勢を変化させることによって、上記測量対象を正確に追
尾することができる。
が第１及び第２の光電変換手段に受光され、その受光位
置に基づいて第１及び第２の設定方向に関する上記測量
対象の像の中心点位置が検出される。すなわち、上記第
１の光電変換手段において特徴光を受光している受光部
の範囲の中央位置が、上記測量対象の像の中心点の第１
の設定方向に関する位置として検出される。同様に上記
第２の光電変換手段において、上記測量対象の像の中心
点の第２の設定方向に関する位置が検出される。そし
て、互いに交差する第１及び第２の設定方向のそれぞれ
に関する像の中心点位置が検出されれば、該像の中心点
を特定して光軸位置との偏差を正確に求めることがで
き、この偏差に基づいて駆動手段により測量機本体の姿
勢を変化させることによって、上記測量対象を正確に追
尾することができる。
【００１１】その際、測量機と測量対象との間の距離が
変化して測量対象の像の大きさが変化したときでも、該
像の中心点を正確に検出することができるため追尾精度
の変動を防止することができる。また、第１及び第２の
光電変換手段における多数の受光部はそれぞれ第１及び
第２の設定方向にのみ並設されていればよいので、例え
ばＣＣＤエリアセンサ等に比べて受光部の数は格段に少
なくて済む。このため、上記測量対象の像の中心点位置
を求めるときに、不要な情報を著しく減少させて位置検
出のための演算処理量を格段に少なくさせることができ
る。よって、比較的小規模の演算処理装置を用いても、
位置検出のための時間を短縮することができ、これに伴
い追尾動作の高速化を図ることができる。
変化して測量対象の像の大きさが変化したときでも、該
像の中心点を正確に検出することができるため追尾精度
の変動を防止することができる。また、第１及び第２の
光電変換手段における多数の受光部はそれぞれ第１及び
第２の設定方向にのみ並設されていればよいので、例え
ばＣＣＤエリアセンサ等に比べて受光部の数は格段に少
なくて済む。このため、上記測量対象の像の中心点位置
を求めるときに、不要な情報を著しく減少させて位置検
出のための演算処理量を格段に少なくさせることができ
る。よって、比較的小規模の演算処理装置を用いても、
位置検出のための時間を短縮することができ、これに伴
い追尾動作の高速化を図ることができる。
【００１２】請求項２記載の発明は、測量対象から放射
される位置検出用特徴光の像が対物レンズにより結像さ
れる受光手段と、測量機本体の姿勢を変化させる駆動手
段とを備え、上記受光手段に結像される測量対象の像の
中心点が上記対物レンズの光軸上に位置するように、上
記受光手段からの出力信号に基づいて駆動手段を作動制
御するようにした測量機の自動追尾装置を対象とする。
そして、上記受光手段は、上記対物レンズからの光の一
部を透過させる一方、残りを反射させるビームスプリッ
タと、該ビームスプリッタからの透過光を受光する位置
に設けられ、該透過光の光軸方向に直交する第１の設定
方向に延びるように並設された多数の受光部を有する第
１の光電変換手段と、上記ビームスプリッタからの反射
光を受光する位置に設けられ、該反射光の光軸方向に直
交しかつ上記第１の設定方向と交差する第２の設定方向
に延びるように並設された多数の受光部を有する第２の
光電変換手段とを備える構成とした。
される位置検出用特徴光の像が対物レンズにより結像さ
れる受光手段と、測量機本体の姿勢を変化させる駆動手
段とを備え、上記受光手段に結像される測量対象の像の
中心点が上記対物レンズの光軸上に位置するように、上
記受光手段からの出力信号に基づいて駆動手段を作動制
御するようにした測量機の自動追尾装置を対象とする。
そして、上記受光手段は、上記対物レンズからの光の一
部を透過させる一方、残りを反射させるビームスプリッ
タと、該ビームスプリッタからの透過光を受光する位置
に設けられ、該透過光の光軸方向に直交する第１の設定
方向に延びるように並設された多数の受光部を有する第
１の光電変換手段と、上記ビームスプリッタからの反射
光を受光する位置に設けられ、該反射光の光軸方向に直
交しかつ上記第１の設定方向と交差する第２の設定方向
に延びるように並設された多数の受光部を有する第２の
光電変換手段とを備える構成とした。
【００１３】この構成によれば、請求項１記載の発明と
同様、測量対象の像の中心点位置を特定して光軸位置と
の偏差を正確に求めることができ、この偏差に基づいて
駆動手段を制御することで上記測量対象を正確に追尾す
ることができる。その際、測量機と測量対象との間の距
離が変化しても追尾精度の変動を防止することができ、
また、比較的小規模の演算処理装置を用いて高速の追尾
を行うことができる。
同様、測量対象の像の中心点位置を特定して光軸位置と
の偏差を正確に求めることができ、この偏差に基づいて
駆動手段を制御することで上記測量対象を正確に追尾す
ることができる。その際、測量機と測量対象との間の距
離が変化しても追尾精度の変動を防止することができ、
また、比較的小規模の演算処理装置を用いて高速の追尾
を行うことができる。
【００１４】加えて、対物レンズからの光をビームスプ
リッタにより分割して、それぞれ異なる箇所に配置した
第１及び第２の光電変換手段に別々に入射させるように
しているため、該２つの光電変換手段の配置の自由度が
向上する。
リッタにより分割して、それぞれ異なる箇所に配置した
第１及び第２の光電変換手段に別々に入射させるように
しているため、該２つの光電変換手段の配置の自由度が
向上する。
【００１５】請求項３記載の発明では、請求項１又は請
求項２記載の発明における第１及び第２の設定方向が互
いに直交している。
求項２記載の発明における第１及び第２の設定方向が互
いに直交している。
【００１６】このことで、測量対象の像の中心点位置が
上記第１及び第２の設定方向に関して検出されれば、こ
の検出結果から直接的に上記測量対象の像の中心点位置
を求めることができる。よって、位置検出のための演算
処理の容易化が図られる。
上記第１及び第２の設定方向に関して検出されれば、こ
の検出結果から直接的に上記測量対象の像の中心点位置
を求めることができる。よって、位置検出のための演算
処理の容易化が図られる。
【００１７】請求項４記載の発明では、請求項３記載の
発明における第１及び第２の光電変換手段としてＣＣＤ
ラインセンサを用いることにより、比較的低コストで高
い検出精度が得られる。
発明における第１及び第２の光電変換手段としてＣＣＤ
ラインセンサを用いることにより、比較的低コストで高
い検出精度が得られる。
【００１８】請求項５記載の発明では、請求項３記載に
発明において、測量対象に対し光を投射する投光手段
と、上記測量対象に配設されて上記投光手段から投射さ
れる光を反射する光線反射器とを備え、受光手段は上記
光線反射器により反射された光を位置検出用特徴光とし
て受光する構成とした。
発明において、測量対象に対し光を投射する投光手段
と、上記測量対象に配設されて上記投光手段から投射さ
れる光を反射する光線反射器とを備え、受光手段は上記
光線反射器により反射された光を位置検出用特徴光とし
て受光する構成とした。
【００１９】この構成では、投光手段から投射された光
が光線反射器により反射されて、位置検出用特徴光とし
て測量対象から放射されるようになる。すなわち、測量
対象には光線反射器を設けるだけでよく、発光手段を設
ける必要がないので、システムの構成が簡易なものにな
る。なお、光線反射器としては例えば反射プリズムを用
いればよい。
が光線反射器により反射されて、位置検出用特徴光とし
て測量対象から放射されるようになる。すなわち、測量
対象には光線反射器を設けるだけでよく、発光手段を設
ける必要がないので、システムの構成が簡易なものにな
る。なお、光線反射器としては例えば反射プリズムを用
いればよい。
【００２０】請求項６記載の発明では、請求項５記載の
発明における投光手段は、互いに直交する第１及び第２
の設定方向にそれぞれ偏って拡がるように光を投射する
２つの投光器を備え、測量対象に対し対物レンズの光軸
に沿って光を投射する構成とした。
発明における投光手段は、互いに直交する第１及び第２
の設定方向にそれぞれ偏って拡がるように光を投射する
２つの投光器を備え、測量対象に対し対物レンズの光軸
に沿って光を投射する構成とした。
【００２１】すなわち、２つの投光器から投射される光
は対物レンズの光軸に沿って投射され、互いに直交する
第１又は第２の設定方向にそれぞれ偏って拡がって十文
字状に投射される。このため、全方向に均一に拡がるよ
うに投射される場合に比べて実際の投光範囲は狭くなる
ものの、その分、単位面積あたりの光量を高めることが
できる。しかも、上記第１及び第２の設定方向に関して
は、それぞれ狭いながらも十分な長さの投光範囲が確保
され、光の投射範囲は実質的に大きな外径を有するもの
になる。従って、本発明では、測量対象に投射する光の
投射範囲を実質的に狭くすることなく単位面積あたりの
光量を十分に高めることができ、これにより測量対象を
検出し易くかつ見失い難くすることができる。
は対物レンズの光軸に沿って投射され、互いに直交する
第１又は第２の設定方向にそれぞれ偏って拡がって十文
字状に投射される。このため、全方向に均一に拡がるよ
うに投射される場合に比べて実際の投光範囲は狭くなる
ものの、その分、単位面積あたりの光量を高めることが
できる。しかも、上記第１及び第２の設定方向に関して
は、それぞれ狭いながらも十分な長さの投光範囲が確保
され、光の投射範囲は実質的に大きな外径を有するもの
になる。従って、本発明では、測量対象に投射する光の
投射範囲を実質的に狭くすることなく単位面積あたりの
光量を十分に高めることができ、これにより測量対象を
検出し易くかつ見失い難くすることができる。
【００２２】請求項７記載の発明では、請求項６記載の
発明における各投光器は、一端部が発光源に接続されか
つ他端部がそれぞれ第１及び第２の設定方向に並設され
た光ファイバの束を備えていて、上記発光源で発生した
光をそれぞれ上記光ファイバの他端部から投射する構成
とした。
発明における各投光器は、一端部が発光源に接続されか
つ他端部がそれぞれ第１及び第２の設定方向に並設され
た光ファイバの束を備えていて、上記発光源で発生した
光をそれぞれ上記光ファイバの他端部から投射する構成
とした。
【００２３】この構成では、請求項６記載の発明におけ
る各投光器の構成が具体的に特定され、発光源で発生し
た光が光ファイバを介してそれぞれ第１及び第２の設定
方向に偏って拡がるように投射される。すなわち、光フ
ァイバを用いることで発光源からの光の投射方向を容易
に設定することができ、しかも発光源の配置の自由度が
向上してこれに伴い投光手段のコンパクト化が可能にな
る。
る各投光器の構成が具体的に特定され、発光源で発生し
た光が光ファイバを介してそれぞれ第１及び第２の設定
方向に偏って拡がるように投射される。すなわち、光フ
ァイバを用いることで発光源からの光の投射方向を容易
に設定することができ、しかも発光源の配置の自由度が
向上してこれに伴い投光手段のコンパクト化が可能にな
る。
【００２４】請求項８記載の発明では、請求項３〜請求
項７のいづれか１つに記載の発明における第１及び第２
の設定方向は、それぞれ鉛直方向及び水平方向に設定し
た。そして、駆動手段は、測量機本体を鉛直軸及び水平
軸の回りにそれぞれ回転作動させる構成とした。
項７のいづれか１つに記載の発明における第１及び第２
の設定方向は、それぞれ鉛直方向及び水平方向に設定し
た。そして、駆動手段は、測量機本体を鉛直軸及び水平
軸の回りにそれぞれ回転作動させる構成とした。
【００２５】この構成では、請求項３〜請求項７記載の
発明における第１及び第２の設定方向が、それぞれ鉛直
方向及び水平方向に特定される。そして、この各方向に
ついて検出された測量対象の像の中心点位置に基づい
て、駆動手段により測量機本体が鉛直軸及び水平軸の回
りにそれぞれ回転作動されて測量対象を追尾するように
なる。すなわち、第１及び第２の光電変換手段により検
出される測量対象の像の中心点位置から、直接的に、駆
動手段による測量機本体の回転作動量が求められるよう
になる。よって、追尾作動における駆動手段の制御の容
易化が図られ、これに伴い追尾の高速化が可能になる。
発明における第１及び第２の設定方向が、それぞれ鉛直
方向及び水平方向に特定される。そして、この各方向に
ついて検出された測量対象の像の中心点位置に基づい
て、駆動手段により測量機本体が鉛直軸及び水平軸の回
りにそれぞれ回転作動されて測量対象を追尾するように
なる。すなわち、第１及び第２の光電変換手段により検
出される測量対象の像の中心点位置から、直接的に、駆
動手段による測量機本体の回転作動量が求められるよう
になる。よって、追尾作動における駆動手段の制御の容
易化が図られ、これに伴い追尾の高速化が可能になる。
【００２６】また、投光手段から投射される十文字状の
光は鉛直方向及び水平方向にそれぞれ偏って拡がるよう
になるため、投光手段を測量機本体と一体に配設して鉛
直軸又は水平軸の回りに旋回させるようにすれば、投射
光の投光範囲を容易に極めて広いものとすることができ
る。
光は鉛直方向及び水平方向にそれぞれ偏って拡がるよう
になるため、投光手段を測量機本体と一体に配設して鉛
直軸又は水平軸の回りに旋回させるようにすれば、投射
光の投光範囲を容易に極めて広いものとすることができ
る。
【００２７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基いて説明する。
基いて説明する。
【００２８】図１は本発明に係る自動追尾システムを備
えた測量機１を示す。この測量機１は、三脚１１により
測量原点位置に水平に支持された下盤１２を備える。こ
の下盤１２の上方には水平盤１３が鉛直軸ｙ回りに旋回
可能に配設され、該水平盤１３の上方には、測量機本体
部１５が左右一対の支柱１４，１４により水平軸ｘ回り
に回転可能に支持されている。そして、この測量機本体
部１５は後述の如く測量対象２を自動的に追尾するとと
もに、該測量対象２の上記測量原点位置に対する相対位
置を計測するものである。なお１６はオペレータによる
視準用の望遠鏡である。
えた測量機１を示す。この測量機１は、三脚１１により
測量原点位置に水平に支持された下盤１２を備える。こ
の下盤１２の上方には水平盤１３が鉛直軸ｙ回りに旋回
可能に配設され、該水平盤１３の上方には、測量機本体
部１５が左右一対の支柱１４，１４により水平軸ｘ回り
に回転可能に支持されている。そして、この測量機本体
部１５は後述の如く測量対象２を自動的に追尾するとと
もに、該測量対象２の上記測量原点位置に対する相対位
置を計測するものである。なお１６はオペレータによる
視準用の望遠鏡である。
【００２９】また図２は上記測量機本体部１５に設けら
れた位置検出用の光学系を示し、３は測量対象２に対し
位置検出用の特徴光を投射する投光手段、４は該測量対
象２に配設された光線反射器としての反射プリズム２１
からの反射光を結像させる対物レンズ、５はこの対物レ
ンズ４からの光を受光して上記測量対象２の像２ａの中
心点Ｃを検出するための受光手段である。そして、該受
光手段５からの入力信号を受けたコントローラ６により
駆動手段としての駆動用モータ６１，６２が作動され
て、上記測量機本体１５が水平軸ｘ及び鉛直軸ｙの回り
に回転されるるようになっている。
れた位置検出用の光学系を示し、３は測量対象２に対し
位置検出用の特徴光を投射する投光手段、４は該測量対
象２に配設された光線反射器としての反射プリズム２１
からの反射光を結像させる対物レンズ、５はこの対物レ
ンズ４からの光を受光して上記測量対象２の像２ａの中
心点Ｃを検出するための受光手段である。そして、該受
光手段５からの入力信号を受けたコントローラ６により
駆動手段としての駆動用モータ６１，６２が作動され
て、上記測量機本体１５が水平軸ｘ及び鉛直軸ｙの回り
に回転されるるようになっている。
【００３０】上記投光手段３は、図示しない発光源とし
ての半導体レーザ装置により発生されたパルス光を、第
１の設定方向としての上下方向（ｙ方向）、及び第２の
設定方向としての水平方向（ｘ方向）にそれぞれ偏って
拡がるように投射するようになっている。すなわち、上
記投光手段３は、一端部が上記半導体レーザ装置に接続
される一方、他端部が図３に示すように上下方向及び水
平方向にそれぞれ並設された光ファイバ３１，３１，…
の束を備えている。そして、上記半導体レーザ装置で発
生したパルス光は、各光ファイバ３１，３１，…の他端
部から投射されて、上下左右に十文字状に拡がりつつハ
ーフミラー３４により反射され、対物レンズ４により絞
られて所定の拡がり角とされて、該対物レンズ４の光軸
Ｌに沿って測量対象２に対し投射される。このように光
ファイバ３１，３１，…を用いた構成とすることで、光
の投射方向の設定が容易になり、また半導体レーザ装置
の配置の自由度が向上して、これに伴い投光手段３がコ
ンパクトな構成とされている。
ての半導体レーザ装置により発生されたパルス光を、第
１の設定方向としての上下方向（ｙ方向）、及び第２の
設定方向としての水平方向（ｘ方向）にそれぞれ偏って
拡がるように投射するようになっている。すなわち、上
記投光手段３は、一端部が上記半導体レーザ装置に接続
される一方、他端部が図３に示すように上下方向及び水
平方向にそれぞれ並設された光ファイバ３１，３１，…
の束を備えている。そして、上記半導体レーザ装置で発
生したパルス光は、各光ファイバ３１，３１，…の他端
部から投射されて、上下左右に十文字状に拡がりつつハ
ーフミラー３４により反射され、対物レンズ４により絞
られて所定の拡がり角とされて、該対物レンズ４の光軸
Ｌに沿って測量対象２に対し投射される。このように光
ファイバ３１，３１，…を用いた構成とすることで、光
の投射方向の設定が容易になり、また半導体レーザ装置
の配置の自由度が向上して、これに伴い投光手段３がコ
ンパクトな構成とされている。
【００３１】上記受光手段５は、対物レンズ４により集
光された光の像が凹レンズ４１を介して結像されるもの
であり、上記対物レンズ４からの光の略５０％を透過さ
せる一方、残りの略５０％を反射させるビームスプリッ
タ５１と、上記ビームスプリッタ５１からの透過光を受
光する位置に上下方向に配置された第１の光電変換手段
としての第１ＣＣＤラインセンサ５２と、上記ビームス
プリッタ５１からの反射光を受光する位置に水平方向に
配置された第２の光電変換手段としての第２ＣＣＤライ
ンセンサ５３とを備えている。このように対物レンズ４
からの光をビームスプリッタ５１により分割して、別々
に配置された第１及び第２の２つのＣＣＤラインセンサ
５２，５３に入射させる構成とすることで、該２つのＣ
ＣＤラインセンサ５２，５３の配置の自由度が向上して
いる。なお、５４，５５は、それぞれ半導体レーザ装置
５１で発生されるパルス光を含む特定波長領域の光のみ
を透過させる光学フィルタである。
光された光の像が凹レンズ４１を介して結像されるもの
であり、上記対物レンズ４からの光の略５０％を透過さ
せる一方、残りの略５０％を反射させるビームスプリッ
タ５１と、上記ビームスプリッタ５１からの透過光を受
光する位置に上下方向に配置された第１の光電変換手段
としての第１ＣＣＤラインセンサ５２と、上記ビームス
プリッタ５１からの反射光を受光する位置に水平方向に
配置された第２の光電変換手段としての第２ＣＣＤライ
ンセンサ５３とを備えている。このように対物レンズ４
からの光をビームスプリッタ５１により分割して、別々
に配置された第１及び第２の２つのＣＣＤラインセンサ
５２，５３に入射させる構成とすることで、該２つのＣ
ＣＤラインセンサ５２，５３の配置の自由度が向上して
いる。なお、５４，５５は、それぞれ半導体レーザ装置
５１で発生されるパルス光を含む特定波長領域の光のみ
を透過させる光学フィルタである。
【００３２】上記第１ＣＣＤラインセンサ５２は、図４
に示すように、ビームスプリッタ５１からの透過光の光
軸Ｌに対応する基準受光位置Ｓ1 を通って上下方向（ｙ
方向）に延びるように配置されており、上下方向に例え
ば８ミクロン刻みで並設された多数の受光部としての受
光セルを有する受光面５２ａにより、測量対象２の像２
ａの上下方向位置を高精度に検出する。すなわち、上記
第１ＣＣＤラインセンサ５２の受光面５２ａは、投光手
段３における上下方向に配設された光ファイバ３１，３
１，…から投射されたパルス光を受光する。そして測量
対象２の像２ａに対応する受光範囲（同図に斜線で示す
範囲）の各受光セルのアドレスがコントローラ６に対し
て出力され、この信号入力を受けたコントローラ６によ
り、それらの受光セルのうちの中央の受光セルのアドレ
スが上記像２ａの中心点Ｃの上下方向に関する位置とし
て高精度に検出される。
に示すように、ビームスプリッタ５１からの透過光の光
軸Ｌに対応する基準受光位置Ｓ1 を通って上下方向（ｙ
方向）に延びるように配置されており、上下方向に例え
ば８ミクロン刻みで並設された多数の受光部としての受
光セルを有する受光面５２ａにより、測量対象２の像２
ａの上下方向位置を高精度に検出する。すなわち、上記
第１ＣＣＤラインセンサ５２の受光面５２ａは、投光手
段３における上下方向に配設された光ファイバ３１，３
１，…から投射されたパルス光を受光する。そして測量
対象２の像２ａに対応する受光範囲（同図に斜線で示す
範囲）の各受光セルのアドレスがコントローラ６に対し
て出力され、この信号入力を受けたコントローラ６によ
り、それらの受光セルのうちの中央の受光セルのアドレ
スが上記像２ａの中心点Ｃの上下方向に関する位置とし
て高精度に検出される。
【００３３】同様に上記第２ＣＣＤラインセンサ５３
は、図５に示すように、ビームスプリッタ５１からの反
射光の光軸に対応する基準受光位置Ｓ2 を通って水平方
向（ｘ方向）に延びるように配置され、受光面５３ａに
より測量対象２の像２ａの水平方向位置を検出する。そ
して、該第２ＣＣＤラインセンサ５２からの出力信号に
基づいて上記像２ａの中心点Ｃの水平方向位置が高精度
に検出される。
は、図５に示すように、ビームスプリッタ５１からの反
射光の光軸に対応する基準受光位置Ｓ2 を通って水平方
向（ｘ方向）に延びるように配置され、受光面５３ａに
より測量対象２の像２ａの水平方向位置を検出する。そ
して、該第２ＣＣＤラインセンサ５２からの出力信号に
基づいて上記像２ａの中心点Ｃの水平方向位置が高精度
に検出される。
【００３４】また測量対象２が遠ざかったときには、測
量機１との距離に応じて測量対象２の像２ａの外径は小
さくなるが、該像２ａの中心点Ｃは、図６及び図７に示
すように測量機１と測量対象２との間の距離の変化に関
係なく高精度に検出される。
量機１との距離に応じて測量対象２の像２ａの外径は小
さくなるが、該像２ａの中心点Ｃは、図６及び図７に示
すように測量機１と測量対象２との間の距離の変化に関
係なく高精度に検出される。
【００３５】なお、上記第１及び第２ＣＣＤラインセン
サ５２，５３における電荷の充放電のタイミングは、パ
ルス光の発光のタイミングに同期するように制御されて
おり、このことで上記第１及び第２ＣＣＤラインセンサ
５２，５３に対するパルス光以外の外光の入射を低減さ
せて、パルス光のＳ／Ｎ比を向上させるようにしてい
る。
サ５２，５３における電荷の充放電のタイミングは、パ
ルス光の発光のタイミングに同期するように制御されて
おり、このことで上記第１及び第２ＣＣＤラインセンサ
５２，５３に対するパルス光以外の外光の入射を低減さ
せて、パルス光のＳ／Ｎ比を向上させるようにしてい
る。
【００３６】そして、コントローラ６は、上記第１及び
第２の２つのＣＣＤラインセンサ５２，５３からの出力
信号を受けて、基準受光位置Ｓ1,Ｓ2 に対する測量対象
２の像２ａの中心点Ｃの上下方向及び水平方向に関する
偏差量を演算し、該偏差量が零になるように駆動モータ
６１，６２の作動を制御する。これにより、測量機本体
部１５が水平軸ｘ及び鉛直軸ｙの回りに回転されて、上
記測量対象２の像２ａの中心点Ｃが基準受光位置Ｓ1 ，
Ｓ2 に位置するようになる。つまり、測量対象２が対物
レンズ４の光軸Ｌの延長線上に位置づけられるように、
測量機本体部１５の姿勢が変更される。
第２の２つのＣＣＤラインセンサ５２，５３からの出力
信号を受けて、基準受光位置Ｓ1,Ｓ2 に対する測量対象
２の像２ａの中心点Ｃの上下方向及び水平方向に関する
偏差量を演算し、該偏差量が零になるように駆動モータ
６１，６２の作動を制御する。これにより、測量機本体
部１５が水平軸ｘ及び鉛直軸ｙの回りに回転されて、上
記測量対象２の像２ａの中心点Ｃが基準受光位置Ｓ1 ，
Ｓ2 に位置するようになる。つまり、測量対象２が対物
レンズ４の光軸Ｌの延長線上に位置づけられるように、
測量機本体部１５の姿勢が変更される。
【００３７】次に、上記実施形態に係る測量機１を用い
た測量作業の手順に沿って、自動追尾装置の作動及びそ
の作用効果を説明する。
た測量作業の手順に沿って、自動追尾装置の作動及びそ
の作用効果を説明する。
【００３８】上記測量機１を用いて測量対象２の位置計
測を行うときには、まず、反射プリズム２１を配設した
測量対象２を視認し得る場所に測量原点位置を定め、こ
の測量原点位置に測量機１を設置する。そして、視準用
望遠鏡１６の視野内に上記測量対象２の反射プリズム２
ａが認められるように測量機本体１５の方向を概略設定
し、その後自動追尾装置を作動させて投光手段３からパ
ルス光を投射する。
測を行うときには、まず、反射プリズム２１を配設した
測量対象２を視認し得る場所に測量原点位置を定め、こ
の測量原点位置に測量機１を設置する。そして、視準用
望遠鏡１６の視野内に上記測量対象２の反射プリズム２
ａが認められるように測量機本体１５の方向を概略設定
し、その後自動追尾装置を作動させて投光手段３からパ
ルス光を投射する。
【００３９】すなわち、半導体レーザ装置３１で発生し
たパルス光が対物レンズ４を介して測量対象２に対し投
射される。その際、上記パルス光が上下左右にそれぞれ
偏って十文字状に拡がるため、全方向に均一に拡がる場
合に比べて実際の投光範囲は狭くなるものの、その分、
単位面積あたりの光量を高めることができる。しかも、
上下方向又は水平方向に関してそれぞれ狭いながらも十
分に長い投光範囲が確保される。つまり、測量対象２に
投射する光の投射範囲を実質的に狭くすることなく単位
面積あたりの光量を十分に高めることができる。よっ
て、測量対象２を検出し易くかつ見失い難いものにする
ことができる。
たパルス光が対物レンズ４を介して測量対象２に対し投
射される。その際、上記パルス光が上下左右にそれぞれ
偏って十文字状に拡がるため、全方向に均一に拡がる場
合に比べて実際の投光範囲は狭くなるものの、その分、
単位面積あたりの光量を高めることができる。しかも、
上下方向又は水平方向に関してそれぞれ狭いながらも十
分に長い投光範囲が確保される。つまり、測量対象２に
投射する光の投射範囲を実質的に狭くすることなく単位
面積あたりの光量を十分に高めることができる。よっ
て、測量対象２を検出し易くかつ見失い難いものにする
ことができる。
【００４０】そして、反射プリズム２１で反射されて返
ってきたパルス光は、対物レンズ４で集光されて受光手
段５により受光される。すなわち、上記対物レンズ４に
より集光された光はビームスプリッタ５１により透過光
と反射光とに分割され、それぞれ第１又は第２ＣＣＤラ
インセンサ５２，５３の受光面５２ａ，５３ａに入射す
る（図４〜図７参照）。そして、第１及び第２ＣＣＤラ
インセンサ５２，５３からの出力信号に基づいて測量対
象２の像２ａの中心点Ｃの上下方向及び水平方向に関す
る位置がそれぞれ検出され、上記像２ａの中心点Ｃと基
準受光位置Ｓ1，Ｓ2 との、上下方向及び水平方向の偏
差が正確にかつ直接的に演算される。
ってきたパルス光は、対物レンズ４で集光されて受光手
段５により受光される。すなわち、上記対物レンズ４に
より集光された光はビームスプリッタ５１により透過光
と反射光とに分割され、それぞれ第１又は第２ＣＣＤラ
インセンサ５２，５３の受光面５２ａ，５３ａに入射す
る（図４〜図７参照）。そして、第１及び第２ＣＣＤラ
インセンサ５２，５３からの出力信号に基づいて測量対
象２の像２ａの中心点Ｃの上下方向及び水平方向に関す
る位置がそれぞれ検出され、上記像２ａの中心点Ｃと基
準受光位置Ｓ1，Ｓ2 との、上下方向及び水平方向の偏
差が正確にかつ直接的に演算される。
【００４１】その際、測量対象２が測量機１の比較的近
くにあって（図４及び図５参照）像２ａの外径が比較的
大きい場合にも、また反対に測量対象２が測量機１から
比較的遠くにあって（図６及び図７参照）像２ａの外径
が比較的小さい場合にも、該像２ａの中心点Ｃと基準受
光位置Ｓ1 ，Ｓ2 との偏差量は変化しない。このため、
測量機１と測量対象２との間の距離が変化しても該測量
対象２の追尾精度の変動を防止することができる。また
第１及び第２ＣＣＤラインセンサ５２，５３の受光面５
２ａ，５３ａにおいては、受光セルが長手方向にのみ並
設されていればよいので、従来までの自動追尾装置にお
けるＣＣＤエリアセンサ等に比べて受光セルの数は格段
に少なくなっている。このため、測量対象２の像２ａの
中心点Ｃを検出するときの演算処理量が著しく少なくて
済むようになる。よって、コントローラ６を比較的小規
模の演算処理装置としても、位置検出のための演算時間
を短縮することができ、これに伴い追尾動作の高速化を
図ることができる。
くにあって（図４及び図５参照）像２ａの外径が比較的
大きい場合にも、また反対に測量対象２が測量機１から
比較的遠くにあって（図６及び図７参照）像２ａの外径
が比較的小さい場合にも、該像２ａの中心点Ｃと基準受
光位置Ｓ1 ，Ｓ2 との偏差量は変化しない。このため、
測量機１と測量対象２との間の距離が変化しても該測量
対象２の追尾精度の変動を防止することができる。また
第１及び第２ＣＣＤラインセンサ５２，５３の受光面５
２ａ，５３ａにおいては、受光セルが長手方向にのみ並
設されていればよいので、従来までの自動追尾装置にお
けるＣＣＤエリアセンサ等に比べて受光セルの数は格段
に少なくなっている。このため、測量対象２の像２ａの
中心点Ｃを検出するときの演算処理量が著しく少なくて
済むようになる。よって、コントローラ６を比較的小規
模の演算処理装置としても、位置検出のための演算時間
を短縮することができ、これに伴い追尾動作の高速化を
図ることができる。
【００４２】そして、第１及び第２ＣＣＤラインセンサ
５２，５３により検出された上下方向及び水平方向の偏
差に応じて、コントローラ６により駆動用モータ６１，
６２が作動され、これにより測量機本体部１５が水平軸
ｘ及び鉛直軸ｙの回りに回転される。その際、上記駆動
用モータ６１，６２の制御量は上記上下方向及び水平方
向の偏差量から直接的に求められるため、追尾作動にお
ける制御の容易化が図られる。
５２，５３により検出された上下方向及び水平方向の偏
差に応じて、コントローラ６により駆動用モータ６１，
６２が作動され、これにより測量機本体部１５が水平軸
ｘ及び鉛直軸ｙの回りに回転される。その際、上記駆動
用モータ６１，６２の制御量は上記上下方向及び水平方
向の偏差量から直接的に求められるため、追尾作動にお
ける制御の容易化が図られる。
【００４３】上述の如く測量機本体部１５が測量対象２
を自動的に追尾作動して、該測量対象２の像２ａの中心
点Ｃが基準受光位置Ｓ1 ，Ｓ2 に常に位置するようにさ
れた状態で、オペレータの操作により測量対象２の位置
計測が行われる。すなわち、図示しないが測距用レーザ
発振器から反射プリズム２１に測距用レーザが投光され
る一方、この反射プリズム２１から反射されるレーザ光
線が測距用受光部で受光され、往復するレーザ光線の光
波が計数されて測量対象２までの直線距離が計測され
る。またその際、測量機本体１５の水平軸ｘ及び鉛直軸
ｙ回りの回転角度がそれぞれエンコーダにより検出され
て、この回転角度に基づいて上記測量対象２の水平角及
び鉛直角が計測される。
を自動的に追尾作動して、該測量対象２の像２ａの中心
点Ｃが基準受光位置Ｓ1 ，Ｓ2 に常に位置するようにさ
れた状態で、オペレータの操作により測量対象２の位置
計測が行われる。すなわち、図示しないが測距用レーザ
発振器から反射プリズム２１に測距用レーザが投光され
る一方、この反射プリズム２１から反射されるレーザ光
線が測距用受光部で受光され、往復するレーザ光線の光
波が計数されて測量対象２までの直線距離が計測され
る。またその際、測量機本体１５の水平軸ｘ及び鉛直軸
ｙ回りの回転角度がそれぞれエンコーダにより検出され
て、この回転角度に基づいて上記測量対象２の水平角及
び鉛直角が計測される。
【００４４】したがって、この実施形態に係る測量機１
によれば、移動する測量対象２を測量機１により自動的
に追尾させることができ、該測量対象２の位置計測を極
めて容易に実行することができる。その際、上記測量機
１と測量対象２との間の距離が変化しても追尾作動に変
動が生ずることがないため、測量精度が高精度に保たれ
る。また、上記測量対象２を見失うことなくかつ高速で
自動追尾することができる。
によれば、移動する測量対象２を測量機１により自動的
に追尾させることができ、該測量対象２の位置計測を極
めて容易に実行することができる。その際、上記測量機
１と測量対象２との間の距離が変化しても追尾作動に変
動が生ずることがないため、測量精度が高精度に保たれ
る。また、上記測量対象２を見失うことなくかつ高速で
自動追尾することができる。
【００４５】＜他の実施形態＞なお、本発明は上記実施
形態に限定されるものではなく、その他種々の実施形態
を包含するものである。すなわち上記実施形態では、受
光手段５において対物レンズ４からの光をビームスプリ
ッタ５１により分割して互いに異なる位置に配置した第
１及び第２ＣＣＤラインセンサ５２，５３に入射させる
ようにしているが、これに限らず、例えばＣＣＤライン
センサを十文字状に配置しておいて、そこに光を入射さ
せるようにしてもよい。
形態に限定されるものではなく、その他種々の実施形態
を包含するものである。すなわち上記実施形態では、受
光手段５において対物レンズ４からの光をビームスプリ
ッタ５１により分割して互いに異なる位置に配置した第
１及び第２ＣＣＤラインセンサ５２，５３に入射させる
ようにしているが、これに限らず、例えばＣＣＤライン
センサを十文字状に配置しておいて、そこに光を入射さ
せるようにしてもよい。
【００４６】上記実施形態では、第１及び第２の光電変
換手段としての第１及び第２ＣＣＤラインセンサ５２，
５３を互いに直交するように上下方向又は左右方向に配
置しているが、これに限らず、例えば２つのＣＣＤライ
ンセンサを互いに４５度で交差するように配置してもよ
く、また３つ以上のＣＣＤラインセンサを互いに交差す
るように配置してもよい。さらに、ＣＣＤラインセンサ
以外の受光素子を用いることも可能である。
換手段としての第１及び第２ＣＣＤラインセンサ５２，
５３を互いに直交するように上下方向又は左右方向に配
置しているが、これに限らず、例えば２つのＣＣＤライ
ンセンサを互いに４５度で交差するように配置してもよ
く、また３つ以上のＣＣＤラインセンサを互いに交差す
るように配置してもよい。さらに、ＣＣＤラインセンサ
以外の受光素子を用いることも可能である。
【００４７】上記実施形態では、投光手段３により、投
射方向に対して十文字に拡がるようにパルス光を投射す
るようにしたが、これに限らず、例えば円形状又は楕円
形状もしくは矩形状に拡がるように光を投射するように
してもよく、また投射する光はパルス光でなくてもよ
い。
射方向に対して十文字に拡がるようにパルス光を投射す
るようにしたが、これに限らず、例えば円形状又は楕円
形状もしくは矩形状に拡がるように光を投射するように
してもよく、また投射する光はパルス光でなくてもよ
い。
【００４８】上記実施形態では、投光手段３から投射さ
れたパルス光を対物レンズ４を介して測量対象２へ投射
するようにしているが、これに限らず、例えば図８に示
すように対物レンズ４の中心部に貫通孔４ａを形成し、
この貫通孔４ａを通過させてパルス光を測量対象２へ投
射するようにしてもよい。
れたパルス光を対物レンズ４を介して測量対象２へ投射
するようにしているが、これに限らず、例えば図８に示
すように対物レンズ４の中心部に貫通孔４ａを形成し、
この貫通孔４ａを通過させてパルス光を測量対象２へ投
射するようにしてもよい。
【００４９】上記実施形態では、投光手段３として、半
導体レーザ装置３１で発生させたパルス光を、光ファイ
バ３２ａ，３３ａの束を介して上下方向又は水平方向に
偏って拡がるように投射する構成としたが、これに限ら
ず、例えば複数の半導体レーザ装置を上下方向又は水平
方向に並設してそれぞれ光を投射するように構成しても
よい。
導体レーザ装置３１で発生させたパルス光を、光ファイ
バ３２ａ，３３ａの束を介して上下方向又は水平方向に
偏って拡がるように投射する構成としたが、これに限ら
ず、例えば複数の半導体レーザ装置を上下方向又は水平
方向に並設してそれぞれ光を投射するように構成しても
よい。
【００５０】上記実施形態では、位置検出用の特徴光を
投光手段３から測量対象２に対し投射するようにしてい
るが、これに限らず、測量対象に例えば半導体レーザ等
からなる投光手段を配設して、そこから光を投射させる
ようにしてもよい。
投光手段３から測量対象２に対し投射するようにしてい
るが、これに限らず、測量対象に例えば半導体レーザ等
からなる投光手段を配設して、そこから光を投射させる
ようにしてもよい。
【００５１】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の発
明における測量機の自動追尾装置によれば、第１及び第
２の光電変換手段を互いに交差するように設けて測量対
象の像の中心点と対物レンズの光軸位置との偏差を求め
るようにし、この偏差に基づいて測量機本体の姿勢を変
化させるようにした。このことで、測量機と測量対象と
の間の距離が変化しても追尾精度の変動を防止すること
ができる。また、従来のＣＣＤエリアセンサ等に比べて
位置検出のための演算処理量を格段に少なくすることが
できるので、比較的小規模の演算処理装置を用いても位
置検出のための時間を短縮して追尾作動の高速化を図る
ことができる。
明における測量機の自動追尾装置によれば、第１及び第
２の光電変換手段を互いに交差するように設けて測量対
象の像の中心点と対物レンズの光軸位置との偏差を求め
るようにし、この偏差に基づいて測量機本体の姿勢を変
化させるようにした。このことで、測量機と測量対象と
の間の距離が変化しても追尾精度の変動を防止すること
ができる。また、従来のＣＣＤエリアセンサ等に比べて
位置検出のための演算処理量を格段に少なくすることが
できるので、比較的小規模の演算処理装置を用いても位
置検出のための時間を短縮して追尾作動の高速化を図る
ことができる。
【００５２】請求項２記載の発明では、上記請求項１記
載の発明と同様の効果が得られる上、第１及び第２の光
電変換手段をそれぞれ異なる箇所に配置することがで
き、それらの配置の自由度が向上する。
載の発明と同様の効果が得られる上、第１及び第２の光
電変換手段をそれぞれ異なる箇所に配置することがで
き、それらの配置の自由度が向上する。
【００５３】請求項３記載の発明では、第１及び第２の
設定方向を互いに直交するように設定したので、位置検
出のための演算処理の容易化が図られる。
設定方向を互いに直交するように設定したので、位置検
出のための演算処理の容易化が図られる。
【００５４】請求項４記載の発明では、光電変換手段と
してＣＣＤラインセンサを用いたことで比較的低コスト
で高い検出精度が得られる。
してＣＣＤラインセンサを用いたことで比較的低コスト
で高い検出精度が得られる。
【００５５】請求項５記載の発明によれば、測量対象に
は光線反射器を設けるだけでよいので、システムの構成
が簡易なものになる。
は光線反射器を設けるだけでよいので、システムの構成
が簡易なものになる。
【００５６】請求項６記載の発明によれば、測量対象に
投射する光の投射範囲を実質的に狭くすることなく単位
面積あたりの光量を十分に高めることができ、測量対象
を検出し易くかつ見失い難いものにすることができる。
投射する光の投射範囲を実質的に狭くすることなく単位
面積あたりの光量を十分に高めることができ、測量対象
を検出し易くかつ見失い難いものにすることができる。
【００５７】請求項７記載の発明によれば、光ファイバ
を用いることで発光源からの光の投射方向を容易に設定
することができ、しかも発光源の配置の自由度が向上し
て投光手段のコンパクト化が図られる。
を用いることで発光源からの光の投射方向を容易に設定
することができ、しかも発光源の配置の自由度が向上し
て投光手段のコンパクト化が図られる。
【００５８】請求項８記載の発明によれば、測量機の追
尾作動における制御の容易化及び追尾の高速化が図ら
れ、さらに、投射光の投光範囲を容易に極めて広いもの
とすることができる。
尾作動における制御の容易化及び追尾の高速化が図ら
れ、さらに、投射光の投光範囲を容易に極めて広いもの
とすることができる。
【図１】本発明の実施形態に係る測量機の概略構成を示
す側面図である。
す側面図である。
【図２】測量機本体部に設けられた位置検出用の光学系
を示す上面図である。
を示す上面図である。
【図３】投光手段において上下左右に延びるように並設
された光ファイバの端部を示す正面図である。
された光ファイバの端部を示す正面図である。
【図４】第１ＣＣＤラインセンサによる測量対象の像の
上下方向の位置検出を示す模式図である。
上下方向の位置検出を示す模式図である。
【図５】第２ＣＣＤラインセンサによる測量対象の像の
水平方向の位置検出を示す模式図である。
水平方向の位置検出を示す模式図である。
【図６】測量対象が比較的遠くにある場合の図４相当図
である。
である。
【図７】測量対象が比較的遠くにある場合の図５相当図
である。
である。
【図８】他の実施形態に係る図２相当図である。
１ 測量機 ２ 測量対象 ２ａ 測量対象の像 ３ 投光手段 ４ 対物レンズ ５ 受光手段 ２１ 反射プリズム（光線反射器） ３１，３１… 光ファイバ ５１ ビームスプリッタ ５２，５３ ＣＣＤラインセンサ ６１，６２ 駆動用モータ（駆動手段） Ｃ 測量対象の像の中心点 Ｌ 対物レンズの光軸 Ｓ1 ，Ｓ2 基準受光位置
Claims (8)
- 【請求項１】 測量対象から放射される位置検出用特徴
光の像が対物レンズにより結像される受光手段と、測量
機本体の姿勢を変化させる駆動手段とを備え、上記受光
手段に結像される測量対象の像の中心点が上記対物レン
ズの光軸上に位置するように、上記受光手段からの出力
信号に基づいて駆動手段を作動制御するようにした測量
機の自動追尾装置において、 上記受光手段は、 上記対物レンズの光軸方向に直交する第１の設定方向に
延びるように並設された多数の受光部を有する第１の光
電変換手段と、 上記対物レンズの光軸方向に直交しかつ上記第１の設定
方向と交差する第２の設定方向に延びるように並設され
た多数の受光部を有する第２の光電変換手段とを備えて
いることを特徴とする測量機の自動追尾装置。 - 【請求項２】 測量対象から放射される位置検出用特徴
光の像が対物レンズにより結像される受光手段と、測量
機本体の姿勢を変化させる駆動手段とを備え、上記受光
手段に結像される測量対象の像の中心点が上記対物レン
ズの光軸上に位置するように、上記受光手段からの出力
信号に基づいて駆動手段を作動制御するようにした測量
機の自動追尾装置において、 上記受光手段は、 上記対物レンズからの光の一部を透過させる一方、残り
を反射させるビームスプリッタと、 上記ビームスプリッタからの透過光を受光する位置に設
けられ、該透過光の光軸方向に直交する第１の設定方向
に延びるように並設された多数の受光部を有する第１の
光電変換手段と、 上記ビームスプリッタからの反射光を受光する位置に設
けられ、該反射光の光軸方向に直交しかつ上記第１の設
定方向と交差する第２の設定方向に延びるように並設さ
れた多数の受光部を有する第２の光電変換手段とを備え
ていることを特徴とする測量機の自動追尾装置。 - 【請求項３】 請求項１又は請求項２において、 第１及び第２の設定方向は互いに直交していることを特
徴とする測量機の自動追尾装置。 - 【請求項４】 請求項３において、 第１及び第２の光電変換手段はＣＣＤラインセンサであ
ることを特徴とする測量機の自動追尾装置。 - 【請求項５】 請求項３において、 測量対象に対し光を投射する投光手段と、 上記測量対象に配設されて上記投光手段から投射される
光を反射する光線反射器とを備え、 受光手段は上記光線反射器により反射された光を位置検
出用特徴光として受光するように構成されていることを
特徴とする測量機の自動追尾装置。 - 【請求項６】 請求項５において、 投光手段は、互いに直交する第１及び第２の設定方向に
それぞれ偏って拡がるように光を投射する２つの投光器
を備え、測量対象に対し対物レンズの光軸に沿って光を
投射するように構成されていることを特徴とする測量機
の自動追尾装置。 - 【請求項７】 請求項６において、 各投光器は、一端部が発光源に接続されかつ他端部がそ
れぞれ第１及び第２の設定方向に並設された光ファイバ
の束を備えていて、上記発光源で発生した光をそれぞれ
上記光ファイバの他端部から投射するように構成されて
いることを特徴とする測量機の自動追尾装置。 - 【請求項８】 請求項３〜請求項７のいずれか１つに記
載の発明において、 第１及び第２の設定方向は、それぞれ鉛直方向及び水平
方向に設定されており、 駆動手段は、測量機本体を鉛直軸及び水平軸の回りにそ
れぞれ回転作動させるように構成されていることを特徴
とする測量機の自動追尾装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16446897A JP3647608B2 (ja) | 1997-06-20 | 1997-06-20 | 測量機の自動追尾装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16446897A JP3647608B2 (ja) | 1997-06-20 | 1997-06-20 | 測量機の自動追尾装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1114357A true JPH1114357A (ja) | 1999-01-22 |
| JP3647608B2 JP3647608B2 (ja) | 2005-05-18 |
Family
ID=15793762
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16446897A Expired - Fee Related JP3647608B2 (ja) | 1997-06-20 | 1997-06-20 | 測量機の自動追尾装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3647608B2 (ja) |
Cited By (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002296032A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-09 | Topcon Corp | 位置検出装置 |
| US6693664B2 (en) | 1999-06-30 | 2004-02-17 | Negevtech | Method and system for fast on-line electro-optical detection of wafer defects |
| WO2004023073A1 (ja) * | 2002-09-03 | 2004-03-18 | Kabushiki Kaisha Topcon | 測量装置 |
| EP1439385A1 (en) * | 2003-01-15 | 2004-07-21 | Negevtech Ltd. | Method and system for fast on-line electro-optical detection of wafer defects |
| US6892013B2 (en) | 2003-01-15 | 2005-05-10 | Negevtech Ltd. | Fiber optical illumination system |
| US6924891B2 (en) | 1999-11-17 | 2005-08-02 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for article inspection including speckle reduction |
| US7081917B2 (en) | 2001-08-10 | 2006-07-25 | Sokkoia Company Limited | Automatic collimation surveying apparatus having image pick-up device |
| JP2006308441A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Sokkia Co Ltd | 光波距離計 |
| US7180586B2 (en) | 2003-01-15 | 2007-02-20 | Negevtech Ltd. | System for detection of wafer defects |
| US7274444B2 (en) | 2004-07-12 | 2007-09-25 | Negevtech Ltd. | Multi mode inspection method and apparatus |
| JP2008180720A (ja) * | 2008-02-01 | 2008-08-07 | Topcon Corp | 測量装置 |
| US7486861B2 (en) | 2003-01-15 | 2009-02-03 | Negevtech Ltd. | Fiber optical illumination system |
| US7499583B2 (en) | 1990-11-16 | 2009-03-03 | Applied Materials, Israel, Ltd. | Optical inspection method for substrate defect detection |
| US7714998B2 (en) | 2006-11-28 | 2010-05-11 | Applied Materials South East Asia Pte. Ltd. | Image splitting in optical inspection systems |
| US7719674B2 (en) | 2006-11-28 | 2010-05-18 | Applied Materials South East Asia Pte. Ltd. | Image splitting in optical inspection systems |
| US7804993B2 (en) | 2005-02-28 | 2010-09-28 | Applied Materials South East Asia Pte. Ltd. | Method and apparatus for detecting defects in wafers including alignment of the wafer images so as to induce the same smear in all images |
| US7813541B2 (en) | 2005-02-28 | 2010-10-12 | Applied Materials South East Asia Pte. Ltd. | Method and apparatus for detecting defects in wafers |
| US8031931B2 (en) | 2006-04-24 | 2011-10-04 | Applied Materials South East Asia Pte. Ltd. | Printed fourier filtering in optical inspection tools |
| US8310535B2 (en) | 2008-03-25 | 2012-11-13 | Kabushiki Kaisha Topcon | Surveying system |
| CN114067367A (zh) * | 2022-01-14 | 2022-02-18 | 南京甄视智能科技有限公司 | 一种红外场景下小动物检测方法、计算机设备及存储介质 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59190608A (ja) * | 1983-04-12 | 1984-10-29 | Daikin Ind Ltd | 傾斜角センサ |
| JPS6418001A (en) * | 1987-07-14 | 1989-01-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Bright spot position detector |
| JPH07198383A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-08-01 | Topcon Corp | 測量機 |
-
1997
- 1997-06-20 JP JP16446897A patent/JP3647608B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59190608A (ja) * | 1983-04-12 | 1984-10-29 | Daikin Ind Ltd | 傾斜角センサ |
| JPS6418001A (en) * | 1987-07-14 | 1989-01-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Bright spot position detector |
| JPH07198383A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-08-01 | Topcon Corp | 測量機 |
Cited By (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7499583B2 (en) | 1990-11-16 | 2009-03-03 | Applied Materials, Israel, Ltd. | Optical inspection method for substrate defect detection |
| US6693664B2 (en) | 1999-06-30 | 2004-02-17 | Negevtech | Method and system for fast on-line electro-optical detection of wafer defects |
| US6924891B2 (en) | 1999-11-17 | 2005-08-02 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for article inspection including speckle reduction |
| JP2002296032A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-09 | Topcon Corp | 位置検出装置 |
| US7081917B2 (en) | 2001-08-10 | 2006-07-25 | Sokkoia Company Limited | Automatic collimation surveying apparatus having image pick-up device |
| WO2004023073A1 (ja) * | 2002-09-03 | 2004-03-18 | Kabushiki Kaisha Topcon | 測量装置 |
| US7127822B2 (en) | 2002-09-03 | 2006-10-31 | Kabushiki Kaisha Topcon | Surveying instrument |
| US7486861B2 (en) | 2003-01-15 | 2009-02-03 | Negevtech Ltd. | Fiber optical illumination system |
| US7633041B2 (en) | 2003-01-15 | 2009-12-15 | Applied Materials South East Asia Pte, Ltd. | Apparatus for determining optimum position of focus of an imaging system |
| US7180586B2 (en) | 2003-01-15 | 2007-02-20 | Negevtech Ltd. | System for detection of wafer defects |
| US7260298B2 (en) | 2003-01-15 | 2007-08-21 | Negevtech Ltd. | Fiber optical illumination system |
| US7961763B2 (en) | 2003-01-15 | 2011-06-14 | Applied Materials South East Asia Pte. Ltd. | System for detection of wafer defects |
| US6892013B2 (en) | 2003-01-15 | 2005-05-10 | Negevtech Ltd. | Fiber optical illumination system |
| US7843559B2 (en) | 2003-01-15 | 2010-11-30 | Applied Materials South East Asia Pte. Ltd. | System for detection of wafer defects |
| EP1439385A1 (en) * | 2003-01-15 | 2004-07-21 | Negevtech Ltd. | Method and system for fast on-line electro-optical detection of wafer defects |
| US7477383B2 (en) | 2003-01-15 | 2009-01-13 | Negevtech Ltd. | System for detection of wafer defects |
| US7525659B2 (en) | 2003-01-15 | 2009-04-28 | Negevtech Ltd. | System for detection of water defects |
| US7274444B2 (en) | 2004-07-12 | 2007-09-25 | Negevtech Ltd. | Multi mode inspection method and apparatus |
| US7804993B2 (en) | 2005-02-28 | 2010-09-28 | Applied Materials South East Asia Pte. Ltd. | Method and apparatus for detecting defects in wafers including alignment of the wafer images so as to induce the same smear in all images |
| US7813541B2 (en) | 2005-02-28 | 2010-10-12 | Applied Materials South East Asia Pte. Ltd. | Method and apparatus for detecting defects in wafers |
| JP2006308441A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Sokkia Co Ltd | 光波距離計 |
| US8031931B2 (en) | 2006-04-24 | 2011-10-04 | Applied Materials South East Asia Pte. Ltd. | Printed fourier filtering in optical inspection tools |
| US7714998B2 (en) | 2006-11-28 | 2010-05-11 | Applied Materials South East Asia Pte. Ltd. | Image splitting in optical inspection systems |
| US7719674B2 (en) | 2006-11-28 | 2010-05-18 | Applied Materials South East Asia Pte. Ltd. | Image splitting in optical inspection systems |
| JP2008180720A (ja) * | 2008-02-01 | 2008-08-07 | Topcon Corp | 測量装置 |
| US8310535B2 (en) | 2008-03-25 | 2012-11-13 | Kabushiki Kaisha Topcon | Surveying system |
| CN114067367A (zh) * | 2022-01-14 | 2022-02-18 | 南京甄视智能科技有限公司 | 一种红外场景下小动物检测方法、计算机设备及存储介质 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3647608B2 (ja) | 2005-05-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH1114357A (ja) | 測量機の自動追尾装置 | |
| JP5016245B2 (ja) | 物体の六つの自由度を求めるための測定システム | |
| US5481355A (en) | Flying spherical body measuring apparatus | |
| JP4531965B2 (ja) | 振れ検出装置、振れ検出装置付き回転レーザ装置及び振れ検出補正装置付き位置測定設定システム | |
| US5589939A (en) | Laser surveying system | |
| JP7138525B2 (ja) | 測量装置及び測量装置システム | |
| JP4236326B2 (ja) | 自動測量機 | |
| CN207540510U (zh) | 一种用于检测透镜中心偏离的装置 | |
| US11629959B2 (en) | Surveying instrument | |
| US11635490B2 (en) | Surveying system having a rotating mirror | |
| JP3120885B2 (ja) | 鏡面の測定装置 | |
| JPH07190773A (ja) | 光学式３次元位置検出装置 | |
| JPS581120A (ja) | テレセントリツク光線を発生する装置および物体の寸法または位置を測定する方法 | |
| JP2694647B2 (ja) | 測距経緯儀 | |
| JP2840951B2 (ja) | 自動視準装置 | |
| JPH07117414B2 (ja) | 自動視準式光波距離計 | |
| JP2823112B2 (ja) | 測距儀 | |
| JPS60205383A (ja) | 距離測定装置における測定対象定点追尾方法 | |
| JP4175736B2 (ja) | 位置計測作図用自動追尾装置 | |
| JP2000162307A (ja) | 原子炉容器点検ロボットの位置標定用レーザ追尾装置 | |
| JPS62287107A (ja) | 中心位置測定装置 | |
| SU1569532A1 (ru) | Устройство дл измерени шероховатости | |
| RU2098858C1 (ru) | Устройство для автоматического измерения расстояния до заданного объекта | |
| JPS63225120A (ja) | ワンマン測量システム | |
| JP2023127742A (ja) | 測量装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20010116 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041101 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041221 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050209 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080218 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090218 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090218 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100218 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100218 Year of fee payment: 5 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100218 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110218 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110218 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110218 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110218 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120218 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120218 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130218 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130218 Year of fee payment: 8 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130218 Year of fee payment: 8 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130218 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130218 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130218 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140218 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140218 Year of fee payment: 9 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140218 Year of fee payment: 9 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |