JPH11134635A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】ヘッド摩耗が少なくてヘッド目詰まりもなく、
かつ電磁変換特性も良好である磁気記録媒体を提供する
こと。 【解決手段】非磁性支持体上にＦｅを主体とする強磁性
金属粉末、研磨剤および結合剤を含有する磁性層を有す
る磁気記録媒体において、以下の条件式： ０．０１≦Ｍ_0.1／Ｍｔ≦０．４ ０．０５≦Ｈ_20-30／Ｈ_10-20≦０．６ （上式において、Ｍｔは、磁性層表面に存在する研磨剤
の単位面積あたりの数（個／μｍ²）であり、Ｍ_0.1は、
磁性層表面に存在しており、かつ平均粒径より０．１μ
ｍ以上大きい粒径を有する研磨剤の単位面積あたりの数
（個／μｍ²）であり、Ｈ_10-20は、磁性層表面からの突
起高さが１０ｎｍ以上２０ｎｍ未満である研磨剤の単位
面積あたりの数（個／μｍ²）であり、Ｈ_20-30は、磁性
層表面からの突起高さが２０ｎｍ以上３０ｎｍ未満であ
る研磨剤の単位面積あたりの数（個／μｍ²）である）
を満足することを特徴とする磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体、特に
高い信頼性を要求される業務用、データ記録用の塗布型
磁気記録媒体に関するものである。より詳細には、本発
明は、磁性層表面に存在する研磨剤が特定の条件を満た
すことを特徴とする磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録媒体は、録音用テープ、ビデオ
テープ、データ記録用テープ、ディスク等として広く用
いられている。磁気記録媒体は年々高密度化され記録波
長が短くなっており、記録方式もアナログ方式からデジ
タル方式まで検討されている。特に、鉄を主体とした強
磁性金属粉末を、結合剤と共に非磁性支持体上に塗布し
た磁気記録媒体はその優れたコストパフォーマンスで、
現在業務用ビデオ用、データ記録用の媒体の主流になっ
ている。これら業務用ビデオ用、データ記録用の磁気記
録媒体には高い電磁変換特性が要求されると同時に、扱
われる画像やデータが商品になるため、一般コンシュー
マー用途に比べ様々な環境条件での過酷な使用に耐える
走行耐久性が要求されている。走行耐久性にはスチル、
目詰まり、出力低下などがある。ところで、磁気テープ
と磁気ヘッドが接触して使用されると、両者は使用する
につれて摩耗する。特に接触圧力が大きい上に磁気テー
プの走行速度が大きい場合は摩耗の問題は重大で、摩耗
したヘッドの交換コストもかさむため、一般にヘッド磨
耗量は少ないことが望まれる。一般にこれら塗布型磁気
記録媒体には磁性層に研磨力のある粒子、いわゆる研磨
剤を添加している。これによってヘッドに付着した汚れ
を除去しながらテープが走行でき、耐久性が向上する。
しかしながら走行耐久性を向上させるために研磨剤を増
量すると、ヘッドに付着した汚れを除去すると同時に磁
気ヘッド自身も摩耗させ、つまりヘッド磨耗量が多くな
り、ヘッドの寿命が短くなってしまう。このように単純
な研磨剤量の増減では走行耐久性とヘッド磨耗量とがト
レードオフの関係になる。これらを両立させ、かつ電磁
変換特性も高いレベルに維持することが課題であり、従
来種々の検討がなされてきた。例えば、特開昭６１−５
７０３６号公報には、磁性層表面における研磨剤粒子の
単位面積あたりの個数を０．２５個／１００μｍ²に特
定することによって、磁気ヘッドに対する研磨力を改善
した磁気記録媒体が開示されている。特開昭６４−８８
９１７号公報には、研磨剤としてアルミナの磁性層表面
に於ける単位面積あたりの個数を０．２５〜０．６０個
／１００μｍ²に特定することにより、磁気ヘッドに対
する研磨力を改善した磁気記録媒体が開示されている。
特開平６−５２５４１号公報には、磁性層表面に存在す
る研磨剤の平均突起高さを１５ｎｍ以下にすることによ
りへッド摩耗及びへッド汚れを改善することが記載され
ている。特開平９−３５２５１号公報には、磁性層表面
の０．３μｍ以上の大きさの研磨剤の存在単位を３．５
個／１００μｍ²以下とすることによってヘッド摩耗を
少なくした磁気記録媒体が開示されている。特開平９−
１２８７３９号公報には、研磨剤に起因する突起と研磨
剤以外に起因する突起を特定の範囲にすることによって
ヘッド摩耗を少なくした磁気記録媒体が開示されてい
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の従来技術では、電磁変換特性、ヘッド磨耗、走行耐久
性のバランスがいまだ不充分であった。本発明は、この
ような従来技術の課題を解決し、ヘッド摩耗が少なくヘ
ッド目詰まりもなく、かつ所望の電磁変換特性も良好な
磁気記録媒体を提供することを目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らはこのヘッド
摩耗とヘッド目詰まりという相反する課題達成のために
鋭意検討した結果、磁性層の表面に存在している研磨剤
の平面的な大きさを特定の範囲とし、かつ該研磨剤の磁
性層の表面からの突出程度を特定の範囲とすることによ
り、ヘッド摩耗が少なくてヘッド目詰まりもなく、かつ
所望の電磁変換特性も満足される磁気記録媒体が得られ
ることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわ
ち、本発明は、非磁性支持体上にＦｅを主体とする強磁
性金属粉末、研磨剤および結合剤を含有する磁性層を有
する磁気記録媒体において、以下の条件式：

【数２】０．０１≦Ｍ_0.1／Ｍｔ≦０．４ ０．０５≦Ｈ_20-30／Ｈ_10-20≦０．６ （上式において、Ｍｔは磁性層表面に存在する研磨剤の
単位面積あたりの数（個／μｍ²）であり、Ｍ_0.1は磁性
層表面に存在しておりかつ平均粒径より０．１μｍ以上
大きい粒径を有する研磨剤の単位面積あたりの数（個／
μｍ²）であり、Ｈ_10-20は磁性層表面からの突起高さが
１０ｎｍ以上２０ｎｍ未満である研磨剤の単位面積あた
りの数（個／μｍ²）であり、Ｈ_20-30は磁性層表面から
の突起高さが２０ｎｍ以上３０ｎｍ未満である研磨剤の
単位面積あたりの数（個／μｍ²）である）を満足する
ことを特徴とする磁気記録媒体を提供するものである。

【０００５】本発明者らは、磁性層表面に存在している
研磨剤の粒子サイズと、それらの磁性層からの実際の突
出程度と、ヘッド摩耗及び走行耐久性との関係について
詳細に調べた。その結果、良好な走行耐久性を満足する
にはある程度粒子サイズの大きい研磨剤の存在が不可欠
であることがわかった。とくに従来、添加する研磨剤は
もっぱらその平均粒径のみに着目してきたが、本発明者
らは粒子サイズの分布に着目し、磁性層表面に存在して
いる研磨剤においてその平均粒径より０．１μ以上の大
きさの研磨剤が特に重要であることがわかった。磁性層
表面に存在している研磨剤の平均粒径は０．０５〜０．
４μｍとするのが好ましく、０．１〜０．３μｍとする
のがより好ましい。平均粒径が小さいと研磨剤の分散が
困難になり磁気テープを走行させたときに粉落ち等が発
生し易くなる。逆に平均粒径が大きいと表面性が悪化し
電磁変換特性が悪化する。本発明では磁性層表面に存在
している研磨剤のうちで、平均粒径から０．１μ以上大
きい粒径の粒子の存在比率（Ｍ_0.1／Ｍｔ）が０．０１
〜０．４、すなわち１％〜４０％とする。Ｍ_0.1／Ｍｔ
のより好ましい範囲は０．０５〜０．３、最も好ましい
範囲は０．１〜０．２である。Ｍ_0.1／Ｍｔが小さいと
走行耐久性が悪化する。特に低温低湿環境で目詰まり、
ドロップアウト増加等の悪影響が出やすい。Ｍ_0.1／Ｍ
ｔが大きいと研磨剤の脱落の発生頻度が増えて繰り返し
走行でドロップアウトが増加したり磁性層表面が傷つい
たりし易くなる。

【０００６】次にこのように比較的大きいサイズの研磨
剤を含有した上でヘッド摩耗を小さく抑えることを検討
した。その結果、ヘッド摩耗は研磨剤の平面的な大きさ
よりも磁性層表面からの突出高さとの関係が強く、高い
突起を少なくして低い突起を数多く形成することでヘッ
ド摩耗を低減できることがわかった。すなわち、磁性層
表面に存在する研磨剤のうち高さ１０ｎｍ以上２０ｎｍ
未満のものの単位面積あたりの数をＨ_10-20、高さ２０
ｎｍ以上３０ｎｍ未満のものの単位面積あたりの数をＨ
_20-30としたとき、０．０５≦Ｈ_20-30／Ｈ_10-20≦０．
６としたときに少ないヘッド磨耗量で良好な走行耐久性
が確保できる。より好ましくは０．１５≦Ｈ_20-30／Ｈ
_10-20≦０．４のときである。Ｈ_20-30／Ｈ_10-20が大き
いと高い突起が増えてヘッド摩耗が大きくなる。また、
スペーシングロスが大きくなり電磁変換特性が劣化す
る。また、Ｈ_20-30／Ｈ_10-20がこの範囲より小さいと、
低い突起が多すぎて磁性層表面の磁性体の充填密度が低
下し電磁変換特性が劣化する。特に比較的低域のリニオ
アオーディオ信号やコントロール信号等の劣化が著し
い。磁性層表面の研磨剤の総数（Ｍｔ）は、０．１〜
１．０（個／μｍ²）とするのが好ましい。より好まし
くは０．２〜０．６（個／μｍ²）である。Ｍｔが大き
いと磁性層表面の磁性体の充填密度が低下し電磁変換特
性が劣化する。Ｍｔが小さいと磁性層表面が傷つき易く
なり、特にスチル特性が劣化する。このようにしてに、
磁性層表面に存在している研磨剤のサイズ分布と高さ分
布とを特定の範囲に制御することにより、へッド摩耗と
走行耐久性との両立が可能になった。本発明において磁
性層表面に存在する研磨剤の平均粒径及び粒径分布は以
下のように測定する。まず磁性層表面の写真を走査型電
子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて行う。微細な研磨剤を判別
するため、撮影倍率は５０００倍〜５００００倍程度が
望ましい。研磨剤の磁性層中での存在密度が場所により
バラツキがあることが懸念されるので、一つの試料につ
き場所をランダムに選んで１０視野以上、好ましくは２
０視野以上撮影し、研磨剤粒子が２００個以上含まれる
ようにすることが好ましい。撮影されたＳＥＭ写真から
研磨剤かどうかの判別は通常はその形状で判断できる
が、より正確を期すためにはＳＥＭ撮影と同時にＥＰＭ
Ａ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｐｒｏｂｅ Ｘ−ｒａｙ ｍｉ
ｃｒｏａｎａｌｙｚｅｒ）解析を併用することで可能で
ある。すなわち研磨剤がＡｌ₂Ｏ₃のときはＡｌ元素の検
出量、研磨剤がＣｒ₂Ｏ₃のときはＣｒ元素の検出量、研
磨剤がＳｉＣやＳｉＯ₂の場合にはＳｉ元素の検出量比
較で判断できる。このようにして撮影されたＳＥＭ写真
から研磨剤の輪郭をマークする。これを一般的な画像解
析装置を用いて研磨剤形状をデジタイズ入力し、粒度分
布を求める。本発明において研磨剤の突起高さ分布は、
原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により求められる。その際突
起が研磨剤起因かどうかの判別は、上記のＥＰＭＡ解析
を併用すればよい。

【０００７】本発明において、磁性層表面の研磨剤平均
粒径及び粒度分布の制御方法については、下記のものが
挙げられる。しかし、本発明で採用しうる方法は、これ
らの方法に限定されるものではない。 １）研磨剤自身の粒度分布の調整：公知の方法によって
研磨剤の平均粒径と粒度分布は制御できる。粒度分布に
ついてはその研磨剤の製造方法と関係が強い。例えば一
般に液中から結晶析出工程を経て製造された研磨剤は粒
度分布が小さく、バルクから粉砕法により生成された研
磨剤は平均粒径の割に粒度分布が大きい傾向がある。 ２）２種以上の研磨剤の併用：平均粒径、粒度分布の異
なる２種以上の研磨剤を併用すれば、それらの混合比率
によって中心粒径と粒度分布を制御できる。 ３）研磨剤の分散条件：研磨剤を結合剤と溶剤であらか
じめ分散してから研磨剤を含まない磁性液に添加し、混
合分散して磁性塗料とする方法、あるいは研磨剤と結合
剤と溶剤をあらかじめ分散しておきこれに別途分散した
研磨剤を含まない磁性液を混合し、必要に応じてさらに
分散して磁性塗料とする方法が知られている。この研磨
剤の分散条件の調節、例えば分散時間を調整したり、強
力な分散機を使用したり、或いは分散メディアの大き
さ、比重を調節することで、磁性層中の研磨剤の平均粒
径と粒径分布を調整できる。

【０００８】次に研磨剤の突起高さ分布を制御するに
は、例えば以下のような方法が挙げられる。 １）研磨剤分散バインダ：研磨剤を結合剤と溶剤であら
かじめ分散してから研磨剤を含まない磁性液に添加し、
混合分散して磁性塗料とする方法、あるいは研磨剤と結
合剤と溶剤をあらかじめ分散しておきこれに別途分散し
た研磨剤を含まない磁性液を混合し、必要に応じてさら
に分散して磁性塗料とする方法において、研磨剤を分散
する際のバインダと、研磨剤を含まない磁性液中のバイ
ンダの相溶性高くする或いは低くする。相溶性が高けれ
ば磁性層が塗布乾燥される際の研磨剤粒子の移動を抑制
でき研磨剤の突出高さを低くでき、逆に相溶性が低くす
れば研磨剤の突出高さを高くできる。 ２）カレンダの強押し：高圧力、高温度の下、金属ロー
ルなどの硬いロールで磁性層表面を成形し高い研磨剤突
起を磁性層中に押し込ませる。線圧力としては、２００
〜４５０ｋｇ／ｃｍ、好ましくは２５０〜４００ｋｇ／
ｃｍで処理温度は７０〜１１０℃、好ましくは８０〜１
００℃である。また、処理速度は５０〜４００ｍ／ｍｉ
ｎ、好ましくは８０〜３００ｍ／ｍｉｎである。上記範
囲より線圧力及び処理温度が高すぎるもしくは処理速度
が遅すぎると、Ｈ_20-30／Ｈ_10-20が小さくなり走行耐久
性が劣化する。逆に上記範囲より線圧力及び処理温度が
低すぎるもしくは処理速度が大きすぎると、Ｈ_20-30／
Ｈ_10-20が大きくなりヘッド磨耗量が大きくなる。 ３）バインダの調整：磁性層のバインダの種類や配合比
を調整してカレンダ前の磁性層のＴｇを小さくすると、
同じ条件でカレンダしてもＨ_20-30／Ｈ_10-20は小さくな
る。また、磁性体に対するバインダの量を分散を損ねな
い程度に適度に少なくすると、カレンダ前の磁性層の空
隙が多くなり、同じ条件でカレンダしてもＨ_20-30／Ｈ
_10-20を小さくできる。 ４）混練条件；磁性塗料の調整の際には、磁性体とバイ
ンダと少量の溶剤で、ニーダーなどの装置を用いて強い
剪断力で混練処理を行うのが一般的である。混練処理に
より磁性体とバインダの吸着力が増し磁性層の充填度が
大きくなりまた磁性層の強度が大きくなる。強く混練す
ると充填度が大きくなるが塗布後の磁性層の空隙が少な
くなりカレンダされにくくなりＨ_20-30／Ｈ_10-20が大き
くなる。

【０００９】５）ブレード処理：磁気テープを研磨テー
プにラッピングしたり、ダイヤモンド粉末などの硬い粉
末を散りばめた回転ロールにラッピングさせて、磁性層
を研磨処理し、研磨剤の突起をトップカットする。具体
的に、研磨テープにラッピングしてブレードする方式
（ＬＴＢＬ方式）とダイヤモンド粉末を散りばめた回転
ロールにラッピングさせてブレードする方式（ＤＷＢＬ
方式）として以下好ましい条件を示す。図１は、ＬＴＢ
Ｌ方式を用いた装置の概念図である。搬送されてきた磁
気テープ５が、送りロール４を経由して、サファイア刃
６上に送られ研磨される。その後、送りロール４を経由
して巻き取られて処理が完了する。ここで、サファイア
刃６と磁気テープ５の間には、ラッピングテープ１が磁
気テープ５と反対方向に回転ロール２により搬送されて
いる。この方式は詳しくは特開昭６３−２５９８３０号
公報に記載されている。ＬＴＢＬ方式には、ラッピング
テープとして、富士写真フイルム株製Ｋ−１００００、
ＭＡ−２００００、ＭＳ２００００などを用いることが
できる。磁気テープの搬送速度（Ｖ）は３〜２０ｍ／ｓ
ｅｃの範囲内に設定し、ラッピングテープの搬送速度
（ｖ）は１０〜５０ｍｍ／ｍｉｎの範囲内に設定するの
が好ましい。また、図１のａ部における磁気テープのテ
ンション（Ｔ１）は３０〜５０ｇ／（１／２吋幅）の範
囲内にし、図１のｂ部における磁気テープのテンション
（Ｔ２）は１００〜２００ｇ／（１／２吋幅）の範囲内
にし、かつ、テンションの差（Ｔ２−Ｔ１）は５０〜１
５０ｇ／（１／２吋幅）の範囲内にするのが好ましい。

【００１０】図２は、ＤＷＢＬ方式を用いた装置の概念
図である。搬送されてきた磁気テープ５が、送りロール
４を経由して、ダイヤモンド粉末を散りばめた回転ロー
ル３上に送られ研磨される。その後、送りロール４を経
由して巻き取られて処理が完了する。ここで、回転ロー
ル３は、磁気テープ５と反対方向に回転している。この
方式の詳細は、特開昭６２−１７２５３２号公報に記載
されている。ＤＷＢＬ方式に用いる回転ロール（９）と
して、例えばオリエンタルダイヤ工業研究所製ＤＷ＃６
００、＃８００、＃１０００（直径７ｃｍ、ラップ角度
（θ）９０°、＃８００のＲａは０．５〜１．３μｍ）
などを使用することができる。磁気テープの搬送速度
（Ｖ）および回転ロール（９）の接線速度（ｖ）は３〜
７ｍ／ｓの範囲内に設定し、図２のａ部における磁気テ
ープのテンション（Ｔ１）は３０〜１５０ｇ／（１／２
吋幅）の範囲内にし、図２のｂ部における磁気テープの
テンション（Ｔ２）は１００〜３００ｇ／（１／２吋
幅）の範囲内にし、かつ、テンションの差（Ｔ２−Ｔ
１）は５０〜２００ｇ／（１／２吋幅）の範囲内にする
のが好ましい。

【００１１】次に、本発明で磁性層に用いる研磨剤につ
いて詳述する。研磨剤としては無機質非磁性粉末が使用
できる。無機質非磁性粉末としては、金属酸化物、金属
炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫
化物等の無機質化合物から選択することができる。無機
質化合物としては例えば、α化率９０〜１００％のα−
アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、炭化ケイ素、
酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、
窒化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪
素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、
酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、硫酸バリウ
ム、二硫化モリブデンなどを単独または組合せて使用す
ることができる。特に好ましいのは、α−アルミナ、べ
んがら、酸化クロムである。炭酸カルシウムは水溶性金
属イオンの供給源となるので好ましくない。本発明にお
いて用いられる研磨剤は、磁性層表面に存在している研
磨剤の粒径分布であるＭ_0.1／Ｍｔ、及び突出高さ分布
であるＨ_20-30／Ｈ_10-20が、上記範囲になるように、種
類、量、粒径、組み合わせ、形状等を種々変えて使用す
る。研磨剤を１種のみ使用する場合、本発明で使用する
研磨剤の粒径は、平均粒径０．０５〜０．４μｍのもの
が好ましく、平均粒径０．１〜０．３μｍのものがより
好ましい。平均粒径より０．１μｍ以上大きい粒径の粒
子が１〜４０％存在していることが好ましく、５〜３０
％であることがより好ましく、１０〜２０％であること
が最も好ましい。この研磨剤単体での粒子サイズは、実
際の磁性層表面に存在している研磨剤粒子の粒子サイズ
に影響は与えるが等しくはない。磁性層表面に存在する
研磨剤粒子の粒子サイズは研磨剤の分散条件等よっても
変化するし、塗布乾燥工程でも磁性層表面に出やすい粒
子と出にくい粒子がある。

【００１２】平均粒径の異なる２種以上の研磨剤を組み
合わせて使用することもできる。この場合は使用する２
種以上の研磨剤の実際の使用比率に応じた加重平均値に
おいて、平均粒径と平均粒径より０．１μｍ以上大きい
粒径の粒子が上記の範囲になるようにすることができ
る。また、２種の研磨剤それぞれの分散条件を変えて、
粒子サイズを制御することもできる。例えば研磨剤Ａを
あらかじめ結合剤と溶剤とともに分散しておき、これ
と、粉体のままの研磨剤Ｂを、別途結合剤と溶剤ととも
に混練処理した強磁性金属粉末の混練処理液に添加し
て、分散処理を行えば、研磨剤Ａと研磨剤Ｂで分散処理
条件を違えることができる。すなわち、Ｂに比べてＡは
強く分散される。研磨剤粉末のタップ密度は０．０５〜
２ｇ／ｍｌ、好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌであ
る。研磨剤粉末の含水率は０．０５〜５重量％、好まし
くは０．２〜３重量％である。研磨剤の比表面積は１〜
１００ｍ²／ｇ、好ましくは５〜５０ｍ²／ｇである。Ｄ
ＢＰを用いた吸油量は５〜１００ｍｌ／１００ｇ、好ま
しくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇである。比重は１〜１
２、好ましくは３〜６である。形状は針状、球状、多面
体状、板状のいずれでもよい。これらの研磨剤の表面
は、当該研磨剤の主成分とは異なる化合物で、その少な
くとも一部が被覆されていてもよい。この例として、Ａ
ｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂
Ｏ₃、ＺｎＯを挙げることができる。特にＡｌ₂Ｏ₃、Ｓ
ｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂を用いると分散性が良好にな
る。これらは組み合わせて使用してもよいし、単独で用
いてもよい。

【００１３】本発明の磁性層に用いる研磨剤の粉末の具
体例としては、昭和電工（株）製ナノタイト；住友化学
工業（株）製Ｈｉｔ１００、Ｈｉｔ８２、Ｈｉｔ８０、
Ｈｉｔ７０、Ｈｉｔ６０Ａ、Ｈｉｔ５５、ＡＫＰ２０、
ＡＫＰ３０、ＡＫＰ５０、ＺＡ−Ｇ１；レイノルズ製Ｅ
ＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＦ−ＤＢＭ、ＨＰＦ
Ｘ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−ＤＢＭ、ＨＰＳＸ−ＤＢＭ；不二
見研摩材製ＷＡ８０００、ＷＡ１００００；上村工業製
ＵＢ２０、ＵＢ４０Ｂ、メカノックスＵ４；昭和軽金属
（株）製ＵＡ２０５５、ＵＡ５１５５、ＵＡ５３０５；
日本化学工業（株）製Ｇ−５、クロメックスＭ、クロメ
ックスＳ１、クロメックスＵ２、クロメックスＵ１、ク
ロメックスＸ１０、クロメックスＫＸ１０；日本電工
（株）製ＮＤ８０３、ＮＤ８０２、ＮＤ８０１；東ソー
（株）製Ｆ−１、Ｆ−２、ＵＦ−５００；戸田工業
（株）製ＤＰＮ−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ
−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸＴＦ−１００、ＴＦ−１
２０、ＴＦ−１４０、ＤＰＮ−５５０ＢＸ、ＴＦ−１８
０；昭和鉱業製Ａ−３、Ｂ−３；セントラル硝子（株）
製ベータＳｉＣ、ＵＦ；イビデン（株）製ベータランダ
ムスタンダード、ベータランダムウルトラファイン；帝
国化工製ＪＲ４０１、ＭＴ５００Ｂ；石原産業（株）製
ＴＹ−５０、ＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ
−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−
５５Ｄ、ＳＮ−１００、Ｅ２７０、Ｅ２７１；チタン工
業（株）製ＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３
０、ＳＴＴ−６５Ｃ；テイカ（株）製ＭＴ−１００Ｓ、
ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、Ｍ
Ｔ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｆ、ＭＴ−５００ＨＤ；堺
化学工業（株）製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−
１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ；北開化学製ＨＺｎ、ＨＺ
ｒ₃Ｍ、同和鉱業（株）製ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ
−Ｒ、日本アエロジル（株）製ＡＳ₂ＢＭ、ＴｉＯ
₂Ｐ₂₅；宇部興産（株）製１００Ａ、５００Ａ；チタン
工業（株）製Ｙ−ＬＯＰ及びそれを焼成したものが挙げ
られる。

【００１４】次に、本発明で使用する鉄を主体とする強
磁性金属粉末について述べる。本発明で使用する強磁性
金属粉末の形状には特に制限はなく、針状、紡錘状、球
状、球状の連鎖状、サイコロ状、板状などのいずれもが
使用できる。このうち針状及び紡錘状が好ましい。針状
及び紡錘状の場合は平均長軸長が０．０３〜０．３μｍ
であり、好ましくは０．０５〜０．２μｍである。平均
長軸長がこの範囲より大きいと磁性体同士がからまりあ
い易くなり、磁性層中での磁性体の充填率が低下して電
磁変換特性が低下するともに、塗膜中で塗布面内から垂
直方向に立ち上がった磁性体が多くなることでヘッド磨
耗量が増加する。逆に平均長軸長がこの範囲より小さい
と磁性粒子が微細に過ぎて、耐久性が劣化する。鉄を主
体とする強磁性金属粉末は、その生成過程において粒子
内に空孔が形成される。空孔の程度は比表面積で把握で
き、本発明では３５〜７０／ｇ、好ましくは４０〜６０
／ｇである。比表面積が大きいと金属粉末中の空孔が多
くなり、磁気特性が低下して電磁変換特性が充分でなく
なる。また、塗料化の際の粘度が大きくなり塗料化も困
難になる。比表面積が上記範囲より小さい粒子は、粒子
サイズが大きくなり電磁変換特性が悪化するため好まし
くない。このような強磁性金属粉末の製造方法は、特に
制限はなく従来公知の方法が適用できるが、鉄を主体と
する酸化物もしくは含水酸化物を還元性気体中で加熱還
元する方法が性能及び生産性の両面で最も好ましい。こ
れらの金属磁性粉末は、表面に酸化被膜が形成されてい
るのが好ましい。酸化被膜は、金属磁性粉末を生成後に
その表面を徐酸化することによって形成することができ
る。徐酸化の方法は、有機溶剤に浸漬した後に乾燥させ
る方法、有機溶剤に浸漬してから酸素含有ガスを送り込
んで表面に酸化膜を形成した後に乾燥させる方法、有機
溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧を調整して表
面に酸化皮膜を形成する方法などの従来公知の方法のい
ずれを採用してもよい。中でも気相反応で行う方法が、
均一な酸化被膜ができ耐酸化安定性が向上するため好ま
しい。

【００１５】本発明で用いる強磁性金属粉末は、Ｆｅを
主体とするが、必要に応じて任意の元素を添加すること
ができる。例えば、Ａｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、
Ｃｒ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔ
ｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、
Ｐ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｒ、Ｂ、Ｙ、Ｌａ、Ｎ
ｄ、Ｓｍ、Ｇｄなどを添加することができる。これらの
うちＮｉ及びＣｏの添加量は合わせて５０原子％以下
（対Ｆｅ）にするのが好ましく、１〜４０原子％の範囲
内にするのがより好ましい。また、Ｎｉ、Ｃｏ以外の添
加元素は１〜３０原子％（対Ｆｅ＋Ｎｉ＋Ｃｏ）の範囲
内にするのが好ましく、５〜２０原子％の範囲内にする
のがより好ましい。本発明で使用する強磁性金属粉末の
結晶子サイズは、通常１００〜２５０Å程度であり、好
ましくは１３０〜１８０Åである。飽和磁化（σＳ）
は、通常１００〜１８０ｅｍｕ／ｇ程度であり、好まし
くは１２０〜１６０ｅｍｕ／ｇである。Ｈｃは使用する
システムに応じて設定でき、１４００〜２８００Ｏｅ程
度のものを使用することができる。ｐＨは用いる結合剤
との組み合わせにより最適化するのが好ましい。その範
囲は４〜１２であるが、好ましくは７〜１１である。本
発明の強磁性金属粉末には、０．１〜２．０重量％の水
分が含有されていることが好ましい。水分を含む強磁性
金属粉末は、水または水蒸気を含んだ気体と強磁性金属
粉末を接触させることによって調製することができる。
本発明で使用する強磁性金属粉末は、後述する分散剤、
潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらか
じめ処理しておいてもよい。その詳細については、特公
昭４４−１４０９０号公報、特公昭４５−１８３７２号
公報、特公昭４７−２２０６２号公報、特公昭４７−２
２５１３号公報、特公昭４６−２８４６６号公報、特公
昭４６−３８７５５号公報、特公昭４７−４２８６号公
報、特公昭４７−１２４２２号公報、特公昭４７−１７
２８４号公報、特公昭４７−１８５０９号公報、特公昭
４７−１８５７３号公報、特公昭３９−１０３０７号公
報、特公昭４８−３９６３９号公報、米国特許３０２６
２１５号明細書、同３０３１３４１号明細書、同３１０
０１９４号明細書、同３２４２００５号明細書、同３３
８９０１４号明細書などに具体的に記載されている。

【００１６】本発明で使用する結合剤として、従来公知
の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの
混合物を挙げることができる。熱可塑性樹脂としては、
ガラス転移温度が−２０〜９０℃、数平均分子量が１，
０００〜２００，０００、好ましくは１０，０００〜１
００，０００、重合度が約５０〜１，０００程度のもの
を使用することができる。このような結合剤の具体例と
しては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、
マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビ
ニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリ
ル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニ
ルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル等を
構成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタ
ン樹脂、各種ゴム系樹脂を挙げることができる。また、
熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹
脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹
脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ
−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネート
プレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリ
イソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシア
ネートの混合物等を挙げることができる。これらの樹脂
の詳細については、朝倉書店発行の「プラスチックハン
ドブック」に記載されている。また、公知の電子線硬化
型樹脂を使用することも可能である。

【００１７】これらの結合剤の具体例とその製造方法に
ついては、特開昭６２−２５６，２１９号公報に詳細に
記載されている。上記樹脂は単独または組合せて使用す
ることができる。好ましいものとして、塩化ビニル樹
脂、塩化ビニル酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル
ビニルアルコール樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレ
イン酸共重合体の中から選ばれる少なくとも１種とポリ
ウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシアネ
ートを組み合わせたものを挙げることができる。ポリウ
レタン樹脂としては、ポリエステルポリウレタン、ポリ
エーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリ
ウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステ
ルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトン
ポリウレタンポリオレフィンポリウレタンなど公知のも
のを使用することができる。ここに示したすべての結合
剤について、より優れた分散性と耐久性を得るために
は、必要に応じて、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃
Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ’）₂、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ’）
₂（ここにおいて、Ｍは水素原子またはアルカリ金属原
子を示す。Ｍ’は、水素原子、アルカリ金属原子または
低級炭化水素基を示す）、−ＯＨ、−ＮＲ₂、−Ｎ⁺Ｒ₃
（Ｒは炭素数１〜１２の炭化水素基を示す）、エポキシ
基、−ＳＨ、−ＣＮ、スルフォベタイン、カルボキシベ
タイン、ホスホベタイン等、好ましくは−ＣＯＯＭ、−
ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ’）₂から選ば
れる少なくとも１種を共重合または付加反応で好ましく
はポリウレタン樹脂及び塩化ビニル系樹脂の少なくとも
一方に導入したものを用いることが好ましい。このよう
な極性基の量は１０^-8〜１０^-1モル／ｇであり、好まし
くは１０^-6〜１０^-2モル／ｇ、さらに好ましくは３×１
０^-5〜２０×１０^-5モル／ｇである。本発明で使用する
これらの結合剤の具体例として、ユニオンカーバイト社
製ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧ
Ｄ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨ
Ｌ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦ
Ｅ；日信化学工業（株）製ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ
５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭ
Ｆ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ；電
気化学工業（株）製１０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、
ＤＸ８２、ＤＸ８３、１００ＦＤ；日本ゼオン（株）製
ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１０
０、４００Ｘ−１１０Ａ；日本ポリウレタン工業（株）
製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４；大
日本インキ化学工業（株）製パンデックスＴ−５１０
５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４
００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９、７２０
９；東洋紡績（株）製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３
００、ＵＲ−８６００、ＵＲ−５５００、ＵＲ−４３０
０、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、ＦＢ−８４；大日精化工
業（株）製ダイフェラミン４０２０、５０２０、５１０
０、５３００、９０２０、９０２２、７０２０；三菱化
学（株）製ＭＸ５００４；三洋化成工業（株）製サンプ
レンＳＰ−１５０、ＴＩＭ−３００３、ＴＩＭ−３００
５；旭化成工業（株）製サランＦ３１０、Ｆ２１０など
を挙げることができる。この中でＭＲ−１０４、ＭＲ１
１０が好ましい。

【００１８】本発明で使用するポリイソシアネートとし
ては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシア
ネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−
１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシア
ネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメ
タントリイソシアネート等のイソシアネート類、これら
のイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、イソ
シアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネー
ト等を挙げることができる。これらのイソシアネート類
の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン工
業（株）製コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート
２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミ
リオネートＭＴＬ；武田薬品工業（株）製タケネートＤ
−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２
００、タケネートＤ−２０２；住友バイエル社製デスモ
ジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、
デスモジュールＨＬ等があり、これらを単独または組合
せて用いることができる。本発明の磁性層に用いる結合
剤は、強磁性粉末に対し１０〜３０重量％の範囲内、好
ましくは１５〜２５重量％の範囲内にする。特に塩化ビ
ニル系樹脂、ポリウレタン、ポリイソシアネートの３種
を併用するのが好ましい。これら３種を併用する場合、
塩化ビニル系樹脂は５〜２０重量％、好ましくは７〜１
５重量％、ポリウレタン樹脂は２〜１５重量％、好まし
くは４〜１０重量％、ポリイソシアネ−トは２〜２０重
量％、好ましくは３〜１０重量％の範囲でこれらを組み
合わせ、３種の総量を１０〜３０重量％、好ましくは１
５〜２５重量％にする。これにより、塩化ビニル系樹脂
に強磁性金属粉末を充分に分散させ、ポリウレタンによ
り磁性層にしなやかさを付与させ、ポリイソシアネート
により磁性層を架橋させて強靱な磁性層にすることがで
きる。

【００１９】本発明において、ポリウレタンとして最も
好ましいのは、ポリエーテルポリオールとポリエステル
ポリオールからなるジオール成分とポリイソシアネート
成分を主成分とするポリウレタン（以下において「好適
なポリウレタン」という）である。好適なポリウレタン
のポリエーテルポリオール構造として、ＰＰＧ（ポリプ
ロピレングリコール）、ＰＴＭＧ（ポリテトラメチレン
グリコール）、ＰＥＧ（ポリエチレングリコール）、Ｂ
ＰＡ（ビスフェノールＡ）にＰＯ（プロピレンオキサイ
ド）及び／またはＥＯ（エチレンオキサイド）を付加し
たもの、およびこれらの混合物を基本組成するものを例
示することができる。中でもＰＰＧ、ＰＴＭＧが好まし
い。ポリエーテルポリオールのＴｇは０℃以下、好まし
くは−１０〜−６０℃であり、その分子量は通常４００
〜１００００、好ましくは５００〜５０００、さらに好
ましくは８００〜３０００である。ポリウレタン中のポ
リエーテルポリオールの比率は、通常３〜８０重量％、
好ましくは５〜７０重量％、さらに好ましくは１０〜５
０重量％である。該比率が少なすぎると効果が小さくな
る。多すぎると力学強度が低下し耐久性が低下する。好
適なポリウレタンのポリエステルポリオール構造は、環
状構造（芳香族、脂環族）を有するモノマ−を含み、分
岐構造を有しているのが好ましい。酸成分としては、イ
ソフタル酸（ｉＰＡ）、テレフタル酸等が挙げられ、ア
ルコール成分としてはネオペンチルグリコール（ＮＰ
Ｇ）、シクロヘキサンジメタノール（ＣＨＭ）、シクロ
ヘキサンジオール、ビスフェノールＡ、水素添加ビスフ
ェノールＡなどが好ましい。該ポリエステルポリオール
の分子量は、通常４００〜１００００、好ましくは５０
０〜５０００、さらに好ましくは８００〜３０００であ
る。

【００２０】好適なポリウレタンはＴｇを少なくとも２
つ有し、一方が通常−２５０〜０℃、好ましくは−２０
０〜１０℃でもう一方が通常４０〜１３０℃、好ましく
は４５〜１１０℃である。Ｔｇが２つある場合、低い方
（低Ｔｇ）は、好ましくは−５℃以下、さらに好ましく
は−１０〜−４０℃で、高い方（高Ｔｇ）は好ましく
は、５０〜１２０℃、さらに好ましくは、６０〜１００
℃である。また、Ｔｇを３つ以上有するポリウレタン
は、２種の異なるポリエステルポリオール成分および１
種のポリエーテルポリオール成分を使用するか、１種の
ポリエステルポリオール成分および２種の異なるポリエ
ーテルポリオール成分を使用することによって調製する
ことができる。Ｔｇが４つ以上の場合もこれと同様にし
て調製することができる。なお、ポリウレタンのＴｇは
厚さ２０μｍの膜を形成し、バイブロン（オリエンテッ
ク社製）でＥ”のピーク温度とする。このような好適な
ポリウレタンは、前記ジオール成分に加え、公知の鎖延
長剤等の低分子ポリオール成分を有していてもよい。具
体的には、ＮＰＧ、エチレングリコール（ＥＧ）、１，
４−ブタンジオール（ＢＤ）、ビスフェノールＡのジヒ
ドロキシエチルエーテル等のジオール、３官能以上のア
ルコールたとえばトリメチロールプロパンなどを併用し
て分岐構造を有するポリウレタンにしてもよい。これら
の成分は、ポリウレタンに対して０〜４０重量％含ませ
ることができる。好適なポリウレタンに用いるポリイソ
シアネート成分としては、トリレンジイソシアネート
（ＴＤＩ）、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネ
ート（ＭＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤ
Ｉ）、水添ＭＤＩなどの芳香族または脂環式ジイソシア
ネートが好ましい。

【００２１】このような好適なポリウレタンを用いるこ
とによって、本発明の効果が非常に良好になるのは以下
の理由による。上述のように、研磨剤の磁性層表面への
突出高さ分布を調整する一方法として、使用する結合剤
のＴｇを調節する方法がある。突出高さが高い研磨剤を
減らすためには、結合剤のＴｇを低くすることが好まし
い。しかしながら、結合剤のＴｇを低くすると磁性塗膜
となった後の磁性層のＴｇが小さく、ヘッドとテープが
高速摺動する際の発熱により磁性層が破壊され易くなり
ヘッド目詰まりなど走行耐久性の悪化を招きやすい。好
適なポリウレタンは、ポリエーテル部とポリエステル部
のいずれもブロック性を有するポリウレタンである。低
Ｔｇのポリエーテルポリオール成分と高Ｔｇのポリエス
テルポリオール成分を用いてポリウレタンにしている。
このとき低Ｔｇのポリエーテルポリオールと高Ｔｇのポ
リエステルポリオールは相溶性が低く、ポリウレタン化
した後も塗膜中で低Ｔｇで柔らかくのびやすい相と高Ｔ
ｇで硬い相にミクロ相分離する。これは動的粘弾性の温
度依存性を調べると、ガラス転移を反映する損失弾性率
（Ｅ”）やｔａｎδのピ−クが２箇所に現れることから
わかる。このために硬い相で耐熱性、強度を保持しつ
つ、軟らかい相で大きな伸びを出すことができるのであ
る。

【００２２】以降に、研磨剤、強磁性金属粉末、結合剤
以外の磁性層の構成要素について述べる。本発明の磁性
層には、カーボンブラック、研磨剤等の粉体を用いるこ
とができる。本発明で使用するカ−ボンブラックとし
て、ゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブラ
ック、アセチレンブラック等を用いることができる。比
表面積は５〜５００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４
００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５〜３００ｍμ、ｐＨは
２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．
１〜１．０ｇ／ｍｌが好ましい。本発明で用いるカ−ボ
ンブラックの具体例として、キャボット社製ＢＬＡＣＫ
ＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、９０
０、８００、７００；ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２；旭カ
−ボン社製＃８０、＃６０、＃５５、＃５０、＃３５；
三菱化学（株）製＃２４００Ｂ、＃２３００、＃５、＃
９００、＃９５０、＃９７０、＃１０００、＃３０、＃
４０、＃１０Ｂ；コロンビアカ−ボン社製ＣＯＮＤＵＣ
ＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０、４０、１５
などが挙げられる。カ−ボンブラックを分散剤などで表
面処理したり、樹脂でグラフト化して使用したり、表面
の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわな
い。また、カ−ボンブラックを磁性塗料に添加する前に
あらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカ
−ボンブラックは単独、または組合せて使用することが
できる。カ−ボンブラックを使用する場合は、強磁性金
属粉末に対する量の０．１〜３０％で用いることが好ま
しい。カ−ボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数
低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これ
らは用いるカ−ボンブラックにより異なる。従って、本
発明で使用するこれらのカ−ボンブラックは、所望によ
りその種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、
電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応
じて使い分けることができる。本発明の磁性層で使用で
きるカ−ボンブラックについては、例えば「カ−ボンブ
ラック便覧」カ−ボンブラック協会編を参考にすること
ができる。

【００２３】本発明では、潤滑効果、帯電防止効果、分
散効果、可塑効果、などをもつ添加剤を使用することが
できる。二硫化モリブデン、二硫化タングステン、グラ
ファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコ−ンオイ
ル、極性基をもつシリコ−ン、脂肪酸変性シリコ−ン、
フッ素含有シリコ−ン、フッ素含有アルコ−ル、フッ素
含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコ−ル、アル
キル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル
硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフェニル
エ−テル、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびその
アルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸
（不飽和結合を含んでも、また、分岐していてもかまわ
ない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃ
ｕなど）または、炭素数１２〜２２の一価、二価、三
価、四価、五価、六価アルコ−ル、（不飽和結合を含ん
でも、また、分岐していてもかまわない）、炭素数１２
〜２２のアルコキシアルコ−ル、炭素数１０〜２４の一
塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また、分岐して
いてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二価、三
価、四価、五価、六価アルコ−ルのいずれか一つ（不飽
和結合を含んでも、また、分岐していてもかまわない）
とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステル
またはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物
のモノアルキルエ−テルの脂肪酸エステル、炭素数８〜
２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミンな
どが使用できる。これらの具体例としてはラウリン酸、
ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン
酸、ステアリン酸ブチル、オレイン酸、リノ−ル酸、リ
ノレン酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステ
アリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチ
ン酸オクチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒド
ロソルビタンモノステアレ−ト、アンヒドロソルビタン
ジステアレ−ト、アンヒドロソルビタントリステアレ−
ト、オレイルアルコ−ル、ラウリルアルコ−ルが挙げら
れる。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、
グリシド−ル系、アルキルフェノ−ルエチレンオキサイ
ド付加体等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステ
ルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類等の
カチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐
酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基などの酸性基を含
むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸
類、アミノアルコ−ルの硫酸または燐酸エステル類、ア
ルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用でき
る。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便
覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物等の不純分が含まれていてもかまわ
ない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに
好ましくは１０％以下である。

【００２４】本発明ではこれらの潤滑剤、界面活性剤の
種類や量を必要に応じて使い分けることができる。例え
ば、融点のことなる脂肪酸を用いて表面へのにじみ出し
を制御したり、沸点や極性の異なるエステル類を用いて
表面へのにじみ出しを制御したり、界面活性剤量を調節
することで塗布の安定性を向上させることなど考えられ
るが、これらに限られるものではない。また、本発明で
用いる添加剤のすべてまたはその一部は、磁性塗料製造
のどの工程で添加してもかまわない。例えば、混練工程
前に強磁性粉末と混合する場合、強磁性粉末と結合剤と
溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加す
る場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場
合のいずれであってもよい。また、目的に応じて磁性層
を塗布した後、同時または逐次塗布で、添加剤の一部ま
たは全部を塗布することにより目的が達成される場合が
ある。また、目的によってはカレンダーした後、または
スリット終了後、磁性層表面に潤滑剤を塗布することも
できる。本発明で使用するこれら潤滑剤の商品例として
は、日本油脂（株）製ＮＡＡ−１０２、ＮＡＡ−４１
５、ＮＡＡ−３１２、ＮＡＡ−１６０、ＮＡＡ−１８
０、ＮＡＡ−１７４、ＮＡＡ−１７５、ＮＡＡ−２２
２、ＮＡＡ−３４、ＮＡＡ−３５、ＮＡＡ−１７１、Ｎ
ＡＡ−１２２、ＮＡＡ−１４２、ＮＡＡ−１６０、ＮＡ
Ａ−１７３Ｋ、ヒマシ硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４２、ＮＡ
Ａ−４４、カチオンＳＡ、カチオンＭＡ、カチオンＡ
Ｂ、カチオンＢＢ、ナイミ−ンＬ−２０１、ナイミ−ン
Ｌ−２０２、ナイミ−ンＳ−２０２、ノニオンＥ−２０
８、ノニオンＰ−２０８、ノニオンＳ−２０７、ノニオ
ンＫ−２０４、ノニオンＮＳ−２０２、ノニオンＮＳ−
２１０、ノニオンＨＳ−２０６、ノニオンＬ−２、ノニ
オンＳ−２、ノニオンＳ−４、ノニオンＯ−２、ノニオ
ンＬＰ−２０Ｒ、ノニオンＰＰ−４０Ｒ、ノニオンＳＰ
−６０Ｒ、ノニオンＯＰ−８０Ｒ、ノニオンＯＰ−８５
Ｒ、ノニオンＬＴ−２２１、ノニオンＳＴ−２２１、ノ
ニオンＯＴ−２２１、モノグリＭＢ、ノニオンＤＳ−６
０、アノンＢＦ、アノンＬＧ、ブチルステアレ−ト、ブ
チルラウレ−ト、エルカ酸；関東化学（株）製オレイン
酸；竹本油脂社製ＦＡＬ−２０５、ＦＡＬ−１２３、パ
イオニンＥ−８１８；新日本理化（株）製エヌジェルブ
ＬＯ、エヌジョルブＩＰＭ、サンソサイザ−Ｅ４０３
０；信越化学工業（株）製ＴＡ−３、ＫＦ−９６、ＫＦ
−９６Ｌ、ＫＦ９６Ｈ、ＫＦ４１０、ＫＦ４２０、ＫＦ
９６５、ＫＦ５４、ＫＦ５０、ＫＦ５６、ＫＦ９０７、
ＫＦ８５１、Ｘ−２２−８１９、Ｘ−２２−８２２、Ｋ
Ｆ９０５、ＫＦ７００、ＫＦ３９３、ＫＦ−８５７、Ｋ
Ｆ−８６０、ＫＦ−８６５、Ｘ−２２−９８０、ＫＦ−
１０１、ＫＦ−１０２、ＫＦ−１０３、Ｘ−２２−３７
１０、Ｘ−２２−３７１５、ＫＦ−９１０、ＫＦ−３９
３５；ライオンア−マ−社製ア−マイドＰ、ア−マイド
Ｃ、ア−モスリップＣＰ；ライオン（株）製デュオミン
ＴＤＯ；日清製油（株）製ＢＡ−４１Ｇ；三洋化成工業
（株）製プロファン２０１２Ｅ、ニュ−ポ−ルＰＥ６
１、イオネットＭＳ−４００、イオネットＭＯ−２０
０、イオネットＤＬ−２００、イオネットＤＳ−３０
０、イオネットＤＳ−１０００イオネットＤＯ−２００
などが挙げられる。

【００２５】さらに、添加剤として分子量３００以下の
有機リン化合物を用いると、本発明の強磁性金属粉末と
結合剤との結合力、結合量をさらに高めて、分散が良好
になりヘッド磨耗量が低減し、また、強磁性金属粉末に
吸着していない結合剤がより少なくなるので磁気記録媒
体の耐久性を飛躍的に高めることができる。これら有機
リン酸化合物として、例えば、特開平１−１８９０２５
号公報記載の化合物、例えばフェニルリン酸Ｃ₆Ｈ₅ＯＰ
Ｏ（ＯＨ）₂、リン酸ｎ−ブチルｎ−Ｃ₄Ｈ₉ＯＰＯ（Ｏ
Ｈ）₂、亜リン酸ジブチル（Ｃ₄Ｈ₉Ｏ）₂Ｐ（ＯＨ）、フ
ェニルホスホン酸Ｃ₆Ｈ₅ＰＯ（ＯＨ）₂等をあげること
ができる。本発明の磁気記録媒体の厚み構成は通常、非
磁性支持体が１〜１００μｍ、好ましくは４〜１２μ
ｍ、磁性層が通常、０．１〜５μｍ、好ましくは１〜４
μｍ、バックコート層が通常、０．１〜２μｍ、好まし
くは０．４〜１μｍであり、非磁性支持体と磁性層の間
に密着性向上のための接着層が０．０１〜２μｍ、好ま
しくは０．０２〜０．５μｍである。これらの接着層、
バックコ−ト層には公知のものを使用することができ
る。

【００２６】本発明で用いる非磁性支持体として、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、
ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、芳香族ポ
リアミド、ポリベンズオキシダゾールなどの公知のフィ
ルムを例示することができる。特に、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレートもしくはアラミ
ド樹脂を用いた非磁性支持体が好ましい。これらの非磁
性支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処
理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行ってもよ
い。本発明の目的を達成するには、非磁性支持体の表面
粗さは２〜３０ｎｍ、好ましくは５〜２５ｎｍ、さらに
好ましくは１０〜２０ｎｍとする必要がある。また、こ
れらの非磁性支持体は単に中心線平均表面粗さが小さい
だけではなく、１μｍ以上の粗大突起がないことが好ま
しい。また、表面の粗さ形状は必要に応じて非磁性支持
体に添加されるフィラ−の大きさと量により自由にコン
トロ−ルされるものである。これらのフィラ−として、
Ａｌ、Ｃａ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩で結晶
性、非晶質を問わないものの他、アクリル系、メラミン
系などの有機微粉末があげられる。また、走行耐久性と
の両立を図るためには、バックコート層を塗布する面の
粗さは磁性層を塗布する面よりも粗いのが好ましい。非
磁性支持体の磁性層塗布面とバックコート層塗布面と
は、表面粗さが同一であっても違っていてもかまわな
い。粗さを変える場合には、デュアル構成の支持体を用
いてもよいし、コーティング層を設けることによって変
えても構わない。本発明に用いられる非磁性支持体のＦ
−５値は、テ−プ走行方向、幅方向ともに好ましくは７
〜３０ｋｇ／ｍｍ²であり、テ−プの長手方向のＦ−５
値がテ−プ幅方向のＦ−５値より高いのが一般的である
が、特に幅方向の強度を高くする必要があるときはその
限りでない。また、非磁性支持体のテ−プ走行方向およ
び幅方向の１００℃、３０分での熱収縮率は好ましくは
３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃３０
分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましく
は０．５％以下である。破断強度は両方向とも５〜１０
０ｋｇ／ｍｍ²、弾性率は１００〜２，０００ｋｇ／ｍ
ｍ²が好ましい。また、本発明での９００ｎｍでの光透
過率は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは３％以
下である。

【００２７】本発明の目的を達成するためには、従来公
知の製造技術、すなわち磁性塗料を製造し、これを非磁
性支持体上に塗布、配向、乾燥し、表面平滑化処理を行
って、所定の幅に裁断することによって得られる。磁性
塗料は、強磁性粉末、結合剤、カ−ボンブラック、研磨
剤、帯電防止剤、潤滑剤などの成分を、通常は溶剤とと
もに混練分散することによって調製する。混練、分散の
際に用いられる溶剤としては、通常磁性塗料の調製に使
用されているメチルエチルケトン、トルエン、酢酸ブチ
ル、シクロヘキサノンなどの溶剤を用いることができ
る。混練分散の方法は、通常磁性塗料の調製に利用され
ている方法であれば特に制限はなく、各成分の添加順序
も適宜設定できる。さらに成分の一部をあらかじめ予備
分散しておいてから添加したり、別に分散しておき最後
に混合することもできる。磁性塗料の調製には、通常の
混練機、例えば、２本ロールミル、３本ロールミル、ボ
ールミル、サンドグラインダー、アトライター、高速イ
ンペラー分散機、高速ストーンミル、高速度衝撃ミル、
ディスパー、ニーダー、高速ミキサー、ホモジナイザ
ー、及び超音波分散機などを使用することができる。混
練分散に関する技術の詳細は、Ｔ．Ｃ．Ｐａｔｔｏｎ
Ｐａｉｎｔ Ｆｌｏｗ ａｎｄ Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｄｉ
ｓｐｅｒｓｉｏｎ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎ
ｓ，１９６４）や田中信一著「工業材料」２５巻３７頁
（１９７７年）などに記載されている。また、米国特許
第２５８１４１４号明細書及び同第２８５５５１５号明
細書にも記載がある。本発明においても上記の引用文献
に記載された方法に準じて混練分散を行い、磁性塗料を
調製することができる。

【００２８】調製された磁性塗料は、前述の非磁性支持
体上に塗布する。その際、磁性層の乾燥後の層厚が好ま
しくは０．０５〜１０μｍの範囲内、より好ましくは
０．２〜５．０μｍになるように塗布する。多層構成の
場合は、複数の磁性塗料を逐次あるいは同時に重層塗布
してもよい。上記磁性塗料を塗布する塗布機としては、
エアードクターコート、ブレードコート、ロッドコー
ト、押出しコート、エアナイフコート、スクイズコー
ト、含浸コート、リバースロールコート、トランスファ
ーロールコート、グラビヤコード、キスコート、キャス
トコート、スプレイコート、スピンコート等が利用でき
る。これらについては例えば株式会社「総合技術センタ
−」発行の「最新コ−テイング技術」（昭和５８年５月
３１日）を参考にできる。塗布された磁性塗料の塗布層
は、磁性塗料の塗布層中に含まれる強磁性粉末を磁場配
向処理を施した後に乾燥される。磁場配向処理は、１，
０００ガウス以上のソレノイドと２，０００ガウス以上
のコバルト磁石を同極対向で併用することが好ましく、
さらには乾燥後の配向性が最も高くなるように配向前に
予め適度の乾燥工程を設けることが好ましい。非磁性支
持体の磁性塗料が塗布されていない面にはバックコート
層が設けられていてもよい。通常バックコート層は、非
磁性支持体の磁性塗料が塗布されていない面に、研磨
剤、帯電防止剤などの粒状成分と結合剤とを有機溶剤に
分散したバックコート層形成塗料を塗布して設けた層で
ある。なお、非磁性支持体の磁性塗料およびバックコー
ト層形成塗料の塗布面に接着剤層が設けられいてもよ
い。

【００２９】なお、バックコート層の塗設は磁性層の塗
布乾燥後に行うのが好ましいが、磁性層の塗布前でも、
次に述べる表面平滑化処理の後でもかまわない。塗布層
の形成及び乾燥後、表面平滑化処理を施す。表面平滑化
処理には、たとえばスーパーカレンダーロールなどが利
用される。表面平滑化処理を行うことにより、乾燥時の
溶剤の除去によって生じた空孔が消滅し磁性層中の強磁
性粉末の充填率が向上するので、電磁変換特性の高い磁
気記録媒体を得ることができる。カレンダー処理ロール
として各種金属ロール、エポキシ、ポリイミド、ポリア
ミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプラスチック
ロールを使用する。カレンダー処理時のカレンダーロー
ルの温度は６０〜１５０℃の範囲、好ましくは７０〜１
３０℃の範囲、特に好ましくは８０〜１１０℃の範囲に
する。圧力は１００〜５００ｋｇ／ｃｍの範囲、好まし
くは２００〜４５０ｋｇ／ｃｍの範囲、特に好ましくは
２５０〜４００ｋｇ／ｃｍの範囲で作動させることによ
って行われる。カレンダー処理の後、サーモ処理するこ
ともできる。サーモ処理は４０〜８０℃で６〜１２０時
間行うことができる。この後、スリッターなどの裁断機
で所望の幅に裁断する。さらに裁断後または裁断前、磁
性層表面をサファイア刃等でブレード処理することもで
きる。

【００３０】本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁場１
０ｋＯｅでＶＳＭ（振動試料型磁力計）を用いて測定し
た場合、テ−プ走行方向の角形比は０．７０以上であ
り、好ましくは０．７５以上であり、さらに好ましくは
０．８０以上である。テ−プ走行方向に直角な二つの方
向の角型比は走行方向の角型比の８０％以下となること
が好ましい。磁性層のＳＦＤは０．７以下であることが
好ましく、さらに好ましくは０．６以下である。磁性層
の表面粗さＲａは１〜１０ｎｍが好ましいが、その値は
目的により適宜設定されるべきである。電磁変換特性を
良好にするためには（Ｒａ）は小さいほど好ましいが、
走行耐久性を良好にするためには逆に大きいほど好まし
い。ＡＦＭによる評価で求めたＲＭＳ表面粗さ
（Ｒ_RMS）は２ｎｍ〜１５ｎｍの範囲にあることが好ま
しい。本発明の磁気記録媒体の磁性層面およびその反対
面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係数は、好ましくは
０．１〜０．５、さらに好ましくは０．２〜０．３であ
る。表面固有抵抗は好ましくは１０⁴〜１０¹²オ−ム／
ｓｑ、磁性層の０．５％伸びでの弾性率は走行方向、幅
方向とも好ましくは１００〜２，０００ｋｇ／ｍｍ²、
破断強度は好ましくは１〜３０ｋｇ／ｃｍ²、磁気記録
媒体の弾性率は走行方向、幅方向とも好ましくは１００
〜１，５００ｋｇ／ｍｍ²、残留伸びは好ましくは０．
５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は
好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下、
もっとも好ましくは０．１％以下で、０％が理想であ
る。磁性層のガラス転移温度（１１０ＨＺで測定した動
的粘弾性測定の損失弾性率の極大点）は５０℃以上１２
０℃以下が好ましい。損失弾性率は１×１０⁸〜８×１
０⁹ｄｙｎｅ／ｃｍ²の範囲にあることが好ましく、損失
正接は０．２以下であることが好ましい。損失正接が大
きすぎると粘着故障がでやすい。

【００３１】磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは
１００ｍｇ／ｍ²以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ²
以下である。磁性層が有する空隙率は、好ましくは４０
容量％以下、さらに好ましくは３０容量％以下である。
空隙率は高出力を果たすためには小さい方が好ましい
が、目的によってはある値を確保した方が良い場合があ
る。例えば、繰り返し用途が重視されるデータ記録用磁
気記録媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性は好まし
いことが多い。本発明の磁気記録媒体は磁性層を少なく
とも一層有するが、目的に応じてこれを複層構造のもの
としてもよい。また、磁性層と非磁性支持体の間に少な
くとも非磁性粉末と結合剤からなる非磁性層を設けても
よい。そして、各層で各種の物理特性を変えることがで
きるのは容易に推定されることである。例えば、磁性層
の弾性率を高くし走行耐久性を向上させると同時に非磁
性層の弾性率を磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッ
ドへの当りを良くするなどである。

【００３２】

【実施例】以下に実施例を記載して、本発明をさらに具
体的に説明する。以下の実施例に記載される成分、割
合、手順等は、本発明の精神から逸脱しない限り適宜変
更することができる。したがって、本発明の範囲は以下
の実施例に示す具体例に制限されるものではない。磁気記録媒体の製造 以下に記載する方法にしたがって、Ｍ_0.1／ＭｔとＨ
_20-30／Ｈ_10-20が異なる磁気記録媒体１〜１０を製造し
た。強磁性金属粉末をオープンニーダーで１０分間粉砕
し、カーボンブラック、塩化ビニル樹脂、ポリウレタ
ン、メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（１／１）
（磁気記録媒体１〜７を製造する場合は６０重量部、磁
気記録媒体８〜１０を製造する場合は４０重量部）を加
えて６０分間混練した。この混練物にオープンニーダー
を運転しながら、メチルエチルケトン／シクロヘキサノ
ン（１／１）（磁気記録媒体１〜７を製造する場合は２
００重量部、磁気記録媒体８〜１０を製造する場合は２
２０重量部）を６時間かけて添加した。次いで、研磨剤
分散液を加えてサンドグラインダーで１２０分間分散し
た。さらに、ポリイソシアネート、ステアリン酸、ｓｅ
ｃ−ブチルステアレート、ステアリン酸アミド、トルエ
ンを添加して２０分間攪拌混合した。その後、１μｍの
平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性塗料
を調製した。各成分は、表１に記載される量で混合し
た。１０種類の磁気記録媒体は、表２に記載されるよう
に研磨剤分散液、ポリウレタンの種類などを適宜変更さ
せて製造した。使用した研磨剤分散液ａ〜ｃの詳細は表
３に記載されるとおりであり、使用したポリウレタン
Ａ、Ｂの詳細は表４に記載されるとおりである。調製し
た各磁性塗料を、乾燥後の厚さが３μｍになるように、
厚さ１１μｍのＰＥＴ支持体の表面にエクストルージョ
ン型塗布ヘッドを用いて塗布した。磁性塗料が未乾燥の
状態で３，０００ガウスの磁石で磁場配向を行った後乾
燥し、さらに表５の組成を有するバックコート層形成用
塗料を乾燥後の厚さが０．５μｍになるように塗布乾燥
した。その後、金属ロールと耐熱性プラスチックロール
の組み合せによる５段のカレンダー処理を行った（線圧
３００ｋｇ／ｃｍ、速度と温度は表２参照）。得られた
ロールを６５℃で２４時間サーモ処理し、２００ｍ／ｍ
ｉｎで１／２吋幅にスリットした。さらに、ＬＴＢＴ法
またはＤＷＢＬ法（表２参照）によってブレード処理す
ることによって磁気記録媒体１〜１０を製造した。

【００３３】

【表１】

【００３４】

【表２】

【００３５】

【表３】

【００３６】

【表４】

【００３７】

【表５】

【００３８】測定および試験方法 製造した磁気記録媒体１〜１０のそれぞれについて、Ｍ
ｔ、Ｍ_0.1、Ｈ_10-20およびＨ_20-30を測定した。研磨剤
の平均粒径、粒径分布および突出高さ分布は、以下の方
法にしたがって測定した。磁性層表面の写真を走査型電
子顕微鏡（ＳＥＭ）にて２０，０００倍で撮影した。撮
影は一つの試料につき場所をランタムに選んで３０視野
撮影した。このＳＥＭ写真の研磨剤の部分をマークし、
マークの数に基づいて磁性層表面の研磨剤存在密度Ｍｔ
を求めた。またこのＳＥＭ写真を画像解析装置コントロ
ン４００を用いて研磨剤形状をデジタイズ入力し、粒度
分布を求めた。この粒度分布から、Ｍ_0.1を求めた。次
に研磨剤高さ分布を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ；デジタル
インストルメンツ（株）製ナノスコープ）により求め
た。探針には正四面体で１／２稜角＝３５°、曲率半径
１００ｍｍ以下のものを用い、コンタクトモードでＶｅ
ｒ．３．２５のソフトウエアで行った。測定試料は１５
×１５μｍ角で、測定結果は３次の補正を行って傾き等
の補正を行い、Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ Ａｎａｌｙｓｉｓ
のピーク数を求めるコマンドで処理して突起分布を求め
た。製造した磁気記録媒体１〜１０のそれぞれについ
て、以下の試験を行った。 （１）ビデオＳ／Ｎ試験 ベータカムＳＰ−ＶＴＲ ＢＶＷ−７５型（ソニー
（株）製）を用いて、２０℃５０％環境下で５０％グレ
ー信号を記録した。再生信号のＳ／Ｎをシバソクノイズ
メーターにより測定し、リファレンステープ（富士写真
フイルム（株）製Ｍ−３２１ＳＰ）の測定値との偏差を
求めた。ノイズメータの条件はＨＰＦ＝１０ｋＨｚ、Ｌ
ＰＦ＝４．２ＭＨｚとした。 （２）オーディオ感度試験 ベータカムＳＰ−ＶＴＲ ＢＶＷ−７５型（ソニー
（株）製）を用いて、２０℃５０％環境下で基準入力レ
ベルより１０ｄＢ低い値の１ｋＨｚ信号を基準バイアス
電流で記録し、その再生出力をリファレンステープ（富
士写真フイルム（株）製Ｍ−３２１ＳＰ）と比較した。 （３）ヘッド摩耗試験 ベータカムＳＰ−ＶＴＲ ＢＶＷ−７５型（ソニー
（株）製）を用いて６７０ｍ長のテープを２０℃５０％
ＲＨ環境で、１巻２パスを連続３３巻走行させて走行前
後のヘッドハイトを測定して磨耗量を求めた。 （４）ヘッド汚れ試験 ベータカムＳＰ−ＶＴＲ ＢＶＷ−７５型（ソニー
（株）製）を用いて６７０ｍ長のテープを２０℃５０％
ＲＨ環境で、１巻２パスを連続３３巻走行させて、走行
後のヘッド汚れの状態を以下の基準で評価した。

【００３９】

【表６】

【００４０】（５）耐久性試験 ベータカムＳＰ−ＶＴＲ ＢＶＷ−７５型（ソニー
（株）製）を用いて、２２２ｍ長のテープを、３℃５％
環境下で、「再生（ｐｌａｙ）→巻戻し（ｒｅｗ）」走
行を２００回繰り返して行った。走行後のヘッド汚れの
状態を上表の基準にしたがって評価した。また、同様の
試験を４５℃８０％環境下でも行った。 （６）スチルライフ試験 ベータカムＳＰ−ＶＴＲ ＢＶＷ−７５型（ソニー
（株）製）を用いて、ビデオ信号を最適記録電流で記録
し、エンベロープ検波後の再生出力が３ｄＢ低下するま
での時間を計測した。試験環境は−５℃で行った。試験結果 磁気記録媒体１〜１０に対する各試験結果は、以下の表
に示すとおりであった。

【００４１】

【表７】

【００４２】表７の結果は、本発明の条件を満たす磁気
記録媒体は、いずれの試験結果も良好で優れた特性を有
することを示している。それに対して、Ｍ_0.1／Ｍｔが
０．０１未満である磁気記録媒体１は、ヘッド汚れが著
しく、耐久性が低くて、スチルライフも短い。逆に、Ｍ
_0.1／Ｍｔが０．４より大きい磁気記録媒体５は、高温
高湿下における耐久性が低く、スチルライフが短い。ま
た、Ｈ_20-30／Ｈ_10-20が０．０５未満である磁気記録媒
体６は、オーディオ感度が低くて、スチルライフが短
い。逆に、Ｈ_20-30／Ｈ_10-20が０．６より大きい磁気記
録媒体１０は、ビデオＳ／Ｎが低くて、ヘッド摩耗が大
きい。このように、すべての試験に満足の行く結果を得
るためには、Ｍ_0.1／Ｍｔを０．０１以上０．４以下に
し、Ｈ_20-30／Ｈ_10-20を０．０５以上０．６以下に設定
する必要がある。

【００４３】

【発明の効果】磁性層表面に存在する研磨剤について、
Ｍ_0.1／Ｍｔを０．０１以上０．４以下にし、Ｈ_20-30／
Ｈ_10-20を０．０５以上０．６以下に設定した本発明の
磁気記録媒体は、ヘッド摩耗が少なくてヘッド目詰まり
もなく、かつ電磁変換特性も良好であるという優れた効
果を示す。

【図面の簡単な説明】

【図１】ＬＴＢＬ方式を用いたブレード処理装置の概念
図である。

【図２】ＤＷＢＬ方式を用いたブレード処理装置の概念
図である。

【符号の説明】

１： ラッピングテープ ２： 回転ロール ３： 回転ロール ４： 送りロール ５： 磁気テープ ６： サファイヤ刃

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成９年１１月２６日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００５

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００５】本発明者らは、磁性層表面に存在している
研磨剤の粒子サイズと、それらの磁性層からの実際の突
出程度と、ヘッド摩耗及び走行耐久性との関係について
詳細に調べた。その結果、良好な走行耐久性を満足する
にはある程度粒子サイズの大きい研磨剤の存在が不可欠
であることがわかった。とくに従来、添加する研磨剤は
もっぱらその平均粒径のみに着目してきたが、本発明者
らは粒子サイズの分布に着目し、磁性層表面に存在して
いる研磨剤においてその平均粒径より０．１μｍ以上の
大きさの研磨剤が特に重要であることがわかった。磁性
層表面に存在している研磨剤の平均粒径は０．０５〜
０．４μｍとするのが好ましく、０．１μｍ〜０．３μ
ｍとするのがより好ましい。平均粒径が小さいと研磨剤
の分散が困難になり磁気テープを走行させたときに粉落
ち等が発生し易くなる。逆に平均粒径が大きいと表面性
が悪化し電磁変換特性が悪化する。本発明では磁性層表
面に存在している研磨剤のうちで、平均粒径から０．１
μｍ以上大きい粒径の粒子の存在比率（Ｍ_0.1／Ｍｔ）
が０．０１〜０．４、すなわち１％〜４０％とする。Ｍ
_0.1／Ｍｔのより好ましい範囲は０．０５〜０．３、最
も好ましい範囲は０．１〜０．２である。Ｍ_0.1／Ｍｔ
が小さいと走行耐久性が悪化する。特に低温低湿環境で
目詰まり、ドロップアウト増加等の悪影響が出やすい。
Ｍ_0.1／Ｍｔが大きいと研磨剤の脱落の発生頻度が増え
て繰り返し走行でドロップアウトが増加したり磁性層表
面が傷ついたりし易くなる。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２０

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２０】好適なポリウレタンはＴｇを少なくとも２
つ有し、一方が通常−２５０〜１０℃、好ましくは−２
００〜１０℃でもう一方が通常４０〜１３０℃、好まし
くは４５〜１１０℃である。Ｔｇが２つある場合、低い
方（低Ｔｇ）は、好ましくは−５℃以下、さらに好まし
くは−１０〜−４０℃で、高い方（高Ｔｇ）は好ましく
は、５０〜１２０℃、さらに好ましくは、６０〜１００
℃である。また、Ｔｇを３つ以上有するポリウレタン
は、２種の異なるポリエステルポリオール成分および１
種のポリエーテルポリオール成分を使用するか、１種の
ポリエステルポリオール成分および２種の異なるポリエ
ーテルポリオール成分を使用することによって調製する
ことができる。Ｔｇが４つ以上の場合もこれと同様にし
て調製することができる。なお、ポリウレタンのＴｇは
厚さ２０μｍの膜を形成し、バイブロン（オリエンテッ
ク社製）でＥ”のピーク温度とする。このような好適な
ポリウレタンは、前記ジオール成分に加え、公知の鎖延
長剤等の低分子ポリオール成分を有していてもよい。具
体的には、ＮＰＧ、エチレングリコール（ＥＧ）、１，
４−ブタンジオール（ＢＤ）、ビスフェノールＡのジヒ
ドロキシエチルエーテル等のジオール、３官能以上のア
ルコールたとえばトリメチロールプロパンなどを併用し
て分岐構造を有するポリウレタンにしてもよい。これら
の成分は、ポリウレタンに対して０〜４０重量％含ませ
ることができる。好適なポリウレタンに用いるポリイソ
シアネート成分としては、トリレンジイソシアネート
（ＴＤＩ）、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネ
ート（ＭＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤ
Ｉ）、水添ＭＤＩなどの芳香族または脂環式ジイソシア
ネートが好ましい。

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３５

【補正方法】変更

【補正内容】

【００３５】

【表３】

【手続補正４】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３８

【補正方法】変更

【補正内容】

【００３８】測定および試験方法 製造した磁気記録媒体１〜１０のそれぞれについて、Ｍ
ｔ、Ｍ_0.1、Ｈ_10-20およびＨ_20-30を測定した。研磨剤
の平均粒径、粒径分布および突出高さ分布は、以下の方
法にしたがって測定した。磁性層表面の写真を走査型電
子顕微鏡（ＳＥＭ）にて２０，０００倍で撮影した。撮
影は一つの試料につき場所をランダムに選んで３０視野
撮影した。このＳＥＭ写真の研磨剤の部分をマークし、
マークの数に基づいて磁性層表面の研磨剤存在密度Ｍｔ
を求めた。またこのＳＥＭ写真を画像解析装置コントロ
ン４００を用いて研磨剤形状をデジタイズ入力し、粒度
分布を求めた。この粒度分布から、Ｍ_0.1を求めた。次
に研磨剤高さ分布を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ；デジタル
インストルメンツ（株）製ナノスコープ）により求め
た。探針には正四面体で１／２稜角＝３５°、曲率半径
１００ｍｍ以下のものを用い、コンタクトモードでＶｅ
ｒ．３．２５のソフトウエアで行った。測定試料は１５
×１５μｍ角で、測定結果は３次の補正を行って傾き等
の補正を行い、Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ Ａｎａｌｙｓｉｓ
のピーク数を求めるコマンドで処理して突起分布を求め
た。製造した磁気記録媒体１〜１０のそれぞれについ
て、以下の試験を行った。 （１）ビデオＳ／Ｎ試験 ベータカムＳＰ−ＶＴＲ ＢＶＷ−７５型（ソニー
（株）製）を用いて、２０℃５０％環境下で５０％グレ
ー信号を記録した。再生信号のＳ／Ｎをシバソクノイズ
メーターにより測定し、リファレンステープ（富士写真
フイルム（株）製Ｍ−３２１ＳＰ）の測定値との偏差を
求めた。ノイズメータの条件はＨＰＦ＝１０ｋＨｚ、Ｌ
ＰＦ＝４．２ＭＨｚとした。 （２）オーディオ感度試験 ベータカムＳＰ−ＶＴＲ ＢＶＷ−７５型（ソニー
（株）製）を用いて、２０℃５０％環境下で基準入力レ
ベルより１０ｄＢ低い値の１ｋＨｚ信号を基準バイアス
電流で記録し、その再生出力をリファレンステープ（富
士写真フイルム（株）製Ｍ−３２１ＳＰ）と比較した。 （３）ヘッド摩耗試験 ベータカムＳＰ−ＶＴＲ ＢＶＷ−７５型（ソニー
（株）製）を用いて６７０ｍ長のテープを２０℃５０％
ＲＨ環境で、１巻２パスを連続３３巻走行させて走行前
後のヘッドハイトを測定して磨耗量を求めた。 （４）ヘッド汚れ試験 ベータカムＳＰ−ＶＴＲ ＢＶＷ−７５型（ソニー
（株）製）を用いて６７０ｍ長のテープを２０℃５０％
ＲＨ環境で、１巻２パスを連続３３巻走行させて、走行
後のヘッド汚れの状態を以下の基準で評価した。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ // Ｃ０８Ｇ 18/42 Ｃ０８Ｇ 18/42 Ｚ 18/48 18/48 Ｚ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】非磁性支持体上にＦｅを主体とする強磁性
   金属粉末、研磨剤および結合剤を含有する磁性層を有す
   る磁気記録媒体において、以下の条件式： 【数１】０．０１≦Ｍ_0.1／Ｍｔ≦０．４ ０．０５≦Ｈ_20-30／Ｈ_10-20≦０．６ （上式において、Ｍｔは磁性層表面に存在する研磨剤の
   単位面積あたりの数（個／μｍ²）であり、Ｍ_0.1は磁性
   層表面に存在しておりかつ平均粒径より０．１μｍ以上
   大きい粒径を有する研磨剤の単位面積あたりの数（個／
   μｍ²）であり、Ｈ_10-20は磁性層表面からの突起高さが
   １０ｎｍ以上２０ｎｍ未満である研磨剤の単位面積あた
   りの数（個／μｍ²）であり、Ｈ_20-30は磁性層表面から
   の突起高さが２０ｎｍ以上３０ｎｍ未満である研磨剤の
   単位面積あたりの数（個／μｍ²）である）を満足する
   ことを特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】結合剤樹脂に、ポリエーテルポリオールと
   ポリエステルポリオールからなるジオール成分とポリイ
   ソシアネート成分を主成分とするポリウレタンを含む、
   請求項１に記載の磁気記録媒体。