JPH11140119A - 希釈剤及びコポリマーよりなる組成物及びその製造方法 - Google Patents
希釈剤及びコポリマーよりなる組成物及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH11140119A JPH11140119A JP10237224A JP23722498A JPH11140119A JP H11140119 A JPH11140119 A JP H11140119A JP 10237224 A JP10237224 A JP 10237224A JP 23722498 A JP23722498 A JP 23722498A JP H11140119 A JPH11140119 A JP H11140119A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- composition
- diluent
- copolymer
- kpa
- range
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J3/00—Processes of treating or compounding macromolecular substances
- C08J3/02—Making solutions, dispersions, lattices or gels by other methods than by solution, emulsion or suspension polymerisation techniques
- C08J3/09—Making solutions, dispersions, lattices or gels by other methods than by solution, emulsion or suspension polymerisation techniques in organic liquids
- C08J3/091—Making solutions, dispersions, lattices or gels by other methods than by solution, emulsion or suspension polymerisation techniques in organic liquids characterised by the chemical constitution of the organic liquid
- C08J3/092—Hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08C—TREATMENT OR CHEMICAL MODIFICATION OF RUBBERS
- C08C2/00—Treatment of rubber solutions
- C08C2/06—Wining of rubber from solutions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F12/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F12/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F12/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F12/06—Hydrocarbons
- C08F12/08—Styrene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F36/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds
- C08F36/02—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds
- C08F36/04—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds conjugated
- C08F36/06—Butadiene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F6/00—Post-polymerisation treatments
- C08F6/001—Removal of residual monomers by physical means
- C08F6/003—Removal of residual monomers by physical means from polymer solutions, suspensions, dispersions or emulsions without recovery of the polymer therefrom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F6/00—Post-polymerisation treatments
- C08F6/06—Treatment of polymer solutions
- C08F6/10—Removal of volatile materials, e.g. solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2309/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of conjugated diene hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2325/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Derivatives of such polymers
- C08J2325/02—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons
- C08J2325/04—Homopolymers or copolymers of styrene
- C08J2325/06—Polystyrene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L25/00—Compositions of, homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L25/02—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons
- C08L25/04—Homopolymers or copolymers of styrene
- C08L25/06—Polystyrene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L9/00—Compositions of homopolymers or copolymers of conjugated diene hydrocarbons
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Abstract
物の製造法を提供し、そしてまたその組成物を提供す
る。 【解決手段】 本発明の方法は、(a) 希釈剤とコポリマ
ーからなる組成物を製造し、そして(b) 前記組成物から
前記希釈剤の一部を取り除くことからなる。本発明の方
法は、より少ない量の希釈剤、及びより少ない量の欠陥
部を有する組成物を製造する。
Description
よりなる組成物の分野にある。希釈剤は溶剤及び所望に
より揮発性物質よりなる。溶剤は脂肪族化合物、又は脂
環式化合物、又はこれら化合物の混合物からなる。コポ
リマーは重合したモノマーよりなり、前記モノマーはモ
ノビニルアレーン及びジエンからなる群から選択され
る。
重合は希釈剤中で行われる。この共重合はこのような希
釈剤とコポリマーよりなる混合物を生成する。この共重
合の後、希釈剤の量がより少ない組成物を製造するため
に、この混合物から出来るだけ多くの希釈剤を除去する
工程がとられる。これらは食品及び医薬品への用途に容
易に用いられるので、より少ない量の希釈剤を含んだ組
成物を得ることが望ましい。
から除去するために用いられる先行技術の方法は、満足
されるものではなかった。このような混合物から作られ
た組成物においては、混合物が希釈剤をより少ない量に
達するために受けなければならない過酷な処理条件は、
最終製品の品質に大いに有害な影響を与える。これらの
過酷な処理条件は、このような組成物に欠陥量を増加さ
せる逆の効果を与えてしまう。
ーは、主及び側鎖の不飽和(ジエンから)を含んでお
り、これは過酷な処理操作においてコポリマーに特に劣
化の変化を与える傾向がある。この不飽和性は最後の仕
上げを困難にする一方で、これらのコポリマーを工業的
に重要とする、ある精密に必要とされる性質に対し主に
その責任を果たしている。過酷な処理によるコポリマー
における劣化の変化は、極めて多様でありそして広範囲
に亘る。これらの変化は、着色の増加、コポリマーの安
定性の減少、安定剤のレベルの減少、及び一般に顧客の
設備における成形上の問題の感度上昇が含まれる。最も
重要な劣化の変化はコポリマーの架橋及びゲル化を含
み、成形製品に、そして特にシートやフィルムに適用す
る場合に表面欠陥部をきわだたせる、ゲル(ある場合に
は“フィシュアイ”と呼ばれる)、及び黒色の小点を形
成する。処理操作が過酷であればある程、劣化の変化は
更に広範囲に亘る。高レベルのゲル及び黒色小点は、こ
れらコポリマーの大部分の適用商品において視覚的に明
白であり、そして大部分の顧客には受け入れられない。
際の要望であり、このような組成物はより少ない量の希
釈剤を有し、そしてこのような希釈剤は溶剤、及び所望
により揮発性物質を含有し、そしてこのような溶剤は脂
肪族化合物、または脂環式化合物、又はこれら化合物の
混合物を含有し、そしてこのようなコポリマーは重合し
たモノマーを含有し、前記モノマーはモノビニルアレー
ン、及びジエンからなる群から選択される要望、そし
て、(2) 希釈剤及びコポリマーよりなる組成物を製造
する際の要望であり、このような組成物はより少ない量
の欠陥部を有し、そしてこのような希釈剤は溶剤、及び
所望により揮発性物質を含有し、そしてこのような溶剤
は脂肪族化合物、または脂環式化合物、又はこれら化合
物の混合物を含有し、そしてこのようなコポリマーは重
合したモノマーを含有し、前記モノマーはモノビニルア
レーン、及びジエンからなる群から選択される要望があ
る。
物を製造する方法は開発されていない。
は、本発明の方法が望みの組成物を製造し、そしてその
結果本発明がこのような組成物の製造者らにとって経済
的にそして技術的にいずれも有用であるので、本発明を
ここに提供するものである。
物を製造する方法を提供するものであって、このような
組成物は先行技術の方法によって製造された先行技術の
組成物よりもより少量の希釈剤及び/又は欠陥部を有し
ており、そしてこのような希釈剤は溶剤及び所望により
揮発性物質を含有し、そしてこのような溶剤は脂肪族化
合物、又は脂環式化合物、又はこれら化合物の混合物を
含有し、そしてこのようなコポリマーは重合したモノマ
ーを含有し、このようなモノマーはモノビニルアレーン
及びジエンからなる群から選択される。
なる組成物を取り扱うものであって、このような組成物
は先行技術の方法によって製造された先行技術の組成物
よりもより少量の希釈剤及び/又は欠陥部を有し、そし
てこのような希釈剤は溶剤及び所望により揮発性物質を
含有し、そしてこのような溶剤は脂肪族化合物、又は脂
環式化合物、又はこれら化合物の混合物を含有し、そし
てこのようなコポリマーは重合したモノマーを含有し、
このようなモノマーはモノビニルアレーン及びジエンか
らなる群から選択される。
って、組成物を製造する方法が提供される。この方法
は、(a) 希釈剤とコポリマーからなる第一の組成物を
製造し、その際に、前記希釈剤が溶剤及び所望により揮
発性物質からなり、そして前記溶剤が脂肪族化合物、脂
環式化合物、又はこれらの化合物の混合物からなり、そ
して前記のコポリマーは重合されたモノマーを含み、前
記モノマーはモノビニルアレーン及びジエンからなる群
から選択され、そしてこのようなモノビニルアレーン及
びジエンは、重量パーセントで測定して前記コポリマー
の大部分を占め、そして前記第一の組成物における前記
コポリマーの量は前記第一の組成物の重量を基準にして
約15〜約75重量パーセントの範囲にあり、そして前記第
一の組成物が希釈剤の沸点より高い温度であり、(b)
第一の槽中で前記の第一の組成物から前記の希釈剤の一
部を除去し、その際に、前記第一の槽が第一の分離部分
及び第一のせん断部分からなり、そして前記の第一の分
離部分が約110 ℃〜約210 ℃の範囲の温度、及び約130k
Pa〜約1000kPa の範囲の圧力を有し、前記第一の組成物
より少ない量の前記希釈剤を有する第二の組成物を作
り、そして前記の第一のせん断部分が110 ℃〜約210 ℃
の範囲の温度及び130kPa〜約1000kPa の範囲の圧力を有
し、前記の第二の組成物より少ない量の希釈剤を有する
第三の組成物を製造し、(c) 第二の槽中で前記第三の
組成物から前記希釈剤の一部を除去し、その際に、前記
第二の槽が第二の分離部分及び第二のせん断部分からな
り、そして前記の第二の分離部分が約110 ℃〜約210 ℃
の範囲の温度、及び約0 kPa 〜約75kPaの範囲の圧力を
有し、前記第三の組成物より少ない量の前記希釈剤を有
する第四の組成物を作り、そして前記第二のせん断部分
が約110 ℃〜約210 ℃の範囲の温度、及び0 kPa 〜約75
kPa の範囲の圧力を有し、前記第四の組成物より少ない
量の希釈剤を有する第五の組成物を製造することを特徴
とする。
より本質的になり、そしてそれぞれの組成物は列挙した
成分より本質的になる。“本質的になる”の用語を使用
することによって、方法は任意の更なる工程を含むこと
なく、或いは本発明の望みの目的に不利な影響を与える
任意の更なる希釈剤、溶剤又はモノマーを用いないこと
を意図するものである。
れる。この組成物は希釈剤及びコポリマーよりなり、前
記希釈剤が溶剤及び所望により揮発性物質よりなり、前
記溶剤は脂肪族化合物、脂環式化合物、又はこれら化合
物の混合物よりなり、そして前記のコポリマーは重合さ
れたモノマーを含み、前記のモノマーはモノビニルアレ
ーン及びジエンからなる群から選択され、そしてこのよ
うなモノビニルアレーン、及びジエンは重量パーセント
で測定して前記コポリマーの大部分を占めており、そし
て前記組成物における希釈剤の量は前記組成物の重量を
基準にして重量で1400 ppmより少なく、そしてこのよう
な組成物の押し出し部分の10mil のシートにおける欠陥
部の量がこのようなシート(以下に定義するもの)の10
0 平方インチ当たり10より少なく、そして前記の組成物
が工業的な規模のプラント(以下に定義するもの)で製
造されていることを特徴とする。
物が提供される。この組成物は希釈剤及びコポリマーよ
りなる組成物であって、前記希釈剤が溶剤及び所望によ
り揮発性物質よりなり、そして前記溶剤は脂肪族化合
物、脂環式化合物、又はこれら化合物の混合物よりな
り、そして前記のコポリマーは重合されたモノマーを含
み、前記のモノマーはモノビニルアレーン及びジエンか
らなる群から選択され、そしてこのようなモノビニルア
レーン、及びジエンは、重量パーセントで測定して前記
コポリマーの大部分を占めており、そして前記組成物中
の希釈剤の量は比較のコポリマー組成物(以下に定義す
るもの)中の希釈剤の量よりも約25重量パーセント少な
いことを特徴とする。
ことで更に良く理解されるであろう。
リマーよりなる組成物を製造する方法であって、前記の
組成物は先行技術の方法によって製造された先行技術の
組成物よりも少ない量の希釈剤、及び少ない量の欠陥部
を有するものである。
することからなる。第一の組成物は希釈剤とコポリマー
よりなる。前記の希釈剤は溶剤及び所望により揮発性物
質よりなる。
(以降は集団的に“非- 芳香族化合物”と呼ぶ)、又は
これら化合物の混合物からなる(“脂肪族”及び“脂環
式”の定義に関し Hawley's Condensed Chemical Dicti
onary, 11 版, 頁 34-35, (1987)を参照)。これらの非
- 芳香族化合物は2 〜約20の炭素原子、好ましくは約4
〜約16の炭素原子、そして最も好ましくは約5 〜約12の
炭素原子を有する。脂環式の化合物が現在は好まれてい
る。このような非- 芳香族化合物の適当な例として、エ
タン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン、ノナン、デカン、シクロペンタン、シク
ロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロ
ノナン、及びシクロデカンが含まれるが、これに限定さ
れない。現在は、シクロヘキサン及びシクロペンタンが
最も好まれている。スラリー重合においては、ペンタ
ン、ヘキサン、又はこれらの混合物がむしろ選ばれる。
他の化合物が重合に実質的にそして不利な影響を及ぼさ
ない限り、1種以上の非- 芳香族化合物、及び少量の
(通常希釈剤の15% 重量パーセント以下、そして好まし
くは希釈剤の1重量パーセント以下)の他の化合物(あ
る場合には揮発性物質と呼ばれる)を含有する。一般
に、このような他の化合物は、非- 重合性モノマー、開
始剤の加水分解生成物、カップリング剤成分、及び重合
法からの添加剤である。このような他の化合物の例とし
ては、スチレン、ジエチルベンゼン、n-プロピルベンゼ
ン、イソプロピルベンゼン、4-ビニルシクロヘキセン、
及びアルファメチルスチレンがある。このような化合物
は、コポリマーを傷つけること無しには除去することが
困難な、望ましくない臭気を与えることに注意すべきで
ある。
このようなモノマーはモノビニルアレーン及びジエンか
らなる群から選択される。しかしながら時には、このよ
うなコポリマーは、他の重合した化合物がコポリマー
の、又はコポリマーの例えばポリスチレンのような他の
ポリマーとのブレンド品の、物理特性、又は透明性に対
して、実質的なそして不利な影響を及ぼさない限り、少
量(通常コポリマーの5重量パーセント以下、そして好
ましくはコポリマーの1重量パーセント以下)のこのよ
うな他の重合した化合物を有することができる。その上
に、モノビニルアレーン及びジエンが、重量パーセント
で測定したとき、コポリマーの大部分を占めることに注
意すべきである。
は、一般に約8〜約20の炭素原子、好ましくは約8〜約
16の炭素原子、そして最も好ましくは8〜12の炭素原子
を含む。これらの炭素原子は芳香族構造中に配置され、
そして更に1つのビニル基を有するように配置され、こ
のようなビニル基は重合に使用し得る位置にある。例え
ばビニル基は、アルキルリチウム又はポリマーリチウム
開始剤によるアニオン重合に対し活性となる立体配置中
にあるべきである。このようなモノビニルアレーンの適
当な例としては、スチレン、アルファメチルスチレン、
4-メチルスチレン、3-メチルスチレン、2-メチルスチレ
ン、4-エチルスチレン、3-エチルスチレン、2-エチルス
チレン、4-tert- ブチルスチレン、2、4-ジメチルスチレ
ン、ビニルナフタレン、及びこれらの混合物が含まれる
が、これらに限定されるものではない。目下のところ最
も好ましいモノビニルアレーンはスチレンである。
炭素原子、好ましくは約4〜約10の炭素原子、最も好ま
しくは4〜8の炭素原子を含んでいる。これらの炭素原
子は、2つの共役二重結合が重合に利用できるように配
置されている。適当なこのようなジエンの例として、1、
3 ブタジエン、2-メチル-1、3- ブタジエン、2-エチル-
1、3- ブタジエン、2、3-ジメチル-1、3- ブタジエン、1、3
-ペンタジエン、及びこれらの混合物を含むが、これに
限定されない。現在、最も好ましいジエンは、1、3-ブタ
ジエンである。
する方法は、当業界において知られている。例えば、こ
のようなモノマーからコポリマーを製造する、各種のア
ニオン重合方法がある。Phillips Petroleum Companyに
よる模範的な方法は、次の米国特許第4,051,197 号;同
第4,091,053 号;同第4,104,326 号;同第4,403,074
号;同第4,584,346 号;同第4,704,434 号;同第4,704,
435 号;同第5,227,419号;同第5,256,736 号;同第5,3
69,174 号;同第5,290,875 号;同第5,399,628号;及び
同第5,438,103 号において開示されている。これらの特
許は PhillipsPetroleum Company, Bartlesville, Okla
homa, 74004, (918)-661-6600に譲渡されている。類似
のアニオン重合で製造された他の競合するコポリマーも
また、本発明の方法から利益を得ることに注意すべきで
ある。
は、第一の組成物の重量を基準にして、約15〜約75重量
パーセント、好ましくは約25〜約55重量パーセント、そ
して最も好ましくは約30〜約40重量パーセントの範囲で
ある。15重量パーセント以下の量ではその方法が経済的
ではなくなる傾向があり、一方75重量パーセント以上の
重量パーセントでは熱の移動及びコントロールに受け入
れ難い問題を助長する。
物は、前記の第一の組成物がさらされる気圧下で希釈剤
の沸点以上の温度でなければならない。一般に、これは
温度が約110 ℃〜約210 ℃、好ましくは約130 ℃〜約20
0 ℃、そして最も好ましくは約140 ℃〜約190 ℃の範囲
にあるべきことを意味している。110 ℃以下の温度は、
希釈剤はその温度及び圧力ではその沸点以上に達してお
らず、そのためこのような希釈剤を除去する事を更に困
難にしているので望ましくなく、一方約210 ℃以上の温
度では、ゲル及び/又は欠陥部の形成を増進し、そして
樹脂に品質の降格をもたらすので望ましくない。
二の組成物を製造することからなる。この第二の組成物
は希釈剤とコポリマーよりなる。この第二の組成物は第
一の組成物から希釈剤の一部を取り除くことによって製
造される。
記第一の槽は第一の分離部分と第一のせん断部分から構
成されている。
好ましくは約130 ℃〜約200 ℃そして最も好ましくは約
140 ℃〜約190 ℃の範囲の温度を有している。第一の分
離部分の温度は、第一の組成物が第一の分離部分に入る
ので、第一の組成物の温度より一般に高い。しかしなが
ら、一般に、110 ℃以下の温度は、希釈剤は、その温度
及び圧力ではその沸点以上に達しておらず、そのためこ
のような希釈剤を除去する事を更に困難にしているので
望ましくなく、一方約210 ℃以上の温度では、最終製品
に欠陥部の形成を増進するので望ましくない。
の、好ましくは約160kPa〜約750kPa、そして最も好まし
くは約200kPa〜約400kPaの範囲の圧力を有している。13
0kPa以下の圧力は第一の分離部分で生ずる泡立ちの量故
に望ましくなく、一方1000kPa以上の圧力は第一の組成
物から除去される希釈剤の量に悪影響を及ぼすので望ま
しくない。
への出口を有している。第一の分離部分の後、第二の組
成物は第一の組成物より少ない量の希釈剤を有してい
る。
に、第三の組成物を製造することからなる。この第三の
組成物は希釈剤とコポリマーからなる。この第三の組成
物は第二の組成物をせん断し、そしてこれにより第二の
組成物から希釈剤の一部を除去する事によって製造され
る。
好ましくは約130 ℃〜約200 ℃、そして最も好ましくは
約140 ℃〜約190 ℃の範囲の温度を有している。しかし
ながら、一般に、110 ℃以下の温度は希釈剤がその温度
及び圧力でその沸点以上に達しておらず、このような希
釈剤を除去することを更に困難としているので望ましく
なく、一方約210 ℃以上の温度では最終製品において欠
陥部の形成を増進するので望ましくない。
、好ましくは約160 〜約750 、そして最も好ましくは
約200kPa〜約400kPaの範囲の圧力を有している。130kPa
以下の圧力は第一のせん断部分で生ずる泡の量の故に望
ましくなく、そして1000kPa 以上の圧力は第二の組成物
から除去される希釈剤の量に悪影響を及ぼすので望まし
くない。第一のせん断部分の後、第三の組成物は第二の
組成物より少ない量の希釈剤を有している。
は、第三の組成物の重量を基準にして、約80〜約99重量
パーセント、好ましくは約85〜約99重量パーセント、そ
して最も好ましくは約90〜約99重量パーセントの範囲で
ある。80重量パーセント以下の量は、第二の槽中で泡立
ちが生ずるので望ましくなく、そして99重量パーセント
以上の重量パーセントはラインの詰まりをもたらすので
望ましくない。
ーター(mechanically-agitated-thin-film-evaporator)
として説明する事ができる。このような槽は、各種粘度
を有する材料に対して、適当な構造及び適当な馬力容量
のモーターを利用することができる。このような槽は L
CI Corporation, P.O.Box 16348, Charlotte, NorthCar
olina, 28297-8804から得ることができる。
ーターの槽であることが好ましく、これはモーター駆動
のローターブレード又はローターディスクが装備されて
いる。しかしながら、これらのローターの種々の組み合
わせもまた用いることができる。
よって部分的に、第二の組成物が前記第一の槽の内部壁
に主として付着する薄膜の形で、第一の槽を通過して輸
送される。
第四の組成物を製造することからなる。この第四の組成
物は希釈剤とコポリマーよりなる。この第四の組成物は
第三の組成物から希釈剤の一部を取り除くことによって
製造される。
で連絡されていることを意味する。その上に、この槽の
間のライン中で、フラッシング(flashing)する事を防ぐ
ように温度及び圧力が保持されていることに注意すべき
である。
記第二の槽は第二の分離部分及び第二のせん断部分から
なる。
ましくは約130 ℃〜約200 ℃、そして最も好ましくは約
140 ℃〜約190 ℃の範囲の温度を有している。第二の分
離部分の温度は、前記第二の分離部分に第三の組成物が
入るので、一般に第三の組成物の温度より高い。しかし
ながら、一般に、110 ℃以下の温度は、組成物が適切な
操作性に対し非常に粘凋になるので望ましくなく、一方
約210 ℃以上の温度は、最終製品において欠陥部形成を
増大するので望ましくない。
ましくは 0〜約50、そして最も好ましくは 0 kPa〜約20
kPa の範囲の圧力を有する。75kPa 以上の圧力は除去さ
れる希釈剤が少ないので望ましくない。
ーの為の出口を有している。第二の分離部分の後、第四
の組成物は第三の組成物より少ない量の希釈剤を有す
る。
に、第五の組成物を製造することからなる。この第五の
組成物は希釈剤とコポリマーからなる。この第五の組成
物は、第四の組成物をせん断し、そしてこれにより第四
の組成物から希釈剤の一部を除去することによって製造
される。
℃、好ましくは約130 ℃〜約200 ℃、そして最も好まし
くは約140 ℃〜約190 ℃の範囲の温度を有する。しかし
ながら、110 ℃以下の温度は組成物の輸送特性が乏しい
ので望ましくなく、一方約210℃以上の温度は最終製品
における欠陥部の形成を増大するので望ましくない。
好ましくは0 〜約50、そして最も好ましくは0 kPa 〜約
20kPa の範囲の圧力を有している。75kPa 以上の圧力は
除去される希釈剤が少ないので望ましくない。第二のせ
ん断部分の後、第五の組成物は第四の組成物より少ない
量の希釈剤を有している。
第五の組成物の重量を基準にして、重量で1400ppm 以
下、好ましくは重量で1200ppm 以下、更になお好ましく
は重量で1000ppm 以下、そして最も好ましくは重量で50
0ppm以下である。
mil のシート中のフィッシュアイ(fisheyes)の量は、こ
のようなシートの100 平方インチ当たり、10以下、好ま
しくは8以下、更になお好ましくは6以下、そして最も
好ましくは4以下である。事実、形成されたフィッシュ
アイのレベルが、シートの100 平方インチ当たり2以下
であることが非常に望ましい。
の槽のような機械撹拌式薄膜エパポレーターである。一
般に、第二の槽は向流フロー機械撹拌式薄膜エバポレー
ターの槽であることが好ましく、これはモーター駆動の
回転ブレード、又は回転ディスクが装備されている。し
かしながら、各種のこれらローターの組み合わせもまた
使用することができる。
の組成物が前記第二の槽の内部壁に主に付着する薄膜を
形成するように、ローターの回転によって第二の槽を通
って輸送される。第四の組成物の移動方向は、第四の組
成物から希釈剤を更に除去するために用いられる流動気
体の方向とは反対である。流動気体は、第五の組成物の
形成に実質的なそして不利な影響を与えない任意の気体
である。適当な気体は窒素、二酸化炭素、及び/又は水
蒸気である。
らこのような組成物を形成するために、前記第一の槽を
用い続いて脱揮発押し出し機(devolatilizing extrude
r) を用いることによって製造された先行技術の組成物
を、“比較のコポリマー組成物”と呼ぶ。この定義に対
する脱揮発押し出し機は、40mm直径同方向回転、完全か
み合い型、二軸スクリュー、脱揮発押し出し機である。
このような押し出し機の適当な例は、モデル ZSK-40 二
軸スクリュー脱揮発押し出し機(Werner & Pfleiderer
Corp., 633-T East Crescent Ave., Ramsey, NJ 07446
から入手可能)である。
少与えられる少量の欠陥部に対し、このような組成物は
比較のコポリマー組成物より25重量パーセント少ない希
釈剤を、好ましくは50重量パーセント少ない希釈剤を、
そして最も好ましくは75重量パーセント少ない希釈剤を
有する。しかしながら、一般に、希釈剤の全てを除去す
ることは不経済であり、その結果いくらかの希釈剤は本
発明の組成物中に残存している。しかしながら、第一の
組成物から作られた本発明の組成物は、このような第一
の組成物から作られた比較のコポリマー組成物より少な
い量の希釈剤を有している。
ラント”は、希釈剤とコポリマーからなる組成物を、製
造のライン当たり毎時5000ポンドを越える速度で製造す
るプラントであって、前記希釈剤は溶剤及び所望により
揮発性物質からなり、このような溶剤は脂肪族化合物、
又は脂環式化合物、又はこれら化合物の混合物からな
り、そしてこのようなコポリマーは重合したモノマーよ
りなり、このようなモノマーはモノビニルアレーン及び
ジエンからなる群から選択される。
るために提供される。本発明の請求の範囲はこれらの実
施例によって限定されるべきものではない。
て、前記の希釈剤が溶剤と揮発性物質からなり、そして
前記溶剤がシクロヘキサンであり、そして前記揮発性物
質がモノマー及び添加剤からなり、そして前記コポリマ
ーが重合したスチレン及びブタジエンから構成されてい
る組成物を、先に引用の特許中に詳細な装置及び手順を
用いて調製した。希釈剤(約67重量パーセント)、及び
コポリマー(約33重量パーセント)のこの組成物が第一
の組成物である。
の組成物の一部を、第一の分離部分及び第一のせん断部
分からなる第一の槽を通過させて第三の組成物を製造
し、そしてそれからこの第三の組成物を第二の分離部分
及び第二のせん断部分からなる第二の槽を通過させて第
五の組成物を製造する。
一部を分離部分及びせん断部分からなる第一の槽を通過
させ、第三の組成物を製造し、そしてそれからこの第三
の組成物を脱揮発押し出し機を通過させる。それぞれの
工程から得られた最終製品を比較、対比する。
記のコポリマーはスチレン及びブタジエンからなるグル
ープから選ばれる重合したモノマーからなり、そして15
5 ℃の温度を有している、第一の組成物の一部を、第一
の槽(LCI Corporation, P.O.Box 16348, Charlotte, No
rth Carolina 28297-8804 から入手できる Vistran Mod
el HS-150 撹拌薄膜エバポレーター)に36kg/hr で送り
込んだ。この第一の槽において、第二の組成物は第一の
組成物から製造され、そして第三の組成物は第二の組成
物から製造される。
た。第一の分離部分の圧力は約283kPaであった。第一の
せん断部分の温度は約180 ℃であった。第一のせん断部
分の圧力は約283kPaであった。
二の槽において、第四の組成物を第三の組成物から製造
し、そして第五の組成物を第四の組成物から製造した。
た。第二の分離部分の圧力は約5kPaであった。第二のせ
ん断部分の温度は約180 ℃であった。第二のせん断部分
の圧力は約5kPaであった。ローターの速度は約150rpmで
あった。その上に、向流の水蒸気の流れを0.29kg/hr に
固定したことに注意すべきである。
ら20時間に亘って取り出した。これらのサンプルについ
て残存シクロヘキサンを、そして幾つかのケースについ
て平均欠陥部を分析した。
組成物の他の部分を本発明の第一の実施例とは異なる条
件の下で処理した。
た。第一の分離部分の圧力は約283kPaであった。第一の
せん断部分の温度は約180 ℃であった。第一のせん断部
分の圧力は約283kPaであった。
二の槽において、第四の組成物が第三の組成物から製造
され、そして第五の組成物が第四の組成物から製造され
た。
た。第二の分離部分の圧力は約3kPaであった。第二のせ
ん断部分の温度は約180 ℃であった。第二のせん断部分
の圧力は約3kPaであった。ローターの速度は約150rpmで
あった。その上に、向流の水蒸気の流れが0.29kg/hr に
固定されていたことに特に言及する。
ンプルを生産品から取り出した。これらのサンプルの残
存シクロヘキサン及び/又は平均欠陥部を一つのサンプ
ルを除いて解析した。
組成物の他の部分を本発明の第一の実施例とは異なる条
件の下で処理した。
一の組成物から製造され、そして第三の組成物が第二の
組成物から製造された。
た。第一の分離部分の圧力は約283kPaであった。第一の
せん断部分の温度は約180 ℃であった。第一のせん断部
分の圧力は約283kPaであった。
第二の槽において、第四の組成物が第三の組成物から製
造され、そして第五の組成物が第四の組成物から製造さ
れた。
た。第二の分離部分の圧力は約0.8kPaであった。第二の
せん断部分の温度は約180 ℃であった。第二のせん断部
分の圧力は約0.8kPaであった。ローターの速度は約150r
pmであった。その上に、向流の水蒸気の流れが0.29kg/h
r に固定されていたことに特に注意すべきである。
ルを生産品から取り出した。これらのサンプルの残存シ
クロヘキサンを、そしていくつかのケースについて平均
欠陥部を解析した。
組成物の他の部分を本発明の第一の実施例とは異なる条
件の下で処理した。
一の組成物から製造され、そして第三の組成物が第二の
組成物から製造されている。
た。第一の分離部分の圧力は約283kPaであった。第一の
せん断部分の温度は約180 ℃であった。第一のせん断部
分の圧力は約283kPaであった。
第二の槽において、第四の組成物が第三の組成物から製
造され、そして第五の組成物が第四の組成物から製造さ
れている。
た。第二の分離部分の圧力は約0.8kPaであった。第二の
せん断部分の温度は約180 ℃であった。第二のせん断部
分の圧力は約0.8kPaであった。ローターの速度は約150r
pmであった。その上に、向流の水蒸気の流れが0.29kg/h
r に固定されていたことに特に注意すべきである。
ルを生産品から取り出した。これらのサンプルの残存シ
クロヘキサンを、そしていくつかのケースについて平均
欠陥部を解析した。
第一の槽において、第二の組成物が第一の組成物から製
造され、そして第三の組成物が第二の組成物から製造さ
れた。
た。第一の分離部分の圧力は約283kPaであった。第一の
せん断部分の温度は約180 ℃であった。第一のせん断部
分の圧力は約283kPaであった。
リュー脱揮発押し出し機(Werner &Pfleiderer Corp.,
633-T East Crescent Ave., Ramsey, NJ 07446 から入
手できる)に通した。以下の押し出し機の真空圧の下で
(ゾーン1, 100mmHg ;ゾーン2, 50mmHg ; ゾーン3, 20m
mHg)、供給圧力を80psigに維持し、供給速度を36kg/hr
に、そしてスクリュー速度を275rpmに固定した。その上
に、この押し出し機は、水が押し出し機に加えられる2
つの排気孔を有している。これらの排気孔から、100 部
の樹脂に対し0.5 及び0.7 部の水を押し出し機に与え
た。押し出し機による生産品を17時間に亘って1時間ご
とにサンプルとして取り出した。サンプルの残存シクロ
ヘキサン及び平均欠陥部を分析した。
組成物の他の部分を第一の槽に供給した。この第一の槽
において、第二の組成物が第一の組成物から製造され、
そして第三の組成物が第二の組成物から製造された。
た。第一の分離部分の圧力は約283kPaであった。第一の
せん断部分の温度は約180 ℃であった。第一のせん断部
分の圧力は約283kPaであった。
ュー脱揮発押し出し機に通した。以下の押し出し機の真
空圧の下で(ゾーン1, 100mmHg ;ゾーン2, 50mmHg ; ゾ
ーン3, 20mmHg)、供給圧力を200psig に維持し、供給速
度を36kg/hr に、そしてスクリュー速度を275rpmに固定
した。その上に、この押し出し機は、水が押し出し機に
加えられる2つの排気孔を有している。これらの排気孔
から100 部の樹脂に対し0.5 及び0.7 部の水が押し出し
機に加えられた。押し出し機生産品を17時間に亘って1
時間毎にサンプルとして取り出した。サンプルの残存シ
クロヘキサン及び平均欠陥部を分析した。
した。平均欠陥部は以下の手順で測定した。
押し出した。それからこの10mil のシートをビデオ/ コ
ンピュータシステムで走査して、シートの100 平方イン
チ当たりのフィッシュアイの数を測定した。フィッシュ
アイは0.25sq2 ミリメーターより大きいサイズを有する
欠陥部である。10mil のシートは以下の通りに作成され
た。
条件を用いた。 ゾーン(1、2、及び3) 360°F アダプター 365°F ダイ 375°F 2パイントのペレットを供給ホッパーに供給する。回転
速度計ポットを用いて、スクリュー速度を10rpm に上昇
する。ダイを通してポリマーの流れが一旦落ち着いたと
き、圧力を1200psig以下に保ちつつ、スクリュー速度を
徐々に44〜45rpm に上昇する。冷却ロールを:9ft/ 分
の速度に設定する。シートを巻取りワインダーに送り込
む。分析用サンプルを採取する前に、押し出し機を通し
て2パイントのペレットをパージングする。シートを10
mil の厚さに調整する。
に応じて、生産された製造物において、残存シクロヘキ
サンが対応して段階的な低下を生ずることを示している
(実施例1,2,3,及び4の比較)。この同一の比較は、平
均欠陥部に関して、全ての実験が0.4 〜5.4 の範囲内に
入っており、殆ど効果がないことを示している。
験(表2)のデータとを比較すると、本発明の方法は、
少ない残存シクロヘキサン、及び少ない平均欠陥部を有
する製造品を製造することを示している。残存シクロヘ
キサンは、本発明の実験に対し77〜164ppmであるのに、
比較の実験に対しては401 〜515ppmである。平均の欠陥
部は、比較実験の4.4 〜23.8と対比して、本発明の実験
に対しては0.4 〜5.4である。2つの方法によって生ず
る平均欠陥部の量の範囲に多少の重複があるとは言え、
比較の方法が、明らかに高いレベルの平均欠陥部を生ず
るという傾向は、このデータから極めて明瞭である。
対比は、比較例1に対する本発明実施例3との間にあ
り、そして比較例2に対し本発明の実施例4である。こ
れら2つの例の表1及び2のデータの比較すると、本発
明の方法の残存シクロヘキサンが81〜103ppmの範囲、そ
して平均欠陥部が0.8 〜2の範囲に帰着するのに反し、
比較の方法は424 〜515ppmの残存シクロヘキサン量、そ
して4.4 〜17.25 の範囲の平均欠陥部を結果として生ず
ることを示している。これらの結果は、より少ない残存
シクロヘキサン、及びより少ない平均欠陥部を生ずるこ
とにおいて、本発明の方法が明らかに優れていることを
示している。
1及び2のデータを比較すると、本発明の実施例は77〜
84ppm の残存シクロヘキサン、及び1.4 〜4の平均欠陥
部を持った製造品を生産するのに反し、比較例2は401
〜504ppmの残存シクロヘキサン、及び7.2 〜23.8の平均
欠陥部を持った製造品を生産することを示している。厳
密に関連する本発明の及び比較の例を調査すると、少な
い残余のシクロヘキサン及び少ない平均欠陥部を生ずる
ことに、本発明の方法が極めて優れていることが再度明
瞭となる。
してかなり詳細に記載したけれども、他の変形も可能で
ある。例えば、第一の槽と第二の槽を、それらが実際に
1つに結び付けられた槽であるような方法で連結するこ
とができる。それ故に添付の請求の範囲の意図及びその
領域は、要約、詳細な説明、または実施例によってなん
ら限定されるべきものではない。
Claims (35)
- 【請求項1】 希釈剤及びコポリマーよりなる組成物の
製造方法であって、前記の方法が、 (a) 希釈剤とコポリマーからなる第一の組成物を製造
し、その際、前記希釈剤が溶剤及び所望により揮発性物
質からなり、前記溶剤が脂肪族化合物、脂環式化合物、
又はこれらの化合物の混合物からなり、そして前記のコ
ポリマーがモノビニルアレーン、ジエン、又はこれらの
混合物からなる重合されたモノマーを含有し、前記のモ
ノビニルアレーン、前記ジエン、又はこれらの前記混合
物が重量パーセントで測定して前記コポリマーの大部分
を占め、前記第一の組成物における前記コポリマーの量
が前記第一の組成物の重量を基準にして約15〜約75重量
パーセントの範囲にあり、そして前記第一の組成物が希
釈剤の沸点より高いの温度であり、 (b) 第一の槽中で前記の第一の組成物から前記希釈剤
の一部を除去し、その際、前記第一の槽が第一の分離部
分及び第一のせん断部分からなり、前記の第一の分離部
分が約110 ℃〜約210 ℃の範囲の温度、および約130kPa
〜約1000kPa の範囲の圧力を有し、前記の第一のせん断
部分が約110 ℃〜約210 ℃の範囲の温度、及び約130kPa
〜約1000kPa の範囲の圧力を有し、前記の第一の槽の前
記第一の分離部分において、前記第一の組成物より少な
い量の前記希釈剤を有する第二の組成物を製造し、そし
て前記の第一の槽の前記第一のせん断部分において、前
記の第二の組成物より少ない量の希釈剤を有する第三の
組成物を製造し、そして (c) 第二の槽中で前記第三の組成物から前記希釈剤の
一部を除去し、その際、前記第二の槽が第二の分離部分
及び第二のせん断部分からなり、前記の第二の分離部分
が約110 ℃〜約210 ℃の範囲の温度、及び0 kPa 〜約75
kPa の範囲の圧力を有し、そして前記第二のせん断部分
が約110 ℃〜約210 ℃の範囲の温度、及び0 kPa 〜約75
kPa の範囲の圧力を有し、前記の第二の槽の前記第二の
分離部分において、前記第三の組成物より少ない量の前
記希釈剤を有する第四の組成物を製造し、そして前記第
二の槽の前記第二のせん断部分において、前記第四の組
成物より少ない量の希釈剤を有する第五の組成物を製造
することを特徴とする方法。 - 【請求項2】 前記の溶剤が、エタン、プロパン、ブタ
ン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナ
ン、デカン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロ
ヘプタン、シクロオクタン、シクロノナン、シクロデカ
ン、又は前記溶剤の任意の2種又はそれ以上の混合物で
ある、請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 前記の溶剤が、実質的にシクロヘキサン
又はシクロペンタンである、請求項2に記載の方法。 - 【請求項4】 前記のモノビニルアレーンが、スチレ
ン、アルファメチルスチレン、4-メチルスチレン、3-メ
チルスチレン、2-メチルスチレン、4-エチルスチレン、
3-エチルスチレン、2-エチルスチレン、4-tert- ブチル
スチレン、2、4-ジメチルスチレン、ビニルナフタレン、
又は前記モノビニルアレーンの任意の2種又はそれ以上
の混合物である、請求項1〜3の任意の1項に記載の方
法。 - 【請求項5】 前記のモノビニルアレーンがスチレンで
ある、請求項4に記載の方法。 - 【請求項6】 前記のジエンが、1、3-ブタジエン、2-メ
チル-1、3- ブタジエン、2-エチル- 1、3-ブタジエン、2、
3-ジメチル-1、3ブタジエン、1、3 ペンタジエン、又は前
記ジエンの任意の2種又はそれ以上の混合物である、請
求項1〜5の任意の1項に記載の方法。 - 【請求項7】 前記のジエンが、1、3 ブタジエンであ
る、請求項6に記載の方法。 - 【請求項8】 前記第一の組成物におけるコポリマーの
量が、約25〜約55重量パーセントの範囲にある、請求項
1〜7の任意の1項に記載の方法。 - 【請求項9】 前記の第一の組成物におけるコポリマー
の量が、約30〜約40重量パーセントの範囲にある、請求
項8に記載の方法。 - 【請求項10】 前記第一の組成物が、約130 ℃〜約20
0 ℃の範囲の温度にある、請求項1〜9の任意の1項に
記載の方法。 - 【請求項11】 前記第一の組成物が、約140 ℃〜約19
0 ℃の範囲の温度にある、請求項10に記載の方法。 - 【請求項12】 前記第一の分離部分が、約130 ℃〜約
200 ℃の範囲の温度を有している、請求項1〜11の任
意の1項に記載の方法。 - 【請求項13】 前記第一の分離部分が、約140 ℃〜約
190 ℃の範囲の温度を有している、請求項12に記載の
方法。 - 【請求項14】 前記第一の分離部分が、約160 kPa 〜
約750 kPa の範囲の圧力を有している、請求項1〜13
の任意の1項に記載の方法。 - 【請求項15】 前記第一の分離部分が、約200 kPa 〜
約400 kPa の範囲の圧力を有している、請求項14に記
載の方法。 - 【請求項16】 前記の第一のせん断部分が、約130 ℃
〜約200 ℃の範囲の温度を有している、請求項1〜15
の任意の1項に記載の方法。 - 【請求項17】 前記の第一のせん断部分が、約140 ℃
〜約190 ℃の範囲の温度を有している、請求項16に記
載の方法。 - 【請求項18】 前記第一のせん断部分が、約160 〜約
750kPaの範囲の圧力を有している、請求項1〜17の任
意の1項に記載の方法。 - 【請求項19】 前記の第一のせん断部分が、約200kPa
〜約400kPaの範囲の圧力を有している、請求項18に記
載の方法。 - 【請求項20】 前記第三の組成物におけるコポリマー
の量が、約85〜約99重量パーセントの範囲にある、請求
項1〜19の任意の1項に記載の方法。 - 【請求項21】 前記の第三の組成物におけるコポリマ
ーの量が、約90〜約99重量パーセントの範囲にある、請
求項20に記載の方法。 - 【請求項22】 前記の第二の分離部分が、約130 ℃〜
約200 ℃の範囲の温度を有している、請求項1〜21の
任意の1項に記載の方法。 - 【請求項23】 前記第二の分離部分が、約140 ℃〜約
190 ℃範囲の温度を有している、請求項22に記載の方
法。 - 【請求項24】 前記第二の分離部分が、0 〜約50kPa
の範囲の圧力を有している、請求項1〜23の任意の1
項に記載の方法。 - 【請求項25】 前記第二の分離部分が、0 kPa 〜約20
kPa の範囲の圧力を有している、請求項24に記載の方
法。 - 【請求項26】 前記第二のせん断部分が、約130 ℃〜
約200 ℃の範囲の温度を有している、請求項1〜25の
任意の1項に記載の方法。 - 【請求項27】 前記第二のせん断部分が、約140 ℃〜
約190 ℃の範囲の温度を有している、請求項26に記載
の方法。 - 【請求項28】 前記第二のせん断部分が、0 kPa 〜約
50kPa の範囲の圧力を有している、請求項1〜27の任
意の1項に記載の方法。 - 【請求項29】 前記の第二のせん断部分が、0 kPa 〜
約20kPa の範囲の圧力を有している、請求項28に記載
の方法。 - 【請求項30】 前記第五の組成物が、比較のコポリマ
ー組成物(ここに定義された)より25重量パーセント少
ない希釈剤を有する、請求項1〜29の任意の1項に記
載の方法。 - 【請求項31】 前記第五の組成物が、前記比較のコポ
リマー組成物より50重量パーセント少ない希釈剤を有す
る、請求項30に記載の方法。 - 【請求項32】 前記の第五の組成物が、前記比較のコ
ポリマー組成物より75重量パーセント少ない希釈剤を有
する、請求項31に記載の方法。 - 【請求項33】 方法が本質的に列挙した工程からな
り、そして各々の組成物が本質的に列挙した成分からな
る、請求項1〜32の任意の1項に記載の方法。 - 【請求項34】 希釈剤及びコポリマーよりなる組成物
であって、前記希釈剤が溶剤及び所望により揮発性物質
よりなり、前記溶剤が脂肪族化合物、脂環式化合物、又
はこれら化合物の混合物よりなり、そして前記のコポリ
マーが重合されたモノマーを含み、前記のモノマーがモ
ノビニルアレーン、ジエン、又はこれらの混合物よりな
り、そして前記モノビニルアレーン、前記ジエン、又は
これらの前記混合物が重量パーセントで測定して前記コ
ポリマーの大部分を占めており、そして前記組成物にお
ける希釈剤の量が前記組成物の重量を基準にして重量で
1400 ppmより少く、そしてこのような組成物の押し出し
部分の10mil のシートにおける平均の欠陥部の量がこの
シートの100 平方インチ当たり5より少く、そして前記
の組成物が工業的な規模のプラントで製造されているこ
とを特徴とする組成物。 - 【請求項35】 希釈剤及びコポリマーよりなる組成物
であって、前記希釈剤が溶剤及び所望により揮発性物質
よりなり、前記溶剤は脂肪族化合物、脂環式化合物、又
はこれら化合物の混合物よりなり、そして前記のコポリ
マーは重合されたモノマーを含み、前記のモノマーはモ
ノビニルアレーン、ジエン、又はこれらの混合物よりな
り、そして前記モノビニルアレーン、前記ジエン、又は
これらの前記混合物が重量パーセントで測定して前記コ
ポリマーの大部分を占めており、そして前記組成物中の
希釈剤の量は比較のコポリマー組成物(ここに定義され
たもの)中の希釈剤の量よりも約25重量パーセント少な
いことを特徴とする組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US921418 | 1997-08-29 | ||
US08/921,418 US6066708A (en) | 1997-08-29 | 1997-08-29 | Copolymer production, product thereof and diluent removal therefrom |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11140119A true JPH11140119A (ja) | 1999-05-25 |
JP4302208B2 JP4302208B2 (ja) | 2009-07-22 |
Family
ID=25445402
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23722498A Expired - Fee Related JP4302208B2 (ja) | 1997-08-29 | 1998-08-24 | 希釈剤及びコポリマーよりなる組成物及びその製造方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6066708A (ja) |
EP (1) | EP0899273B1 (ja) |
JP (1) | JP4302208B2 (ja) |
KR (1) | KR100630034B1 (ja) |
CN (1) | CN1075530C (ja) |
AT (1) | ATE255603T1 (ja) |
DE (1) | DE69820172T2 (ja) |
ES (1) | ES2212181T3 (ja) |
SG (1) | SG77190A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ATE264345T1 (de) | 1997-12-23 | 2004-04-15 | Dow Chemical Co | Nachbehandlung zur erhöhung des polymergehaltes in einem verfahren zur lösungspolymerisation von olefinen |
US7083319B2 (en) * | 2003-05-15 | 2006-08-01 | Buss Sms Gmbh Verfahrenstechnic | Large-volume reactor having a plurality of process spaces |
CN101070489B (zh) * | 2006-04-30 | 2010-05-12 | 山东齐隆化工股份有限公司 | 由石油裂解乙烯副产物制芳烃稀释剂的方法 |
US8703063B2 (en) | 2010-06-21 | 2014-04-22 | Chevron Phillips Chemical Company Lp | System and method for closed relief of a polyolefin loop reactor system |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4415721A (en) * | 1980-10-21 | 1983-11-15 | Occidental Chemical Corporation | Semi or fully continuous process for polyester of bisphenol and dicarboxylic acid by transesterification polymerization and product thereof |
US4490519A (en) * | 1980-03-10 | 1984-12-25 | Occidental Chemical Corporation | Semi or fully continuous process for polyester of bisphenol and dicarboxylic acid by transesterification polymerization and product thereof |
JPS59166506A (ja) * | 1983-03-14 | 1984-09-19 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 重合液組成物の連続的脱揮発方法 |
US4575950A (en) * | 1983-11-08 | 1986-03-18 | Phillips Petroleum Company | Method for removal of residual solvent from particulate crumb made by solution polymerization |
US4672094A (en) * | 1986-01-21 | 1987-06-09 | The Dow Chemical Company | Method for increasing the molecular weight of polyamides and polyesteramides |
US4722809A (en) * | 1986-09-22 | 1988-02-02 | The Dow Chemical Company | Flame retarded polyamide compositions |
IT1218559B (it) * | 1987-04-07 | 1990-04-19 | Montedipe Spa | Processo per la produzione in soluzione e in continuo di resine termoplastiche stireniche |
US5321099A (en) * | 1992-01-02 | 1994-06-14 | The Dow Chemical Company | Blends of semi-crystalline polyamides and polyesteramides |
JPH05287033A (ja) * | 1992-04-03 | 1993-11-02 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ゴム変性熱可塑性樹脂組成物 |
EP0613412B1 (en) * | 1992-08-13 | 1998-11-04 | Fina Research S.A. | Process for removing the solvent from a polymer solution |
US5478509A (en) * | 1992-08-13 | 1995-12-26 | Fina Research, S.A. | Process for removing the solvent from a polymer solution |
EP0678108B1 (en) * | 1993-01-08 | 1997-07-09 | The Dow Chemical Company | High-strength films of block copolymer latices |
US5436298A (en) * | 1993-09-30 | 1995-07-25 | Phillips Petroleum Company | Block copolymers of monovinylarenes and conjugated dienes and preparation thereof |
DE4445141A1 (de) * | 1994-12-17 | 1996-06-20 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von schlagzäh modifizierten Polystyrol-Formmassen |
-
1997
- 1997-08-29 US US08/921,418 patent/US6066708A/en not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-07-24 SG SG1998002646A patent/SG77190A1/en unknown
- 1998-08-19 KR KR1019980033579A patent/KR100630034B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1998-08-24 JP JP23722498A patent/JP4302208B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-08-28 EP EP98116363A patent/EP0899273B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-08-28 DE DE69820172T patent/DE69820172T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-08-28 CN CN98116494A patent/CN1075530C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1998-08-28 ES ES98116363T patent/ES2212181T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1998-08-28 AT AT98116363T patent/ATE255603T1/de not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100630034B1 (ko) | 2006-12-19 |
ES2212181T3 (es) | 2004-07-16 |
EP0899273A1 (en) | 1999-03-03 |
JP4302208B2 (ja) | 2009-07-22 |
EP0899273B1 (en) | 2003-12-03 |
SG77190A1 (en) | 2000-12-19 |
ATE255603T1 (de) | 2003-12-15 |
KR19990023695A (ko) | 1999-03-25 |
CN1216770A (zh) | 1999-05-19 |
DE69820172T2 (de) | 2004-09-23 |
DE69820172D1 (de) | 2004-01-15 |
CN1075530C (zh) | 2001-11-28 |
US6066708A (en) | 2000-05-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5683814B2 (ja) | フィルム用途に用いられるスチレンブタジエンブロック共重合体 | |
EP0318052B1 (en) | Diene block polymer and polymer composition | |
JP5400160B2 (ja) | 水および溶媒を含まないポリマーの製造方法 | |
JPH07669B2 (ja) | イソオレフィンポリマ−の改良された安定化スラリ− | |
SG183892A1 (en) | Process for the production of rubber ionomers and polymer nanocomposites | |
WO2005073259A1 (ja) | イソブチレン系樹脂粉粒体の製造方法 | |
JPH0229685B2 (ja) | ||
JPH11140119A (ja) | 希釈剤及びコポリマーよりなる組成物及びその製造方法 | |
JPH0242083B2 (ja) | ||
US11685803B2 (en) | Resin-extended elastomer | |
EP0992520B1 (en) | Dried porous crumbs of hydrogenated block copolymer | |
JP2003531256A (ja) | 加工性が改良され転がり抵抗の低下したsbrゴムの調製方法 | |
JPH0465082B2 (ja) | ||
JP4001530B2 (ja) | ブロック共重合体の製造方法 | |
JP3717216B2 (ja) | ブロック共重合体の製造方法 | |
JPH0554845B2 (ja) | ||
JP6752053B2 (ja) | 共役ジエン重合体の製造方法及びゴムベールの製造方法 | |
JP3717213B2 (ja) | ブロック共重合体の回収方法 | |
JP4459340B2 (ja) | ポリマー溶液からポリマーを回収する方法及び装置 | |
JPH0360843B2 (ja) | ||
JP6646437B2 (ja) | 共役ジエン系重合体の製造方法 | |
JP3686459B2 (ja) | エポキシ化ブロック共重合体の脱水方法 | |
JPH0655772B2 (ja) | 重合体を取得する方法 | |
JPH0360844B2 (ja) | ||
JPH0291105A (ja) | ポリブタジエン |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050808 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050808 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080618 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080620 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20080919 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20080925 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20081020 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081023 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20081023 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090327 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090422 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120501 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120501 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130501 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |